KR101690166B1 - Electromagnetic wave shielding film and manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

전자파 차폐 필름을 개시한다. 개시된 전자파 차폐 필름은, 에폭시 수지를 포함하는 7~18중량%의 바인더 수지, 4.5~8.5중량%의 필러, 7~12중량%의 경화제, 65~70중량%의 용제 및 기타 첨가제를 포함하는 절연층; 상기 절연층의 바인더 수지와 동일한 물질을 포함하는 15~20중량%의 바인더 수지, 도전성 필러로서 30~40중량%의 구리, 1.5~2.5중량%의 경화제, 35~45중량%의 용제를 포함하는 전도성 차폐층;을 포함하며, 상기 용제는 Ester기(-COOR)를 갖고 있는 용제, 히드록시기(-OH)를 갖고 있는 용제, Ester기(-COOR)와 히드록시기(-OH)를 동시에 갖고 있는 용제, 케톤기(C=O)를 갖고 있는 용제, 알킬기(-R)만 갖고 있는 용제 중 적어도 하나 이상의 군에서 선택되거나 또는 둘 이상이 조합된다.An electromagnetic wave shielding film is disclosed. The disclosed electromagnetic shielding film comprises an insulating film containing 7 to 18% by weight of a binder resin containing an epoxy resin, 4.5 to 8.5% by weight of a filler, 7 to 12% by weight of a curing agent, 65 to 70% by weight of a solvent and other additives layer; A binder resin containing 15 to 20% by weight of the same material as the binder resin of the insulating layer, 30 to 40% by weight of copper as an electrically conductive filler, 1.5 to 2.5% by weight of a curing agent, and 35 to 45% Wherein the solvent comprises a solvent having an ester group (-COOR), a solvent having a hydroxyl group (-OH), a solvent having both an ester group (-COOR) and a hydroxyl group (-OH) A solvent having a ketone group (C = O), a solvent having only an alkyl group (-R), or a combination of two or more thereof.

Description

전자파 차폐 필름 및 그 제조방법{Electromagnetic wave shielding film and manufacturing method thereof}TECHNICAL FIELD The present invention relates to an electromagnetic wave shielding film and a manufacturing method thereof,

본 발명은 전자파 차폐 필름 및 그 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 기존의 제품과 대등한 차폐 효율을 가지면서도 제조 비용을 절감시킬 수 있는 전자파 차폐 필름 및 그 제조방법에 관한 것이다.
The present invention relates to an electromagnetic wave shielding film and a method of manufacturing the same, and more particularly, to an electromagnetic wave shielding film having a shielding efficiency equivalent to that of a conventional product and capable of reducing manufacturing costs, and a manufacturing method thereof.

최근 휴대용 모바일, 노트북, 개인 휴대용 단말기(Personal Digital assistant: PDA), 전자 수첩, 액정 디스플레이(LCD), 유기 발광 소자(OLED), 플라즈마 표시 소자(PDP) 등에 사용되는 전자기기는, 소형화, 경량화와 함께 전자부품 간의 신호 전달 속도를 고속화할 수 있도록 연구되고 있다.2. Description of the Related Art Recently, electronic devices used in portable mobile devices, notebook computers, personal digital assistants (PDAs), electronic organizers, liquid crystal displays (LCDs), organic light emitting devices (OLEDs) and plasma display devices Together, they are being studied to speed up the signal transmission between electronic components.

이와 같이 인쇄회로기판(PCB; Printed Circuit Board)의 미세 회로화가 진행됨에 따라 근접회로 간의 전자파 노이즈(Noise) 발생에 따른 전자파 방해 잡음(EMI, Electromagnetic Interference)의 피해가 증가하는 추세에 있다.[0003] As the printed circuit board (PCB) becomes finer, damage to electromagnetic interference (EMI) due to generation of electromagnetic noise between adjacent circuits is increasing.

이러한 전자파를 효과적으로 차단하기 위해서는 인쇄회로기판(PCB)을 전기 전도도가 우수한 금속막으로 감싸, 회로 간에 발생하는 전자파가 금속막을 통해 감쇄될 수 있도록 해야 한다.In order to effectively block such electromagnetic waves, a printed circuit board (PCB) must be wrapped with a metal film having excellent electrical conductivity so that electromagnetic waves generated between the circuits can be attenuated through the metal film.

이를 위하여 인쇄회로기판 상에 전도성이 우수한 금속 박막을 부착하거나, 전도성 페이스트를 도포하거나, 또는 필름화하여 가열 부착하는 전도성 접착필름의 제품이 적용되고 있다.To this end, a product of a conductive adhesive film has been applied which attaches a metal thin film having excellent conductivity on a printed circuit board, applies a conductive paste, or forms a film by heating.

특히 리지드 플렉스 기판(Rigid Flex Board)과 같이 다층 연성회로기판(flexible printed circuit board: FPCB)의 경우 단차 매꿈성 및 통전저항이 우수한 접착필름 형태의 제품 요구가 크게 증가하고 있다.Particularly, in the case of a flexible printed circuit board (FPCB) such as a rigid flexible board, there is a great demand for a product of an adhesive film type having excellent step-by-step durability and electrification resistance.

또한 기재와의 접착력을 만족하면서, 리지드 플랙스(Rigid-Flex) 타입 FPCB에서 단차 충진성이 우수한 전기 전도성을 가진 전자파 차폐 필름 개발에 대한 필요성이 커지고 있다.Further, there is a growing need to develop an electromagnetic wave shielding film having electrical conductivity excellent in level filling property in Rigid-Flex type FPCB while satisfying adhesion with a substrate.

예컨대, 종래의 전자파 차폐성 접착필름으로서는 커버필름의 한쪽 면에 도전성 접착제층 및 필요에 따라 금속 박막층으로 되는 차폐층을 가지고, 다른 쪽 표면 상에 접착제층과 이형성 보강필름이 순차적으로 적층되는 보강 차폐 필름이 알려져 있다(특허문헌 1 참조).For example, as a conventional electromagnetic shielding adhesive film, a shielding layer having a conductive adhesive layer and, if necessary, a metal thin film layer on one side of a cover film, and a reinforcing shielding film in which an adhesive layer and a releasable reinforcing film are sequentially laminated on the other surface (See Patent Document 1).

또한, 도전성 접착제층 및/또는 금속 박막을 갖는 차폐층과 방향족 폴리아미드 수지로 되는 베이스필름을 갖는 차폐 필름이 알려져 있다(특허문헌 2 참조).Further, a shielding film having a shielding layer having a conductive adhesive layer and / or a metal thin film and a base film made of an aromatic polyamide resin is known (see Patent Document 2).

또한, 세퍼레이트 필름의 한쪽 면에 수지를 코팅하여 커버필름을 형성하고, 상기 커버필름 표면에 금속 박막층과 접착체층으로 구성되는 차폐층을 설치해서 되는 차폐성 접착필름이 알려져 있다(특허문헌 3).Further, a shielding adhesive film is known in which a cover film is formed by coating a resin on one surface of a separate film, and a shielding layer composed of a metal thin film layer and an adhesive layer is provided on the surface of the cover film (Patent Document 3).

그런데 최근 개발된 전자파 차폐 필름은 차폐 효율을 높이기 위해 열전도성이 높은 은 코팅 구리를 이용하고 있는데, 값비싼 은이 사용되기 때문에 차폐 필름의 제조 비용이 증가하는 단점이 있었다.
However, recently developed electromagnetic wave shielding films use silver coated silver having high thermal conductivity in order to increase the shielding efficiency. However, since costly silver is used, manufacturing cost of the shielding film is increased.

