KR101647499B1 - Electrostatic chuck for LCD or OLED manufacturing - Google Patents

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Abstract

본 발명은 베이스상에 거치된 글라스 또는 반도체 기판 표면간의 온도차이가 적게 형성됨으로써 LCD 또는 OLED 공정에서 발생되는 얼룩 또는 포토레지스트 버닝 불량이 저감되고, 가스홀의 배열이 베이스의 전면을 등분하는 형상을 가짐으로써 2 내지 6 개의 마스크가 적재된 글라스에 용이하게 적용 가능한 LCD 또는 OLED의 공정 불량 저감을 위한 개선된 구조의 가스홀이 형성된 정전척에 관한 것으로서, 글라스를 고정하는 정전척에 있어서, 베이스; 상기 베이스 내부에 형성되는 전극; 상기 베이스의 전면으로부터 상기 베이스의 후면 방향으로 상기 베이스를 관통하여 복수 형성되는 가스홀; 및 상기 베이스의 후면에 형성되고, 상기 가스홀과 연통되는 가스 경로;를 포함하되, 상기 가스홀은 상기 베이스의 전면을 양분하는 제 1 선상에 배열되어 형성된다.In the present invention, since the temperature difference between the glass or semiconductor substrate surface mounted on the base is small, defects such as stains or photoresist burning occurring in the LCD or OLED process are reduced, and the arrangement of the gas holes has a shape that equally divides the front surface of the base The present invention relates to an electrostatic chuck having an improved gas hole formed therein for reducing process defects of an LCD or an OLED which can be easily applied to a glass having two to six masks. An electrode formed inside the base; A plurality of gas holes formed through the base from a front surface of the base to a rear surface of the base; And a gas path formed on a rear surface of the base and communicating with the gas hole, wherein the gas hole is formed on a first line that bisects the front surface of the base.

Description

LCD 또는 OLED의 공정 불량 저감을 위한 개선된 구조의 가스홀이 형성된 정전척{Electrostatic chuck for LCD or OLED manufacturing}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to an electrostatic chuck for LCD or OLED manufacturing,

본 발명은 LCD 또는 OLED의 공정 불량 저감을 위한 개선된 구조의 가스홀이 형성된 정전척에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는, 베이스상에 거치된 글라스 또는 반도체 기판 표면간의 온도차이가 적게 형성됨으로써 LCD 또는 OLED 공정에서 발생되는 얼룩 또는 포토레지스트 버닝 불량이 저감되고, 가스홀의 배열이 베이스의 전면을 등분하는 형상을 가짐으로써 2 내지 6 개의 마스크가 적재된 글라스에 용이하게 적용 가능한 LCD 또는 OLED의 공정 불량 저감을 위한 개선된 구조의 가스홀이 형성된 정전척에 관한 것이다.The present invention relates to an electrostatic chuck having an improved structure for reducing the process defects of an LCD or an OLED. More particularly, the present invention relates to an electrostatic chuck having a gas hole formed therein, Reduction of stains or photoresist burning defects in the OLED process and the arrangement of the gas holes equally dividing the entire surface of the base reduces the process defects of LCDs or OLEDs that can be easily applied to glasses loaded with 2 to 6 masks To an electrostatic chuck having an improved gas hole formed therein.

LCD 또는 OLED 제조 공정에서 사용되는 정전척은 RF Power 및 공정 온도에 따라 세라믹과 알루미늄, 주석을 주로 사용하고 있으며, 정전척 내 RF 전극 및 DC 전극을 형성하여 챔버 내에 플라즈마를 인가하고 또한 DC 전극을 통해 정전기를 발생시킴으로써 공정중에 글라스를 고정시키는 구조로 이루어져 있다.The electrostatic chuck used in LCD or OLED manufacturing process mainly uses ceramic, aluminum and tin according to RF power and process temperature. RF and DC electrodes are formed in the electrostatic chuck to apply plasma in the chamber, and DC electrode And the glass is fixed during the process by generating static electricity.

이러한 정전척의 구조상 챔버 타입의 설비들에 있어 최근 가장 큰 문제점으로 대두되고 있는 것은 공정 중 글라스의 온도를 제어하도록 만든 정전척 내부 가스홀의 구조에 따라 글라스 표면끼리 온도차가 발생되고, 이로 기인된 얼룩 및 포토레지스트 버닝 등의 불량이 다발된다는 것이다.One of the biggest problems in the chamber-type equipment of the electrostatic chuck structure is that the temperature difference between the glass surfaces occurs due to the structure of the gas hole in the electrostatic chuck for controlling the temperature of the glass during the process, And defects such as photoresist burning are frequently caused.

일반적으로, 정전척 내 가스홀은 챔버 내에서 공정 진행중에 직접적으로 플라즈마와 반응하는 글라스의 온도 상승을 제어하기 위해 글라스 뒷면에 헬륨가스를 일정량 분사하여 반응기 하부의 온도를 글라스에 전의 제어하는 역할을 한다. 이 과정에서 헬륨 가스의 유량 및 흐름이 공정 조건과 맞도록 가스홀의 특정한 배열 및 헬륨 가스의 유량, 유압 등의 조건을 필요로 하게 된다. 이러한 조건이 공정 조건과 맞지 않을 경우 글라스 표면에 얼룩이나 포토레지스트 버닝 등의 공정 불량이 유발된다.In general, the gas holes in the electrostatic chuck act to control the temperature of the lower part of the reactor to the glass by injecting a certain amount of helium gas to the back of the glass in order to control the temperature rise of the glass that directly reacts with the plasma during the process in the chamber do. In this process, the specific arrangement of the gas holes, the flow rate of the helium gas, the hydraulic pressure, etc. are required so that the flow rate and flow of the helium gas are matched with the process conditions. If these conditions do not match the process conditions, defects such as smearing and photoresist burning are caused on the surface of the glass.

