KR101637171B1 - Organic light emitting device - Google Patents

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Abstract

본 출원은 유기발광소자 및 조명에 대한 것이다. 본 출원에서는, 유기발광소자의 활성층(active layer), 예를 들면, 발광층이나, 상기 발광층에서 생성된 광과 양자점과의 상호 작용 등을 통하여 우수한 발광 효율을 가지는 소자를 제공할 수 있다.The present application is directed to organic light emitting devices and illumination. In the present application, it is possible to provide an active layer of an organic light emitting device, for example, a light emitting layer, or an element having excellent light emitting efficiency through interaction between light generated in the light emitting layer and a quantum dot.

Description

유기발광소자{ORGANIC LIGHT EMITTING DEVICE}ORGANIC LIGHT EMITTING DEVICE

본 출원은, 유기발광소자 및 그 용도에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organic light emitting device and a use thereof.

유기발광소자(Organic Light Emitting Diode, OLED)는, 형광성 및/또는 인광성 유기 화합물의 막에 전압을 인가하여 전자와 정공의 결합을 통해 광을 생성하는 발광형 소자이다. BACKGROUND ART An organic light emitting diode (OLED) is an emissive element that generates light through the combination of electrons and holes by applying a voltage to a film of a fluorescent and / or phosphorescent organic compound.

전형적으로 유기발광소자는 기재층, 제 1 전극층, 발광층을 포함하는 유기층 및 제 2 전극층을 순차로 포함한다. 유기층은, 발광층 외에도 필요한 경우에 정공 주입층, 정공 수송층, 전자 수송층, 정공 저지층 및 전자 주입층 등으로부터 선택되는 적어도 하나의 기능성층을 포함하기도 한다.Typically, the organic light emitting device sequentially includes a base layer, a first electrode layer, an organic layer including a light emitting layer, and a second electrode layer. The organic layer may include at least one functional layer selected from a hole injecting layer, a hole transporting layer, an electron transporting layer, a hole blocking layer, and an electron injecting layer in addition to the light emitting layer, if necessary.

소위 하부 발광형 소자(bottom emitting device)로 호칭되는 구조에서는, 상기 제 1 전극층이 투명 전극층으로 형성되고, 제 2 전극층이 반사형 전극층으로 형성될 수 있다. 또한, 상부 발광형 소자(top emitting device)로 호칭되는 구조에서는 제 1 전극층이 반사형 전극층으로 형성되고, 제 2 전극층이 투명 전극층으로 형성되기도 한다. In a structure referred to as a so-called bottom emitting device, the first electrode layer may be formed of a transparent electrode layer, and the second electrode layer may be formed of a reflective electrode layer. Also, in the structure referred to as a top emitting device, the first electrode layer may be formed as a reflective electrode layer, and the second electrode layer may be formed as a transparent electrode layer.

두 개의 전극층에 의해서 전자(electron)와 정공(hole)이 각각 주입되고, 발광층에서 재결합(recombination)되어 광이 생성된다. 광은 하부 발광형 소자에서는 기재층측으로 상부 발광형 소자에서는 제 2 전극층측으로 방출될 수 있다.Electrons and holes are injected by the two electrode layers, respectively, and recombined in the light emitting layer to generate light. Light can be emitted toward the base layer side in the bottom emission type device and toward the second electrode layer side in the top emission type device.

유기발광소자의 구조에서 투명 전극층으로 일반적으로 사용되는 ITO(Indium Tin Oxide), 유기층 및 통상적으로 유리 기재층인 기재층의 굴절률은 각각 대략적으로 2.0, 1.8 및 1.5 정도이다. 이러한 굴절률의 관계에 의해서, 예를 들어, 하부 발광형의 소자에서 유기 발광층에서 생성된 광은 유기층과 제 1 전극층의 계면 또는 기재층 내에서 전반사(total internal reflection) 현상 등에 의해 트랩(trap)되고, 매우 소량의 광만이 방출된다.Indium Tin Oxide (ITO), which is generally used as a transparent electrode layer in the structure of an organic light emitting device, and the base layer, which is an organic layer and usually a glass base layer, are approximately 2.0, 1.8 and 1.5, respectively. Due to the relationship of the refractive indexes, for example, light generated in the organic light emitting layer in the bottom emission type device is trapped by the total internal reflection phenomenon or the like in the interface between the organic layer and the first electrode layer or in the base layer , Only a very small amount of light is emitted.

본 출원은, 유기발광소자 및 그 용도를 제공한다.The present application provides an organic light emitting device and its use.

본 출원의 유기발광소자는, 기재층을 포함하고, 상기 기재층상에 형성되는 양자점, 제 1 전극층, 유기층 및 제 2 전극층을 순차로 포함한다. 도 1은, 기재층(101), 양자점(102), 제 1 전극층(103), 유기층(104) 및 제 2 전극층(105)이 순차 형성된 예시적인 유기발광소자의 구조를 보여준다. 상기 유기발광소자는, 유기층에서 생성된 광이 양자점과의 상호 작용 등을 거쳐서 기재층측으로 추출되는 것일 수 있다. 이러한 경우에 상기 기재층은 투광성 기재층이며, 제 1 전극층은 투명 전극층이고, 제 2 전극층은 반사 전극층일 수 있다. The organic light emitting device of the present application includes a base layer, and sequentially includes a quantum dot, a first electrode layer, an organic layer, and a second electrode layer formed on the base layer. 1 shows a structure of an exemplary organic light emitting device in which a base layer 101, a quantum dot 102, a first electrode layer 103, an organic layer 104, and a second electrode layer 105 are sequentially formed. The organic light emitting device may be such that light generated in the organic layer is extracted toward the substrate layer through interaction with quantum dots and the like. In this case, the base layer may be a light-transmitting base layer, the first electrode layer may be a transparent electrode layer, and the second electrode layer may be a reflective electrode layer.

상기 구조에 의하면 상기 양자점은 유기층의 활성층(active layer), 예를 들면, 발광층에서 생성되는 전자기파(electromagnetic wave)와의 에 있는 상호 작용하여 광추출 효율이 개선될 수 있다. According to the above structure, the quantum dot interacts with an electromagnetic wave generated in an active layer of the organic layer, for example, a light emitting layer, so that light extraction efficiency can be improved.

양자점은, 밴드갭(bandgap)이 서로 다른 두 물질 중 밴드갭이 좁은 물질을 넓은 물질 내에 드브로이(de Broglie) 파장 정도의 크기가 되도록 성장 및 조작을 한 반도체 구조이다. 이렇게 형성된 양자점은 밴드 구조가 반도체 내의 두 운반자(carrier)인 전자와 정공의 움직임을 제한하게 되고, 이에 의해 양자 역학에서의 상자 속 입자(particle in a box)와 같은 에너지 구조를 가질 수 있다. 이러한 양자점의 특유의 구조에 의해, 예를 들어, 상기 양자점의 크기를 조절하여 그 특성을 조절하고, 유기발광소자의 구조에서 광추출 효율을 크게 개선할 수 있다.A quantum dot is a semiconductor structure in which a material having a narrow band gap among two materials having different band gaps is grown and manipulated so as to have a size of de Broglie wavelength in a wide material. The quantum dots thus formed have a band structure that restricts the movement of electrons and holes, which are two carriers in a semiconductor, and thus can have an energy structure such as a particle in a box in quantum mechanics. With the unique structure of the quantum dots, for example, the size of the quantum dots can be adjusted to control the characteristics thereof, and the light extraction efficiency in the structure of the organic light emitting device can be greatly improved.

예를 들면, 상기 유기층에서 생성되는 광의 파장의 범위가 380 nm 내지 780 nm의 범위를 포함할 때에 상기 양자점의 평균 입경은 약 1 nm 내지 1,000 nm, 1 nm 내지 500 nm, 1 nm 내지 200 nm, 1 nm 내지 100 nm, 1 nm 내지 90 nm, 1 nm 내지 80 nm, 1 nm 내지 70 nm, 1 nm 내지 60 nm, 1 nm 내지 50 nm, 1 nm 내지 40 nm, 1 nm 내지 30 nm 또는 1 nm 내지 20 nm 정도로 조절될 수 있다. 이러한 조절을 통해 유기층에서 생성된 광이 양자점과의 상호 작용을 높이고, 광추출 효율을 크게 개선할 수 있다.For example, when the wavelength range of the light generated in the organic layer includes a range of 380 nm to 780 nm, the average particle size of the quantum dots is about 1 nm to 1,000 nm, 1 nm to 500 nm, 1 nm to 200 nm, 1 nm to 100 nm, 1 nm to 90 nm, 1 nm to 80 nm, 1 nm to 70 nm, 1 nm to 60 nm, 1 nm to 50 nm, 1 nm to 40 nm, 1 nm to 30 nm, To about 20 nm. Through this adjustment, the light generated in the organic layer can increase the interaction with the quantum dots and greatly improve the light extraction efficiency.

양자점으로는 특별한 제한 없이 업계에 공지되어 있는 다양한 종류 중에서 발광층 또는 발광층에서 생성되는 광과의 상호 작용을 고려하여 적절한 종류를 선택 사용할 수 있다. 양자점으로는, 예를 들면, MgO, MgS,The quantum dot can be selected from various types known in the art without any particular limitation, taking into consideration the interaction between the light generated in the light emitting layer and the light emitting layer. As the quantum dots, for example, MgO, MgS,

MgSe, MgTe, CaO, CaS, CaSe, CaTe, SrO, SrS, SrSe, SrTe, BaO, BaS, BaSe, BaTE, ZnO, Cu2O, ZnS, ZnSe, ZnTe, CdO, CdS, CdSe, CdTe, HgO, HgS, HgSe, HgTe, Al2S3, Al2Se3, Al2Te3, Ga2O3, Ga2S3, Ga2Se3, Ga2Te3, In2O3, In2S3, In2Se3, In2Te3, GeO2, SnO2, SnS, SnSe, SnTe, PbO, PbO2, PbS, PbSe, PbTe, AlN, AlP, AlAs, AlSb, GaN, GaP, GaAs, GaSb, InN, InP, InAs, InSb, BP, Si 또는 Ge 등이나 상기 중 2종 이상의 혼합물을 사용할 수 있다. 양자점으로는, 예를 들면, II-VI족 물질, III-VI족 물질 또는 IV족 물질이나 그러한 물질의 혼합물 중에서 적절한 종류를 선택 및 사용할 수 있다. 또한, 양자점으로는, 예를 들면, 코어/셀(core/shell) 구조의 것을 사용할 수 있고, 이러한 양자점의 예시로는 CdSe/CdZnS, CdTe/CdSe, CdSe/ZnTe, CdSe/ZnS, InP/ZnSe, InP/ZnS, InP/ZnTe, CdSe/ZnSe, InP/GaAs, InGaAs/GaAs, PbTe/PbS, CuInS2/ZnS, Co/CdSe, Zn/ZnO, Ag/TiO2, Ag/SiO2, Au/Pb, Au/Pt 또는 Ru/Pt 등이 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.MgSe, MgTe, CaO, CaS, CaSe, CaTe, SrO, SrSe, SrTe, BaO, BaS, BaSe, BaTE, ZnO, Cu2O, ZnS, ZnSe, ZnTe, CdO, CdS, CdSe, CdTe, HgO, HgS, HgSe, HgTe, Al 2 S 3 , Al 2 Se 3, Al 2 Te 3, Ga 2 O 3, Ga 2 S 3, Ga 2 Se 3, Ga 2 Te 3, In 2 O 3, In 2 S 3, In 2 Se 3, In 2 Te 3 , GeO 2, SnO 2, SnS, SnSe, SnTe, PbO, PbO 2, PbS, PbSe, PbTe, AlN, AlP, AlAs, AlSb, GaN, GaP, GaAs, GaSb, InN, InP, InAs, InSb, BP, Si, or Ge, or a mixture of two or more of them. As the quantum dots, for example, a suitable kind may be selected and used from a group II-VI material, a group III-VI material or a group IV material or a mixture of such materials. CdSe / CdSn, CdTe / CdSe, CdSe / ZnTe, CdSe / ZnS, InP / ZnSe (CdSe / CdZnSe) may be used as the quantum dots. Ag / TiO 2 , Ag / SiO 2 , Au / Pb, InP / ZnS, InP / ZnTe, CdSe / ZnSe, InP / GaAs, InGaAs / GaAs, PbTe / PbS, CuInS2 / ZnS, Co / CdSe, Zn / ZnO, , Au / Pt or Ru / Pt, but is not limited thereto.

