KR101603954B1 - 임프린트 장치 - Google Patents

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KR101603954B1
KR101603954B1 KR1020090051955A KR20090051955A KR101603954B1 KR 101603954 B1 KR101603954 B1 KR 101603954B1 KR 1020090051955 A KR1020090051955 A KR 1020090051955A KR 20090051955 A KR20090051955 A KR 20090051955A KR 101603954 B1 KR101603954 B1 KR 101603954B1
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박용석
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Abstract

평판표시소자용 기판 측에 각종 기능성 패턴들을 임프린트(imprint) 방식으로 간편하게 패터닝할 수 있는 임프린트 장치를 개시한다.
이러한 임프린트 장치는, 챔버를 구비한 챔버부와, 상기 챔버부 내측에 배치되며 약액층이 도포된 기판이 놓여지는 스테이지와, 상기 기판과 대응하는 면적의 임프린트면을 구비하고 이 임프린트면이 기판의 약액층과 마주하도록 상기 스테이지 위쪽에 배치되는 스템프와, 상기 임프린트면이 기판을 향하여 아래로 처지면서 구면(球面) 또는 곡면(曲面)을 이루도록 상기 스템프의 일부면을 잡아주는 홀더들로 구성되는 홀더부 그리고, 상기 홀더들이 상기 임프린트면의 처짐 상태와 대응하는 방향으로 틸팅이 이루어지도록 상기 챔버부 측에 연결 고정하는 틸팅수단을 포함한다.
Figure R1020090051955
임프린트(imprint) 작업, 스템프의 처짐, 홀더, 정전척, 작업 안전성 향상

Description

임프린트 장치{imprint apparatus}
본 발명은 스템프(stamp)를 이용하여 평판표시소자용 기판 측에 각종 기능성 패턴들을 임프린트(imprint) 방식으로 간편하게 패터닝할 수 있는 임프린트 장치에 관한 것이다.
평판표시소자용 기판 측에 각종 기능성 패턴(예: 식각 및 비식각 영역)들을 패터닝하는 방법 중에는 임프린트(imprint) 작업 방식이 널리 알려져 있다.
이러한 임프린트 작업에는 챔버 내부에 평판형의 스템프(stamp)를 구비한 임프린트 장치가 주로 사용된다.
상기 임프린트 장치의 일반적인 구조를 간략하게 설명하면, 챔버부와, 이 챔버부 내측에 배치되며 기판이 놓여지는 스테이지와, 이 스테이지 위쪽에 배치되는 스템프와, 이 스템프를 기판과 합착 가능한 상태로 잡아주는 판상의 홀더를 포함하여 이루어진다.
그리고, 상기 홀더는 진공척(Vacuum Chuck)이나 정전척(Electro Static Chuck)을 사용하고, 특히 근래에는 복잡한 진공 라인을 갖는 진공척에 비하여 간단한 온, 오프 조작으로 스템프를 잡아줄 수 있는 정전척을 주로 사용하는 것으로 알 려져 있다.
즉, 상기 임프린트 장치는, 상기 홀더로 상기 스템프의 윗면 전체 면적을 평탄하게 잡아준 상태에서 기판과 통상의 방법(예: 낙하)으로 합착하여 이 기판의 약액층에 각종 기능성 패턴들을 임프린트 방식으로 간편하게 패터닝할 수 있는 구조를 갖는다.
이와 같은 임프린트 작업 방식에 의하면, 기판과 스템프를 합착하기 전에 기판과 정상으로 합착이 이루어질 수 있는 상태로 상기 스템프를 잡아주는 것이 매우 중요하다.
하지만, 상기한 종래의 임프린트 장치와 같이 스템프의 윗면 전체를 홀더로 평탄하게 잡아준 상태로 합착 작업을 진행하는 방식은 예를 들어, 기판을 향하여 스템프를 낙하시킬 때 합착면 사이에 슬립이 쉽게 발생하면서 기판과 스템프가 비정상으로 합착되는 현상이 빈번하게 발생할 수 있다.