정전척의 가스홀의 배열은 반응가스의 운동 속도, 챔버 내 공정 온도 차이, 고밀도 플라즈마 공정 조건에 따라 변경하여 적용되며, 그렇지 않을 경우 글라스에 적재된 막질의 식각량 차이 등에 의해 글라스 표면에 불량이 발생되며, 이 불량은 장치 전체 수율에도 막대한 영향을 끼치는 인자로 작용된다.The arrangement of the gas holes of the electrostatic chuck is changed depending on the reaction speed of the reaction gas, the process temperature difference in the chamber, and the conditions of the high density plasma process. Otherwise, the glass surface is defective due to the difference in the etching amount of the film deposited on the glass , This defect serves as a factor that greatly affects the overall yield of the device.

따라서, 마스크가 적재된 글라스 하부에 적접적으로 가스가 분출되어 발생되는 온도차이가 없으면서도, 충분한 냉각 효율을 갖도록 가스의 공급이 가능하며, 또한, 각종 공정 조건에 따라 선택적 가스의 공급이 가능한 LCD 또는 OLED의 공정 불량 저감을 위한 개선된 구조의 가스홀이 형성된 정전척의 개발이 필요로 하게 되었다.Therefore, it is possible to supply the gas so as to have a sufficient cooling efficiency even when there is no temperature difference generated by the gas being injected in the lower part of the glass loaded with the mask, It is necessary to develop an electrostatic chuck having an improved structure of a gas hole for reducing process defects of an OLED.

KR10-1286724(등록번호) 2013.07.10KR10-1286724 (registration number) 2013.07.10

본 발명은, 가스홀의 배열을 변경하여 베이스상에 거치된 글라스 또는 반도체 기판 표면간의 온도차이가 적게 형성됨으로써 LCD 또는 OLED 공정에서 발생되는 얼룩 또는 포토레지스트 버닝 불량이 저감되는 LCD 또는 OLED의 공정 불량 저감을 위한 개선된 구조의 가스홀이 형성된 정전척을 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention reduces the process defects of an LCD or an OLED in which defects such as stains or photoresist burning which are generated in an LCD or an OLED process are reduced by reducing the temperature difference between the glass or semiconductor substrate surface mounted on the base by changing the arrangement of the gas holes And an object of the present invention is to provide an electrostatic chuck having an improved structure of a gas hole.

또한, 본 발명은, 가스홀의 배열이 베이스의 전면을 등분하는 형상을 가짐으로써 2 내지 6 개의 마스크가 적재된 글라스에 용이하게 적용 가능한 LCD 또는 OLED의 공정 불량 저감을 위한 개선된 구조의 가스홀이 형성된 정전척을 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention also provides a gas hole having an improved structure for reducing process defects of an LCD or an OLED which is easily applicable to a glass in which two to six masks are loaded, And an object of the present invention is to provide a formed electrostatic chuck.

또한, 본 발명은, 가스 경로를 개폐하여 가스홀로부터 가스가 선택적으로 분사되도록 함으로써, 하나의 정전척으로도 2 내지 6 개의 마스크가 적재된 글라스에 용이하게 적용 가능한 LCD 또는 OLED의 공정 불량 저감을 위한 개선된 구조의 가스홀이 형성된 정전척을 제공하는데 그 목적이 있다.Further, according to the present invention, gas is selectively injected from a gas hole by opening and closing a gas path, thereby reducing the process failure of an LCD or an OLED, which can be easily applied to a glass in which two to six masks are loaded by one electrostatic chuck And to provide an electrostatic chuck having an improved gas hole formed therein.

본 발명은, 글라스를 고정하는 정전척에 있어서, 베이스; 상기 베이스 내부에 형성되는 전극; 상기 베이스의 전면으로부터 상기 베이스의 후면 방향으로 상기 베이스를 관통하여 복수 형성되는 가스홀; 및 상기 베이스의 후면에 형성되고, 상기 가스홀과 연통되는 가스 경로;를 포함하되, 상기 가스홀은 상기 베이스의 전면을 양분하는 제 1 선상에 배열되어 형성된다.The present invention relates to an electrostatic chuck for fixing a glass, comprising: a base; An electrode formed inside the base; A plurality of gas holes formed through the base from a front surface of the base to a rear surface of the base; And a gas path formed on a rear surface of the base and communicating with the gas hole, wherein the gas hole is formed on a first line that bisects the front surface of the base.

또한, 본 발명의 상기 가스홀은, 상기 제 1 선상과 수직한 방향으로 상기 베이스의 전면을 등분하는 제 2 선상에 배열되어 형성된다.In addition, the gas holes of the present invention are formed in such a manner that they are arranged on a second line which equally divides the front surface of the base in a direction perpendicular to the first line.

