KR101604139B1 - Organic light emitting diodde desplay device and fabricating method thereof - Google Patents

Organic light emitting diodde desplay device and fabricating method thereof Download PDF

Info

Publication number
KR101604139B1
KR101604139B1 KR1020090117014A KR20090117014A KR101604139B1 KR 101604139 B1 KR101604139 B1 KR 101604139B1 KR 1020090117014 A KR1020090117014 A KR 1020090117014A KR 20090117014 A KR20090117014 A KR 20090117014A KR 101604139 B1 KR101604139 B1 KR 101604139B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
light emitting
organic light
emitting diode
diode display
layer
Prior art date
Application number
KR1020090117014A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20110060427A (en
Inventor
김민수
안병철
한창욱
배성준
오석준
Original Assignee
엘지디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지디스플레이 주식회사 filed Critical 엘지디스플레이 주식회사
Priority to KR1020090117014A priority Critical patent/KR101604139B1/en
Publication of KR20110060427A publication Critical patent/KR20110060427A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101604139B1 publication Critical patent/KR101604139B1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/80Constructional details
    • H10K50/84Passivation; Containers; Encapsulations
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00Electroluminescent light sources
    • H05B33/02Details
    • H05B33/04Sealing arrangements, e.g. against humidity
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/121Active-matrix OLED [AMOLED] displays characterised by the geometry or disposition of pixel elements
    • H10K59/1213Active-matrix OLED [AMOLED] displays characterised by the geometry or disposition of pixel elements the pixel elements being TFTs

Abstract

본 발명은 유기발광다이오드 표시소자를 외부의 습기 침투로부터 보호하기 위한 봉지 방법 및 그 방법에 의한 유기발광다이오드 표시장치에 관련된 것이다. 본 발명에 의한 유기발광다이오드 표시장치는기판 상에 형성된 유기발광다이오드 표시소자와; 상기 유기발광다이오드 표시소자의 상부 및 측부와 밀착하여 덮는 금속 밀봉층을 포함한다. 또한, 본 발명에 의한 유기발광다이오드 표시장치의 제조방법은 기판 위에 유기발광다이오드 표시소자를 형성하는 단계와; 상기 유기발광다이오드 표시소자의 상부면 및 측면을 모두 포괄하여 덮도록 메탈 페이스트를 도포하는 단계와; 상기 메탈 페이스트를 가열하는 단계를 포함한다. 본 발명에 의한 유기발광다이오드 표시장치 와 그 제조방법은 저렴한 비용과 단순한 공정으로 외부로부터의 수분 및 산소의 침투를 완전히 차단하여 수명 저하를 줄이고 소자의 신뢰성을 높일 수 있다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a sealing method for protecting an organic light emitting diode display element from external moisture penetration and an organic light emitting diode display device by the method. An organic light emitting diode display device according to the present invention includes: an organic light emitting diode display device formed on a substrate; And a metal sealing layer for covering the top and sides of the organic light emitting diode display element in close contact with each other. According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing an organic light emitting diode display device, including: forming an organic light emitting diode display device on a substrate; Applying a metal paste so as to cover both the top surface and the side surface of the organic light emitting diode display element; And heating the metal paste. INDUSTRIAL APPLICABILITY The organic light emitting diode display device and the method of manufacturing the same according to the present invention can completely prevent penetration of moisture and oxygen from the outside by a low cost and simple process, thereby reducing lifetime degradation and reliability of the device.

Description

유기발광다이오드 표시장치와 그 제조방법{ORGANIC LIGHT EMITTING DIODDE DESPLAY DEVICE AND FABRICATING METHOD THEREOF}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to an organic light emitting diode (OLED) display device and a method of manufacturing the same,

본 발명은 유기발광다이오드 표시장치와 그 제조방법에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 유기발광다이오드 표시소자를 외부의 습기 침투로부터 보호하기 위한 봉지 방법 및 그 방법에 의한 유기발광다이오드 표시장치에 관련된 것이다.The present invention relates to an organic light emitting diode display and a method of manufacturing the same. In particular, the present invention relates to a sealing method for protecting an organic light emitting diode display element from external moisture penetration and an organic light emitting diode display device by the method.

최근, 음극선관(Cathode Ray Tube)의 단점인 무게와 부피를 줄일 수 있는 각종 평판 표시장치들이 개발되고 있다. 이러한 평판 표시장치에는 액정 표시장치(Liquid Crystal Display, LCD), 전계 방출 표시장치(Field Emission Display, FED), 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel, PDP) 및 전계발광장치(Electroluminescence Device, EL) 등이 있다. 2. Description of the Related Art Recently, various flat panel display devices capable of reducing weight and volume, which are disadvantages of cathode ray tubes (CRTs), have been developed. Such flat panel display devices include a liquid crystal display (LCD), a field emission display (FED), a plasma display panel (PDP), and an electroluminescence device (EL) have.

전계발광장치는 발광층의 재료에 따라 무기 전계발광장치와 유기발광다이오드장치로 대별되며 스스로 발광하는 자발광소자를 사용하여 응답속도가 빠르고 발광효율, 휘도 및 시야각이 큰 장점이 있다. 유기발광다이오드 표시장치는 도 1과 같은 유기발광다이오드(Organic Light Emitting Diod: OLED)를 가진다. The electroluminescent device is divided into an inorganic electroluminescent device and an organic light emitting diode device depending on the material of the light emitting layer, and has a self-luminous self-luminous device, which has a high response speed and high luminous efficiency, luminance and viewing angle. The organic light emitting diode display device has an organic light emitting diode (OLED) as shown in FIG.