상기와 같은 양자점으로는 이 분야에서 공지된 입수 경로를 통해서 입수된 것을 사용하거나, 혹은 공지의 방식으로 제조된 것을 사용할 수 있다. 양자점을 제조하는 방법은, 다양하게 공지되어 있으며, 예를 들면, 식각(etching), 자발 형성(self assembling), 레이저를 통한 열처리, 2차원 전자기체 구조상의 전극에 걸린 전기장 등을 사용하는 방식 등이 있다. As such quantum dots, those obtained through the well-known routes in the art may be used, or those prepared by known methods may be used. Methods for producing quantum dots are variously known and include various methods such as etching, self assembling, laser heat treatment, a method using an electric field applied to an electrode on a two-dimensional electron gas structure, etc. .

도 1에 예시적으로 나타난 바와 같이, 양자점(102)은 바인더층(106) 내에 존재할 수 있다. As illustrated in FIG. 1, the quantum dot 102 may be present in the binder layer 106.

바인더층은, 예를 들면, 기재층 또는 제 1 전극층과 유사한 수준의 굴절률을 가지는 소재 또는 그보다 높은 굴절률을 가지는 바인더층을 형성할 수 있는 소재를 사용하여 형성할 수 있다. 예를 들면, 바인더층은, 예를 들면, 인접하는 제 1 전극층과 동등한 굴절률을 가질 수 있다. 하나의 예시에서 바인더층은, 550 nm의 파장에 대한 굴절률이 1.8 내지 3.5 또는 2.2 내지 3.0 정도일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 바인더 물질은, 예를 들면, 폴리이미드, 플루오렌 고리를 가지는 카도계 수지(caldo resin), 우레탄, 에폭시드, 폴리에스테르 또는 아크릴레이트 계열의 열 또는 광경화성의 단량체성, 올리고머성 또는 고분자성 유기 재료나 산화 규소, 질화 규소(silicon nitride), 옥시질화 규소(silicon oxynitride) 또는 폴리실록산 등의 무기 재료 또는 유무기 복합 재료 등일 수 있다. 바인더 물질은, 폴리실록산, 폴리아믹산 또는 폴리이미드를 포함할 수 있다. 상기에서 폴리실록산은, 예를 들면, 축합성 실란 화합물 또는 실록산 올리고머 등을 중축합시켜서 형성할 수 있으며, 상기를 통해 규소와 산소의 결합(Si-O)에 기반한 바인더 물질을 형성할 수 있다. 바인더 물질의 형성 과정에서 축합 조건 등을 조절하여 폴리실록산이 실록산 결합(Si-O)만을 기반으로 하도록 하거나, 혹은 알킬기 등과 같은 유기기나 알콕시기 등과 같은 축합성 관능기 등이 일부 잔존하도록 하는 것도 가능하다.The binder layer can be formed using, for example, a material capable of forming a base layer or a material having a refractive index similar to that of the first electrode layer or a binder layer having a higher refractive index. For example, the binder layer may have a refractive index equivalent to that of the adjacent first electrode layer, for example. In one example, the binder layer may have a refractive index of about 1.8 to 3.5 or 2.2 to 3.0 for a wavelength of 550 nm, but is not limited thereto. The binder material may be, for example, a thermally or photocurable monomeric, oligomeric or macromolecular organic material such as a polyimide, a caldo resin having a fluorene ring, a urethane, an epoxide, a polyester or an acrylate series Or an inorganic or organic composite material such as silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride or polysiloxane, or the like. The binder material may include polysiloxane, polyamic acid, or polyimide. The polysiloxane may be formed by polycondensation of, for example, a condensation silane compound or a siloxane oligomer, or the like, and a binder material based on a bond of silicon and oxygen (Si-O) may be formed through the polycondensation. It is also possible to control the condensation conditions or the like in the process of forming the binder material so that the polysiloxane is based only on the siloxane bond (Si-O), or a part of the condensed functional group such as an organic group such as an alkyl group or an alkoxy group remains.

폴리아믹산 또는 폴리이미드로는, 예를 들면, 633 nm의 파장의 광에 대한 굴절률이 약 1.5 이상, 약 1.6 이상, 약 1.65 이상 또는 약 1.7 이상인 폴리아믹산 또는 폴리이미드를 사용할 수 있다. 이러한 고굴절의 폴리아믹산 또는 폴리이미드는, 예를 들면, 불소 이외의 할로겐 원자, 황 원자 또는 인 원자 등이 도입된 단량체를 사용하여 제조할 수 있다. 예를 들면, 카복실기 등과 같이 입자와 결합할 수 있는 부위가 존재하여 입자의 분산 안정성을 향상시킬 수 있는 폴리아믹산을 사용할 수 있다. 폴리아믹산으로는, 예를 들면, 하기 화학식 1의 반복 단위를 포함하는 화합물을 사용할 수 있다.As the polyamic acid or polyimide, for example, a polyamic acid or polyimide having a refractive index of about 1.5 or more, about 1.6 or more, about 1.65 or more, or about 1.7 or more for light having a wavelength of 633 nm can be used. Such high refractive index polyamic acid or polyimide can be produced, for example, by using a monomer into which a halogen atom other than fluorine, a sulfur atom or a phosphorus atom is introduced. For example, it is possible to use a polyamic acid capable of improving the dispersion stability of the particles by allowing a site capable of binding to the particles such as a carboxyl group. As the polyamic acid, for example, a compound containing a repeating unit represented by the following formula (1) can be used.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure 112013028419080-pat00001
Figure 112013028419080-pat00001

화학식 1에서 n은 양의 수이다.In the formula (1), n is a positive number.

상기 반복 단위는 임의적으로 하나 이상의 치환기에 의해 치환되어 있을 수 있다. 치환기로는, 불소 외의 할로겐 원자, 페닐기, 벤질기, 나프틸기 또는 티오페닐기 등과 같은 할로겐 원자, 황 원자 또는 인 원자 등을 포함하는 관능기가 예시될 수 있다.The repeating unit may be optionally substituted by one or more substituents. Examples of the substituent include functional groups including a halogen atom other than fluorine, a halogen atom such as a phenyl group, a benzyl group, a naphthyl group or a thiophenyl group, a sulfur atom or a phosphorus atom.

폴리아믹산은, 상기 화학식 1의 반복 단위만으로 형성되는 단독 중합체이거나, 화학식 1의 반복 단위 외의 다른 단위를 함께 포함하는 블록 또는 랜덤 공중합체일 수 있다. 공중합체의 경우에 다른 반복 단위의 종류나 비율은 예를 들면, 목적하는 굴절률, 내열성이나 투광율 등을 저해하지 않는 범위에서 적절하게 선택될 수 있다. The polyamic acid may be a homopolymer formed only from the repeating unit represented by the formula (1), or may be a block or a random copolymer including units other than the repeating unit represented by the formula (1). In the case of a copolymer, the kind and ratio of other repeating units can be appropriately selected within a range that does not impair the desired refractive index, heat resistance, and light transmittance, for example.

화학식 1의 반복 단위의 구체적인 예로는, 하기 화학식 2의 반복 단위를 들 수 있다.Specific examples of the repeating unit of the formula (1) include repeating units of the following formula (2).

[화학식 2](2)

Figure 112013028419080-pat00002
Figure 112013028419080-pat00002

화학식 2에서 n은 양의 수이다.In formula (2), n is a positive number.

상기 폴리아믹산은 예를 들면, GPC(Gel Permeation Chromatograph)로 측정한 표준 폴리스티렌 환산 중량평균분자량이 10,000 내지 100,000 또는 약 10,000 내지 50,000 정도일 수 있다. 화학식 1의 반복 단위를 가지는 폴리아믹산은 또한, 가시 광선 영역에서의 광 투과율이 80% 이상, 85% 이상 또는 90% 이상이며, 내열성이 우수하다.The polyamic acid may have a weight average molecular weight of about 10,000 to about 100,000 or about 10,000 to about 50,000, for example, in terms of standard polystyrene measured by GPC (Gel Permeation Chromatograph). The polyamic acid having the repeating unit represented by the formula (1) has a light transmittance of not less than 80%, not less than 85%, or not less than 90% in the visible light region and is excellent in heat resistance.

바인더층은, 예를 들면, 굴절률의 조절의 관점에서 평균 입경이 1 nm 내지 100 nm, 10 nm 내지 90 nm, 20 nm 내지 80 nm, 30 nm 내지 70 nm, 30 nm 내지 60 nm 또는 30 nm 내지 50 nm 정도인 고굴절 입자를 추가로 포함할 수 있다. 고굴절 입자로는, 예를 들면, 알루미나, 산화 티탄 또는 산화 지르코늄 등이 예시될 수 있다.The binder layer may have an average particle diameter of 1 nm to 100 nm, 10 nm to 90 nm, 20 nm to 80 nm, 30 nm to 70 nm, 30 nm to 60 nm, or 30 nm to 30 nm, for example, And may further include high-refraction particles of about 50 nm. As the high refractive index particles, for example, alumina, titanium oxide, zirconium oxide or the like can be exemplified.

다른 예시에서 바인더층은, 지르코늄, 티탄 또는 세륨 등의 금속의 알콕시드 또는 아실레이트(acylate) 등의 화합물을 카복실기 또는 히드록시기 등의 극성기를 가지는 소재와 배합한 재료를 사용하여 형성할 수도 있다. 상기 알콕시드 또는 아실레이트 등의 화합물은 상기 극성기와 축합 반응하고, 바인더층의 골격 내에 상기 금속을 포함시켜 고굴절률을 구현할 수 있다. 상기 알콕시드 또는 아실레이트 화합물의 예로는, 테트라-n-부톡시 티탄, 테트라이소프로폭시 티탄, 테트라-n-프로폭시 티탄 또는 테트라에톡시 티탄 등의 티탄 알콕시드, 티탄 스테아레이트(stearate) 등의 티탄 아실레이트, 티탄 킬레이트류, 테트라-n-부톡시지르코늄, 테트라-n-프로폭시 지르코늄, 테트라이소프로폭시 지르코늄 또는 테트라에톡시 지르코늄 등의 지르코늄 알콕시드, 지르코늄 트리부톡시스테아레이트 등의 지르코늄 아실레이트, 지르코늄 킬레이트류 등이 예시될 수 있다. 또한, 상기 극성기를 가지는 소재로는, 상기 산란층의 항목에서 기술한 바인더 중에서 적정한 종류가 선택되어 사용될 수 있다.In another example, the binder layer may be formed by using a compound such as an alkoxide or acylate of a metal such as zirconium, titanium or cerium in combination with a material having a polar group such as a carboxyl group or a hydroxyl group. The compound such as an alkoxide or an acylate may undergo a condensation reaction with the polar group and may incorporate the metal in the skeleton of the binder layer to realize a high refractive index. Examples of the alkoxide or acylate compound include titanium alkoxides such as tetra-n-butoxytitanium, tetraisopropoxytitanium, tetra-n-propoxytitanium or tetraethoxytitanium, titanium stearate and the like Titanium chelates, tetra-n-butoxyzirconium, tetra-n-propoxyzirconium, tetraisopropoxyzirconium or tetraethoxyzirconium, zirconium alkoxide such as zirconium tributoxystearate, Acylate, zirconium chelates, and the like. As the material having the polar group, a suitable kind of binder among the binders described in the item of the scattering layer may be selected and used.