또한, 본 발명의 상기 가스홀은, 인접한 가스홀간의 간격이 2mm 이상 5mm 이하이다.In the gas hole of the present invention, the distance between adjacent gas holes is 2 mm or more and 5 mm or less.

또한, 본 발명의 상기 가스 경로는, 상기 제 1 선상에 배열된 가스홀들에 연통된 가스 경로와, 상기 제 2 선상에 배열된 가스홀들에 연통된 가스 경로로 분리되어 형성되며, 상기 각 가스 경로에는 벨브 시스템이 구비되어서 상기 제 1 선상 또는 상기 제 2 선상에 배열된 가스홀들에 선택적으로 가스가 공급된다.Further, the gas path of the present invention is formed by a gas path communicating with the gas holes arranged on the first line, and a gas path communicating with the gas holes arranged on the second line, The gas path is provided with a valve system, and gas is selectively supplied to the gas holes arranged on the first line or the second line.

또한, 본 발명의 상기 글라스는, 적재된 마스크 사이의 scribe-line이 상기 제 1 선상 또는 상기 제 2 선상에 위치되도록 상기 베이스의 상부에 놓여진다.Further, the glass of the present invention is placed on top of the base such that a scribe-line between the mounted masks is positioned on the first line or the second line.

또한, 본 발명은, 상기 베이스의 전면에 복수 형성되고, 상기 글라스의 하면에 접촉하여 상기 글라스를 지지하며, 상기 베이스의 전면과 상기 글라스를 이격시키는 엠보싱;을 더 포함한다.The present invention further includes a plurality of embossings formed on the front surface of the base to support the glass in contact with the lower surface of the glass and to separate the glass from the front surface of the base.

본 발명은, 가스홀의 배열을 변경하여 베이스상에 거치된 글라스 또는 반도체 기판 표면간의 온도차이가 적게 형성됨으로써 LCD 또는 OLED 공정에서 발생되는 얼룩 또는 포토레지스트 버닝 불량이 저감되는 효과가 있다.The present invention has the effect that the temperature difference between the glass or semiconductor substrate surface mounted on the base is changed by changing the arrangement of the gas holes, thereby reducing the stain or the photoresist burning defects generated in the LCD or OLED process.

또한, 본 발명은, 가스홀의 배열이 베이스의 전면을 등분하는 형상을 가짐으로써 2 내지 6 개의 마스크가 적재된 글라스에 용이하게 적용 가능한 효과가 있다.Further, according to the present invention, the arrangement of the gas holes has a shape that equally divides the front surface of the base, so that there is an effect that the present invention can be easily applied to a glass in which two to six masks are mounted.

또한, 본 발명은, 가스 경로를 개폐하여 가스홀로부터 가스가 선택적으로 분사되도록 함으로써, 하나의 정전척으로도 2 내지 6 개의 마스크가 적재된 글라스에 용이하게 적용 가능한 효과가 있다.Further, according to the present invention, gas is selectively injected from a gas hole by opening and closing a gas path, so that there is an effect that can be easily applied to a glass in which two to six masks are loaded by one electrostatic chuck.

도 1 은 종래의 가스홀의 배열 상태를 도시한 예시도.
도 2 는 본 발명의 실시예에 따른 LCD 또는 OLED의 공정 불량 저감을 위한 개선된 구조의 가스홀이 형성된 정전척의 사시도.
도 3 은 본 발명의 실시예에 따른 LCD 또는 OLED의 공정 불량 저감을 위한 개선된 구조의 가스홀이 형성된 정전척의 단면도.
도 4 는 본 발명의 실시예에 따른 LCD 또는 OLED의 공정 불량 저감을 위한 개선된 구조의 가스홀이 형성된 정전척의 베이스상에 거치되는 글라스를 도시한 예시도.
도 5 는 LCD 또는 OLED의 공정 불량 상태를 도시한 예시도.
도 6 은 본 발명의 실시예에 따른 LCD 또는 OLED의 공정 불량 저감을 위한 개선된 구조의 가스홀이 형성된 정전척의 가스홀의 배열 상태를 도시한 예시도.
도 7 은 본 발명의 실시예에 따른 LCD 또는 OLED의 공정 불량 저감을 위한 개선된 구조의 가스홀이 형성된 정전척의 가스홀의 다른 배열 상태를 도시한 예시도.
도 8 은 본 발명의 실시예에 따른 LCD 또는 OLED의 공정 불량 저감을 위한 개선된 구조의 가스홀이 형성된 정전척의 가스홀의 간격에 따른 온도 차이를 시뮬레이션한 도표.
도 9 는 본 발명의 실시예에 따른 LCD 또는 OLED의 공정 불량이 저감된 상태를 도시한 예시도.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is an exemplary view showing a conventional arrangement of gas holes. FIG.
FIG. 2 is a perspective view of an electrostatic chuck having an improved structure of a gas hole for reducing process defects of an LCD or an OLED according to an embodiment of the present invention. FIG.
3 is a cross-sectional view of an electrostatic chuck having an improved structure of a gas hole for reducing process defects of an LCD or an OLED according to an embodiment of the present invention.
4 is an illustration showing a glass placed on a base of an electrostatic chuck having an improved structure of a gas hole for reducing process defects of an LCD or an OLED according to an embodiment of the present invention.
5 is an exemplary view showing a process defective state of an LCD or an OLED;
6 is an exemplary view showing an arrangement state of gas holes of an electrostatic chuck having an improved structure of a gas hole for reducing process defects of an LCD or an OLED according to an embodiment of the present invention.
7 is an exemplary view showing another arrangement state of a gas hole of an electrostatic chuck having an improved structure of a gas hole for reducing process defects of an LCD or an OLED according to an embodiment of the present invention.
8 is a graph simulating the temperature difference according to the gap of the gas holes of the electrostatic chuck having the improved structure of the gas hole for reducing the process failure of the LCD or the OLED according to the embodiment of the present invention.
FIG. 9 is an exemplary diagram showing a state in which process defects of an LCD or an OLED according to an embodiment of the present invention are reduced. FIG.

