KR101580372B1 - Touch Sensor - Google Patents

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KR101580372B1
KR101580372B1 KR1020130162829A KR20130162829A KR101580372B1 KR 101580372 B1 KR101580372 B1 KR 101580372B1 KR 1020130162829 A KR1020130162829 A KR 1020130162829A KR 20130162829 A KR20130162829 A KR 20130162829A KR 101580372 B1 KR101580372 B1 KR 101580372B1
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electrode
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박장호
김운천
이진욱
오남근
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삼성전기주식회사
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Abstract

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서는 투명기판 및 상기 투명기판상에 형성되는 전극패턴을 포함하고, 상기 전극패턴은 적어도 둘 이상의 전극층이 적층되어 형성될 수 있다. 본 발명에 따르면, 전극패턴을 적어도 둘 이상의 전극층으로 형성함으로써, 전극패턴의 내부식성 및 시인특성을 향상시키고, 투명기판과 전극패턴의 접착신뢰성을 확보할 수 있는 효과가 있다. The touch sensor according to an embodiment of the present invention includes a transparent substrate and an electrode pattern formed on the transparent substrate, and the electrode pattern may be formed by stacking at least two electrode layers. According to the present invention, by forming the electrode pattern with at least two electrode layers, the corrosion resistance and visibility of the electrode pattern can be improved, and the adhesion reliability of the transparent substrate and the electrode pattern can be secured.

Description

터치센서{Touch Sensor}A touch sensor

본 발명은 터치센서에 관한 것이다. The present invention relates to a touch sensor.

디지털 기술을 이용하는 컴퓨터가 발달함에 따라 컴퓨터의 보조 장치들도 함께 개발되고 있으며, 개인용 컴퓨터, 휴대용 전송장치, 그 밖의 개인 전용 정보처리장치 등은 키보드, 마우스와 같은 다양한 입력장치(Input Device)를 이용하여 텍스트 및 그래픽 처리를 수행한다.With the development of computers using digital technology, auxiliary devices of computers are being developed together. Personal computers, portable transmission devices, and other personal information processing devices use various input devices such as a keyboard and a mouse And performs text and graphics processing.

하지만, 정보화 사회의 급속한 진행에 따라 컴퓨터의 용도가 점점 확대되는 추세에 있는 바, 현재 입력장치 역할을 담당하는 키보드 및 마우스만으로는 효율적인 제품의 구동이 어려운 문제점이 있다. 따라서, 간단하고 오조작이 적을 뿐 아니라, 누구라도 쉽게 정보입력이 가능한 기기의 필요성이 높아지고 있다.However, as the use of computers is gradually increasing due to the rapid progress of the information society, there is a problem that it is difficult to efficiently operate a product by using only a keyboard and a mouse which are currently playing an input device. Therefore, there is an increasing need for a device that is simple and less error-prone, and that allows anyone to easily input information.

또한, 입력장치에 관한 기술은 일반적 기능을 충족시키는 수준을 넘어서 고 신뢰성, 내구성, 혁신성, 설계 및 가공 관련기술 등으로 관심이 바뀌고 있으며, 이러한 목적을 달성하기 위해서 텍스트, 그래픽 등의 정보 입력이 가능한 입력장치로서 터치센서(Touch Panel)이 개발되었다.In addition, the technology related to the input device is shifting beyond the level that satisfies the general functions, such as high reliability, durability, innovation, design and processing related technology, etc. In order to achieve this purpose, As a possible input device, a touch sensor has been developed.

이러한 터치센서는 전자수첩, 액정표시장치(LCD; Liquid Crystal Display Device), PDP(Plasma Display Panel), El(Electroluminescence) 등의 평판 디스플레이 장치 및 CRT(Cathode Ray Tube)와 같은 디스플레이의 표시면에 설치되어, 사용자가 디스플레이를 보면서 원하는 정보를 선택하도록 하는데 이용되는 도구이다.Such a touch sensor is installed on the display surface of a display such as an electronic notebook, a flat panel display device such as a liquid crystal display device (LCD), a plasma display panel (PDP), and an el (electroluminescence) and a cathode ray tube And is a tool used to allow the user to select desired information while viewing the display.

또한, 터치센서의 종류는 저항막방식(Resistive Type), 정전용량방식(Capacitive Type), 전기자기장방식(Electro-Magnetic Type), 소오방식(SAW Type; Surface Acoustic Wave Type) 및 인프라레드방식(Infrared Type)으로 구분된다. 이러한 다양한 방식의 터치센서는 신호 증폭의 문제, 해상도의 차이, 설계 및 가공 기술의 난이도, 광학적 특성, 전기적 특성, 기계적 특성, 내환경 특성, 입력 특성, 내구성 및 경제성을 고려하여 전자제품에 채용되는데, 현재 가장 광범위한 분야에서 사용하는 방식은 저항막방식 터치센서과 정전용량방식 터치센서가다.
In addition, the types of touch sensors include Resistive Type, Capacitive Type, Electro-Magnetic Type, SAW (Surface Acoustic Wave Type) and Infrared Type). These various types of touch sensors are employed in electronic products in consideration of problems of signal amplification, difference in resolution, difficulty in design and processing technology, optical characteristics, electrical characteristics, mechanical characteristics, environmental characteristics, input characteristics, durability and economical efficiency Currently, the most widely used methods are resistive touch sensors and capacitive touch sensors.

한편, 터치센서는 하기의 선행기술문헌에 기재된 특허문헌과 같이, 금속을 이용하여 전극패턴을 형성하려는 연구가 활발히 진행되고 있다. 이와 같이, 금속으로 전극패턴을 형성하면, 전기전도도가 우수하며, 수급이 원활하다는 장점이 있다. 다만, 금속으로 전극패턴을 형성하는 경우, 사용자에게 전극패턴이 시인될 수 있는 문제점이 있었다. 특히, 전극패턴을 형성하기 위한 패터닝 과정에서 전극패턴의 하부의 에칭정도의 차이로 인한 미세패턴구현의 어려움, 전도성을 위해 사용되는 금속전극의 불투명성에 의한 전극패턴 시인문제, 노출된 전극패턴이 내부식성에 의한 신뢰성 저감 등의 다양한 문제점이 있었다. On the other hand, as for the touch sensor, studies have been actively made to form an electrode pattern using metal as in the patent documents described in the following prior art documents. When the electrode pattern is formed of metal as described above, it has an advantage that the electric conductivity is excellent and the supply and discharge is smooth. However, when the electrode pattern is formed of metal, there is a problem that the electrode pattern can be viewed by the user. Particularly, in the patterning process for forming the electrode pattern, it is difficult to realize a fine pattern due to the difference in etching degree of the lower part of the electrode pattern, a problem of the electrode pattern visibility due to the opacity of the metal electrode used for conductivity, And a reduction in reliability due to corrosion.

JPJP 2011-1759672011-175967 A1A1

본 발명은 상술한 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 일실시예에 따르면 터치센서의 전극패턴을 적어도 둘 이상의 적층구조를 이용함으로써 전극패턴의 노출부의 내부식성 및 전극패턴과 투명기판사이의 접착 신뢰성을 보다 향상시키기 위한 것이다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the problems of the prior art described above. According to one embodiment of the present invention, the electrode pattern of the touch sensor is made of at least two laminated structures, In order to further improve the adhesion reliability.

또한, 터치센서가 사용자에 의해 시인되는 노출부의 전극패턴을 이종재질로 형성함으로써 전도성금속에 의한 전극패턴 시인문제를 해결하기 위한 것이다. Further, the present invention is intended to solve the problem that the electrode pattern of the exposed portion where the touch sensor is visually recognized by the user is made of a different material so that the electrode pattern is visible by the conductive metal.

또한, 터치센서의 전극패턴을 형성하는 다층 구조의 전극층을 합금층으로 형성하되, 내부식성 또는 시인성 등의 특징에 따라 관련 재료의 적절한 함량 비율을 제어함으로써 전극패턴의 전도성 확보와 더불어, 문제되는 전극패턴 시인성과 내부식성을 동시에 해결할 수 있는 것이다. In addition, the electrode layer of the multi-layer structure forming the electrode pattern of the touch sensor is formed of the alloy layer, and the proper content ratio of the related material is controlled according to characteristics such as corrosion resistance or visibility, Pattern visibility and corrosion resistance can be solved at the same time.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서는 투명기판; 및 상기 투명기판상에 형성되는 전극패턴을 포함하고, 상기 전극패턴은 적어도 둘 이상의 전극층이 적층되어 형성될 수 있다. A touch sensor according to an embodiment of the present invention includes a transparent substrate; And an electrode pattern formed on the transparent substrate, wherein the electrode pattern is formed by stacking at least two electrode layers.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 전극층은 상기 투명기판 일면으로부터 제1 전극층인 기재층 및 제2 전극층인 도전층이 순차적으로 적층되어 형성될 수 있다. In the touch sensor according to an embodiment of the present invention, the electrode layer may be formed by sequentially laminating a base layer, which is a first electrode layer, and a conductive layer, which is a second electrode layer, from one surface of the transparent substrate.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 전극층은 상기 제2 전극층상에 제3 전극층인 표면층이 더 적층되어 형성될 수 있다. In the touch sensor according to an embodiment of the present invention, the electrode layer may be formed by laminating a surface layer as a third electrode layer on the second electrode layer.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 전극패턴의 전기적 연결을 위해 상기 전극패턴에 연결되며,상기 전극패턴의 각각의 전극층에 대응되도록 복수의 대응되는 전극배선층을 구비한 전극배선을 더 포함할 수 있다. The touch sensor according to an embodiment of the present invention may further include electrode wirings connected to the electrode patterns for electrical connection of the electrode patterns and having a plurality of corresponding electrode wiring layers corresponding to the respective electrode layers of the electrode patterns .

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 전극패턴은 메쉬패턴으로 형성될 수 있다. In the touch sensor according to an embodiment of the present invention, the electrode pattern may be formed in a mesh pattern.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 전극배선의 전기적 연결을 위한 전극배선 일단에 형성된 메쉬형 접속패드를 더 포함할 수 있다. The touch sensor according to an embodiment of the present invention may further include a mesh-type connection pad formed at one end of an electrode wiring for electrical connection of the electrode wiring.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제2 전극층은 상기 제1 전극층 보다 도전성이 높게 형성될 수 있다. In the touch sensor according to an embodiment of the present invention, the second electrode layer may have a higher conductivity than the first electrode layer.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제1 전극층은 상기 제2 전극층 보다 반사율이 낮은 터치센서.The touch sensor according to an embodiment of the present invention is characterized in that the first electrode layer has a reflectance lower than that of the second electrode layer.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제1 전극층은 CuNi, NiCr, Ti 및 Mo 또는 이들의 합금으로 이루어진 군으로부터 적어도 하나 이상 선택될 수 있다. The first electrode layer may be at least one selected from the group consisting of CuNi, NiCr, Ti, and Mo, or an alloy thereof, according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제2 전극층은 Cu, Al 및 Ag 또는 이들의 합금으로 이루어진 군으로부터 적어도 하나 이상 선택될 수 있다. In the touch sensor according to an embodiment of the present invention, the second electrode layer may be at least one selected from the group consisting of Cu, Al, Ag, or an alloy thereof.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제3 전극층은 CuNi, NiCr, Ti 및 Mo 또는 이들의 합금으로 이루어진 군으로부터 적어도 하나 이상 선택될 수 있다. The third electrode layer may be at least one selected from the group consisting of CuNi, NiCr, Ti, and Mo, or an alloy thereof, according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제1 전극층 및 제3 전극층은 망간(Mn), 철(Fe) 또는 규소(Si)로 이루어진 군으로부터 적어도 하나 이상 선택된 것을 더 포함할 수 있다. In the touch sensor according to an embodiment of the present invention, the first electrode layer and the third electrode layer may further include at least one selected from the group consisting of manganese (Mn), iron (Fe), and silicon (Si).

