KR101605954B1 - The membrane distillation water treatment using plasma discharge device for the provision of warm water - Google Patents

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Abstract

본 발명은 플라즈마 발생장치를 이용한 수처리 시설의 온수공급장치에 관한 것으로, 오염수가 저장되는 저수조, 미생물의 분해작용에 의해 오염수의 부산물을 제거하는 폭기조, 오염수의 슬러지를 따로 분리하는 반응조를 순차적으로 거친 오염수의 유기물이나 오염물질을 제거하는 플라즈마 발생장치를 이용하여 오염수를 처리하는 수처리 시설의 온수공급장치에 있어서, 상기 플라즈마 발생장치는, 투명 아크릴 재질로 제작되어 플라즈마가 방전될 수 있도록 내부에 소정의 공간을 형성하는 본체; 상기 본체의 상부에는 저수조, 폭기조, 반응조 중 어느 한 곳에서 배출되는 오염수를 공급받을 수 있는 공급관; 상기 본의 하부에는 처리된 오염수를 배출하는 배출관; 상기 본체의 하부에는 처리가 미흡하게 이루어진 오염수를 다시 본체 내부로 인입시킬 수 있도록 공급관과 연계되는 연결관; 균일한 분포로 분사구가 각각 형성되어 펄스발생기로부터 펄스를 인가받아 코로나 스트리머가 형성되어 본체 내부에 전체적으로 플라즈마 막을 생성하는 다수의 전극으로 이루어지고, 상기 온수공급장치는 배출관에서 배출된 처리수를 공급받아 처리수가 70 ~ 80 온도로 유지되도록 가열하여 MD처리장치로 배출하는 히팅수단이 포함됨을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치를 이용한 수처리 시설의 온수공급장치를 제공한다.
따라서 배출관에서 배출하는 처리수를 70 ~ 80로 가열하여 MD처리장치로 유입하는 히팅수단으로 인해 파울링에 대한 영향이 최소화되면서도 막 투과유량(Flux)이 최대로 나타나게 하여 MD처리장치의 효율성을 향상시키는 효과를 발휘한다.The present invention relates to a hot water supply apparatus for a water treatment facility using a plasma generating apparatus, comprising a water tank for storing polluted water, an aeration tank for removing by-products of contaminated water by decomposition action of microorganisms, and a reaction tank for separating sludge of polluted water The plasma generating apparatus includes a plasma generating device for generating a plasma from the plasma generated by the plasma generating device. The plasma generating device includes a plasma generating device for removing organic substances and contaminants from the coarse contaminated water, A main body defining a predetermined space therein; A supply pipe capable of receiving contaminated water discharged from any one of a water storage tank, an aeration tank, and a reaction tank; A discharge pipe for discharging the polluted water to be treated; A connection pipe connected to the supply pipe so that contaminated water, which is insufficiently treated, can be introduced into the main body at a lower portion of the main body; And a plurality of electrodes for generating a plasma film as a whole in the body by forming a corona streamer by applying a pulse from a pulse generator to each of the plurality of electrodes, the water being supplied from the discharge pipe And a heating means for heating the treated water to maintain the treated water at a temperature of 70 to 80 and discharging the heated water to the MD treatment device. The present invention also provides a hot water supplying device for a water treatment facility using the plasma generating device.
Therefore, by heating the process water discharged from the discharge pipe to 70 to 80, the heating means that flows into the MD treatment device minimizes the influence on the fouling, while maximizing the flux through the membrane, thereby improving the efficiency of the MD treatment device Effect.

Description

플라즈마 발생장치를 이용한 막증발법 수처리 시설의 온수공급장치{The membrane distillation water treatment using plasma discharge device for the provision of warm water}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a membrane-evaporated water treatment apparatus using a plasma generator,

본 발명은 플라즈마 발생장치를 이용한 막증발법 수처리 시설의 온수공급장치에 관한 것으로, 특히 플라즈마 수처리 시 플라즈마 방전으로 인해 발생하는 처리수의 온도증가를 활용하여 MD시스템의 운영 시 처리효율의 증가와 에너지 저감을 위한 플라즈마 발생장치를 이용한 수처리 시설의 온수공급장치에 관한 것이다.The present invention relates to a hot water supplying apparatus for a water treatment facility for membrane evaporation using a plasma generating apparatus, and more particularly, The present invention relates to a hot water supply apparatus for a water treatment facility using a plasma generating apparatus for reduction.

일반적으로 공장에서 배출되는 오염물질(이하 오염수)은 수처리장치를 이용하여 처리되며 이러한 수처리장치는 막여과공법을 이용하여 설비되고 있다.In general, pollutants discharged from factories (polluted water) are treated using a water treatment apparatus, and these water treatment apparatuses are installed by using a membrane filtration method.