OLED는 도 1과 같이 전계발광하는 유기 전계발광 화합물층과, 유기 전계발광 화합물층을 사이에 두고 대향하는 캐소드 전극(Cathode) 및 애노드 전극(Anode)을 포함한다. 유기 전계발광 화합물층은 정공주입층(Hole injection layer, HIL), 정공수송층(Hole transport layer, HTL), 발광층(Emission layer, EML), 전자수송층(Electron transport layer, ETL) 및 전자주입층(Electron injection layer, EIL)을 포함한다. OLED는 캐소드전극과 음극에 주입된 정공과 전자가 발광층(EML)에서 재결합할 때의 여기 과정에서 여기자(excition)가 형성되고 여기자로부터의 에너지로 인하여 발광한다.The OLED includes an organic electroluminescent compound layer that emits electroluminescence and a cathode electrode and an anode that face each other with the organic electroluminescent compound layer interposed therebetween, as shown in FIG. The organic electroluminescent compound layer includes a hole injection layer (HIL), a hole transport layer (HTL), an emission layer (EML), an electron transport layer (ETL), and an electron injection layer layer, EIL). The OLED emits electrons due to the energy generated from the excitons and excitons formed in the excitation process when the holes and electrons injected into the cathode and the cathode are recombined in the emission layer (EML).

유기발광다이오드 표시장치의 주요 구성요소인 OLED를 형성하는 유기 전계발광 화합물층(EL)은 수분이나 산소에 쉽게 열화된다. 따라서, 유기발광다이오드 표시장치는 도 2에 도시한 것과 같은 봉지구조를 갖는다. 도 2는 종래 기술에 의한 봉지구조를 갖는 유기발광다이오드 표시장치를 나타내는 단면도이다.The organic electroluminescent compound layer (EL) forming the OLED which is a main component of the organic light emitting diode display device is easily deteriorated by moisture or oxygen. Therefore, the organic light emitting diode display device has a sealing structure as shown in Fig. 2 is a cross-sectional view illustrating an organic light emitting diode display device having a sealing structure according to the related art.

기판(SUB) 위에 EL층을 포함하는 유기발광다이오드 층 (OLEDL)이 형성되어 있다. 유기발광다이오드 층(OLEDL)는 주로 기판(SUB)의 중심부에 형성되고, 주변부에는 유기발광다이오드 표시장치를 구동하는 외부의 장치로부터 전기적 신호를 주고 받기 위한 패드부(PAD)가 형성된다. 패드부(PAD)와의 경계부분에 자외선 경화 레진 물질을 포함하는 실재(SEAL)를 이용하여 봉지용 유리기판(ENCAP)을 부착하여 유기발광다이오드 층(OLEDL)을 외부로부터의 수분 및 산소 침투를 보호한다. 그리고, UV 실링재(SEAL) 만으로는 외부로부터의 수분 침투를 효과적으로 방어할 수 없으므로, 침투하는 수분과 산소를 흡수하기 위한 흡습재(GET)를 봉지 유리기판(ENCAP)의 중앙부에 부착하여, 유기발광다이오드 층(OLEDL)의 상부에 배치한다.An organic light emitting diode layer OLEDL including an EL layer is formed on a substrate SUB. The organic light emitting diode OLEDL is formed mainly in the central portion of the substrate SUB and a pad portion PAD for transmitting and receiving electric signals from an external device driving the organic light emitting diode display device is formed in the peripheral portion. The sealing glass substrate ENCAP is attached to the boundary portion with the pad portion PAD using the sealant SEAL containing the ultraviolet hardening resin material to protect the organic light emitting diode layer OLEDL from moisture and oxygen penetration from the outside do. Since moisture permeation from the outside can not be effectively prevented by using only the UV sealing material SEAL, a moisture absorptive material (GET) for absorbing moisture and oxygen permeating is attached to the central part of the sealing glass substrate ENCAP, Layer OLEDL.

이와 같은 봉지구조를 갖는 유기발광다이오드 표시장치는 봉지 유리기판(ENCAP) 및 흡습재(GET)을 구비하고, 밀봉재(SEAL)을 이용한 밀봉 공정이 필요하므로 비용이 많이 소요되는 문제가 있다. 또한, 유기발광다이오드 층(OLEDL)이 형성된 부분이 비어 있는 구조를 갖기 때문에, 대면적 표시장치를 제조할 경우 봉지 유리기판(ENCAP)이 수평상태를 유지하지 못하고 휘어서 표시소자에 영향을 줄 수 있다.Such an organic light emitting diode display device having an encapsulation structure includes a sealing glass substrate (ENCAP) and a moisture absorbing material (GET), and a sealing process using a sealing material (SEAL) is required. In addition, since the portion where the organic light emitting diode layer OLEDL is formed has an empty structure, when the large-area display device is manufactured, the sealing glass substrate ENCAP can not maintain the horizontal state, .

따라서, 비용이 많이 소요되고, 수분 및 산소 방지 효과가 높지 않으며, 대면적 표시장치에 적합하지 않은 종래의 봉지 구조를 대체할 수 있는 봉지 방법 및 봉지 구조가 절실하게 요구되고 있다.Therefore, a sealing method and an encapsulation structure which are expensive and which do not have high moisture and oxygen-preventing effects and can replace a conventional encapsulation structure which is not suitable for a large-area display device are desperately required.

본 발명의 목적은 상기 종래 기술의 문제점들을 해결하고자 안출 된 발명으로써 유기 전계발광 화합물층에 악영향을 주는 수분 및 산소침투를 완전히 차단하고, 봉지 방법 및 봉지 구조가 간단한 유기발광다이오드 표시소자와 그 제조방법을 제공하는데 있다. SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide an organic light emitting diode display device which completely blocks moisture and oxygen penetration which adversely affect an organic electroluminescent compound layer and which has a simple sealing and sealing structure, .

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 의한 유기발광다이오드 표시장치는기판 상에 형성된 유기발광다이오드 표시소자와; 상기 유기발광다이오드 표시소자의 상부 및 측부와 밀착하여 덮는 금속 밀봉층을 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided an organic light emitting diode display device including: an organic light emitting diode display device formed on a substrate; And a metal sealing layer for covering the top and sides of the organic light emitting diode display element in close contact with each other.

상기 금속 밀봉층은 융점이 150℃ 이하인 것을 특징으로 한다.And the metal sealing layer has a melting point of 150 캜 or less.

