KR101584199B1 - 플라즈마 에칭공정을 이용한 투명전극필름 제조방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 플라즈마 에칭공정을 이용한 투명전극필름 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 감광제와 플라즈마 에칭공정을 이용하여 저렴한 비용으로 제조 가능한 플라즈마 에칭공정을 이용한 투명전극필름의 제조방법에 관한 것이다.

Description

플라즈마 에칭공정을 이용한 투명전극필름 제조방법{MANUFACTURING METHOD FOR TRANSPARENT ELECTRODE FILM USING PLASMA ETING}

본 발명은 플라즈마 에칭공정을 이용한 투명전극필름 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 감광제와 플라즈마 에칭공정을 이용하여 저렴한 비용으로 제조 가능한 플라즈마 에칭공정을 이용한 투명전극필름의 제조방법에 관한 것이다.

터치 패널은 음극선관(CRT; Cathode Ray Tube), 액정표시장치(LCD; Liquid Crystal Display), 전계 방출 표시장치(FED; Field Emission Display), 플라즈마 디스플레이 패널(PDP; Plasma Display Panel) 및 전계발광소자(ELD; Electro Luminescence Device) 등과 같은 화상표시장치의 표시면에 설치되며, 사용자가 화상표시장치를 보면서 터치 패널을 컴퓨터에 미리 정해진 정보를 입력하기 위한 장치로서, 최근에는 터치에 의한 명령이 필수적인 스마트 폰(Smart Phone) 또는 터치 폰(Touch Phone) 등의 통신 단말에 널리 사용되고 있다. 이와 같은 터치패널은, 예를 들면, 특허공개 제10-2013-0125469호(2013.11.19일 공개)에 기재된 바와 같은 투명전극 필름으로 구현된다.

상기 투명전극필름은 다 수의 업체에서 독자적인 기술로서 터치패널을 생산함에 따라서 그 제조방법 역시 다양하다. 이와 같은 다양한 방식의 투명전극필름의 제조기술은, 예를 들면, 특허등록 제10-0704915(2007.04.02일 등록)에 기재된 반도체등의 인쇄회로기판을 제조하는 공정중 일부를 응용하여 제조되는 기술을 포함하고 있다.

종래의 투명전극필름의 제조방법은 포토리소그래피 방식으로 양각 몰드를 만들고 기재에 UV경화수지 또는 열 경화 수지를 코팅하고 양각 몰드로 찍어내어 음각 패턴을 형성하고 전도성 물질을 충진 하여 만들어 진다.

하지만, 상기와 같은 종래의 투명전극필름의 제조방법은 몰드를 이용하여 음각필름을 제조한 결과, 음각부위의 밑면과 베이스필름의 사이에도 수지가 존재함에 따라 투과율이 나빠지고 뿌연 상태의 헤이즈(Haze)가 높아지고, 전도성 물질이 음각부에 충진되어 경화되면, 수지층의 표면보다 전도성 물질이 음각패턴 안쪽 깊숙히 들어감에 따라 터치센서의 특성이 나빠지는 문제점이 있었다.

본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서 본 발명의 목적은 전도성 물질과 베이스필름의 접착력을 높이고, 양각 형태의 미세패턴이 구현되어 터치센서 특성이 좋은 플라즈마 에칭공정을 이용한 투명전극필름의 제조방법을 제공함에 있다.

또한 본 발명은 보다 저렴한 비용으로 투명전극필름을 제조할 수 있는 플라즈마 에칭공정을 이용한 투명전극필름의 제조방법을 제공함에 있다.

또한 본 발명은 투명전극필름에서 수지층을 최소화할 수 있어 투과율이 향상된 플라즈마 에칭공정을 이용한 투명전극필름의 제조방법을 제공함에 있다.

본 발명은 상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 하기와 같은 실시예를 포함한다.