상기 막여과공법은 오염수의 특정 성분을 선택적으로 통과시키는 공법이며 즉, 막 소재를 오염수의 성분을 고려해 제거하고자 하는 물질들을 다양하게 선택할 수 있어 수처리장치에 많이 채택되어 시설되고 있는 추세이다.The membrane filtration method is a method of selectively passing a specific component of polluted water, that is, a membrane material can be selected in various materials to be removed in consideration of a component of polluted water, and thus it is widely used in a water treatment apparatus.

그리고 근래 공업이 발전함에 따라 공장에서 배출되는 오염수가 복합 다양화되어 있어서 기존의 막여과공법을 이용한 수처리장치로는 오염수를 처리하는 데 많은 시간이 소요되어 그 작업이 효율적이지 못한 단점이 있어왔다.In recent years, as the industry has developed, the polluted water discharged from factories has been diversified. Therefore, it takes a lot of time to process the polluted water using the conventional membrane filtration method, and the operation is not efficient .

이러한 단점을 타계하고자 최근에는 전자빔을 이용한 수처리방법이 있으며 이는 전자가속기를 사용하여 가스 안에 전자빔을 주입하는 방법으로 오염수가 전자빔에 이온화되어 오염수를 처리하는 것으로 기존의 막여과공법과 대비하여 오염수의 처리가 빠르게 작업을 도모하였으나 이러한 전자빔을 이용한 수처리방법은 전자빔의 방전효율이 떨어져 실제 공장에 직접 시설하기에는 그 실용성이 떨어지며 비용 또한 고가로 이루어지는 단점이 있어왔다.In order to deal with these disadvantages, recently, there is a water treatment method using an electron beam. In this method, an electron beam is injected into the gas using an electron accelerator, and the contaminated water is ionized in the electron beam to treat the polluted water. The water treatment method using the electron beam has a disadvantage in that the discharge efficiency of the electron beam is low and the practicality of the facility is low and the cost is high.

이러한 단점을 보완하고자 본 출원인은 특허출원 제10-2012-0034309호 개발하여 플라즈마로 인해 화학적 활성종들이 생성되어 오염수의 유기물이나 오염물질을 효율적으로 제거하는 기존의 막여과 처리시설에 비해 설비단가가 현저하게 줄어드는 현저한 효과가 있었으나, 상기 특허출원 제10-2012-0034309호는 플라즈마 방전으로 인해 발생하는 처리수의 온도가 증가하는 현상이 있었으며, MD시스템의 경우 유입수의 온도가 시스템의 에너지 소모 및 처리효율에 큰 영향을 미치므로 유입수의 안정적인 온도 관리가 중요하다.In order to overcome such disadvantages, the present applicant has developed a patent application No. 10-2012-0034309, and compared with a conventional membrane filtration treatment facility in which chemically active species are generated due to plasma to efficiently remove organic matters and contaminants in contaminated water, However, in Patent Application No. 10-2012-0034309, there is a phenomenon that the temperature of the treated water generated due to the plasma discharge is increased. In the case of the MD system, the temperature of the influent water is lower than the energy consumption of the system Since it affects the treatment efficiency, stable temperature control of influent water is important.

상기한 문제점을 해소하기 위해 안출된 본 발명의 목적은, 플라즈마 수처리 시 플라즈마 방전으로 인해 발생하는 처리수의 온도증가 현상을 활용하여 MD시스템의 운영 시 처리효율의 증가와 에너지의 저감을 위한 플라즈마 발생장치를 이용한 수처리 시설의 온수공급장치를 제공하는 데 있다.It is an object of the present invention, which is devised to overcome the above-mentioned problems, to provide a plasma processing apparatus and a plasma processing method, which utilize a phenomenon of temperature increase of treated water generated by a plasma discharge during plasma water treatment, And to provide a hot water supply apparatus for a water treatment facility using the apparatus.

