KR101626032B1 - Method and system for splitting wafer - Google Patents
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Abstract
본 발명은 본 발명은 웨이퍼 분할 방법 및 웨이퍼 분할 시스템에 관한 것이다. 본 발명의 웨이퍼 분할 방법은 웨이퍼를 칩 단위로 절단하는 단계; 및 상기 칩 단위 웨이퍼의 후면을 플라즈마 소스를 이용하여 식각하는 단계를 포함한다. 본 발명의 웨이퍼 분할 방법 및 웨이퍼 분할 시스템에 의하면, 웨이퍼를 절단한 후 플라즈마를 이용하여 웨이퍼 후면을 식각함으로써 고온의 열에 의해 웨이퍼가 변형되거나 휘지는 것을 방지한다. 또한 변형된 웨이퍼로 인하여 불량의 반도체 칩이 형성되는 것을 방지하여 불량률을 낮출 수 있다. 또한 칩 단위로 분할한 웨이퍼의 절단부에 충진제를 구비하여 플라즈마 소스에 의해 절단부가 식각되지 않도록 한다. The present invention relates to a wafer segmentation method and a wafer segmentation system. A wafer dividing method of the present invention comprises: cutting a wafer into chips; And etching the backside of the chip unit wafer using a plasma source. According to the wafer dividing method and the wafer dividing system of the present invention, after the wafer is cut, the rear surface of the wafer is etched using plasma to prevent the wafer from being deformed or warped by the heat at a high temperature. In addition, defective semiconductor chips can be prevented from being formed due to the deformed wafer, and the defect rate can be reduced. Further, a filler is provided in the cut portion of the wafer divided into chip units so that the cut portion is not etched by the plasma source.
웨이퍼 분할, 웨이퍼 절단, 웨이퍼 변형 방지, 웨이퍼 박막화, 플라즈마 식각 Wafer division, wafer cutting, wafer deformation prevention, wafer thinning, plasma etching
Description
본 발명은 웨이퍼 분할 방법 및 웨이퍼 분할 시스템에 관한 것으로, 구체적으로는 웨이퍼를 칩단위로 절단한 후 웨이퍼를 박막화하여 웨이퍼를 칩 단위로 생산할 때 발생되는 불량률을 최소화하는 웨이퍼 분할 방법 및 웨이퍼 분할 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a wafer dividing method and a wafer dividing system, and more particularly, to a wafer dividing method and a wafer dividing system for minimizing a defective rate generated when a wafer is cut into chip units and then a wafer is thinned to produce chips on a chip- .
반도체의 생산 공정은 웨이퍼에 칩 단위로 회로를 형성하는 공정인 전공정과 어셈블리(assembly) 공정인 후공정으로 구분된다.The semiconductor production process is divided into a front process, which is a process of forming a chip-by-chip circuit on a wafer, and a post-process, which is an assembly process.
이중에서 후공정은 라미네이팅 접착 공정, 후면 연마 공정(back-grinding), 라미네이팅 제거 및 웨이퍼링 처리 공정 및 웨이퍼 절단 공정으로 구분된다. 이하에서는 후공정의 각 공정에 대하여 간단하게 설명한다.Of these, the post-process is divided into a laminating adhesive process, a back-grinding process, a laminating process, a wafer-ring process process, and a wafer-cutting process. Hereinafter, each step of the post-process will be briefly described.
웨이퍼를 칩 단위로 분할하는 방법은 웨이퍼를 박막화하는 박막화 공정과 웨이퍼를 칩 단위로 절단하는 웨이퍼 절단 공정으로 구분된다.A method of dividing a wafer into chips is divided into a thinning process for thinning the wafer and a wafer cutting process for cutting the wafer into chips.
라미네이팅 접착 공정은 전공정을 통해 다수의 집적 회로 소자가 종횡으로 배열된 웨이퍼의 전면을 보호하기 위한 필름을 접착하는 공정이다. 이는 웨이퍼 이 송시 전면에 형성된 회로를 보호하기 위한 것이다. 이때 사용되는 필름은 유브이(UV)테이프로 특정한 조도와 광량의 조건이 적합할 경우에는 테이프의 접착성분 중 감광성분이 경화하여 접착력을 소실하게 되는 특성을 갖는다.The laminating bonding process is a process of bonding a film for protecting the front surface of a wafer in which a plurality of integrated circuit elements are arrayed longitudinally and laterally through a previous process. This is to protect the circuit formed on the front side of the wafer transfer. The film to be used at this time has properties such that when the specific conditions of lightness and lightness are satisfied with the UV tape, the photosensitive component in the adhesive component of the tape is hardened and the adhesive force is lost.
후면 연마 공정은 웨이퍼에서 집적회로가 형성된 활성면의 반대쪽 면인 웨이퍼의 사용하지 않는 후면을 집적회로에 영향을 주지 않을 정도의 두께만큼 연마하여 웨이퍼의 두께를 줄이는 공정이다. 이와 같은 공정은 통상 백그라인딩(Back-Grinding)공정이라고 한다. 웨이퍼는 일반적으로 8인지의 경우 730 ~ 750 ㎛, 12인치의 경우 790 ~ 800 ㎛의 두께를 가진다. 웨이퍼 후면 연마 공정은 이러한 웨이퍼 두께를 50 ~ 450 ㎛로 얇게 가공한다. 이때 목표로 하는 웨이퍼의 최종 두께는 반도체 제품의 종류에 따라 또는 고객의 요구에 따라 달라질 수 있다.The back grinding process is a process for reducing the thickness of the wafer by grinding the unused rear surface of the wafer, which is opposite to the active surface on which the integrated circuit is formed, of the wafer so as not to affect the integrated circuit. Such a process is generally called a back-grinding process. The wafer generally has a thickness of 730 to 750 탆 for 8 and a thickness of 790 to 800 탆 for 12 inch. The wafer backside grinding process thinly processes these wafer thicknesses to 50 to 450 μm. At this time, the final thickness of the target wafer may vary depending on the kind of the semiconductor product or the demand of the customer.