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 망간(Mn), 철(Fe) 또는 규소(Si)가 0.1wt% 내지 3wt% 포함될 수 있다. The touch sensor according to an embodiment of the present invention may include 0.1 wt% to 3 wt% of manganese (Mn), iron (Fe), or silicon (Si).

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제1 전극층은 니켈(Ni)이 10wt% 내지 80wt% 포함될 수 있다. In the touch sensor according to an embodiment of the present invention, the first electrode layer may include 10 wt% to 80 wt% of nickel (Ni).

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제1 전극층은 니켈(Ni)이 20wt% 내지 70wt% 포함될 수 있다. In the touch sensor according to an embodiment of the present invention, the first electrode layer may include 20 wt% to 70 wt% of nickel (Ni).

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제3 전극층은 니켈(Ni)이 10wt% 내지 80wt% 포함될 수 있다. In the touch sensor according to an embodiment of the present invention, the third electrode layer may include 10 wt% to 80 wt% of nickel (Ni).

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제3 전극층은 니켈(Ni)이 20wt% 내지 70wt% 포함될 수 있다. In the touch sensor according to an embodiment of the present invention, the third electrode layer may contain 20 wt% to 70 wt% of nickel (Ni).

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제2 전극층은 구리(Cu) 및 니켈(Ni)을 포함하는 합금으로 형성될 수 있다. In the touch sensor according to an embodiment of the present invention, the second electrode layer may be formed of an alloy including copper (Cu) and nickel (Ni).

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제2 전극층은 구리(Cu) 및 니켈(Ni)을 포함하는 합금으로 상기 니켈(Ni)이 0.1wt% 내지 5wt% 포함될 수 있다. In the touch sensor according to an embodiment of the present invention, the second electrode layer is an alloy including copper (Cu) and nickel (Ni), and may include 0.1 wt% to 5 wt% of nickel (Ni).

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제1 전극층은 크롬(Cr)이 3wt% 내지 50wt% 포함될 수 있다. In the touch sensor according to an embodiment of the present invention, the first electrode layer may include chromium (Cr) in an amount of 3 wt% to 50 wt%.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제1 전극층은 크롬(Cr)이 5wt% 내지 70wt% 포함될 수 있다. In the touch sensor according to an embodiment of the present invention, the first electrode layer may include chromium (Cr) in an amount of 5 wt% to 70 wt%.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제3 전극층은 크롬(Cr)이 3wt% 내지 50wt% 포함될 수 있다. In the touch sensor according to an embodiment of the present invention, the third electrode layer may include chromium (Cr) in an amount of 3 wt% to 50 wt%.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제3 전극층은 크롬(Cr)이 5wt% 내지 70wt% 포함될 수 있다. In the touch sensor according to an embodiment of the present invention, the third electrode layer may include chromium (Cr) in an amount of 5 wt% to 70 wt%.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 투명기판은 투과율이 85%이상으로 형성될 수 있다. In the touch sensor according to an embodiment of the present invention, the transparent substrate may have a transmittance of 85% or more.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 투명기판은 수지층으로 형성될 수 있다. In the touch sensor according to an embodiment of the present invention, the transparent substrate may be formed of a resin layer.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 수지층은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리메틸메타아크릴레이트(PMMA), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리에테르술폰(PES), 고리형 올레핀 고분자(COC), TAC(Triacetylcellulose) 필름, 폴리비닐알코올(Polyvinyl alcohol; PVA) 필름, 폴리이미드(Polyimide; PI) 필름, 폴리스틸렌(Polystyrene; PS), 이축연신폴리스틸렌(K레진 함유 biaxially oriented PS; BOPS) 또는 그 조합으로 형성될 수 있다. As the touch sensor according to an embodiment of the present invention, the resin layer may be formed of at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polymethylmethacrylate (PMMA), polyethylene naphthalate (PEN), polyether sulfone ), Cyclic olefin polymer (COC), TAC (triacetylcellulose) film, polyvinyl alcohol (PVA) film, polyimide (PI) film, polystyrene (PS), biaxially oriented polystyrene biaxially oriented PS (BOPS), or a combination thereof.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 투명기판은 유리 또는 강화유리로 형성될 수 있다. In the touch sensor according to an embodiment of the present invention, the transparent substrate may be formed of glass or tempered glass.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제1 전극층의 적층방향 두께는 상기 제2 전극층의 두께보다 더 얇게 형성될 수 있다. In the touch sensor according to an embodiment of the present invention, the thickness of the first electrode layer in the stacking direction may be smaller than the thickness of the second electrode layer.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제1 전극층의 적층방향 두께(d1), 상기 제2 전극층의 적층방향 두께(d2) 및 상기 제3 전극층의 적층방향 두께(d3)는 d1 < d3 < d2의 관계식을 만족할 수 있다. The thickness d1 of the first electrode layer in the laminating direction, the thickness d2 of the second electrode layer in the laminating direction, and the thickness d3 of the third electrode layer in the laminating direction are d1 < d3 < d2 can be satisfied.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제1 전극층의 적층방향 두께(d1), 상기 제2 전극층의 적층방향 두께(d2) 및 상기 제3 전극층의 적층방향 두께(d3)의 합이 0.05㎛ 내지 2㎛으로 형성될 수 있다. In the touch sensor according to an embodiment of the present invention, the sum of the thickness d1 in the laminating direction of the first electrode layer, the thickness d2 in the laminating direction of the second electrode layer, and the thickness d3 in the laminating direction of the third electrode layer is And may be formed in a range of 0.05 탆 to 2 탆.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제1 전극층의 적층방향의 두께는 0.01㎛ 내지 1.935㎛으로 형성될 수 있다. In the touch sensor according to an embodiment of the present invention, the thickness of the first electrode layer in the laminating direction may be set to 0.01 mu m to 1.935 mu m.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제2 전극층의 적층방향 두께는 0.04㎛ 내지 1.975㎛으로 형성될 수 있다. In the touch sensor according to an embodiment of the present invention, the thickness of the second electrode layer in the stacking direction may be 0.04 mu m to 1.975 mu m.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제3 전극층의 적층방향 두께는 0.015㎛ 내지 1.95㎛으로 형성될 수 있다. In the touch sensor according to an embodiment of the present invention, the thickness of the third electrode layer in the stacking direction may be 0.015 m to 1.95 m.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제1 전극층의 적층방향 두께(d1), 상기 제2 전극층의 적층방향 두께(d2) 및 상기 제3 전극층의 적층방향 두께(d3)는 d2/(d1+d2+d3)×100 의 값이 2% 내지 98.75%를 만족할 수 있다.
The thickness d1 of the first electrode layer in the stacking direction, the thickness d2 in the stacking direction of the second electrode layer, and the thickness d3 in the stacking direction of the third electrode layer are d2 / the value of (d1 + d2 + d3) x100 may satisfy 2% to 98.75%.

본 발명의 특징 및 이점들은 첨부도면에 의거한 다음의 상세한 설명으로 더욱 명백해질 것이다.The features and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description based on the accompanying drawings.

이에 앞서 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이고 사전적인 의미로 해석되어서는 아니 되며, 발명자가 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합되는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.Prior to that, terms and words used in the present specification and claims should not be construed in a conventional and dictionary sense, and the inventor may properly define the concept of the term in order to best explain its invention It should be construed as meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention.

본 발명에 따르면, 전극패턴을 적어도 둘 이상의 전극층으로 형성함으로써, 전극패턴의 내부식성 및 시인특성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다. According to the present invention, by forming the electrode pattern with at least two electrode layers, corrosion resistance and visibility characteristics of the electrode pattern can be improved.

또한, 터치센서의 전극패턴의 다층 구조를 통해, 투명기판에 접하는 전극패턴의 전극층을 박막층으로 함으로써 투명기판과의 접착력을 보다 향상시킬 수 있는 효과가 있다. Further, the electrode layer of the electrode pattern in contact with the transparent substrate is formed as a thin layer through the multi-layer structure of the electrode pattern of the touch sensor, whereby the adhesive force to the transparent substrate can be further improved.

또한, 사용자에 의해 시인되는 최외곽에 노출되는 전극패턴 상부 전극층을 니켈(Ni)을 포함한 합금층으로 형성함으로써 사용자에 의한 전극패턴의 시인을 저감시킬 수 있는 효과가 있다. Further, since the electrode pattern upper electrode layer exposed to the outermost portion recognized by the user is formed of an alloy layer containing nickel (Ni), there is an effect that the visibility of the electrode pattern by the user can be reduced.

또한, 터치센서의 전극패턴의 내부식성 향상을 위해 전극패턴의 노출된 전극층에는 망간(Mn), 철(Fe) 및 규소(Si)를 포함하는 합금으로 형성함으로써 보다 효과적으로 내부식성에 대한 신뢰성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다. Further, in order to improve the corrosion resistance of the electrode pattern of the touch sensor, the exposed electrode layer of the electrode pattern is formed of an alloy containing manganese (Mn), iron (Fe), and silicon (Si) There is an effect that can be made.

또한, 터치센서 전극패턴의 투명기판과 접촉되는 부분의 전극층을 니켈(Ni)을 포함한 합금층의 박막으로 형성함으로써, 전극패턴 형성시 수반되는 에칭공정시에 에칭레이트(etching rate)를 향상시켜 미세패턴 구현을 확보할 수 있는 효과가 있다. Further, by forming the electrode layer of the portion of the touch sensor electrode pattern that is in contact with the transparent substrate with a thin film of an alloy layer containing nickel (Ni), the etching rate during the etching process accompanying the electrode pattern formation can be improved, It is possible to secure the pattern implementation.