상기와 같은 목적을 실현하기 위하여, 본 발명은 오염수가 저장되는 저수조, 미생물의 분해작용에 의해 오염수의 부산물을 제거하는 폭기조, 오염수의 슬러지를 따로 분리하는 반응조를 순차적으로 거친 오염수의 유기물이나 오염물질을 제거하는 플라즈마 발생장치를 이용하여 오염수를 처리하는 수처리 시설의 온수공급장치에 있어서, 상기 플라즈마 발생장치는, 투명 아크릴 재질로 제작되어 플라즈마가 방전될 수 있도록 내부에 소정의 공간을 형성하는 본체; 상기 본체의 상부에는 저수조, 폭기조, 반응조 중 어느 한 곳에서 배출되는 오염수를 공급받을 수 있는 공급관; 상기 본의 하부에는 처리된 오염수를 배출하는 배출관; 상기 본체의 하부에는 처리가 미흡하게 이루어진 오염수를 다시 본체 내부로 인입시킬 수 있도록 공급관과 연계되는 연결관; 균일한 분포로 분사구가 각각 형성되어 펄스발생기로부터 펄스를 인가받아 코로나 스트리머가 형성되어 본체 내부에 전체적으로 플라즈마 막을 생성하는 다수의 전극으로 이루어지고, 상기 온수공급장치는 배출관에서 배출된 처리수를 공급받아 처리수가 70 ~ 80 온도로 유지되도록 가열하여 MD처리장치로 배출하는 히팅수단이 포함됨을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치를 이용한 수처리 시설의 온수공급장치를 제공한다.In order to achieve the above-mentioned object, the present invention provides a water treatment system comprising a water tank for storing polluted water, an aeration tank for removing by-products of contaminated water by decomposition of microorganisms, and a reaction tank for separating sludge of polluted water, The present invention relates to a hot water supply apparatus for a water treatment facility that treats contaminated water using a plasma generator for removing contaminants from the plasma generated in the plasma generator, Forming body; A supply pipe capable of receiving contaminated water discharged from any one of a water storage tank, an aeration tank, and a reaction tank; A discharge pipe for discharging the polluted water to be treated; A connection pipe connected to the supply pipe so that contaminated water, which is insufficiently treated, can be introduced into the main body at a lower portion of the main body; And a plurality of electrodes for generating a plasma film as a whole in the body by forming a corona streamer by applying a pulse from a pulse generator to each of the plurality of electrodes, the water being supplied from the discharge pipe And a heating means for heating the treated water to maintain the treated water at a temperature of 70 to 80 and discharging the heated water to the MD treatment device. The present invention also provides a hot water supplying device for a water treatment facility using the plasma generating device.

전술한 바와 같이 본 발명에 따르면 전극을 통한 플라즈마 방전에 의해 라디칼을 비롯한 고도 산화처리에 필요한 산화제(OH-, H2O2, Cl-, O2, NO2)들이 생성되어 처리하고자 하는 오염수에 용존됨으로서 오염수의 처리효율이 향상을 야기시켜 용수로 완벽하게 재생되어 수자원의 낭비를 최소화하고 예상되는 용수부족과 건천 문제를 해결하면서도 기존의 막여과 처리시설에 비해 설비단가가 현저하게 줄어들어 고효율 저비용의 수처리 시설을 도모하는 효과가 있다.As described above, according to the present invention, oxidizing agents (OH - , H 2 O 2 , Cl -, O 2 , NO 2 ) necessary for highly oxidizing treatment including radicals are generated by plasma discharge through electrodes, It is possible to improve the treatment efficiency of the polluted water and to completely regenerate the water to minimize the waste of water resources and solve the expected water shortage and the problem of mass flow, but the cost of the facility is remarkably reduced compared with the existing membrane filtration treatment facility, The water treatment facility of the present invention is effective.

또한 본체는 투명 아크릴 재질로 이루어져 본체를 원하는 용적에 맞추어 손쉽게 제작할 수 있으면서도 본체 내부의 플라즈마의 생성을 육안으로 모니터링하여 플라즈마를 생성하는 전극에 펄스를 인가하는 펄스발생기를 통해 전극에 인가하는 전압을 적절히 제어하여 최소의 전압량으로 오염수를 효율적으로 처리할 수 있어 전압의 낭비를 최소화하며 전압의 양이 과다하게 인가되는 것을 방지하여 전극 및 펄스발생기의 고장률을 최소화하는 효과가 있다.In addition, the body is made of transparent acrylic material so that the body can be manufactured easily according to the desired volume, but the generation of plasma inside the body is visually monitored, and the voltage to be applied to the electrode is suitably adjusted through a pulse generator It is possible to efficiently process polluted water with a minimum amount of voltage so as to minimize the waste of the voltage and to prevent the excessive amount of voltage from being applied, thereby minimizing the failure rate of the electrode and the pulse generator.

또한 배출관에서 배출하는 처리수를 70 ~ 80로 가열하여 MD처리장치로 유입하는 히팅수단으로 인해 파울링에 대한 영향이 최소화되면서도 막 투과유량(Flux)이 최대로 나타나게 하여 MD처리장치의 효율성을 향상시키는 효과가 있다.In addition, heating water discharged from the discharge pipe is heated to 70 ~ 80 to minimize the effect of fouling due to the heating means flowing into the MD treatment device, while maximizing the flux through the membrane, thereby improving the efficiency of the MD treatment device .

또한 온수공급장치의 제1, 2형태로 인하여 히팅수단의 계속적인 작동을 차단하면서도 배출관에 의해 배출되는 처리수를 바로 사용할 수 있도록 하여 효율성을 향상시키는 효과가 있다.In addition, since the first and second embodiments of the hot water supply device can prevent the continuous operation of the heating means, the treated water discharged by the discharge pipe can be used immediately, thereby improving the efficiency.

