KR101567793B1 - Ingot Grower - Google Patents

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KR101567793B1
KR101567793B1 KR1020140053258A KR20140053258A KR101567793B1 KR 101567793 B1 KR101567793 B1 KR 101567793B1 KR 1020140053258 A KR1020140053258 A KR 1020140053258A KR 20140053258 A KR20140053258 A KR 20140053258A KR 101567793 B1 KR101567793 B1 KR 101567793B1
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KR
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hopper
main chamber
feeding tube
coupled
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KR1020140053258A
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Inventor
배민욱
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주식회사 대진기계
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Abstract

The present invention relates to an ingot grower. The ingot grower (100) according to the present invention comprises: a main chamber (110) having a crucible (111) formed therein; a feeding tube (120) connected to the main chamber, and supplying a raw ingredient to the main chamber (110); a recharge tank (130) connected to the feeding tube (120), transferring a raw ingredient to the feeding unit (120), and including a body (131) and a hopper (133) coupled with the body (131); a hanging preventing means (140) including a rotation axis (141) coupled with a terminal of the hopper (133) to be rotated and cross the inside of the hopper (133), and a protrusion portion (143) protruding from the rotation axis (141) and having both ends coupled with the rotation axis (141) to form an opening (143a) with the rotation axis (141); and a piezoelectric device (150) coupled with the recharge tank (130), and applying vibration to the recharge tank (130).

Description

잉곳 성장기{Ingot Grower}Ingot Grower

본 발명은 잉곳 성장기에 관한 것이다.
The present invention relates to an ingot growing apparatus.

일반적으로, 잉곳(Ingot)은 초크랄스키(Czochralski) 결정 성장법(CZ 법)을 채용한 잉곳 성장기(Ingot Grower)를 이용하여 제작한다. 이러한 잉곳 성장기는 밀폐된 석영 도가니 내에 폴리 실리콘(Poly Si)을 충전하고, 고진공하에서 고온(예를 들어, 1450℃ 이상)으로 가열 용융시킨 후, 용융된 폴리 실리콘에 단결정 실리콘(Single Si)의 시드(Seed)를 접촉시켜 봉상의 잉곳을 성장시킨다.
Generally, an ingot is manufactured using an ingot grower employing a Czochralski crystal growth method (CZ method). Such an ingot growing unit is formed by filling polysilicon in a closed quartz crucible and heating and melting it under a high vacuum at a high temperature (for example, 1450 DEG C or higher), and then subjecting the molten polysilicon to seeding of single crystal silicon (Seed) is contacted to grow a rod-shaped ingot.

구체적으로, 잉곳 성장기는 스택킹(Stacking)→멜팅(Melting)→딥핑(Dipping)→넥킹(Necking)→숄더링(Shouldering)→바디 그로스(Body Growth)→테일링(Tailing)→쿨 다운(Cool Down) 등의 공정을 거쳐 잉곳을 제작한다. 여기서, 스택킹은 폴리 실리콘과 도펀트(Dopant)를 석영 도가니에 충전하는 공정이고, 멜팅은 고온으로 가열하여 폴리 실리콘을 용융시키는 공정으로, 이때 용융된 폴리 실리콘을 멜트(Melt)라고 한다. 이후, 딥핑을 통해서 멜트에 시드를 접촉시키고, 넥킹을 통해서 결함이 발생하지 않도록 직경을 최대한 줄이면서 잉곳을 인상시킨다. 다음, 솔더링을 통해서 잉곳의 직경을 성장시킨 후, 바디 그로스를 통해서 잉곳의 길이를 성장시킨다. 이후, 테일링을 통해서 잉곳의 직경을 감소시키고, 최종적으로, 쿨 다운을 통해서 잉곳을 냉각시켜 제작을 완료한다.
Specifically, the ingot growing unit includes stacking, melting, dipping, necking, shouldering, body growth, tailing, cool down, ), And the like. Stacking is a process for filling polysilicon and a dopant in a quartz crucible. Melting is a process for melting polysilicon by heating at a high temperature. In this case, the molten polysilicon is referred to as a melt. Thereafter, the seed is brought into contact with the melt through dipping, and the ingot is lifted while minimizing the diameter so as to prevent defects through the necking. Next, after growing the diameter of the ingot through soldering, the length of the ingot is grown through the bodygross. Thereafter, the diameter of the ingot is reduced through tailing, and finally the ingot is cooled through cooldown to complete the fabrication.