이러한 문제는 홀더로 스템프 윗면 전체를 평탄하게 잡아준 상태로 낙하시켜서 스템프가 기판과 한 번의 면(面) 접촉으로 합착이 이루어지기 때문이다.
그리고, 대면적의 스템프 사이즈와 대응하는 크기로 홀더를 제작하려면 과다한 제작비가 소요될 뿐만 아니라, 챔버부 내에서 공간을 많이 점유하여 장치의 소형화를 실현하기 어렵다.
근래에는 이러한 문제를 개선하기 위하여, 스템프의 임프린트면이 기판을 향하여 대략 구면(球面) 또는 곡면(曲面)을 이룬 상태로 합착되도록 상기 스템프의 가장자리를 여러 개의 홀더들로 잡아주는 이른바, 부분 홀딩 방식이 제시되고 있 다.
즉, 스템프의 임프린트면이 구면 또는 곡면을 이룬 상태로 기판과 합착하면, 스템프의 가운데 부분이 기판과 점(點) 접촉 또는 선(線) 접촉된 상태에서 점차 외측을 향하여 면 접촉이 이루어지므로 합착면 사이에 발생할 수 있는 슬립 현상을 억제할 수 있는 것으로 알려져 있다.
그러나, 이러한 부분 홀딩 방식은, 스템프 면적 중에서 홀더들로 고정된 부분과 비고정된 부분의 경계 지점이 쉽게 꺾이면서 합착 전에 스템프가 비정상인 상태로 변형될 수 있고, 이러한 변형 상태는 불량 품질을 유발하는 한 요인이 될 수 있다.
또한, 스템프의 처짐시 홀더의 고정면 사이에 틈새가 쉽게 발생하여 상기 홀더 측에서 스템프가 비정상으로 분리되는 오작동이 발생할 수 있다.
특히, 상기 홀더로 사용하는 정전척들은 스템프의 처짐 현상에 의해 고정면 사이에 틈새가 발생하면 고정 상태가 즉시 해제되는 것으로 알려져 있다.
그러므로, 상기와 같이 스템프를 부분 홀딩으로 잡아주는 방식은 합착 전에 스템프가 비정상으로 변형 또는 분리되면서 여러 가지의 또 다른 문제들을 초래할 수 있다.
본 발명은 상기한 바와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서,
본 발명의 목적은 특히, 스템프가 구면 또는 곡면을 이루도록 간편하게 잡아준 상태로 임프린트 작업을 진행할 수 있는 임프린트 장치를 제공하는데 있다.
상기한 바와 같은 본 발명의 목적을 실현하기 위하여,
챔버를 구비한 챔버부;
상기 챔버부 내측에 배치되며 약액층이 도포된 기판이 놓여지는 스테이지;
상기 기판과 대응하는 면적의 임프린트면을 구비하고 이 임프린트면이 기판의 약액층과 마주하도록 상기 스테이지 위쪽에 배치되는 스템프;
상기 임프린트면이 기판을 향하여 아래로 처지면서 구면(球面) 또는 곡면(曲面)을 이루도록 상기 스템프의 일부면을 잡아주는 홀더들로 구성되는 홀더부;
상기 홀더들이 상기 임프린트면의 처짐 상태와 대응하는 방향으로 틸팅이 이루어지도록 상기 챔버부 측에 연결 고정하는 틸팅수단;
을 포함하는 임프린트 장치를 제공한다.
이와 같은 본 발명은 스템프가 기판을 향하여 아래로 처지면서 구면 또는 곡면을 이루도록 홀더부로 잡아준 상태에서 임프린트 작업을 간편하게 진행할 수 있 다.