특허문헌 1: 일본국 특허공개 제2003-298285호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-298285 특허문헌 2: 일본국 특허공개 제2004-273577호 공보Patent Document 2: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-273577 특허문헌 3: 일본국 특허공개 제2004-95566호 공보Patent Document 3: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-95566

본 발명은 기존의 은 코팅 구리를 이용한 차폐 필름과 대등한 차폐 효율을 갖는 전자파 차폐 필름 및 그 제조방법을 제공한다.The present invention provides an electromagnetic wave shielding film having a shielding efficiency equal to that of a conventional shielding film using silver-coated copper and a method of manufacturing the same.

또한, 본 발명은 기존의 제품과 대등한 차폐 효율을 가지면서도 제조 비용을 절감할 수 있도록 한 전자파 차폐 필름 및 그 제조방법을 제공한다.
The present invention also provides an electromagnetic wave shielding film and a method of manufacturing the electromagnetic wave shielding film, which have a shielding efficiency equal to that of existing products and can reduce manufacturing costs.

일 실시예에 의한 전자파 차폐 필름은, 에폭시 수지를 포함하는 7~18중량%의 바인더 수지, 4.5~8.5중량%의 필러, 7~12중량%의 경화제, 65~70중량%의 용제 및 기타 첨가제를 포함하는 절연층; 상기 절연층의 바인더 수지와 동일한 물질을 포함하는 15~20중량%의 바인더 수지, 도전성 필러로서 30~40중량%의 구리, 1.5~2.5중량%의 경화제, 35~45중량%의 용제를 포함하는 전도성 차폐층;을 포함하며, 상기 용제는 Ester기(-COOR)를 갖고 있는 용제, 히드록시기(-OH)를 갖고 있는 용제, Ester기(-COOR)와 히드록시기(-OH)를 동시에 갖고 있는 용제, 케톤기(C=O)를 갖고 있는 용제, 알킬기(-R)만 갖고 있는 용제 중 적어도 하나 이상의 군에서 선택되거나 또는 둘 이상이 조합된다.The electromagnetic wave shielding film according to one embodiment is a film comprising 7 to 18% by weight of a binder resin containing an epoxy resin, 4.5 to 8.5% by weight of a filler, 7 to 12% by weight of a curing agent, 65 to 70% An insulating layer containing a metal oxide; A binder resin containing 15 to 20% by weight of the same material as the binder resin of the insulating layer, 30 to 40% by weight of copper as an electrically conductive filler, 1.5 to 2.5% by weight of a curing agent, and 35 to 45% Wherein the solvent comprises a solvent having an ester group (-COOR), a solvent having a hydroxyl group (-OH), a solvent having both an ester group (-COOR) and a hydroxyl group (-OH) A solvent having a ketone group (C = O), a solvent having only an alkyl group (-R), or a combination of two or more thereof.

일 실시예에 따르면, 상기 절연층의 바인더 수지는 폴리우레탄 수지를 더 포함할 수 있다.According to one embodiment, the binder resin of the insulating layer may further include a polyurethane resin.

일 실시예에 따르면, 상기 폴리우레탄 수지는 절연층 100중량%에 대해 5~15중량% 첨가될 수 있다.According to one embodiment, the polyurethane resin may be added in an amount of 5 to 15% by weight based on 100% by weight of the insulating layer.

일 실시예에 따르면, 상기 전도성 차폐층의 경화제는 경화 촉진제인 우레아(Urea) 수지를 더 포함할 수 있다.According to one embodiment, the curing agent of the conductive shielding layer may further include a urea resin which is a curing accelerator.

일 실시예에 따르면, 상기 경화 촉진제는 전도성 차폐층 100중량%에 대해 1.5~2.5중량% 첨가될 수 있다.According to one embodiment, the curing accelerator may be added in an amount of 1.5 to 2.5% by weight based on 100% by weight of the conductive shielding layer.

일 실시예에 따르면, 상기 전도층 하부면, 절연층 상부면, 또는 전도층 하부면과 절연층 상부면에 적층된 이형 보호필름을 더 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, it is possible to further include a release protection film laminated on the lower surface of the conductive layer, the upper surface of the insulating layer, or the lower surface of the conductive layer and the upper surface of the insulating layer.

일 실시예에 의한 전자파 차폐 필름의 제조방법은, 에폭시 수지 및 폴리우레탄 수지 중에서 선택된 1종 이상의 수지, 경화제, 필러 및 용제를 혼합 분산하여 반경화 상태의 절연층을 형성하는 단계; 상기 절연층 상에 전도성 차폐층을 코팅 및 열처리하는 단계로서, 에폭시 수지와 전도성 필러로서 구리를 혼합 분산하고, 상기 구리와 반응성이 없는 경화제, 용제를 포함하여 전도성 차폐층을 형성하는 단계;를 포함한다.The method of manufacturing an electromagnetic wave shielding film according to one embodiment includes the steps of mixing and dispersing at least one resin selected from an epoxy resin and a polyurethane resin, a curing agent, a filler, and a solvent to form a semi-cured insulating layer; Coating and heat-treating the conductive shielding layer on the insulating layer, comprising: mixing and dispersing copper as an epoxy resin and a conductive filler; and forming a conductive shielding layer including a curing agent and a solvent that are not reactive with the copper do.

일 실시예에 따르면, 상기 절연층은 에폭시 수지를 포함하는 7~18중량%의 바인더 수지, 4.5~8.5중량%의 필러, 7~12중량%의 경화제, 65~70중량%의 용제 및 기타 첨가제를 포함하여 형성될 수 있다.According to one embodiment, the insulating layer may include a binder resin containing 7 to 18 wt% of an epoxy resin, 4.5 to 8.5 wt% of filler, 7 to 12 wt% of a curing agent, 65 to 70 wt% of a solvent, As shown in FIG.

일 실시예에 따르면, 상기 전도성 차폐층은 상기 절연층의 바인더 수지와 동일한 물질을 포함하는 15~20중량%의 바인더 수지, 도전성 필러로서 30~40중량%의 구리, 1.5~2.5중량%의 경화제, 35~45중량%의 용제를 포함할 수 있다.According to one embodiment, the conductive shield layer may include 15 to 20 wt% of a binder resin containing the same material as the binder resin of the insulating layer, 30 to 40 wt% of copper as an electrically conductive filler, 1.5 to 2.5 wt% , And 35 to 45% by weight of a solvent.

일 실시예에 따르면, 상기 절연층 조성물을 제1보호필름에 코팅 및 열처리하는 단계와, 상기 전도성 차폐층 조성물에 제2보호필름을 합지하는 단계를 더 포함할 수 있다.
According to one embodiment, the method may further include coating and heat-treating the insulating layer composition on the first protective film, and laminating the second protective film on the conductive shielding layer composition.

본 발명에 따르면, 구리 잉크 조성 내에서 구리와의 반응성이 없는 용제, 바인더, 첨가제를 사용하여 구리의 산화를 최소화함으로써 기존의 은 코팅 구리를 사용할 때와 대등한 차폐 효율을 가지면서도 제조 비용은 현저히 절감할 수 있게 된다.According to the present invention, since the oxidation of copper is minimized by using a solvent, a binder and an additive which are not reactive with copper in the copper ink composition, the manufacturing cost is remarkably high while having a shielding efficiency equal to that of the conventional silver- .

