KR101691608B1 - 챔버의 집진장치 및 이를 구비한 챔버 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 챔버의 집진장치 및 이를 구비한 챔버에 관한 것으로서, 챔버 내부의 오염물질을 흡입하여 제거하는 챔버의 집진장치로서, 챔버의 개구부의 외곽에 설치되어 챔버의 내부에 잔류하는 오염물질을 흡입하는 하나 이상의 메인 흡입부와, 이 메인 흡입부에 연결되어 메인 흡입부에 흡입된 오염물질을 외부로 배출시키는 배관부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 따라서 본 발명은 챔버의 개구부의 외곽에 메인 흡입부를 설치하여 메인 흡입부에 의해 흡입된 오염물질을 외부로 배출시킴으로써, 챔버의 유지보수 작업 개시 전에 챔버의 내부에 잔류하는 오염물질을 신속하고 용이하게 배출시킬 수 있는 효과를 제공한다.

Description

챔버의 집진장치 및 이를 구비한 챔버{APPARATUS FOR COLLECTING POLLUTANT OF CHAMBER AND CHAMBER COMPRISING THE SAME}
본 발명은 챔버의 집진장치 및 이를 구비한 챔버에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 챔버를 유지보수하는 경우에 챔버의 내부에 잔류하는 오염물질을 흡입하여 제거하는 챔버의 집진장치 및 이를 구비한 챔버에 관한 것이다.
일반적으로 챔버의 집진장치는, 웨이퍼를 처리할 때에 챔버(Chamber)의 내부에서 발생되는 오염물질과 오염가스 등을 집진시켜 주도록 하고, 특히 챔버를 병렬로 설치하여 운용할 때에 각 챔버에서 압력강하가 발생되지 않고 균일한 상태를 유지할 수 있도록 된 웨이퍼 제조용 챔버의 잔류가스를 흡입하여 제거하는 집진장치이다.
일반적으로 반도체 웨이퍼는 사진, 확산, 식각, 화학기상증착, 금속증착 등의 공정을 반복적으로 수행하여 반도체 칩으로 제조되어지는데, 이들 반도체 칩의 제조공정 중에서 확산, 식각, 화학기상증착 등의 공정은 밀폐공간으로 된 챔버(Chamber)의 내부에 필요한 가스를 공급하고 이와 같이 공급되는 공정가스가 웨이퍼 상에서 반응토록 하여 회로를 형성시키게 된다.
상기와 같이 사용되는 각 공정가스는 대부분 독성이 매우 강할 뿐만 아니라 부식성이 강하여 챔버를 부식시키는 특성이 있으므로, 이러한 공정가스를 챔버의 내부에 방치하게 되면 챔버를 부식시켜 노화현상에 의해 수명을 현저하게 단축시키게 되는 문제점이 있다.
또한, 챔버의 내부에서 웨이퍼를 에칭 할 때에 발생되는 에칭가스의 부산물 또는 CVD(chemical vapor deposition)공정의 미반응 가스가 웨이퍼와 함께 배출되면서 챔버의 내부가 손상되며, 이를 방지하기 위해서는 챔버의 내부를 주기적으로 클리닝(Cleaning)해 주어야 하므로 생산성이 저하 될 뿐만 아니라 웨이퍼의 수율이 현저하게 떨어지면서도 오히려 설비의 운용비는 증가하게 되는 문제가 있었다.
특히, 웨이퍼를 에칭시 발생되는 에칭가스의 부산물 또는 미반응 가스가 별도의 정화과정 없이 외부로 배출될 경우에는 자연환경을 심각하게 오염시키고, 심지어 안전사고도 발생하게 되는 문제도 있었다.
또한, 챔버의 유지보수 작업이나 정기적인 PM(Preventive Maintenance) 작업시 챔버의 개방시 CVD(chemical vapor deposition) 공정의 유해가스나 흄 등과 같은 오염물질이 외부로 누출되므로 작업자에게 안전사고의 위험이 있었다.