본 발명에 따른 플라즈마 에칭공정을 이용한 투명전극필름의 제조방법의 바람직한 실시예는 패턴의 폭과 일치되도록 다 수개의 돌기가 양각된 양각부를 구비한 양각몰드 제조단계와, 상기 양각몰드의 상면에 상기 양각부 사이의 빈 공간에 액상의 감광제를 도포하여 제1수지층을 형성하고, 상기 제1수지층의 상면에 감광제를 도포하여 제2수지층을 도포하는 수지 도포단계와, 상기 양각몰드의 상면에 도포된 상기 제1수지층과 제2수지층을 경화시키고, 베이스필름을 접착시키는 베이스필름 접착단계와, 상기 베이스필름 접착단계 이후에 상기 양각몰드를 분리시키고, 플라즈마 에칭으로 제1수지층을 제거하고, 제2수지층에 제2음각부를 형성하는 플라즈마 에칭단계와, 상기 플라즈마 에칭단계 이후에 상기 제2수지층의 제2음각부에 전도성 물질을 충진 및 경화시키는 전도성 물질 충진단계 및 상기 전도성 물질 충진단계 이후에 현상액을 도포하여 상기 제2수지층을 제거하여 상기 베이스필름의 상면에서 패턴을 형성하는 양각패턴 형성단계를 포함하는 플라즈마 에칭공정을 이용한 투명전극필름의 제조방법을 제공한다.

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본 발명은 수지층을 모두 제거함에 따라 양각형의 전도성 물질이 경화된 베이스 필름 이외의 수지층이 존재하지 않기에 투과율이 높아지고 헤이즈(Haze)가 개선되는 효과가 있다.

또한 본 발명은 패턴이 양각된 양각몰드와 감광제를 이용하여 패턴의 음각부로 패턴을 형성함에 따라 1~10㎛의 미세한 폭을 갖는 패턴의 구현이 가능하고, 양각된 형상의 패턴을 구비함에 따라 터치센서의 특성이 향상되는 효과가 있다.

도 1은 본 발명에 따른 플라즈마 에칭 공정을 이용한 투명전극필름 제조장치를 도시한 블럭도,
도 2는 본 발명에 따른 플라즈마 에칭 공정을 이용한 투명전극필름 제조방법을 도시한 순서도,
도 3은 본 발명에 따른 플라즈마 에칭공정을 이용한 투명전극 필름 제조방법의 과정을 간략히 도시한 도면이다.

이하에서는 본 발명에 따른 플라즈마 에칭공정을 이용한 투명전극필름의 제조방법의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.

도 1은 본 발명에 따른 플라즈마 에칭 공정을 이용한 투명전극필름 제조장치를 도시한 블럭도이다.

도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 플라즈마 에칭공정을 이용한 투명전극필름 제조장치는 양각몰드(100) 및 베이스필름(300)에 의한 투명전극필름을 이동시키는 이송부(12)와, 상기 이송부(12)에서 이송되는 양각몰드(100)의 상면에 감광제(200)를 도포하는 감광제 도포부(14)와, 상기 베이스필름(300)을 양각몰드(100)에 가압하여 접착시키는 필름공급부(13)와, 상기 감광제(200)를 경화시키는 제1경화부(16)와, 전도성 물질을 경화시키는 제2경화부(16')와, 전도성 물질(400)을 충진시키는 충진부(17)와, 상기 베이스필름(300)에 도포된 감광제(200)를 에칭하는 플라즈마 에칭부(18)와, 상기 양각 몰드(100)와 베이스필름(300)을 분리시키는 분리부(15)와, 상기 감광제(200)를 제거하는 현상부(19)를 포함한다.

상기 양각 몰드(100)(도 3 참조)는 편평한 판에서 하나 이상의 패턴이 양각된 양각부(110)(도 3참조)가 돌출되도록 형성된다.

상기 이송부(12)는 상기 양각 몰드(100)를, 예를 들면, 모터에 의하여 구동되는 레일 또는 롤러의 구동에 의하여 회전되는 이송벨트로서 상면에 안착되는 양각몰드(100) 및 베이스필름(300)을 이송시킨다.

상기 감광제 도포부(14)는 상기 양각 몰드(100)의 상면에 감광제(200)를 도포한다. 이때 상기 감광제 도포부(14)는 상기 양각몰드(100)의 양각부(110) 사이의 빈 공간에 감광제(200)를 도포하여 제1수지층(210)(도 3참조)을 형성하고, 상기 제1수지층(210)의 상면에서 설정된 두께로서 감광제(200)를 도포하여 제2수지층(220)(도 3참조)을 형성시킨다.