즉, 본 발명에서는 필러로서 구리(Cu)를 단독으로 적용하고, 그로 인한 구리의 이온화를 최소화하기 위하여 반응성이 없는 용제(Solvent)와 바인더 수지(Binder) 및 경화제를 적용함으로써, 구리 이온의 용출이 없고 저항 변화율을 최소화할 수 있다.
That is, in the present invention, by applying copper (Cu) solely as a filler and minimizing the ionization of the resulting copper, by applying a solvent having no reactivity, a binder resin and a curing agent, And the resistance change rate can be minimized.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 전자파 차폐 필름의 구조를 도시한 단면도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 의한 전기저항을 도시한 그래프.
도 3은 본 발명의 일 실시예 및 비교예에 의한 전자파 차폐율을 도시한 그래프.
1 is a cross-sectional view showing the structure of an electromagnetic wave shielding film according to an embodiment of the present invention.
2 is a graph showing electrical resistance according to an embodiment of the present invention.
3 is a graph showing the electromagnetic shielding ratio according to one embodiment of the present invention and a comparative example.

이하에서는, 본 발명에 의한 전자파 차폐 필름 및 그 제조방법의 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of the electromagnetic wave shielding film and the manufacturing method thereof according to the present invention will be described in detail.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 전자파 차폐 필름의 단면 구조를 나타낸 것이다.1 is a cross-sectional view of an electromagnetic wave shielding film according to an embodiment of the present invention.

이를 참고하면, 본 발명에 따른 전자파 차폐 필름은 절연층(10)과 그 일면에 적층된 전도성 차폐층(20)을 포함한다.Referring to this, the electromagnetic wave shielding film according to the present invention includes an insulating layer 10 and a conductive shielding layer 20 laminated on one side thereof.

도시하지는 않았으나, 본 발명의 전자파 차폐 필름은 전도성 차폐층(20), 절연층(10) 및 제1보호필름(30)이 순차적으로 적층된 3층 구조를 가질 수 있다.Although not shown, the electromagnetic wave shielding film of the present invention may have a three-layer structure in which the conductive shielding layer 20, the insulating layer 10, and the first protective film 30 are sequentially laminated.

또는 제2보호필름(40), 전도성 차폐층(20), 절연층(10)이 순차적으로 적층된 3층 구조를 가질 수 있다.Or a three-layer structure in which the second protective film 40, the conductive shielding layer 20, and the insulating layer 10 are sequentially stacked.

또는 절연층(10) 상부에 제1보호필름(30)이 형성되고, 전도성 차폐층(20) 하부에는 제2보호필름(40)이 형성된 4층 구조를 가질 수 있다.Or a four-layer structure in which the first protective film 30 is formed on the insulating layer 10 and the second protective film 40 is formed on the lower portion of the conductive shield layer 20.

각각의 보호필름은 이형 필름으로서 전자파 차폐 필름을 전자부품에 부착하는 과정 전후로 분리하여 제거될 수 있다.
Each protective film may be separated and removed as a release film before and after the process of attaching the electromagnetic wave shielding film to the electronic component.

이하, 전자파 차폐 필름을 구성하는 절연층, 전도성 차폐층을 설명하기로 한다.Hereinafter, the insulating layer and the conductive shielding layer constituting the electromagnetic wave shielding film will be described.

1) 절연층1) Insulating layer

절연층은 바인더 수지, 경화제, 필러 및 용제를 포함할 수 있다. 절연층을 형성하는 방법은 후술하는 전자파 차폐 필름의 제조방법에서 구체적으로 설명한다.The insulating layer may include a binder resin, a curing agent, a filler, and a solvent. The method for forming the insulating layer will be described in detail in a method for manufacturing an electromagnetic wave shielding film to be described later.

바인더 수지는 에폭시 수지(비스페놀 A형) 및 폴리우레탄 수지 중에서 선택된 하나 이상과 에폭시기 함유 경화제의 반응으로 얻어진 반응 생성물이다.The binder resin is a reaction product obtained by the reaction of at least one selected from an epoxy resin (bisphenol A type) and a polyurethane resin with an epoxy group-containing curing agent.

에폭시 수지는 우수한 내열성으로 인하여 무연땜납 리플로우성이 향상될 수 있다.Epoxy resin can improve the lead-free solder reflow property due to excellent heat resistance.

에폭시 수지를 사용하는 경우 이와 반응 가능한 경화제를 함께 사용한다. 경화제는 이소시아네이트 또는 폴리아미드 중 어느 하나 또는 둘의 조합물이 될 수 있다. 이때, 경화제는 절연층 100중량%를 기준으로 7~12중량% 부가될 수 있다. 경화제의 함량이 설정 범위 미만이면 바인더 수지의 경화시 미반응 수지가 존재하여 건조된 차폐 필름에 끈적임(tacky)이 발생할 수 있고, 경화제의 함량이 설정 범위를 초과하면 바인더 수지의 경화시 미반응물로 존재하여 절연층의 강도를 저하시킬 수 있다.When an epoxy resin is used, a reactive curing agent is preferably used together. The curing agent may be any one or a combination of isocyanate or polyamide. At this time, the curing agent may be added in an amount of 7 to 12 wt% based on 100 wt% of the insulating layer. If the content of the curing agent is less than the setting range, tacky may occur in the dried shielding film due to the presence of the unreacted resin during curing of the binder resin. If the content of the curing agent exceeds the setting range, So that the strength of the insulating layer can be lowered.

폴리우레탄 수지는 전자파 차폐 필름의 유연성을 향상시킬 수 있고, 복층 FPCB에 적용할 경우 높은 탄성 특성으로 인해 절연층의 찢어짐을 완화시킬 수 있다.The polyurethane resin can improve the flexibility of the electromagnetic wave shielding film, and when applied to a multi-layer FPCB, the tearing of the insulating layer can be alleviated due to the high elasticity property.

따라서, 바인더 수지로서 에폭시 수지와 폴리우레탄 수지를 함께 부가하는 경우 전자파 차폐 필름의 제반 물성이 매우 우수해질 수 있다.Therefore, when the epoxy resin and the polyurethane resin are added together as the binder resin, the physical properties of the electromagnetic wave shielding film can be remarkably improved.

절연층 100중량%를 기준으로, 에폭시 수지의 함량은 2~5중량%이고, 폴리우레탄 수지는 5~15중량%가 적용된다.The content of the epoxy resin is 2 to 5% by weight based on 100% by weight of the insulating layer, and 5 to 15% by weight of the polyurethane resin is applied.

바인더 수지의 함량이 설정 범위 미만이면 차폐 필름의 유연성이 감소하여 제조된 차폐 필름 표면에 깨짐이 발생할 수 있고, 바인더 수지의 함량이 설정 범위를 초과하면 인쇄 후 건조 두께의 증가 및 차폐 필름에 끈적임(tacky)이 발생할 수 있다.If the content of the binder resin is less than the set range, the flexibility of the shielding film is reduced and cracking may occur on the surface of the produced shielding film. If the content of the binder resin exceeds the setting range, tacky may occur.