그리고, 본 발명은 스템프의 처짐 상태와 대응하는 방향으로 홀더들의 틸팅이 이루어지도록 상기 홀더부와 대응하는 틸팅수단을 구비하고 있으므로 특히 임프린트 작업시 스템프의 처짐에 의해 홀더들로부터 스템프가 비정상으로 분리되면서 발생하는 문제들을 개선할 수 있다.
특히, 이와 같은 틸팅수단의 작용에 의하면, 예를 들어 정전척(Electro Static Chuck)들을 홀더로 사용할 때 스템프의 처짐에 의해 발생할 수 있는 오작동을 더욱 효과적으로 방지하여 작업 안전성을 한층 높일 수 있다.
이하, 첨부된 도면에 의거하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 설명한다.
본 발명의 실시 예들은 당 업계에서 평균적인 지식을 가진 자들이 본 발명의 실시가 가능한 범위 내에서 설명된다.
따라서, 본 발명의 실시 예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있는 것이므로 본 발명의 특허청구범위는 아래에서 설명하는 실시 예들로 인하여 한정되는 것은 아니다.
도 1은 본 발명의 일실시 예에 따른 임프린트 장치의 전체 구조를 개략적으로 나타낸 도면이고, 도 2는 본 발명의 일실시 예에 따른 임프린트 장치의 주요 부분을 확대하여 나타낸 도면으로서, 도면 부호 2는 챔버부를 지칭한다.
상기 챔버부(2)는 임프린트 작업을 진행하기 위한 밀폐된 작업 공간 즉, 챔버(C)를 제공하기 위한 것으로서, 사각의 케이스(case) 형태로 이루어질 수 있다.
상기 챔버부(2)는 예를 들어, 일면이 각각 개방된 내부 공간을 갖는 상부 챔버케이스(C1)와 하부 챔버케이스(C2)로 구성될 수 있으며, 도 1에서와 같은 프레임(F) 상에서 개방면이 서로 마주하는 상태로 배치될 수 있다.
그리고, 상기 상부 챔버케이스(C1)와 하부 챔버케이스(C2)는 상기 프레임(F) 상에서 결합 또는 분리되면서 개방 가능한 챔버(C)를 형성할 수 있도록 설치된다.
예를 들어, 승강용 스크류(J1)를 구비한 통상의 스크류 잭(J, screw jack)들을 상기 프레임(F)의 상부에 설치하고 상기 승강용 스크류(J1)로 도 2에서와 같이 상기 상부 챔버케이스(C1)를 상,하 방향으로 이동시키면서 두 개의 챔버케이스(C1, C2)가 결합 또는 결합 상태가 분리되도록 할 수 있다.
상기 스크류 잭(J)은 도면에는 나타내지 않았지만 기어드 모터의 동력을 통상의 방법(워엄 기어, 베벨 기어)으로 전달받아서 상기 승강용 스크류(J1)가 선형(linear) 운동을 하는 구조를 갖는 것으로서, 특히 상기 챔버케이스(C1, C2)들과 같은 대형의 중량물 이송에 적합할 뿐만 아니라, 역전 방지(self locking) 기능을 구비하여 한층 향상된 작동 안전성을 확보할 수 있다.
그리고, 도면에는 나타내지 않았지만 상기 스크류 잭(J) 이외에도 실린더를 이용하여 통상의 방법으로 상부 챔버케이스(C1, 또는 하부 챔버케이스)를 밀거나 당기면서 챔버(C)를 개폐할 수도 있다.
상기한 챔버부(2)의 구조에 의하면, 상부 챔버케이스(C1)와 하부 챔버케이스(C2)의 결합 또는 분리 동작에 의해 상기 챔버(C)를 개폐할 수 있다.
그러므로, 상기 챔버(C)가 닫힌 상태에서는 임프린트 작업을 진행하고, 개방 된 상태에서는 기판(G)을 로딩(또는 언로딩)하는 작업을 간편하게 진행할 수 있다.
또한, 상기 챔버부(2)는 도면에는 나타내지 않았지만 진공펌프와 통상의 방법으로 연결되어 진공펌프의 구동에 의해 상기 챔버(C)가 진공압 또는 대기압 상태로 전환 가능하게 셋팅된다.