상기 필름공급부(13)는 플라스틱 재질의 베이스필름(300)을 상기 이송부(12)에 이송되는 감광제(200)가 도포된 양각몰드(100)의 상면에 공급하고, 상기 베이스필름(300)을 가압하여 접착시킨다.

상기 제1경화부(16)는 상기 양각몰드(100)의 상면에 도포된 감광제(200)의 상면에 상기 필름공급부(13)에서 공급된 베이스필름(300)이 가압 및 접착되어 이송되면, 상기 감광제(200)를 경화시켜 상기 베이스필름(300)에 감광제(200)의 제1수지층(210)과 제2수지층(220)을 접착고정시킨다. 이를 위하여 상기 제1경화부(16)는, 예를 들면, UV램프를 적용함이 바람직하다.

상기 분리부(15)는 상기 양각몰드(100)의 상면에 접착고정된 베이스필름(300)을 분리시킨다. 이때 상기 분리부(15)는 상기 베이스필름(300)과 상기 감광제(200)를 상기 양각 몰드(100)로부터 분리시킨다. 여기서 상기 베이스필름(300)은 상기 양각몰드(100)가 분리되어 상기 이송부(12)에 의해 회전된다. 따라서 상기 베이스필름(300)은 상면에서 상기 제2수지층(220)과 제1수지층(210)이 적층 된다. 또한 상기 제1수지층(210)은 상기 양각 몰드(100)로부터 분리됨에 따라 상기 양각부와 동일한 폭을 갖는 음각패턴으로 이루어진 제1음각부(도 3 참조)가 형성된다.

상기 플라즈마 에칭부(18)는 상기 감광제(200)의 제1수지층(210)과 제2수지층(220)에 플라즈마를 가하여 제1수지층(210)의 감광제(200)를 제거하고, 제2수지층(220)에서 상기 제1음각부와 동일한 폭을 갖는 음각패턴이 형성되는 제2음각부(221)(도 3 참조)를 형성한다.

상기 충진부(17)는 상기 플라즈마 에칭부(18)에 의하여 형성되는 제2음각부(221)에 전도성 물질(400, 도 3참조)을 충진한다. 예를 들면, 상기 전도성 물질(400)은 은, 구리, 마그네슘, 티타늄과 같은 전도성 금속분말중 하나 이상이 포함된 전도성 잉크를 적용함도 가능하다.

상기 제2경화부(16')는 상기 충진부(17)에 의하여 상기 제2음각부(221)에 충진된 전도성 물질(400)을 경화시킨다. 이를 위하여 상기 제2경화부(16')는, 예를 들면, UV램프를 적용함이 바람직하다.

상기 현상부(19)는 상기 감광제(200)의 제거 가능한 현상액을 상기 전도성 물질(400)이 충진된 베이스필름(300)에 도포하여 상기 감광제(200)를 제거한다.

상기 제어부(11)는 조작패널로부터 구동명령이 인가되면, 센서부에서 인가되는 상기 양각몰드(100)의 위치를 확인하여 상기 감광제 도포부(14)와 필름공급부(13)를 제어하고, 상기 베이스필름(300)의 위치를 확인하여 상기 제1경화부(16) 내지 현상부(19)를 순차적으로 제어하여 상기 베이스필름(300)에 전도성 물질(400)(도 3 참조)에 의해 양각된 미세 패턴(410, 도 3참조)을 형성한다.

여기서 상기 이송부(12) 내지 현상부(19)는 동업종에 종사하는 종사자에게 공지된 장치를 적용한 것이기에 구체적인 구성이나 동작설명을 생략하였다. 이하에서는 상기와 같은 구성을 통하여 달성되는 플라즈마 에칭공정을 이용한 투명전극필름의 제조방법을 하기의 도 2 및 도 3을 참조하여 상세히 설명한다.

도 2는 본 발명에 따른 플라즈마 에칭 공정을 이용한 투명전극필름 제조방법을 도시한 순서도, 도 3은 본 발명에 따른 플라즈마 에칭공정을 이용한 투명전극 필름 제조방법의 과정을 간략히 도시한 도면이다.

