KR101562278B1 - Surface resistance measuring apparatus with four point probe - Google Patents

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Abstract

A surface resistance measuring apparatus having a four-point probe according to an embodiment of the present invention comprises: a four-point probe comprising one or more probes; a probe socket formed in a cylindrical shape, and provided with the four-point probe mounted on a lower end thereof; a lever to control a vertical movement of the probe socket; and a base plate whose an upper end comes into contact with the one or more probes of the four-point probe when the probe socket moves to a lower end thereof, and where a material whose surface resistance is to be measured is accommodated on the upper end thereof.

Description

4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치{SURFACE RESISTANCE MEASURING APPARATUS WITH FOUR POINT PROBE}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a surface resistance measuring device having a 4-point probe,

본 발명은 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 4포인트 프로브의 표면저항 측정물질로의 접촉에 대한 이동을 레버를 통해 균일한 힘을 가하여 제어하고, 4포인트의 프로브 상단 좌우를 이동하며 상기 4포인트 프로브의 각 탐침이 가하는 압력을 균등하게 조정하는 압력 조정기를 포함하는 표면저항 측정장치에 관한 것이다. The present invention relates to a surface resistance measuring apparatus having a four-point probe, and more particularly, to a surface resistance measuring apparatus having a four-point probe, And a pressure regulator which moves left and right at the top of the probe and uniformly adjusts the pressure applied by each probe of the four-point probe.

표면저항은 보통 단위 ohm/sq로 표시된다. 표면저항값은 웨이퍼(wafer), LCD, 태양전지, 연료전지, OLED 등 박막 증착 후 박막의 전도성을 검사하기 위하여 사용된다. 일반적으로 선저항은 두개의 프로브(probe)로 임의의 거리에 대한 저항을 측정하지만, 표면저항의 경우에는 동일한 간격의 4개 탐침으로 측정한다. 이 때 사용되는 프로브가 4포인트 프로브(point probe)이고, 보통 탐침은 1mm 간격으로 일렬 구성된 프로브를 사용하며, 4개의 탐침으로 전류와 전압을 통해 저항을 검출한 후 표면저항 단위인 ohm/sq로 계산하기 위해 보정계수(C.F)를 적용한다.Surface resistance is usually expressed in units of ohms / sq. Surface resistance values are used to check the conductivity of thin films after thin film deposition such as wafers, LCDs, solar cells, fuel cells, and OLEDs. In general, line resistance measures the resistance for any distance with two probes, but in the case of surface resistance, it is measured with four probes of equal spacing. In this case, the probe used is a 4-point probe. In general, the probe uses a probe arranged in a line at intervals of 1 mm. After detecting the resistance through current and voltage with four probes, the surface resistance unit is expressed as ohm / sq Apply a correction factor (CF) to calculate.

표면저항값을 계산하기 위해서는 저항값(ohm)에 보정계수를 적용하여야 한다. 보정계수는 샘플 사이즈(sample size)와 박막의 두께 그리고 측정 시 온도까지 3가지 계수를 이용하여 산출될 수 있다. 샘플 사이즈(sample size)계수는 40mm이상의 직경의 샘플일 경우 4.532이고, 박막두께 계수는 박막두께가 약 400mm 이하일 때 1이며, 온도는 Sample의 온도계수에 따라 약간의 변화가 있지만 약 23℃일 때 1에 수렴한다.To calculate the surface resistance value, a correction factor should be applied to the resistance value (ohm). The correction factor can be calculated by using three coefficients from the sample size to the thickness of the thin film and the temperature during the measurement. The sample size coefficient is 4.532 for a sample with a diameter of 40 mm or more, and the thin film thickness coefficient is 1 when the thickness of the thin film is about 400 mm or less, and the temperature slightly varies depending on the temperature coefficient of the sample. 1 < / RTI >

4포인트 프로브(Four point probe)는 4-point probe, 4 probe head, 4PP, FPP, 4탐침 등으로 여러가지 이름으로 불리우고 있다. 탐침이 4개가 달린 표면저항 측정용으로 사용하는 프로브를 일컫는 말이다. 보통은 1mm 간격이며 일렬(Linear type)로 탐침을 정렬시킨 것을 이용한다. 이외에는 탐침을 정방향으로 나열시킨 스퀘어 타입(Square type)의 홀 프로브(Hall probe)와 고온까지 견딜 수 있도록 특수 제작된 고온용 프로브가 있다.The four-point probe is called the 4-point probe, the 4 probe head, the 4PP, the FPP, and the 4-probe. Refers to a probe used for measuring surface resistance with four probes. Normally, the probe is aligned with a linear type with an interval of 1 mm. Other than this, there are a square type Hall probe and a high temperature probe specially designed to withstand high temperatures.

4포인트 프로브(Four point probe)는 물질의 표면에 존재하는 표면저항을 가장 정확하게 측정하기 위해 사용하는 도구이다. 도 3에 도시된 바와 같이 제1 탐침(111), 제2 탐침(112), 제3 탐침(113), 및 제4 탐침(114)의 4개 탐침으로 구성될 수 있다. 제1 탐침(111), 제2 탐침(112), 제3 탐침(113), 및 제4 탐침(114)은 표면저항을 측정하고자 하는 물질에 접촉될 수 있다. 제1 탐침(111), 및 제4 탐침(114)에 전류를 인가하고, 제2 탐침(112), 및 제3 탐침(113)을 통해 전압을 측정한 후, 상기 측정한 전압 값에 보정계수(C.F)를 대입하여 표면저항을 측정할 수 있다.Four point probe is the tool used to most accurately measure the surface resistance present on the surface of a material. And may include four probes of a first probe 111, a second probe 112, a third probe 113, and a fourth probe 114 as shown in FIG. The first probe 111, the second probe 112, the third probe 113, and the fourth probe 114 may be in contact with a substance to be measured for surface resistance. After applying a current to the first probe 111 and the fourth probe 114 and measuring the voltage through the second probe 112 and the third probe 113, (CF) can be substituted to measure the surface resistance.

반도체 웨이퍼 등 미세하게 형성된 패턴의 특정 지점에 대한 표면저항을 측정하기 위해서는 4 탐침의 편간 거리가 아주 작을수록 미세한 부분의 표면저항을 측정할 수 있다. 4 탐침의 단순한 배열 접촉만으로는 정확한 측정값을 얻을 수 없기에, 4 탐침의 거리를 최소화하기 위한 노력이 지속되고 있다.In order to measure the surface resistance at a specific point of a finely formed pattern such as a semiconductor wafer, the surface resistance of a fine portion can be measured as the interdigit distance of the four probes is very small. Efforts are being made to minimize the distance of the four probes, since accurate measurements can not be obtained with a simple array contact of the four probes.