상기 금속 밀봉층은 인듐 및 비스무스 중 선택한 어느 한 주 금속물질과; 주석 및 은 중 선택한 어느 한 부 금속물질을 혼합한 것을 특징으로 한다.Wherein the metal sealing layer is made of one selected from indium and bismuth; Tin and silver are mixed with each other.

상기 유기발광다이오드 표시소자와 상기 금속 밀봉층 사이에 버퍼 금속층을 더 포함한다.And a buffer metal layer between the organic light emitting diode display element and the metal sealing layer.

상기 버퍼 금속층은 구리(Cu), 알루미늄(Al), 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr), 티타늄(Ti) 및 금(Au) 중에서 적어도 어느 하나를 포함한다.The buffer metal layer may include at least one of copper (Cu), aluminum (Al), molybdenum (Mo), chromium (Cr), titanium (Ti), and gold (Au).

상기 유기발광다이오드 표시소자는, 화소 영역을 정의하는 데이터 라인 및 스캔 라인과; 상기 데이터 라인과 스캔 라인에 연결된 스위칭 TFT와; 상기 스위칭 TFT의 드레인 전극과 연결된 구동 TFT와; 상기 구동 TFT의 소스 전극에 연결된 구동전류공급배선과; 상기 구동 TFT의 드레인 전극에 연결된 애노드 전극과; 상기 애노드 전극 위에 형성된 유기층과; 상기 유기층 위에 형성된 캐소드 전극을 포함한다.The organic light emitting diode display device includes: a data line and a scan line defining a pixel region; A switching TFT connected to the data line and the scan line; A driving TFT connected to a drain electrode of the switching TFT; A driving current supply wiring connected to a source electrode of the driving TFT; An anode electrode connected to a drain electrode of the driving TFT; An organic layer formed on the anode electrode; And a cathode electrode formed on the organic layer.

또한, 본 발명에 의한 유기발광다이오드 표시장치의 제조방법은 기판 위에 유기발광다이오드 표시소자를 형성하는 단계와; 상기 유기발광다이오드 표시소자의 상부면 및 측면을 모두 포괄하여 덮도록 메탈 페이스트를 도포하는 단계와; 상기 메탈 페이스트를 가열하는 단계를 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing an organic light emitting diode display device, including: forming an organic light emitting diode display device on a substrate; Applying a metal paste so as to cover both the top surface and the side surface of the organic light emitting diode display element; And heating the metal paste.

상기 가열하는 단계는 150℃ 이하의 열로 상기 메탈 페이스트를 가열하는 것을 특징으로 한다.The heating step is characterized in that the metal paste is heated with a heat of 150 DEG C or less.

상기 메탈 페이스트는 인듐 및 비스무스 중 선택한 어느 한 주 금속물질과; 주석 및 은 중 선택한 어느 한 부 금속물질을 혼합한 것을 특징으로 한다.Wherein the metal paste comprises one selected from the group consisting of indium and bismuth; Tin and silver are mixed with each other.

상기 유기발광다이오드 표시소자를 형성한 후 그리고 상기 메탈 페이스트를 도포하기 전에 상기 유기발광다이오드 표시소자 위에 버퍼 금속층을 도포하는 단계를 더 포함한다.The method further includes applying a buffer metal layer on the organic light emitting diode display element after forming the organic light emitting diode display element and before applying the metal paste.

상기 버퍼 금속층은 구리(Cu), 알루미늄(Al), 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr), 티타늄(Ti) 및 금(Au) 중에서 적어도 어느 하나를 포함한다.The buffer metal layer may include at least one of copper (Cu), aluminum (Al), molybdenum (Mo), chromium (Cr), titanium (Ti), and gold (Au).

본 발명에 의한 유기발광다이오드 표시장치는 유기발광다이오드 표시소자의 상부와 측면부를 금속 밀봉층으로 밀착함으로써 외부로 부터의 수분 및 산소 유입을 완전히 차단하는 효과를 얻을 수 있다. 메탈 페이스트를 도포한 후 가열 공정으로 금속 밀봉층으로 유기발광다이오드 소자를 밀봉하기 때문에, 공정이 단순하고 비용이 저렴하다. 따라서, 본 발명에 의한 유기발광다이오드 표시장치 와 그 제조방법은 저렴한 비용과 단순한 공정으로 외부로부터의 수분 및 산소의 침투를 완전히 차단하여 수명 저하를 줄이고 소자의 신뢰성을 높일 수 있다. The organic light emitting diode display device according to the present invention can achieve an effect of completely blocking the inflow of moisture and oxygen from the outside by adhering the upper and side portions of the organic light emitting diode display device to the metal sealing layer. Since the organic light emitting diode device is sealed with the metal sealing layer by the heating process after the metal paste is applied, the process is simple and the cost is low. Therefore, the organic light emitting diode display device and the method of manufacturing the same according to the present invention can completely prevent penetration of moisture and oxygen from the outside with low cost and simple process, thereby reducing lifetime degradation and reliability of the device.

이하, 도 3 내지 도 5를 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 설 명하기로 한다. 도 3은 본 발명에 의한 유기발광다이오드 표시소자를 나타내는 평면도이다. 도 4는 도 3의 절취선 I-I'으로 자른 유기발광다이오드 표시소자를 나타내는 단면도이다. 도 5a 내지 5c는 본 발명에 의한 유기발광다이오드 표시소자를 제조하는 방법을 나타내는 단면도들이다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 3 to 5. FIG. 3 is a plan view showing an organic light emitting diode display device according to the present invention. FIG. 4 is a cross-sectional view showing an organic light emitting diode display element cut along a perforated line I-I 'in FIG. 5A to 5C are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing an organic light emitting diode display device according to the present invention.