바인더층은, 또한 티탄 알콕시드 또는 지르코늄 알콕시드 등의 금속 알콕시드 및 알코올 또는 물 등의 용매를 배합하고, 다시 양자점을 혼합하여 코팅액을 제조하고, 이를 도포한 후에 적정한 온도에서 소성하는 졸겔 코팅 방식으로 형성할 수도 있다.The binder layer is preferably a sol-gel coating method in which a coating liquid is prepared by mixing a metal alkoxide such as titanium alkoxide or zirconium alkoxide and a solvent such as alcohol or water and mixing the quantum dots again, As shown in FIG.

이와 같이 형성된 바인더층 내에서의 양자점의 비율이나, 상기 바인더층의 두께 등은 특별히 제한되지 않고, 발광층 또는 발광층에서 생성된 광과의 상호 작용의 정도 등을 고려하여 적절하게 선택할 수 있다. 예를 들면, 바인더층은, 0.1 중량% 내지 20 중량% 정도의 양자점을 포함할 수 있다. 또한, 바인더층은, 예를 들면, 200 nm 내지 1 ㎛ 정도의 두께를 가질 수 있다. 그렇지만, 상기 양자점의 비율과 바인더층의 두께는 필요에 따라 변경될 수 있다.The ratio of the quantum dots in the binder layer thus formed, the thickness of the binder layer, and the like are not particularly limited and may be appropriately selected in consideration of the degree of interaction with the light generated in the light emitting layer or the light emitting layer. For example, the binder layer may contain quantum dots of about 0.1% to 20% by weight. Further, the binder layer may have a thickness of, for example, about 200 nm to 1 mu m. However, the ratio of the quantum dots and the thickness of the binder layer can be changed as needed.

유기발광소자에 사용되는 기재층으로는 특별한 제한 없이 필요에 따라 적절한 소재가 사용될 수 있다. 하나의 예시에서는 기재층으로는, 투광성 기재층, 예를 들면, 가시광 영역의 파장의 광에 대한 투과율이 50%, 60%, 70%, 80% 또는 90% 이상인 기재층을 사용할 수 있다. 투광성 기재층으로는, 유리 기판 또는 투명 고분자 기재층이 예시될 수 있다. 유리 기판으로는, 소다석회 유리, 바륨/스트론튬 함유 유리, 납 유리, 알루미노 규산 유리, 붕규산 유리, 바륨 붕규산 유리 또는 석영 등을 포함하는 기재층 등이 예시될 수 있고, 고분자 기재층으로는, PI(polyimide), PEN(Polyethylene naphthalate), PC(polycarbonate), 아크릴 수지, PET(poly(ethylene terephthatle)), PES(poly(ether sulfide)) 또는 PS(polysulfone) 등을 포함하는 기재층이 예시될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 기재층은, 예를 들면, 광투과율, 기계적 강도 또는 중량 등을 고려하여 적절한 두께를 가질 수 있다. 통상적인 기재층의 두께는, 예를 들면, 0.1 mm 내지 10 mm, 0.3 mm 내지 5 mm 또는 0.5 mm 내지 2 mm 정도일 수 있다.As the substrate layer used in the organic light emitting device, a suitable material can be used as needed without particular limitation. In one example, as the substrate layer, a substrate layer having a transmittance of 50%, 60%, 70%, 80% or 90% or more with respect to light of a light transmitting base material layer, for example, a visible light region, may be used. As the light-transmitting base layer, a glass substrate or a transparent polymer base layer can be exemplified. As the glass substrate, a substrate layer containing soda-lime glass, barium / strontium-containing glass, lead glass, aluminosilicate glass, borosilicate glass, barium borosilicate glass or quartz can be exemplified. As the polymer base layer, A substrate layer including polyimide (PI), polyethylene naphthalate (PEN), polycarbonate, acrylic resin, poly (ethylene terephthalate), PES (poly sulfide) But is not limited thereto. The substrate layer may have an appropriate thickness in consideration of, for example, light transmittance, mechanical strength, or weight. The thickness of a conventional substrate layer may be, for example, from about 0.1 mm to 10 mm, from about 0.3 mm to about 5 mm, or from about 0.5 mm to about 2 mm.

유기발광소자에 포함되는 제 1 및 제 2 전극층 중에서 어느 하나는 정공 주입성 전극층이고, 다른 하나는 전자 주입성 전극층일 수 있다. 또한, 제 1 및 제 2 전극층은 모두 투명 전극층이거나, 혹은 어느 하나는 투명 전극층이고, 다른 하나는 반사 전극층일 수 있다. 적절하게는 적어도 기재층상에 형성되는 제 1 전극층은 투명 전극층일 수 있다. 이하 본 명세서에서는, 설명의 편의를 위하여, 도 1과 같은 구조의 소자에서 기재층(101)의 상부에 형성되는 제 1 전극층(103)이 정공 주입성 전극층이면서 투명 전극층인 제 1 전극층이고, 다른 전극층(105)이 전자 주입성 전극층이면서 반사 전극인 것으로 가정하여 서술하나, 제 1 및 제 2 전극층의 소자 내에서의 위치나 특성이 상기 예시에 제한되는 것은 아니다.Any one of the first and second electrode layers included in the organic light emitting device may be a hole injecting electrode layer and the other may be an electron injecting electrode layer. In addition, the first and second electrode layers may all be transparent electrode layers, or one of them may be a transparent electrode layer and the other may be a reflective electrode layer. Suitably, at least the first electrode layer formed on the base layer may be a transparent electrode layer. Hereinafter, for convenience of explanation, in the device having the structure as shown in Fig. 1, the first electrode layer 103 formed on the base layer 101 is a first electrode layer which is a hole injecting electrode layer and a transparent electrode layer, Although it is assumed that the electrode layer 105 is an electron injecting electrode layer and a reflective electrode, the positions and characteristics of the first and second electrode layers in the element are not limited to the above examples.

실질적으로 투명하면서 정공 주입성인 전극층은, 예를 들면, 상대적으로 높은 일 함수(work function)를 가지는 투명 재료를 사용하여 형성할 수 있다. 예를 들면, 정공 주입성 전극층은, 일 함수가 약 4.0 eV 이상인 금속, 합금, 전기 전도성 화합물 또는 상기 중 2종 이상의 혼합물을 포함할 수 있다. 이러한 재료로는, 금 등의 금속, CuI, ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ZTO(Zinc Tin Oxide), 알루미늄 또는 인듐이 도핑된 아연 옥사이드, 마그네슘 인듐 옥사이드, 니켈 텅스텐 옥사이드, ZnO, SnO2 또는 In2O3 등의 산화물 재료나, 갈륨 니트라이드와 같은 금속 니트라이드, 아연 세레나이드 등과 같은 금속 세레나이드, 아연 설파이드와 같은 금속 설파이드 등이 예시될 수 있다. 투명한 정공 주입성 전극층은, 또한, Au, Ag 또는 Cu 등의 금속 박막과 ZnS, TiO2 또는 ITO 등과 같은 고굴절의 투명 물질의 적층체 등을 사용하여서도 형성할 수 있다.The electrode layer that is substantially transparent and capable of injecting holes can be formed using, for example, a transparent material having a relatively high work function. For example, the hole-injecting electrode layer may comprise a metal, an alloy, an electrically conductive compound or a mixture of two or more thereof having a work function of about 4.0 eV or more. As such a material, metal such as gold, CuI, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc tin oxide (ZTO), zinc oxide doped with aluminum or indium, magnesium indium oxide, nickel tungsten oxide, An oxide material such as ZnO, SnO 2 or In 2 O 3 , a metal nitrides such as gallium nitride, metal serenides such as zinc serenide, and metal sulfides such as zinc sulfide. The transparent positive hole injecting electrode layer can also be formed using a metal thin film of Au, Ag or Cu and a laminate of a transparent material of high refractive index such as ZnS, TiO 2 or ITO.

투명 정공 주입성 전극층은, 증착, 스퍼터링, 화학 증착 또는 전기화학적 수단 등의 임의의 수단으로 형성될 수 있다. 또한, 필요에 따라서 형성된 전극층은 공지된 포토리소그래피나 새도우 마스크 등을 사용한 공정을 통하여 패턴화될 수도 있다. 정공 주입성 전극층의 막 두께는 광투과율이나 표면 저항 등에 따라 다르지만, 통상적으로 500 nm 또는 10 nm 내지 200 nm의 범위 내에 있을 수 있다. The transparent hole injecting electrode layer may be formed by any means such as vapor deposition, sputtering, chemical vapor deposition or electrochemical means. In addition, the electrode layer formed according to need may be patterned through a process using known photolithography, shadow mask, or the like. The film thickness of the hole injecting electrode layer varies depending on the light transmittance, the surface resistance, and the like, but may be usually in the range of 500 nm or 10 nm to 200 nm.

전자 주입성 전극층은, 예를 들면, 상대적으로 작은 일 함수를 가지는 재료를 사용하여 형성할 수 있다. 예를 들면, 전자 주입성 전극층은, 상기 기술한 정공 주입성 전극층의 형성을 위해 사용되는 소재 중에서 적절한 소재를 사용하여 형성할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 전자 주입성 전극층도, 예를 들면, 증착법 또는 스퍼터링법 등을 사용하여 형성할 수 있으며, 필요한 경우에 적절히 패터닝될 수 있다. 전자 주입성 전극층은 필요에 따른 적절한 두께로 형성될 수 있다. The electron injecting electrode layer can be formed using, for example, a material having a relatively small work function. For example, the electron injecting electrode layer can be formed using a suitable material among the materials used for forming the above-described hole injecting electrode layer, but the present invention is not limited thereto. The electron injecting electrode layer can also be formed using, for example, a vapor deposition method or a sputtering method, and can be appropriately patterned when necessary. The electron injecting electrode layer may be formed to have an appropriate thickness as required.

전자 및 정공 주입성 전극층의 사이에 존재하는 유기층은, 1층 이상의 발광층을 포함한다. 유기층은 2층 이상의 복수의 발광층을 포함할 수 있다. 발광층이 2층 이상의 발광층을 포함되는 경우에는, 상기 2층 이상의 발광층은 서로 접촉하거나 떨어져 있을 수 있으며, 필요한 경우에는, 전하 발생 특성을 가지는 중간 전극층이나 전하 발생층(CGL; Charge Generating Layer) 등에 의해 분할되어 있는 구조를 가질 수도 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The organic layer present between the electron and the hole injecting electrode layer includes one or more light emitting layers. The organic layer may include a plurality of light emitting layers of two or more layers. When the light emitting layer includes two or more light emitting layers, the two or more light emitting layers may be in contact with or separated from each other, and if necessary, may be formed by an intermediate electrode layer having charge generating characteristics, a charge generating layer (CGL) But the present invention is not limited thereto.