도 1은 본 발명에 의한 플라즈마 발생장치를 이용한 수처리 시설의 형태를 나타내는 예시도,
도 2는 본 발명에 의한 온수처리장치의 바람직한 제1형태를 나타내는 예시도,
도 3은 본 발명에 의한 온수처리장치의 바람직한 제2형태를 나타내는 예시도.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is an exemplary view showing a configuration of a water treatment facility using a plasma generating apparatus according to the present invention;
2 is a diagram showing an example of a first preferred embodiment of a hot water treatment apparatus according to the present invention,
3 is an exemplary view showing a second preferred embodiment of the hot water treatment apparatus according to the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에서 실시예로 제안하고 있는 플라즈마 발생장치를 이용한 수처리 시설을 상세히 설명하기로 한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a water treatment facility using a plasma generating apparatus according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 의한 플라즈마 발생장치를 이용한 수처리 시설의 형태를 나타내는 예시도이고, 도 2, 3은 본 발명에 의한 온수공급장치의 바람직한 제1, 2형태를 나타내는 예시도로서 본 발명은 플라즈마 발생장치를 이용한 수처리 시설과 상기 플라즈마 발생장치를 이용한 수처리 시설의 온수공급장치로 구성되어진다.2 and 3 are views showing first and second preferred embodiments of a hot water supply apparatus according to the present invention. The plasma water supply apparatus of the present invention comprises a plasma And a hot water supply device for the water treatment facility using the plasma generation device.

우선 본 발명에 따른 플라즈마 발생장치를 이용한 수처리 시설을 설명하면, 통상적인 수처리 시설은 저수조, 폭기조, 반응조가 포함되어 구성되고 본 발명에 따른 플라즈마 발생장치를 이용한 수처리 시설은 플라즈마를 통해 반응조에서 배출되는 오염수의 유기물이나 오염물질을 제거하도록 구성되는 것이다.The water treatment facility using the plasma generator according to the present invention includes a water tank, an aeration tank, and a reaction tank, and the water treatment facility using the plasma generator according to the present invention is discharged through a plasma And is configured to remove organic matter and contaminants from the polluted water.

상기 저수조는 처리하고자 하는 오염수를 일괄적으로 저장하여 폭기조로 공급하도록 구성된다.The water storage tank collectively stores the polluted water to be treated and supplies it to the aeration tank.

또한 상기 폭기조는 저장조에서 공급된 오염수에 공기를 불어넣거나 공중에 물을 살포하여 물과 공기를 충분히 접촉시켜 산화작용과 호기성 미생물에 의한 분해작용을 촉진하게 함으로써 그 미생물의 분해작용에 의해 에어로졸과 같은 미세먼지 등의 부산물을 제거하도록 구성된다.In addition, the aeration tank blows air to the polluted water supplied from the storage tank or water is sprayed in the air to sufficiently contact water and air to accelerate oxidation and decomposition by aerobic microorganisms, And to remove by-products such as fine dust.

또한 상기 반응조는 폭기조에서 미세먼지와 같은 부산물이 제거된 오염수에 슬러지를 따로 분리하여 농축시키도록 구성된다.In addition, the reaction tank is configured to separate and concentrate the sludge on the contaminated water from which by-products such as fine dust are removed in the aeration tank.

상기의 저수조, 폭기조, 반응조는 수처리 시설에서 통상적으로 사용하는 공지기술이므로 더 이상의 설명은 본 발명의 요지를 흐릴 수 있으므로 생략하기로 한다.Since the water storage tank, the aeration tank, and the reaction tank are known technologies commonly used in water treatment facilities, the above description is omitted because it may obscure the gist of the present invention.

여기서 상기 반응조를 거친 오염수에 플라즈마를 방전하면 다양한 물리, 화학적 활성종이 오염수에 생성, 용해되어 오염수의 오염물질을 제거시키도록 하는 것이다.When the plasma is discharged to the contaminated water having passed through the reaction tank, various physically and chemically active species are generated and dissolved in the contaminated water to remove contaminants in the contaminated water.

상기와 같은 기능을 수행하기 위해 오염수에 플라즈마를 방전하는 플라즈마 발생장치가 더 구성되며, 상기 플라즈마 발생장치는 내부에 소정의 공간을 형성되어 플라즈마가 방전될 수 있는 본체(10)가 구성된다.In order to perform the above-described function, a plasma generator is further provided for discharging plasma to the contaminated water. The plasma generator includes a main body 10 in which a predetermined space is formed to discharge plasma.

그리고 상기 본체(10)의 상부에는 저수조, 폭기조, 반응조에서 배출되는 오염수를 공급받을 수 있는 공급관(20)이 형성되며 상기 공급관(20)으로는 반응조에서 슬러지가 제거된 오염수를 공급받는 것이 바람직하나 처리하는 오염수의 상태에 따라 저수조, 폭기조, 반응조 중 어느 하나에서 배출되는 오염수를 처리할 수 있도록 할 수도 있다.In the upper part of the main body 10, a supply pipe 20 capable of receiving the polluted water discharged from the water storage tank, the aeration tank and the reaction tank is formed, and the supply pipe 20 is supplied with the polluted water from which the sludge has been removed in the reaction tank However, depending on the state of the polluted water to be treated, the polluted water discharged from any one of the water storage tank, the aeration tank, and the reaction tank may be treated.