또한, 전극패턴의 투명기판과 접촉되는 전극층을 박막형태의 합금층으로 형성하여 전극패턴의 접착력을 향상시킴으로써, 터치센서의 작동성능 및 구동의 신뢰성을 보다 용이하게 확보할 수 있는 효과가 있다.
Further, the electrode layer in contact with the transparent substrate of the electrode pattern is formed of an alloy layer in the form of a thin film to improve the adhesive force of the electrode pattern, so that the operating performance and the reliability of the driving can be more easily ensured.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 전극패턴의 평면도;
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 터치센서의 단면도;
도 3은 본 발명의 일 실시예에 다른 터치센서의 단면도;
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치센서의 단면도;
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 터치센서의 단면도;
도 6 내지 8은 본 발명의 다수개의 전극층으로 형성되는 전극패턴의 실시예에 따른 각 전극패턴의 부분확대 단면도; 및
도 9는 본 발명의 일실시예에 따른 터치센서의 전극배선의 구조를 도시한 도면이다.
1 is a plan view of an electrode pattern according to an embodiment of the present invention;
2 is a cross-sectional view of a touch sensor according to an embodiment of the present invention;
3 is a cross-sectional view of a touch sensor according to an embodiment of the present invention;
4 is a cross-sectional view of a touch sensor according to another embodiment of the present invention;
5 is a sectional view of a touch sensor according to another embodiment of the present invention;
6 to 8 are partial enlarged sectional views of electrode patterns according to an embodiment of an electrode pattern formed of a plurality of electrode layers of the present invention; And
9 is a view showing a structure of an electrode wiring of a touch sensor according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 목적, 특정한 장점들 및 신규한 특징들은 첨부된 도면들과 연관되어지는 이하의 상세한 설명과 바람직한 실시예들로부터 더욱 명백해질 것이다. 본 명세서에서 각 도면의 구성요소들에 참조번호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 한해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 번호를 가지도록 하고 있음에 유의하여야 한다. 또한, "일면", "타면", "제1", "제2" 등의 용어는 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하기 위해 사용되는 것으로, 구성요소가 상기 용어들에 의해 제한되는 것은 아니다. 이하, 본 발명을 설명함에 있어서, 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있는 관련된 공지 기술에 대한 상세한 설명은 생략한다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The objectives, specific advantages and novel features of the present invention will become more apparent from the following detailed description taken in conjunction with the accompanying drawings, in which: FIG. It should be noted that, in the present specification, the reference numerals are added to the constituent elements of the drawings, and the same constituent elements are assigned the same number as much as possible even if they are displayed on different drawings. Also, the terms "one side,"" first, "&quot;first,"" second, "and the like are used to distinguish one element from another, no. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In the following description of the present invention, detailed description of related arts which may unnecessarily obscure the gist of the present invention will be omitted.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일실시예를 상세히 설명하기로 한다.
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 전극패턴의 평면도이고, 도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 터치센서의 단면도이다.
FIG. 1 is a plan view of an electrode pattern according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view of a touch sensor according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서는 투명기판(10) 및 상기 투명기판(10)상에 형성되는 전극패턴(20)을 포함하고, 상기 전극패턴(20)은 적어도 둘 이상의 전극층(20a)이 적층되어 형성될 수 있다.
A touch sensor according to an embodiment of the present invention includes a transparent substrate 10 and an electrode pattern 20 formed on the transparent substrate 10. The electrode pattern 20 includes at least two electrode layers 20a, May be stacked.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서는 투명기판(10) 일면 및 타면에 전극패턴(20)이 각각 형성될 수 있다. 도 1에 도시된 바와 같이 제1 전극패턴(21)과 제2 전극패턴(22)이 상호 교차하도록 전극패턴(20)을 바앤바(Bar & Bar)타입으로 형성할 수 있다. 바앤바타입은 도 1에 도시된 바와 같이 교차되는 양 전극패턴(20)이 막대형의 타입으로 각 전극패턴(20)의 폭(단방향의 폭을 의미)이 상호 대응되도록 형성될 수 있다. 그러므로 X축 방향(일방향)의 제1 전극패턴(21)과 제1 전극패턴에 교차되는 Y축 방향(다른 방향)의 제2 전극패턴(22)으로 형성되어 2차원 평면에서의 터치좌표를 추출할 수 있다. In the touch sensor according to an embodiment of the present invention, the electrode pattern 20 may be formed on one surface and the other surface of the transparent substrate 10, respectively. As shown in FIG. 1, the electrode pattern 20 may be formed in a Bar & Bar type so that the first electrode pattern 21 and the second electrode pattern 22 cross each other. As shown in FIG. 1, the bar-and-bar type can be formed such that the two electrode patterns 20 intersecting with each other are of a rod-like type, and the widths of the respective electrode patterns 20 (meaning width in one direction) are mutually associated. Therefore, the first electrode pattern 21 in the X-axis direction (one direction) and the second electrode pattern 22 in the Y-axis direction (the other direction) intersecting the first electrode pattern extract the touch coordinates in the two- can do.

도 2는 이러한 전극패턴(20)이 투명기판(10)의 일면상에 형성된 것을 도시한 것으로, 상호교차되는 제1 전극패턴(21)과 제2 전극패턴(22)을 투명기판(10)의 일면상에 동시에 형성한 것을 도시하였다. 하나의 평면에 두 방향으로 교차되는 전극패턴(20)을 형성하는 경우, 전극패턴(20)이 상호 교차되는 지점에 절연패턴(미도시)을 형성함으로써, 제1 전극패턴(21)과 제2 전극패턴(22)을 하나의 층으로 형성할 수 있다.
FIG. 2 illustrates that the electrode pattern 20 is formed on one side of the transparent substrate 10. The first electrode pattern 21 and the second electrode pattern 22 intersecting each other are formed on the transparent substrate 10 Are simultaneously formed on one surface. An insulating pattern (not shown) is formed at a position where the electrode patterns 20 cross each other to form the electrode patterns 20 crossing in two directions on one plane, The electrode pattern 22 can be formed as one layer.

또한, 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 터치센서는 윈도우기판(10a)상에 직접 제1 전극패턴(21)을 형성한 후, 제1 전극패턴(21)상에 박막의 수지층(10b)을 도포한 후, 수지층(10b) 상에 제2 전극패턴(22)을 형성할 수 있다. 윈도우기판(10a)상에 직접 전극패턴(20)을 형성함으로써 터치센서의 감도를 향상시킬 수 있으며, 더불어, 별도의 투명기판(10)의 구성을 생략함으로써 터치센서의 박형화를 구현할 수 있다.
3, a touch sensor according to an embodiment of the present invention includes a first electrode pattern 21 formed directly on a window substrate 10a, a second electrode pattern 21 formed on the first electrode pattern 21, The second electrode pattern 22 can be formed on the resin layer 10b after the thin resin layer 10b is coated. The sensitivity of the touch sensor can be improved by forming the electrode pattern 20 directly on the window substrate 10a and the thickness of the touch sensor can be realized by omitting the structure of the separate transparent substrate 10. [

다른 실시예로써, 도 4에 도시된 바와 같이, 투명기판(10) 일면상에 X축방향의 제1 전극패턴(21)과 투명기판(10) 타면상에 제1 전극패턴(21)에 교차되는 Y축방향의 제2 전극패턴(22)이 형성될 수 있다. 교차되는 제1 전극패턴(21)과 제2 전극패턴(22)의 교차각은 수직한 것으로 도시하였으나, 그 교차각에 특별히 한정되는 것은 아니며, 2차원 평면에서의 좌표를 추출하기 위해 X축과 Y축의 좌표가 나올 수 있도록 적절한 각도로 교차되는 것이 적절할 것이다.
4, the first electrode pattern 21 in the X-axis direction and the first electrode pattern 21 on the other surface of the transparent substrate 10 are alternately arranged on the surface of the transparent substrate 10, The second electrode pattern 22 in the Y-axis direction can be formed. Although the intersection angle of the first electrode pattern 21 and the second electrode pattern 22 intersecting is shown as being perpendicular to each other, it is not particularly limited to the intersection angle of the first electrode pattern 21 and the second electrode pattern 22. In order to extract coordinates in the two- It would be appropriate to intersect at an appropriate angle so that the Y-axis coordinates can be obtained.

도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 터치센서는, 제1 투명기판(11)과 제2 투명기판(12)으로 형성되고, 제1 투명기판(11)상에 형성되는 제1 전극패턴(21)과 제1 전극패턴(21)에 마주하며 제1 전극패턴(21)에 교차되는 방향으로 형성되는 제2 전극패턴(22)이 제2 투명기판(12)에 형성될 수 있다. 이러한 제1 투명기판(11)과 제2 투명기판(12)이 투명접착제 등의 접착층(40)에 의해 결합됨으로써 터치센서가 제작될 수 있다. 최외곽층에는 터치센서의 전극패턴(20) 보호를 위한 보호층으로써 윈도우기판(10a)이 더 포함될 수 있다. 윈도우기판(10a)은 강화유리 등으로 형성될 수 있으며, 보호층의 역할을 할 수 있는 재질에 의한 코팅처리로 형성될 수 있음은 물론이다.
5, a touch sensor according to another embodiment of the present invention includes a first transparent substrate 11 and a second transparent substrate 12, and is formed on a first transparent substrate 11 A second electrode pattern 22 is formed on the second transparent substrate 12 so as to face the first electrode pattern 21 and formed in a direction intersecting the first electrode pattern 21, . The first transparent substrate 11 and the second transparent substrate 12 are bonded to each other by an adhesive layer 40 such as a transparent adhesive, so that a touch sensor can be manufactured. The outermost layer may further include a window substrate 10a as a protective layer for protecting the electrode pattern 20 of the touch sensor. The window substrate 10a may be formed of tempered glass or the like and may be formed by a coating process using a material capable of acting as a protective layer.

여기서, 제1 전극패턴(21) 또는 제2 전극패턴(22)은 투명기판(10)의 일면 또는 타면으로부터 순차적으로 형성되는 제1 전극층(20a-1), 제2 전극층(20a-2) 및 제3 전극층(20a-3)을 포함할 수 있다. 여기서, 제1 전극패턴(21) 및 제2 전극패턴(22) 모두에 상기와 같은 제1 전극층(20a-1), 제2 전극층(20a-2) 및 제3 전극층(20a-3)을 형성할 수 있을 뿐만 아니라, 어느 하나의 전극패턴(20) 중 터치센서 사용자에 시인되도록 노출되는 전극패턴(20)상에 선택적으로 복수의 전극층(20a)을 형성할 수 있음은 물론이다. The first electrode pattern 21 or the second electrode pattern 22 includes a first electrode layer 20a-1, a second electrode layer 20a-2, and a first electrode layer 20a-1 formed sequentially from one side or the other side of the transparent substrate 10, And a third electrode layer 20a-3. The first electrode layer 20a-1, the second electrode layer 20a-2, and the third electrode layer 20a-3 are formed on both the first electrode pattern 21 and the second electrode pattern 22 It is needless to say that a plurality of electrode layers 20a can be selectively formed on the electrode pattern 20 exposed to the user of the touch sensor among any one of the electrode patterns 20.