이처럼 진공펌프를 이용하여 챔버(C)의 내부 압력을 전환하는 방법은 해당 분야에서 평균적인 지식을 가진 자라면 용이하게 실시할 수 있는 것이므로 더욱 상세한 설명은 생략한다.
다시 도 1 및 도 2를 참조하면, 상기 챔버부(2) 내측에는 스테이지(4)와 스템프(6)가 위치된다.
상기 스테이지(4)는 약액층(G1 ,예: etch resist)이 일면에 도포된 기판(G)을 상기 챔버(C) 내에서 임프린트 작업이 가능한 상태로 로딩할 수 있는 구조를 갖는다.
상기 스테이지(4)는 기판(G) 사이즈와 대응하는 면적을 갖는 로딩면(L)을 구비하고, 상기 하부 챔버케이스(C2) 내측에서 상기 로딩면(L)이 위쪽을 향하는 상태로 수평하게 배치될 수 있다.
상기 스테이지(4)는 예를 들어, 기판(G)을 로딩 상태로 고정하거나 고정 상태를 해제할 수 있도록 판상의 진공척(vacuum chuck)을 사용할 수 있다.
그러면, 임프린트 작업 중에 기판(G)이 움직이는 것을 방지하여 작업 안전성을 높일 수 있다.
상기 스템프(6)는 소정의 패턴들이 형성된 임프린트면(P)을 일면에 구비하 고, 타면은 백플레이트(P1)가 부착된 통상의 구조로 이루어질 수 있다.
상기 스템프(6)는 상기 스테이지(4) 상에 놓여진 기판(G)의 약액층(G1)과 대응하는 상태로 상기 챔버(C) 내측에 배치된다.
즉, 상기 스템프(6)는 상기 챔버(C) 내측에서 상기 임프린트면(P)이 상기 기판(G)의 약액층(G1)과 마주하는 상태로 상기 스테이지(4) 위쪽에 배치될 수 있다.
그리고, 상기 스템프(6)는 대부분 연질의 투명 합성수지 원료(예: PDMS/POLY DIMETHYLSILOXANE)로 성형되며, 상기 백플레이트(P1)에 의해 탄력적으로 평탄한 상태가 유지된다.
상기 본 발명의 일실시 예에 따른 임프린트 장치는, 홀더부(8)를 포함한다.
상기 홀더부(8)는 상기 챔버(C) 상에서 기판(G)과 임프린트가 가능한 상태로 상기 스템프(6)를 잡아줄 수 있는 구조를 갖는 복수 개의 홀더(H)들로 구성된다.
상기 홀더(H)들은 예를 들어, 정전척(Electro Static Chuck, 또는 진공척)을 사용할 수 있으며, 상기 임프린트면(P)이 기판(G)을 향하여 아래로 처지면서 구면(球面) 또는 곡면(曲面)을 이루도록 상기 스템프(6)의 전체면 중에서 일부면을 부분 홀딩 방식으로 잡아줄 수 있도록 설치된다.
다시 도 1 및 도 2를 참조하면, 상기 홀더(H) 즉, 정전척들은 상기 스템프(6)의 윗면보다 작은 고정면(H1)을 갖는 판상의 형태로 각각 형성될 수 있다.
그리고, 상기 홀더(H)들은 도 2를 기준으로 할 때 상기 스템프(6)의 윗면 중에서 적어도 두 군데 이상의 지점을 상기 고정면(H1)으로 잡아줄 수 있도록 배치하면 좋다.
도 3은 상기 홀더부(8)의 홀더(H)들의 바람직한 설치 상태를 설명하기 위한 도면이다.
즉, 도 3을 참조하면, 상기 스템프(6)의 윗면 중에서 가장자리를 따라 이격된 네 군데 지점을 상기 고정면(H1)들로 잡아줄 수 있도록 상기 홀더(H)들을 배치할 수 있다.