또한 본체(10)의 하부로는 본체에서 처리된 오염수를 후처리공정으로 이송하는 배출관(30)이 구성되어진다.A discharge pipe (30) for transferring the contaminated water treated in the main body (10) to the post-treatment process is formed in the lower part of the main body (10).

또한 본체(10)의 하부로는 본체(10)에서 처리된 오염수를 본체(10) 내부로 인입시킬 수 있도록 공급관(20)과 연계되는 연결관(40)이 구성되어지며 상기 본체(10)에 유입된 오염수의 오염물질의 제거가 미흡할 때에는 연결관(40)을 통해 본체(10)의 공급관(20)으로 유입하여 다시 오염수의 오염물질을 제거하도록 한다.A connection pipe 40 connected to the supply pipe 20 is formed at a lower portion of the main body 10 to allow the contaminated water processed in the main body 10 to be drawn into the main body 10, The contaminated water flowing into the supply pipe 20 of the main body 10 is removed through the connection pipe 40 to remove the pollutants of the polluted water again.

상기 본체(100 내부 공간에 플라즈마를 생성하도록 펄스발생기로부터 펄스를 인가받아 플라즈마를 생성하는 다수의 전극(50)이 포함되어 구성되며 더욱 상세하게는 상기 전극(50)은 복수의 분사구가 전체 면적에 걸쳐 균일한 분포로 형성되어 펄스를 인가받음으로서 전극(50)의 분사구를 통해 다수의 전극(50) 사이에는 강력한 코로나 스트리머(Corona Streamer)가 형성되어 본체(10) 내부에 전체적으로 플라즈마 막을 생성하도록 한다.The electrode 50 includes a plurality of electrodes 50 for generating a plasma by receiving a pulse from a pulse generator to generate a plasma in the inner space of the main body 100. More specifically, A strong corona streamer is formed between the plurality of electrodes 50 through the jet port of the electrode 50 to generate a plasma film as a whole inside the main body 10 do.

따라서 상기 본체(10) 내부로 반응조를 통해 오염수가 공급되면 전극(50)에 의해 본체(10) 내부에 생성된 플라즈마가 오염수의 수중 또는 수표면에서 방전되면 물리적 과정 및 화학적 과정에 의해 일산화질소(NO), 이산화질소(NO2), 오존(O3), 수산화이온(OH-), 각종 음이온(Cl-), 과산화수소(H2O2) 등과 같은 화학적 활성종들이 생성되어 오염수에 용존됨으로서 오염수에 포함된 이온성물질, 난분해성물질의 분해에 탁월한 효과를 가지게 되며 분해된 오염물질은 본체(10)의 하측으로 별도로 수집되어 공지의 드레인에 의해 배출된다.Therefore, when the contaminated water is supplied into the main body 10 through the reaction tank, plasma generated in the main body 10 by the electrode 50 is discharged from the water or water surface of the contaminated water. By the physical process and chemical process, (NO), nitrogen dioxide (NO 2 ), ozone (O 3 ), hydroxide ion (OH - ), various anions (Cl -) and hydrogen peroxide (H 2 O 2 ) It has an excellent effect in the decomposition of the ionic material and the refractory material contained in the polluted water, and the decomposed pollutants are collected separately at the lower side of the main body 10 and discharged by a known drain.

즉, 본 발명에 따른 플라즈마 발생장치를 이용함으로서 기존의 수처리 시설에 비해 환경친화적이면서도 용이하게 오염수의 처리가 이루어지는 효과를 가지게 되는 것이다.In other words, the use of the plasma generating apparatus according to the present invention has an effect of treating the polluted water easily and environmentally as compared with the existing water treatment facility.

여기서 상기 본체(10)는 투명 아크릴 재질로 제작하여 원하는 용적에 맞추어 손쉽게 제작할 수 있으면서도 외부에서 플라즈마 발생현상을 관찰하여 플라즈마를 생성하는 전극(50)에 펄스를 인가하는 펄스발생기를 통해 전극에 인가하는 전압을 적절히 제어할 수 있다.The main body 10 is made of transparent acrylic material and can be manufactured easily according to a desired volume, and is applied to an electrode through a pulse generator for applying a pulse to an electrode 50 for generating a plasma by observing a plasma generation phenomenon from the outside The voltage can be appropriately controlled.

즉 본체(10)의 배출관(30)에서 배출되는 오염수의 처리상태에 따라 펄스발생기를 통해 전극(50)에 인가하는 전압의 양을 조절하여 최소의 전압량으로 오염수를 효율적으로 처리할 수 있어 전압의 낭비를 최소화하며 전압의 양이 과다하게 인가되는 것을 방지하여 전극(50) 및 펄스발생기의 고장률을 최소화하도록 한다.That is, the amount of the voltage applied to the electrode 50 through the pulse generator is controlled according to the treatment condition of the polluted water discharged from the discharge pipe 30 of the main body 10, Thereby minimizing the waste of voltage and preventing the excessive amount of voltage from being applied, thereby minimizing the failure rate of the electrode 50 and the pulse generator.