본 발명의 다른 실시예에 따른 터치센서는 투명기판(10)과 전극패턴(20)의 구조만 상기 일실시예와 다를 뿐, 전극패턴(20)이 전극층(20a)의 적층구조로 형성됨에 있어서, 동일하게 사용되는 제1 전극층(20a-1), 제2 전극층(20a-2) 및 제3 전극층(20a-3)의 재질 및 특성에 관한 구체적인 설명은 후술하기로 한다.
In the touch sensor according to another embodiment of the present invention, only the structure of the transparent substrate 10 and the electrode pattern 20 is different from that of the above embodiment. In the electrode pattern 20, the electrode layer 20a is formed in a laminated structure The material and characteristics of the first electrode layer 20a-1, the second electrode layer 20a-2, and the third electrode layer 20a-3 used in the same manner will be described later in detail.

또한, 터치센서를 통해 사용자가 입력한 출력값을 나타내기 위한 디스플레이부(50)가 투명기판(10)의 타면에 접착될 수 있다. 디스플레이부(50)는 영상장치로써 LCD,OLED 등 다양한 디스플레이장치가 포함될 수 있으며, 특별한 종류의 장치에 한정되는 것은 아니다.
In addition, a display unit 50 for displaying an output value input by the user through the touch sensor may be adhered to the other surface of the transparent substrate 10. [ The display unit 50 may include various display devices such as an LCD and an OLED as a video device, and the present invention is not limited to a specific type of device.

터치센서의 투명기판(10)은 소정강도 이상을 보유한 재질로써 투과율이 85%이상을 갖는 것으로 디스플레이부(50)의 영상이 출력될 수 있는 것이라면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리메틸메타아크릴레이트(PMMA), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리에테르술폰(PES), 고리형 올레핀 고분자(COP), TAC(Triacetylcellulose) 필름, 폴리비닐알코올(Polyvinyl alcohol; PVA) 필름, 폴리이미드(Polyimide; PI) 필름, 폴리스틸렌(Polystyrene; PS), 이축연신폴리스틸렌(K레진 함유 biaxially oriented PS; BOPS), 유리 또는 강화유리 등으로 형성하는 것이 바람직하다. 또한, 투명기판(10)의 일면에는 전극패턴(20)이 형성될 수 있으므로 투명기판(10)과 전극패턴(20) 사이의 접착력을 향상시키기 위해서 투명기판(10)의 일면에 고주파 처리 또는 프라이머(primer) 처리 등을 수행하 여 표면처리층을 형성할 수 있다.
The transparent substrate 10 of the touch sensor is not particularly limited as long as the transparent substrate 10 has a transmittance of 85% or more and can output an image of the display unit 50. The transparent substrate 10 may be made of polyethylene terephthalate (PET) (PC), polymethylmethacrylate (PMMA), polyethylene naphthalate (PEN), polyether sulfone (PES), cyclic olefin polymer (COP), TAC (triacetylcellulose) film, polyvinyl alcohol PVA) film, a polyimide (PI) film, polystyrene (PS), biaxially oriented PS (BOPS containing K resin), glass or tempered glass. Since the electrode pattern 20 may be formed on one side of the transparent substrate 10, a high frequency treatment or primer may be applied to one surface of the transparent substrate 10 in order to improve the adhesive force between the transparent substrate 10 and the electrode pattern 20. a primer treatment may be performed to form a surface treatment layer.

전극패턴(20)은 투명기판(10)의 일면에 형성될 수 있다. 상기 서술한 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 다른 터치센서는 투명기판(10) 일면상에 교차되는 제1 전극패턴(21)과 제2 전극패턴(22)이 동시에 형성될 수 있다. 여기서 전극패턴은 금속세선으로 형성되는 메쉬패턴으로 형성되는 것이 적절하며, 그 메쉬패턴을 이루는 형상은 사각형, 삼각형, 다이아몬드형 등 다각형 형상을 포함하며, 특별한 형상에 한정을 두는 것은 아니다. 전극패턴(20)은 구리(Cu), 알루미늄(Al), 금(Au), 은(Ag), 티타늄(Ti), 팔라듐(Pd), 크롬(Cr), 니켈(Ni) 또는 이들 합금으로 이루어진 군으로부터 적어도 하나 이상 선택한 것으로 메시패턴(Mesh Pattern)을 형성할 수 있다.
The electrode pattern 20 may be formed on one surface of the transparent substrate 10. As described above, in the touch sensor according to the embodiment of the present invention, the first electrode pattern 21 and the second electrode pattern 22 intersecting on one surface of the transparent substrate 10 may be formed at the same time. Here, the electrode pattern is preferably formed of a mesh pattern formed of metal thin wires. The shape of the mesh pattern includes a polygonal shape such as a square shape, a triangle shape, and a diamond shape, and is not limited to a particular shape. The electrode pattern 20 is made of copper (Cu), aluminum (Al), gold (Au), silver (Ag), titanium (Ti), palladium (Pd), chromium (Cr), nickel A mesh pattern can be formed from at least one selected from the group.

전극패턴(20)의 형성방법은 건식 공정, 습식 공정 또는 다이렉트(direct) 패터닝 공정으로 형성할 수 있다. 여기서, 건식공정은 스퍼터링(Sputtering), 증착(Evaporation) 등을 포함하고, 습식 공정은 딥 코팅(Dip coating), 스핀 코팅(Spin coating), 롤 코팅(Roll coating), 스프레이 코팅(Spray coating) 등을 포함하며, 다이렉트 패터닝 공정은 스크린 인쇄법(Screen Printing), 그라비아 인쇄법(Gravure Printing), 잉크젯 인쇄법(Inkjet Printing) 등을 포함하는 것이다.
The electrode pattern 20 may be formed by a dry process, a wet process, or a direct patterning process. Here, the dry process includes sputtering, evaporation and the like, and the wet process includes dip coating, spin coating, roll coating, spray coating, etc. And the direct patterning process includes a screen printing method, a gravure printing method, an inkjet printing method, and the like.

또한, 포토리소그래피를 이용하여, 기판상에 전극패턴(20)상에 감광물질을 도포하고, 원하는 패턴으로 형성된 마스크를 이용하여 빛을 조사한다. 이때 빛을 받은 감광물질부분을 현상액으로 제거하거나, 빛을 받지 않은 부분을 현상액으로 제거하는 등 원하는 패턴을 형성하기 위한 현상공정을 진행한다 이후에, 감광물질이 특정 패턴으로 형성되고, 감광물질을 레지스트로 하여 에칭액으로 나머지 부분을 제거한 후, 감광물질을 제거하면, 원하는 패턴의 전극패턴(20)을 제작할 수 있다.
Further, a photoresist is coated on the electrode pattern 20 on the substrate by photolithography, and light is irradiated using a mask formed in a desired pattern. At this time, a development process is performed to form a desired pattern such as removing a light-sensitive photosensitive material portion with a developer, or removing a light-unexposed portion with a developer. Then, the photosensitive material is formed into a specific pattern, After removing the remaining portion with an etching solution as a resist and removing the photosensitive material, the electrode pattern 20 having a desired pattern can be manufactured.

또한, 다양한 전극 재료를 사용하여 미세한 선폭의 전극패턴(20)을 형성하기 위해서 Lift-off방식을 사용할 수 있다. In addition, a lift-off method can be used to form the electrode pattern 20 having a fine line width by using various electrode materials.

리프트오프방식은 상기의 증착공정이나 포토리소그래피 등의 공정보다 그 공정이 간단하며, 별도의 마스크 제작이 불필요하며, 고가의 노광장비를 사용하지 않는 이점이 있다. 본 발명의 일실시예에 따른 터치패널의 절연패턴(30)이나 전극패턴(20) 형성시 리프트오프방식을 사용하는 경우를 간단히 설명한다.The lift-off method has a simpler process than the vapor deposition process and the photolithography process, does not require a separate mask, and does not use expensive exposing equipment. A case of using the lift-off method in forming the insulation pattern 30 or the electrode pattern 20 of the touch panel according to an embodiment of the present invention will be briefly described.

먼저, 프린팅기법 등을 사용하여 미세 패턴을 형성하는 경우, 패턴 선폭의 정밀도를 좋게 하기 위해 기판상에 칸막이 부재인 뱅크(도면 미도시)를 형성한다. 투명기판(10)상에 소정영역으로부터 원하는 패턴 이외의 영역을 구획하도록 뱅크를 형성한다. 뱅크의 재료로는 포토 아크릴(Photo Acryl), 폴리 이미드(Polyimide), 폴리비닐알코올(Polyvinylalcohol), 폴리비닐클로라이드(polyvinyl chloride), 폴리아크릴 아마이드(polyacryl amide), 폴리에틸렌글리콜(polyethylene glycol) 등을 사용할 수 있으며, 이러한 재료의 선택은 절연패턴(30)이나 전극패턴(20)을 구성하는 물질이 용해되거나 손상되는 것을 방지하기 위함이므로, 전극패턴(20)의 물질에 따라 적절한 재료를 당업자에 의해 선택 적용할 수 있음은 물론이다. First, when a fine pattern is formed using a printing technique or the like, a bank (not shown) as a partition member is formed on the substrate to improve the accuracy of the pattern line width. A bank is formed on the transparent substrate 10 so as to partition a region other than a desired pattern from a predetermined region. Examples of the material of the bank are photo acryl, polyimide, polyvinylalcohol, polyvinyl chloride, polyacryl amide, polyethylene glycol, and the like. The selection of such a material is intended to prevent the material constituting the insulation pattern 30 or the electrode pattern 20 from being dissolved or damaged. Therefore, a material suitable for the material of the electrode pattern 20 may be selected by a person skilled in the art Of course, it can be applied selectively.

다음, 뱅크가 형성된 기판상에 전극패턴(20)에 사용되는 금속물질을 도포한다. 그 방법은 스크린프린팅, 오프셋 프린팅, 스핀코팅 등 다양한 방법이 선택적용될 수 있다. Next, a metal material used for the electrode pattern 20 is coated on the substrate on which the bank is formed. Various methods such as screen printing, offset printing, and spin coating can be selectively applied.

마지막으로, 리프트오프단계를 거쳐 전극패턴(20)을 형성할 수 있다. 본 단계는 전극패턴(20)이 형성된 뱅크부분을 리프트오프(lift-off)하는 공정을 수행하여, 원하는 전극패턴(20)을 형성할 수 있다. 여기서, 리프트오프방식의 일예로는, 뱅크를 구성하는 물질을 용해시키는 용액을 사용하여 뱅크를 제거하는 공정으로 이 단계에서 뱅크 상부에 형성된 전극패턴(20)도 함께 제거될 수 있다. 따라서, 뱅크를 포함하지 않는 전극패턴(20)만이 남아, 원하는 전극패턴(20)을 얻을 수 있는 것이다.
Finally, the electrode pattern 20 can be formed through a lift-off step. In this step, a desired electrode pattern 20 can be formed by performing a lift-off process on the bank portion where the electrode pattern 20 is formed. Here, as an example of the lift-off method, a step of removing a bank using a solution for dissolving a substance constituting the bank, and the electrode pattern 20 formed on the upper part of the bank at this step can also be removed together. Therefore, only the electrode pattern 20 that does not include the bank remains, and the desired electrode pattern 20 can be obtained.