한편, 하기 선행기술문의 특허문헌에 개시된 바와 같이, 종래기술에 따른 잉곳 성장기는 원료(폴리 실리콘 등)를 추가 공급하여 연속적으로 잉곳을 성장시킬 수 있는 연속식 초크랄스키 결정 성장법을 이용하고 있다. 하지만, 종래기술에 따른 잉곳 성장기는 원료의 입도가 큰 경우 원료가 공급라인에서 막히는 현상이 발생하는 문제점이 존재한다. 또한, 종래기술에 따른 잉곳 성장기는 원료를 일정하게 공급할 수 있는 수단이 없어, 원료의 공급량을 제어하기 어려운 문제점도 존재한다.
On the other hand, as disclosed in the following patent documents, the ingot growing unit according to the prior art uses a continuous type Czochralski crystal growth method in which a raw material (such as polysilicon) is further supplied to continuously grow an ingot . However, in the ingot growing apparatus according to the prior art, there is a problem that when the particle size of the raw material is large, the raw material is clogged in the supply line. In addition, the ingot growing unit according to the prior art has a problem that it is difficult to control the supply amount of the raw material because there is no means for supplying the raw material uniformly.

KRKR 1992-00182501992-0018250 AA

본 발명은 상술한 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 일 측면은 걸림 방지수단를 구비하여 원료가 막히는 현상을 방지할 수 있고, 압전소자를 구비하여 원료를 일정하게 공급할 수 있는 잉곳 성장기를 제공하기 위한 것이다.
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the problems of the prior art described above, and one aspect of the present invention is to provide an ingot growing apparatus capable of preventing clogging of a raw material, .

본 발명의 실시예에 따른 잉곳 성장기는 내부에 도가니가 구비된 메인챔버, 상기 메인챔버에 연결되어 상기 메인챔버에 원료를 공급하는 피딩 튜브(feeding tube), 상기 피딩 튜브에 연결되어 상기 피딩 튜브에 원료를 전달하며, 본체와 상기 본체에 결합된 호퍼를 포함하는 충진탱크(recharge tank), 상기 호퍼의 내부를 가로지르도록, 상기 호퍼의 말단에 회전가능하도록 결합된 회전축, 및 상기 회전축으로부터 돌출되어 상기 회전축과 함께 개구부를 형성하도록 양단이 상기 회전축에 결합된 돌출부를 포함하는 걸림 방지수단, 및 상기 충진탱크에 결합되어 상기 충진탱크에 진동을 인가하는 압전소자를 포함한다.The ingot growing apparatus according to an embodiment of the present invention includes a main chamber having a crucible therein, a feeding tube connected to the main chamber to supply a raw material to the main chamber, a feeding tube connected to the feeding tube, A recharge tank for delivering the raw material and including a main body and a hopper coupled to the main body; a rotation shaft rotatably coupled to the end of the hopper so as to traverse the inside of the hopper; And a piezoelectric element coupled to the filling tank and applying vibration to the filling tank. The present invention also relates to a method of manufacturing the same.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 잉곳 성장기에 있어서, 상기 회전축을 회전시키는 구동부를 더 포함한다.Further, in the ingot growing unit according to the embodiment of the present invention, a driving unit for rotating the rotating shaft is further included.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 잉곳 성장기에 있어서, 상기 돌출부는 반고리형으로 형성된다.Further, in the ingot growing apparatus according to the embodiment of the present invention, the projecting portion is formed in a semicircular shape.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 잉곳 성장기에 있어서, 상기 돌출부는 2개 이상 구비된다.Further, in the ingot growing apparatus according to the embodiment of the present invention, at least two protrusions are provided.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 잉곳 성장기에 있어서, 상기 돌출부는, 상기 회전축의 횡단면을 기준으로 볼 때, 십자형으로 4개가 구비된다.Further, in the ingot growing apparatus according to the embodiment of the present invention, the protrusions are provided in the shape of a cross when viewed from the cross section of the rotating shaft.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 잉곳 성장기에 있어서, 상기 충진탱크는 ETFE(Ethylene Tetrafluoroethylene)으로 코팅된 스테인리스 재질로 형성된다.Further, in the ingot growing unit according to the embodiment of the present invention, the filling tank is formed of stainless steel coated with ETFE (Ethylene Tetrafluoroethylene).

또한, 본 발명의 실시예에 따른 잉곳 성장기에 있어서, 상기 원료는 그래뉼(granule) 폴리 실리콘이다.
Further, in the ingot growing unit according to the embodiment of the present invention, the raw material is granule polysilicon.

본 발명의 특징 및 이점들은 첨부도면에 의거한 다음의 상세한 설명으로부터 더욱 명백해질 것이다.The features and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description based on the accompanying drawings.

이에 앞서 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이고 사전적인 의미로 해석되어서는 아니되며, 발명자가 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합되는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.
Prior to that, terms and words used in the present specification and claims should not be construed in a conventional and dictionary sense, and the inventor may properly define the concept of the term in order to best explain its invention It should be construed as meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention.