도 3 및 4를 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 유기발광다이오드 표시소자는 기판(SUBP) 위에 형성된 화소 영역을 정의하는 데이터 라인(DL)과 스캔 라인(SL), 상기 데이터 라인(DL)과 스캔 라인(SL)과 연결된 스위칭 TFT(SWTFT), 상기 스위칭 TFT(SWTFT)와 연결된 구동 TFT(DRTFT), 구동 TFT(DRTFT)와 연결된 유기발광다이오드(OLED), 및 TFT들(SWTFT, DRTFT)과 유기발광다이오드(OLED)를 덮는 금속 밀봉층(MENCAP)을 포함한다.3 and 4, an organic light emitting diode display device according to an embodiment of the present invention includes a data line DL and a scan line SL defining a pixel region formed on a substrate SUBP, a data line DL, A switching TFT SWTFT connected to the scan line SL, a driving TFT DRTFT connected to the switching TFT SWTFT, an organic light emitting diode OLED connected to the driving TFT DRTFT, and TFTs SWTFT and DRTFT. And a metal sealing layer (MENCAP) covering the organic light emitting diode (OLED).

이하, 도 5a 내지 5c를 더 참조하여, 본 발명의 실시 예에 따른 유기발광다이오드 표시소자를 제조하는 방법을 상세히 살펴본다.Hereinafter, a method of manufacturing an organic light emitting diode display device according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 5A to 5C.

먼저, 도 5a와 같이 기판(SUB) 위에 유기발광다이오드 표시소자를 형성한다. 기판(SUB) 위에 스캔 라인(SL), 스캔 라인(SL)의 일측 단부에 형성된 게이트 패드(GPAD), 스캔 라인(SL)에서 분기된 스위칭 TFT(SWTFT)의 게이트 전극(GSW), 그리고 구동 TFT(DRTFT)의 게이트 전극(GDR)을 형성한다. 상기 게이트 물질들(SL, GPAD, GSW, GDR)을 덮는 게이트 절연막(GI)를 도포한다. 상기 스위칭 TFT(SWTFT)의 게이트 전극(GSW) 및 구동 TFT(DRTFT)의 게이트 전극(GDR)과 중첩되는 부분의 게이트 절연막(GI) 위에 각각 스위칭 TFT(SWTFT)의 반도체 층(ACTSW)와 구동 TFT(DRTFT)의 반도체 층(ACTDR)을 형성한다. 상기 각 반도체 층(ACTSW, ACTDR) 양 측에는 서로 이격된 위에는 스위칭 TFT(SWTFT)의 소스 전극(SSW)와 드레인 전극(DSW) 그리고, 구동 TFT(DRTFT)의 소스 전극(SDR)와 드레인 전극(DDR)을 형성한다. 상기 구동 TFT(DRTFT)의 소스 전극(SDR)은 데이터 라인(DL)과 나란하게 진행하는 구동전류배선(VDD)의 일부가 되도록 형성한다. 이 때, 도면에 도시하지는 않았으나, 스위칭 TFT(SWTFT)의 드레인 전극(DSW)는 게이트 절연막(GT)에 형성된 콘택홀을 통해 구동 (DRTFT)의 게이트 전극(GDR)과 접촉시킨다. 상기 각 소스-드레인 전극들(SSW, DSW, SDR, DDR)이 형성된 기판(SUB) 전면에 보호막(PASSI)를 도포한다. 그리고, 게이트 패드(GPAD) 및 구동 TFT의 드레인 전극(DDR)의 일부를 노출시키는 콘택홀들을 형성한다. 상기 보호막(PASSI) 위에 화소를 정의하는 애노드 전극(ANO)을 형성한다. 애노드 전극(ANO)은 콘택홀을 통해 구동 TFT의 드레인 전극(DDR)과 접촉한다. 그리고, 게이트 패드(GPAD) 위에도 게이트 패드 전극(GPADE)를 형성한다. 상기 TFT들(SWTFT, DRTFT) 및 각 배선들(DL, SL, VDD)이 형성된 부분의 보호막(PASSI) 및 애노드 전극(ANO) 위에 뱅크패턴(BANK)을 형성하여 화소 영역을 정의한다. 상기 화소 영역 내의 노출된 애노드 전극(ANO) 위에 유기층(EL) 및 캐소드 전극(CAT)을 형성한다. 도 5a에서는 뱅크패턴(BANK)에 의해 정의된 화소 영역 내에만 유기층(EL) 및 캐소드 전극(CAT)이 형성된 것으로 묘사했으나, 유기층(EL) 및 캐소드 전극(CAT)들은 뱅크패턴(BANK)과 애노드 전극(ANO) 위를 모두 덮도록 형성할 수도 있다.First, an organic light emitting diode display device is formed on a substrate SUB as shown in FIG. 5A. A scan line SL formed on the substrate SUB, a gate pad GPAD formed at one end of the scan line SL, a gate electrode GSW of the switching TFT SWTFT branched from the scan line SL, Thereby forming a gate electrode GDR of the gate electrode DRTFT. A gate insulating film GI covering the gate materials SL, GPAD, GSW and GDR is applied. The semiconductor layer ACTSW of the switching TFT SWTFT and the gate electrode GDR of the driving TFT DRTFT are formed on the gate insulating film GI that overlaps with the gate electrode GSW of the switching TFT SWTFT and the gate electrode GDR of the driving TFT DRTFT, (DRTFT) semiconductor layer (ACTDR). A source electrode SSW and a drain electrode DSW of a switching TFT SWTFT and a source electrode SDR and a drain electrode DDR of a driving TFT DRTFT are formed on both sides of the semiconductor layers ACTSW and ACTDR, ). The source electrode SDR of the driving TFT DRTFT is formed to be a part of the driving current wiring VDD which advances in parallel with the data line DL. Although not shown in the figure, the drain electrode DSW of the switching TFT SWTFT is in contact with the gate electrode GDR of the driving TFT DRTFT through a contact hole formed in the gate insulating film GT. A passivation layer PASSI is formed on the entire surface of the substrate SUB on which the source-drain electrodes SSW, DSW, SDR, and DDR are formed. Then, contact holes are formed to expose a part of the gate electrode GPAD and the drain electrode DDR of the driving TFT. An anode electrode (ANO) defining a pixel is formed on the passivation layer (PASSI). The anode electrode ANO contacts the drain electrode DDR of the driving TFT through the contact hole. A gate pad electrode GPADE is also formed on the gate pad GPAD. A pixel region is defined by forming a bank pattern BANK on a protective film PASSI and an anode electrode ANO of the portion where the TFTs SWTFT and DRTFT and the respective lines DL, SL and VDD are formed. An organic layer EL and a cathode electrode CAT are formed on the exposed anode electrode ANO in the pixel region. 5A, the organic layer EL and the cathode electrode CAT are depicted as being formed only in the pixel region defined by the bank pattern BANK. However, the organic layer EL and the cathode electrode CAT may be formed by using the bank pattern BANK, It may be formed so as to cover all over the electrode ANO.