이하에서, 본 발명의 실시예에 대하여 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명은, 도 2 내지 도 3 에 도시된 바와 같이, 글라스(10)를 고정하는 정전척에 있어서, 베이스(100)와, 베이스(100) 내부에 형성되는 전극(400)과, 베이스(100)의 전면으로부터 베이스(100)의 후면 방향으로 베이스(100)를 관통하여 복수 형성되는 가스홀(300) 및 베이스(100)의 후면에 형성되고, 가스홀(300)과 연통되는 가스 경로(310)를 포함하여 구성된다.
2 to 3, an electrostatic chuck for fixing a glass 10 includes a base 100, electrodes 400 formed inside the base 100, and a base 100 A plurality of gas holes 300 formed in the base 100 from the front of the base 100 through the base 100 and a plurality of gas passages 310 formed in the rear surface of the base 100 and communicating with the gas holes 300, ).

베이스(100)는, 공정에 투입되는 글라스(10)를 지지하는 지지 구조체로서, 글라스(10)와 접촉하는 부분에 엠보싱(200)이 형성되거나 또는 플랫(flat) 타입으로서 베이스 상면 표면의 거칠기에 의한 가스 이동용 유로가 형성된다. 이러한 베이스(100)는 내부에 DC 전극(400)이 형성되어서 상면에 정전기가 형성되며, 지지된 글라스(10)가 정전기에 의해 견고히 고정된다.The base 100 is a support structure for supporting the glass 10 to be supplied to the process and has an embossing 200 formed at a portion contacting the glass 10 or a flat type, A gas flow path for gas transfer is formed. In this base 100, a DC electrode 400 is formed to form a static electricity on the upper surface, and the supported glass 10 is firmly fixed by static electricity.

이러한 베이스(100)는 알루미늄, 알루미늄 합금 또는 공지의 정전척 제조용 금속 등의 금속상에 유전체층, 전극(400), 세라믹층 등이 형성되어 구성된다. 또한, 베이스(100)의 전면 가장자리에는 가스홀(300)을 통해 유입된 가스가 외부로 바로 빠져나가지 않도록 단턱 형상의 댐이 형성될 수 있다.The base 100 is formed by forming a dielectric layer, an electrode 400, a ceramic layer, or the like on a metal such as aluminum, an aluminum alloy, or a known metal for forming an electrostatic chuck. In addition, a dam having a stepped shape may be formed on the front edge of the base 100 so that the gas introduced through the gas hole 300 does not directly escape to the outside.

베이스(100)의 전면으로부터 후면 방향으로는 베이스(100)를 관통하여 복수의 가스홀(300)이 형성된다. 그리고, 베이스(100)의 후면에는 가스홀(300)과 연통되도록 가스 경로(310)가 형성되어서, 가스홀(300)을 통해 가스가 분사되어 베이스(100) 상부의 글라스(10)가 냉각되거나 또는 냉각 과정이 끝난 가스를 회수할 수 있도록 한다.A plurality of gas holes 300 are formed through the base 100 from the front surface to the rear surface of the base 100. A gas path 310 is formed on the rear surface of the base 100 so as to communicate with the gas hole 300 so that gas is injected through the gas hole 300 to cool the glass 10 on the base 100 Or to recover the cooled gas.

한편, 베이스(100)의 측면 하부에는 베이스(100)의 전면과 평행한 방향으로 플랜지(110)가 신장되어 형성된다. 플랜지(110)에는 베이스(100)를 다른 공정 기구에 고정하기 위한 복수의 볼트홀(111)이 형성된다.On the other hand, a flange 110 is formed on the lower side of the base 100 in a direction parallel to the front surface of the base 100. The flange 110 is formed with a plurality of bolt holes 111 for fixing the base 100 to another process mechanism.

댐은, 베이스(100)의 전면 가장자리를 따라 일정한 높이와 일정한 폭으로 끊어짐 없이 연속적으로 형성된다. 이러한 댐은 글라스(10)가 베이스(100)상에 거치되면, 글라스(10)의 가장자리와 정전력에 의해 밀착하여서 글라스(10)와 베이스(100) 전면 사이에 공급되는 가스가 외부로 배출되는 것을 방지하는 역할을 한다.
The dam is continuously formed along the front edge of the base 100 without breaking at a constant height and a constant width. When the glass 10 is placed on the base 100, the dam is brought into close contact with the edge of the glass 10 due to the electrostatic force and the gas supplied between the glass 10 and the front surface of the base 100 is discharged to the outside .