정확한 표면저항 값을 측정하기 위해서는 4 탐침이 각각 개별적으로 동작하면서 병행하여 개별적으로 텐션(tension)을 유지하는 구조이어야만, 전류를 인가하고 전압을 검출하는데 외부적인 접촉저항을 최소화시켜 오차가 없는 실제의 값을 측정할 수 있다. 즉, 4포인트 프로브에 있어 중요한 점은, 4 탐침의 전류와 전압을 최대한 접촉 저항 없이 검출할 수 있도록 하고, 4 탐침이 물체의 표면과 접촉할 때 4개의 탐침이 동일한 압력으로 접촉되도록 하며, 4 탐침 간격을 최소화하는 것이다.In order to measure the accurate surface resistance value, the four probes must be operated in a separate manner to keep the tension individually. In this case, the current is applied and the external contact resistance is minimized to detect the voltage. The value can be measured. In other words, it is important for the 4-point probe to be able to detect the current and voltage of the four probes without contact resistance as much as possible, and to ensure that the four probes touch the same pressure when the probe touches the surface of the object, Minimizing the probe spacing.

종래기술에 따른 일반적인 4포인트 프로브를 이용한 표면저항 측정장치는 4 탐침이 물체의 표면과 접촉할 때 4개의 탐침이 동일한 압력으로 접촉되지 못하여 접촉 저항값을 정확하게 검출하지 못하고 있다. 이에, 하나 이상의 탐침을 포함하는 4포인트 프로브 상단에 프로브 소켓 설치되고, 상기 프로브 소켓 상단의 좌우 영역을 이동하면서, 상기 4포인트 프로브의 상기 하나 이상의 탐침이 베이스 플레이트에 가하는 각각의 압력이 균일하게 조정되도록 압력 조정기를 포함하는 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치의 개발이 요구되고 있다. In the conventional surface resistance measuring apparatus using a four-point probe according to the related art, when four probes are in contact with the surface of an object, the four probes are not brought into contact with the same pressure, so that the contact resistance value can not be accurately detected. A probe socket is provided on the top of a four-point probe including one or more probes, and each pressure applied to the base plate by the one or more probes of the four-point probe is uniformly adjusted It is required to develop a surface resistance measuring apparatus having a 4-point probe including a pressure regulator.

본 발명은 상기와 같은 종래 기술을 개선하기 위해 안출된 것으로서, 4포인트 프로브의 표면저항 측정물질로의 접촉에 대한 이동을 레버를 통해 균일한 힘을 가하여 제어하고, 4포인트의 프로브 상단 좌우를 이동하며 상기 4포인트 프로브의 각 탐침이 가하는 압력을 균등하게 조정하는 압력 조정기를 포함하는 표면저항 측정장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been conceived in order to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide a four-point probe which can control the movement of a probe to contact with a surface resistance measuring material by applying a uniform force through the lever, And a pressure regulator for uniformly adjusting the pressure exerted by each probe of the 4-point probe.

상기의 목적을 이루고 종래기술의 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명의 일실시예에 따른 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치는 하나 이상의 탐침을 포함하는 4포인트 프로브(Four Point Probe); 상기 4포인트 프로브의 몸체와 연결되는 프로브 홀더; 상기 프로브 홀더와 고정 결합되는 제1 오목레일과, 상기 제1 오목레일의 상하 운동을 가이드하는 제1 볼록레일을 포함하는 제1 LM 가이드; 상기 제1 볼록레일과 고정 결합되는 제2 오목레일과, 상기 제2 오목레일의 상하 운동을 가이드하는 제2 볼록레일을 포함하는 제2 LM 가이드; 상기 제2 LM 가이드의 상기 제2 오목레일과 연결되어 상기 제2 오목레일의 상하 운동을 제어하는 레버; 상기 제2 오목레일의 하단 및 상기 제2 오목레일이 수용되는 하우징의 내부 바닥면과 양 단이 연결되는 탄성체; 및 상기 탄성체가 최대 수축하여 상기 제2 오목레일이 상기 하우징의 내부 바닥면 방향으로 최대 이동한 위치에서의 상기 제2 오목레일의 상단 영역에 설치되어, 상기 위치에서 상기 제2 오목레일을 고정시키는 고정 홀더를 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided an apparatus for measuring a surface resistance with a 4-point probe, including: a 4-point probe including one or more probes; A probe holder connected to the body of the 4-point probe; A first LM guide including a first concave rail fixedly coupled to the probe holder and a first convex rail guiding up and down movement of the first concave rail; A second LM guide including a second concave rail fixedly coupled to the first convex rail and a second convex rail guiding up and down movement of the second concave rail; A lever connected to the second concave rail of the second LM guide and controlling the up and down movement of the second concave rail; An elastic body having both ends connected to a lower end of the second concave rail and an inner bottom surface of the housing in which the second concave rail is received; And an elastic member provided at an upper end region of the second concave rail at a position where the elastic member is maximally contracted to move the second concave rail in the direction of the inner bottom surface of the housing so as to fix the second concave rail at the position And a fixed holder.

또한, 본 발명의 일실시예에 따른 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치는 상기 제1 오목레일 또는 상기 프로브 홀더와 연결되고, 하나 이상의 분동이 수용되는 분동 장착대; 및 상기 제1 오목레일이 수용되는 하우징 내부의 하단에 설치되어, 상기 제1 오목레일의 하단 방향 이동의 최대범위를 가이드하는 스토퍼(stopper)를 더 포함한다.The apparatus for measuring surface resistance having a 4-point probe according to an embodiment of the present invention includes: a weight mounting table connected to the first concave rail or the probe holder and containing one or more weights; And a stopper installed at a lower end of the inside of the housing in which the first concave rail is received, for guiding a maximum range of movement of the first concave rail in the downward direction.