도 5a와 같이 형성된 유기발광다이오드 표시소자 위에 구리(Cu), 알루미늄(Al), 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr), 티타늄(Ti) 혹은 금(Au)과 같은 버퍼 금속 층(BUFF)을 형성한다. 이 때, 상기 버퍼 금속층(BUFF)는 유기발광다이오드 표시소자 상부 뿐 아니라 측면에도 도포되도록 형성하는 것이 필요하다. 이 버퍼 금속층(BUFF)는, 이후에 형성될 금속 밀봉층(MENCAP)의 주성분인 저온 금속재질의 접촉성을 높이기 위한 금속층이다. (도 5b)A buffer metal layer BUFF such as copper (Cu), aluminum (Al), molybdenum (Mo), chromium (Cr), titanium (Ti) or gold (Au) is formed on the organic light emitting diode display element formed as shown in FIG. do. At this time, it is necessary that the buffer metal layer BUFF is formed so as to be applied not only to the top of the organic light emitting diode display device but also to the side surface thereof. This buffer metal layer BUFF is a metal layer for enhancing the contact property of a low-temperature metal material which is a main component of a metal sealing layer (MENCAP) to be formed later. (Fig. 5B)

그리고, 상기 버퍼 금속층(BUFF) 위에 저온 금속 분말과 송진과 같은 페이스트 재를 혼합한 메탈 페이스트(MP)를 기판(SUB) 위의 버퍼 금속층(BUFF) 전면에 도포한다. 메탈 페이스트(MP)를 구성하는 저온 금속 분말은 융점이 150℃를 갖는 저융점 금속물질을 분말형태로 만든 것이 바람직하다. 메탈 페이스트(MP)의 금속 분말은 인듐 혹은 비스무스와 같은 주 금속물질과, 주석 혹은 은과 같은 부 금속물질을 포함할 수 있다. 또한, 메탈 페이스트(MP)는 저융점 금속물질과 송진과 같은 플럭스(Flux) 물질의 비율이 약 9:1의 비율로 혼합된 것일 수 있다. 메탈 페이스트(MP)는 디스펜싱(Dispensing) 공법, 스크린 프린팅(Screen Printing) 공법, 혹은 슬릿 코팅(Slit Coating) 공법 등을 사용하여 도포한다. (도 5c)A metal paste (MP) obtained by mixing paste materials such as low temperature metal powder and rosin on the buffer metal layer BUFF is applied to the entire surface of the buffer metal layer BUFF on the substrate SUB. The low-temperature metal powder constituting the metal paste (MP) preferably has a low melting point metal material having a melting point of 150 캜 in powder form. The metal powder of the metal paste (MP) may include a main metal material such as indium or bismuth and a sub-metallic material such as tin or silver. Also, the metal paste (MP) may be a mixture of a low melting point metal material and a flux material such as rosin at a ratio of about 9: 1. The metal paste (MP) is applied by using a dispensing method, a screen printing method, or a slit coating method. (Fig. 5C)

그리고, 상기 메탈 페이스트(MP)에 150℃ 정도의 온도를 가한다. 그러면, 메탈 페이스트(MP)를 구성하는 저융점 금속이 녹아 페이스트 물질과 분리되어, 하부에 있는 버퍼 금속층(Buff)과 결합함으로써 금속 밀봉층(MENCAP)을 형성한다. 이 때, 메탈 페이스트를 가열하는 방법으로는, 기판(SUB) 전체에 열을 가하는 핫 플레이트(Hot Plate) 공법 혹은 고온의 열풍을 메탈 페이스트로 유도하는 열풍기 공법을 사용할 수 있다. (도 4)Then, a temperature of about 150 DEG C is applied to the metal paste (MP). Then, the low-melting metal constituting the metal paste (MP) is melted and separated from the paste material, and the metal sealing layer (MENCAP) is formed by bonding with the buffer metal layer (Buff) at the bottom. At this time, as a method of heating the metal paste, a hot plate method for applying heat to the entire substrate SUB, or a hot air blowing method for inducing hot air to a hot paste can be used. (Figure 4)

여기서, 금속 밀봉층(MENCAP)은 유기발광다이오드 표시소자의 상부면 뿐만아 니라 측면부까지도 모두 밀봉하듯이 덮는다. 다만, 게이트 패드 전극(GPADE)와 같은 패드 부분은 노출할 수 있도록 메탈 페이스트의 도포 영역을 설정하여야 한다. 도면에서는 게이트 패드(GPAD) 및 게이트 패드 전극(GPADE)만을 도시하였으나, 데이터 라인(DL)의 단부에는 데이터 패드 및 데이터 패드 전극이 형성될 수 있다. 따라서, 여기서 패드 부분은 유기발광다이오드 표시소자를 구성하기 위한 모든 패드들을 포함한다.Here, the metal sealing layer (MENCAP) covers not only the upper surface but also the side surface of the organic light emitting diode display element in a sealed manner. However, the application area of the metal paste should be set so that the pad portion such as the gate pad electrode (GPADE) can be exposed. Although only the gate pad GPAD and the gate pad electrode GPADE are shown in the drawing, a data pad and a data pad electrode may be formed at an end of the data line DL. Thus, the pad portion here includes all the pads for constituting the organic light emitting diode display element.