라미네이팅 제거 및 웨이퍼 처리 공정은 웨이퍼의 전면을 접착, 보호하고 있던 필름에 자외선을 조사하여 접착력을 소실시킴으로써 후속공정을 위한 필름을 제거하고, 웨이퍼를 고정하기 위한 웨이퍼링을 웨이퍼 후면에 설치하는 공정이다.In the laminating removal and wafer processing process, a film for a subsequent process is removed by irradiating ultraviolet rays to a film which adheres and protects the front face of the wafer to eliminate adhesive force, and a wafer ring for fixing the wafer is placed on the rear face of the wafer .
웨이퍼 절단 공정은 웨이퍼 전면에 배열된 각각의 칩을 분리하는 공정이다. 이 공정에서 고속으로 회전하는 블레이드(blade)를 이용한 기계적인 방법과 플라즈마 소스를 이용한 방법을 통해 웨이퍼 상에 배열된 소자를 분리한다. 분리된 칩 단위의 웨이퍼는 조립 공정을 통해 제품화된다. 즉, 분리된 칩 단위의 소자에 전기적인 연결을 해주고 외부의 충격을 견딜 수 있도록 밀봉 포장해주어 물리적인 기능과 형상을 갖게 해준다.The wafer cutting process is a process of separating individual chips arranged on the front surface of the wafer. In this process, the elements arranged on the wafer are separated by a mechanical method using a blade rotating at a high speed and a method using a plasma source. The wafer of the separated chip unit is commercialized through the assembly process. In other words, it provides electrical connection to the devices of the separated chip unit and hermetically packs it to withstand the external impact, so that it has the physical function and shape.
최근 웨이퍼의 수율 증가를 통한 생산성 향상 및 제조 원가 절감, 패키지 경 량화 및 소형화 추세가 가속되어 가고 있다. 이를 만족시키기 위하여 웨이퍼의 박형화 구현이 필수적이다. 특히 웨이퍼의 미세박형화를 위해서는 플라즈마 소스를 이용하여 웨이퍼 후면을 식각한다.Recently, the productivity of the wafer is increased by increasing the yield of the wafer, the manufacturing cost is reduced, the package is lighter, and the miniaturization trend is accelerating. In order to satisfy this requirement, it is necessary to realize a thin wafer. Particularly, in order to make the wafer thin and thin, the rear surface of the wafer is etched by using a plasma source.
플라즈마를 이용하여 웨이퍼를 식각하는 경우 웨이퍼가 휘거나 변형되는 현상이 발생될 수 있다. 특히 웨이퍼의 크기를 늘려 소자를 대량 생산하는 경우 플라즈마 반응기 내부의 고온에 의해 웨이퍼가 휘거나 변형되면 그로인해 불량의 칩 단위 웨이퍼 및 불량의 반도체 제품이 제조된다. 또한, 이러한 불량 웨이퍼는 반도체 제품이 점점 박형화되면서 웨이퍼의 두께가 갈수록 얇아짐에 따라 더욱 심각한 문제를 초래할 수도 있다.When the wafer is etched using the plasma, the wafer may be bent or deformed. Particularly, in the case of mass production of a device by increasing the size of the wafer, defective chip unit wafers and defective semiconductor products are produced when the wafer is bent or deformed due to the high temperature inside the plasma reactor. In addition, such defective wafers may cause even more serious problems as semiconductor products become thinner and thinner as the thickness of wafers becomes thinner.
또한 플라즈마 소스를 이용하여 웨이퍼를 칩 단위로 절단할 수 있는데, 이때 웨이퍼는 유브이 테이프(UV tape)가 구비된 웨이퍼링 또는 캐리어에 부착되어 절단된다. 그러나 유브이 테이프는 고온의 열에 의해 손상되어 웨이퍼를 제대로 고정시키지 못할 수 있다. 또한 석영으로 형성된 캐리어는 고온의 열에 의해 쉽게 깨져 수명이 짧고, 금속으로 형성된 캐리어는 금속 척과 아킹이 발생된다. In addition, the wafer can be cut in chip units using a plasma source, wherein the wafer is attached to a wafer ring or carrier equipped with a UV tape and cut. However, the uvi tape may be damaged by the heat of the high temperature and may not fix the wafer properly. In addition, the carrier formed of quartz is easily broken by heat at high temperature to shorten the lifetime, and a carrier formed of metal generates arcing with the metal chuck.
본 발명의 목적은 플라즈마를 이용하여 웨이퍼를 박막할 때 플라즈마에 의해 웨이퍼가 변형되거나 깨지는 것을 미연에 방지하여 불량률을 최소화할 수 있는 웨이퍼 분할 방법 및 웨이퍼 분할 시스템을 제공하는데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a wafer dividing method and a wafer dividing system that can prevent a wafer from being deformed or broken by a plasma when a wafer is thinned using plasma, thereby minimizing a defective rate.