특히, 상기와 같이 스템프(6)의 가장자리 중에서 네 군데의 모서리 안쪽 지점에 상기 홀더(H)들을 각각 배치하면 좋다.
그러면, 상기 스템프(6)의 가운데 지점으로부터 비교적 먼 거리에 상기 홀더(H)들이 위치되므로 이 홀더(H)들로 상기 스템프(6)를 부분 홀딩 방식으로 잡아줄 때 상기 스템프(6)의 가운데 부분이 아래로 처지면서 더욱 원활하게 구면(또는 곡면)을 이루는 상태가 될 수 있다.
그리고, 도 4는 상기 홀더부(8)의 홀더(H)들의 다른 설치 상태를 설명하기 위한 도면이다.
즉, 도 4를 참조하면, 상기 홀더(H)들은 상기 스템프(6)의 가장자리 중에서 서로 대향하는 두 군데 지점을 잡아줄 수 있도록 배치할 수도 있다.
이와 같은 홀더(H)의 배열에 의하면, 상기 스템프(6)의 가운데 부분이 아래로 처지면서 상기 임프린트면(P)이 곡면을 이루는 상태로 잡아줄 수 있다.
그리고, 이외에도 도면에는 나타내지 않았지만 상기 스템프(6)가 구면 또는 곡면을 이루도록 상기 홀더(H)들을 이용하여 다양한 형태로 잡아줄 수 있다.
한편, 상기 본 발명의 일실시 예에 따른 임프린트 장치는, 틸팅수단(10)을 포함한다.
상기 틸팅수단(10)은 상기 스템프(6)의 처짐 상태와 대응하는 방향으로 틸팅(tilting)이 이루어질 수 있도록 상기 홀더부(8)를 잡아주는 연결구(T)들로 구성된다.
상기 연결구(T)들은 각도 변환이 가능하게 연결된 조인트(joint)를 갖는 축이나 아암 형태로 이루어질 수 있다.
즉, 상기 연결구(T)들은 예를 들어, 통상의 볼 조인트(또는 유니버셜 조인트) 형태로 이루어질 수 있으며, 상기 챔버부(2) 내측에서 상기 홀더부(8)의 홀더(H)들을 각각 틸팅 가능하게 연결 고정할 수 있도록 설치된다.
다시 도 2를 참조하면, 상기 연결구(T)들의 일단은 상기 챔버부(2)의 상부 챔버케이스(C1) 내부면에 고정되고, 타단은 상기 홀더(H) 측에 고정될 수 있다.
이와 같은 연결 구조에 의하면, 상기 홀더(H)들이 상기 상부 챔버케이스(C1) 측에 고정된 상태로 틸팅이 이루어질 수 있다.
도 5 및 도 6은 상기 틸팅수단(10)의 작용을 설명하기 위한 도면이다.
도 5를 참조하면, 상기 연결구(T)들은 상기 상부 챔버케이스(C1) 측에 상기 홀더(H)들을 고정함과 아울러 각종 하중이나 외력이 작용하는 방향으로 상기 홀더(H)들의 틸팅이 원활하게 이루어질 수 있는 연결 상태를 제공할 수 있다.
특히, 상기한 틸팅수단(10)은 예를 들어 모터나 실린더와 같은 별도의 구동원으로부터 동력을 전달받아서 상기 홀더(H)들을 강제로 틸팅하는 구동 방식이 아니라, 상기 홀더(H) 측에 작용하는 하중 또는 외력에 의해 자동으로 틸팅이 이루어 지는 이른바 패시브(passive) 타입의 틸팅 구조를 갖는다.
즉, 패시브 타입의 틸팅수단(10)은 예를 들어, 도 6에서와 같이 상기 홀더(H)들로 스템프(6)의 가장자리를 부분 홀딩 방식으로 잡아줄 때 상기 스템프(6)의 처짐 상태와 대응하는 방향으로 상기 홀더(H)들의 틸팅이 자동으로 이루어지도록 연결 고정할 수 있다.