본 발명의 실시 예에서는 메탈 페이스트로 금속 밀봉층(MENCAP)을 형성하기 전에, 버퍼 금속층(BUFF)를 형성하는 것을 설명하였으나, 버퍼 금속층(BUFF)를 형성하는 과정을 생략하여도 무방하다. 특히, 캐소드 전극(CAT)를 뱅크패턴(BANK)과 유기층(EL) 위에 모두 형성할 경우, 그리고 캐소드 전극(CAT)를 상기 버퍼 금속층(BUFF) 물질을 포함하여 형성할 경우에는 굳이 버퍼 금속층(BUFF)를 추가로 도포할 필요가 없을 수 있다. 예를 들어, 캐소드 전극(CAT)를 알루미늄(Al), 티타늄(Ti), 몰리브덴(Mo) 혹은 크롬(Cr)을 포함하는 합금을 사용하고, 뱅크패턴(BANK) 및 유기층(EL)의 상부면 뿐만아니로, 뱅크패턴(BANK)의 측면까지도 덮을 수 있도록 형성한 경우에는 버퍼 금속층(BUFF)를 도포하는 단계를 생략할 수도 있다.In the embodiment of the present invention, the buffer metal layer BUFF is formed before the metal seal layer (MENCAP) is formed with the metal paste. However, the process of forming the buffer metal layer BUFF may be omitted. Particularly, when the cathode electrode CAT is formed on both the bank pattern BANK and the organic layer EL and when the cathode electrode CAT is formed to include the buffer metal layer BUFF material, ) May not need to be applied. For example, when the cathode electrode (CAT) is made of an alloy containing aluminum (Al), titanium (Ti), molybdenum (Mo) or chromium (Cr), and the bank pattern (BANK) In addition, when the bank pattern BANK is formed so as to cover the side surface of the bank pattern BANK, the step of applying the buffer metal layer BUFF may be omitted.

상술한 실시 예에서는 금속 밀봉층(MENCAP)가 표시소자의 상층부를 거의 모두 덮고 있으므로, 본 실시 예에 의한 유기발광다이오드 표시장치는 아래에 있는 기판(SUBP)을 통해 화상을 표시하는 하부 발광(Bottom Emission) 구조를 갖는 표시장치에 적용되는 것이다. 도 4 내지 5에서 화살표는 유기발광다이오드(OLED)의 발 광 방향을 나타낸다. 따라서, 본 발명은 전술한 실시 예에 국한되는 것이 아니라 하부 발광 구조를 갖는 유기발광 표시소자에는 모두 적용할 수 있는 밀봉 방법이다. Since the metal sealing layer (MENCAP) covers almost all of the upper surface of the display element in the above-described embodiment, the organic light emitting diode display according to the present embodiment has a bottom emission (Bottom Emission) structure. The arrows in Figs. 4 to 5 indicate the emitting direction of the organic light emitting diode (OLED). Therefore, the present invention is not limited to the above-described embodiments, but is a sealing method applicable to all organic light emitting display devices having a lower light emitting structure.

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위 내에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification, but should be defined by the claims.

도 1은 유기발광다이오드소자를 나타내는 도면. 1 shows an organic light emitting diode device.

도 2는 종래 기술에 의한 봉지구조를 갖는 유기발광다이아도 표시장치를 나타내는 단면도.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to an organic light-

도 3은 본 발명에 의한 유기발광다이오드 표시소자를 나타내는 평면도.3 is a plan view showing an organic light emitting diode display device according to the present invention.

도 4는 도 3의 절취선 I-I'으로 자른 유기발광다이오드 표시소자를 나타내는 단면도.FIG. 4 is a cross-sectional view showing an organic light emitting diode display element cut along a perforated line I-I 'of FIG. 3;

도 5a 내지 5c는 본 발명에 의한 유기발광다이오드 표시소자를 제조하는 방법을 나타내는 단면도들이다.5A to 5C are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing an organic light emitting diode display device according to the present invention.

〈도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명〉Description of the Related Art

HIL : 정공주입층 HTL: 정공수송층HIL: Hole injection layer HTL: Hole transport layer

EML : 발광층 ETL : 전자수송층EML: light emitting layer ETL: electron transporting layer

EIL : 전자주입층 BANK : 뱅크패턴EIL: electron injection layer BANK: bank pattern

OLED: 유기발광다이오드 층 PAD: 패드부OLED: organic light emitting diode layer PAD: pad portion

SUB, SUBP: 기판 SEAL: 실재SUB, SUBP: Substrate SEAL: Substance

ENCAP: 봉지용 유리기판 GET: 흡습재ENCAP: Glass substrate for sealing GET: Absorbent material

DL: 데이터 라인 SL: 과 스캔 라인DL: Data line SL: and scan line

SWTFT: 스위칭 TFT DRTFT: 구동 TFTSWTFT: switching TFT DRTFT: driving TFT

OLED: 유기발광다이오드 VDD: 구동전류 공급배선OLED: organic light emitting diode VDD: drive current supply wiring

CAT : 캐소드전극 ANO : 애노드전극CAT: cathode electrode ANO: anode electrode

EL: 유기층EL: organic layer

GSW, GDR: 게이트 전극 SSW, SDR: 소스 전극GSW, GDR: gate electrode SSW, SDR: source electrode

DSW, DDR: 드레인 전극 ACTSW, ACTDR: 반도체 층DSW, DDR: drain electrode ACTSW, ACTDR: semiconductor layer

GI: 게이트 절연막 PASSI: 보호막GI: Gate insulating film PASSI: Protective film

GPAD: 게이트 패드 GPADE: 게이트 패드 전극GPAD: Gate Pad GPADE: Gate Pad Electrode

BANK: 뱅크 패턴 BUFF: 버퍼 금속층BANK: bank pattern BUFF: buffer metal layer

MP: 메탈 페이스트 MENCAP: 금속 밀봉층MP: Metal paste MENCAP: Metal sealing layer

Claims (15)