전극(400)은, 베이스(100)의 전면 표층 하부의 세라믹층 사이에 형성된다. 이러한 전극(400)은 전극 단자(410)와 연결되고, 전극 단자(410)를 통해 외부 전원 장치로부터 공급되는 DC 전원을 공급받아 전계를 형성한다. 그리고, 전극(400)은 형성된 전계에 의해 유전층에 정전기를 발생시키고, 발생된 정전기는 글라스(10)를 베이스(100)에 밀착시켜 고정시키게 된다.
The electrode 400 is formed between the ceramic layers under the front surface layer of the base 100. The electrode 400 is connected to the electrode terminal 410 and is supplied with DC power from the external power source through the electrode terminal 410 to form an electric field. The electrode 400 generates static electricity in the dielectric layer by the formed electric field, and the generated static electricity tightly fixes the glass 10 to the base 100.

엠보싱(200)은, 글라스(10)를 베이스(100)와 일정 거리 이격시켜 지지하는 역할을 한다. 이러한 엠보싱(200)은 정전척상에 거치되는 글라스(10) 또는 기판을 베이스(100)와 일정 거리 이격시켜 지지함으로써, 베이스(100)와 글라스(10) 사이에 가스가 공급될 수 있는 공간을 형성한다. 이러한 엠보싱(200)은 반구형 형상으로 형성되는 것이 바람직하나, 이를 한정하는 것은 아니며, 본 출원인의 기 등록 특허인 한국등록특허 제10-1286724호의 엠보싱(200)이 적용될 수도 있다.The embossing 200 serves to support the glass 10 at a certain distance from the base 100. The embossing 200 supports the glass 10 or the substrate placed on the electrostatic chuck so as to be spaced apart from the base 100 by a certain distance so as to form a space in which gas can be supplied between the base 100 and the glass 10 do. The embossing 200 is preferably formed in a hemispherical shape, but is not limited thereto, and the embossing 200 of the Korean Registered Patent No. 10-1286724 of the present applicant may be applied.

한편, 본 발명의 정전척은 엠보싱(200)이 없는 플랫 타입에도 적용이 가능한데, 이 경우 가스홀(300)을 통해 유입된 가스는 베이스 상면을 구성하는 모재의 표면 거칠기에 의해 형성되는 홈을 따라 이동하게 된다.
Meanwhile, the electrostatic chuck of the present invention can be applied to a flat type without the embossing 200. In this case, the gas introduced through the gas hole 300 flows along the groove formed by the surface roughness of the base material constituting the upper surface of the base .

가스홀(300)은, 베이스(100)의 전면으로부터 후면 방향으로 베이스(100)를 관통하여 복수 형성되며, 베이스(100) 후면에 형성된 가스 경로(310)와 연통됨으로써, 가스 경로(310)로부터 가스를 공급받아 베이스(100) 상부의 글라스(10)에 분사하여 냉각시키고, 냉각 작용이 끝난 가스를 회수하여 가스 경로(310)상에 되돌려주는 역할을 한다. 이러한 가스홀(300)은 드릴링, 화학적 식각 등 공지의 천공 공법에 의하여 형성할 수 있으며, 본 발명에서 그 형성 공법을 한정하는 것은 아니다.
A plurality of gas holes 300 are formed through the base 100 from the front surface to the rear surface of the base 100 and communicate with the gas path 310 formed on the rear surface of the base 100, Gas is supplied to the glass (10) on the base (100) to cool the glass (10), and the cooled gas is recovered and returned to the gas path (310). The gas holes 300 may be formed by a known perforation method such as drilling or chemical etching, and the present invention is not limited thereto.

가스 경로(310)는, 베이스(100)의 후면에 형성되어서 외부의 가스 공급 장치와 연결되며, 가스홀(300)에 가스를 공급하거나, 사용이 끝난 가스를 가스홀(300)을 통해 회수하는 역할을 한다. 이러한 가스 경로(310)는 파이프 형상으로 형성되어 파이프 형상의 측면부로부터 가스홀(300)과 차례로 연통되거나 또는 베이스(100)의 후면부가 함몰된 형태의 공동(空洞)으로 형성되어 가스홀(300)들과 동시에 연통될 수 있다.
The gas path 310 is formed on the rear surface of the base 100 and is connected to an external gas supply device and supplies gas to the gas hole 300 or recovers the used gas through the gas hole 300 It plays a role. The gas path 310 is formed in a pipe shape and is in turn communicated with the gas hole 300 from the pipe-shaped side surface part, or formed in a hollow shape in which the rear part of the base 100 is recessed, At the same time.

도 4 에는 LCD 또는 OLED 공정에서 베이스(100)상에 거치되는 글라스(10)의 예시도가 도시되어 있다.FIG. 4 shows an exemplary view of a glass 10 mounted on a base 100 in an LCD or OLED process.