발광층은, 예를 들면, 이 분야에 공지된 다양한 형광 또는 인광 유기 재료를 사용하여 형성할 수 있다. 발광층에 사용될 수 있는 재료로는, 트리스(4-메틸-8-퀴놀리놀레이트)알루미늄(III)(tris(4-methyl-8-quinolinolate)aluminum(III))(Alg3), 4-MAlq3 또는 Gaq3 등의 Alq 계열의 재료, C-545T(C26H26N2O2S), DSA-아민, TBSA, BTP, PAP-NPA, 스피로-FPA, Ph3Si(PhTDAOXD), PPCP(1,2,3,4,5-pentaphenyl-1,3-cyclopentadiene) 등과 같은 시클로페나디엔(cyclopenadiene) 유도체, DPVBi(4,4'-bis(2,2'-diphenylyinyl)-1,1'-biphenyl), 디스티릴 벤젠 또는 그 유도체 또는 DCJTB(4-(Dicyanomethylene)-2-tert-butyl-6-(1,1,7,7,-tetramethyljulolidyl-9-enyl)-4H-pyran), DDP, AAAP, NPAMLI; 또는 Firpic, m-Firpic, N-Firpic, bon2Ir(acac), (C6)2Ir(acac), bt2Ir(acac), dp2Ir(acac), bzq2Ir(acac), bo2Ir(acac), F2Ir(bpy), F2Ir(acac), op2Ir(acac), ppy2Ir(acac), tpy2Ir(acac), FIrppy(fac-tris[2-(4,5'-difluorophenyl)pyridine-C'2,N] iridium(III)) 또는 Btp2Ir(acac)(bis(2-(2'-benzo[4,5-a]thienyl)pyridinato-N,C3'-)iridium(acetylactonate)) 등과 같은 인광 재료 등이 예시될 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다. 발광층은, 상기 재료를 호스트(host)로 포함하고, 또한 페릴렌(perylene), 디스티릴비페닐(distyrylbiphenyl), DPT, 퀴나크리돈(quinacridone), 루브렌(rubrene), BTX, ABTX 또는 DCJTB 등을 도펀트로 포함하는 호스트-도펀트 시스템(Host-Dopant system)을 가질 수도 있다.The light-emitting layer can be formed, for example, by using various fluorescent or phosphorescent organic materials known in the art. Examples of materials that can be used for the light emitting layer include tris (4-methyl-8-quinolinolate) aluminum (III) (Alg3), 4-MAlq3 (C 26 H 26 N 2 O 2 S), DSA-amine, TBSA, BTP, PAP-NPA, Spiro-FPA, Ph 3 Si (PhTDAOXD), PPCP Cyclopenadiene derivatives such as 2,3,4,5-pentaphenyl-1,3-cyclopentadiene, DPVBi (4,4'-bis (2,2'-diphenylyinyl) -1,1'- biphenyl) , Distyrylbenzene or a derivative thereof, or DCJTB (4- (Dicyanomethylene) -2-tert-butyl-6- (1,1,7,7-tetramethyljulolidyl-9- NPAMLI; Or Firpic, m-Firpic, N- Firpic, bon 2 Ir (acac), (C 6) 2 Ir (acac), bt 2 Ir (acac), dp 2 Ir (acac), bzq 2 Ir (acac), bo 2 Ir (acac), F 2 Ir (bpy), F 2 Ir (acac), op 2 Ir (acac), ppy 2 Ir (acac), tpy 2 Ir (acac), FIrppy (fac-tris [2- ( ( 2 , 4'-difluorophenyl) pyridine-C'2, N] iridium (III) or Btp 2 Ir (acac) C3 '-) iridium (acetylacetonate), and the like, but the present invention is not limited thereto. The light emitting layer may contain the above material as a host and may also include perylene, distyrylbiphenyl, DPT, quinacridone, rubrene, BTX, ABTX or DCJTB. And may have a host-dopant system including a dopant.

발광층은 또한 후술하는 전자 수용성 유기 화합물 또는 전자 공여성 유기 화합물 중에서 발광 특성을 나타내는 종류를 적절히 채용하여 형성할 수 있다.The light-emitting layer can be formed by suitably employing a kind that exhibits luminescence characteristics among electron-accepting organic compounds or electron-donating organic compounds described below.

유기층은, 발광층을 포함하는 한, 이 분야에 공지된 다른 다양한 기능성층을 추가로 포함하는 다양한 구조로 형성될 수 있다. 유기층에 포함될 수 있는 층으로는, 전자 주입층, 정공 저지층, 전자 수송층, 정공 수송층 및 정공 주입층 등이 예시될 수 있다.The organic layer may be formed with various structures, including various other functional layers known in the art, as long as the layer includes a light emitting layer. Examples of the layer that can be included in the organic layer include an electron injecting layer, a hole blocking layer, an electron transporting layer, a hole transporting layer, and a hole injecting layer.

전자 주입층 또는 전자 수송층은, 예를 들면, 전자 수용성 유기 화합물(electron accepting organic compound)을 사용하여 형성할 수 있다. 상기에서 전자 수용성 유기 화합물로는, 특별한 제한 없이 공지된 임의의 화합물이 사용될 수 있다. 이러한 유기 화합물로는, p-테르페닐(p-terphenyl) 또는 쿠아테르페닐(quaterphenyl) 등과 같은 다환 화합물 또는 그 유도체, 나프탈렌(naphthalene), 테트라센(tetracene), 피렌(pyrene), 코로넨(coronene), 크리센(chrysene), 안트라센(anthracene), 디페닐안트라센(diphenylanthracene), 나프타센(naphthacene) 또는 페난트렌(phenanthrene) 등과 같은 다환 탄화수소 화합물 또는 그 유도체, 페난트롤린(phenanthroline), 바소페난트롤린(bathophenanthroline), 페난트리딘(phenanthridine), 아크리딘(acridine), 퀴놀린(quinoline), 키노사린(quinoxaline) 또는 페나진(phenazine) 등의 복소환화합물 또는 그 유도체 등이 예시될 수 있다. 또한, 플루오르세인(fluoroceine), 페리렌(perylene), 프타로페리렌(phthaloperylene), 나프타로페리렌(naphthaloperylene), 페리논(perynone), 프타로페리논, 나프타로페리논, 디페닐부타디엔(diphenylbutadiene), 테트라페닐부타디엔(tetraphenylbutadiene), 옥사디아졸(oxadiazole), 아르다진(aldazine), 비스벤조옥사조린(bisbenzoxazoline), 비스스티릴(bisstyryl), 피라진(pyrazine), 사이크로펜타디엔(cyclopentadiene), 옥신(oxine), 아미노퀴놀린(aminoquinoline), 이민(imine), 디페닐에틸렌, 비닐안트라센, 디아미노카르바졸(diaminocarbazole), 피란(pyrane), 티오피란(thiopyrane), 폴리메틴(polymethine), 메로시아닌(merocyanine), 퀴나크리돈(quinacridone) 또는 루부렌(rubrene) 등이나 그 유도체, 일본특허공개 제1988-295695호, 일본특허공개 제1996-22557호, 일본특허공개 제1996-81472호, 일본특허공개 제1993-009470호 또는 일본특허공개 제1993-017764호 등의 공보에서 개시하는 금속 킬레이트 착체 화합물, 예를 들면, 금속 킬레이트화 옥사노이드화합물인 트리스(8-퀴놀리노라토)알루미늄[tris(8-quinolinolato)aluminium], 비스(8-퀴놀리노라토)마그네슘, 비스[벤조(에프)-8-퀴놀뤼노라토]아연{bis[benzo(f)-8-quinolinolato]zinc}, 비스(2-메틸-8-퀴놀리노라토)알루미늄, 트리스(8-퀴놀리노라토)인디엄[tris(8-quinolinolato)indium], 트리스(5-메틸-8-퀴놀리노라토)알루미늄, 8-퀴놀리노라토리튬, 트리스(5-클로로-8-퀴놀리노라토)갈륨, 비스(5-클로로-8-퀴놀리노라토)칼슘 등의 8-퀴놀리노라토 또는 그 유도체를 배립자로 하나 이상 가지는 금속 착체, 일본특허공개 제1993-202011호, 일본특허공개 제1995-179394호, 일본특허공개 제1995-278124호 또는 일본특허공개 제1995-228579호 등의 공보에 개시된 옥사디아졸(oxadiazole) 화합물, 일본특허공개 제1995-157473호 공보 등에 개시된 트리아진(triazine) 화합물, 일본특허공개 제1994-203963호 공보 등에 개시된 스틸벤(stilbene) 유도체나, 디스티릴아릴렌(distyrylarylene) 유도체, 일본특허공개 제1994-132080호 또는 일본특허공개 제1994-88072호 공보 등에 개시된 스티릴 유도체, 일본특허공개 제1994-100857호나 일본특허공개 제1994-207170호 공보 등에 개시된 디올레핀 유도체; 벤조옥사졸(benzooxazole) 화합물, 벤조티아졸(benzothiazole) 화합물 또는 벤조이미다졸(benzoimidazole) 화합물 등의 형광 증백제; 1,4-비스(2-메틸스티릴)벤젠, 1,4-비스(3-메틸스티릴)벤젠, 1,4-비스(4-메틸스티릴)벤젠, 디스티릴벤젠, 1,4-비스(2-에틸스티릴)벤질, 1,4-비스(3-에틸스티릴)벤젠, 1,4-비스(2-메틸스티릴)-2-메틸벤젠 또는 1,4-비스(2-메틸스티릴)-2-에틸벤젠 등과 같은 디스티릴벤젠(distyrylbenzene) 화합물; 2,5-비스(4-메틸스티릴)피라진, 2,5-비스(4-에틸스티릴)피라진, 2,5-비스[2-(1-나프틸)비닐]피라진, 2,5-비스(4-메톡시스티릴)피라진, 2,5-비스[2-(4-비페닐)비닐]피라진 또는 2,5-비스[2-(1-피레닐)비닐]피라진 등의 디스티릴피라진(distyrylpyrazine) 화합물, 1,4-페닐렌디메틸리딘, 4,4'-페닐렌디메틸리딘, 2,5-크실렌디메틸리딘, 2,6-나프틸렌디메틸리딘, 1,4-비페닐렌디메틸리딘, 1,4-파라-테레페닐렌디메텔리딘, 9,10-안트라센디일디메틸리딘(9,10-anthracenediyldimethylidine) 또는 4,4'-(2,2-디-티-부틸페닐비닐)비페닐, 4,4'-(2,2-디페닐비닐)비페닐 등과 같은 디메틸리딘(dimethylidine) 화합물 또는 그 유도체, 일본특허공개 제1994-49079호 또는 일본특허공개 제1994-293778호 공보 등에 개시된 실라나민(silanamine) 유도체, 일본특허공개 제1994-279322호 또는 일본특허공개 제1994-279323호 공보 등에 개시된 다관능 스티릴 화합물, 일본특허공개 제1994-107648호 또는 일본특허공개 제1994-092947호 공보 등에 개시되어 있는 옥사디아졸 유도체, 일본특허공개 제1994-206865호 공보 등에 개시된 안트라센 화합물, 일본특허공개 제1994-145146호 공보 등에 개시된 옥시네이트(oxynate) 유도체, 일본특허공개 제1992-96990호 공보 등에 개시된 테트라페닐부타디엔 화합물, 일본특허공개 제1991-296595호 공보 등에 개시된 유기 삼관능 화합물, 일본특허공개 제1990-191694호 공보 등에 개시된 쿠마린(coumarin)유도체, 일본특허공개 제1990-196885호 공보 등에 개시된 페리렌(perylene) 유도체, 일본특허공개 제1990-255789호 공보 등에 개시된 나프탈렌 유도체, 일본특허공개 제1990-289676호나 일본특허공개 제1990-88689호 공보 등에 개시된 프탈로페리논(phthaloperynone) 유도체 또는 일본특허공개 제1990-250292호 공보 등에 개시된 스티릴아민 유도체 등도 저굴절층에 포함되는 전자 수용성 유기 화합물로서 사용될 수 있다. 또한, 상기에서 전자 주입층은, 예를 들면, LiF 또는 CsF 등과 같은 재료를 사용하여 형성할 수도 있다. The electron injection layer or the electron transport layer can be formed using, for example, an electron accepting organic compound. As the electron-accepting organic compound in the above, any known compound can be used without any particular limitation. Examples of such organic compounds include polycyclic compounds or derivatives thereof such as p-terphenyl or quaterphenyl, naphthalene, tetracene, pyrene, coronene, ), Polycyclic hydrocarbon compounds or derivatives thereof such as chrysene, anthracene, diphenylanthracene, naphthacene or phenanthrene, phenanthroline, Heterocyclic compounds or derivatives thereof such as bathophenanthroline, phenanthridine, acridine, quinoline, quinoxaline, or phenazine may be exemplified. It is also possible to use at least one of fluoroceine, perylene, phthaloperylene, naphthaloperylene, perynone, phthaloferrinone, naphthoferrinone, diphenylbutadiene ( diphenylbutadiene, tetraphenylbutadiene, oxadiazole, aldazine, bisbenzoxazoline, bisstyryl, pyrazine, cyclopentadiene, and the like. Oxine, aminoquinoline, imine, diphenylethylene, vinyl anthracene, diaminocarbazole, pyrane, thiopyrane, polymethine, Quinacridone or rubrene or derivatives thereof, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1988-295695, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1996-22557, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1996-81472, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1993-009470 or Japanese Patent Application Laid- For example, tris (8-quinolinolato) aluminum, a metal chelated oxanoid compound, bis (8-quinolinolato) aluminum, Bis (benzo (f) -8-quinolinolato] zinc}, bis (2-methyl-8-quinolinolato) aluminum, Tris (8-quinolinolato) indium], tris (5-methyl-8-quinolinolato) aluminum, 8- quinolinolato lithium, tris (5- Quinolinolato) gallium, bis (5-chloro-8-quinolinolato) calcium and the like, metal complexes having at least one of 8-quinolinolato or a derivative thereof as an arbiter, Japanese Patent Laid- Oxadiazole compounds disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 1995-179394, 1995-278124, and 1995-228579, Stilbene derivatives, distyrylarylene derivatives, and the like disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open (kokai) No. 1994-132080 Styryl derivatives disclosed in JP-A-1994-88072 and the like, diolefin derivatives disclosed in JP-A-1994-100857 and JP-A-1994-207170, and the like; Fluorescent brightening agents such as benzooxazole compounds, benzothiazole compounds or benzoimidazole compounds; Bis (4-methylstyryl) benzene, distyrylbenzene, 1,4-bis (2-methylstyryl) benzene, Bis (2-methylstyryl) benzene, 1,4-bis (3-ethylstyryl) benzene, Methylstyryl) -2-ethylbenzene, and the like; Bis (4-methylstyryl) pyrazine, 2,5-bis (4-methylstyryl) pyrazine, 2,5- Bis [2- (4-biphenyl) vinyl] pyrazine such as bis (4-methoxystyryl) pyrazine, 2,5-bis [2- Distyrylpyrazine compounds, 1,4-phenylenedimethylidene, 4,4'-phenylenedimethylidyne, 2,5-xylenedimethylidyne, 2,6-naphthylenedimethylidyne, 1,4-biphenylene dimethyl (9,10-anthracenediyldimethylidine) or 4,4 '- (2,2-di-t-butylphenylvinyl) biphenyl , Dimethylidine compounds such as 4,4 '- (2,2-diphenylvinyl) biphenyl and derivatives thereof, silane disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1994-49079 or Japanese Patent Application Laid-Open No. 1994-293778 Silanamine derivatives, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1994-279322 or Japanese Patent Laid-Open Publication No. 1994-279323 Oxadiazole derivatives disclosed in Japanese Patent Laid-Open Publication No. 1994-109264, Japanese Patent Laid-Open Publication No. 1994-206865 and the like, an anthracene compound disclosed in Japanese Patent Oxynate derivatives disclosed in JP-A-1994-145146 and the like, tetraphenylbutadiene compounds disclosed in JP-A-1992-96990 and the like, organic trifunctional compounds disclosed in JP-A-1991-296595, A coumarin derivative disclosed in JP-A-1990-191694, a perylene derivative disclosed in JP-A-1990-196885, a naphthalene derivative disclosed in JP-A-1990-255789, Phthaloperynone derivatives disclosed in JP-A No. 1990-289676 or JP-A No. 1990-88689 or a derivative of phthaloperynone derivatives disclosed in JP-A No. 1990-25029 Styrylamine derivatives disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-open Publication No. 2 (1990) can also be used as electron-accepting organic compounds contained in the low refractive layer. In addition, the electron injection layer may be formed using a material such as LiF or CsF.