이러한 메쉬패턴은 불투명한 금속세선을 이용하여 전극패턴(20)을 형성함에 따라 터치센서의 전극패턴(20)이 사용자에 의해 용이하게 시인되는 문제점이 있었다. 그러므로, 메쉬패턴을 포함하는 전극패턴(20)은 미세패턴으로 구현함과 함께 전극패턴(20)의 시인성을 저감시킬 필요가 있다. 또한, 금속성의 세선을 이용하여 전극패턴(20)을 형성함으로써 전위차 또는 양극-음극을 연결하는 전극배선에 연결됨에 따라 쉽게 부식될 수 있는 내구성의 문제 등이 발생될 수 있다.
This mesh pattern has a problem that the electrode pattern 20 of the touch sensor is easily recognized by the user as the electrode pattern 20 is formed using the opaque metal thin wire. Therefore, it is necessary that the electrode pattern 20 including the mesh pattern is realized as a fine pattern and the visibility of the electrode pattern 20 is reduced. Further, by forming the electrode pattern 20 using metallic fine wires, a potential difference or a durability that can easily be corroded due to being connected to the electrode wiring connecting the positive and negative electrodes may occur.

그러므로, 본 발명에서는 이러한 전극패턴(20)의 재질을 좀 더 효과적으로 조합하는 복수의 전극층(20a)을 형성하고, 전극패턴(20)의 부식 등을 방지하기 위한 별도 재질의 금속 들을 합금함으로써, 전극패턴(20)의 전도성을 확보할 수 있을 뿐만 아니라 전극패턴(20)의 내환경성 및 시인특성을 보다 효과적으로 향상킬 수 있는 터치센서를 제공한다.
Therefore, in the present invention, a plurality of electrode layers 20a for more effectively combining the materials of the electrode patterns 20 are formed, and alloying metals of different materials for preventing corrosion of the electrode patterns 20, A touch sensor capable of ensuring the conductivity of the pattern (20) as well as improving the environmental resistance and visibility characteristics of the electrode pattern (20).

본 발명의 전극패턴(20)은 상기와 같은 내환경성 및 시인특성의 향상을 위해 투명기판(10)상의 적층방향으로 적어도 둘 이상의 전극층(20a)을 형성할 수 있다.
The electrode pattern 20 of the present invention may form at least two electrode layers 20a in the stacking direction on the transparent substrate 10 in order to improve the environmental resistance and visibility as described above.

먼저, 도 6 내지 8에 도시된 바와 같이, 전극패턴(20)은 투명기판(10)의 일면으로부터 순차적으로 기재층(20a-1), 도전층(20a-2) 및 표면층(20a-3)으로 형성되거나(도 6 참조), 기재층(20a-1) 및 도전층(20a-2) 또는 도전층(20a-2) 및 표면층(20a-3) 형성되거나(도 7 및 도 8 참조) 이러한 층의 적층수는 특별히 제한되는 것은 아니며, 동일 또는 대응되는 관련 효과를 향상시키기 위한 당업자의 설계변경사항을 포함할 수 있다. 다만, 설명의 편의를 위하여 기재층을 제1 전극층(20a-1), 도전층을 제2 전극층(20a-2) 및 표면층을 제3 전극층(20a-3)으로 정의하여 설명하기로 한다. 또한, 그러한 명칭 및 기능으로 각 구성의 권리범위가 제한되는 것은 아니다.
6 to 8, the electrode pattern 20 sequentially forms the base layer 20a-1, the conductive layer 20a-2, and the surface layer 20a-3 from one side of the transparent substrate 10, 2 or the surface layer 20a-3 is formed (see Figs. 7 and 8), or the base layer 20a-1 and the conductive layer 20a-2 or the conductive layer 20a- The number of layers stacked is not particularly limited and may include those skilled in the art to improve the same or corresponding related effects. For convenience of explanation, the base layer is defined as the first electrode layer 20a-1, the conductive layer is defined as the second electrode layer 20a-2, and the surface layer is defined as the third electrode layer 20a-3. Further, such names and functions do not limit the scope of rights of each constitution.

투명기판(10)의 일면에 접촉되는 제1 전극층(20a-1)은 투명기판(10)과의 접착력을 확보하고, 전극패턴(20) 형성을 위해 수반될 수 있는 에칭공정에서의 에칭레이트(etching rate)를 향상시켜 미세 전극패턴(20)의 구현을 보다 용이하게 할 수 있다. 제3 전극층(20a-3)은 전극패턴(20)의 부식에 의한 전기적 신뢰성 저하를 방지하기 위한 내부식성 재질을 채용하거나, 최외곽에서 사용자에 의한 시인특성을 향상시키기 위한 재질로 형성하는 것이 적절하다. The first electrode layer 20a-1 which is in contact with one surface of the transparent substrate 10 ensures the adhesion with the transparent substrate 10 and the etching rate in the etching process which can be accompanied for forming the electrode pattern 20 the etching rate can be improved and the implementation of the fine electrode pattern 20 can be further facilitated. It is preferable that the third electrode layer 20a-3 is made of a corrosion-resistant material for preventing electrical reliability degradation due to corrosion of the electrode pattern 20, or formed of a material for improving visual characteristics by the user at the outermost periphery Do.

일련번호
Serial Number
전극재료Electrode material
기재층
(제1전극층)
The substrate layer
(First electrode layer)
조성(wt%)Composition (wt%) 도전층
(제2전극층)
Conductive layer
(Second electrode layer)
조성(wt%)Composition (wt%) 표면층
(제3전극층)
Surface layer
(Third electrode layer)
조성(wt%)Composition (wt%)
실시예 1Example 1 CuNiCuNi Ni(10~90)
Ni(20~70)
Ni (10 to 90)
Ni (20 to 70)
CuCu 98~10098-100 CuNiCuNi Ni(10~90)
Ni(20~70)
Ni (10 to 90)
Ni (20 to 70)
실시예 2Example 2 NiCrNiCr Cr(5~70)
Cr(3~50)
Cr (5 to 70)
Cr (3 to 50)
CuCu 98~10098-100 NiCrNiCr Cr(5~70)
Cr(3~50)
Cr (5 to 70)
Cr (3 to 50)
실시예 3Example 3 TiTi CuCu 98~10098-100 TiTi 실시예 4Example 4 MoMo CuCu 98~10098-100 MoMo 실시예 5Example 5 CuNiCuNi Ni(10~90)
Ni(20~70)
Ni (10 to 90)
Ni (20 to 70)
AlAl 98~10098-100 CuNiCuNi Ni(10~90)
Ni(20~70)
Ni (10 to 90)
Ni (20 to 70)
실시예 6Example 6 NiCrNiCr Cr(5~70)
Cr(3~50)
Cr (5 to 70)
Cr (3 to 50)
AlAl 98~10098-100 NiCrNiCr Cr(5~70)
Cr(3~50)
Cr (5 to 70)
Cr (3 to 50)
실시예 7Example 7 TiTi AlAl 98~10098-100 TiTi 실시예 8Example 8 MoMo AlAl 98~10098-100 MoMo 실시예 9Example 9 CuNiCuNi Ni(10~90)
Ni(20~70)
Ni (10 to 90)
Ni (20 to 70)
AgAg 80~9780 ~ 97 CuNiCuNi Ni(10~90)
Ni(20~70)
Ni (10 to 90)
Ni (20 to 70)
실시예 10Example 10 NiCrNiCr Cr(5~70)
Cr(3~50)
Cr (5 to 70)
Cr (3 to 50)
AgAg 80~9780 ~ 97 NiCrNiCr Cr(5~70)
Cr(3~50)
Cr (5 to 70)
Cr (3 to 50)
실시예 11Example 11 TiTi AgAg 80~9780 ~ 97 TiTi 실시예 12Example 12 MoMo AgAg 80~9780 ~ 97 MoMo

본 발명의 실시예에서는 제1 전극층(20a-1) 및 제2 전극층(20a-2) 또는 제1 전극층(20a-1), 제2 전극층(20a-2) 및 제3 전극층(20a-3)의 각 재료를 상기 예시된 표 1에서와 같이 실시예 1 내지 실시예 12를 각각 적절히 조합하여 적용할 수 있다.
The first electrode layer 20a-1 and the second electrode layer 20a-2 or the first electrode layer 20a-1, the second electrode layer 20a-2, and the third electrode layer 20a-3, Can be appropriately combined and applied to each of Embodiments 1 to 12 as shown in Table 1 shown above.

본 발명의 각 전극층이 재료는 기본적으로, 기재층인 제1 전극층(20a-1)은 구리와 니켈을 포함하는 합금, 니켈과 크롬을 포함하는 합금, 티타늄 또는 몰리브덴을 포함하는 합금을 사용할 수 있고, 제2 전극층(20a-2)은 구리, 알루미늄 또는 은을 사용할 수 있으며, 제3 전극층(20a-3)은 구리와 니켈을 포함하는 합금, 니켈과 크롬을 포함하는 합금, 티타늄 또는 몰리브덴을 각각 선택하여 적용할 수 있다. 각 실시예별로 기재되어 있지만, 제1 전극층(20a-1), 제2 전극층(20a-2) 및 제3 전극층(20a-3)의 재료는 각각 독립한 것으로, 제1 전극층(20a-1), 제2 전극층(20a-2) 및 제3 전극층(20a-3)에 사용될 수 있는 재료를 선택적으로 선택하여 각 전극층을 2층 또는 3층으로 조합하여 형성할 수 있음은 물론이며, 각 실시예상에 제시된 제1 전극층(20a-1), 제2 전극층(20a-2) 및 제3 전극층(20a-3)의 조합에 한정되는 것은 아니다.
Each of the electrode layers of the present invention is basically composed of an alloy including copper and nickel, an alloy including nickel and chromium, and an alloy including titanium or molybdenum as the first electrode layer 20a-1 as a base layer The second electrode layer 20a-2 may be made of copper, aluminum or silver, and the third electrode layer 20a-3 may be made of an alloy including copper and nickel, an alloy including nickel and chromium, titanium or molybdenum Can be selected and applied. The materials of the first electrode layer 20a-1, the second electrode layer 20a-2, and the third electrode layer 20a-3 are independent of each other, and the first electrode layer 20a-1, The second electrode layer 20a-2, and the third electrode layer 20a-3 may be selectively formed and the electrode layers may be formed in a combination of two or three layers. The present invention is not limited to the combination of the first electrode layer 20a-1, the second electrode layer 20a-2 and the third electrode layer 20a-3.