이와 같은 틸팅수단(10)은 틸팅 구조 및 작동이 간단할 뿐만 아니라, 상기 스템프(6)의 임프린트면(P)이 기판(G)을 향하여 원활하게 구면(또는 곡면)을 이루도록 가이드 할 수 있다.
그리고, 상기한 틸팅수단(10)의 틸팅 작용에 의하면, 상기 스템프(6)의 처짐이 발생할 때 이 스템프(6)를 잡아주고 있는 홀더(H)들의 고정면(H1) 측에 틈새가 발생하는 것을 억제할 수 있으므로 특히 정전척을 홀더(H)로 사용하더라도 한층 향상된 작동 안전성을 확보할 수 있다.
다시 도 2를 참조하면, 본 발명의 일실시 예에 따른 임프린트 장치는, 커버부재(12)를 더 포함하여 이루어질 수 있다.
상기 커버부재(12)는 상기 틸팅수단(10)의 작동시 발생할 수 있는 각종 분진들이 상기 챔버(C) 내부로 퍼지는 것을 차단할 수 있는 구조를 갖는다.
상기 커버부재(12)는 예를 들어, 벨로우즈 튜브(bellows tube)를 사용할 수 있으며, 상기 틸팅수단(10)의 연결구(T)들과 각각 대응하도록 설치된다.
즉, 상기 커버부재(12)는 도 2에서와 같이 상기 연결구(T) 전체를 감싸면서 상기 챔버부(2)의 상부 챔버케이스(C1) 내부면과 상기 홀더(H) 사이를 연결하는 상 태로 설치될 수 있다.
이와 같은 구조에 의하면, 상기 연결구(T)들의 틸팅 방향으로 상기 커버부재(12)들이 적절하게 훠어지면서 상기 연결구(T)들의 작동시 발생할 수 있는 분진이 상기 챔버(C) 내부로 퍼지지 않도록 간편하게 차단할 수 있다.
따라서, 상기한 구조로 이루어지는 본 발명은, 스템프(6)의 임프린트면(P)이 기판(G)을 향하여 구면 또는 곡면을 이루도록 홀더(H)들을 이용하여 상기 스템프(6)를 부분 홀딩 방식으로 잡아준 상태에서 통상의 방법(예: 낙하)으로 기판(G)과 합착하여 이 기판(G)의 약액층(G1)에 각종 기능성 패턴들을 임프린트 방식으로 간편하게 패터닝할 수 있다.
그리고, 본 발명은 상기 스템프(6)의 처짐 상태와 대응하는 방향으로 상기 홀더(H)들의 틸팅이 자동으로 이루어지도록 연결 고정하는 틸팅수단(10)을 구비하고 있으므로 상기 홀더(H)들로 스템프(6)를 잡아줄 때 한층 향상된 안전성을 확보할 수 있다.
예를 들어, 상기 스템프(6) 중에서 홀더(H)들에 의해 고정된 부분과 비고정된 부분의 경계 지점이 꺾이면서 합착 전에 상기 스템프(6)가 비정상으로 변형되는 것을 방지할 수 있다.
특히, 정전척을 홀더(H)로 사용할 때 상기 스템프(6)의 처짐에 의해 정전척의 고정면 사이에 틈새가 쉽게 발생하면서 고정 상태가 비정상으로 해제되는 현상을 방지할 수 있다.
또한, 상기와 같이 스템프(6)의 임프린트면(P)이 구면 또는 곡면을 이룬 상 태로 기판(G)과 합착하는 방식은 종래와 같이 스템프를 평탄하게 잡아준 상태에서 한 번의 면 접촉으로 기판과 합착할 때 합착면 사이에 슬립이 발생하면서 비정상으로 합착되는 것을 방지할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일실시 예에 따른 임프린트 장치의 전체 구조를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명의 일실시 예에 따른 임프린트 장치의 주요 부분을 확대하여 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명의 일실시 예에 따른 임프린트 장치의 홀더부의 바람직한 설치 상태를 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 본 발명의 일실시 예에 따른 임프린트 장치의 홀더부의 다른 설치 상태를 설명하기 위한 도면이다.