도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 플라즈마 에칭공정을 이용한 투명전극필름의 제조방법은 금형을 이용하여 상면에서 다 수개의 양각 패턴으로 이루어진 양각부(110)가 형성되는 양각몰드 제조단계(S10)와, 상기 양각몰드(100)의 상면에 액상의 수지를 도포하는 수지도포단계(S20)와, 상기 수지도포단계(S20) 이후에 베이스필름(300)을 접착 후 경화시켜 베이스필름의 상면에 수지층을 형성하는 베이스필름 접착단계(S30)와, 상기 베이스필름(300)에 플라즈마 에칭하여 음각부를 형성하는 플라즈마 에칭단계(S40)와, 상기 플라즈마 에칭단계(S40)에서 형성되는 음각부에 전도성 물질(400)을 충진하는 전도성 물질 충진단계(S50)와, 상기 전도성 물질 충진 단계 이후에 수지층(200)를 제거하여 베이스필름(300)에 양각형의 패턴(410)을 형성하는 양각패턴 형성단계(S60)를 포함한다.

상기 양각몰드(100) 제조단계(S10)는 금형을 이용하여 상면에서 다 수개의 양각패턴이 형성되는 양각부(110)를 포함하는 양각몰드(100)를 형성하는 단계이다. 여기서 상기 양각몰드(100)는 도 3의 (a)에 그 일예가 도시되었다. 도시된 바를 참조하면, 상기 양각부(110)는 다 수개의 돌기로서 패턴(410) 폭에 따라서 설정된다.

상기 수지도포단계(S20)는 상기 제어부(11)가 상기 이송부(12)를 구동시켜 상기 양각몰드(100)를 상기 감광제 도포부(14)의 하측으로 이송시키고, 상기 감광제 도포부(14)를 제어하여 상기 양각몰드(100)의 상면에 액상의 수지를 도포하는 단계이다. 상기 액상의 수지는 감광제로서 하기의 현상액에 의해 제거된다. 상기 감광제는 일반적으로 공지된 구성임에 따라 그 상세한 설명을 생략한다.

상기 제어부(11)는 1차적으로 상기 양각몰드(100)의 상면에서 형성되는 양각부(110) 사이의 빈 공간과 그 상면에서 일정 두께로 감광제(200)를 도포한다. 상기 감광제는 하기의 베이스필름 접착 및 경화단계(S30)에서 경화되어 상기 양각부(110) 사이에 충진 및 경화된 제1수지층(210)과, 상기 제1수지층(210)의 상면에서 제2수지층(220)을 형성한다.

상기 제1수지층(210)은 상기 양각부(110)의 높이와 폭에 따라서 설정된 양만큼의 감광제(200)가 도포 및 경화되고, 상기 제2수지층(220)은 설정된 높이를 이룰 수 있도록 그 양이 설정되어 감광제(200)가 도포 및 경화된다.

상기 베이스필름 접착단계(S30)는, 도 3의 (b)참조, 상기 제어부(11)가 상기 이송부(12)를 제어하여 상기 감광제(200)가 도포된 양각몰드(100)의 상면에 상기 베이스필름(300)을 접착 및 경화시키는 단계이다. 여기서 상기 베이스필름(300)은 상기 수지도포단계(S20) 이후에 도포된 액상의 수지층(감광제, 200)에 접착된다.

상기 필름공급부(13)는 상기 제어부(11)의 제어에 의해 상기 양각몰드(100)의 크기에 따라서 절단된 플라스틱 수지계열의 베이스필름(300)을 상기 수지층(200)의 상면에 위치시킨 뒤에 가압한다.

또한 상기 제어부(11)는 상기 필름공급부(13)에서 상기 베이스필름(300)의 접착이 완료되면, 상기 제1경화부(16)를 제어하여 경화시킨다. 이때 상기 제1경화부(16)는 상기 수지도포단계에서 상기 양각부 사이에 충진된 감광제를 경화시켜 제1수지층(210)을 형성하고, 상기 제1수지층의 상면에 도포된 감광제를 경화시켜 제2수지층(220)을 형성하여 상기 베이스필름(300)에 접착시킨다.

그리고 상기 제어부(11)는 상기 제1경화부(16)의 경화 이후에 상기 분리부(15)를 제어하여 상기 양각몰드(100) 만을 분리시킨다.