본 발명의 다른 실시예에 따른 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치는 하나 이상의 탐침을 포함하는 4포인트 프로브(Four Point Probe); 실린더 형상이고 하단에 상기 4포인트 프로브가 장착되는 프로브 소켓; 상기 프로브 소켓의 상하이동을 제어하는 레버; 상기 프로브 소켓이 하단으로 이동하는 경우 상기 4포인트 프로브의 상기 하나 이상의 탐침과 상단이 접촉되고, 상기 상단에 표면저항 측정물질이 수용되는 베이스 플레이트를 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided an apparatus for measuring a surface resistance with a 4-point probe, including: a 4-point probe including one or more probes; A probe socket having a cylindrical shape and the 4-point probe mounted on a lower end thereof; A lever for controlling up and down movement of the probe socket; And a base plate having a top contacted with the one or more probes of the four-point probe when the probe socket moves to the bottom, and a surface resistance measuring material accommodated in the top.

또한, 본 발명의 다른 실시예에 따른 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치는 상기 프로브 소켓의 상단에 설치되어 상기 상단의 좌우 영역을 이동하면서, 상기 4포인트 프로브의 상기 하나 이상의 탐침이 상기 베이스 플레이트에 가하는 각각의 압력이 균일하게 조정되도록 제어하는 압력 조정기를 더 포함한다.Further, the apparatus for measuring a surface resistance with a 4-point probe according to another embodiment of the present invention may be provided on the upper end of the probe socket to move left and right regions of the upper end, And a pressure regulator for controlling each of the pressures applied to the plate to be uniformly adjusted.

또한, 본 발명의 다른 실시예에 따른 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치의 상기 압력 조정기는, 일단이 상기 프로브 소켓의 상단영역의 중심원점에 고정되어 상기 중심원점을 기준으로 회전하고, 타단에는 하나 이상의 분동이 수용되는 분동 수용부가 형성되는 회전 바(bar); 및 상기 회전 바의 상기 분동 수용부에 수용되는 하나 이상의 분동을 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a surface resistance measuring apparatus having a four-point probe, wherein the pressure regulator has one end fixed to the center origin of the upper end region of the probe socket and rotated about the center origin, A bar having a weight receiving portion formed therein to receive at least one weight; And at least one weight received in the weight receiving portion of the rotary bar.

또한, 본 발명의 다른 실시예에 따른 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치의 상기 베이스 플레이트는, 상기 4포인트 프로브의 상기 하나 이상의 탐침과 각각 접촉되는 하나 이상의 스팟; 및 상기 스팟마다 각각 설치되고, 상기 탐침이 가하는 압력을 각각 측정하는 하나 이상의 압력센서를 포함한다.Further, the base plate of the surface resistance measuring apparatus provided with the 4-point probe according to another embodiment of the present invention may further include: at least one spot, which is in contact with the at least one probe of the 4-point probe, respectively; And at least one pressure sensor provided for each of the spots, each of the pressure sensors measuring a pressure applied by the probe.

또한, 본 발명의 다른 실시예에 따른 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치는 상기 하나 이상의 압력센서로부터 각각 전달받는 압력을 측정하는 압력 측정부; 및 상기 측정된 각각의 압력 값을 서로 비교하고, 상기 비교결과 상기 각 압력 값이 모두 동일하지 않은 경우, 상기 압력 조정기의 좌우영역 이동 제어를 통해 상기 각 압력센서로부터 측정되는 압력이 모두 동일한 값으로 측정되도록 캘리브레이션(calibration) 하는 캘리브레이션부를 더 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a surface resistance measuring apparatus including a 4-point probe, including: a pressure measuring unit measuring pressure received from each of the at least one pressure sensor; And comparing the measured pressure values with each other, and when the pressure values are not all the same, the pressure measured from each of the pressure sensors through the left and right region movement control of the pressure regulator is all the same value And further includes a calibration section for calibrating the measurement.

또한, 본 발명의 다른 실시예에 따른 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치는 상기 하나 이상의 압력센서가 좌측 방향에서 우측방향으로 제1 압력센서, 제2 압력센서, 제3 압력센서, 제4 압력센서로 형성되어 제1 압력, 제2 압력, 제3 압력, 제4 압력을 각각 측정하는 경우, 상기 캘리브레이션부는 상기 측정된 각 압력 값의 크기가 제1 압력이 가장 높고 제4 압력이 가장 낮은 경우, 상기 압력 조정기가 우측방향으로 이동되도록 제어하고, 상기 압력 조정기의 우측 방향 이동 시 실시간으로 측정되는 제1 압력 내지 제4 압력의 크기를 서로 비교하여, 모든 압력 값이 서로 동일하게 측정되는 시점에서 상기 압력 조정기의 이동이 정지하도록 제어하는 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a surface resistance measuring apparatus having a four-point probe, wherein the at least one pressure sensor is provided with a first pressure sensor, a second pressure sensor, a third pressure sensor, When the first pressure, the second pressure, the third pressure, and the fourth pressure are respectively measured by the pressure sensor, the calibrator calculates the magnitude of each of the measured pressure values as the first pressure is the highest and the fourth pressure is the lowest The controller controls the pressure regulator to move in the right direction and compares the magnitudes of the first pressure to the fourth pressure measured in real time when the pressure regulator is moved to the right side with respect to each other, So that the movement of the pressure regulator is stopped.

본 발명의 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치에 따르면, 포인트 프로브의 탐침이 실제 측정물질에 접촉될 때 개입되는 힘이 부정확하고 정규적이지 않은 사용자의 레버(150) 조작 힘이 아니라, 균일하고 정규적으로 힘을 가하는 분동의 질량만큼의 힘만이 개입되도록 함으로써, 탐침이 일정하게 균일한 압력에 의해 측정물질에 접촉되도록 하여 보다 정확한 표면저항 측정환경을 제공할 수 있는 효과를 얻을 수 있다. According to the surface resistance measuring apparatus provided with the four-point probe of the present invention, the force intervened when the probe of the point probe contacts the actual measurement material is not an operating force of the lever 150 of the user who is inaccurate and not regular, It is possible to obtain a more accurate surface resistance measurement environment by allowing the probe to come into contact with the measurement substance by a uniform and uniform pressure by intervening only the mass of the mass which normally applies the force.