정공 저지층은, 주입된 정공이 발광층을 지나 전자 주입성 전극층으로 진입하는 것을 방지하여 소자의 수명과 효율을 향상시킬 수 있는 층이고, 필요한 경우에 공지의 재료를 사용하여 발광층과 전자 주입성 전극층의 사이에 적절한 부분에 형성될 수 있다.The hole blocking layer is a layer which can prevent the injected holes from entering the electron injecting electrode layer through the light emitting layer to improve the lifetime and efficiency of the device. If necessary, the hole blocking layer can be formed using a known material, As shown in FIG.

정공 주입층 또는 정공 수송층은, 예를 들면, 전자 공여성 유기 화합물(electron donating organic compound)을 포함할 수 있다. 전자 공여성 유기 화합물로는, N,N',N'-테트라페닐-4,4'-디아미노페닐, N,N'-디페닐-N,N'-디(3-메틸페닐)-4,4'-디아미노비페닐, 2,2-비스(4-디-p-톨릴아미노페닐)프로판, N,N,N',N'-테트라-p-톨릴-4,4'-디아미노비페닐, 비스(4-디-p-톨릴아미노페닐)페닐메탄, N,N'-디페닐-N,N'-디(4-메톡시페닐)-4,4'-디아미노비페닐, N,N,N',N'-테트라페닐-4,4'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-비스(디페닐아미노)쿠아드리페닐[4,4'-bis(diphenylamino)quadriphenyl], 4-N,N-디페닐아미노-(2-디페닐비닐)벤젠, 3-메톡시-4'-N,N-디페닐아미노스틸벤젠, N-페닐카르바졸, 1,1-비스(4-디-p-트리아미노페닐)시크로헥산, 1,1-비스(4-디-p-트리아미노페닐)-4-페닐시크로헥산, 비스(4-디메틸아미노-2-메틸페닐)페닐메탄, N,N,N-트리(p-톨릴)아민, 4-(디-p-톨릴아미노)-4'-[4-(디-p-톨릴아미노)스티릴]스틸벤, N,N,N',N'-테트라페닐-4,4'-디아미노비페닐 N-페닐카르바졸, 4,4'-비스[N-(1-나프틸)-N-페닐-아미노]비페닐, 4,4'-비스[N-(1-나프틸)-N-페닐아미노]p-테르페닐, 4,4'-비스[N-(2-나프틸)-N-페닐아미노]비페닐, 4,4'-비스[N-(3-아세나프테닐)-N-페닐아미노]비페닐, 1,5-비스[N-(1-나프틸)-N-페닐아미노]나프탈렌, 4,4'-비스[N-(9-안트릴)-N-페닐아미노]비페닐페닐아미노]비페닐, 4,4'-비스[N-(1-안트릴)-N-페닐아미노]-p-테르페닐, 4,4'-비스[N-(2-페난트릴)-N-페닐아미노]비페닐, 4,4'-비스[N-(8-플루오란테닐)-N-페닐아미노]비페닐, 4,4'-비스[N-(2-피레닐)-N-페닐아미노]비페닐, 4,4'-비스[N-(2-페릴레닐)-N-페닐아미노]비페닐, 4,4'-비스[N-(1-코로네닐)-N-페닐아미노]비페닐(4,4'-bis[N-(1-coronenyl)-N-phenylamino]biphenyl), 2,6-비스(디-p-톨릴아미노)나프탈렌, 2,6-비스[디-(1-나프틸)아미노]나프탈렌, 2,6-비스[N-(1-나프틸)-N-(2-나프틸)아미노]나프탈렌, 4,4'-비스[N,N-디(2-나프틸)아미노]테르페닐, 4,4'-비스{N-페닐-N-[4-(1-나프틸)페닐]아미노}비페닐, 4,4'-비스[N-페닐-N-(2-피레닐)아미노]비페닐, 2,6-비스[N,N-디-(2-나프틸)아미노]플루오렌 또는 4,4'-비스(N,N-디-p-톨릴아미노)테르페닐, 및 비스(N-1-나프틸)(N-2-나프틸)아민 등과 같은 아릴 아민 화합물이 대표적으로 예시될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The hole injecting layer or the hole transporting layer may include, for example, an electron donating organic compound. Examples of the electron donating organic compound include N, N ', N'-tetraphenyl-4,4'-diaminophenyl, N, N'- N, N ', N'-tetra-p-tolyl-4,4'-diaminobiphenyl, Phenyl, N, N'-di (4-methoxyphenyl) -4,4'-diaminobiphenyl, N, N'- (N, N ', N'-tetraphenyl-4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-bis (diphenylamino) quadriphenyl] 4-N, N-diphenylaminostilbene, N-phenylcarbazole, 1,1-bis (4-methoxy- Bis (4-dimethylamino-2-methylphenyl) phenylmethanesulfonate, 1,1-bis (4-di- N, N, N-tri (p-tolyl) amine, 4- (di-p- tolylamino) -4 ' N ', N'-tetraphenyl-4,4'-diaminobis N-phenylcarbazole, 4,4'-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl, Phenylamino] biphenyl, 4,4'-bis [N- (3-acenaphthenyl) -N (2-naphthyl) Phenylamino] biphenyl, 1,5-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] naphthalene, 4,4'- Bis [N- (2-phenanthryl) -biphenylphenylamino] biphenyl, 4,4'-bis [N- N-phenylamino] biphenyl, 4,4'-bis [N- (2-pyrenyl) - N-phenylamino] biphenyl, 4,4'-bis [N- (1-choronenyl) - N-phenylamino] biphenyl), 2,6-bis (di-p-tolylamino) naphthalene, 2,6-bis (1-naphthyl) amino] naphthalene, 2,6-bis [N- (1-naphthyl) Bis [N, N-di (2-naphthyl) amino] terphenyl, 4,4'-bis { Bis [N, N-di- (2-naphthyl) amino] fluorene or 4,4'-bis (N, N-di-p-tolylamino) terphenyl and bis (N-1-naphthyl) (N-2-naphthyl) amine and the like are exemplified. It is not.