아울러 상기 제어부(11)는 상기 양각몰드(100)가 분리되면, 상기 이송부(12)를 제어하여 상기 제1수지층(210)이 상기 베이스필름(300)의 최상측에 위치되도록 회전시킨다. 상기 제1수지층(210)은 상기 양각몰드(100)의 양각부(110)가 분리됨에 따라 상기 양각부(110)와 일치된 위치에 음각패턴이 형성된 제1음각부(211)가 형성된다.

상기 플라즈마 에칭단계(S40)는, 도 3의 (c)를 참조하면, 상기 제어부(11)가 상기 플라즈마 에칭부(18)를 제어하여 상기 베이스필름(300)의 상면에 적층된 제1수지층(210)과 제2수지층(220)을 식각하여 전도성 물질(400)이 충진되는 제2음각부(221)를 형성하는 단계이다. 상기 제어부(11)는 상기 베이스필름(300)의 상면이 노출되는 음각구조를 형성하기 위하여 상기 플라즈마 에칭부(18)를 구동시킨다.

따라서 상기 플라즈마 에칭부(18)는 상기 제1수지층(210)을 제거하고, 상기 제2수지층(220)에서 상기 제1음각부(211)와 동일한 폭을 갖도록 제2수지층(220)을 식각하여 제2음각부(221)를 형성한다. 이는 도 3의 (d)에 도시된 바와 같다.

상기 제2음각부(221)는 상기 베이스필름의 상면이 노출되도록 식각된다. 즉, 상기 베이스필름(300)은 제1수지층(210)이 제거되고, 상기 제2음각부(221)가 형성된 제2수지층(220)만 남겨진 상태로서 상기 베이스필름(300)의 상면이 노출되도록 식각 된다.

상기 전도성 물질 충진단계(S50)는 상기 제어부(11)가 상기 충진부(17)를 제어하여 상기 제2음각부(221)에 전도성 물질(400)을 충진하는 단계이다. 상기 전도성 물질(400)은, 예를 들면, 전도성 금속분말이 포함된 액상의 전도성 잉크에 해당된다. 또한 상기 충진부(17)는, 예를 들면, 전도성 잉크를 공급하는 주입노즐(도시되지 않음)과, 상기 주입노즐(도시되지 않음)에서 공급된 전도성 잉크가 제2음각부(221)외에 다른 영역으로 도포된 전도성 잉크를 제거하는 블레이드(도시되지 않음)로 형성된다. 상기 주입노즐 및 블레이드는 예를 들어 설명한 것으로서 일반적인 장치임에 따라 상세설명과 도면을 생략하였다.

따라서 상기 충진부(17)는 상기 제어부(11)의 제어에 의해 상기 베이스필름(300)의 상면에서 형성된 제2수지층(220)의 제2음각부(221)에 전도성 물질(400)을 충진한다. 이는 도 3의 (e)에 도시된 바와 같다.

그리고 상기 제어부(11)는 상기 충진부(17)에 의해 상기 제2음각부(221)에 전도성 물질(400)의 충진이 완료되면, 상기 제2경화부(16')를 구동시켜 상기 전도성 물질(400)을 경화시킨다. 이때 상기 제2경화부(16')는, 예를 들면, UV램프로서 액상의 전도성 물질(400)에 설정된 시간동안 자외선을 조사하여 경화시킨다.

상기 양각패턴 형성단계(S60)는 상기 제어부(11)가 상기 이송부(12)를 제어하여 상기 전도성 물질(400) 충진단계(S50)에서 전도성 물질(400)이 충진된 베이스필름(300)을 상기 현상부(19)로 이동시키고, 상기 현상부(19)에 의해 도포되는 현상액에 의해 상기 감광제(200)를 제거하는 단계이다.