또한, 챔버의 상부에 오염물질의 집진설비가 설치되는 경우에는, 챔버의 상부에 유지보수 작업공간이 협소하여 작업이 어려울 뿐만 아니라 작업자가 오염물질에 노출되어 항상 방독면을 착용해야 하는 불편이 있었다.
대한민국 등록특허 제10-0497477호 (2005년 07월 01일)
본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해소하기 위해 안출한 것으로서, 챔버의 유지보수 작업 개시 전에 챔버의 내부에 잔류하는 오염물질을 신속하고 용이하게 배출시킬 수 있는 챔버의 집진장치 및 이를 구비한 챔버를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 챔버의 개구부에 대한 커버의 개폐공간을 제공하는 동시에 챔버의 유지보수 작업공간을 확보하여 유지보수 작업을 용이하게 할 수 있는 챔버의 집진장치 및 이를 구비한 챔버를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 챔버의 개구부를 향한 흡입성능을 향상시킬 수 있는 챔버의 집진장치 및 이를 구비한 챔버를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다. 또한, 본 발명은 챔버의 개구부의 상방에서 흡입성능을 부여할 수 있는 챔버의 집진장치 및 이를 구비한 챔버를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 챔버의 개구부의 상부공간에 대한 흡입성능을 더욱 향상시키는 동시에 오염물질의 흡입 및 제거시간을 단축시킬 수 있는 챔버의 집진장치 및 이를 구비한 챔버를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 개구부를 향한 메인 흡입부와 보조 흡입부의 흡입성능을 향상시킬 수 있는 챔버의 집진장치 및 이를 구비한 챔버를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다. 또한, 본 발명은 흡입관과 메인 흡입부 사이의 연통을 용이하게 할 수 있는 챔버의 집진장치 및 이를 구비한 챔버를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 흡입관의 흡입위치를 챔버의 개구부에 따라 다양하게 변경시킬 수 있는 챔버의 집진장치 및 이를 구비한 챔버를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다. 또한, 본 발명은 흡입관의 회전을 용이하게 지지하는 동시에 흡입관에 회전지지력을 유지할 수 있는 챔버의 집진장치 및 이를 구비한 챔버를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 흡입홀의 흡입력을 다양한 방향에서 부여할 수 있는 챔버의 집진장치 및 이를 구비한 챔버를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다. 또한, 본 발명은 흡입관의 회전단에 위치하는 챔버의 개구부의 중앙부위에서 흡입관의 흡입력을 향상시킬 수 있는 챔버의 집진장치 및 이를 구비한 챔버를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 챔버 내부의 오염물질을 흡입하여 제거하는 챔버의 집진장치로서, 챔버의 개구부의 외곽에 설치되어, 챔버의 내부에 잔류하는 오염물질을 흡입하는 하나 이상의 메인 흡입부(10); 및 상기 메인 흡입부(10)에 연결되어, 상기 메인 흡입부(10)에 흡입된 오염물질을 외부로 배출시키는 배관부(20);를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 상기 메인 흡입부(10)는, 챔버의 개구부의 외곽둘레의 전체 또는 일부에 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 상기 메인 흡입부(10)는, 챔버의 개구부의 외곽에 개구부를 향하도록 설치되며, 내부에 흡입공간이 형성된 흡입유닛; 상기 흡입유닛의 개구면에 설치된 흡입플레이트; 상기 흡입플레이트에 형성된 흡입구; 및 상기 흡입유닛에 형성된 배출구;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 상기 흡입유닛은, 상기 챔버의 개구부의 외곽둘레에서 상방으로 돌출되도록 상기 챔버에 결합되어 있는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은, 상기 메인 흡입부(10)에 연통하도록 설치되어, 상기 챔버의 개구부를 통해 오염물질을 흡입하는 보조 흡입부(30);를 더 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명의 상기 보조 흡입부(30)는, 상기 메인 흡입부(10)에 결합되어 상기 개구부를 향하도록 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 상기 보조 흡입부(30)는, 상기 메인 흡입부(10)의 상부에 설치된 흡입관; 상기 흡입관과 상기 메인 흡입부(10) 사이에 연통하도록 설치된 수직축; 및 상기 흡입관의 길이방향으로 이격 형성된 복수개의 흡입홀;을 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 상기 흡입관은, 상기 메인 흡입부(10)의 상부에서 상기 수직축을 기준해서 수평방향으로 회전되어 챔버의 개구부를 향해 회전되도록 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 상기 흡입홀은, 상기 흡입관의 측면과 하면 중 적어도 일면에 형성되어 있는 것을 특징으로 한다. 본 발명의 상기 흡입홀은, 상기 흡입관의 회전지지단에서 회전단으로 갈수록 이격 거리가 점차 좁아지게 배치되어 있는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 상기 기재된 챔버의 집진장치를 구비한 챔버로서, 챔버의 집진장치가 챔버의 개구부의 외곽에 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.