상기한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일면은 웨이퍼 분할 방법 및 웨이퍼 분할 시스템에 관한 것이다. 본 발명의 웨이퍼 분할 방법은 웨이퍼를 칩 단위로 절단하는 단계; 및 상기 칩 단위 웨이퍼의 후면을 플라즈마 소스를 이용하여 식각하는 단계를 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a wafer dividing method and a wafer dividing system. A wafer dividing method of the present invention comprises: cutting a wafer into chips; And etching the backside of the chip unit wafer using a plasma source.
일 실시예에 있어서, 상기 웨이퍼 후면을 플라즈마 소스를 이용하여 식각하기 전에 기계적으로 상기 웨이퍼 후면을 연마하는 단계를 포함한다.In one embodiment, polishing the backside of the wafer mechanically prior to etching the backside of the wafer using a plasma source.
일 실시예에 있어서, 상기 절단된 웨이퍼의 전면에 전면 접착층을 접착하는 단계를 포함한다.In one embodiment, the step of bonding the front adhesive layer to the front surface of the cut wafer is included.
일 실시예에 있어서, 상기 웨이퍼는 상기 칩 단위로 절단부가 형성된다.In one embodiment, the wafer is formed with cutouts in units of chips.
일 실시예에 있어서, 상기 절단부는 상기 웨이퍼의 두께 전체에 형성된다.In one embodiment, the cutout is formed over the entire thickness of the wafer.
일 실시예에 있어서, 상기 웨이퍼의 절단부에는 플라즈마 소스에 의해 상기 웨이퍼의 절단부가 식각되는 것을 방지하기 위한 충진제가 구비되는 단계를 더 포함한다.In one embodiment, the cut portion of the wafer further includes a filler to prevent etching of the cut portion of the wafer by a plasma source.
일 실시예에 있어서, 상기 충진제는 상기 절단부에 레진을 주입하여 형성된다.In one embodiment, the filler is formed by injecting resin into the cut.
일 실시예에 있어서, 상기 충진제는 메시 형태로 형성된 와이어 삽입부재를 상기 절단부에 삽입하여 형성된다.In one embodiment, the filler is formed by inserting a wire insertion member formed in a mesh shape into the cut portion.
일 실시예에 있어서, 상기 충진제는 상기 전면 접착층이 상기 절단부에 유입되어 형성된다.In one embodiment, the filler is formed by flowing the front adhesive layer into the cut portion.
본 발명의 웨이퍼 분할 시스템은 상기 웨이퍼를 칩 단위로 절단하는 웨이퍼 절단 장치; 및 상기 웨이퍼의 후면을 플라즈마 소스를 이용하여 식각하기 위한 웨이퍼 식각장치를 포함한다.The wafer dividing system of the present invention includes: a wafer cutting device for cutting the wafer into chips; And a wafer etch device for etching the backside of the wafer using a plasma source.
일 실시예에 있어서, 상기 웨이퍼의 전면에 전면 접착층을 부착하기 위한 전면 접착층 부착장치를 포함한다.In one embodiment, the apparatus includes a front adhesive layer attachment device for attaching a front adhesive layer to a front surface of the wafer.
일 실시예에 있어서, 상기 플라즈마 소스는 원격 플라즈마 발생기(RPG), 용량 결합 플라즈마(CCP) 또는 유도 결합 플라즈마(ICP) 중 어느 하나의 방식으로 형성된다.In one embodiment, the plasma source is formed in the manner of a remote plasma generator (RPG), capacitively coupled plasma (CCP), or inductively coupled plasma (ICP).
일 실시예에 있어서, 상기 웨이퍼 분할 시스템은 상기 웨이퍼의 일면을 흡착하여 이송시키기 위한 이송 수단을 더 포함한다.In one embodiment, the wafer dividing system further comprises a transferring means for sucking and transferring one surface of the wafer.
본 발명의 웨이퍼 분할 방법 및 웨이퍼 분할 시스템에 의하면, 웨이퍼를 절단한 후 플라즈마를 이용하여 웨이퍼 후면을 식각함으로써 고온의 열에 의해 웨이퍼가 변형되거나 휘지는 것을 방지한다. 또한 변형된 웨이퍼로 인하여 불량의 반도체 칩이 형성되는 것을 방지하여 불량률을 낮출 수 있다. 또한 칩 단위로 분할한 웨이퍼의 절단부에 충진제를 구비하여 플라즈마 소스에 의해 절단부가 식각되지 않도록 한다. According to the wafer dividing method and the wafer dividing system of the present invention, after the wafer is cut, the rear surface of the wafer is etched using plasma to prevent the wafer from being deformed or warped by the heat at a high temperature. In addition, defective semiconductor chips can be prevented from being formed due to the deformed wafer, and the defect rate can be reduced. Further, a filler is provided in the cut portion of the wafer divided into chip units so that the cut portion is not etched by the plasma source.