도 5 및 도 6은 본 발명의 일실시 예에 따른 임프린트 장치의 틸팅수단의 작용을 설명하기 위한 도면들이다.
[도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명]
2: 챔버부 4: 스테이지 6: 스템프
8: 홀더부 10: 틸팅수단 12: 커버부재
G: 기판 H: 홀더 T: 연결구

Claims (7)

  1. 챔버를 구비한 챔버부;
    상기 챔버부 내측에 배치되며 약액층이 도포된 기판이 놓여지는 스테이지;
    상기 기판과 대응하는 면적의 임프린트면을 구비하고 이 임프린트면이 기판의 약액층과 마주하도록 상기 스테이지 위쪽에 배치되는 스템프;
    상기 스템프의 가운데 부분이 기판과 점접촉 또는 선접촉된 상태에서 점차 외측을 향하여 면접촉이 이루어지도록 상기 스템프의 자체 처짐현상에 의하여 상기 스템프의 가운데 부분이 기판을 향하여 아래로 처지면서 상기 임프린트면이 구면(球面) 또는 곡면(曲面)을 가지게 하기 위하여 상기 스템프의 면적보다 작은 면적을 가지면서 상기 스템프의 전체면 중에서 가장자리를 잡아주는 복수 개의 홀더들로 구성되는 홀더부;
    상기 홀더들이 상기 임프린트면의 처짐 상태와 대응하는 방향으로 틸팅이 이루어지도록 상기 챔버부 측에 상기 홀더들을 연결하는 틸팅수단; 그리고,
    상기 틸팅수단의 작동시 발생하는 분진들이 상기 챔버 내부로 퍼지는 것을 방지하기 위하여 상기 틸팅수단과 대응되도로 설치되는 커버부재를 포함하며,
    상기 틸팅수단은 일단은 상기 챔버부의 상부챔버케이스 내부면에 고정되고, 타단은 상기 홀더측에 결합되는 연결구들을 포함하며,
    상기 연결구들은 상기 홀더들을 틸팅 가능한 상태로 잡아주도록 각도 변환이 가능하게 연결된 조인트를 갖는 아암을 포함하고,
    상기 연결구들은 상기 스템프의 처짐 상태와 대응하는 방향으로 상기 홀더측에 작용하는 상기 스템프의 자체 하중에 의하여 자연적으로 틸팅이 이루어지는 패시브 타입의 틸팅구조를 가지며,
    상기 커버부재는 상기 연결구 전체를 감싸면서 상기 챔버부의 상부챔버케이스 내부면과 상기 홀더 사이를 연결하되, 상기 스템프의 자체 하중에 의한 상기 스템프의 처짐상태와 대응하는 상기 연결구들의 틸팅방향으로 휘어지는 것을 특징으로 하는 임프린트 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 홀더들은 판상의 정전척 또는 진공척 중에서 어느 하나를 사용하는 것을 특징으로 하는 임프린트 장치.
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 제1항에 있어서,
    상기 연결구들은 볼 조인트 또는 유니버셜 조인트 중에서 어느 하나를 사용하는 것을 특징으로 하는 임프린트 장치.
  6. 삭제
  7. 제1항에 있어서,
    상기 커버부재는 벨로우즈 튜브를 포함하는 것을 특징으로 하는 임프린트 장치.
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050064054A1 (en) * 2003-09-24 2005-03-24 Canon Kabushiki Kaisha Pattern forming apparatus
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Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050064054A1 (en) * 2003-09-24 2005-03-24 Canon Kabushiki Kaisha Pattern forming apparatus
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