본 발명에 따르면, 걸림 방지수단를 구비하여, 원료의 입도가 크더라도 원료가 막히는 현상을 방지하면서, 메인챔버에 원료를 공급할 수 있는 장점이 있다.
According to the present invention, it is possible to supply the raw material to the main chamber while preventing the occurrence of clogging of the raw material even if the grain size of the raw material is large, by providing the engagement preventing means.

또한, 본 발명에 따르면, 압전소자를 구비하여, 충진탱크에 진동을 인가함으로써, 메인챔버에 원료를 일정하게 공급할 수 있는 효과가 있다.
Further, according to the present invention, there is an effect that the piezoelectric element is provided, and the vibration is applied to the filling tank, the raw material can be constantly supplied to the main chamber.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 잉곳 성장기의 단면도;
도 2는 도 1에 도시된 걸림 방지수단의 사시도,
도 3은 도 1에 도시된 걸림 방지수단의 단면도,
도 4는 도 1에 도시된 잉곳 성장기에서 원료가 이송되는 과정을 도시한 단면도, 및
도 5는 도 4에 도시된 충진탱크를 확대한 단면도이다.
1 is a sectional view of an ingot growing apparatus according to a preferred embodiment of the present invention;
Fig. 2 is a perspective view of the engagement preventing means shown in Fig. 1,
Fig. 3 is a cross-sectional view of the engagement preventing means shown in Fig. 1,
4 is a cross-sectional view illustrating a process of feeding a raw material in the ingot growing unit shown in Fig. 1, and Fig.
5 is an enlarged cross-sectional view of the filling tank shown in Fig.

본 발명의 목적, 특정한 장점들 및 신규한 특징들은 첨부된 도면들과 연관되어지는 이하의 상세한 설명과 바람직한 실시예들로부터 더욱 명백해질 것이다. 본 명세서에서 각 도면의 구성요소들에 참조번호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 한해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 번호를 가지도록 하고 있음에 유의하여야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있는 관련된 공지 기술에 대한 상세한 설명은 생략하도록 한다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The objectives, specific advantages and novel features of the present invention will become more apparent from the following detailed description taken in conjunction with the accompanying drawings, in which: FIG. It should be noted that, in the present specification, the reference numerals are added to the constituent elements of the drawings, and the same constituent elements are assigned the same number as much as possible even if they are displayed on different drawings. In the following description of the present invention, a detailed description of related arts which may unnecessarily obscure the gist of the present invention will be omitted.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 잉곳 성장기의 단면도이다.
1 is a cross-sectional view of an ingot growing apparatus according to a preferred embodiment of the present invention.

도 1에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 잉곳 성장기(100)는 내부에 도가니(111)가 구비된 메인챔버(110), 메인챔버(110)에 연결되어 메인챔버(110)에 원료를 공급하는 피딩 튜브(120, feeding tube), 피딩 튜브(120)에 연결되어 피딩 튜브(120)에 원료를 전달하며, 본체(131)와 본체(131)에 결합된 호퍼(133)를 포함하는 충진탱크(130, recharge tank), 호퍼(133)의 내부를 가로지르도록, 호퍼(133)의 말단에 회전가능하도록 결합된 회전축(141), 및 회전축(141)으로부터 돌출되어 회전축(141)과 함께 개구부(143a)를 형성하도록 양단이 회전축(141)에 결합된 돌출부(143)를 포함하는 걸림 방지수단(140), 및 충진탱크(130)에 결합되어 충진탱크(130)에 진동을 인가하는 압전소자(150)를 포함한다.
1, the ingot growing apparatus 100 according to the present embodiment includes a main chamber 110 having a crucible 111 therein, a main chamber 110 connected to the main chamber 110, And a hopper 133 connected to the main body 131 and the main body 131. The hopper 133 is connected to the feeding tube 120 and the feeding tube 120 to feed the raw material to the feeding tube 120, A rotary shaft 141 rotatably coupled to the end of the hopper 133 so as to traverse the interior of the hopper 133 and a rotary shaft 141 projecting from the rotary shaft 141 A latching prevention means 140 including protrusions 143 whose both ends are coupled to the rotary shaft 141 so as to form an opening 143a and a piezoelectric actuator 140 coupled to the filling tank 130 for applying vibration to the filling tank 130, Device 150 as shown in FIG.