본 발명의 정전척상에 거치되는 글라스(10)에는 도 4 와 같이 마스크가 적재되며, 각 마스크에는 LCD 또는 OLED를 활용하여 제작되는 기기의 디스플레이 형상이 그려져 있다. 이러한 마스크에는 기기의 크기에 따라 1장에서 수십장의 셀이 형성될 수 있는데, 예를 들어 TV와 같은 커다란 크기의 기기는 1개의 마스크에 1개의 셀이 형성되고, 스마트폰 등과 같은 작은 크기의 기기는 1개의 마스크에 수십장의 셀이 형성될 수 있다. 글라스(10)의 크기에 따라 하나의 글라스(10)에 2장 내지 6장의 마스크가 배열되어 적재되는데, 이때 각 마스크의 사이에는 이격된 공간인 scribe-line이 형성된다.The glass 10 mounted on the electrostatic chuck of the present invention is loaded with a mask as shown in FIG. 4, and the display shape of an apparatus manufactured using an LCD or OLED is drawn in each mask. Such a mask may form one to several tens of cells depending on the size of the apparatus. For example, a large-sized apparatus such as a TV has one cell formed in one mask and a small-sized apparatus such as a smart phone Several cells may be formed in one mask. Two or six masks are arranged and loaded in one glass 10 according to the size of the glass 10, and a scribe-line, which is a spaced space, is formed between the masks.

그러나 이러한 글라스(10)를 도 1 과 같은 종래의 가스홀(300) 배열 구조를 갖는 베이스(100)상에 거치하면 가스홀(300)이 하부에 형성된 부분과, 그렇지 않은 부분간의 온도차이가 발생하게 되고, 결국 도 5 와 같이 얼룩 또는 포토레지스트 버닝(P.R.Burning)이 발생할 수 있다. 이러한 얼룩 및 포토레지스트 버닝 등의 공정 불량을 저감하기 위해서는 글라스(10) 표면간의 온도차이를 최소화해야 하며, 이를 위하여 본 발명에서는 도 6 및 도 7 과 같은 가스홀(300)의 배열이 제시된다.However, when such a glass 10 is mounted on the base 100 having the arrangement structure of the conventional gas hole 300 as shown in FIG. 1, a temperature difference between the portion where the gas hole 300 is formed at the lower portion and the portion where the gas hole 300 is not formed occurs As a result, stain or photoresist burning (PRBurning) may occur as shown in FIG. In order to reduce process defects such as smearing and photoresist burning, the temperature difference between the surfaces of the glass 10 must be minimized. For this purpose, the arrangement of the gas holes 300 as shown in FIGS. 6 and 7 is shown.

도 6 및 도 7 을 참조하면, 본 발명의 가스홀(300)은 베이스(100)의 전면을 상하 또는 좌우로 양분하는 제 1 선상에 배열되어 형성되며, 이러한 제 1 선상에 마스크와 마스크 사이의 scribe-line이 위치되도록 글라스(10)가 베이스(100)상에 거치된다. 만약 글라스(10)상에 4개의 마스크가 배열되는 경우에는 도 7 과 같이 제 1 선상과 수직한 방향으로 베이스(100)의 전면을 등분하는 제 2 선상에 가스홀(300)이 추가로 배열되며, 가스홀(300)들의 배열에 의해 베이스(100) 전면이 4등분된 형상을 띠게 된다. 또한, 글라스(10)의 크기에 따라 6개의 마스크가 글라스(10)상에 적재될 수도 있는데, 이때에는 제 2 선상을 평행하게 2열로 배열하여 제 1 선상과 함께 베이스(100) 전면을 6등분할 수 있도록 가스홀(300)을 형성한다.6 and 7, the gas holes 300 according to the present invention are arranged on a first line that bisects the front surface of the base 100 in the up-down or right-and-left direction. On the first line, the glass 10 is placed on the base 100 so that the scribe-line is positioned. If four masks are arranged on the glass 10, the gas holes 300 are further arranged on the second line, which equally divides the front surface of the base 100 in a direction perpendicular to the first line, as shown in FIG. 7 , And the gas holes (300), the front surface of the base (100) is divided into four equal parts. Six masks may be stacked on the glass 10 depending on the size of the glass 10. In this case, the second line is arranged in two rows in parallel so that the entire surface of the base 100 is divided into six equal parts The gas holes 300 are formed.

그러나, 베이스(100) 전면 전체에 걸쳐 배열되어 있던 가스홀(300)을 대거 삭제함으로써 글라스(10)의 냉각이 용이하지 않을 수 있으므로, 본 발명에서는 가스홀(300)간의 간격을 조밀하게 함으로써 냉각 효율을 높일 수 있도록 하였다. 또한, 본 발명에서는 글라스(10)의 냉각 효율과 가스홀(300)에 인접한 부분과 그렇지 않은 부분과의 온도차를 시뮬레이션하여 냉각 효율을 떨어트리지 않으면서도 냉각 온도차이에 따른 불량이 발생되지 않는 가스홀(300)간의 간격을 설정하였다.However, since the cooling of the glass 10 may not be easy by removing the gas holes 300 arranged all over the entire surface of the base 100, the gap between the gas holes 300 is narrowed in the present invention, So that the efficiency can be increased. In the present invention, the cooling efficiency of the glass 10 and the temperature difference between the portion adjacent to the gas hole 300 and the portion not adjacent to the gas hole 300 are simulated, so that the gas hole (300).