필러는 절연층 100중량%를 기준으로 4.5~8.5중량% 함유될 수 있고, 필러로는 카본블랙과 산화알루미늄(Al2O3) 중 어느 하나 또는 둘의 조합물이 될 수 있다. 카본블랙과 산화알루미늄(Al2O3)은 동일하거나 거의 유사한 양이 투입될 수 있다. 필러의 함량이 상술한 범위 미만이면 절연층이 가져야 할 절연저항인 1010~1012Ω보다 낮은 저항값을 갖게 되어 절연체로서의 역할을 충족할 수 없으며, 필러의 함량이 설정 범위를 초과하면 마이크로그라비아로 인쇄시 절연층 두께 증가로 차폐 필름 전체의 두께가 필요 이상으로 두꺼워질 수 있다.The filler may be contained in an amount of 4.5 to 8.5 wt% based on 100 wt% of the insulating layer, and the filler may be a combination of one or both of carbon black and aluminum oxide (Al 2 O 3 ). Carbon black and aluminum oxide (Al 2 O 3 ) may be added in the same or nearly similar amounts. If the content of the filler is less than the above-mentioned range, the insulating resistance of the insulating layer should be 10 10 to 10 12 Ω If the content of the filler exceeds the setting range, the thickness of the entire shielding film may become thicker than necessary due to an increase in the insulating layer thickness when printed with microgravure.

용제는 에틸 아세테이트가 적용될 수 있으며, 절연층 100중량%를 기준으로 65~70중량% 부가될 수 있다. 용제의 함량이 설정 범위 미만이면 점도가 높아져 인쇄시 설정 두께를 맞추기 어렵고, 용제의 함량이 설정 범위를 초과하면 필러, 수지 및 경화제의 점유 함량이 감소하므로 건조 후 두께가 감소하게 되고, 이에 따라 제조 완료되는 차폐 필름의 설정 두께를 구현하는 것이 어려워진다.
The solvent may be ethyl acetate and may be added in an amount of 65 to 70% by weight based on 100% by weight of the insulating layer. If the content of the solvent is less than the setting range, the viscosity becomes high and it is difficult to set the thickness at the time of printing. If the content of the solvent exceeds the setting range, the content occupied by the filler, resin and hardener decreases, It becomes difficult to realize the set thickness of the shielding film to be completed.

2) 전도성 차폐층2) Conductive shielding layer

전도성 차폐층은 바인더 수지, 경화제, 전도성 필러, 용제를 포함한다. 전도성 차폐층을 형성하는 방법은 절연층과 마찬가지로 후술하는 전자파 차폐 필름의 제조방법에서 구체적으로 설명한다.The conductive shielding layer includes a binder resin, a hardener, a conductive filler, and a solvent. The method of forming the conductive shielding layer will be described in detail in the method of manufacturing an electromagnetic wave shielding film to be described later as in the case of the insulating layer.

바인더 수지는 절연층과 동일한 수지가 적용될 수 있다. 예컨대, 절연층과 전도성 차폐층은 동일한 바인더 수지를 이용하는 것이 계면간의 접착력 및 열에 의한 필름 변형 측면에서 바람직하다.The same resin as the insulating layer can be applied to the binder resin. For example, the insulating layer and the conductive shielding layer are preferably made of the same binder resin in terms of the interfacial adhesion force and the film deformation due to heat.

따라서, 본 발명에서 전도성 차폐층의 바인더 수지는 에폭시 수지가 적용되며, 전도성 차폐층 100중량%를 기준으로 에폭시 수지는 15~20중량%가 적용된다. 바인더 수지의 함량이 설정 범위 미만이면 구리 필러 대비 수지의 함량이 감소하게 되어 구리 필러를 바인딩(binding)해 주지 못해 제품의 핸들링시 손이나 기타 장비에 의해 스크래치가 발생할 수 있고, 바인더 수지의 함량이 설정 범위를 초과하면 구리 필러 대비 수지의 함량이 증가하게 되어 면저항이 증가하며 결과적으로 차폐율이 감소하게 된다.Therefore, in the present invention, epoxy resin is applied to the binder resin of the conductive shielding layer, and 15 to 20 wt% of the epoxy resin is applied based on 100 wt% of the conductive shielding layer. If the content of the binder resin is less than the set range, the content of the resin relative to the copper filler is reduced, so that the copper filler can not be bound and scratches may be caused by hand or other equipment during handling of the product. If the setting range is exceeded, the resin content is increased compared to the copper filler, so that the sheet resistance is increased and the shielding ratio is decreased as a result.

전도성 필러의 함량은 차폐층 100중량%를 기준으로 30~40중량%이다. 전도성 필러의 함량이 설정 범위를 충족할 때 전기 전도성 및 기재와의 접착이 우수하여 바람직하다. 즉, 전도성 필러의 함량이 설정 범위 미만이면 제조 완료된 차폐 필름의 치밀도가 미흡하게 되어 면저항이 증가하고 차폐율이 감소되며, 전도성 필러의 함량이 설정 범위를 초과하면 차폐 필름의 치밀도가 증가하나 점도가 높아져 인쇄시 두께가 증가하게 됨으로써 제품의 제조비용이 증가하게 된다.The content of the conductive filler is 30 to 40% by weight based on 100% by weight of the shielding layer. When the content of the conductive filler satisfies the setting range, it is preferable since the electrical conductivity and adhesion to the substrate are excellent. That is, when the content of the conductive filler is less than the set range, the density of the shielding film becomes insufficient and the sheet resistance increases and the shielding rate decreases. When the content of the conductive filler exceeds the set range, the tightness of the shielding film increases As the viscosity increases, the thickness increases during printing, which increases the manufacturing cost of the product.

전도성 필러는 구리가 단독으로 적용되며, 덴드라이트(dendrite), 플레이크(Flake) 및 구형(Spherical) 형상 금속 입자 중에서 선택된 1종 이상을 사용할 수 있다.The conductive filler may be at least one selected from the group consisting of dendrite, flake, and spherical shaped metal particles.

용제는 구리 필러와의 반응이 최소화됨으로써 구리의 이온화를 방지할 수 있는 것들이 적용되며, Ester기(-COOR)를 갖고 있는 용제, 히드록시기(-OH)를 갖고 있는 용제, Ester기(-COOR)와 히드록시기(-OH)를 동시에 갖고 있는 용제, 케톤기(C=O)를 갖고 있는 용제, 알킬기(-R)만 갖고 있는 용제 중 적어도 하나 이상의 군에서 선택되거나 또는 둘 이상의 조합물이 적용될 수 있다.Solvents that can prevent ionization of copper by minimizing the reaction with copper filler are applied. Solvents having an ester group (-COOR), a solvent having a hydroxyl group (-OH), an ester group (-COOR) A solvent having a hydroxyl group (-OH) at the same time, a solvent having a ketone group (C = O) and a solvent having only an alkyl group (-R), or a combination of two or more thereof.

바람직하게는, Ester기(-COOR)를 갖고 있는 용제는 Ethyl acetate, Butyl carbitol acetate, Dibasic ester, Methyl dimethoxyacetate, Methyl isobutyrate, Dimethyl methylmalonate, Methyl trans-4-oxo-2-pentenoate, Ethylene glycol diacetate를 포함하고, 히드록시기(-OH)를 갖고 있는 용제는 Butyl carbitol, Butyl cellosolve, Benzyl alcohol을 포함하며, Ester기(-COOR)와 히드록시기(-OH)를 동시에 갖고 있는 용제는 Texanol(ester-alcohol)을 포함하고, 케톤기(C=O)를 갖고 있는 용제는 메틸에틸케톤(MEK)을 포함하며, 알킬기(-R)만 갖고 있는 용제는 Toluene을 포함한다.Preferably, the solvent having an ester group (-COOR) includes ethyl acetate, butyl carbitol acetate, dibasic ester, methyl dimethoxyacetate, methyl isobutyrate, dimethyl methylmalonate, methyl trans-4-oxo-2-pentenoate and ethylene glycol diacetate (-COOR) and hydroxyl group (-OH) simultaneously contain Texanol (ester-alcohol). The solvent containing hydroxyl group (-OH) includes Butyl carbitol, Butyl cellosolve and Benzyl alcohol. , The solvent having a ketone group (C = O) includes methyl ethyl ketone (MEK), and the solvent having only an alkyl group (-R) includes Toluene.