상기 메인챔버(110)는 내부에 도가니(111)가 구비되어 잉곳을 성장시키는 역할을 수행한다. 구체적으로, 메인챔버(110)는 내부에 도가니(111), 페데스탈(113, Pedestal), 히터(115) 및 열쉴드(117) 등이 구비된다. 이중, 도가니(111)는 폴리 실리콘을 용융시킨 멜트(119, Melt)를 수용하는 용기로, 폴리 실리콘과 반응하지 않거나 반응성이 떨어지는 석영 도가니(111a)와 석영 도가니(111a)를 감싸는 흑연 도가니(111b)로 구성될 수 있다. 또한, 페데스탈(113)은 도가니(111)의 하측에 구비되어 도가니(111)를 회전시키거나 승/하강시키는 것이고, 히터(115)는 도가니(111)의 외측에 구비되어 도가니(111)를 가열시키는 것이다. 그리고, 열쉴드(117)는 도가니(111)의 상측에 배치되어 도가니(111)의 멜트(119)에서 방출된 복사열이 잉곳에 전달되는 것을 방지하는 것으로, 중공(中空)형으로 형성된다.The main chamber 110 is provided with a crucible 111 therein to grow an ingot. Specifically, the main chamber 110 is provided with a crucible 111, a pedestal 113, a heater 115, a heat shield 117, and the like. The crucible 111 includes a quartz crucible 111a which does not react with polysilicon or does not react with the polysilicon and a graphite crucible 111b which surrounds the quartz crucible 111a. ). The pedestal 113 is provided below the crucible 111 to rotate the crucible 111 or to raise and lower the crucible 111. The heater 115 is provided outside the crucible 111 to heat the crucible 111 I will. The heat shield 117 is disposed above the crucible 111 to prevent the radiant heat emitted from the melt 119 of the crucible 111 from being transmitted to the ingot and is formed in a hollow shape.

한편, 메인챔버(110)의 상부에는 돔(Dome) 형상으로 형성되어 메인챔버(110)에 탈착가능하도록 결합되는 돔챔버(160)가 구비된다. 여기서, 돔챔버(160)는 잉곳을 성장시킬 때 메인챔버(110)의 상부를 커버하여 메인챔버(110)를 밀폐시킨다.The main chamber 110 has a dome chamber 160 formed in a dome shape and detachably coupled to the main chamber 110. Here, the dome chamber 160 covers the upper portion of the main chamber 110 to seal the main chamber 110 when the ingot is grown.

또한, 돔챔버(160)의 상부에는 돔챔버(160)에 탈착가능하도록 결합되는 풀챔버(170)가 구비된다. 이러한 풀챔버(170)의 내부에는 시드 메커니즘으로부터 연장된 시드 와이어가 통과하고, 시드 와이어의 말단에는 시드척(Seed Chuck)으로 고정된 시드(Seed)가 구비된다. 따라서, 시드를 도가니(111)의 멜트(119)에 접촉시킨 후, 시드 와이어로 시드를 회전시키면서 인상시키면, 시드의 결정 방향대로 잉곳을 성장시킬 수 있다. 이와 같이, 성장시킨 잉곳은 최종적으로 풀챔버(170)의 내부에 배치될 수 있다.
In addition, a pool chamber 170 is detachably coupled to the dome chamber 160 at an upper portion of the dome chamber 160. A seed wire extending from the seed mechanism passes through the inside of the pull chamber 170 and a seed is fixed to a distal end of the seed wire by a seed chuck. Therefore, after the seed is brought into contact with the melt 119 of the crucible 111, the ingot can be grown in the crystal orientation of the seed by rotating the seed while rotating the seed. As such, the grown ingot may eventually be disposed within the pull chamber 170.

한편, 상술한 메인챔버(110), 돔챔버(160) 및 풀챔버(170)의 내부는 잉곳을 성장시킬 때 산소로 인하여 결함이 발생하는 것을 방지하기 위해서 진공 상태를 유지한다. 또한, 메인챔버(110) 내부의 온도를 적절하게 유지하기 위해서, 메인챔버(110)나 돔챔버(160)에는 냉각수가 순환될 수 있다.
Meanwhile, the inside of the main chamber 110, the dome chamber 160, and the pull chamber 170 described above maintains a vacuum state in order to prevent defects from occurring due to oxygen when the ingot is grown. Further, in order to appropriately maintain the temperature inside the main chamber 110, the cooling water can be circulated in the main chamber 110 or the dome chamber 160.