본 발명을 충분히 이해하기 위해서 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부 도면을 참조하여 설명한다. 본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상세히 설명하는 실시예로 한정되는 것으로 해석되어서 는 안 된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공 되어지는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어 표현될 수 있다. 각 도면에서 동일한 부재는 동일한 참조부호로 도시한 경우가 있음을 유의하여야 한다. 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 공지 기능 및 구성에 대한 상세한 기술은 생략된다.For a better understanding of the present invention, a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The embodiments of the present invention may be modified into various forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited to the embodiments described in detail below. The present embodiments are provided to enable those skilled in the art to more fully understand the present invention. Therefore, the shapes and the like of the elements in the drawings can be exaggeratedly expressed to emphasize a clearer description. It should be noted that in the drawings, the same members are denoted by the same reference numerals. Detailed descriptions of well-known functions and constructions which may be unnecessarily obscured by the gist of the present invention are omitted.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 웨이퍼 분할 공정을 도시한 흐름도이고, 도 2는 도 1에 도시된 단계별로 작업된 웨이퍼의 단면을 도시한 도면이다.FIG. 1 is a flowchart showing a wafer dividing process according to a preferred embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a view showing a cross section of a wafer processed in the steps shown in FIG.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 웨이퍼를 칩 단위로 분할하는 전반적인 공정 단계는 크게 웨이퍼 절단 공정과 웨이퍼 박막화 공정으로 구분할 수 있다. 웨이퍼 절단 공정은 웨이퍼 후면 접착층 부착 단계 및 웨이퍼 절단 단계를 포함한다. 웨이퍼 박막화 공정은 웨이퍼 전면 접착층 부착 단계, 웨이퍼 후면 접착층 제거 단계 및 웨이퍼 후면 플라즈마 식각 단계를 포함한다.As shown in FIGS. 1 and 2, the overall process steps of dividing the wafer of the present invention into chip units can roughly be divided into a wafer cutting process and a wafer thinning process. The wafer cutting process includes a wafer backside adhesive layer adhering step and a wafer cutting step. The wafer thinning process includes a wafer front adhesive layer deposition step, a wafer backside adhesive layer removal step, and a wafer backside plasma etching step.
이하에서는 웨이퍼 절단 공정과 웨이퍼 박막화 공정을 차례대로 서술한다.Hereinafter, the wafer cutting step and the wafer thinning step will be described in order.
먼저 웨이퍼 절단 공정에 대해 서술한다.First, the wafer cutting process will be described.
웨이퍼 후면 접착층 부착 단계는 전공정으로부터 전면에 회로가 형성된 웨이퍼(10)의 후면에 후면 접착층(22)을 접착하는 단계이다(S100). 후면 접착층(22)은 접착 성분이 포함되어 있어 웨이퍼(10)의 후면에 접착된다. 본 발명에서는 후면 접 착층(22)으로 UV 테이프를 사용한다(도 2(a)에 도시됨). The step of adhering the back surface adhesive layer of the wafer is a step of adhering the back surface
웨이퍼 절단 단계는 접착층(20)에 고정된 웨이퍼(10)를 웨이퍼(10) 상에 형성된 다수의 칩 사이 절단선을 따라 칩 단위로 절단하는 단계이다(S110). 웨이퍼(10)를 칩 단위로 절단하는 방법은 기계적으로 절단하는 방법과 플라즈마 소스를 이용하여 절단하는 방법이 있다. 본 발명에서는 기계적 장치 또는 플라즈마 소스를 이용하여 절단하는 방법을 모두 적용할 수 있다. 플라즈마 소스를 이용하여 절단할 때는 칩 단위로 마스킹 처리하여 웨이퍼를 절단한다. 웨이퍼(10)를 칩 단위로 절단하면, 각 칩 단위의 웨이퍼 사이에는 소정의 깊이로 절단부(12)가 형성된다. 본 발명에서의 절단부(12)는 웨이퍼(10) 두께 전체에 형성되어 웨이퍼(10)를 칩 단위로 완전하게 절단한다(도 2(b)에 도시됨).The wafer cutting step is a step of cutting the
다음으로 웨이퍼 박막화 공정에 대해 서술한다.Next, the wafer thinning process will be described.
칩 단위로 절단된 웨이퍼(10)의 전면에 전면 접착층(24)을 부착한다(S120). 전면 첩착층(24)은 후면 접착층(22)과 동일한 구성으로 UV 테이프를 사용한다. 전면 접착층(24)은 웨이퍼(10)의 전면에 부착되어 칩 단위로 절단된 웨이퍼(10)들이 이동시 웨이퍼(10) 후면에 접착된 후면 접착층(22)에서 분리되지 않도록 고정하는 역할을 한다(도2(c)에 도시됨).The front
웨이퍼(10)는 후면에 접착된 후면 첩착층(22)이 상부에 위치될 수 있도록 반전되어 위치한다. 상부에 위치된 웨이퍼 후면 접착층(22)은 유브이 테이프로 자외선을 조사하여 접착력을 소실시킴으로써 웨이퍼(10)의 후면이 외부로 노출될 수 있 도록 제거된다(S130)(도 2(d)에 도시됨).The
칩 단위의 웨이퍼(10)를 원하는 두께로 형성하기 위하여 웨이퍼(10) 후면을 플라즈마 소스를 이용하여 식각한다(S140). 플라즈마 소스는 리모트 플라즈마 발생(RPG) 방식, 용량 결합 플라즈마(CCP) 방식 및 유도 결합 플라즈마(ICP) 방식으로 플라즈마 반응기의 내부에 생성된다. 플라즈마 반응기의 내부에는 상기의 과정으로 형성된 웨이퍼(10)가 위치되어 플라즈마 소스를 통해 식각된다(도 2(e)에 도시됨). In order to form the
플라즈마 소스를 이용하여 웨이퍼(10) 후면을 식각할 때 고온의 열이 발생되기 때문에 식각하고자하는 웨이퍼(10)의 후면이 휘거나 변형된다. 플라즈마 소스가 닿는 웨이퍼(10)의 면적이 크면 클수록 변형이 일어날 확률이 높아진다. 그러므로 본 발명은 웨이퍼(10)를 칩 단위로 절단한 후 후면을 식각한다. 플라즈마 소스가 닿는 웨이퍼(10)의 단위 면적이 전체 웨이퍼(10)의 면적보다 더 작기 때문에 고온의 열로 인한 웨이퍼 변형 현상이 발생되지 않는다. The rear surface of the
도 3은 웨이퍼 분할 공정을 수행하는 장치들을 도시한 웨이퍼 분할 시스템의 블록도이다.3 is a block diagram of a wafer segmentation system showing devices for performing a wafer segmentation process.