또한, 본 발명의 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치에 따르면, 4포인트 프로브의 표면저항 측정물질에 대한 접촉 이동을 소켓과 레버의 구성으로 제어함으로써 4포인트 프로브의 각 탐침이 표면저항 측정물질에 균일한 압력을 가할 수 있도록 하는 효과를 얻을 수 있다.Further, according to the surface resistance measuring apparatus having the four-point probe of the present invention, the contact movement of the four-point probe to the surface resistance measuring material is controlled by the configuration of the socket and the lever so that each probe of the four- It is possible to obtain an effect that a uniform pressure can be exerted on the pressure-

또한, 본 발명의 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치에 따르면, 4포인트 프로브의 표면저항 측정물질 접촉 이전에, 4포인트 프로브의 각 탐침이 베이스 플레이트에 가하는 압력을 측정하면서, 압력 조정기의 분동을 4포인트 프로브의 상단에서 좌우로 이동시키면서 각 탐침의 가하는 압력이 균등하도록 캘리브레이션 동작을 수행함으로써 보다 정확하게 표면저항을 측정할 수 있도록 하는 효과를 얻을 수 있다. According to the surface resistance measuring apparatus having the four-point probe of the present invention, before measuring the surface resistance of the four-point probe, the pressure applied to the base plate by each probe of the four- The surface resistance can be measured more accurately by performing the calibration operation so as to equalize the pressure applied by each probe while moving it from the upper end of the 4-point probe to the left and right.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치의 구조를 도시한 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치의 동작을 도시한 측면도이다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치의 다른 동작을 도시한 측면도이다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치가 구비하는 LM 가이드를 도시한 사시도이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치의 구조를 도시한 사시도이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치의 좌측면을 도시한 도면이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치의 정면을 도시한 도면이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치의 평면을 도시한 도면이다.1 is a perspective view illustrating a structure of a surface resistance measuring apparatus having a 4-point probe according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a side view showing the operation of the surface resistance measuring apparatus having a 4-point probe according to an embodiment of the present invention.
3 is a side view showing another operation of the surface resistance measuring apparatus having a 4-point probe according to an embodiment of the present invention.
4 is a perspective view illustrating an LM guide included in a surface resistance measuring apparatus having a 4-point probe according to an embodiment of the present invention.
5 is a perspective view illustrating a structure of a surface resistance measuring apparatus having a 4-point probe according to another embodiment of the present invention.
6 is a left side view of a surface resistance measuring apparatus having a 4-point probe according to another embodiment of the present invention.
7 is a front view of a surface resistance measuring apparatus having a 4-point probe according to another embodiment of the present invention.
8 is a plan view of a surface resistance measuring apparatus having a 4-point probe according to another embodiment of the present invention.

이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치의 구조를 도시한 사시도이다. 도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치의 동작을 도시한 측면도이다. 도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치의 다른 동작을 도시한 측면도이다. 도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치가 구비하는 LM 가이드를 도시한 사시도이다. 1 is a perspective view illustrating a structure of a surface resistance measuring apparatus having a 4-point probe according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a side view showing the operation of the surface resistance measuring apparatus having a 4-point probe according to an embodiment of the present invention. 3 is a side view showing another operation of the surface resistance measuring apparatus having a 4-point probe according to an embodiment of the present invention. 4 is a perspective view illustrating an LM guide included in a surface resistance measuring apparatus having a 4-point probe according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 일실시예에 따른 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치는, 4포인트 프로브(110), 프로브 홀더(120), 제1 LM 가이드(170), 제2 LM 가이드(190), 레버(150), 탄성체(193), 고정 홀더(210), 분동 장착대(130), 분동(140), 스토퍼(181)를 포함한다. The surface resistance measuring apparatus with a 4-point probe according to an embodiment of the present invention includes a 4-point probe 110, a probe holder 120, a first LM guide 170, a second LM guide 190, An elastic body 193, a fixed holder 210, a weight mounting bracket 130, a weight 140, and a stopper 181.

제1 플레이트(220)는 전체 바닥면의 형상을 갖고, 제1 플레이트(220)의 상단에 베이스 플레이트(160)가 적층되고, 베이스 플레이트(160) 상단에 표면저항을 측정하고자 하는 대상인 측정물질(260)이 놓여질 수 있다. 베이스 플레이트(160)의 일측 영역에는 제2 플레이트(230)와 제3 플레이트(240)가 구조되어 본 발명에 따른 표면저항 측정장치를 지지하는 하우징을 형성할 수 있다. The first plate 220 has a shape of an entire bottom surface and a base plate 160 is laminated on an upper end of the first plate 220 and a measurement material 260) can be placed. The second plate 230 and the third plate 240 are formed on one side of the base plate 160 to form a housing for supporting the surface resistance measuring apparatus according to the present invention.

하나 이상의 탐침을 포함하는 4포인트 프로브(110)는 프로브 홀더(120) 내부에 장착될 수 있다. 4포인트 프로브(110)의 몸체가 프로브 홀더(120)의 내부로 수용되어 고정되고, 4포인트 프로브(110)의 탐침은 프로브 홀더(120)의 하단 외부로 돌출되도록 장착될 수 있다.A four-point probe 110 including one or more probes may be mounted within the probe holder 120. A probe of the 4-point probe 110 may be mounted so as to protrude to the outside of the lower end of the probe holder 120. The probe of the 4-point probe 110 is received and fixed in the probe holder 120,

제1 LM 가이드(170)는 제1 볼록레일(171) 및 제1 오목레일(172)로 구성된다. 제1 오목레일(172)은 프로브 홀더(120)와 고정 결합된다. 즉, 제1 오목레일(172)의 움직임과 프로브 홀더(120)의 움직임은 일체로 동작될 수 있다. 제1 볼록레일(171)은 제1 오목레일(172)과 볼록과 오목홈이 서로 결합되는 형태로 설치되어 제1 오목레일(172)의 상하 운동을 가이드한다. 제1 LM 가이드(170)의 제1 볼록레일(171) 및 제1 오목레일(172)의 결합구성과 동작은 도 4에 도시된 바와 같다. 제1 LM 가이드 하우징(180)에 제1 볼록레일(171)이 수용 장착되고, 제1 볼록레일(171)의 볼록에 제1 오목레일(172)의 오목홈이 결합되도록 설치될 수 있다.The first LM guide 170 is composed of a first convex rail 171 and a first concave rail 172. The first concave rail 172 is fixedly coupled to the probe holder 120. That is, the movement of the first concave rail 172 and the movement of the probe holder 120 can be operated in unison. The first convex rail 171 is provided in such a manner that the first concave rail 172 and the convex and concave grooves are coupled with each other to guide the vertical movement of the first concave rail 172. The coupling structure and operation of the first convex rail 171 and the first concave rail 172 of the first LM guide 170 are as shown in FIG. The first convex rail 171 is received in the first LM guide housing 180 and the concave groove of the first concave rail 172 is engaged with the convex of the first convex rail 171.