상기 피딩 튜브(120)는 메인챔버(110)에 연결되어 메인챔버(110)에 원료(폴리 실리콘)을 투입하는 역할을 수행한다. 여기서, 피딩 튜브(120)는 일단이 메인챔버(110)에 연결되고, 타단이 충진탱크(130)에 연결된다. 구체적으로, 피딩 튜브(120)의 일단은 메인챔버(110)에 형성된 공급포트(165)를 관통하여 도가니(111) 방향으로 연장되고, 피딩 튜브(120)의 타단은 접합 포트(125)를 통해서 충진탱크(130)에 연결된다. 따라서, 피딩 튜브(120)는 원료(폴리 실리콘)를 충진탱크(130)로부터 전달받아 메인챔버(110)의 도가니(111)에 공급할 수 있다. 이와 같이, 원료를 메인챔버(110)의 도가니(111)에 추가 공급함으로써, 연속적으로 잉곳을 성장시킬 수 있는 연속식 초크랄스키 결정 성장법을 구현할 수 있다. 한편, 원료의 추가 공급이 불필요한 경우, 피딩 튜브(120)는 메인챔버(110)에 결합된 가이드(123)를 따라 메인챔버(110)의 외측으로 이동하고, 공급포트(165)를 밀폐시킬 수 있다.
The feeding tube 120 is connected to the main chamber 110 and serves to feed a raw material (polysilicon) into the main chamber 110. Here, the feeding tube 120 has one end connected to the main chamber 110 and the other end connected to the filling tank 130. One end of the feeding tube 120 extends in the direction of the crucible 111 through the supply port 165 formed in the main chamber 110 and the other end of the feeding tube 120 extends through the joint port 125 And is connected to the filling tank 130. Accordingly, the feeding tube 120 can receive the raw material (polysilicon) from the filling tank 130 and supply the raw material (polysilicon) to the crucible 111 of the main chamber 110. As described above, by continuously supplying the raw material to the crucible 111 of the main chamber 110, a continuous Czochralski crystal growth method capable of continuously growing the ingot can be realized. On the other hand, when additional supply of the raw material is not required, the feeding tube 120 moves to the outside of the main chamber 110 along the guide 123 coupled to the main chamber 110, have.

상기 충진탱크(130)는 피딩 튜브(120)에 연결되어 피딩 튜브(120)에 원료를 전달하는 역할을 수행한다. 여기서, 충진탱크(130)는 원통형으로 형성된 본체(131)와 본체(131)의 하단에 결합되어 하측으로 갈수록 직경이 감소하는 호퍼(133)를 포함한다. 이때, 호퍼(133)의 하단은 접합 포트(125)를 통해서 피딩 튜브(120)에 연결된다. 따라서, 충진탱크(130)에 저장된 원료(폴리 실리콘)는 자중에 의해서 접합 포트(125)를 거쳐 피딩 튜브(120)에 전달될 수 있다. 다만, 호퍼(133)는 하측으로 갈수록 직경이 감소하므로, 입도가 큰 원료(폴리 실리콘)가 호퍼(133)에서 막히는 현상(bridging)이 발생할 우려가 있다. 이를 해소하기 위해서, 본 발명의 실시예에 따른 잉곳 성장기(100)는 걸림 방지수단(140)를 구비함으로써, 원료가 막히는 현상을 방지할 수 있다. 또한, 원료를 자중에 의해서만 피딩 튜브(120)에 전달하면, 원료를 일정하게 공급하기 어려운 문제점이 있다. 이를 해소하기 위해서, 본 발명의 실시예에 따른 잉곳 성장기(100)는 압전소자(150)로 충진탱크(130)에 진동을 인가함으로써, 원료를 일정하게 공급할 수 있다. 이러한 걸림 방지수단(140)과 압전소자(150)에 대한 상세한 설명은 후술하도록 한다.The filling tank 130 is connected to the feeding tube 120 and transmits the raw material to the feeding tube 120. The filling tank 130 includes a main body 131 formed in a cylindrical shape and a hopper 133 coupled to a lower end of the main body 131 and decreasing in diameter toward the lower side. At this time, the lower end of the hopper 133 is connected to the feeding tube 120 through the joint port 125. Accordingly, the raw material (polysilicon) stored in the filling tank 130 can be transferred to the feeding tube 120 through the joint port 125 by its own weight. However, since the diameter of the hopper 133 decreases toward the bottom, bridging of the raw material (polysilicon) having a large particle size in the hopper 133 may occur. In order to solve this problem, the ingot growing apparatus 100 according to the embodiment of the present invention can prevent the clogging of the raw material by providing the clogging preventing means 140. Further, when the raw material is delivered to the feeding tube 120 only by its own weight, there is a problem that it is difficult to uniformly supply the raw material. In order to solve this problem, the ingot growing apparatus 100 according to the embodiment of the present invention can supply the raw material uniformly by applying vibration to the filling tank 130 with the piezoelectric element 150. Details of the latching means 140 and the piezoelectric element 150 will be described later.

한편, 충진탱크(130)는 진공 상태를 유지하는 메인챔버(110)에 연결하기 위해서, 진공 배관 등을 이용하여 일정한 진공도를 구현한 후, 접합 포트(125)를 통해 피딩 튜브(120)에 연결한다. 또한, 충진탱크(130)는 지지부(180)에 지지되고, 승강장치(183)에 의해서 승강할 수 있고, 회동장치(185)에 의해서 회동할 수 있다. 한편, 충진탱크(130)는 취급이 용이하고 진공에 적합한 스테인리스 재질로 형성될 수 있고, 이러한 스테인리스 재질에는 내마모성과 내화학성이 뛰어나고 원료(폴리 실리콘)와의 마찰계수가 낮은 ETFE(Ethylene Tetrafluoroethylene)가 코팅될 수 있다.
The filling tank 130 is connected to the feeding tube 120 through the bonding port 125 after a certain degree of vacuum is implemented using a vacuum pipe or the like in order to connect to the main chamber 110 maintaining a vacuum state. do. The filling tank 130 is supported by the support portion 180 and can be raised and lowered by the elevating device 183 and can be turned by the turning device 185. [ On the other hand, the filling tank 130 can be formed of a stainless steel material which is easy to handle and suitable for vacuum, and such stainless steel material is excellent in abrasion resistance and chemical resistance and is coated with ETFE (Ethylene Tetrafluoroethylene) having a low coefficient of friction with a raw material .