상기의 구성으로 이루어진 플라즈마 발생장치를 이용한 수처리 시설에 설치되어 막 증발법 공정, 즉 MD처리장치(MD, Membrane Distillation 이하 MD처리장치)에 배출관에서 배출되는 처리수를 온수로 변환하여 MD처리장치(100)로 공급하는 온수공급장치에 대해 설명하면, 우선 상기 온수공급장치는 배출관(30)에서 배출된 처리수를 공급받아 처리수가 70 ~ 80 온도로 유지되도록 가열하여 MD처리장치(100)로 배출하는 히팅수단(110)이 포함되어 구성된다.In the water treatment facility using the plasma generator having the above-described structure, the process water discharged from the discharge pipe is converted into hot water to the MD process unit (MD process unit, MD process unit) The hot water supply device supplies the treated water discharged from the discharge pipe 30 and heats the treated water to maintain the treated water at a temperature of 70 to 80 and discharges the treated water to the MD treatment device 100 And a heating means (110) for heating.

상기 히팅수단(110)으로 하여금 파울링에 대한 영향이 최소화되면서도 막 투과유량(Flux)이 최대로 나타나는 온도인 70 ~ 80로 처리수가 가열됨으로서 MD처리장치(100)의 효율성을 향상시키는 효과를 가지게 된다.The heating unit 110 heats the process water at a temperature at which the film permeation flux (Flux) reaches a maximum value of 70 to 80 while minimizing the influence of the fouling, thereby improving the efficiency of the MD processing apparatus 100 do.

여기서 배출관(11)에 의해 MD처리장치(100)로 유입되는 배출관의 온도가 70 ~ 80의 범위 내로 유지되면 히팅수단(110)과 관계없이 배출관(30)에 의해 배출되는 처리수는 바로 MD처리장치(100)로 유입되어 처리가 이루어지게 된다.When the temperature of the discharge pipe flowing into the MD treatment apparatus 100 by the discharge pipe 11 is maintained within the range of 70 to 80, the treated water discharged by the discharge pipe 30, regardless of the heating means 110, And then flows into the apparatus 100 to be processed.

이를 위하여 본 발명에서는 온수공급장치를 제1, 2형태로 구분하여 그 구성이 이루어지도록 한다.To this end, the present invention divides the hot water supply device into first and second types, and the configuration is made.

여기서 도 2에 도시된 바와 같이 상기 온수공급장치의 제1형태는 배출관(30)의 내부온도를 측정하여 감지하도록 배출관(30)에 제1온도센서(120)가 취부되고, 상기 제1온도센서(120)에 의해 감지되는 배출관(30)의 내부온도에 따라 히팅수단(110)의 작동을 제어하는 제1제어수단(130)이 포함되어 구성된다.2, the first type of the hot water supply device includes a first temperature sensor 120 mounted on the discharge pipe 30 for measuring and sensing the internal temperature of the discharge pipe 30, (130) for controlling the operation of the heating means (110) according to the internal temperature of the discharge pipe (30) sensed by the heating means (120).

즉, 배출관(30)에 의해 배출되는 처리수의 온도가 제1온도센서(120)에 의해 70 ~ 80로 감지될 때에는 제1제어수단(120)이 히팅수단(110)의 작동을 차단하여 배출관(30)에 의해 배출되는 처리수를 바로 MD처리장치(100)로 유입시켜 유입된 처리수의 처리가 이루어지도록 하고, 배출관(30)에 의해 배출되는 처리수의 온도가 제1온도센서(120)에 의해 70 미만으로 감지될 때는 제1제어수단(120)을 통해 히팅수단(110)을 작동하여 처리수의 온도를 70 ~ 80로 상승시켜 MD처리장치(100)로 유입시키도록 한다.That is, when the temperature of the process water discharged by the discharge pipe 30 is detected as 70 to 80 by the first temperature sensor 120, the first control means 120 interrupts the operation of the heating means 110, The treatment water discharged by the discharge pipe 30 is directly introduced into the MD treatment apparatus 100 so that the treated water is treated and the temperature of the treatment water discharged by the discharge pipe 30 is controlled by the first temperature sensor 120 , The heating means 110 is operated through the first control means 120 so that the temperature of the treated water is increased to 70 to 80 and the treated water is introduced into the MD treatment apparatus 100.