제2 LM 가이드(190)는 제2 볼록레일(191) 및 제2 오목레일(192)로 구성된다. 제2 오목레일(192)는 제1 LM 가이드 하우징(180)을 통해 제1 볼록레일(171)과 고정 결합된다. 즉, 제2 오목레일(192)과 제1 LM 가이드 하우징(180) 및 제1 볼록레일(171)은 각 움직임은 일체로 동작하도록 구현될 수 있다. 제2 볼록레일(191)은 제2 오목레일(192)과 볼록과 오목홈이 서로 결합되는 형태로 설치되어 제2 오목레일(192)의 상하 운동을 가이드한다. 제2 LM 가이드 하우징(200)에 제2 볼록레일(191)이 수용 장착되고, 제2 볼록레일(191)의 블록에 제2 오목레일(192)의 오목홈이 결합되도록 설치될 수 있다. The second LM guide 190 is composed of a second convex rail 191 and a second concave rail 192. The second concave rail 192 is fixedly coupled to the first convex rail 171 through the first LM guide housing 180. That is, the second concave rail 192, the first LM guide housing 180, and the first convex rail 171 can be realized so that each movement operates as a single body. The second convex rail 191 is installed in such a manner that the second concave rail 192 and the convex and concave grooves are coupled with each other to guide the up and down movement of the second concave rail 192. The second convex rail 191 is received in the second LM guide housing 200 and the concave groove of the second concave rail 192 is coupled to the block of the second convex rail 191.

레버(150)는 제2 LM 가이드(190)의 제2 오목레일(192)과 연결된다. 사용자는 레버(150)를 통해 제2 오목레일(192)의 상하 운동을 제어할 수 있다. 제2 오목레일(192)의 하단에는 탄성체(193)가 설치된다. 탄성체(193)의 하단은 제2 LM 가이드 하우징(200)의 바닥면에 고정되고, 상단은 제2 오목레일(192)의 하단과 연결된다. 탄성체(193)의 물성에 따라 제2 오목레일(192)의 하단 방향으로 이동범위가 제한되도록 설정될 수 있다.The lever 150 is connected to the second concave rail 192 of the second LM guide 190. The user can control the up and down movement of the second concave rail 192 through the lever 150. An elastic body 193 is provided at the lower end of the second concave rail 192. The lower end of the elastic body 193 is fixed to the bottom surface of the second LM guide housing 200 and the upper end is connected to the lower end of the second concave rail 192. The movable range of the second concave rail 192 may be limited in the lower end direction depending on the physical properties of the elastic body 193.

고정 홀더(210)는 제3 플레이트의 하단에 제2 LM 가이드 하우징(200)내부를 경유하여, 제1 LM 가이드 하우징(180) 방향으로 돌출될 수 있도록 설치된다. 도 3에 도시된 바와 같이, 사용자의 레버(150) 조작에 의해 제2 오목레일(192)과 함께 아래 방향으로 서로 결합된 제1 LM 가이드 하우징(180)과 제1 볼록레일(171)이 이동한 경우, 고정 홀더(210)가 제1 LM 가이드 하우징(180) 방향으로 이동하여 제1 LM 가이드 하우징(180)의 상단에 안착될 수 있다. 이와 같이 고정 홀더(210)는 탄성체(193)의 탄성력을 저지하여, 아래 방향으로 이동한 제2 오목레일(192), 제1 LM 가이드 하우징(180), 및 제1 볼록레일(171)이 위로 다시 올라오지 않고 아래 방향의 현재위치를 유지하도록 동작할 수 있다. The fixed holder 210 is installed at the lower end of the third plate so as to protrude in the direction of the first LM guide housing 180 via the inside of the second LM guide housing 200. 3, the first LM guide housing 180 and the first convex rail 171, which are coupled to each other in the downward direction together with the second concave rail 192 by the operation of the lever 150 of the user, The fixed holder 210 moves in the direction of the first LM guide housing 180 and can be seated at the upper end of the first LM guide housing 180. [ The fixed holder 210 prevents the elastic force of the elastic body 193 and prevents the second concave rail 192, the first LM guide housing 180, and the first convex rail 171, which have moved downward, It may operate to maintain the current position in the downward direction without coming back up.

스토퍼(181)는 제1 오목레일(172)이 수용되는 제1 LM 가이드 하우징(180) 내부의 하단에 설치되어, 제1 오목레일(172)의 하단 방향 이동의 최대범위를 가이드한다. 분동 장착대(130)는 제1 오목레일(172) 또는 프로브 홀더(120)와 연결되어 설치된다. 분동 장착대(130)에는 다양한 질량을 갖는 하나 이상의 다양한 분동이 장착될 수 있다. The stopper 181 is installed at the lower end of the first LM guide housing 180 in which the first concave rail 172 is accommodated to guide the maximum range of the downward movement of the first concave rail 172. The weight mount 130 is connected to the first concave rail 172 or the probe holder 120. The weight mount 130 may be equipped with one or more various weights having various masses.

도 2에 도시된 상태에서, 사용자가 레버(150)의 레버 조작에 따라 제2 LM 가이드(190)의 제2 오목레일(192)이 아래 방향으로 이동하면, 제2 오목레일(192)과 결합된 제1 LM 가이드 하우징(180) 또한 함께 아래 방향으로 이동되어 도 3에 도시된 상태와 같이 된다. 또한, 제1 LM 가이드 하우징(180)과 결합된 제1 LM 가이드(170)의 제1 볼록레일(171)도 함께 아래 방향으로 이동된다. 제2 오목레일(192)과 제1 LM 가이드 하우징(180) 및 제1 볼록레일(171)의 아래 방향에 대한 이동범위는 탄성체(193)의 물성에 따라 설정될 수 있다.2, when the user moves the second concave rail 192 of the second LM guide 190 downward in accordance with the lever operation of the lever 150, the second concave rail 192 is engaged with the second concave rail 192. In this state, The first LM guide housing 180 is also moved downward to become the state shown in FIG. Also, the first convex rails 171 of the first LM guide 170 coupled with the first LM guide housing 180 are also moved downward. The moving range of the second concave rail 192 and the first LM guide housing 180 and the first convex rail 171 with respect to the downward direction can be set according to the physical properties of the elastic body 193.