이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명은 챔버의 개구부의 외곽에 메인 흡입부를 설치하여 메인 흡입부에 의해 흡입된 오염물질을 외부로 배출시킴으로써, 챔버의 유지보수 작업 개시 전에 챔버의 내부에 잔류하는 오염물질을 신속하고 용이하게 배출시킬 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 챔버의 개구부의 외곽둘레의 전체 또는 일부에 메인 흡입부가 설치됨으로써, 챔버의 개구부에 대한 커버의 개폐공간을 제공하는 동시에 챔버의 유지보수 작업공간을 확보하여 유지보수 작업을 용이하게 할 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 메입 흡입부로서 흡입유닛, 흡입플레이트, 흡입구 및 배출구를 구비함으로써, 챔버의 개구부를 향한 흡입성능을 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 메인 흡입부를 챔버의 개구부의 외곽둘레에서 상방으로 돌출되도록 챔버의 상부면에 설치함으로써, 챔버의 개구부의 상방에서 흡입성능을 부여할 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 메인 흡입부의 상부에 보조 흡입부를 추가적으로 설치함으로써, 챔버의 개구부의 상부공간에 대한 흡입성능을 더욱 향상시키는 동시에 오염물질의 흡입 및 제거시간을 단축시킬 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 보조 흡입부도 메인 흡입부에 결합되어 챔버의 개구부를 향하도록 설치됨으로써, 개구부를 향한 메인 흡입부와 보조 흡입부의 흡입성능을 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 보조 흡입부가 흡입관, 수직축 및 흡입홀로 이루어짐으로써, 흡입관과 메인 흡입부 사이의 연통을 용이하게 할 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 흡입관이 메인 흡입부의 상부에서 수직축을 기준해서 회전되어 챔버의 개구부를 향해 회전되도록 설치됨으로써, 흡입관의 흡입위치를 챔버의 개구부에 따라 다양하게 변경시킬 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 수직축이 흡입관을 회전가능하게 지지하도록 흡입관의 일단에 설치됨으로써, 흡입관의 회전을 용이하게 지지하는 동시에 흡입관에 회전지지력을 유지할 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 흡입홀이 흡입관의 양쪽 측면과 하면 중 적어도 일면에 형성됨으로써, 흡입홀의 흡입력을 다양한 방향에서 부여할 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 흡입홀이 흡입관의 회전지지단에서 회전단으로 갈수록 이격 거리가 점차 좁아지게 배치됨으로써, 흡입관의 회전단에 위치하는 챔버의 개구부의 중앙부위에서 흡입관의 흡입력을 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 챔버의 집진장치를 나타내는 구성도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 의한 챔버의 집진장치의 집진부를 나타내는 분해도.
도 3와 도 4는 본 발명의 일 실시예에 의한 챔버의 집진장치의 집진플레이트의 변형예를 나타내는 구성도.
이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 일실시예를 더욱 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 챔버의 집진장치를 나타내는 구성도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 의한 챔버의 집진장치의 집진부를 나타내는 분해도이고, 도 3와 도 4는 본 발명의 일 실시예에 의한 챔버의 집진장치의 집진플레이트의 변형예를 나타내는 구성도이다.