상기 걸림 방지수단(140)은 원료(폴리 실리콘)가 충진탱크(130)에서 피딩 튜브(120)로 전달될 때, 직경이 감소하는 호퍼(133)에서 원료가 막히는 현상을 방지하는 역할을 수행한다. 여기서, 걸림 방지수단(140)은 회전축(141)과 돌출부(143)를 포함한다. 이때, 회전축(141)은 호퍼(133)의 내부를 가로지르도록, 호퍼(133)의 말단에 회전가능하도록 베어링(147) 등으로 결합된다. 또한, 돌출부(143)는 회전축(141)으로부터 돌출되어 회전축(141)과 함께 개구부(143a)를 형성하도록 양단이 회전축(141)에 결합된다. 예를 들어, 돌출부(143)는 반고리형으로 형성될 있고, 이와 같이 반고리형으로 형성된 돌출부(143)의 양단은 회전축(141)에 결합될 수 있다. 또한, 회전축(141)은 모터 등의 구동부(145)에 의해서 회전될 수 있다. 따라서, 구동부(145)가 회전축(141)을 회전시키면, 돌출부(143)는 회전축(141)과 함께 회전하면서 원료(폴리 실리콘)가 호퍼(133)에서 피딩 튜브(120)로 원활하게 이동하도록 유도할 수 있다. 즉, 돌출부(143)는 회전하면서 원료(폴리 실리콘)가 호퍼(133)에 정체되지 않게 함으로써, 호퍼(133)에서 원료가 막히는 현상을 방지할 수 있다. 특히, 원료로 분말 형태의 그래뉼(granule) 폴리 실리콘을 사용할 경우, 입도의 분포도가 넓고, 그에 따라 입도의 크기가 큰 원료가 존재하므로, 호퍼(133)에서 막히는 현상이 발생할 가능성이 높다. 하지만, 본 발명의 실시예에 따른 잉곳 성장기(100)는 걸림 방지수단(140)을 구비함으로써, 원료로 그래뉼 폴리 실리콘을 사용하더라도 호퍼(133)에서 막히는 현상을 효과적으로 방지할 수 있다.The stopping prevention means 140 prevents the clogging of the raw material in the hopper 133 whose diameter decreases when the raw material (polysilicon) is transferred from the filling tank 130 to the feeding tube 120 . Here, the engagement preventing means 140 includes a rotation shaft 141 and a projection 143. At this time, the rotary shaft 141 is coupled to the end of the hopper 133 by a bearing 147 or the like so as to be rotatable so as to cross the inside of the hopper 133. Both ends of the protrusion 143 protrude from the rotating shaft 141 and are coupled to the rotating shaft 141 so as to form an opening 143a together with the rotating shaft 141. [ For example, the protrusion 143 may be formed in a semicircular shape, and both ends of the protrusion 143 formed in a semicircular shape as described above may be coupled to the rotation shaft 141. In addition, the rotating shaft 141 can be rotated by a driving unit 145 such as a motor. Therefore, when the driving unit 145 rotates the rotating shaft 141, the protruding part 143 rotates together with the rotating shaft 141 to induce the raw material (polysilicon) to smoothly move from the hopper 133 to the feeding tube 120 can do. In other words, the projecting portion 143 can prevent the raw material (polysilicon) from being stagnated in the hopper 133 while the raw material (polysilicon) rotates, thereby preventing the raw material from being clogged by the hopper 133. Particularly, when granular polysilicon in powder form is used as a raw material, there is a high possibility that clogging in the hopper 133 occurs because a particle size distribution is wide and thus a raw material having a large particle size is present. However, since the ingot growing apparatus 100 according to the embodiment of the present invention includes the latching preventing means 140, the clogging of the hopper 133 can be effectively prevented even when the granular polysilicon is used as the raw material.

또한, 도 2에 도시된 바와 같이, 돌출부(143)는 회전축(141)과 함께 개구부(143a)를 형성하는데, 이러한 개구부(143a)를 통해서 원료(폴리 실리콘)가 통과할 수 있으므로, 회전하는 돌출부(143)에 의해서 원료(폴리 실리콘)가 파손되는 것을 방지할 수 있다.2, the protrusion 143 forms an opening 143a together with the rotating shaft 141. Since the raw material (polysilicon) can pass through the opening 143a, It is possible to prevent the raw material (polysilicon) from being damaged by the heat insulating layer 143.