제2 오목레일(192)과 제1 LM 가이드 하우징(180) 및 제1 볼록레일(171)은 아래 방향으로 이동한 상태에서 고정 홀더(210)의 동작에 따라 현재 위치를 유지한다. 이러한 상태에서, 제1 볼록레일(171)과 볼록/오목홈으로 결합된 제1 오목레일(172)은 분동 장착대(130)에 수용된 분동의 질량이 아래 방향으로 가하는 힘에 대응하는 거리만큼 아래 방향으로 더 이동될 수 있다. 즉, 사용자의 레버(150) 조작과 상관없이 순수하게 분동의 질량에 대응하는 힘만큼 아래 방향으로 압력을 가할 수 있다.The second concave rail 192, the first LM guide housing 180, and the first convex rail 171 are moved downward to maintain their current position according to the operation of the fixed holder 210. In this state, the first concave rail 172 coupled with the convex / concave groove of the first convex rail 171 is moved downward by a distance corresponding to the force applied to the weight in the downward direction, Lt; / RTI > direction. That is, regardless of the operation of the lever 150 of the user, it is possible to apply a pressure downward by a force corresponding to the mass of the weight.

이와 같이, 본원의 일실시예에 따른 표면저항 측정장치의 이동 동작은 2단계로 구현될 수 있다. 우선, 사용자의 레버(150) 조작, 즉 사용자가 가하는 힘에 의해 제2 오목레일(192)과 제1 LM 가이드 하우징(180) 및 제1 볼록레일(171)이 아래 방향으로 이동되어 고정 홀더(210)에 의해 위치가 고정되면, 그 이후에는 사용자의 힘은 전혀 개입되지 않은 상태에서 순수하게 분동의 질량에 대응하는 압력을 아래 방향으로 더 가할 수 있다. 즉, 4포인트 프로브(110)의 탐침이 실제 측정물질(260)에 접촉될 때 개입되는 힘이, 부정확하고 정규적이지 않은 사용자의 레버(150) 조작 힘이 아니라, 균일하고 정규적으로 힘을 가하는 분동의 질량만큼의 힘만이 개입되도록 할 수 있다. 따라서, 탐침이 일정하게 균일한 압력에 의해 측정물질(260)에 접촉되도록 하여 보다 정확한 표면저항 측정환경을 제공할 수 있다. As described above, the movement operation of the surface resistance measuring apparatus according to one embodiment of the present invention can be implemented in two stages. The second concave rail 192 and the first LM guide housing 180 and the first convex rail 171 are moved downward by the operation of the user's lever 150, that is, the force applied by the user, 210, then the pressure corresponding to the mass of the weight can be added further downward in a state in which the user's force is not interposed at all. That is, the force intervened when the probe of the four-point probe 110 contacts the actual measurement material 260 is not the force of manipulation of the levers 150 of the user who is not accurate and regular, So that only the force of the mass can be intervened. Therefore, the probe can be brought into contact with the measurement material 260 by a constant uniform pressure, thereby providing a more accurate surface resistance measurement environment.

도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치의 구조를 도시한 사시도이다.5 is a perspective view illustrating a structure of a surface resistance measuring apparatus having a 4-point probe according to another embodiment of the present invention.

본 발명에 따른 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치(300)는 4포인트 프로브(310), 홀더(320), 프로브 소켓(330), 레버(340), 베이스 플레이트(350), 압력센서(360), 압력 조정기(370), 회전 바(371), 분동(372), 스텝 모터(373), 압력 측정부(380), 캘리브레이션부(390), 제1 플레이트(400), 제2 플레이트(410), 제3 플레이트(420), 제4 플레이트(430) 및 프로브 소켓 가이드 바(440)를 포함한다.A surface resistance measuring apparatus 300 having a 4-point probe according to the present invention includes a 4-point probe 310, a holder 320, a probe socket 330, a lever 340, a base plate 350, And a second plate 400. The first plate 400 and the second plate 400 are connected to each other by a pressure sensor 360, a pressure regulator 370, a rotation bar 371, a weight 372, a step motor 373, a pressure measurement unit 380, a calibration unit 390, 410, a third plate 420, a fourth plate 430, and a probe socket guide bar 440.

4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치(300)는 제1 플레이트(400)가 바닥에 위치되고, 상단영역 좌측에 베이스 플레이트(350)가 설치되며, 우측에 제2 플레이트(410), 및 제3 플레이트(420)가 대응되어 설치되고, 사이에 압력 측정부(380), 및 캘리브레이션부(390)가 설치될 수 있다. 베이스 플레이트(350)의 중앙영역에는 하나 이상의 압력센서(360)가 삽입되어 설치되고, 측정물질(450)이 수용될 수 있다. A surface resistance measuring apparatus 300 having a four-point probe includes a first plate 400 located on the bottom, a base plate 350 disposed on the left side of the upper region, a second plate 410 disposed on the right side, Three plates 420 are provided in correspondence with each other, and a pressure measuring unit 380 and a calibration unit 390 can be installed therebetween. In the central region of the base plate 350, one or more pressure sensors 360 are inserted and installed, and the measurement material 450 can be received.

제2 플레이트(410), 및 제3 플레이트(420)의 상단에는 제4 플레이트(430)가 설치될 수 있다. 제4 플레이트(430)의 일측에는 프로브 소켓 가이드 바(440)가 설치될 수 있다. 프로브 소켓 가이드 바(440)의 일측에는 프로브 소켓(330)이 설치되고, 다른 일측에 레버(340)가 설치될 수 있다. 레버(340)는 프로브 소켓(330)의 상하이동을 제어할 수 있다.A fourth plate 430 may be installed on the upper portion of the second plate 410 and the third plate 420. A probe socket guide bar 440 may be installed on one side of the fourth plate 430. A probe socket 330 may be provided on one side of the probe socket guide bar 440 and a lever 340 may be provided on the other side. The lever 340 can control the upward and downward movement of the probe socket 330.