상기 현상부(19)는, 예를 들면, 현상액을 수용하는 탱크 또는 현상액을 분사하는 분사노즐로 이루어져 상기 베이스필름(300)의 제2음각부(221)에 충진된 전도성 물질(400)을 제외한 나머지 감광제(200)를 모두 제거한다. 즉, 상기 베이스필름(300)은 현상액이 수용된 탱크에 일정시간동안 입수되거나 또는 현상액이 분사되는 일정구간에 이동되어 상면의 감광제(200)가 모두 제거된다. 따라서 상기 베이스필름(300)은, 도 3의 (f)에 도시된 바와 같이, 상면에서 감광제(200)의 제2수지층(220)이 제거됨에 따라 상기 제2음각부(221)에 충진된 전도성 물질(400)에 의한 패턴(410)만이 잔류된다.

이와 같이 본 발명은 감광제(200)로서 음각부(221)를 제조하고, 상기 감광제(200)를 플라즈마 에칭하기 때문에 음각부(221)의 밑면과 베이스필름(300) 사이에 수지를 전부 식각하여 전도성 물질(400)과 베이스필름(300)의 접착력을 높이는데 용이하다. 즉, 전도성 물질(400)과 베이스필름(300)이 직접 접착하여 있기 때문에 현상 공정을 통해 감광제(200)를 전부 제거하는데 매우 용이하다.

또한 본 발명은 상기 베이스필름에서 패턴의 음각구조가 형성된 음각부(221)의 깊이를 조절할 수 있어 전도성 물질(400)의 두께를 조절하는데도 용이하다. 즉, 기존 투명전극필름은 양각몰드(100)를 제조할 때 결정된 음각부(221)의 깊이를 조절할 수 없지만 본 발명은 음각부(221)의 깊이를 플라즈마 에칭 공정으로 조절하여 전도성 물질(400)의 두께를 조절하는데 매우 용이하여 1~10㎛ 선폭의 미세패턴의 형성이 가능하다.

또한 본 발명은 플라즈마 에칭을 통하여 전도성 물질(400)의 충진이 가능한 음각부를 형성함에 따라 종래의 포토리소그래피 장비와 마스크를 이용한 노광장치를 이용한 투명전극필름의 제조장치에 비하여 보다 저렴한 비용으로 제조될 수 있다.

또한 본 발명은 상술한 바와 같이 베이스필름의 상면에서 1~10㎛ 선폭의 양각형의 패턴을 형성함에 따라서 베이스필름을 제외한 수지계열의 구성요소가 포함되지 않기에 투과율 및 해이즈(Haze)가 향상될 수 있고, 터치패널에 적용시에 더욱 민감한 터치의 센싱이 가능하다.

이상에서 본 발명은 기재된 구체 예에 대해서 상세히 설명하였지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.

11 : 제어부 12 : 이송부
13 : 필름공급부 14 : 감광제 도포부
15 : 분리부 16, 16' : 경화부
17 : 충진부 18 : 플라즈마 에칭부
19 : 현상부 100 : 양각몰드
110 : 양각부 200 : 감광제
210 : 제1수지층 211 ; 제1음각부
220 : 제2수지층 221 : 제2음각부
300 : 베이스필름 400 : 전도성 물질
410 : 패턴

Claims (4)

1. 패턴의 폭과 일치되도록 다 수개의 돌기가 양각된 양각부를 구비한 양각몰드 제조단계;
   상기 양각몰드의 상면에 상기 양각부 사이의 빈 공간에 액상의 감광제를 도포하여 제1수지층을 형성하고, 상기 제1수지층의 상면에 감광제를 도포하여 제2수지층을 도포하는 수지 도포단계;
   상기 양각몰드의 상면에 도포된 상기 제1수지층과 제2수지층을 경화시키고, 베이스필름을 접착시키는 베이스필름 접착단계;
   상기 베이스필름 접착단계 이후에 상기 양각몰드를 분리시키고, 플라즈마 에칭으로 제1수지층을 제거하고, 제2수지층에 제2음각부를 형성하는 플라즈마 에칭단계;
   상기 플라즈마 에칭단계 이후에 상기 제2수지층의 제2음각부에 전도성 물질을 충진 및 경화시키는 전도성 물질 충진단계; 및
   상기 전도성 물질 충진단계 이후에 현상액을 도포하여 상기 제2수지층을 제거하여 상기 베이스필름의 상면에서 패턴을 형성하는 양각패턴 형성단계를 포함하는 플라즈마 에칭공정을 이용한 투명전극필름의 제조방법.
   
   
2. 삭제
3. 삭제
4. 삭제

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