도 3에 도시된 바와 같이, 전공정으로부터 전면에 회로가 형성된 웨이퍼(10)는 후면 접착층 부착장치(90)로 이송되어 웨이퍼(10) 후면에 후면 접착층(22)이 부착된다. 후면 접착층(22)이 접착된 웨이퍼(10)는 웨이퍼 절단장치(91)에서 칩 단위로 절단된다. 절단된 웨이퍼(10)는 전면 접착층 부착장치(93)에서 웨이퍼(10) 전면 에 전면 접착층(24)이 부착된다. 전면 접착층(24)과 후면 접착층(22)이 부착된 웨이퍼(10)는 후면 접착층(22)이 상부에 위치하도록 반전되어 후면 접착층 제거장치(95)로 이송된다. 후면 접착층 제거장치(95)에서는 웨이퍼(10)에 설치된 후면 접착층(22)을 제거한다. 이는 웨이퍼(10) 후면을 식각하기 위해 웨이퍼(10) 후면을 노출시키는 단계이다. 웨이퍼(10) 후면이 노출된 상태로 플라즈마 식각장치(97)로 이송되어 웨이퍼(10) 후면이 플라즈마 소스에 의해 식각된다. As shown in FIG. 3, the
웨이퍼(10)는 현재 처리 장치에서 처리 공정이 완료되면 다음 공정을 수행하기 위해 다음 장치로 이송된다. 각 처리장치 사이에서 웨이퍼(10)는 웨이퍼링(미도시)이 처리되어 이송된다.The
도 4는 웨이퍼 후면 플라즈마 식각장치를 작업 라인을 따라 병렬로 배열한 도면이다.Fig. 4 is a view showing a wafer rear surface plasma etching apparatus arranged in parallel along a working line.
도 4에 도시된 바와 같이, 복수 개의 플라즈마 식각장치(97)는 컨베이어 밸트와 같은 하나의 작업 라인(110)을 따라 병렬로 배치된다. 후면 접착층 제거장치(95)에서 후면 접착층(22)이 제거된 웨이퍼(10)는 복수 개의 플라즈마 식각장치(97)에 제공되어 플라즈마 식각이 이루어진 후 조립공정을 수행한다. 본 발명의 일 실시예에서는 복수 개의 플라즈마 식각장치(97)를 작업 라인(110)을 따라 병렬로 배치하였으나, 작업 자인(110)을 따라 일렬로 배치할 수도 있다.As shown in FIG. 4, the plurality of
도 5 ~ 6은 웨이퍼 분할 시스템에서 사용되는 웨이퍼 이송 수단을 도시한 도면이다.5 to 6 are views showing wafer transfer means used in the wafer division system.
도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이, 웨이퍼 분할 시스템은 각 장치들 사이에서 웨이퍼(10)를 이송시키기 위한 이송 수단(200)이 필요하다. 이송 수단(200)은 암(212)과 흡착부(214)로 구성된다. 암(212)은 수직으로 길이조절이 가능하고 각 장치 사이에서 웨이퍼(10)를 넣고 뺄 수 있도록 수평으로 회전이 가능하다. 흡착부(214)는 암(212)의 단부에 구비되어 웨이퍼(10)의 일면, 바람직하게는 웨이퍼(10) 전면을 흡착을 통해 각 장치에 공급한다. 각 장치에서 공정이 끝난 웨이퍼(10)는 다시 이송 수단(200)에 의해 흡착되어 각 장치에서 출력된다.As shown in Figs. 5 and 6, the wafer division system requires a transfer means 200 for transferring the
또한 다수의 웨이퍼(10)를 한 번에 이송시킬 수 있도록 다수의 이송 수단(200)의 암(312) 상부를 수평바(320)로 연결하여 일체형 이송 수단(300)을 구성할 수도 있다. 본 발명의 일 실시예에서는 3개의 이송 수단(200)을 수평바(520)로 연결하여 일체형 이송 수단(300)을 형성한다. 3개의 흡착부(314)를 이용하여 동시에 3개의 웨이퍼(10)를 흡착하였다. 일체형 이송 수단(300)은 이송시키고자하는 웨이퍼(10)의 개수에 따라 이송 수단(200)의 개수를 조절할 수 있다.The integrated conveying
도 7은 유도 결합 플라즈마(ICP) 방식으로 플라즈마를 제공하는 플라즈마 반응기를 도시한 도면이다.7 is a diagram showing a plasma reactor providing plasma by an inductively coupled plasma (ICP) method.