기판 상에 형성된 유기발광다이오드 표시소자;An organic light emitting diode display element formed on a substrate; 상기 유기발광다이오드 표시소자의 상부 및 측부와 밀착하여 덮는 금속 밀봉층; 그리고A metal sealing layer which is in close contact with the top and sides of the organic light emitting diode display element; And 상기 유기발광다이오드 표시소자와 상기 금속 밀봉층 사이에 버퍼 금속층을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기발광다이오드 표시장치.And a buffer metal layer between the organic light emitting diode display element and the metal sealing layer. 제 1 항에 있어서, The method according to claim 1, 상기 금속 밀봉층은 융점이 150℃ 이하인 것을 특징으로 하는 유기발광다이오드 표시장치.Wherein the metal sealing layer has a melting point of 150 DEG C or less. 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 금속 밀봉층은 인듐 및 비스무스 중 선택한 어느 한 주 금속물질과;Wherein the metal sealing layer is made of one selected from indium and bismuth; 주석 및 은 중 선택한 어느 한 부 금속물질을 혼합한 것을 특징으로 하는유기발광다이오드 표시장치.Tin and silver are mixed with each other in the organic light emitting diode display device. 삭제delete 제 1 항에 있어서, The method according to claim 1, 상기 버퍼 금속층은 구리(Cu), 알루미늄(Al), 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr), 티타늄(Ti) 및 금(Au) 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기발광다이오드 표시장치.Wherein the buffer metal layer comprises at least one of copper, aluminum, molybdenum, chromium, titanium, and gold. 제 1 항에 있어서, The method according to claim 1, 상기 유기발광다이오드 표시소자는The organic light emitting diode display element 화소 영역을 정의하는 데이터 라인 및 스캔 라인과;A data line and a scan line defining a pixel region; 상기 데이터 라인과 스캔 라인에 연결된 스위칭 TFT와;A switching TFT connected to the data line and the scan line; 상기 스위칭 TFT의 드레인 전극과 연결된 구동 TFT와;A driving TFT connected to a drain electrode of the switching TFT; 상기 구동 TFT의 소스 전극에 연결된 구동전류공급배선과;A driving current supply wiring connected to a source electrode of the driving TFT; 상기 구동 TFT의 드레인 전극에 연결된 애노드 전극과;An anode electrode connected to a drain electrode of the driving TFT; 상기 애노드 전극 위에 형성된 유기층과;An organic layer formed on the anode electrode; 상기 유기층 위에 형성된 캐소드 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기발광다이오드 표시장치.And a cathode electrode formed on the organic layer. 제 6 항에 있어서,The method according to claim 6, 상기 유기발광다이오드 표시소자는 상기 데이터 라인 및 상기 스캔 라인의 일측 단부에 형성된 패드부를 더 포함하되;The organic light emitting diode display device may further include a pad portion formed at one end of the data line and the scan line, 상기 금속 밀봉층은 상기 패드부를 덮지 밀봉하지 않는 것을 특징으로 하는 유기발광다이오드 표시장치.Wherein the metal sealing layer does not cover and seal the pad portion. 기판 위에 유기발광다이오드 표시소자를 형성하는 단계와;Forming an organic light emitting diode display element on a substrate; 상기 유기발광다이오드 표시소자 위에 버퍼 금속층을 도포하는 단계와;Applying a buffer metal layer on the organic light emitting diode display element; 상기 버퍼 금속층을 포함하는 상기 유기발광다이오드 표시소자의 상부면 및 측면을 모두 포괄하여 덮도록 메탈 페이스트를 도포하는 단계와;Applying a metal paste to cover the upper surface and side surfaces of the organic light emitting diode display element including the buffer metal layer; 상기 메탈 페이스트를 가열하는 단계를 포함하는 유기발광다이오드 표시장치 제조 방법.And heating the metal paste. 제 8 항에 있어서,9. The method of claim 8, 상기 가열하는 단계는 150℃ 이하의 열로 상기 메탈 페이스트를 가열하는 것을 특징으로 하는 유기발광다이오드 표시장치 제조 방법.Wherein the heating step heats the metal paste with a heat of 150 DEG C or less. 제 8 항에 있어서,9. The method of claim 8, 상기 메탈 페이스트는 금속 분말과 플럭스 재를 9:1의 비율로 혼합한 것을 특징으로 하는 유기발광다이오드 표시장치 제조 방법.Wherein the metal paste is a mixture of a metal powder and a flux material at a ratio of 9: 1. 제 10 항에 있어서,11. The method of claim 10, 상기 금속 분말은 인듐 및 비스무스 중 선택한 어느 한 주 금속물질과;Wherein the metal powder is selected from indium and bismuth; 주석 및 은 중 선택한 어느 한 부 금속물질을 혼합한 것을 특징으로 하는 유기발광다이오드 표시장치 제조 방법.Tin and silver is mixed with a selected one of the metallic materials. 삭제delete 제 8 항에 있어서,9. The method of claim 8, 상기 버퍼 금속층은 구리(Cu), 알루미늄(Al), 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr), 티타늄(Ti) 및 금(Au) 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기발광다이오드 표시장치 제조 방법.Wherein the buffer metal layer comprises at least one of copper (Cu), aluminum (Al), molybdenum (Mo), chrome (Cr), titanium (Ti), and gold (Au) Way. 제 8 항에 있어서,9. The method of claim 8, 상기 유기발광다이오드 표시소자를 형성하는 단계는;Wherein forming the organic light emitting diode display element comprises: 상기 기판 위에 화소 영역을 정의한 스캔 라인, 상기 스캔 라인의 일측 단부에 게이트 패드, 상기 화소 영역 내에서 상기 스캔 라인에서 분기하는 스위칭 TFT의 게이트 전극, 그리고 구동 TFT의 게이트 전극을 형성하는 단계와;Forming a gate electrode on one side of the scan line, a gate electrode of a switching TFT branched in the scan line in the pixel region, and a gate electrode of a driving TFT; 상기 스위칭 TFT의 게이트 전극 및 상기 구동 TFT의 게이트 전극을 포함하는 상기 기판 전면에 게이트 절연막을 형성하는 단계와;Forming a gate insulating film on the entire surface of the substrate including the gate electrode of the switching TFT and the gate electrode of the driving TFT; 상기 스위칭 TFT의 게이트 전극 및 상기 구동 TFT의 게이트 전극 위의 게이트 절연막 상에 스위칭 TFT의 반도체 층과 구동 TFT의 반도체 층을 형성하는 단계와;Forming a semiconductor layer of a switching TFT and a semiconductor layer of a driving TFT on a gate insulating film of the switching TFT and a gate electrode of the driving TFT; 각 상기 스위칭 TFT의 반도체 층 및 상기 구동 TFT의 반도체 층 위에 스위칭 TFT의 소스 전극 및 드레인 전극과, 구동 TFT의 소스 전극 및 드레인 전극을 형성하는 단계와;Forming a source electrode and a drain electrode of the switching TFT and a source electrode and a drain electrode of the driving TFT on the semiconductor layer of each of the switching TFTs and the semiconductor layer of the driving TFT; 상기 스위칭 TFT의 소스 전극 및 드레인 전극, 그리고 상기 구동 TFT의 소스 전극 및 드레인 전극이 형성된 상기 기판 전면을 덮는 보호막을 형성하는 단계와;Forming a protective film covering a source electrode and a drain electrode of the switching TFT, and a front surface of the substrate on which a source electrode and a drain electrode of the driving TFT are formed; 상기 게이트 패드에 접속하는 게이트 패드 전극, 상기 구동 TFT의 드레인 전극에 접속하는 애노드 전극을 형성하는 단계와;Forming a gate pad electrode connected to the gate pad and an anode electrode connected to a drain electrode of the driving TFT; 상기 애노드 전극 위에 유기층을 형성하는 단계와;Forming an organic layer on the anode electrode; 상기 유기층 위에 캐소드 전극을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기발광다이오드 표시장치 제조 방법.And forming a cathode electrode on the organic layer. 제 14 항에 있어서,15. The method of claim 14, 상기 메탈 페이스트를 도포하는 단계에서, 상기 게이트 패드는 노출하고 상기 유기발광다이오드 표시소자를 덮도록 상기 메탈 페이스트를 도포하는 것을 특징으로 하는 유기발광다이오드 표시장치 제조 방법.Wherein the step of applying the metal paste comprises exposing the gate pad and applying the metal paste to cover the organic light emitting diode display element.
KR1020090117014A 2009-11-30 2009-11-30 Organic light emitting diodde desplay device and fabricating method thereof KR101604139B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090117014A KR101604139B1 (en) 2009-11-30 2009-11-30 Organic light emitting diodde desplay device and fabricating method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090117014A KR101604139B1 (en) 2009-11-30 2009-11-30 Organic light emitting diodde desplay device and fabricating method thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20110060427A KR20110060427A (en) 2011-06-08
KR101604139B1 true KR101604139B1 (en) 2016-03-17