도 1 및 도 2에 나타낸 바와 같이, 본 실시예에 의한 챔버의 집진장치는, 메인 흡입부(10)와 배관부(20)를 포함하여 이루어져, 챔버에 대한 PM(Preventive Maintenance) 작업의 개시 전에 챔버(100)의 내부에 잔류하는 오염가스, 유독가스, 오염 미립자 또는 흄(fume) 등과 같은 오염물질을 개구부(110)를 통해서 흡입하여 제거하는 챔버의 집진장치로서, 여기에 진공흡입 집진설비(40)와 분배기(50)가 연결되어 있다.
본 실시예의 챔버로는, 반도체, 웨이퍼, LCD(Liquid Crystal Display) 등과 같이 다양한 전자부품의 제조시 가스나 화학물질 등을 이용하는 다양한 화학적 처리공정용 챔버와 CVD(chemical vapor deposition) 챔버 등과 같은 다양한 챔버를 사용할 수 있다.
메인 흡입부(10)는, 챔버(100)의 개구부(110)의 외곽에 설치되어 챔버(100)의 내부에 잔류하는 오염물질을 음압에 의해 흡입하는 흡입수단으로서, 챔버(100)의 개구부(110)의 외곽둘레의 전체 또는 일부에 설치되어 있는 것이 바람직하다.
이러한 메인 흡입부(10)는, 챔버(100)의 개구부(110)의 외곽둘레의 전체 또는 일부에 설치되어 있는 하나 이상의 흡입수단으로서, 흡입유닛(11), 흡입플레이트(12), 흡입구(13) 및 배출구(14)로 이루어져 있다.
즉, 메인 흡입부(10)는, 챔버(100)의 개구부(110)의 외곽둘레의 전후좌우 4면 중에서, 전체 4면에 설치되거나 개구부(110)에 커버의 개폐공간을 제공하도록 3면이나 2면에만 설치되는 것도 가능함은 물론이다.
흡입유닛(11)은, 일방으로 개방된 개구면이 챔버(100)의 개구부(110)를 향하도록 챔버(100)의 외곽둘레에 설치되며, 내부에 흡입공간이 형성된 박스형상의 흡입부재로서, 대략 사각형상의 박스체로 이루어지고 박스체의 내향면, 즉 챔버(100)의 개구부(110)를 향한 면에는 개구면이 형성되어 이를 통해 내부로 오염물질을 흡입하게 된다.
이러한 흡입유닛(11)은, 챔버(100)의 내부에 잔류된 오염물질을 개구부(110)를 통해 배출시키도록 챔버(100)의 개구부(110)의 외곽둘레에서 상방으로 돌출되어 챔버(110)의 일방면에 결합되어 있는 것이 바람직하다.
또한, 흡입유닛(11)은, 흡입유닛(11)의 길이방향을 따라 신축하도록 길이방향으로 슬라이딩 가능하게 설치되어 있는 것도 가능하므로, 다양한 사이즈의 챔버에 적용할 수 있게 된다.
흡입플레이트(12)는, 흡입유닛(11)의 개구면에 설치되는 커버부재로서, 평판형상의 플레이트로 형성되며 흡입유닛(11)의 개구면에 밀착되도록 결합되며, 이러한 결합부위에는 오염물질의 누출을 방지하도록 실링부재가 추가로 설치되어 있는 것도 가능함은 물론이다.
흡입구(13)는, 흡입플레이트(12)에 천공 형성된 흡입통로로서, 도 2에 나타낸 바와 같이 복수개가 길이방향으로 따라 등간격 이격되도록 배치되어 있는 것이 바람직하다.
또한, 이러한 흡입구의 변형예로서 도 3에 나타낸 바와 같이 일자형상의 흡입구(15)가 길이방향으로 길게 슬롯형상으로 천공형성되어 있는 것도 가능함은 물론이다.