더욱 구체적으로, 돌출부(143)는 2개 이상이 구비될 수 있다. 예를 들어, 도 3에 도시된 바와 같이, 돌출부(143)는 회전축(141)의 횡단면을 기준으로 볼 때, 십자형으로 4개가 90도 간격으로 구비될 수 있다.
More specifically, two or more protrusions 143 may be provided. For example, as shown in FIG. 3, four protrusions 143 may be provided in a cross shape at intervals of 90 degrees with respect to the transverse section of the rotation shaft 141.

상기 압전소자(150, 도 1 참조)는 충진탱크(130)에 결합되어 충진탱크(130)에 진동을 인가하는 역할을 수행한다. 여기서, 압전소자(150)는 전압이 인가될 때 팽창/축소하는 역압전효과를 이용하여, 진동을 발생시킬 수 있다. 압전소자(150)가 발생시키 진동이 충진탱크(130)에 인가되면, 충진탱크(130)는 진동하면서 원료(폴리 실리콘)을 효과적으로 이동시킬 수 있다. 이때, 압전소자(150)는 일정한 진공도를 갖는 충진탱크(130)의 내부에서도 작동이 가능한 장점이 있을 뿐만 아니라, 전체적으로 잉곳 성장 공정에 영향을 거의 미치지 않는 장점이 있다. 또한, 압전소자(150)의 종류는 특별히 한정되는 것은 아니지만, PZT(Lead zirconate titanate), 티탄산바륨(BaTiO3), 티탄산연(PbTiO3), 니오브산리튬(LiNbO3) 또는 수정(SiO2) 등을 이용할 수 있다.The piezoelectric element 150 (see FIG. 1) is coupled to the filling tank 130 to apply vibration to the filling tank 130. Here, the piezoelectric element 150 can generate vibration by using an inverse piezoelectric effect that is expanded / contracted when a voltage is applied. When the piezoelectric element 150 is generated and vibration is applied to the filling tank 130, the filling tank 130 can effectively move the raw material (polysilicon) while vibrating. At this time, the piezoelectric element 150 is advantageous in that it can operate in the filling tank 130 having a constant degree of vacuum, and has almost no influence on the ingot growth process as a whole. Also, what is the type of the piezoelectric element 150 is not particularly limited, PZT (Lead zirconate titanate), barium titanate (BaTiO 3), titanate year (PbTiO 3), lithium niobate (LiNbO 3) or modification (SiO 2) .

한편, 원료(폴리 실리콘)의 이동속도는 압전소자(150)가 발생시키는 진동의 주파수에 비례한다. 따라서, 압전소자(150)가 발생시키는 진동의 주파수를 조절함으로써, 원료(폴리 실리콘)의 이동속도를 제어할 수 있다. 이와 같이, 압전소자(150)가 발생시키는 진동의 주파수를 조절하기 위해서, 별도의 증폭기와 제어부를 구비될 수 있다.
On the other hand, the moving speed of the raw material (polysilicon) is proportional to the frequency of the vibration generated by the piezoelectric element 150. Therefore, by controlling the frequency of the vibration generated by the piezoelectric element 150, the moving speed of the raw material (polysilicon) can be controlled. As described above, in order to adjust the frequency of the vibration generated by the piezoelectric element 150, a separate amplifier and a control unit may be provided.

도 4는 도 1에 도시된 잉곳 성장기에서 원료가 이송되는 과정을 도시한 단면도이고, 도 5는 도 4에 도시된 충진탱크를 확대한 단면도이다.FIG. 4 is a cross-sectional view showing a process of transferring a raw material in the ingot growing unit shown in FIG. 1, and FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view of the filling tank shown in FIG.

도 4 내지 도 5에 도시된 바와 같이, 충진탱크(130)에 저장된 원료(S, 폴리 실리콘)는 압전소자(150)에서 인가하는 진동(도 5의 화살표 참조)에 의해서 일정한 속도로 호퍼(133)로 이동한다. 호퍼(133)로 이동한 원료(S, 폴리 실리콘)는 회전(도 5의 화살표 참조)하는 걸림 방지수단(140)의 돌출부(143)에 의해서 막히는 현상이 발생하지 않고 호퍼(133)를 자연스럽게 통과한다. 이후, 원료(S, 폴리 실리콘)는 접합 포트(125)를 통해서 피딩 튜브(120)로 이동되고, 최종적으로 메인챔버(110)의 도가니(111)에 공급됨으로써, 잉곳을 연속적으로 성장시킬 수 있다.
4 to 5, the raw material (S, polysilicon) stored in the filling tank 130 is supplied to the hopper 133 (see FIG. 5) at a constant speed by the vibration ). The raw material (S, polysilicon) moved to the hopper 133 is prevented from being clogged by the protruding portion 143 of the engaging preventing means 140 rotated (see the arrow in FIG. 5) do. Thereafter, the raw material (S, polysilicon) is transferred to the feeding tube 120 through the joint port 125 and finally supplied to the crucible 111 of the main chamber 110, thereby continuously growing the ingot .