그리고 도 3에 도시된 바와 같이 상기 온수공급장치의 제2형태는 상기 배출관(30)의 내부온도를 측정하여 감지하도록 배출관(30)에 취부되는 제2온도센서(140)와, 상기 배출관(30)에 연결되는 이형배관(150) 및 상기 이형배관(150) 중 각각의 배관의 개폐를 각각 담당하는 제1, 2밸브(151, 152)와, 상기 제2온도센서(140)에서 감지되는 온도를 기반으로 상기 제1, 2밸브(151, 152)를 제어하는 제2제어수단(160)과, 상기 이형배관(150) 중 제1밸브(151)에 의해 개폐가 이루어지는 배관과 연결되어 이형배관(150)으로 배출된 처리수가 히팅수단(110)을 거치지않고 바로 MD처리장치(100)로 배출하는 제1공급배관(170)과, 상기 이형배관(150) 중 제2밸브(152)에 의해 개폐가 이루어지는 배관과 연결되어 이형배관(150)으로 배출된 처리수가 히팅수단(110)으로 배출하는 제2공급배관(180)이 포함되어 구성된다.3, the second type of hot water supply device includes a second temperature sensor 140 attached to the discharge pipe 30 to measure and detect the internal temperature of the discharge pipe 30, First and second valves 151 and 152 for respectively opening and closing the pipes of the flexible pipe 150 and the flexible pipe 150 connected to the first temperature sensor 140 and the second temperature sensor 140, A second control means 160 for controlling the first and second valves 151 and 152 on the basis of the first valve 151 and the second control means 160 connected to the piping opened and closed by the first valve 151 of the modified piping 150, A first supply pipe 170 for discharging the process water discharged to the MD treatment apparatus 150 to the MD treatment apparatus 100 without passing through the heating means 110 and a second supply pipe 170 And a second supply pipe 180 connected to the pipe for opening and closing and discharging the process water discharged to the mold release pipe 150 to the heating means 110 .

즉, 배출관(30)에 의해 배출되는 처리수의 온도가 제2온도센서(140)에 의해 70 ~ 80로 감지될 때에는 제2제어수단(160)을 통해 제2밸브(152)를 차단하면서 제1밸브(151)를 개방하여 배출관(30)에서 배출관 처리수가 MD처리장치(100)로 유입되도록 한다.That is, when the temperature of the process water discharged by the discharge pipe 30 is detected as 70 to 80 by the second temperature sensor 140, the second valve 152 is blocked through the second control means 160, 1 valve 151 is opened to allow the discharge pipe treatment water to flow into the MD treatment apparatus 100 through the discharge pipe 30.

또한 배출관(30)에 의해 배출되는 처리수의 온도가 제2온도센서(140)에 의해 70 미만으로 감지될 때에는 제2제어수단(160)을 통해 제2밸브(152)를 개방하면서 제1밸브(151)를 차단하여 배출관(30)에서 배출관 처리수가 히팅수단(110)을 작동하여 처리수의 온도를 70 ~ 80로 상승시켜 MD처리장치(100)로 유입시키도록 한다.When the temperature of the process water discharged by the discharge pipe 30 is detected by the second temperature sensor 140 to be less than 70, the second valve 152 is opened through the second control means 160, The heat pipe 151 is shut off and the discharge pipe treatment water is discharged from the discharge pipe 30 by operating the heating means 110 so that the temperature of the treated water is increased to 70 to 80 and introduced into the MD treatment device 100.

따라서 상기 온수공급장치의 제1, 2형태로 인하여 히팅수단(110)의 계속적인 작동을 차단하면서도 배출관(30)에 의해 배출되는 처리수를 바로 사용할 수 있도록 하여 효율성을 향상시키는 효과를 가지게 되는 것이다.Therefore, the first and second modes of the hot water supply device can prevent the continuous operation of the heating means 110 and enable the process water discharged by the discharge pipe 30 to be used immediately, thereby improving the efficiency .

또한 도면에서 도시하지 않았지만 히팅수단(110)에 의해 배출관(30)에서 배출되는 처리수의 온도가 70 ~ 80로 이루어지면 제1제어수단(120) 및 제2제어수단(160)이 히팅수단(110)의 작동을 정지시키는 것은 당업자라면 누구나 알 수 있는 자명한 기술이라 할 것이다.If the temperature of the process water discharged from the discharge pipe 30 by the heating means 110 is 70 to 80, the first control means 120 and the second control means 160 may be connected to the heating means 110 will be referred to as a self-evident technique known to those skilled in the art.

10 : 본체 20 : 공급관
30 : 배출관 40 : 연결관
50 : 전극
100 : MD처리장치 110 : 히팅수단
120 : 제1온도센서 130 : 제1제어수단
140 : 제2온도센서 150 : 이형배관
151 : 제1밸브 152 : 제2밸브
160 : 제2제어수단 170 : 제1공급배관
180 : 제2공급배관10: main body 20: supply pipe
30: discharge pipe 40: connection pipe
50: Electrode
100: MD processing device 110: Heating means
120: first temperature sensor 130: first control means
140: second temperature sensor 150: deformed pipe
151: first valve 152: second valve
160: second control means 170: first supply pipe
180: second supply pipe

Claims (3)