또한, 이러한 흡입구의 다른 변형예로서 도 4에 나타낸 바와 같이 복수개의 노즐형상의 흡입구(16)가 길이방향을 따라 등간격 이격으로 되도록 천공형성되어 있는 것도 가능함은 물론이다.
이러한 노즐형상의 흡입구(16)는, 도 2의 흡입구(13) 보다 홀 사이즈가 작을 뿐만 아니라 이격거리도 좁게 형성되어 흡입유닛(11)의 흡입효율을 향상시킬 수 있게 된다.
또한, 노즐형상의 흡입구(16)는, 흡입유닛(11)의 양단부위에서 중앙부위로 갈수록 이격거리가 더 좁게 배치되어 개구부(110)의 중앙부위에서 흡입성능을 더욱 향상시키는 것도 가능함은 물론이다.
배출구(14)는, 흡입유닛(11)의 일방에 형성된 배출부재로서, 여기에 배관부(20)가 연결되어 챔버(100)의 개구부(110)를 통해서 흡입유닛(11)의 내부로 흡입되어 집진된 오염물질을 외부로 배출시킬 수 있게 된다.
배관부(20)는, 메인 흡입부(10)의 흡입유닛(11)에 연결되어, 메인 흡입부(10)에 흡입된 오염물질을 외부로 배출시키는 배관부재로서, 각각의 메인 흡입부(10)의 흡입유닛(11)에 연결된 하나 이상의 연결배관으로 이루어져 있다
이러한 배관부(20)의 하류에는 진공모터, 진공흡입 집진기 등과 같은 진공흡입 집진설비(40)에 각각의 연결배관을 취합해서 하나의 배관으로 연결시키도록 다기관 등과 같은 분배기(50)가 연결되어 있다.
본 발명의 챔버의 집진장치는 메인 흡입부(10)에 연통하도록 설치되어 챔버(100)의 개구부(110)를 통해 오염물질을 음압에 의해 흡입하는 보조 흡입부(30)를 더 포함하여 이루어지는 것도 가능함은 물론이다.
보조 흡입부(30)는, 메인 흡입부(10)에 연통하도록 설치되어 챔버(100)의 개구부(110)를 통해 오염물질을 추가적으로 음압에 의해 흡입하는 보조 흡입수단으로서, 챔버(100)의 개구부(110)를 향해 고정 설치되어 있거나 회전가능하도록 설치되어 있다.
이러한 보조 흡입부(30)는, 메인 흡입부(10)의 상부에 설치되되 흡입부위가 챔버(100)의 개구부(110)를 향해 고정되어 있거나 수평방향으로 회전되어 챔버의 개구부를 향해 회전되도록 설치되어 있는 흡입수단으로서, 흡입관(31), 수직축(32) 및 흡입홀(33)으로 이루어져 있다.
흡입관(31)은, 메인 흡입부(10)의 상부에 설치된 흡입부재로서, 내부에 흡입공간이 형성된 바아형상의 중공부재로 이루어지며 단면이 원형이나 사각형이나 육각형 등과 같이 다양한 형상으로 형성된 관체로 구성되어 있다.
이러한 흡입관(31)은, 회전형 보조 흡입부(30)에 구성되는 경우에 메인 흡입부(10)의 상부에서 수직축을 기준해서 수평방향으로 회전되어 챔버(100)의 개구부(110)를 향해 회전되도록 설치되어 있는 것이 바람직하다.
또한, 이러한 흡입관(31)은, 다른 형태의 회전형 보조 흡입부(30)에 구성되는 경우에 메인 흡입부(10)의 상부에서 수평축을 기준해서 수직방향으로 회전되어 챔버(100)의 개구부(110)를 향해 회전되도록 설치되어 있는 것도 가능함은 물론이다.
수직축(32)은, 흡입관(31)과 메인 흡입부(10) 사이에 연통하도록 설치된 연통부재로서, 회전형 보조 흡입부(30)에 구성되는 경우에 흡입관(31)을 회전가능하게 지지하도록 흡입관(31)의 일단 하부에 설치되어 있는 것이 바람직하다.