정공 주입층이나 정공 수송층은, 상기 유기화합물을 고분자 중에 분산시키거나, 상기 유기 화합물로부터 유래한 고분자를 사용하여 형성할 수도 있다. 또한, 폴리파라페닐렌비닐렌 및 그 유도체 등과 같이 소위 π-공역 고분자(π-conjugated polymers), 폴리(N-비닐카르바졸) 등의 정공 수송성 비공역 고분자 또는 폴리실란의 σ 공역 고분자 등도 사용될 수 있다.The hole injecting layer or the hole transporting layer may be formed by dispersing the organic compound in the polymer, or by using a polymer derived from the organic compound. Furthermore, hole-transporting non-conjugated polymers such as π-conjugated polymers and poly (N-vinylcarbazole) such as polyparaphenylenevinylene and derivatives thereof, σ conjugated polymers of polysilane, and the like can also be used have.

정공 주입층은, 구리프탈로시아닌과 같은 금속 프탈로시아닌이나 비금속 프탈로시아닌, 카본막 및 폴리아닐린 등의 전기적으로 전도성인 고분자 들을 사용하여 형성하거나, 상기 아릴 아민 화합물을 산화제로 하여 루이스산(Lewis acid)과 반응시켜서 형성할 수도 있다. The hole injection layer may be formed by using a metal phthalocyanine such as copper phthalocyanine, a nonmetal phthalocyanine, a carbon film and an electrically conductive polymer such as polyaniline, or by reacting the arylamine compound with an Lewis acid using the arylamine compound as an oxidizing agent You may.

유기층은, 상기와 같은 층을 포함하여 다양한 구조로 형성될 수 있다. 예를 들어 상기 유기층은, 예를 들면, 정공 주입성 전극층으로부터 순차적으로 발광층 및 전자 수송층이 형성된 형태, 발광층, 전자 수송층 및 전자 주입층이 형성된 형태, 정공 수송층, 발광층 및 전자 수송층이 형성된 형태, 정공 주입층, 정공 수송층, 발광층 및 전자 수송층이 형성된 형태, 정공 수송층, 발광층, 정공 저지층 및 전자 수송층이 형성된 형태, 정공 주입층, 정공 수송층, 발광층, 정공 저지층 및 전자 수송층이 형성된 형태, 정공 수송층, 발광층, 전자 수송층 및 전자 주입층이 형성된 형태, 정공 주입층, 정공 수송층, 발광층, 전자 수송층 및 전자 주입층이 형성된 형태 등을 가질 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 언급한 바와 같이, 필요한 경우, 상기 유기층은, 2층 이상의 발광층을 포함하는 구조를 가질 수 있다. The organic layer may be formed in various structures including the above layers. For example, the organic layer may be formed, for example, in a form in which a light emitting layer and an electron transporting layer are sequentially formed from a hole injecting electrode layer, a form in which a light emitting layer, an electron transporting layer and an electron injecting layer are formed, a mode in which a hole transporting layer, A mode in which a hole transporting layer, a hole transporting layer, a hole transporting layer, a light emitting layer, a hole blocking layer and an electron transporting layer are formed, a mode in which a hole injecting layer, a hole transporting layer, a light emitting layer, a hole blocking layer and an electron transporting layer are formed, A hole injecting layer, a hole transporting layer, a light emitting layer, an electron transporting layer, and an electron injecting layer, but the present invention is not limited thereto. As mentioned above, if necessary, the organic layer may have a structure including two or more light emitting layers.

유기발광소자는 필요한 경우에 양자점의 상부, 예를 들면, 양자점과 제 1 전극층의 사이에 형성되는 평탄층을 추가로 포함할 수 있다.The organic light emitting device may further include a flat layer formed on the upper portion of the quantum dot, for example, between the quantum dot and the first electrode layer when necessary.

이러한 평탄층은, 전극층이 형성될 수 있는 표면을 제공하고, 양자점 등과의 상호 작용을 통하여 보다 우수한 광추출 효율을 구현할 수 있다. 평탄층은, 예를 들면, 인접하는 전극층과 동등한 굴절률을 가질 수 있고, 예를 들면, 1.8 내지 3.5 또는 2.2 내지 3.0 정도의 굴절률을 가질 수 있다. 이러한 평탄층은, 예를 들면, 상기 기술한 바인더층의 소재 중에서 고굴절률의 바인더층을 형성할 수 있는 소재를 사용하여 형성할 수 있다. Such a flat layer provides a surface on which an electrode layer can be formed, and can realize better light extraction efficiency through interaction with quantum dots and the like. For example, the flat layer may have a refractive index equivalent to that of the adjacent electrode layers, and may have a refractive index of, for example, about 1.8 to 3.5 or 2.2 to 3.0. Such a flat layer can be formed using, for example, a material capable of forming a binder layer having a high refractive index from among the above-described materials for the binder layer.

상기에서 양자점을 포함하는 바인더층 또는 양자점의 상부에 존재할 수 있는 평탄층은 그 상부에 형성되는 제 1 전극층에 비하여 작은 투영 면적을 가질 수 있다. 바인더층 또는 평탄층은 상기 기재층에 비하여도 작은 투영 면적을 가질 수 있다. 본 명세서에서 용어 「투영 면적」은, 유기발광소자 또는 상기 언급한 기재층을 그 표면의 법선 방향의 상부 또는 하부에서 관찰하였을 때에 인지되는 대상물의 투영의 면적, 예를 들면, 상기 기재층, 바인더층, 평탄층 또는 전극층 등의 면적을 의미한다. 따라서, 예를 들어, 바인더층이나 평탄층 등의 표면이 요철 형상으로 형성되어 있는 등의 이유로 실질적인 표면적은 전극층에 비하여 넓은 경우에도 상기를 상부에서 관찰하였을 경우에 인지되는 면적이 상기 전극층을 상부에서 관찰하였을 경우에 인지되는 면적에 비하여 작다면 전극층에 비하여 작은 투영 면적을 가지는 것으로 해석된다. The flat layer, which may exist on the binder layer or the quantum dot including the quantum dot, may have a smaller projected area than the first electrode layer formed on the upper part. The binder layer or the flat layer may have a smaller projected area than the base layer. The term " projected area " in this specification refers to an area of projection of an object to be recognized when the organic light emitting element or the above-mentioned substrate layer is observed from above or below the normal direction of its surface, for example, Layer, a flat layer, or an electrode layer. Therefore, even if the surface area of the binder layer, the flat layer, or the like is formed in a concavo-convex shape or the like, the actual surface area is larger than that of the electrode layer, It is interpreted to have a smaller projected area than the electrode layer if it is smaller than the recognized area when observed.

바인더층 또는 평탄층은 기재층에 비하여 투영 면적이 작고, 또한 전극층에 비하여 투영 면적이 작게 된다면 다양한 형태로 존재할 수 있다. 예를 들면, 바인더층 또는 평탄층(201)은 도 2와 같이 기재층(101)의 테두리를 제외한 부분에만 형성되어 있거나, 도 3과 같이 기재층(101)의 테두리에 바인더층 또는 평탄층(201)이 일부 잔존하는 형태일 수 있다. The binder layer or the flat layer may exist in various forms as long as the projected area is smaller than the base layer and the projected area is smaller than the electrode layer. For example, the binder layer or the flat layer 201 may be formed only on the portion of the base layer 101 except for the rim of the base layer 101 as shown in Fig. 2, or may be formed on the rim of the base layer 101 as shown in Fig. 201 may remain in some remaining form.

도 4는, 도 2의 바인더층 또는 평탄층(201)을 상부에서 관찰한 경우를 예시적으로 보여주는 도면이다. 도 4에 나타난 바와 같이 상부에서 관찰할 때에 인지되는 전극층(103)의 면적(A), 즉 전극층(103)의 투영 면적(A)은 그 하부에 있는 바인더층 또는 평탄층(201)의 투영 면적(B)에 비하여 넓다. 전극층(103)의 투영 면적(A) 및 상기 바인더층 또는 평탄층(201)의 투영 면적(B)의 비율(A/B)은, 예를 들면, 1.04 이상, 1.06 이상, 1.08 이상, 1.1 이상 또는 1.15 이상일 수 있다. 바인더층 또는 평탄층의 투영 면적이 전극층의 투영 면적에 비하여 작다면, 후술하는 바와 같이 바인더층 또는 평탄층이 외부로 노출되지 않는 구조의 구현이 가능하기 때문에 상기 투영 면적의 비율(A/B)의 상한은 특별히 제한되지 않는다. 일반적인 제작 환경을 고려하면 상기 비율(A/B)의 상한은, 예를 들면, 약 2.0, 약 1.5, 약 1.4, 약 1.3 또는 약 1.25일 수 있다. 상기에서 전극층은 바인더층 또는 평탄층이 형성되어 있지 않은 상기 기재층의 상부에도 형성되어 있을 수 있다. 상기 전극층은 상기 기재층과 접하여 형성되어 있거나, 혹은 기재층과의 사이에 추가적인 요소를 포함하여 형성되어 있을 수 있다. 이러한 구조에 의하여 바인더층 또는 평탄층이 외부로 노출되지 않은 구조를 구현할 수 있다. Fig. 4 is a view showing, by way of example, a case where the binder layer or the flat layer 201 of Fig. 2 is observed from above. 4, the area A of the electrode layer 103, that is, the projected area A of the electrode layer 103, which is recognized when viewed from above, is smaller than the projected area A of the binder layer or the flat layer 201 located therebelow (B). The ratio (A / B) of the projected area A of the electrode layer 103 to the projected area B of the binder layer or the flat layer 201 is 1.04 or more, 1.06 or more, 1.08 or more, 1.1 or more Or 1.15 or more. If the projected area of the binder layer or the flat layer is smaller than the projected area of the electrode layer, it is possible to realize a structure in which the binder layer or the flat layer is not exposed to the outside as described later, Is not particularly limited. Considering a typical production environment, the upper limit of the ratio A / B may be, for example, about 2.0, about 1.5, about 1.4, about 1.3, or about 1.25. The electrode layer may be formed on the base layer on which the binder layer or the flat layer is not formed. The electrode layer may be formed in contact with the base layer, or may include additional elements between the base layer and the base layer. With this structure, a structure in which the binder layer or the flat layer is not exposed to the outside can be realized.

예를 들어, 도 4와 같이 전극층은, 상부에서 관찰한 때에 바인더층 또는 평탄층의 모든 주변부를 벗어난 영역을 포함하는 영역까지 형성되어 있을 수 있다. 이 경우, 예를 들어, 도 3과 같이 기재층상에 복수의 바인더층 또는 평탄층(201)이 존재할 경우에는 상기 바인더층 또는 평탄층(201) 중에서 적어도 하나의 바인더층 또는 평탄층, 예를 들면, 적어도 그 상부에 상기 유기층이 존재하는 바인더층 또는 평탄층의 모든 주변부를 벗어난 영역을 포함하는 영역까지 전극층(103)이 형성될 수 있다. 예를 들어, 도 3의 구조에서 우측과 좌측의 테두리에 존재하는 바인더층 또는 평탄층의 상부에도 유기층이 형성된다면, 도 3의 구조는 좌측과 우측으로 연장되어 상기 우측과 좌측의 테두리에 존재하는 바인더층 또는 평탄층의 모든 주변주를 벗어난 영역까지 전극층이 형성되도록 구조가 변경될 수 있다. 상기 구조에서 하부에 바인더층 또는 평탄층이 형성되어 있지 않은 전극층에 후술하는 봉지 구조를 부착하면 바인더층 또는 평탄층이 외부로 노출되지 않는 구조를 형성할 수 있다. 이에 의해서 상기 바인더층 또는 평탄층이 외부로부터 수분이나 산소 등이 침투하는 루트가 되는 것을 방지하고, 봉지 구조와 전극층과 기재층의 부착력 또는 외부 전원과 전극층의 부착을 안정적으로 확보할 수 있으며, 소자의 외곽 부분의 표면 경도도 우수하게 유지할 수 있다.For example, as shown in FIG. 4, the electrode layer may be formed up to a region including regions deviating from all peripheral portions of the binder layer or the flat layer when observed from above. In this case, for example, when a plurality of binder layers or flat layers 201 are present on the base layer as shown in FIG. 3, at least one binder layer or flat layer among the binder layer or the flat layer 201, for example, , The electrode layer 103 may be formed at least on the region including the region where the organic layer exists in the binder layer or the entirety of the peripheral region of the flat layer. For example, if an organic layer is formed on the binder layer or the flat layer existing on the right and left edges of the structure of FIG. 3, the structure of FIG. 3 extends to the left and right sides, The structure may be changed so that the electrode layer is formed up to an area out of all peripheral regions of the binder layer or the flat layer. When a sealing structure described later is attached to an electrode layer having no binder layer or a flat layer formed therebelow in the above structure, a structure in which the binder layer or the flat layer is not exposed to the outside can be formed. As a result, it is possible to prevent the binder layer or the flat layer from becoming a route through which water, oxygen or the like penetrates from the outside, and to stably secure the sealing structure, the adhesion of the electrode layer and the base layer, or the attachment of the external power source and the electrode layer, It is possible to maintain the surface hardness of the outer portion of the honeycomb structured body at an excellent level.