용제는 전도성 차폐층 100중량%를 기준으로 40~50중량% 적용될 수 있다. 용제의 함량이 설정 범위 미만이면 점도가 높아져 인쇄시 설정 두께를 맞추기 어렵고, 용제의 함량이 설정 범위를 초과하면 필러, 수지 및 경화제의 점유 함량이 감소하므로 건조 후 두께가 감소하게 되고, 이에 따라 제조 완료되는 차폐 필름의 설정 두께를 구현하는 것이 어려워진다.The solvent may be applied in an amount of 40 to 50 wt% based on 100 wt% of the conductive shielding layer. If the content of the solvent is less than the setting range, the viscosity becomes high and it is difficult to set the thickness at the time of printing. If the content of the solvent exceeds the setting range, the content occupied by the filler, resin and hardener decreases, It becomes difficult to realize the set thickness of the shielding film to be completed.

경화제는 필러와 마찬가지로 구리와의 반응성이 없는 디시안디아마이드(Dicyandiamide)가 적용되며, 더욱이 우레아(Urea) 수지로 된 경화 촉진제를 더 포함할 수 있다.As the filler, the hardener is applied with dicyandiamide which is not reactive with copper, and may further include a hardening accelerator made of a urea resin.

경화제 및 경화 촉진제는 각각 전도성 차폐층 100중량%를 기준으로, 1.5~2.5중량% 부가된다. 경화제의 함량이 설정 범위 미만이면 미반응 수지가 존재하여 건조된 차폐필름에 끈적임(tacky)이 남게 되고, 경화제의 함량이 설정 범위를 초과하면 수지의 경화시 미반응물로 존재하여 강도를 저하시킬 수 있다.
The curing agent and the curing accelerator are added in an amount of 1.5 to 2.5% by weight based on 100% by weight of the conductive shielding layer, respectively. If the content of the curing agent is less than the set range, tacky remains in the dried shielding film due to the presence of the unreacted resin. If the content of the curing agent exceeds the set range, the cured resin is present as an unreacted material, have.

제1보호필름 및 제2보호필름은 전자파 차폐 필름이 사용자에 의하여 이용되기 전까지 외부환경으로부터의 이물에 의한 오염을 방지하고 고온 프레스 공정에서의 표면을 보호하는 역할을 한다.The first protective film and the second protective film prevent contamination of the electromagnetic wave shielding film by the foreign environment from the external environment until the electromagnetic shielding film is used by the user and protect the surface in the high temperature press process.

제1보호필름 및 제2보호필름은 전자파 차폐 필름과의 박리를 보다 용이하게 하기 위하여 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 또는 폴리에틸렌 테레프탈레이트 등의 재료로 형성된 기재필름 표면에 실리콘계, 불소계, 장쇄의 알킬 아크릴레이트계 등의 이형제가 처리된 것을 사용한다.The first protective film and the second protective film may be formed on the surface of a substrate film formed of a material such as polyethylene, polypropylene, or polyethylene terephthalate to have a silicone-based, fluorine-based, long-chain alkyl acrylate-based And the like.

본 발명에서 절연층과 전도성 차폐층은 동일한 바인더 수지를 이용하는 것이 계면간의 접착력 및 열에 의한 필름 변형 측면에서 바람직하다.
In the present invention, it is preferable that the insulating layer and the conductive shielding layer use the same binder resin in view of the interfacial adhesion force and the film deformation due to heat.

본 발명에 따른 전자파 차폐 필름의 제조방법을 살펴보면 다음과 같다.A method of manufacturing an electromagnetic wave shielding film according to the present invention will be described below.

먼저, 이형력 200gf/in인 제1보호필름을 준비한다.First, a first protective film having a releasing force of 200 gf / in is prepared.

다음으로, 에폭시 수지와 폴리우레탄 수지 중에서 선택된 하나 이상, 에폭시기 함유 경화제 및 필러 중에서 선택된 1종 이상을 포함하는 절연층 조성물을 혼합, 용해하여 절연층 코팅액을 제조하고, 이 절연층 코팅액을 제1보호필름 상에 도포한 후 열처리하여 절연층을 형성한다. 절연층 코팅액에는 착색제, 경화 촉매 중에서 선택된 하나 이상이 포함될 수 있다.Next, an insulating layer coating liquid is prepared by mixing and dissolving an insulating layer composition containing at least one selected from an epoxy resin and a polyurethane resin, at least one selected from an epoxy group-containing curing agent and a filler, Is applied on a film and then heat-treated to form an insulating layer. The insulating layer coating solution may contain at least one selected from a coloring agent and a curing catalyst.

절연층 코팅액은 마이크로그라비아 코터를 사용하여 제1보호필름 상에 도포되고, 절연층 코팅액의 열처리는 100 내지 180℃에서 실시되며 이 열처리 과정 중에 절연층 조성물의 경화 반응이 일어나게 된다. 이때, 반경화 상태로 절연층을 형성하는 것이 좋다.The insulating layer coating liquid is applied on the first protective film by using a microgravure coater, and the heat treatment of the insulating layer coating liquid is performed at 100 to 180 ° C, during which the curing reaction of the insulating layer composition occurs. At this time, it is preferable to form the insulating layer in a semi-cured state.

그리고 절연층 상에 에폭시 수지로 된 바인더 수지, 에폭시기 함유 경화제 및 전도성 필러를 포함하는 전도성 차폐층 조성물을 슬롯다이를 사용하여 코팅 및 열처리하여 전도성 차폐층을 형성한다.Then, a conductive shielding layer composition including an epoxy resin binder resin, an epoxy group-containing curing agent, and a conductive filler is coated and heat-treated on the insulating layer using a slot die to form a conductive shielding layer.

전도성 차폐층의 코팅액 열처리는 100 내지 180℃에서 실시되며 이 열처리 과정 중에 전도성 차폐층 조성물의 경화 반응이 일어나게 된다.The heat treatment of the coating liquid of the conductive shielding layer is performed at 100 to 180 ° C, and the curing reaction of the conductive shielding layer composition occurs during the heat treatment process.

이때, 절연층 및 전도성 차폐층에서의 경화 반응은 반응 물질의 반경화 반응을 포함할 수 있다. 이와 같이 열처리시 반경화 반응이 진행되는 경우에는 후속으로 진행되는 과정(예: 합지, 핫프레스와 같은 가압 공정 등)에서 추가 경화 반응이 더 진행되어 완전 경화된 반응 생성물이 얻어지는 경우도 있다.At this time, the curing reaction in the insulating layer and the conductive shielding layer may include a semi-curing reaction of the reactant. When the semi-curing reaction progresses during the heat treatment as described above, the additional curing reaction proceeds further in a subsequent process (for example, a pressing process such as lint, hot press, etc.) to obtain a completely cured reaction product.

전도성 차폐층 조성물 제조시 용제를 더 부가할 수 있다. 여기에서 용제로는 Ethyl acetate, Toluene, Methyl isobutyrate, Dimethyl methylmalonate, Dibasic Ester 등이 사용될 수 있다.A solvent may be further added in the production of the conductive shielding layer composition. Ethyl acetate, toluene, methyl isobutyrate, dimethyl methylmalonate, and dibasic ester may be used as the solvent.

마지막으로, 전도성 차폐층의 일면에 제2 보호필름을 합지함으로써 차폐 필름의 제작이 완료된다.Finally, the shielding film is completed by laminating the second protective film on one surface of the conductive shielding layer.