프로브 소켓(330)의 상단에는 압력 조정기(370)가 설치되고, 하단에는 4포인트 프로브(310)의 상단이 수용될 수 있다. 프로브 소켓(330)의 중앙에는 홀더(320)가 설치되고, 4포인트 프로브(310)의 중앙영역이 수용되어 고정될 수 있다. 4포인트 프로브(310)는 실린더 형상으로 형성되고, 하단에는 본 발명의 일실시예에 따라 4개의 탐침이 설치될 수 있다. 압력 조정기(370)는 프로브 소켓(330) 상단의 좌우 영역을 이동하면서, 4포인트 프로브(310)의 하단에 형성된 상기 4개의 탐침이 베이스 플레이트(350)에 가하는 각각의 압력이 균일하게 조정되도록 제어할 수 있다.A pressure regulator 370 is installed at the upper end of the probe socket 330 and an upper end of the 4-point probe 310 is accommodated at the lower end. A holder 320 is provided at the center of the probe socket 330 and a central region of the 4-point probe 310 can be received and fixed. The four-point probe 310 may be formed in a cylindrical shape, and four probes may be installed on the bottom of the probe 310 according to an embodiment of the present invention. The pressure regulator 370 is controlled so that the pressure applied to the base plate 350 by the four probes formed at the lower end of the four-point probe 310 is uniformly adjusted while moving in the left- can do.

도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치의 좌측면을 도시한 도면이다.6 is a left side view of a surface resistance measuring apparatus having a 4-point probe according to another embodiment of the present invention.

레버(340)가 ① 에서 ② 방향으로 이동하면 프로브 소켓(330)은 하강하고, 레버(340)가 ② 에서 ① 방향으로 이동되면 프로브 소켓(330)은 상승될 수 있다. 프로브 소켓(330)의 하강에 따라 4포인트 프로브(310) 또한 아래 방향으로 하강하면서 베이스 플레이트(350)에 놓여진 측정물질(450)과 접촉될 수 있다. 이에 따라 4포인트 프로브(310)를 통해 측정물질(450)의 표면저항을 측정할 수 있다. 이와 같이 4포인트 프로브(310)를 작업자가 직접 파지하면서 측정물질(450)에 접촉시키는 것이 아니라, 프로브 소켓(330)과 레버(340)를 통해 간접적으로 힘을 가하여 4포인트 프로브(310)가 측정물질(450)에 접촉되도록 함으로써 4포인트 프로브(310)의 각 탐침이 측정물질(450)에 각각 균일한 압력을 가하면서 접촉되도록 할 수 있다. The probe socket 330 is lowered when the lever 340 is moved in the direction of? To?, And the probe socket 330 is raised when the lever 340 is moved in the direction of? As the probe socket 330 is lowered, the four-point probe 310 can also be brought into contact with the measurement material 450 placed on the base plate 350 while descending downward. Accordingly, the surface resistance of the measurement material 450 can be measured through the four-point probe 310. The four-point probe 310 is indirectly exerted through the probe socket 330 and the lever 340 so that the four-point probe 310 can be measured By contacting the material 450, each probe of the four-point probe 310 can be brought into contact with the measuring material 450 while applying a uniform pressure to each.

표면저항 측정장치(300)는 상술한 바와 같이 프로브 소켓(330)과 레버(340)를 통해 4포인트 프로브(310)의 각 탐침이 균일한 압력을 가하면서 측정물질(450)에 접촉되도록 할 수 있다. 또한, 본 발명의 일실시예에 따르면, 표면저항 측정장치(300)는 캘리브레이션 동작을 수행할 수 있다. 즉, 4포인트 프로브(310)의 측정물질(450) 접촉동작 이전에, 4포인트 프로브(310)의 각 탐침이 균등한 압력으로 측정물질(450)에 접촉될 수 있도록 각 탐침의 압력을 미세하게 조정을 수행하는 캘리브레이션 동작이 선행될 수 있다.The surface resistance measuring apparatus 300 may be configured such that each probe of the four-point probe 310 is brought into contact with the measuring material 450 while applying a uniform pressure through the probe socket 330 and the lever 340 as described above have. Also, according to an embodiment of the present invention, the surface resistance measuring apparatus 300 may perform a calibration operation. That is, prior to the contact operation of the measuring material 450 of the four-point probe 310, the pressure of each probe is finely adjusted so that each probe of the four-point probe 310 can be contacted to the measuring substance 450 at an even pressure A calibration operation to perform adjustment may be performed.

이러한 캘리브레이션 동작은 압력센서(360), 압력 조정기(370), 압력 측정부(380), 캘리브레이션부(390)를 통해 구현될 수 있다. 압력 조정기(370)는 회전 바(371), 분동(372), 스텝 모터(373)로 구성될 수 있다.Such a calibration operation can be implemented through the pressure sensor 360, the pressure regulator 370, the pressure measurement unit 380, and the calibration unit 390. The pressure regulator 370 may be constituted by a rotation bar 371, a weight 372, and a step motor 373.

회전 바(371)는 일단이 프로브 소켓(330)의 상단영역의 중심원점에 고정되어 상기 중심원점을 기준으로 회전하고, 타단에는 하나 이상의 분동(372)이 수용되는 분동 수용부가 형성된다. 상기 분동 수용부에는 하나 이상의 분동(372)이 수용될 수 있다. 분동(372)은 다수 개가 수용될 수 있는데, 동일한 질량을 갖는 분동 또는 각기 다른 질량을 갖는 분동 등이 각각 수용되어 4포인트 프로브(310)로 가하는 압력을 미세하게 조정되도록 할 수 있다. The rotary bar 371 has a weight receiving portion having one end fixed to the center origin of the upper end region of the probe socket 330 and rotating about the center origin, and the other end receiving one or more weights 372. One or more weights 372 may be received in the weight receiving portion. A plurality of weights 372 may be accommodated, such that weights having the same mass or weights having different weights may be respectively accommodated and the pressure applied to the four-point probe 310 may be finely adjusted.

4포인트 프로브(310) 하단에 형성된 4개의 탐침이 동일한 힘으로 측정물질(350)과 접촉되도록 압력 조정기(370)가 동작할 수 있다. 압력 조정기(370)는 베이스 플레이트(350)의 중앙영역에 설치된 하나 이상의 압력센서(360)를 통해서 가해지는 압력을 검출에 따라, 동일한 압력으로 가압될 수 있도록 제어될 수 있다. 이 때, 상기 4개의 탐침과 하나 이상의 압력센서(360)가 대응되어 접촉되는 베이스 플레이트(350)의 해당 영역에 하나 이상의 스팟이 각각 형성될 수 있다. 회전 바(371)는 프로브 소켓(330)의 상단영역의 중심원점에 고정되어 상기 중심원점을 기준으로 회전하고, 타단에는 하나 이상의 분동(372)이 수용될 수 있다. 분동(372)의 무게는 측정물질(450)의 종류에 따라 가감되어 4포인트 프로브(310) 하단에 형성된 4개의 탐침에 압력이 차등적으로 가해질 수 있다.The pressure regulator 370 can be operated so that the four probes formed at the bottom of the four-point probe 310 are brought into contact with the measuring substance 350 with the same force. The pressure regulator 370 may be controlled to be pressurized to the same pressure as the pressure applied through the at least one pressure sensor 360 installed in the central region of the base plate 350 is detected. At this time, one or more spots may be formed in the corresponding region of the base plate 350 where the four probes are in contact with one or more pressure sensors 360. The rotation bar 371 is fixed to the center origin of the upper end region of the probe socket 330 and rotates about the center origin, and one or more weights 372 can be received at the other end. The weight of the weight 372 may be added or subtracted depending on the type of the measuring material 450 to apply pressure differently to the four probes formed at the lower end of the 4-point probe 310.