도 7에 도시된 바와 같이, 플라즈마 식각 장치는 플라즈마 반응기(330) 및 공정가스 공급부(338)를 포함한다. 플라즈마 반응기(330)는 웨이퍼(200)가 입출 가능하도록 일측에 입출구(331)가 구비되고, 상부에는 공정가스를 공급받는 가스입구(332)와 공정가스를 고루 분배하기 위한 배플(335)이 구비되며 내부에는 피처리 기판이 놓이는 기판 지지대(336)가 구비된다. 또한 플라즈마 반응기(330)의 상부에는 전원 공급원(410)으로부터 주파수 전원을 인가받아 유도 결합 플라즈마를 유도하는 코일 안테나(334)가 구비된다. 전원 공급원(410)에서 공급되는 주파수 전원은 임피던스 정합기(420)를 통해 코일 안테나(334)로 인가된다. 코일 안테나(334)는 단일 주파수 또는 다중 주파수로 구동이 가능하다. 기판 지지대(336)는 바이어스 전원 공급원(412)에 연결되어 바이어스 된다. 예를 들어, 서로 다른 주파수 전원을 공급하는 두 개의 바이어스 전원 공급원 또는 하나의 전원 공급원(412)이 임피던스 정합기(422)를 통하여 기판 지지대(336)에 전기적으로 연결되어 바이어스 된다. 기판 지지대(336)의 이중 바이어스 구조는 플라즈마 반응기(330)의 내부에 플라즈마 발생을 용이하게 하고, 플라즈마 이온 에너지 조절을 더욱 개선시켜 공정 생산력을 향상 시킬 수 있다. 또는 단일 바이어스 구조로 변형 실시할 수도 있다. 또는 기판 지지대(336)는 바이어스 전원의 공급 없이 제로 퍼텐셜(zero potential)을 갖는 구조로 변형 실시될 수도 있다. 그리고 기판 지지대(336)는 정전척(미도시)을 포함할 수 있다. 또는 기판 지지대는 히터(미도시)를 포함할 수 있다. 또한 기판 지지대(336)는 DC전원(430)이 연결된다.As shown in FIG. 7, the plasma etching apparatus includes a
공정가스 공급부(338)는 플라즈마 반응기(330)에 구비된 가스입구(332)에 연결되어 유도 결합 플라즈마를 유도하기 위한 공정가스를 공급한다.The process
도 8은 용량 결합 플라즈마(CCP) 방식으로 플라즈마를 제공하는 플라즈마 반응기를 도시한 도면이다.Figure 8 is a diagram illustrating a plasma reactor providing plasma in a capacitively coupled plasma (CCP) fashion.
도 8에 도시된 바와 같이, 플라즈마 반응기(330)와 가스공급부(350) 및 용량결합 전극 어셈블리(337)를 포함한다. 플라즈마 반응기(330)는 상기의 유도 결합 플라즈마 반응기와 동일하게 구성된다. 플라즈마 반응기(330)의 상부에는 공정가스를 분배하기 위한 가스공급부(350)가 구비된다. 가스공급부(350)는 내부에 배플(335)이 포함되고, 가스입구(339)를 통해 공정가스를 공급받아 복수 개의 가스분사구(339)를 통해 플라즈마 반응기(330) 내부로 분사한다. 용량 결합 전극 어셈블리(337)는 가스공급부(350)의 하부에 구비되어 공정가스를 이용하여 용량 결합 플라즈마를 유도한다. As shown in FIG. 8, includes a
도 9는 플라즈마 반응기의 제1 실시예를 도시한 도면이다.9 is a view showing a first embodiment of a plasma reactor.
도 9에 도시된 바와 같이, 플라즈마 반응기(330)는 일측에 입출구(331)가 구비되어 웨이퍼(10)의 출입이 가능하다. 웨이퍼(10)는 플라즈마 반응기(330)의 입출구(331)를 통해 내부로 유입되어 기판 지지대(336)에 놓여 플라즈마 처리가 진행되고, 플라즈마 처리가 완료되면 다시 입출구(331)를 통해 외부로 유출된다.As shown in FIG. 9, the
도 10은 플라즈마 반응기의 제2 실시예를 도시한 도면이다.10 is a view showing a second embodiment of a plasma reactor.
도 10에 도시된 바와 같이, 플라즈마 반응기(330)는 상부 몸체(330-1)와 하부 몸체(330-2)로 분리되어 구성된다. 상부 몸체(330-1)는 하부 몸체(330-2)의 상부에 위치되고, 일측이 힌지(450)로 하부 챔버(333-2)와 연결되어 개폐된다.As shown in FIG. 10, the
도 11은 플라즈마 반응기의 제3 실시예를 도시한 도면이다.11 is a view showing a third embodiment of the plasma reactor.
도 11에 도시된 바와 같이, 플라즈마 반응기(330)는 상부 몸체(330-1)와 하부 몸체(330-2)로 분리되어 구성된다. 상부 몸체(330-1)는 하부 몸체(330-2)의 상부에 위치되고, 일측이 승강부재(440)에 의해 하부 몸체(330-2)와 연결된다. 상부 몸체(330-1)는 승강부재(440)가 상승하면서 하부 몸체(330-2)와 연결이 해제되어 플라즈마 반응기(330) 내부가 개방되고, 승강부재(440)가 하강하면서 다시 플라즈마 반응기(330)가 밀폐된다. As shown in FIG. 11, the
웨이퍼 절단 단계를 거친 웨이퍼(10)는 웨이퍼 절단장치에 의해 각 칩 사이에 절단부(12)가 형성된다. 절단부(12)는 플라즈마를 이용한 웨이퍼(10) 후면 식각 공정에서 플라즈마 소스에 의해 웨이퍼(10) 후면과 함께 식각될 수 있다. 절단부(12)가 플라즈마에 의해 식각되면 정상적인 칩이 형성될 수 없어 불량 제품이 생산된다.The
플라즈마에 의한 웨이퍼(10) 절단부(12)의 식각을 방지하기 위해서는 웨이퍼(10)를 절단하는 단계를 수행한 후 웨이퍼 절단부(12)에 충진제를 구비하는 단계를 수행한다. 충진제는 플라즈마 소스에 의해 식각되지 않고 웨이퍼(10)와 쉽게 분리될 수 있는 소재로 제작되어 플라즈마 소스가 절단부(12)에 접촉되어도 절단부(12)가 식각되지 않도록 한다. 또한 절단부(12)에 삽입된 충진제를 제거하기 위한 별도의 단계를 수행할 수 있다.In order to prevent the etching of the
도 12는 웨이퍼 절단부에 메시 와이어를 삽입하는 상태를 도시한 도면이다.12 is a view showing a state in which a mesh wire is inserted into a wafer cutting portion.