한편, 상술한 바와 달리 절연층은 제1보호필름 상에 절연층 조성물을 코팅하여 형성될 수 있고, 전도성 차폐층은 제2보호필름 상에 전도성 차폐층 조성물을 코팅하여 형성될 수 있으며, 각각의 방법은 특별하게 제한되지는 않는다. 그 후 절연층과 전도성 차폐층을 합지하며, 그 합지과정은 예를 들어 절연층과 전도성 차폐층을 서로 맞대고 60 내지 120℃에서 가압하는 공정을 진행함으로써 완료될 수 있다.Alternatively, the insulating layer may be formed by coating the insulating layer composition on the first protective film, and the conductive shielding layer may be formed by coating the conductive shielding layer composition on the second protective film, The method is not particularly limited. Thereafter, the insulating layer and the conductive shielding layer are joined together, and the laminating process can be completed by, for example, carrying out a process of pressing the insulating layer and the conductive shielding layer together at 60 to 120 ° C.

이와 같이 제조 완료된 전자파 차폐 필름을 전자부품에 탑재하는 경우, 예를 들어 제2보호필름을 제거하고 전도성 차폐층을 전자부품에 인접되게 가접한 다음, 핫 프레스와 같은 가압 공정을 거쳐 본접한 후 제1보호필름을 제거하는 공정을 따른다.When the electromagnetic shielding film thus manufactured is mounted on an electronic component, for example, the second shielding film is removed and the conductive shielding layer is brought into contact with the electronic component adjacent to the electronic shielding film. Then, the electromagnetic shielding film is subjected to a pressing process such as a hot press, 1 Following the process of removing the protective film.

상술한 제조방법에 따라 형성된 본 발명의 전자파 차폐 필름은 전자부품과의 높은 밀착력, 굴곡성 등이 요구되는 FPCB의 단면 또는 양면에 신뢰성 있게 적용될 수 있고, 인쇄회로기판에서 발생되는 각종 전자파를 효과적으로 감쇄시킬 수 있다.The electromagnetic wave shielding film of the present invention formed according to the above-described manufacturing method can be reliably applied to a cross section or both sides of an FPCB which requires high adhesion strength with an electronic part, flexibility, etc., and can effectively attenuate various electromagnetic waves generated from a printed circuit board .

특히, 전도성 필러로서 구리를 단독으로 사용함으로써, 기존의 은 코팅 구리를 전도성 필러로 사용하는 차폐 필름과 비교하더라도 거의 대등한 차폐 효율을 얻을 수 있으면서 제조 비용은 현저히 절감할 수 있다.
Particularly, by using copper alone as a conductive filler, it is possible to obtain a shielding efficiency almost equal to that of a conventional shielding film using silver-coated copper as a conductive filler, and the manufacturing cost can be remarkably reduced.

표 1 및 표 2의 실시예에 의하여 본 발명을 보다 구체적으로 설명한다. 다만, 아래의 실시예는 본 발명을 보다 명확히 설명하기 위한 것일 뿐, 본 발명의 보호범위를 한정하는 것은 아니다.
The present invention will be described in more detail with reference to Examples of Tables 1 and 2. It should be noted, however, that the following examples are for the purpose of more clearly illustrating the present invention and are not intended to limit the scope of protection of the present invention.

실시예Example

비스페놀 A형 에폭시 수지(국도 YD-128) 3.5중량%, 폴리우레탄 수지 10중량%, 이소시아네이트 5중량%, 폴리아미드 5중량%, 카본블랙 3중량%, 산화알루미늄 5중량%, 에틸 아세테이트 68.5중량%를 혼합 용해하여 절연층 코팅액을 제조하였다., 3.5 wt% of bisphenol A type epoxy resin (National Highway YD-128), 10 wt% of polyurethane resin, 5 wt% of isocyanate, 5 wt% of polyamide, 3 wt% of carbon black, Were mixed and dissolved to prepare an insulating layer coating solution.

절연층 코팅액을 제1보호필름(이형력 200gf/in)의 일면에 마이크로그라비아 코터를 사용하여 도포하고, 150℃의 온도에서 5분간 건조하여 두께 5㎛의 반경화 상태의 절연층을 형성하였다.The insulating layer coating solution was coated on one side of a first protective film (release force of 200 gf / in) using a micro gravure coater and dried at a temperature of 150 캜 for 5 minutes to form a semi-cured insulating layer having a thickness of 5 탆.

다음으로, 비스테놀 A형 에폭시 수지(국도 YD-128) 17.7중량%, 구리 35중량%, 디시안디아마이드 1.8중량%, 우레아 수지 1.8중량%, 에틸 아세테이트 11,7중량%, 톨루엔 27중량%, 디베이식 에스터 5중량%를 분산 혼합하여, 경화성 도전성 접착제 조성물을 얻었다.Next, 17.7 wt% of bistenol A type epoxy resin (National Road YD-128), 35 wt% of copper, 1.8 wt% of dicyandiamide, 1.8 wt% of urea resin, 11.7 wt% of ethyl acetate, 27 wt% And 5 wt% of dibasic ester were dispersed and mixed to obtain a curable conductive adhesive composition.

절연층 상에 경화성 도전성 접착제 조성물을 슬롯다이 코터를 사용하여 도포하고, 150℃의 온도에서 5분간 건조하여 두께 13㎛의 도전성 차폐층을 형성하였다.A curable conductive adhesive composition was coated on the insulating layer using a slot die coater and dried at a temperature of 150 캜 for 5 minutes to form a conductive shielding layer having a thickness of 13 탆.

그 후, 전자파 차폐층 상에 제2보호필름(이형력 250gf/in)으로 합지하여, 전자파 차폐 필름을 제작하였다.
Thereafter, a second protective film (releasing force: 250 gf / in) was laminated on the electromagnetic wave shielding layer to prepare an electromagnetic wave shielding film.

비교예Comparative Example 1 One

경화 촉진제로서 구리와의 반응성이 있는 이미다졸 수지를 사용한 것을 제외하면, 실시예와 동일한 조성 및 공정 조건으로 전자파 차폐 필름을 제작하였다.
An electromagnetic wave shielding film was produced under the same composition and process conditions as those of the examples except that an imidazole resin having reactivity with copper was used as a curing accelerator.

비교예Comparative Example 2 2

차폐층의 조성물에서 은 코팅 구리 분말을 필러로 사용한 것을 제외하면, 실시예와 동일한 조성 및 공정 조건으로 전자파 차폐 필름을 제작하였다.
An electromagnetic wave shielding film was produced under the same composition and process conditions as those of the examples except that the silver coating copper powder was used as a filler in the composition of the shielding layer.