구체적으로, 제1 전극층(20a-1) 및 제3 전극층(20a-3)은 구리와 니켈의 합금으로 형성될 수 있다. 니켈은 전기전도성이 좋은 구리의 전극패턴(20)을 사용함에 따라 발생되는 구리의 시인특성을 경감시키기 위해 포함될 수 있다. 종래, 구리로 형성된 전극패턴(20)의 시인특성을 저감시키기 위한 흑화처리 등을 행하는 경우에는 흑화처리되는 전극패턴(20)의 상단면의 최소 면적을 확보하기 위해 전극패턴(20)의 두께를 일정 두께 이상으로 유지해야 하는 한계가 있었다. 그러나, 제3 전극층(20a-3)에 니켈을 포함한 합금으로 전극패턴(20)의 노출부에 적층시킴으로써 전극패턴(20)의 두께 제한을 받지 않고도 전극패턴(20)의 시인특성을 저감시킬 수 있는 것이다. 제1 전극층(20a-1) 및 제3 전극층(20a-3)을 이루는 니켈의 함량은 10wt% 내지 90wt%로 포함할 수 있으며, 보다 적절하게는 20wt% 내지 70wt% 포함될 수 있다. Specifically, the first electrode layer 20a-1 and the third electrode layer 20a-3 may be formed of an alloy of copper and nickel. Nickel may be included to alleviate the visible characteristics of copper that are generated as a result of using an electrically conductive copper electrode pattern (20). In the case of performing blackening treatment or the like for reducing the visibility characteristic of the electrode pattern 20 formed of copper, the thickness of the electrode pattern 20 is set so as to satisfy the minimum area of the upper surface of the electrode pattern 20 to be blackened There was a limit to be maintained at a certain thickness or more. However, by laminating the third electrode layer 20a-3 on the exposed portion of the electrode pattern 20 with an alloy containing nickel, the visibility characteristic of the electrode pattern 20 can be reduced without being limited by the thickness of the electrode pattern 20 It is. The nickel content of the first electrode layer 20a-1 and the third electrode layer 20a-3 may be 10wt% to 90wt%, more preferably 20wt% to 70wt%.

또한, 제1 전극층(20a-1)과 제3 전극층(20a-3)은 니켈과 크롬을 포함하는 합급으로 형성될 수 있다. 이경우 크롬은 5wt% 내지 70wt%로 포함할 수 있으며, 보다 적절하게는 3wt% 내지 50wt%로 포함할 수 있다. In addition, the first electrode layer 20a-1 and the third electrode layer 20a-3 may be formed of an alloy including nickel and chromium. In this case, chromium may be contained in an amount of 5 wt% to 70 wt%, more preferably 3 wt% to 50 wt%.

또한, 제1 전극층(20a-1)과 제3 전극층(20a-3)은 티타늄 또는 몰리브덴을 포함하는 합금으로 형성될 수 있다.
In addition, the first electrode layer 20a-1 and the third electrode layer 20a-3 may be formed of an alloy including titanium or molybdenum.

또한, 제3 전극층(20a-3)은 전극패턴(20)의 내부식성을 향상시키기 위한 망간, 철 또는 규소를 보다 더 포함시킬 수 있다. 망간, 철 또는 규소는 최소한의 범위로 포함시키는 것이 적절하며, 0.1wt% 내지 1wt% 포함시키는 것이 적절하다.
Further, the third electrode layer 20a-3 may further include manganese, iron or silicon for improving the corrosion resistance of the electrode pattern 20. It is appropriate to include manganese, iron or silicon in a minimum range, and it is appropriate to include 0.1 wt% to 1 wt%.

제2 전극층(20a-2)은 구리,알루미늄 또는 그 조합으로 형성될 수 있으며, 전기전도성을 고려하여 선택, 적용되는 것이 적절하다. 또한, 구리 또는 알루미늄은 전기전도성을 고려하여 98wt% 내지 100wt%로 형성되는 것이 적절하며, 은의 경우에는 80wt% 내지 97wt%를 포함하도록 형성하는 것이 적절하다. The second electrode layer 20a-2 may be formed of copper, aluminum, or a combination thereof. It is appropriate that the second electrode layer 20a-2 is selected and applied in consideration of electrical conductivity. In addition, it is preferable that copper or aluminum is formed to be 98wt% to 100wt% in consideration of electric conductivity, and it is appropriate to form it to include 80wt% to 97wt% in case of silver.

또한, 제2 전극층(20a-2)은 구리와 니켈의 합금으로 형성할 수 있으나, 전기전도성을 고려하여, 니켈은 0.1wt% 내지 5wt% 포함되도록 합금되는 것이 보다 적절할 것이다. 제2 전극층(20a-2)은 이외에도 전도성이 있는 금속이라면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 제1 전극층(20a-1) 및 제3 전극층(20a-3)과의 조합을 위해 전극층(20a)간의 접착력, 전극층(20a)간의 접촉으로 인한 화학적 특성 등을 고려하여 선택, 적용되는 적절할 것이다.
The second electrode layer 20a-2 may be formed of an alloy of copper and nickel. However, considering the electrical conductivity, it is more preferable that the alloy is alloyed so as to contain 0.1 wt% to 5 wt% of nickel. The second electrode layer 20a-2 is not particularly limited as long as it is a conductive metal. The adhesive strength between the electrode layers 20a for combination with the first electrode layer 20a-1 and the third electrode layer 20a-3, And chemical characteristics due to contact between the electrode layers 20a.

다음, 전극패턴(20)은 상기 설명한 제1 전극층(20a-1), 제2 전극층(20a-2) 및 제3 전극층(20a-3)의 세개의 층으로 형성될 수 있지만, 도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이, 제1 전극층(20a-1)과 제2 전극층(20a-2) 또는 제2 전극층(20a-2)과 제3 전극층(20a-3)의 두 개의 전극층(20a)으로 형성될 수 있음은 물론이다. 또한, 전극패턴(20)의 전극층(20a)의 적층구조에서, 투명기판(10)과 전극패턴(20)의 접촉면의 제1 전극층(20a-1)과, 최외곽층에 형성되는 제3 전극층(20a-3)의 내부식성 및 시인특성에 의한 재질적 특성을 만족하는 것이라면, 반드시 둘 또는 세개의 전극층(20a)에 한정되는 것은 아니다. 다만, 터치센서의 박형화 추세에 비추어, 전극패턴(20)의 두께를 적절히 고려하여 적층구조 및 수를 선택하는 것이 바람직할 것이다.
Next, although the electrode pattern 20 may be formed of three layers of the first electrode layer 20a-1, the second electrode layer 20a-2, and the third electrode layer 20a-3 described above, The electrode layer 20a of the first electrode layer 20a-1 and the second electrode layer 20a-2 or the second electrode layer 20a-2 and the third electrode layer 20a-3 Of course. In the laminated structure of the electrode layer 20a of the electrode pattern 20, the first electrode layer 20a-1 on the contact surface between the transparent substrate 10 and the electrode pattern 20 and the third electrode layer 20b- Is not necessarily limited to the two or three electrode layers 20a as long as it satisfies the material properties by the corrosion resistance and the visibility characteristics of the electrode layer 20a-3. However, in view of the trend of thinning of the touch sensor, it is desirable to select the lamination structure and the number considering the thickness of the electrode pattern 20 appropriately.

다음, 도 6을 참고하여, 터치센서의 전극패턴을 형성하는 제1 전극층, 제2 전극층(20a-2) 및 제3 전극층(20a-3)의 각 적층방향의 형성두께에 대하여 설명한다.
Next, with reference to FIG. 6, the thicknesses of the first electrode layer, the second electrode layer 20a-2, and the third electrode layer 20a-3 forming the electrode pattern of the touch sensor in the stacking direction will be described.

제1 전극층(20a-1)은 투명기판(10)과 전극패턴(20)의 접촉면에 형성되어, 투명기판(10)과 전극패턴(20)의 접촉력을 보다 향상시키기 위해 박막층으로 형성될 수 있다. 반면, 제3 전극층(20a-3)은 내부식성 및 전극패턴(20)의 시인특성 저감을 위해 형성되는 것으로, 제1 전극층(20a-1)에서는 적층방향 두께를 보다 두껍게 형성하는 것이 적절할 것이다.
The first electrode layer 20a-1 may be formed on the contact surface between the transparent substrate 10 and the electrode pattern 20 and may be formed as a thin film layer to further improve the contact force between the transparent substrate 10 and the electrode pattern 20 . On the other hand, the third electrode layer 20a-3 is formed for reducing corrosion resistance and visibility of the electrode pattern 20, and it is appropriate that the thickness of the first electrode layer 20a-1 is made thicker in the stacking direction.

구체적으로, 투명기판(10)일면으로부터 순차적으로 적층되는 제1 전극층(20a-1) 및 제2 전극층(20a-2)을 포함하도록 형성되는 경우에는 제1 전극층(20a-1)은 제2 전극층(20a-2)의 적층방향 두께보다 얇게 형성되는 것이 적절하다. 이러한 상대적 두께의 차이를 통해 기재층은 제1 전극층(20a-1)으로 통해 전극패턴이 투명기판에 접착되는 접착력을 보다 향상시켜 전극패턴의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
Specifically, when the first electrode layer 20a-1 is formed to include the first electrode layer 20a-1 and the second electrode layer 20a-2 sequentially stacked from one surface of the transparent substrate 10, the first electrode layer 20a- (20a-2) in the stacking direction. Through the difference in the relative thickness, the substrate layer can improve adhesion of the electrode pattern to the transparent substrate through the first electrode layer 20a-1, thereby improving the reliability of the electrode pattern.

제2 전극층(20a-2)상에 제3 전극층(20a-3)을 더 형성하는 경우에, 제3 전극층(20a-3)의 적층방향의 두께는 제2 전극층(20a-2)의 적층방향의 두께보다 더 얇게 형성될 수 있고, 제3 전극층(20a-3)의 적층방향 두께는 제1 전극층(20a-1)의 적층방향 두께보다는 더 얇게 형성되는 것이 적절하다.
In the case where the third electrode layer 20a-3 is further formed on the second electrode layer 20a-2, the thickness of the third electrode layer 20a-3 in the stacking direction is larger than the thickness of the second electrode layer 20a-2 in the stacking direction The thickness of the third electrode layer 20a-3 in the stacking direction may be formed to be thinner than the thickness of the first electrode layer 20a-1 in the stacking direction.

보다 구체적으로, 제1 전극층(20a-1)이 투명기판상에 기재층으로 제2 전극층(20a-2)의 접착력을 유지하기 위한 최소두께는 0.01㎛, 제2 전극층(20a-2)이 도전층으로 전극패턴의 전기적 신뢰성을 유지하기 위한 최소두께는 0.04㎛, 제3 전극층(20a-3)이 표면층으로 전극패턴의 시인성 및 부식방지 등을 유지하기 위한 최소두께는 0.015㎛로 각각 형성될 수 있다. More specifically, the minimum thickness of the first electrode layer 20a-1 for maintaining the adhesion of the second electrode layer 20a-2 to the substrate layer on the transparent substrate is 0.01 m, the second electrode layer 20a- The minimum thickness for maintaining the electrical reliability of the electrode pattern to the layer is 0.04 mu m and the minimum thickness for maintaining the visibility of the electrode pattern and corrosion prevention etc. of the third electrode layer 20a-3 is 0.015 mu m, respectively have.