투영 면적의 조절은, 예를 들면, 전극층을 형성하는 증착 또는 스퍼터링 공정에서 상기 바인더층 또는 평탄층 등에 비하여 넓은 투영 면적으로 전극층을 형성하여 수행할 수 있으며, 필요한 경우에 바인더층 또는 평탄층의 소정 부위를 제거하여 패터닝할 수도 있다.The adjustment of the projected area can be carried out, for example, by forming an electrode layer with a projected area larger than that of the binder layer or the flat layer in the vapor deposition or sputtering process for forming the electrode layer. If necessary, The patterning may be performed by removing the portion.

유기발광소자는, 외부의 수분 또는 산소 등을 차단하기 위한 적절한 봉지 구조 내에 존재할 수 있다. 즉, 유기발광소자는, 상기 제 2 전극층과 유기층을 보호하는 봉지 구조를 추가로 포함할 수 있다. 봉지 구조는, 예를 들면, 글라스캔 또는 금속캔 등과 같은 캔이거나, 상기 유기층의 전면을 덮고 있는 필름일 수 있다.The organic light emitting element may be present in an appropriate encapsulation structure for blocking external moisture or oxygen. That is, the organic light emitting diode may further include a sealing structure for protecting the second electrode layer and the organic layer. The sealing structure may be a can, such as a glass can or a metal can, or may be a film covering the entire surface of the organic layer.

도 5는, 순차 형성된 제 2 전극층(105)과 유기층(104)을 보호하는 봉지 구조(501)로서 글라스캔 또는 금속캔 등과 같은 캔 구조의 봉지 구조(501)를 추가로 포함하는 형태를 예시적으로 보여준다. 도 5와 같이 봉지 구조(501)는, 예를 들면, 접착제 등에 의해서 전극층(103)에 부착되어 있을 수 있다. 바인더층 또는 평탄층(201)이 존재하는 경우, 봉지 구조는, 예를 들면, 하부에 바인더층 또는 평탄층(201)이 존재하지 않는 전극층(103)상에 접착되어 있을 수 있다. 예를 들면, 도 5와 같이 봉지 구조(501)는, 기재층(101)의 말단 테두리상에 존재하는 전극층(103)에 접착제에 의해 부착되어 있을 수 있다. 이러한 방식으로 봉지 구조를 통한 보호 효과를 극대화할 수 있다.5 shows a configuration in which a sealing structure 501 of a can structure such as a glass can or a metal can is additionally included as the sealing structure 501 for protecting the sequentially formed second electrode layer 105 and the organic layer 104, . As shown in Fig. 5, the sealing structure 501 may be attached to the electrode layer 103 by, for example, an adhesive. When the binder layer or the flat layer 201 is present, the sealing structure may be adhered to the electrode layer 103 where the binder layer or the flat layer 201 is not present, for example, at the bottom. For example, as shown in Fig. 5, the sealing structure 501 may be adhered to the electrode layer 103 existing on the terminal rim of the base layer 101 with an adhesive. In this way, the protection effect through the sealing structure can be maximized.

봉지 구조는, 예를 들면, 유기층과 제 2 전극층의 전면을 피복하고 있는 필름일 수 있다. 도 6은, 유기층(104)과 제 2 전극층(105)의 전면을 덮고 있는 필름 형태의 봉지 구조(501)를 예시적으로 나타내고 있다. 예를 들면, 필름 형태의 봉지 구조(501)는, 도 6과 같이 유기층(104)과 제 2 전극층(105)의 전면을 피복하면서, 바인더층 또는 평탄층(201) 및 제 1 투명 전극층(103)을 포함하는 기재층(101)과 상부의 제 2 기판(601)을 서로 접착시키고 있는 구조를 가질 수 있다. 상기에서 제 2 기판(601)으로는, 예를 들면, 유리 기판, 금속 기판, 고분자 필름 또는 배리어층 등이 예시될 수 있다. 필름 형태의 봉지 구조는, 예를 들면, 에폭시 수지 등과 같이 열 또는 자외선(UV)의 조사 등에 의해 경화되는 액상의 재료를 도포하고, 경화시켜서 형성하고나, 혹은 상기 에폭시 수지 등을 사용하여 미리 필름 형태로 제조된 접착 시트 등을 사용하여 기판과 상부 기판을 라미네이트하는 방식으로 형성할 수 있다.The sealing structure may be, for example, a film covering the entire surface of the organic layer and the second electrode layer. FIG. 6 exemplarily shows a film-like encapsulation structure 501 covering the entire surface of the organic layer 104 and the second electrode layer 105. For example, the film-shaped encapsulation structure 501 is formed by covering the entire surface of the organic layer 104 and the second electrode layer 105 as shown in Fig. 6, and forming the binder layer or the flat layer 201 and the first transparent electrode layer 103 And the upper second substrate 601 are bonded to each other. As the second substrate 601, for example, a glass substrate, a metal substrate, a polymer film, a barrier layer, or the like can be exemplified. The film-shaped encapsulation structure may be formed by applying a liquid material which is cured by irradiation with heat or ultraviolet (UV), such as epoxy resin, and curing it, or by using the epoxy resin or the like, And the upper substrate may be laminated using an adhesive sheet or the like.

봉지 구조는, 필요한 경우, 산화 칼슘, 산화 베릴륨 등의 금속 산화물, 염화 칼슘 등과 같은 금속 할로겐화물 또는 오산화 인 등과 같은 수분 흡착제 또는 게터재 등을 포함할 수 있다. 수분 흡착제 또는 게터재는, 예를 들면, 필름 형태의 봉지 구조의 내부에 포함되어 있거나, 혹은 캔 구조의 봉지 구조의 소정 위치에 존재할 수 있다. 봉지 구조는 또한 배리어 필름이나 전도성 필름 등을 추가로 포함할 수 있다. The encapsulation structure may include, if necessary, a metal oxide such as calcium oxide or beryllium oxide, a moisture absorbent such as a metal halide such as calcium chloride or phosphorous pentoxide, or a getter material. The moisture adsorbent or getter material may be contained in, for example, a film-type sealing structure or may exist at a predetermined position of the sealing structure of the can structure. The encapsulation structure may further include a barrier film, a conductive film, and the like.

유기발광소자에 바인더층 또는 평탄층이 존재하는 경우에 봉지 구조는, 예를 들면, 도 5 또는 6에 나타난 바와 같이, 하부에 바인더층 또는 평탄층(201)이 형성되어 있지 않은 제 1 투명 전극층(103)의 상부에 부착되어 있을 수 있다. 이에 따라서 바인더층 또는 평탄층이 외부로 노출되지 않는 밀봉 구조를 구현할 수 있다. 상기 밀봉 구조는, 예를 들면, 바인더층 또는 평탄층의 전면이 상기 기재층, 전극층 및/또는 봉지 구조에 의해 둘러싸이거나, 또는 상기 기재층, 전극층 및/또는 봉지 구조를 포함하여 형성되는 밀봉 구조에 의해서 둘러싸여서 외부로 노출되지 않는 상태를 의미할 수 있다. 밀봉 구조는, 기재층, 전극층 및/또는 봉지 구조만으로 형성되거나, 바인더층 또는 평탄층이 외부로 노출되지 않도록 형성되는 한, 상기 기재층, 전극층 및 봉지 구조를 포함하고, 또한 다른 요소, 예를 들면, 전도 물질이나 중간층 등도 포함하여 형성될 수 있다. 예를 들면, 도 5 또는 6에서 기재층(101)과 전극층(103)이 접하는 부분 또는 제 1 전극층(103)과 봉지 구조(501)가 접하는 부분 또는 그 외의 위치에 다른 요소가 존재할 수 있다. 상기 다른 요소로는 저투습성의 유기 물질, 무기 물질 또는 유무기 복합 물질이나, 절연층 또는 보조 전극층 등이 예시될 수 있다.In the case where a binder layer or a flat layer exists in the organic light emitting element, for example, as shown in Fig. 5 or 6, the sealing structure may be a structure in which a binder layer or a flat layer 201, (Not shown). Accordingly, a sealing structure in which the binder layer or the flat layer is not exposed to the outside can be realized. The sealing structure may be, for example, a structure in which the entire surface of the binder layer or the flat layer is surrounded by the base layer, the electrode layer and / or the sealing structure, or the sealing structure formed by including the base layer, the electrode layer and / Which is enclosed by the insulating layer and is not exposed to the outside. The sealing structure may include the base layer, the electrode layer, and the sealing structure, and may also include other elements, for example, an electrode layer and / or an encapsulation structure, so long as the sealing layer is formed so as not to be exposed to the outside. For example, a conductive material or an intermediate layer may be formed. For example, in FIG. 5 or 6, another element may exist at a portion where the base layer 101 and the electrode layer 103 are in contact with each other or at a portion where the first electrode layer 103 and the sealing structure 501 are in contact with each other. Examples of the other elements include an organic material, an inorganic material, an organic-inorganic hybrid material, an insulating layer or an auxiliary electrode layer, and the like, which are low in moisture permeability.

본 출원은 또한 상기와 같은 유기발광소자의 용도에 관한 것이다. 상기 유기발광소자는, 예를 들면, 액정표시장치(LCD; Liquid Crystal Display)의 백라이트, 조명 장치, 각종 센서, 프린터, 복사기 등의 광원, 차량용 계기 광원, 신호등, 표시등, 표시장치, 면상발광체의 광원, 디스플레이, 장식 또는 각종 라이트 등에 효과적으로 적용될 수 있다. 하나의 예시에서 본 출원은, 상기 유기발광소자를 포함하는 조명 장치에 관한 것이다. 상기 조명 장치 또는 기타 다른 용도에 상기 유기발광소자가 적용될 경우에, 상기 장치 등을 구성하는 다른 부품이나 그 장치의 구성 방법은 특별히 제한되지 않고, 상기 유기발광소자가 사용되는 한, 해당 분야에 공지되어 있는 임의의 재료나 방식이 모두 채용될 수 있다.The present application also relates to the use of such organic light emitting devices. The organic light emitting device may be a backlight of a liquid crystal display (LCD), a light source such as a lighting device, various sensors, a printer, a copying machine, a vehicle instrument light source, a traffic light, a display, A display, a decoration, or a variety of lights. In one example, the present application relates to a lighting device comprising the organic light-emitting device. In the case where the organic light emitting device is applied to the illumination device or other use, the other components constituting the device or the like and the constitution method of the device are not particularly limited. As long as the organic light emitting device is used, Any of the materials or methods may be employed.