CompositionComposition ResinResin Epoxy (bisphenol A-type) 3.5%
Polyurethane: 10%
Epoxy (bisphenol A-type) 3.5%
Polyurethane: 10%
Curing agentCuring agent Isocyanate: 5%
Polyamide 5%
Isocyanate: 5%
Polyamide 5%
FillerFiller Carbon black: 3%
Al2O3: 5%
Carbon black: 3%
Al 2 O 3 : 5%
Solvent and other additivesSolvent and other additives Ethyl acetate 68.5%Ethyl acetate 68.5%

EmbodimentEmbodiment Comparative Example 1Comparative Example 1 Comparative Example 2Comparative Example 2 Cu onlyCu only Cu onlyCu only Ag/Cu (10% Ag-coated powder)Ag / Cu (10% Ag-coated powder) FillerFiller Cu
35%
Cu
35%
Cu
35%
Cu
35%
Ag/Cu
35%
Ag / Cu
35%
ResinResin Bisphenol A-type (Kukdo YD-128)
17.7%
Bisphenol A-type (Kukdo YD-128)
17.7%
Bisphenol A-type (Kukdo YD-128)
17.7%
Bisphenol A-type (Kukdo YD-128)
17.7%
Bisphenol A-type (Kukdo YD-128)
17.7%
Bisphenol A-type (Kukdo YD-128)
17.7%
Curing agentCuring agent Dicyandiamide
1.8%
Dicyandiamide
1.8%
Dicyandiamide
1.8%
Dicyandiamide
1.8%
Dicyandiamide
1.8%
Dicyandiamide
1.8%
Curing acceleratorCuring accelerator Urea
1.8%
Urea
1.8%
Imidazol
1.8%
Imidazole
1.8%
Urea
1.8%
Urea
1.8%
SolventSolvent Ethyl acetate 11.7
Toluene 17
Methyl isobutyrate 5
Dimethyl methylmalonate 5
Dibasic Ester 5
Ethyl acetate 11.7
Toluene 17
Methyl isobutyrate 5
Dimethyl methylmalonate 5
Dibasic Ester 5
Ethyl acetate 11.7
Toluene 17
Methyl isobutyrate 5
Dimethyl methylmalonate 5

*Dibasic Ester 5
Ethyl acetate 11.7
Toluene 17
Methyl isobutyrate 5
Dimethyl methylmalonate 5

* Dibasic Ester 5
Ethyl acetate 11.7
Toluene 17
Methyl isobutyrate 5
Dimethyl methylmalonate 5
Dibasic Ester 5
Ethyl acetate 11.7
Toluene 17
Methyl isobutyrate 5
Dimethyl methylmalonate 5
Dibasic Ester 5
RemarksRemarks Cu addedCu added Cu added
Curing accelerator: Imidazol
Cu added
Curing accelerator: Imidazole
Metal powder Ag/Cu addedMetal powder Ag / Cu added

제조 완료된 후 상온 및 50%의 습도 하에서 보관된 반경화 상태의 전자파 차폐 필름을 가로, 세로 250mm인 PI(Poly imide, Kapton) 필름에 겹쳐서 가접하고, 160℃의 온도 및 30kgf의 압력 하에서 고온 프레스로 60분 동안 경화시켜 전기 전도성 측정용 시편을 제조하여 면저항값 및 차폐율을 측정하였다.After completion of the manufacture, the semi-cured electromagnetic shielding film stored at room temperature and 50% humidity was overlaid on a PI (Polyimide, Kapton) film having a width of 250 mm and placed thereon and heated at 160 ° C under a pressure of 30 kgf The samples were cured for 60 minutes to prepare electrical conductivity measurement specimens, and the sheet resistance and shielding ratio were measured.

(1) 면저항(1) sheet resistance

3주 동안 측정용 시편의 저항값 변화를 측정한 결과, 표 3 및 도 2와 같이 저항값은 201.3을 기준으로 그 변화가 미비함을 알 수 있다.As a result of measuring the change of the resistance value of the test piece for 3 weeks, it can be seen that the resistance value is not changed with reference to 201.3 as shown in Table 3 and FIG.

또한, 표 3을 참고하면, 실시예의 차폐 필름은 비교예 2의 189.6과 거의 대등한 수준의 면저항값을 가지며, 비교예 1의 면저항값 506.7보다는 확연히 낮은 수치를 가짐을 알 수 있다.Also, referring to Table 3, it can be seen that the shielding film of the example has a sheet resistance value almost equal to 189.6 of Comparative Example 2, and has a significantly lower value than the sheet resistance value 506.7 of Comparative Example 1. [

(2) 차폐율(2) Shielding rate

기준시료와 부하시료를 적정 치수로 제단하여, 전자파 차폐를 측정하는 기관에 의뢰하였다(한국산업기술시험원). 30MHz~1.5GHz 영역대의 차폐율의 평균을 측정하였다.The reference and load specimens were cut to the appropriate dimensions and commissioned to the agency measuring the electromagnetic shielding (Korea Industrial Technology Development Institute). The average of the shielding rate of the 30 MHz to 1.5 GHz band was measured.

표 3을 참고하면, 실시예의 차폐율은 평균 49.3dB로서, 비교예 2의 52.0dB과 거의 대등한 수치를 보이며, 비교예 1의 30.0dB보다는 확연히 높은 차폐율을 갖는 것을 알 수 있다.Referring to Table 3, it can be seen that the shielding ratio of the embodiment is 49.3dB on average, which is approximately equal to 52.0dB of Comparative Example 2 and has a significantly higher shielding rate than that of Comparative Example 1 of 30.0dB.

즉, 실시예에 의한 전자파 차폐 필름은 전도성 필러로서 Cu를 단독으로 적용하며, Cu와 반응성이 없는 바인더 수지, 용제, 경화제를 사용함으로써 잉크의 변색이 없고, 값비싼 은 코팅 구리를 필러로 사용하는 비교예 2와 거의 대등한 차폐율을 가지므로 제조 비용의 절감을 유도할 수 있다.That is, the electromagnetic wave shielding film according to the embodiment uses Cu as a conductive filler alone and uses a binder resin, a solvent, and a curing agent which are not reactive with Cu, so that there is no discoloration of the ink, Since the shielding ratio is almost equal to that of Comparative Example 2, the manufacturing cost can be reduced.

EmbodimentEmbodiment Comparative Example 1Comparative Example 1 Comparative Example 2Comparative Example 2 Cu onlyCu only Cu onlyCu only Ag/Cu (10% Ag-coated powder)Ag / Cu (10% Ag-coated powder) Surface resistance (mΩ/□)Surface resistance (mΩ / □) 201.3201.3 506.7506.7 189.6189.6 Shielding efficiency (dB)Shielding efficiency (dB) 49.349.3 30.030.0 52.052.0 Ink discolorationInk discoloration xx OO xx

본 발명을 첨부된 도면과 함께 설명하였으나, 이는 본 발명의 요지를 포함하는 다양한 실시 형태 중의 하나의 실시 예에 불과하며, 당 업계에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 하는 데에 그 목적이 있는 것으로, 본 발명은 상기 설명된 실시 예에만 국한되는 것이 아님은 명확하다. 따라서, 본 발명의 보호범위는 하기의 청구범위에 의해 해석되어야 하며, 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위 내에서의 변경, 치환, 대체 등에 의해 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함될 것이다. 또한, 도면의 일부는 본 발명의 구성을 보다 명확하게 설명하기 위한 것으로 실제보다 과장되거나 축소되어 제공된 것일 수 있다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it should be understood that various changes and modifications will be apparent to those skilled in the art. It is to be understood that the present invention is not limited to the above-described embodiments. Accordingly, the scope of protection of the present invention should be construed according to the following claims, and all technical ideas which fall within the scope of equivalence by alteration, substitution, substitution, Range. In addition, some of the drawings are for explaining the configuration of the present invention more clearly and may be provided in an exaggerated or reduced size than actual.