도 12에 도시된 바와 같이, 메시 형태로 형성한 메시 와이어(44)를 충진제로 사용한다. 전면 접착층(24)에 부착된 웨이퍼(10)의 절단부(12)는 메시 형태로 형성되기 때문에 메시 와이어(44)는 절단부(12)에 끼워질 수 있도록 절단부(12)와 동일한 형태로 형성된다. As shown in Fig. 12, a
도 13은 웨이퍼 절단부에 메시 와이어가 삽입된 상태의 웨이퍼 단면을 도시한 도면이다.13 is a diagram showing a cross section of a wafer in a state in which a mesh wire is inserted into a wafer cut portion.
도 13에 도시된 바와 같이, 메시 와이어(44)의 각 와이어는 웨이퍼(10)의 절단부(12)에 설치되어 플라즈마 소스에 의해 절단부(12)가 식각되는 것을 방지한다.As shown in Fig. 13, each wire of the
도 14는 웨이퍼 절단부에 레진을 주입한 상태의 웨이퍼 단면을 도시한 도면이다.14 is a view showing a cross section of a wafer in a state in which a resin is injected into a wafer cut portion.
도 14에 도시된 바와 같이, 절단부(12)에 플라즈마 식각을 방지하기 위해 레진(42)을 주입하여 충진제를 형성한다. 천연 수지인 레진(42)은 플라즈마에 의해 식각되지 않아 절단부(12)에 주입하여 식각을 방지할 수 있다. 또한 식각하고자하는 웨이퍼(10) 후면의 높이를 제외한 나머지 높이만큼 절단부(12)에 레진(42)을 주입함으로써 식각하고자하는 웨이퍼의 후면 높이를 확인할 수 있다.As shown in Fig. 14, a
도 15는 웨이퍼 절단부에 접착층이 삽입된 상태의 웨이퍼 단면을 도시한 도면이다.15 is a view showing a cross section of a wafer in a state in which an adhesive layer is inserted into a wafer cut-out portion.
도 15에 도시된 바와 같이, 전면 접착층(24)을 이용하여 충진제를 형성할 수 있다. 즉, 웨이퍼(10) 전면에 접착된 전면 접착층(30)을 압착하면, 절단부(12) 내부로 전면 접착층(24)이 유입되어 충진제로써의 기능을 수행한다. 절단부(12) 내부로 유입된 전면 접착층(24)은 플라즈마 소스가 웨이퍼(10)와 접촉되어 식각되는 것을 방지한다.As shown in FIG. 15, the filler may be formed by using the front
도 16은 기계적으로 웨이퍼 후면을 연마한 후 플라즈마를 이용하여 웨이퍼 후면을 식각하여 웨이퍼를 박막화하는 단계를 도시한 흐름도이다. 16 is a flowchart showing a step of mechanically polishing the rear surface of the wafer and then etching the rear surface of the wafer using plasma to thin the wafer.
도 16에 도시된 바와 같이, 웨이퍼를 1차와 2차로 박막화한다.As shown in Fig. 16, the wafer is thinned first and secondarily.
먼저, 전공정으로부터 전면에 회로가 형성된 웨이퍼(10) 전면에 라미네이팅을 처리한다(S200). 라미네이팅 처리된 웨이퍼(10)의 후면은 기계적으로 1차 연마한다(S210). 1차 연마가 끝난 웨이퍼(10)는 전면에 부착된 라미네이팅을 제거한다(S220). 기계적으로 연마된 웨이퍼(10)를 좀 더 미세하게 박막화하기 위하여 플라즈마 소스를 이용하여 2차적으로 박막한다. 웨이퍼(10)는 후면에 후면 접착층(22)을 부착하고(S230), 웨이퍼를 칩 단위로 절단한다(S240). 절단된 웨이퍼(10)의 전면에 전면 접착층(24)을 부착한다(S250). 웨이퍼(10) 후면에 접착된 후면 접착층(22)을 제거하고(S260), 웨이퍼 후면을 플라즈마를 이용하여 식각한다(S270).First, laminating is performed on the entire surface of the
이상에서 설명된 본 발명의 웨이퍼 분할 방법 및 웨이퍼 분할 시스템의 실시예는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속한 기술분야의 통상의 지식을 가진 자 라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 잘 알 수 있을 것이다. 그럼으로 본 발명은 상기의 상세한 설명에서 언급되는 형태로만 한정되는 것은 아님을 잘 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다. 또한, 본 발명은 첨부된 청구범위에 의해 정의되는 본 발명의 정신과 그 범위 내에 있는 모든 변형물과 균등물 및 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.The embodiments of the wafer dividing method and the wafer dividing system of the present invention described above are merely illustrative and those skilled in the art will appreciate that various modifications and equivalent embodiments are possible without departing from the scope of the present invention. You will know the point. Accordingly, it is to be understood that the present invention is not limited to the above-described embodiments. Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the technical idea of the appended claims. It is also to be understood that the invention includes all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 웨이퍼 분할 공정을 도시한 흐름도이다.1 is a flowchart illustrating a wafer dividing process according to a preferred embodiment of the present invention.