Family

ID=44395201

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020090117014A KR101604139B1 (en) 2009-11-30 2009-11-30 Organic light emitting diodde desplay device and fabricating method thereof

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101604139B1 (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101980234B1 (en) * 2012-10-30 2019-05-21 삼성디스플레이 주식회사 Organic light emitting display device and the fabrication method thereof
KR102037871B1 (en) * 2013-06-25 2019-11-26 엘지디스플레이 주식회사 Organic light emitting diode display device
KR102096058B1 (en) * 2019-05-13 2020-04-02 삼성디스플레이 주식회사 Organic light emitting display device and the fabrication method thereof
CN110854300A (en) * 2019-11-27 2020-02-28 京东方科技集团股份有限公司 Display device, display panel and manufacturing method thereof

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005525686A (en) * 2002-05-10 2005-08-25 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ Electroluminescent panel
JP2006515716A (en) 2003-01-21 2006-06-01 シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト Sealing body for organic electronic device and method for manufacturing the sealing body

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005525686A (en) * 2002-05-10 2005-08-25 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ Electroluminescent panel
JP2006515716A (en) 2003-01-21 2006-06-01 シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト Sealing body for organic electronic device and method for manufacturing the sealing body

Also Published As

Publication number Publication date
KR20110060427A (en) 2011-06-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8120249B2 (en) Organic light emitting display and method of fabricating the same
US8038495B2 (en) Organic light-emitting display device and manufacturing method of the same
US8518727B2 (en) Method of forming encapsulation substrate for an organic light emitting diode display device
US8164257B2 (en) Organic light emitting display and method of fabricating the same
US8221178B2 (en) Method for fabricating organic electro-luminescence display device
KR100824902B1 (en) Organic light emitting display device and manufacturing method thereof
KR101212225B1 (en) Organic light emitting diode display
TWI472395B (en) Laser irradiation apparatus and method of manufacturing display device using the same
KR101603145B1 (en) Method of fabricating for dual panel type organic electro-luminescent device
US20070176554A1 (en) Organic light-emitting display device and method for fabricating the same
US8801485B2 (en) Frit sealing system and method of manufacturing organic light-emitting display (OLED) apparatus using the same
KR20080088031A (en) Display device and method of manufacturing for the same
JP2010103112A (en) Organic electroluminescent display and method for manufacturing the same
WO2019075854A1 (en) Encapsulation method and encapsulation structure for oled panel
JP2009123645A (en) Organic el display device and its manufacturing method
KR101604139B1 (en) Organic light emitting diodde desplay device and fabricating method thereof
KR100703518B1 (en) Organic light emitting display device and method of manufacturing the same
US9905796B2 (en) Display apparatus
KR102114154B1 (en) Display apparatus
KR101587097B1 (en) Method of fabricating for dual panel type organic electro-luminescent device
KR102511888B1 (en) Display device adn and manufacturing method the same
KR100287863B1 (en) Organic electroluminescence device
JP2001102167A (en) Electroluminescent display
KR100796128B1 (en) Method for manufacturing organic light emitting display device
KR100745347B1 (en) fabricating method of Organic light emitting display device

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20200219

Year of fee payment: 5