본 출원에서는, 유기발광소자의 활성층(active layer), 예를 들면, 발광층이나, 상기 발광층에서 생성된 광과 양자점과의 상호 작용 등을 통하여 우수한 발광 효율을 가지는 소자를 제공할 수 있다.In the present application, it is possible to provide an active layer of an organic light emitting device, for example, a light emitting layer, or an element having excellent light emitting efficiency through interaction between light generated in the light emitting layer and a quantum dot.

도 1은, 예시적인 유기발광소자를 나타내는 도면이다.
도 2 내지 4는, 유기발광소자에서 기재층, 제 1 전극층, 산란층 및 방열 확산층 부위만을 예시적으로 보여주는 도면이다.
도 5 및 6은, 예시적인 유기발광소자를 나타내는 도면이다.
1 is a view showing an exemplary organic light emitting device.
FIGS. 2 to 4 are views showing only the substrate layer, the first electrode layer, the scattering layer, and the heat dissipation diffusion layer region in the organic light emitting device.
5 and 6 are views showing an exemplary organic light emitting device.

이하 실시예 및 비교예를 통하여 상기 유기발광소자를 구체적으로 설명하지만, 상기 유기발광소자의 범위가 하기 제시된 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다.
Hereinafter, the organic light emitting device will be described in detail with reference to examples and comparative examples, but the scope of the organic light emitting device is not limited by the following embodiments.

실시예Example 1. One.

테트라메톡시 실란 10 g에 공지의 방식으로 합성한 양자점(CdSe/CdZnS)(평균 입경: 약 4 nm 내지 7 nm)을 약 1 g 정도 충분히 분산시켜서 졸겔 코팅액을 제조하였다. 이어서 제조된 코팅액을 유리 기판에 코팅하고, 졸겔 반응을 진행시켜서 양자점이 내부에 분산되어 있는 바인더층을 형성하였다. 그 후, 형성된 층에 레이저를 조사하여 잔존하는 바인더층의 위치가 이어서 형성되는 유기층의 발광 영역에 대응될 수 있도록 상기 바인더층의 일부를 제거하였다. 제거 후에 공지의 스퍼터링 방식으로 ITO(Indium Tin Oxide)를 포함하는 정공 주입성 전극층을 상기 유리 기판의 전면에 형성하였다. 이어서 진공 증착 방식을 통해 알파-NPD(N,N'-Di-[(1-naphthyl)-N,N'-diphenyl]-1,1'-biphenyl)-4,4'-diamine)를 포함하는 정공 주입층 및 발광층(4,4',4"-tris(N-carbazolyl)-triphenylamine(TCTA):Firpic, TCTA:Fir6)을 순차 형성하였다. 상기 발광층의 상부에 전자 수송성 화합물인 TCTA(4,4',4"-tris(N-carbazolyl)-triphenylamine)로 전자 수송층을 형성하고, 전자 주입성 반사 전극으로서 알루미늄(Al) 전극층을 진공 증착 방식으로 상기 전자 수송층의 상부에 형성하여 소자를 제조하였다. 이어서 Ar 가스 분위기의 글로브 박스에서 상기 소자에 봉지 구조를 부착하여 장치를 제조하였다. 그 후 장치를 공기 중으로 꺼내 적분 반구에서 전류 밀도가 3mAcm-2일 때의 전압-전류 특성, 휘도와 효율 등을 측정하였다. 한편 상기에서 굴절률은 Nanoview사의 ellipsometer를 사용하여 약 550 nm의 파장에서 측정한 수치이다.
A sol-gel coating solution was prepared by dispersing about 1 g of a quantum dot (CdSe / CdZnS) (average particle diameter: about 4 nm to 7 nm) synthesized in 10 g of tetramethoxysilane in a well-known manner. Subsequently, the prepared coating solution was coated on a glass substrate, and the sol-gel reaction was allowed to proceed to form a binder layer in which quantum dots were dispersed therein. Thereafter, the formed layer was irradiated with a laser to remove a part of the binder layer so that the position of the remaining binder layer corresponded to the light emitting region of the organic layer to be subsequently formed. After the removal, a hole injecting electrode layer including ITO (Indium Tin Oxide) was formed on the entire surface of the glass substrate by a known sputtering method. Subsequently, a solution containing an alpha -NPD (N, N'-Di- [(1-naphthyl) -N, N'- diphenyl] -1,1'- biphenyl) -4,4'- (4,4 ', 4 "-tris (N-carbazolyl) -triphenylamine (TCTA): Firpic, TCTA: Fir6) were successively formed on the light- (Al) electrode layer as an electron injecting reflective electrode was formed on the electron transporting layer by a vacuum evaporation method to manufacture a device. The electron transporting layer was formed of 4 ', 4 "-tris (N-carbazolyl) -triphenylamine . Subsequently, an encapsulation structure was attached to the device in a glove box in an Ar gas atmosphere to manufacture an apparatus. Then, the device was taken out into the air to measure voltage-current characteristics, luminance and efficiency at a current density of 3 mAcm -2 in the integrating hemisphere. Meanwhile, the refractive index is a value measured at a wavelength of about 550 nm using an ellipsometer manufactured by Nanoview.

비교예Comparative Example 1. One.

바인더층을 형성하지 않은 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 유기발광소자를 제조하였다.
An organic light emitting device was prepared in the same manner as in Example 1, except that the binder layer was not formed.

상기 실시예 및 비교예에 대한 성능 평가의 결과는 하기 표 1과 같다. 하기 표 1에서 절대 양자 효율의 평가는 공지의 방식으로 수행하였다.The results of the performance evaluation of the above Examples and Comparative Examples are shown in Table 1 below. The evaluation of absolute quantum efficiency in the following Table 1 was carried out in a known manner.

구동 전압(V)The driving voltage (V) 절대 양자 효율(%)Absolute Quantum Efficiency (%) 실시예1Example 1 2.72.7 48.148.1 비교예1Comparative Example 1 2.82.8 30.630.6

101: 기재층 102: 양자점
103: 제 1 전극층 104: 유기층
105: 제 2 전극층 106: 바인더층
201: 바인더층 또는 평탄층
501: 봉지 구조 601: 제 2 기판
101: base layer 102: quantum dot
103: first electrode layer 104: organic layer
105: second electrode layer 106: binder layer
201: a binder layer or a flat layer
501: sealing structure 601: second substrate

Claims (12)

기재층; 상기 기재층상에 존재하는 양자점; 및 상기 양자점상에 존재하는 제 1 전극층; 상기 제 1 전극층상에 형성되어 있으며, 발광층을 포함하는 유기층; 및 제 2 전극층을 포함하고, 상기 유기층에서 생성되는 광의 파장의 범위가 380 nm 내지 780 nm의 범위 내이며, 상기 양자점의 평균 입경은 상기 양자점이 상기 유기층에서 생성되는 전자기파와 상호 작용하여 광추출 효율을 높일 수 있도록 1 nm 내지 1000 nm의 범위 내에서 조절되어 있고, 상기 기재층과 제 1 전극층의 사이에 바인더층이 존재하며, 상기 양자점은 상기 바인더층 내에 포함되어 있고, 상기 바인더층은 550 nm 파장에 대한 굴절률이 1.8 내지 3.5의 범위 내이며, 상기 바인더층은 0.1 중량% 내지 20 중량%의 상기 양자점을 포함하는 유기발광소자.A base layer; Quantum dots present on the base layer; And a first electrode layer on the quantum dot; An organic layer formed on the first electrode layer and including a light emitting layer; And a second electrode layer, wherein a wavelength range of light generated in the organic layer is in a range of 380 nm to 780 nm, and the average particle size of the quantum dots is such that the quantum dots interact with electromagnetic waves generated in the organic layer, And a binder layer is present between the base layer and the first electrode layer, the quantum dots are contained in the binder layer, and the binder layer has a thickness of 550 nm A refractive index with respect to a wavelength is within a range of 1.8 to 3.5, and the binder layer contains 0.1 to 20 wt% of the quantum dot. 삭제delete 제 1 항에 있어서, 양자점은 II-VI족 물질, III-VI족 물질 및 IV족 물질로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 물질을 포함하여 형성되는 유기발광소자.The organic light-emitting device according to claim 1, wherein the quantum dot is formed of at least one material selected from the group consisting of a group II-VI material, a group III-VI material, and a group IV material. 제 1 항에 있어서, 양자점은 코어/셀 구조를 가지는 유기발광소자.The organic light emitting device according to claim 1, wherein the quantum dot has a core / shell structure. 제 4 항에 있어서, 코어/셀 구조의 양자점은 CdSe/CdZnS, CdTe/CdSe, CdSe/ZnTe, CdSe/ZnS, InP/ZnSe, InP/ZnS, InP/ZnTe, CdSe/ZnSe, InP/GaAs, InGaAs/GaAs, PbTe/PbS, CuInS2/ZnS, Co/CdSe, Zn/ZnO, Ag/TiO2, Ag/SiO2, Au/Pb, Au/Pt 또는 Ru/Pt인 유기발광소자.The method of claim 4, wherein the quantum dots of the core / cell structure are selected from the group consisting of CdSe / CdZnS, CdTe / CdSe, CdSe / ZnTe, CdSe / ZnS, InP / ZnSe, InP / ZnS, InP / ZnTe, CdSe / ZnSe, InP / the organic light emitting device / GaAs, PbTe / PbS, CuInS2 / ZnS, Co / CdSe, Zn / ZnO, Ag / TiO 2, Ag / SiO 2, Au / Pb, Au / Pt or Ru / Pt. 삭제delete 제 1 항에 있어서, 바인더층의 550 nm 파장에 대한 굴절률이 2.2 내지 3.0인 유기발광소자.The organic light-emitting device according to claim 1, wherein the binder layer has a refractive index of 2.2 to 3.0 at a wavelength of 550 nm. 제 1 항에 있어서, 바인더층의 투영 면적은 제 1 전극층의 투영 면적에 비하여 작으며, 제 1 전극층은 상기 바인더층의 상부 및 상기 바인더층이 형성되어 있지 않은 기재층의 상부 모두에 형성되어 있는 유기발광소자.The method according to claim 1, wherein the projected area of the binder layer is smaller than the projected area of the first electrode layer, and the first electrode layer is formed on both the upper portion of the binder layer and the upper portion of the base layer on which the binder layer is not formed Organic light emitting device. 제 8 항에 있어서, 유기층과 제 2 전극층을 보호하는 봉지 구조를 추가로 포함하고, 상기 봉지 구조는 하부에 바인더층이 형성되어 있지 않은 제 1 전극층의 상부에 부착되어 있는 유기발광소자.The organic light emitting device according to claim 8, further comprising a sealing structure for protecting the organic layer and the second electrode layer, wherein the sealing structure is attached to an upper portion of the first electrode layer on which a binder layer is not formed. 제 9 항에 있어서, 봉지 구조는 글라스캔 또는 금속캔인 유기발광소자.The organic light emitting device according to claim 9, wherein the sealing structure is a glass can or a metal can. 제 9 항에 있어서, 봉지 구조는 유기층과 제 2 전극층의 전면을 덮고 있는 필름인 유기발광소자.The organic light emitting diode according to claim 9, wherein the sealing structure is a film covering the entire surface of the organic layer and the second electrode layer. 제 1 항의 유기발광소자를 포함하는 조명 장치.A lighting device comprising the organic light-emitting device of claim 1.
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