1; 전자파 차폐 필름
10; 절연층
20; 차폐층
30; 제1보호필름
40; 제2보호필름
One; EMI shielding film
10; Insulating layer
20; Shielding layer
30; The first protective film
40; The second protective film

Claims (12)

에폭시 수지를 포함하는 바인더 수지, 필러, 경화제, 용제 및 기타 첨가제를 포함하는 절연층;
상기 절연층의 바인더 수지와 동일한 물질을 포함하되 구리와 반응성이 없는 바인더 수지, 도전성 필러로서 구리, 구리와 반응성이 없는 경화제, 구리와 반응성이 없는 용제를 포함하는 전도성 차폐층;을 포함하며,
상기 절연층 및 전도성 차폐층의 용제는 Ester기(-COOR)를 갖고 있는 용제, 히드록시기(-OH)를 갖고 있는 용제, Ester기(-COOR)와 히드록시기(-OH)를 동시에 갖고 있는 용제, 알킬기(-R)만 갖고 있는 용제 중 적어도 하나 이상의 군에서 선택되거나 또는 둘 이상의 군이 조합되고,
상기 절연층 100중량%를 기준으로, 절연층의 바인더 수지는 7~18중량%, 필러는 4.5~8.5중량%, 경화제는 7~12중량%, 용제는 65~70중량% 포함되며,
상기 전도성 차폐층 100중량%를 기준으로, 상기 전도성 차폐층의 바인더 수지는 15~20중량%, 도전성 필러는 30~40중량%, 경화제는 1.5~2.5중량%, 용제는 35~45중량%를 포함하는 것을 특징으로 하고,
상기 절연층의 바인더 수지는 폴리우레탄 수지를 더 포함하는 것을 특징으로 하고,
상기 폴리우레탄 수지는 절연층 100중량%에 대해 5~15중량% 첨가되는 것을 특징으로 하고,
상기 전도성 차폐층의 경화제는 경화 촉진제인 우레아(Urea) 수지를 더 포함하고,
상기 경화 촉진제는 전도성 차폐층 100중량%에 대해 1.5~2.5중량% 첨가되는 것을 특징으로 하는 전자파 차폐 필름.
An insulating layer comprising a binder resin including an epoxy resin, a filler, a curing agent, a solvent and other additives;
A conductive shielding layer comprising a binder resin containing the same material as the binder resin of the insulating layer but not reactive with copper, a curing agent which is not reactive with copper as a conductive filler, and a solvent which is not reactive with copper,
The solvent of the insulating layer and the conductive shielding layer may be a solvent having an ester group (-COOR), a solvent having a hydroxyl group (-OH), a solvent having both an ester group (-COOR) and a hydroxyl group (-OH) (-R), or two or more groups are combined,
The binder resin of the insulating layer contains 7 to 18 wt%, the filler of 4.5 to 8.5 wt%, the curing agent of 7 to 12 wt%, and the solvent of 65 to 70 wt% based on 100 wt% of the insulating layer,
The binder resin, the conductive filler, and the conductive filler of the conductive shielding layer may be used in an amount of 15 to 20 wt%, 30 to 40 wt%, 1.5 to 2.5 wt%, and 35 to 45 wt%, respectively, based on 100 wt% And wherein the control unit comprises:
Wherein the binder resin of the insulating layer further comprises a polyurethane resin,
Wherein the polyurethane resin is added in an amount of 5 to 15% by weight based on 100% by weight of the insulating layer,
Wherein the curing agent of the conductive shielding layer further comprises a urea resin which is a curing accelerator,
Wherein the curing accelerator is added in an amount of 1.5 to 2.5% by weight based on 100% by weight of the conductive shielding layer.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 전도성 차폐층 하부면, 절연층 상부면, 또는 전도성 차폐층 하부면과 절연층 상부면에 적층된 이형 보호필름을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전자파 차폐 필름.
The method according to claim 1,
Further comprising a release protective film laminated on the lower surface of the conductive shielding layer, the upper surface of the insulating layer, or the lower surface of the conductive shielding layer and the upper surface of the insulating layer.
에폭시 수지 및 폴리우레탄 수지 중에서 선택된 1종 이상의 수지, 경화제, 필러 및 용제를 혼합 분산하여 반경화 상태의 절연층을 형성하는 단계;
상기 절연층 상에 전도성 차폐층을 코팅 및 열처리하는 단계로서, 구리와 반응성이 없는 에폭시 수지와 전도성 필러로서 구리를 혼합 분산하고, 상기 구리와 반응성이 없는 경화제, 구리와 반응성이 없는 용제를 포함하여 전도성 차폐층을 형성하는 단계;
를 포함하고,
상기 절연층 및 전도성 차폐층의 용제는 Ester기(-COOR)를 갖고 있는 용제, 히드록시기(-OH)를 갖고 있는 용제, Ester기(-COOR)와 히드록시기(-OH)를 동시에 갖고 있는 용제, 알킬기(-R)만 갖고 있는 용제 중 적어도 하나 이상의 군에서 선택되거나 또는 둘 이상의 군이 조합되고,
상기 절연층은 에폭시 수지를 포함하는 7~18중량%의 바인더 수지, 4.5~8.5중량%의 필러, 7~12중량%의 경화제, 65~70중량%의 용제 및 기타 첨가제를 포함하여 형성되며,
상기 전도성 차폐층은 상기 절연층의 바인더 수지와 동일한 물질을 포함하는 15~20중량%의 바인더 수지, 도전성 필러로서 30~40중량%의 구리, 1.5~2.5중량%의 경화제, 35~45중량%의 용제를 포함하는 것을 특징으로 하고,
상기 폴리우레탄 수지는 절연층 100중량%에 대해 5~15중량% 첨가되는 것을 특징으로 하고,
상기 전도성 차폐층의 경화제는 경화 촉진제인 우레아(Urea) 수지를 더 포함하고,
상기 경화 촉진제는 전도성 차폐층 100중량%에 대해 1.5~2.5중량% 첨가되는 것을 특징으로 하는 전자파 차폐 필름의 제조방법.
Mixing and dispersing at least one resin selected from an epoxy resin and a polyurethane resin, a curing agent, a filler and a solvent to form a semi-cured insulating layer;
Coating and heat-treating a conductive shielding layer on the insulating layer, the method comprising: mixing and dispersing copper as an electrically conductive filler and an epoxy resin which is not reactive with copper, and a solvent which is not reactive with copper, Forming a conductive shielding layer;
Lt; / RTI >
The solvent of the insulating layer and the conductive shielding layer may be a solvent having an ester group (-COOR), a solvent having a hydroxyl group (-OH), a solvent having both an ester group (-COOR) and a hydroxyl group (-OH) (-R), or two or more groups are combined,
The insulating layer is formed to contain 7 to 18 wt% of a binder resin including an epoxy resin, 4.5 to 8.5 wt% of a filler, 7 to 12 wt% of a curing agent, 65 to 70 wt% of a solvent,
Wherein the conductive shielding layer comprises 15 to 20 wt% of a binder resin containing the same material as the binder resin of the insulating layer, 30 to 40 wt% of copper as a conductive filler, 1.5 to 2.5 wt% of a curing agent, 35 to 45 wt% Of a solvent,
Wherein the polyurethane resin is added in an amount of 5 to 15% by weight based on 100% by weight of the insulating layer,
Wherein the curing agent of the conductive shielding layer further comprises a urea resin which is a curing accelerator,
Wherein the curing accelerator is added in an amount of 1.5 to 2.5% by weight based on 100% by weight of the conductive shielding layer.
삭제delete 삭제delete 제9항에 있어서,
상기 절연층을 제1보호필름에 코팅 및 열처리하는 단계와, 상기 전도성 차폐층에 제2보호필름을 합지하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전자파 차폐 필름의 제조방법.
10. The method of claim 9,
Coating and heat-treating the insulating layer on the first protective film, and bonding the second protective film to the conductive shielding layer.
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