이상 본 발명을 구체적인 실시예를 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명에 따른 잉곳 성장기는 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당해 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함은 명백하다고 할 것이다. 본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 모두 본 발명의 영역에 속하는 것으로 본 발명의 구체적인 보호 범위는 첨부된 특허청구범위에 의하여 명확해질 것이다.
While the present invention has been described in detail with reference to the specific embodiments thereof, it is to be understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be construed as limiting the scope of the invention as defined by the appended claims. It will be apparent that modifications and improvements can be made by those skilled in the art. It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims.

100: 잉곳 성장기 110: 메인챔버
111: 도가니 111a: 석영 도가니
111b: 흑연 도가니 113: 페데스탈
115: 히터 117: 열쉴드
119: 멜트 120: 피딩 튜브
123: 가이드 125: 접합 포트
130: 충진탱크 131: 본체
133: 호퍼 140: 걸림 방지수단
141: 회전축 143: 돌출부
143a: 개구부 145: 구동부
147: 베어링 150: 압전소자
160: 돔챔버 165: 공급포트
170: 풀챔버 180: 지지부
183: 승강장치 185: 회동장치
S: 원료
100: ingot growing machine 110: main chamber
111: Crucible 111a: Quartz crucible
111b: graphite crucible 113: pedestal
115: heater 117: heat shield
119: Melt 120: Feeding tube
123: guide 125: junction port
130: Filling tank 131: Body
133: Hopper 140:
141: rotation shaft 143:
143a: opening 145:
147: Bearing 150: Piezoelectric element
160: Dome chamber 165: Supply port
170: full chamber 180: support
183: lifting device 185: pivoting device
S: raw materials

Claims (7)

내부에 도가니가 구비된 메인챔버;
상기 메인챔버에 연결되어 상기 메인챔버에 원료를 공급하는 피딩 튜브(feeding tube);
상기 피딩 튜브에 연결되어 상기 피딩 튜브에 원료를 전달하며, 본체와 상기 본체에 결합된 호퍼를 포함하는 충진탱크(recharge tank);
상기 호퍼의 내부를 가로지르도록, 상기 호퍼의 말단에 회전가능하도록 결합된 회전축, 및 상기 회전축으로부터 돌출되어 상기 회전축과 함께 개구부를 형성하도록 양단이 상기 회전축에 결합된 돌출부를 포함하는 걸림 방지수단; 및
상기 충진탱크에 결합되어 상기 충진탱크에 진동을 인가하는 압전소자;
를 포함하고,
상기 돌출부는 반고리형으로 형성된 잉곳 성장기.
A main chamber having a crucible inside;
A feeding tube connected to the main chamber and supplying raw material to the main chamber;
A recharge tank connected to the feeding tube for delivering the raw material to the feeding tube, the recharge tank including a main body and a hopper coupled to the main body;
A rotation shaft rotatably coupled to the end of the hopper so as to cross the inside of the hopper and a protrusion protruding from the rotation shaft and having both ends coupled to the rotation shaft so as to form an opening together with the rotation shaft; And
A piezoelectric element coupled to the filling tank to apply vibration to the filling tank;
Lt; / RTI >
And the protruding portion is formed in a semicircular shape.
청구항 1에 있어서,
상기 회전축을 회전시키는 구동부;
를 더 포함하는 잉곳 성장기.
The method according to claim 1,
A driving unit for rotating the rotating shaft;
Further comprising:
삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 돌출부는 2개 이상 구비되는 잉곳 성장기.
The method according to claim 1,
Wherein the at least two protrusions are provided.
청구항 1에 있어서,
상기 돌출부는,
상기 회전축의 횡단면을 기준으로 볼 때, 십자형으로 4개가 구비되는 잉곳 성장기.
The method according to claim 1,
The projection
And four cruciforms are provided on the basis of the cross section of the rotary shaft.
청구항 1에 있어서,
상기 충진탱크는 ETFE(Ethylene Tetrafluoroethylene)으로 코팅된 스테인리스 재질로 형성된 잉곳 성장기.
The method according to claim 1,
The filling tank is formed of a stainless steel material coated with ETFE (Ethylene Tetrafluoroethylene).
청구항 1에 있어서,
상기 원료는 그래뉼(granule) 폴리 실리콘인 잉곳 성장기.
The method according to claim 1,
Wherein the raw material is granule polysilicon.
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