오염수가 저장되는 저수조, 미생물의 분해작용에 의해 오염수의 부산물을 제거하는 폭기조, 오염수의 슬러지를 따로 분리하는 반응조를 순차적으로 거친 오염수의 유기물이나 오염물질을 제거하는 플라즈마 발생장치를 이용하여 오염수를 처리하는 수처리 시설의 온수공급장치에 있어서,
상기 플라즈마 발생장치는 투명 아크릴 재질로 제작되어 플라즈마가 방전될 수 있도록 내부에 소정의 공간을 형성하는 본체(10); 상기 본체(10)의 상부에는 저수조, 폭기조, 반응조 중 어느 한 곳에서 배출되는 오염수를 공급받을 수 있는 공급관(20); 상기 본체(10)의 하부에는 처리된 오염수를 배출하는 배출관(30); 상기 본체(10)의 하부에는 처리가 미흡하게 이루어진 오염수를 다시 본체 내부로 인입시킬 수 있도록 공급관(20)과 연계되는 연결관(40); 균일한 분포로 분사구가 각각 형성되어 펄스발생기로부터 펄스를 인가받아 코로나 스트리머가 형성되어 본체(10) 내부에 전체적으로 플라즈마 막을 생성하는 다수의 전극(50);이 포함되고, 상기 온수공급장치는 배출관(30)에서 배출된 처리수를 공급받아 처리수가 70 ~ 80 온도로 유지되도록 가열하여 MD처리장치(100)로 배출하는 히팅수단(110)이 포함되고,.
상기 온수공급장치는 배출관(30)의 내부온도를 측정하여 감지하도록 배출관(30)에 제1온도센서(120)가 취부되고, 상기 제1온도센서(120)에 의해 감지되는 배출관(30)의 내부온도에 따라 히팅수단(110)의 작동을 제어하는 제1제어수단(130)이 포함되고,
상기 온수공급장치는 상기 배출관(30)의 내부온도를 측정하여 감지하도록 배출관(30)에 취부되는 제2온도센서(140)와, 상기 배출관(30)에 연결되는 이형배관(150) 및 상기 이형배관(150) 중 각각의 배관의 개폐를 각각 담당하는 제1, 2밸브(151, 152)와, 상기 제2온도센서(140)에서 감지되는 온도를 기반으로 상기 제1, 2밸브(151, 152)를 제어하는 제2제어수단(160)과, 상기 이형배관(150) 중 제1밸브(151)에 의해 개폐가 이루어지는 배관과 연결되어 이형배관(150)으로 배출된 처리수가 히팅수단(110)을 거치지않고 바로 MD처리장치(100)로 배출하는 제1공급배관(170)과, 상기 이형배관(150) 중 제2밸브(152)에 의해 개폐가 이루어지는 배관과 연결되어 이형배관(150)으로 배출된 처리수가 히팅수단(110)으로 배출하는 제2공급배관(180)이 포함됨을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치를 이용한 수처리 시설의 온수공급장치.Aeration tank for storing polluted water, an aeration tank for removing by-products of contaminated water by decomposing action of microorganisms, and a reaction tank for separating sludge of polluted water, A hot water supply apparatus for a water treatment facility for treating contaminated water,
The plasma generator includes a main body 10 made of a transparent acrylic material and defining a predetermined space therein so that plasma can be discharged; A supply pipe 20 capable of receiving contaminated water discharged from any one of a water storage tank, an aeration tank, and a reaction tank; A discharge pipe 30 for discharging the treated water to the lower portion of the main body 10; A connection pipe (40) connected to the supply pipe (20) so that contaminated water, which is insufficiently treated, can be drawn back into the main body (10); And a plurality of electrodes (50), each of which has an injection port formed in a uniform distribution and receives a pulse from a pulse generator to form a corona streamer to generate a plasma film as a whole in the body (10) And a heating unit (110) for receiving the treated water discharged from the heating unit (30) and heating the treated water to maintain the treated water at a temperature of 70 to 80 and discharging the treated water to the MD treatment unit (100).
The hot water supply device includes a first temperature sensor 120 attached to the discharge pipe 30 for measuring and sensing the internal temperature of the discharge pipe 30 and a discharge pipe 30 sensed by the first temperature sensor 120 A first control means 130 for controlling the operation of the heating means 110 according to the internal temperature is included,
The hot water supply device includes a second temperature sensor 140 attached to the discharge pipe 30 for measuring and sensing the internal temperature of the discharge pipe 30, a flexible pipe 150 connected to the discharge pipe 30, The first and second valves 151 and 152 serve to open and close the respective pipes of the pipe 150. The first and second valves 151 and 152 are connected to the first and second valves 151 and 152, A second control means 160 for controlling the first control valve 152 and the second control means 160 connected to the pipeline of the dispensing piping 150 opened and closed by the first valve 151 to discharge the treated water discharged to the dispensing piping 150 to the heating means 110 A first supply pipe 170 for directly discharging the molten metal to the MD processing apparatus 100 without passing through the first pipe 152 and the pipe for opening and closing by the second valve 152 of the free pipe 150, And a second supply pipe (180) for discharging the process water discharged to the heating means (110). The plasma generator Hot water supply of a water treatment facility. 삭제delete 삭제delete
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