따라서, 제1 전극층(20a-1), 제2 전극층(20a-2) 및 제3 전극층(20a-3)의 각 두께의 합은 0.05㎛ 내지 2㎛로 형성될 수 있다.
Therefore, the sum of the thicknesses of the first electrode layer 20a-1, the second electrode layer 20a-2, and the third electrode layer 20a-3 may be 0.05 占 퐉 to 2 占 퐉.

상기와 같은 관계속에서, 제1 전극층(20a-1)은 0.01㎛ 내지 1.945㎛로 형성되어 전극패턴의 박형화와 더불어 제2 전극층(20a-2)인 도전층의 투명기판상의 접착신뢰성을 확보할 수 있다. 제1 전극층(20a-1)의 최소범위 이하로 제1 전극층(20a-1)이 형성되는 경우에 접착력을 상실하여 도전층이 제2 전극층(20a-2)의 접착신뢰성을 확보할 수 없고, 1.935㎛를 초과하는 두께로 형성되는 경우에는 전극패턴의 박형화를 저해할 뿐만 아니라, 도전층인 제2 전극층(20a-2)과의 접착력을 오히려 와해시켜 제1 전극층(20a-1)의 본연의 기능을 수행할 수 없게 된다.
In the above relationship, the first electrode layer 20a-1 is formed to have a thickness of 0.01 m to 1.945 m, so that the reliability of adhesion of the conductive layer as the second electrode layer 20a-2 on the transparent substrate can be ensured . In the case where the first electrode layer 20a-1 is formed below the minimum range of the first electrode layer 20a-1, the adhesive force is lost and the conductive layer can not secure the adhesion reliability of the second electrode layer 20a-2, If the thickness of the first electrode layer 20a-1 is more than 1.935 占 퐉, the adhesion of the electrode layer 20a-2 to the second electrode layer 20a-2, which is the conductive layer, Function can not be performed.

제2 전극층(20a-2)은 0.04㎛ 내지 1.975㎛로 형성되너 도전층으로써 터치센서의 전극패턴에 의한 전기적인 신뢰성 및 작동성능을 확보할 수 있다. 제2 전극층(20a-2)의 두께가 0.04㎛ 미만으로 형성될 경우, 도전층으로써 전기적 신뢰성을 확보할 수 없으며, 1.975㎛를 초과하여 형성되는 경우 기재층인 제1 전극층(20a-1)에 의한 접착력의 확보를 유지할 수 없게 된다.
The second electrode layer 20a-2 is formed to have a thickness of 0.04 mu m to 1.975 mu m. As a conductive layer, electrical reliability and operating performance of the electrode pattern of the touch sensor can be secured. When the thickness of the second electrode layer 20a-2 is less than 0.04 mu m, the electrical reliability can not be secured as the conductive layer. When the thickness is more than 1.975 mu m, the first electrode layer 20a-1 It is impossible to secure the adhesion force by the adhesive.

제3 전극층(20a-3)은 0.015㎛ 내지 1.95㎛로 형성되어 표면층으로 전극패턴의 시인성을 저감시키고, 외부로 노출된 전극패턴의 부식을 방지할 수 있다. 제3 전극층(20a-3)의 두께가 0.015㎛ 미만으로 형성될 경우, 표면층으로써 도전층인 제2 전극층(20a-2)의 시인성 저감을 효과적으로 수행할 수 없으며, 1.95㎛를 초과하는 경우에는 전극패턴의 박형화를 방해할 뿐만 아니라, 과도한 표면층의 두께로 인해 전체적인 전극패턴의 전기적 신뢰성을 저해할 수 있는 문제가 있다.
The third electrode layer 20a-3 is formed to have a thickness of 0.015 mu m to 1.95 mu m to reduce the visibility of the electrode pattern to the surface layer and to prevent corrosion of the electrode pattern exposed to the outside. When the thickness of the third electrode layer 20a-3 is less than 0.015 탆, it is impossible to effectively reduce the visibility of the second electrode layer 20a-2, which is the conductive layer, as the surface layer. Not only hindering the thinning of the pattern but also causing a problem that the electrical reliability of the entire electrode pattern can be impaired due to the excessive thickness of the surface layer.

따라서, 상기의 제1 전극층(20a-1) 및 제2 전극층(20a-2) 또는 제1 전극층(20a-1), 제2 전극층(20a-2) 및 제3 전극층(20a-3)의 두께의 상대적 크기의 차이를 두고, 그러한 범위내에서 상기와 같은 각각의 두께를 설계함으로써 터치센서의 작동신뢰성뿐만 아니라, 불투명한 전극패턴을 사용함에 따른 시인성의 저감 및 노출된 전극패턴의 부식을 동시에 방지할 수 있는 이점이 있다.
Therefore, the thickness of the first electrode layer 20a-1 and the second electrode layer 20a-2 or the first electrode layer 20a-1, the second electrode layer 20a-2, and the third electrode layer 20a-3 It is possible to reduce the visibility due to the use of the opaque electrode pattern and to prevent the corrosion of the exposed electrode pattern at the same time as well as the operational reliability of the touch sensor by designing the respective thicknesses as described above within such a range There is an advantage to be able to do.

및 제3 전극층(20a-3)의 적층방향으로 형성되는 각 두께(d1, d2, d3)는 제1 전극층(20a-1)의 두께(d1)가 제3 전극층(20a-3)의 두께(d3)보다는 얇게 형성되며, 제3 전극층(20a-3)의 두께(d3)는 제2 전극층(20a-2)의 두께(d2)보다는 더 얇게 형성될 수 있다.
The thicknesses d1 and d2 of the first electrode layer 20a-1 and the thickness d1 of the third electrode layer 20a-3 formed in the stacking direction of the third electrode layer 20a-3, and the thickness d3 of the third electrode layer 20a-3 may be formed to be thinner than the thickness d2 of the second electrode layer 20a-2.

여기서, 제1 전극층(20a-1), 제2 전극층(20a-2) 및 제3 전극층(20a-3)의 특성 및 재질은 이미 설명한 세개의 전극층(20a) 구성과 동일하므로 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
Here, the characteristics and materials of the first electrode layer 20a-1, the second electrode layer 20a-2, and the third electrode layer 20a-3 are the same as those of the three electrode layers 20a described above, .

도 9는 본 발명의 일실시예에 따른 터치센서의 전극배선에 관한 실시예를 나타낸 도면이다.
9 is a view showing an embodiment of electrode wiring of a touch sensor according to an embodiment of the present invention.

도 9에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 터치센서의 전극배선(30)은 전극패턴(20)의 전기적 연결을 위해 전극패턴(20)에 연결되며, 전극패턴(20)을 이루는 전극층(20a)에 대응되도록 복수개의 전극배선층(30a)을 포함할 수 있다. 즉, 터치센서의 제조공정에서 전극패턴(20)의 제조공정과 동일한 방법으로 함께 제작됨으로써 전극패턴(20)의 전극층(20a)과 동일한 재질의 대응되는 전극배선층(30a)이 형성될 수 있다. 그러나, 전극배선층(30a)의 제조방법이나 재질은 특별히 한정되는 것은 아니므로, 전극배선(30) 자체의 부식이나 내환경성을 위한 전극배선층(30a)을 복수개로 적층하여 별도로 형성할 수 있음은 물론이다. 9, the electrode wiring 30 of the touch sensor according to an embodiment of the present invention is connected to the electrode pattern 20 for electrical connection of the electrode pattern 20, And a plurality of electrode wiring layers 30a corresponding to the electrode layers 20a. That is, the electrode wiring layer 30a of the same material as that of the electrode layer 20a of the electrode pattern 20 can be formed in the same manner as the manufacturing process of the electrode pattern 20 in the manufacturing process of the touch sensor. However, since the manufacturing method and material of the electrode wiring layer 30a are not particularly limited, a plurality of electrode wiring layers 30a for corrosion and environmental resistance of the electrode wiring 30 itself can be laminated and formed separately to be.

구체적으로, 도 9에 도시된 바와 같이, 전극배선(30)은 제1 전극배선층(30a-1), 제2 전극배선층(30a-2) 및 제3 전극배선층(30a-3)이 적층되어 형성될 수 있고, 상기 설명한 터치센서의 전극층(20a)과 대응되도록 형성될 수 있으므로, 2층 또는 3층 이상의 다양한 적층구조의 전극배선층(30a)으로 형성될 수 있음은 자명하다. 9, the electrode wiring 30 is formed by laminating a first electrode wiring layer 30a-1, a second electrode wiring layer 30a-2, and a third electrode wiring layer 30a-3 And may be formed to correspond to the electrode layer 20a of the touch sensor described above. Therefore, it is apparent that the electrode wiring layer 30a may have a laminate structure of two or more layers.

또한, 전극배선(30)의 일단부에는 연성인쇄회로기판(도면 미도시) 등과의 전기적 연결을 위한 접속패드(30b)가 메쉬형태로 형성될 수 있다. 이 경우 접속패드(30b)의 경우에도 이미 설명한 전극배선(30)의 전극배선층(30a)과 동일하게 적층 및 제조될 수 있음은 물론이다.
A connection pad 30b for electrical connection with a flexible printed circuit board (not shown) may be formed at one end of the electrode wiring 30 in the form of a mesh. In this case, it is needless to say that the connection pad 30b can be laminated and manufactured in the same manner as the electrode wiring layer 30a of the electrode wiring 30 described above.

이상 본 발명을 구체적인 실시예를 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명에 따른 터치센서는 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당해 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함은 명백하다고 할 것이다. While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims. It will be apparent that modifications and improvements can be made by those skilled in the art.

본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 모두 본 발명의 영역에 속하는 것으로 본 발명의 구체적인 보호 범위는 첨부된 특허청구범위에 의하여 명확해질 것이다.
It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims.