흡입홀(33)은, 흡입관(31)의 길이방향을 따라 복수개가 등간격으로 이격 형성된 흡입수단으로서, 흡입관(31)의 측면과 하면 중 적어도 일면에 형성되어 있는 것이 바람직하다.
또한, 흡입홀(33)은, 흡입관(31)의 회전지지단에서 회전단으로 갈수록 이격 거리가 점차 좁아지게 배치되어 있는 것도 가능함은 물론이다. 따라서 챔버(100)의 개구부(110)의 중앙부위를 향하는 흡입관(31)의 회전단에서 오염물질의 흡입성능을 향상시킬 수 있게 된다.
특히, 보조 흡입부(30)의 흡입관(31)의 일단에 배관부(20)가 별도로 연결되어, 보조 흡입부(30)에 의해 흡입된 오염물질을 메인 흡입부(10)로 전달하지 않고서 배관부(20)에 의해 직접 외부로 배출시켜 제거하는 것도 가능함은 물론이다.
이때, 메인 흡입부(10)와 보조 흡입부(30)는, 수직축(32)에 의해 서로 연통 연결되어 있지 않아도 무방하며, 챔버(100)의 개구부(110)를 통해서 배출되는 오염물질의 배출량에 따라 메인 흡입부(10)와 보조 흡입부(30)의 흡입성능을 다르게 유지하는 것도 가능함은 물론이다.
또한, 본 실시예의 챔버의 집진장치를 구비한 챔버는, 메인 흡입부(10), 배관부(20), 보조 흡입부(30), 진공흡입 집진설비(40) 및 분배기(50))를 포함하여 이루어진 챔버의 집진장치가 챔버(100)의 개구부(110)의 외곽에 설치되어 있는 것이 바람직하다.
이러한 챔버의 집진장치를 구비한 챔버로는, 반도체, 웨이퍼, LCD(Liquid Crystal Display) 등과 같이 다양한 전자부품의 제조시 가스나 화학물질 등을 이용하는 다양한 화학적 처리공정용 챔버와 CVD(chemical vapor deposition) 챔버 등과 같은 다양한 챔버를 사용할 수 있다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면 챔버의 개구부의 외곽에 메인 흡입부를 설치하여 메인 흡입부에 의해 흡입된 오염물질을 외부로 배출시킴으로써, 챔버의 유지보수 작업 개시 전에 챔버의 내부에 잔류하는 오염물질을 신속하고 용이하게 배출시킬 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 챔버의 개구부의 외곽둘레의 전체 또는 일부에 메인 흡입부가 설치됨으로써, 챔버의 개구부에 대한 커버의 개폐공간을 제공하는 동시에 챔버의 유지보수 작업공간을 확보하여 유지보수 작업을 용이하게 할 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 메입 흡입부로서 흡입유닛, 흡입플레이트, 흡입구 및 배출구를 구비함으로써, 챔버의 개구부를 향한 흡입성능을 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 메인 흡입부를 챔버의 개구부의 외곽둘레에서 상방으로 돌출되도록 챔버의 상부면에 설치함으로써, 챔버의 개구부의 상방에서 흡입성능을 부여할 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 메인 흡입부의 상부에 보조 흡입부를 추가적으로 설치함으로써, 챔버의 개구부의 상부공간에 대한 흡입성능을 더욱 향상시키는 동시에 오염물질의 흡입 및 제거시간을 단축시킬 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 보조 흡입부도 메인 흡입부에 결합되어 챔버의 개구부를 향하도록 설치됨으로써, 개구부를 향한 메인 흡입부와 보조 흡입부의 흡입성능을 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 보조 흡입부가 흡입관, 수직축 및 흡입홀로 이루어짐으로써, 흡입관과 메인 흡입부 사이의 연통을 용이하게 할 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 흡입관이 메인 흡입부의 상부에서 수직축을 기준해서 회전되어 챔버의 개구부를 향해 회전되도록 설치됨으로써, 흡입관의 흡입위치를 챔버의 개구부에 따라 다양하게 변경시킬 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 수직축이 흡입관을 회전가능하게 지지하도록 흡입관의 일단에 설치됨으로써, 흡입관의 회전을 용이하게 지지하는 동시에 흡입관에 회전지지력을 유지할 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 흡입홀이 흡입관의 양쪽 측면과 하면 중 적어도 일면에 형성됨으로써, 흡입홀의 흡입력을 다양한 방향에서 부여할 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 흡입홀이 흡입관의 회전지지단에서 회전단으로 갈수록 이격 거리가 점차 좁아지게 배치됨으로써, 흡입관의 회전단에 위치하는 챔버의 개구부의 중앙부위에서 흡입관의 흡입력을 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.