이러한 가스홀(300)간의 간격에 따른 시뮬레이션 결과를 도 8 에 정리하였다. 도 8 을 참조하면, 가스홀(300)간의 간격이 2mm일 때에 직경 1mm 이내의 표면 온도 분포가 32.6도씨에서 37.1도씨까지 분포됨으로써 4.52도씨의 적은 온도차이를 보였으며, 가스홀(300)간의 간격이 5mm일 때 직경 1mm 이내의 표면 온도 분포가 81.5도씨에서 92.8도씨까지 분포되어 11.3도씨의 비교적 양호한 온도차이를 보였다. 그러나, 가스홀(300)간의 간격이 10mm가 될 경우 직경 1mm 이내의 표면 온도 분포가 163도씨에서 185.6도씨까지 분포되어 22.6도씨의 차이가 발생함으로써, 불량이 발생할 우려가 있었다. 한편, 가스홀(300)간의 간격은 작으면 작을수록 좋은 결과가 도출되었으나, 가스홀(300)을 형성함에 있어서 가스홀(300)간의 간격을 2mm 이내로 형성하기에는 모재가 탈락되어 인접한 가스홀(300)과 연통되는 등 기술적인 한계가 있었다.Simulation results according to the intervals between the gas holes 300 are shown in FIG. 8, when the distance between the gas holes 300 is 2 mm, the surface temperature distribution of 1 mm or less in diameter is distributed from 32.6 degrees Celsius to 37.1 degrees Celsius, resulting in a small temperature difference of 4.52 degrees Celsius. The surface temperature distribution within 1mm diameter was distributed from 81.5 ° C to 92.8 ° C with a gap of 5mm, showing a relatively good temperature difference of 11.3 ° C. However, when the distance between the gas holes 300 is 10 mm, the surface temperature distribution within 1 mm in diameter is distributed from 163 degrees Celsius to 185.6 degrees Celsius, resulting in a difference of 22.6 degrees Celsius, which may cause defects. However, in order to form the gas holes 300 with a distance of less than 2 mm between the gas holes 300, the base material is removed and the adjacent gas holes 300 ), And so on.

이러한 본 발명의 가스홀(300) 배열 구조에 따른 불량이 저감된 LCD 또는 OLED의 예시가 도 9 에 도시되어 있다. 도 9 를 참조하면, 글라스(10) 표면간에 온도차가 크게 발생하지 않음으로써 얼룩이나 포토레지스트 버닝 등이 발생하지 않았음을 알 수 있다.
An example of an LCD or OLED with reduced defects according to the gas hole 300 array structure of the present invention is shown in FIG. Referring to FIG. 9, it can be seen that the temperature difference between the surfaces of the glass 10 is not largely generated, so that no smear or photoresist burning occurs.

한편, 본 발명은 이러한 가스홀(300)의 배열 구조를 선택적으로 형성할 수 있도록 구성할 수도 있다. 이를 좀 더 상세히 설명하면, 제 1 선상에 배열되는 가스홀(300)들을 하나의 가스 경로(310)에 연통시키고, 제 2 선상에 배열되는 가스홀(300)들을 다른 가스 경로(310)에 연통시킨 후, 각각의 가스 경로(310)에 밸브 시스템을 적용함으로써, 제 1 또는 제 2 선상에 배열된 가스홀(300)들에 가스가 선택적으로 공급되도록 하는 것이다.Meanwhile, the present invention may be configured to selectively form the arrangement of the gas holes 300. More specifically, the gas holes 300 arranged on the first line are communicated with one gas path 310 and the gas holes 300 arranged on the second line are communicated with the other gas path 310 And then applying a valve system to each gas path 310 to selectively supply gas to the gas holes 300 arranged on the first or second line.

이러한 밸브 시스템에 의하여, 글라스(10)상에 2개의 마스크가 적재된 경우에는 제 1 선상에 배열된 가스홀(300)들과 연통된 가스 경로(310)에만 가스를 공급하여서, 베이스(100) 전면이 양분될 수 있도록 하고, 글라스(10)상에 4개의 마스크가 적재된 경우에는 제 1 선상 및 제 2 선상에 배열된 가스홀(300)들과 연통된 가스 경로(310)에 모두 가스를 공급하여서, 베이스(100) 전면이 4등분 될 수 있도록 한다.In this valve system, when two masks are mounted on the glass 10, gas is supplied only to the gas path 310 communicated with the gas holes 300 arranged on the first line, Gas is supplied to the gas path 310 communicated with the gas holes 300 arranged on the first and second lines when the four masks are mounted on the glass 10, So that the entire surface of the base 100 can be divided into four equal parts.

한편, 제 1 선상에 수직하게 형성되는 제 2 선상은, 베이스(100) 전면을 4등분 할 때에는 중앙에 1개의 선으로 형성되지만, 베이스(100) 전면을 6등분 할 때에는 베이스(100) 중앙부를 사이에 두고 2개의 선으로 형성되어야 한다. 이때에는 제 2 선상은 베이스(100) 전면 중앙에 1개의 선으로 형성되는 제 2-1 선상과, 베이스(100) 전면 중앙부를 사이에 두는 두 개의 제 2-2 선상으로 형성될 수 있다. 이때에는 제 1 선상에 배열되는 가스홀(300), 제 2-1 선상에 배열되는 가스홀(300), 제 2-2 선상들에 배열되는 가스홀(300) 각각과 연통되는 3개 이상의 가스 경로(310)가 형성되며, 각 가스 경로(310)상에는 밸브 시스템이 적용되어서, 각 선상에 배열된 가스홀(300)들에 선택적으로 가스를 공급함으로서, 베이스(100) 전면이 가스가 공급되는 가스홀(300)에 의해 2, 4, 6 등분될 수 있도록 한다.
On the other hand, the second linear line formed perpendicular to the first line is formed as one line at the center when the front surface of the base 100 is divided into four equal parts. However, when the front surface of the base 100 is divided into six equal parts, And should be formed by two lines. In this case, the second line may be formed on the second line-1 line formed by one line at the center of the front surface of the base 100 and the two line-2 lines between the center line of the front surface of the base 100. At this time, the gas holes 300 arranged on the first line, the gas holes 300 arranged on the second-first line, and the gas holes 300 arranged on the second-second-line lines, A path 310 is formed and a valve system is applied on each gas path 310 to selectively supply gas to the gas holes 300 arranged on each line so that the entire surface of the base 100 is supplied with gas So that it can be divided into 2, 4, and 6 by the gas hole 300.