도 2는 도 1에 도시된 단계별로 작업된 웨이퍼의 단면을 도시한 도면이다.FIG. 2 is a cross-sectional view of the wafer processed in the steps shown in FIG. 1. FIG.
도 3은 웨이퍼 분할 공정을 수행하는 장치들을 도시한 웨이퍼 분할 시스템의 블록도이다.3 is a block diagram of a wafer segmentation system showing devices for performing a wafer segmentation process.
도 4는 웨이퍼 후면 플라즈마 식각장치를 작업 라인을 따라 병렬로 배열한 도면이다.Fig. 4 is a view showing a wafer rear surface plasma etching apparatus arranged in parallel along a working line.
도 5 ~ 6은 웨이퍼 분할 시스템에서 사용되는 웨이퍼 이송 수단을 도시한 도면이다.5 to 6 are views showing wafer transfer means used in the wafer division system.
도 7은 유도 결합 플라즈마(ICP) 방식으로 플라즈마를 제공하는 플라즈마 반응기를 도시한 도면이다.7 is a diagram showing a plasma reactor providing plasma by an inductively coupled plasma (ICP) method.
도 8은 용량 결합 플라즈마(CCP) 방식으로 플라즈마를 제공하는 플라즈마 반응기를 도시한 도면이다.Figure 8 is a diagram illustrating a plasma reactor providing plasma in a capacitively coupled plasma (CCP) fashion.
도 9는 플라즈마 반응기의 제1 실시예를 도시한 도면이다.9 is a view showing a first embodiment of a plasma reactor.
도 10은 플라즈마 반응기의 제2 실시예를 도시한 도면이다.10 is a view showing a second embodiment of a plasma reactor.
도 11은 플라즈마 반응기의 제3 실시예를 도시한 도면이다.11 is a view showing a third embodiment of the plasma reactor.
도 12는 웨이퍼 절단부에 메시 와이어를 삽입하는 상태를 도시한 도면이다.12 is a view showing a state in which a mesh wire is inserted into a wafer cutting portion.
도 13은 웨이퍼 절단부에 메시 와이어가 삽입된 상태의 웨이퍼 단면을 도시한 도면이다.13 is a diagram showing a cross section of a wafer in a state in which a mesh wire is inserted into a wafer cut portion.
도 14는 웨이퍼 절단부에 레진을 주입한 상태의 웨이퍼 단면을 도시한 도면이다.14 is a view showing a cross section of a wafer in a state in which a resin is injected into a wafer cut portion.
도 15는 웨이퍼 절단부에 접착층이 삽입된 상태의 웨이퍼 단면을 도시한 도면이다.15 is a view showing a cross section of a wafer in a state in which an adhesive layer is inserted into a wafer cut-out portion.
도 16은 기계적으로 웨이퍼 후면을 연마한 후 플라즈마를 이용하여 웨이퍼 후면을 식각하여 웨이퍼를 박막화하는 단계를 도시한 흐름도이다. 16 is a flowchart showing a step of mechanically polishing the rear surface of the wafer and then etching the rear surface of the wafer using plasma to thin the wafer.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*Description of the Related Art [0002]
10: 웨이퍼 12: 절단부10: wafer 12:
22: 후면 접착층 24: 전면 접착층22: rear adhesive layer 24: front adhesive layer
42: 레진 44: 메시 와이어42: Resin 44: Mesh wire
90: 후면 접착층 부착장치 91: 웨이퍼 절단장치90: Backside adhesive layer adhering device 91: Wafer cutting device
93: 전면 접착층 부착장치 95: 후면 접착층 제거장치93: front adhesive layer attachment device 95: rear adhesive layer removal device
97: 플라즈마 식각장치 110: 작업 라인97: Plasma etching apparatus 110: Operation line
200: 이송 수단 212, 312: 암200: conveying means 212, 312: arm
214, 314: 흡착부 320: 수평바214, 314: suction part 320: horizontal bar
300: 일체형 이송수단 330: 플라즈마 반응기300: Integrated delivery means 330: Plasma reactor
330-1, 330-2: 상부 몸체, 하부 몸체 332, 339: 가스입구330-1, 330-2: upper body,
334: 코일 안테나 335: 배플334: coil antenna 335: baffle
336: 기판 지지대 337: 용량 결합 전극 어셈블리336: substrate support 337: capacitive coupling electrode assembly
338: 공정가스 공급부 339: 가스분사구338: Process gas supply unit 339: Gas injection nozzle
350: 가스공급부 410: 전원 공급원350: gas supply unit 410: power supply source
412: 바이어스 전원 공급원 420, 422: 임피던스 정합기412:
430: DC 전원 440: 승강부재430: DC power supply 440:
450: 힌지450: Hinge
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Patent Citations (3)
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---|---|---|---|---|
JP2004311848A (en) | 2003-04-09 | 2004-11-04 | Nitta Ind Corp | Method for manufacturing semiconductor device, adhesive tape for protecting, and supporting adhesive tape having adhesive for die bonding |
JP2005191039A (en) * | 2003-12-24 | 2005-07-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method of processing semiconductor wafer |
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