이상 설명한 본 발명은 그 기술적 사상 또는 주요한 특징으로부터 벗어남이 없이 다른 여러 가지 형태로 실시될 수 있다. 따라서 상기 실시예는 모든 점에서 단순한 예시에 지나지 않으며 한정적으로 해석되어서는 안 된다.
10: 메인 집진부
20: 배관부
30: 보조 집진부

Claims (11)

  1. 챔버 내부의 오염물질을 흡입하여 제거하는 챔버의 집진장치로서,
    챔버의 개구부의 외곽에 설치되어, 챔버의 내부에 잔류하는 오염물질을 흡입하는 하나 이상의 메인 흡입부(10);
    상기 메인 흡입부(10)에 연결되어, 상기 메인 흡입부(10)에 흡입된 오염물질을 외부로 배출시키는 배관부(20); 및
    상기 메인 흡입부(10)에 연통하도록 설치되어, 상기 챔버의 개구부를 통해 오염물질을 흡입하는 보조 흡입부(30);를 포함하고,
    상기 보조 흡입부(30)는,
    상기 메인 흡입부(10)의 상부에 설치된 흡입관;
    상기 흡입관과 상기 메인 흡입부(10) 사이에 연통하도록 설치된 수직축; 및
    상기 흡입관의 길이방향으로 이격 형성된 복수개의 흡입홀;을 포함하는 것을 특징으로 하는 챔버의 집진장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 메인 흡입부(10)는, 챔버의 개구부의 외곽둘레의 전체 또는 일부에 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 챔버의 집진장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 메인 흡입부(10)는,
    챔버의 개구부의 외곽에 개구부를 향하도록 설치되며, 내부에 흡입공간이 형성된 흡입유닛;
    상기 흡입유닛의 개구면에 설치된 흡입플레이트;
    상기 흡입플레이트에 형성된 흡입구; 및
    상기 흡입유닛에 형성된 배출구;를 포함하는 것을 특징으로 하는 챔버의 집진장치.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 흡입유닛은, 상기 챔버의 개구부의 외곽둘레에서 상방으로 돌출되도록 상기 챔버에 결합되어 있는 것을 특징으로 하는 챔버의 집진장치.
  5. 삭제
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 보조 흡입부(30)는, 상기 메인 흡입부(10)에 결합되어 상기 개구부를 향하도록 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 챔버의 집진장치.
  7. 삭제
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 흡입관은, 상기 메인 흡입부(10)의 상부에서 상기 수직축을 기준해서 수평방향으로 회전되어 챔버의 개구부를 향해 회전되도록 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 챔버의 집진장치.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 흡입홀은, 상기 흡입관의 측면과 하면 중 적어도 일면에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 챔버의 집진장치.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 흡입홀은, 상기 흡입관의 회전지지단에서 회전단으로 갈수록 이격 거리가 점차 좁아지게 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 챔버의 집진장치.
  11. 제 1 항에 기재된 챔버의 집진장치를 구비한 챔버로서,
    챔버의 집진장치가 챔버의 개구부의 외곽에 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 챔버.
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KR20130084953A (ko) * 2012-01-18 2013-07-26 심광현 반도체 제조 장비용 이동식 배기장치

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