상술한 구성으로 이루어진 본 발명은, 가스홀(300)의 배열을 변경하여 베이스(100)상에 거치된 글라스(10) 표면간의 온도차이가 적게 형성됨으로써 LCD 또는 OLED 공정에서 발생되는 얼룩 또는 포토레지스트 버닝 불량이 저감되는 효과가 있다.In the present invention having the above-described configuration, the arrangement of the gas holes 300 is changed so that the temperature difference between the surfaces of the glass 10 mounted on the base 100 is small, The burning defects are reduced.

또한, 본 발명은, 가스홀(300)의 배열이 베이스(100)의 전면을 등분하는 형상을 가짐으로써 2 내지 6 개의 마스크가 적재된 글라스(10)에 용이하게 적용 가능한 효과가 있다.In addition, the present invention has an effect that the arrangement of the gas holes 300 has a shape that equally divides the entire surface of the base 100, so that it can be easily applied to the glass 10 on which 2 to 6 masks are mounted.

또한, 본 발명은, 가스 경로(310)를 개폐하여 가스홀(300)로부터 가스가 선택적으로 분사되도록 함으로써, 하나의 정전척으로도 2 내지 6 개의 마스크가 적재된 글라스(10)에 용이하게 적용 가능한 효과가 있다.Further, the present invention can be applied to a glass (10) loaded with 2 to 6 masks by one electrostatic chuck by opening and closing the gas path (310) and selectively injecting gas from the gas hole (300) There is a possible effect.

10 : 글라스 100 : 베이스
200 : 엠보싱 300 : 가스홀
310 : 가스 경로 400 : 전극10: glass 100: base
200: embossing 300: gas hole
310: gas path 400: electrode

Claims (6)

글라스를 고정하는 정전척에 있어서,
베이스;
상기 베이스 내부에 형성되는 전극;
상기 베이스의 전면으로부터 상기 베이스의 후면 방향으로 상기 베이스를 관통하여 복수 형성되는 가스홀; 및
상기 베이스의 후면에 형성되고, 상기 가스홀과 연통되는 가스 경로;
를 포함하되,
상기 가스홀은 상기 베이스의 전면을 양분하는 제 1 선상에 배열되어 형성되고, 상기 제 1 선상과 수직한 방향으로 상기 베이스의 전면을 등분하는 제 2 선상에 배열되어 형성되며,
상기 가스 경로는, 상기 제 1 선상에 배열된 가스홀들에 연통된 가스 경로와, 상기 제 2 선상에 배열된 가스홀들에 연통된 가스 경로로 분리되어 형성되며, 상기 각 가스 경로에는 벨브 시스템이 구비되어서 상기 제 1 선상 또는 상기 제 2 선상에 배열된 가스홀들에 선택적으로 가스가 공급되는 OLED의 공정 불량 저감을 위한 개선된 구조의 가스홀이 형성된 정전척.In an electrostatic chuck for fixing a glass,
Base;
An electrode formed inside the base;
A plurality of gas holes formed through the base from a front surface of the base to a rear surface of the base; And
A gas path formed on a rear surface of the base and communicating with the gas hole;
, ≪ / RTI &
Wherein the gas holes are formed on a first line that bisects the front surface of the base and are arranged on a second line that bisects the front surface of the base in a direction perpendicular to the first line,
Wherein the gas path is formed by a gas path communicating with the gas holes arranged on the first line and a gas path communicating with the gas holes arranged on the second line, Wherein the gas holes are arranged on the first line or the second line and the gas holes are selectively supplied to the gas holes. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 글라스는, 적재된 마스크 사이의 스크라이브 라인이 상기 제 1 선상 또는 상기 제 2 선상에 위치되도록 상기 베이스의 상부에 놓여지는 LCD 또는 OLED의 공정 불량 저감을 위한 개선된 구조의 가스홀이 형성된 정전척.The method according to claim 1,
Wherein the glass has an improved structure of the gas hole formed in the upper part of the base so that a scribe line between the mounted masks is positioned on the first line or the second line, . 제 1 항에 있어서,
상기 베이스의 전면에 복수 형성되고, 상기 글라스의 하면에 접촉하여 상기 글라스를 지지하며, 상기 베이스의 전면과 상기 글라스를 이격시키는 엠보싱;
을 더 포함하는 LCD 또는 OLED의 공정 불량 저감을 위한 개선된 구조의 가스홀이 형성된 정전척.The method according to claim 1,
A plurality of embossings formed on a front surface of the base, the embossing supporting the glass in contact with a lower surface of the glass, and separating the glass from the front surface of the base;
Wherein the gas hole is formed in the gas hole.
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