10: 투명기판 10a: 윈도우기판
10b: 수지층 11: 제1 투명기판
12: 제2 투명기판 20: 전극패턴
20a: 전극층 20a-1: 제1 전극층
20a-2: 제2 전극층 20a-3: 제3 전극층
21: 제1 전극패턴 22: 제2 전극패턴
30: 전극배선 30a: 전극배선층
30a-1: 제1 배선층 30a-2: 제2 배선층
30a-3: 제3 배선층 30b: 접속패드
40: 접착층 50: 디스플레이부
I: 절연패턴
10: transparent substrate 10a: window substrate
10b: resin layer 11: first transparent substrate
12: second transparent substrate 20: electrode pattern
20a: electrode layer 20a-1: first electrode layer
20a-2: Second electrode layer 20a-3: Third electrode layer
21: first electrode pattern 22: second electrode pattern
30: electrode wiring 30a: electrode wiring layer
30a-1: First wiring layer 30a-2: Second wiring layer
30a-3: third wiring layer 30b: connection pad
40: adhesive layer 50: display part
I: Insulation pattern

Claims (34)

투명기판; 및
상기 투명기판상에 형성되는 전극패턴을 포함하고,
상기 전극패턴은 적어도 둘 이상의 전극층이 적층되어 형성되며,
상기 전극층은 상기 투명기판 일면으로부터 제1 전극층인 기재층, 제2 전극층인 도전층 및 제3 전극층인 표면층이 순차적으로 적층되어 형성되며,
상기 제1 전극층의 적층방향 두께(d1), 상기 제2 전극층의 적층방향 두께(d2) 및 상기 제3 전극층의 적층방향 두께(d3)는
d1 < d3 < d2의 관계식을 만족하며,
상기 제2 전극층은 상기 제1 전극층 및 제3 전극층 보다 전도성이 높은 터치센서.
A transparent substrate; And
And an electrode pattern formed on the transparent substrate,
Wherein the electrode pattern is formed by stacking at least two electrode layers,
Wherein the electrode layer is formed by sequentially laminating a base layer as a first electrode layer, a conductive layer as a second electrode layer, and a surface layer as a third electrode layer from one surface of the transparent substrate,
The thickness d1 in the stacking direction of the first electrode layer, the thickness d2 in the stacking direction of the second electrode layer, and the thickness d3 in the stacking direction of the third electrode layer are
d1 < d3 < d2,
Wherein the second electrode layer has higher conductivity than the first electrode layer and the third electrode layer.
삭제delete 삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 전극패턴의 전기적 연결을 위해 상기 전극패턴에 연결되는 전극배선을 더 포함하며,
상기 전극배선은
상기 제1 전극층과 대응되는 제1 전극배선층;
상기 제2 전극층과 대응되는 제2 전극배선층; 및
상기 제3 전극층과 대응되는 제3 전극배선층을 포함하는 터치센서.
The method according to claim 1,
And an electrode wiring connected to the electrode pattern for electrical connection of the electrode pattern,
The electrode wiring
A first electrode wiring layer corresponding to the first electrode layer;
A second electrode wiring layer corresponding to the second electrode layer; And
And a third electrode wiring layer corresponding to the third electrode layer.
청구항 1에 있어서,
상기 전극패턴은 메쉬패턴으로 형성되는 터치센서.
The method according to claim 1,
Wherein the electrode pattern is formed in a mesh pattern.
청구항 4에 있어서,
상기 전극배선의 전기적 연결을 위한 전극배선 일단에 형성된 메쉬형 접속패드를 더 포함하는 터치센서
The method of claim 4,
And a mesh type connection pad formed at one end of the electrode wiring for electrical connection of the electrode wiring,
삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 제1 전극층은 상기 제2 전극층 보다 반사율이 낮은 터치센서.
The method according to claim 1,
Wherein the first electrode layer has a reflectivity lower than that of the second electrode layer.
청구항 1에 있어서,
상기 제1 전극층은 CuNi, NiCr, Ti 및 Mo 또는 이들의 합금으로 이루어진 군으로부터 적어도 하나 이상 선택되어지며,
상기 제2 전극층은 Cu, Al 및 Ag 또는 이들의 합금으로 이루어진 군으로부터 적어도 하나 이상 선택되어지며,
상기 제3 전극층은 CuNi, NiCr, Ti 및 Mo 또는 이들의 합금으로 이루어진 군으로부터 적어도 하나 이상 선택되어진 터치센서.
The method according to claim 1,
Wherein the first electrode layer is at least one selected from the group consisting of CuNi, NiCr, Ti, and Mo, or an alloy thereof,
Wherein the second electrode layer is at least one selected from the group consisting of Cu, Al and Ag or an alloy thereof,
Wherein the third electrode layer is at least one selected from the group consisting of CuNi, NiCr, Ti, and Mo, or an alloy thereof.
삭제delete 삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 제1 전극층 및 제3 전극층은 망간(Mn), 철(Fe) 또는 규소(Si)로 이루어진 군으로부터 적어도 하나 이상 선택된 것을 더 포함하는 터치센서.
The method according to claim 1,
Wherein the first electrode layer and the third electrode layer further include at least one selected from the group consisting of manganese (Mn), iron (Fe), and silicon (Si).
청구항 12에 있어서,
상기 망간(Mn), 철(Fe) 또는 규소(Si)가 0.1wt% 내지 3wt% 포함되는 터치센서.
The method of claim 12,
Wherein the manganese (Mn), iron (Fe), or silicon (Si) is contained in an amount of 0.1 wt% to 3 wt%.
청구항 1에 있어서,
상기 제1 전극층은 니켈(Ni)이 10wt% 내지 80wt% 포함되는 터치센서.
The method according to claim 1,
Wherein the first electrode layer includes nickel (Ni) in an amount of 10 wt% to 80 wt%.
청구항 1에 있어서,
상기 제1 전극층은 니켈(Ni)이 20wt% 내지 70wt% 포함되는 터치센서.
The method according to claim 1,
Wherein the first electrode layer includes 20 wt% to 70 wt% of nickel (Ni).
청구항 1에 있어서,
상기 제3 전극층은 니켈(Ni)이 10wt% 내지 80wt% 포함되는 터치센서.
The method according to claim 1,
Wherein the third electrode layer includes nickel (Ni) in an amount of 10 wt% to 80 wt%.
청구항 1에 있어서,
상기 제3 전극층은 니켈(Ni)이 20wt% 내지 70wt% 포함되는 터치센서.
The method according to claim 1,
And the third electrode layer includes 20 wt% to 70 wt% of nickel (Ni).
청구항 1에 있어서,
상기 제2 전극층은 구리(Cu) 및 니켈(Ni)을 포함하는 합금으로 형성되는 터치센서.
The method according to claim 1,
Wherein the second electrode layer is formed of an alloy including copper (Cu) and nickel (Ni).
청구항 18에 있어서,
상기 제2 전극층은 구리(Cu) 및 니켈(Ni)을 포함하는 합금으로 상기 니켈(Ni)이 0.1wt% 내지 5wt% 포함되는 터치센서.
19. The method of claim 18,
Wherein the second electrode layer is an alloy including copper (Cu) and nickel (Ni), and the nickel (Ni) content is 0.1 wt% to 5 wt%.
청구항 1에 있어서,
상기 제1 전극층은 크롬(Cr)이 3wt% 내지 50wt% 포함되는 터치센서.
The method according to claim 1,
Wherein the first electrode layer includes chromium (Cr) in an amount of 3 wt% to 50 wt%.
청구항 1에 있어서,
상기 제1 전극층은 크롬(Cr)이 5wt% 내지 70wt% 포함되는 터치센서.
The method according to claim 1,
Wherein the first electrode layer includes chromium (Cr) in an amount of 5 wt% to 70 wt%.
청구항 1에 있어서,
상기 제3 전극층은 크롬(Cr)이 3wt% 내지 50wt% 포함되는 터치센서.
The method according to claim 1,
And the third electrode layer includes chromium (Cr) in an amount of 3 wt% to 50 wt%.
청구항 1에 있어서,
상기 제3 전극층은 크롬(Cr)이 5wt% 내지 70wt% 포함되는 터치센서.
The method according to claim 1,
And the third electrode layer includes chromium (Cr) in an amount of 5 wt% to 70 wt%.
청구항 1에 있어서,
상기 투명기판은 투과율이 85%이상으로 형성되는 터치센서.
The method according to claim 1,
Wherein the transparent substrate has a transmittance of 85% or more.
청구항 1에 있어서,
상기 투명기판은 수지층으로 형성되는 터치센서.
The method according to claim 1,
Wherein the transparent substrate is formed of a resin layer.
청구항 25에 있어서,
상기 수지층은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리메틸메타아크릴레이트(PMMA), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리에테르술폰(PES), 고리형 올레핀 고분자(COP), TAC(Triacetylcellulose) 필름, 폴리비닐알코올(Polyvinyl alcohol; PVA) 필름, 폴리이미드(Polyimide; PI) 필름, 폴리스틸렌(Polystyrene; PS), 이축연신폴리스틸렌(K레진 함유 biaxially oriented PS; BOPS) 또는 그 조합으로 형성되는 터치센서.
26. The method of claim 25,
The resin layer may be formed of at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polymethylmethacrylate (PMMA), polyethylene naphthalate (PEN), polyether sulfone (PES), cyclic olefin polymer (COP) Formed by a triacetylcellulose film, a polyvinyl alcohol (PVA) film, a polyimide (PI) film, polystyrene (PS), biaxially oriented PS (BO resin containing K resin) Touch sensor.
청구항 1에 있어서,
상기 투명기판은 유리 또는 강화유리로 형성되는 터치센서.
The method according to claim 1,
Wherein the transparent substrate is formed of glass or tempered glass.
청구항 1에 있어서,
상기 제1 전극층의 적층방향 두께는 0.01um 이상이며,
상기 제2 전극층의 적층방향 두께는 0.04um 이상이며,
상기 제3 전극층의 적층방향 두께는 0.015um 이상인 터치센서.
The method according to claim 1,
The thickness of the first electrode layer in the stacking direction is 0.01um or more,
The thickness of the second electrode layer in the stacking direction is 0.04um or more,
Wherein the thickness of the third electrode layer in the stacking direction is 0.015um or more.
삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 제1 전극층의 적층방향 두께(d1), 상기 제2 전극층의 적층방향 두께(d2) 및 상기 제3 전극층의 적층방향 두께(d3)의 합이 0.05㎛ 내지 2㎛으로 형성되는 터치센서.
The method according to claim 1,
Wherein the sum of the thickness d1 in the stacking direction of the first electrode layer, the thickness d2 in the stacking direction of the second electrode layer, and the thickness d3 in the stacking direction of the third electrode layer is 0.05 m to 2 m.
청구항 1에 있어서,
상기 제1 전극층의 적층방향의 두께는 0.01㎛ 내지 1.935㎛으로 형성되는 터치센서.
The method according to claim 1,
Wherein the thickness of the first electrode layer in the stacking direction is set to 0.01 to 1.935 mu m.
청구항 1에 있어서,
상기 제2 전극층의 적층방향 두께는 0.04㎛ 내지 1.975㎛으로 형성되는 터치센서.
The method according to claim 1,
And the thickness of the second electrode layer in the stacking direction is 0.04 m to 1.975 m.
청구항 1에 있어서,
상기 제3 전극층의 적층방향 두께는 0.015㎛ 내지 1.95㎛으로 형성되는 터치센서.
The method according to claim 1,
Wherein the thickness of the third electrode layer in the stacking direction is 0.015 m to 1.95 m.
청구항 1에 있어서,
상기 제1 전극층의 적층방향 두께(d1), 상기 제2 전극층의 적층방향 두께(d2) 및 상기 제3 전극층의 적층방향 두께(d3)는
d2/(d1+d2+d3)×100 의 값이 2% 내지 98.75%를 만족하는 터치센서.

The method according to claim 1,
The thickness d1 in the stacking direction of the first electrode layer, the thickness d2 in the stacking direction of the second electrode layer, and the thickness d3 in the stacking direction of the third electrode layer are
and a value of d2 / (d1 + d2 + d3) x100 satisfies 2% to 98.75%.

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