도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치의 정면을 도시한 도면이다.7 is a front view of a surface resistance measuring apparatus having a 4-point probe according to an embodiment of the present invention.

도 7은 도 6에서 상술된 것을 참조하여 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치(300)를 정면에서 바라본 것을 나타낸 도면으로 우측에 도시된 상세도를 설명한다. FIG. 7 is a front view of the surface resistance measuring apparatus 300 having a four-point probe with reference to FIG. 6, and the detailed view shown on the right side will be described.

상기 상세도를 보면 4포인트 프로브(310)의 하단에 형성된 하나 이상의 탐침과 베이스 플레이트(350)에 각각 접촉되는 하나 이상의 스팟이 형성될 수 있다. 상기 각 스팟에는 상기 각각의 탐침이 가하는 압력을 각각 측정하는 하나 이상의 압력센서(360)가 설치될 수 있다. 본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 탐침은 제1 탐침(311), 제2 탐침(312), 제3 탐침(313), 및 제4 탐침(314)으로 구현되고, 압력센서(360)는 제1 압력센서(361), 제2 압력센서(362), 제3 압력센서(363), 및 제4 압력센서(364)로 구현될 수 있다. In the above detailed view, one or more probes formed on the lower end of the four-point probe 310 and one or more spots respectively contacting the base plate 350 may be formed. One or more pressure sensors 360 may be installed in each of the spots to measure a pressure applied by each of the probes. According to one embodiment of the present invention, the probe is implemented as a first probe 311, a second probe 312, a third probe 313, and a fourth probe 314, and the pressure sensor 360 The first pressure sensor 361, the second pressure sensor 362, the third pressure sensor 363, and the fourth pressure sensor 364.

탐침과 스팟에 설치된 압력센서 간의 접촉을 통한 탐침의 압력측정은 측정물질에 대한 표면저항 측정동작 이전에 수행되는 캘리브레이션 동작에서 수행될 수 있다. 이러한 캘리브레이션 동작을 통해 각 탐침이 가하는 압력이 동일하도록 조정되면, 각 탐침은 베이스 플레이트(350)의 스팟 상단에 놓여지는 측정물질(350)과 접촉될 수 있다.The pressure measurement of the probe through contact between the probe and the pressure sensor installed in the spot may be performed in a calibration operation performed prior to the surface resistance measurement operation for the measurement material. When the pressure applied by each probe is adjusted to be the same through this calibration operation, each probe can be contacted with a measurement material 350 placed at the top of the spot of the base plate 350.

압력 측정부(380)는 캘리브레이션 동작 수행 시, 제1 탐침(311), 제2 탐침(312), 제3 탐침(313), 및 제4 탐침(314)과의 접촉에 따라, 제1 압력센서(361), 제2 압력센서(362), 제3 압력센서(363), 및 제4 압력센서(364)가 각각 측정하는 제1 압력, 제2 압력, 제3 압력, 제4 압력을 각 압력센서로부터 수신한다. 압력 측정부(380)는 상기 수신한 제1 압력, 제2 압력, 제3 압력, 제4 압력의 값들을 측정한다. The pressure measuring unit 380 is configured to measure the pressure of the first pressure sensor 311 in accordance with the contact with the first probe 311, the second probe 312, the third probe 313 and the fourth probe 314, The first pressure, the second pressure, the third pressure and the fourth pressure measured by the first pressure sensor 361, the second pressure sensor 362, the third pressure sensor 363, and the fourth pressure sensor 364, And receives it from the sensor. The pressure measuring unit 380 measures the values of the first pressure, the second pressure, the third pressure, and the fourth pressure.

캘리브레이션부(390)는 상기 측정된 제1 압력, 제2 압력, 제3 압력, 제4 압력의 크기를 서로 비교한다. 상기 비교결과 제1 압력, 제2 압력, 제3 압력, 제4 압력의 크기가 서로 모두 동일하지 않은 경우, 캘리브레이션부(390)는 제1 압력센서(361), 제2 압력센서(362), 제3 압력센서(363), 및 제4 압력센서(364)로부터 측정되는 제1 압력, 제2 압력, 제3 압력, 제4 압력의 크기가 모두 동일한 값으로 측정될 때까지 압력 조정기(370)의 좌우영역 이동을 제어한다. The calibration unit 390 compares the magnitudes of the measured first pressure, second pressure, third pressure, and fourth pressure with each other. If the magnitudes of the first pressure, the second pressure, the third pressure, and the fourth pressure are not equal to each other, the calibration unit 390 may include a first pressure sensor 361, a second pressure sensor 362, The third pressure sensor 363 and the fourth pressure sensor 364 until the magnitudes of the first pressure, the second pressure, the third pressure and the fourth pressure are all measured to be the same value, To the right and left of the area.

이를 위하여, 캘리브레이션부(390)는 압력 조정기(370)의 스텝 모터(373)의 동작을 제어할 수 있다. 압력 조정기(370)의 회전바(371)는 스텝 모터(373)를 원점으로 하여 반원 운동하도록 동작할 수 있다. 즉, 회전바(371)의 일단은 스텝 모터(373)와 연결되고, 타단에는 분동 수용부가 형성되어 분동(372)이 수용될 수 있다. 회전바(371)의 반원 운동에 따라, 분동(372)이 가하는 압력은 하단에 위치하는 4포인트 프로브(310)의 좌우영역을 이동하면서 가해질 수 있다. 즉, 분동(372)이 가하는 압력은 4포인트 프로브(310)의 좌우영역을 이동하면서 좌우방향으로 형성된 제1 탐침(311), 제2 탐침(312), 제3 탐침(313), 제4 탐침(314)의 압력에 각각 영향을 미치도록 동작할 수 있다. 예를 들어, 회전바(371)의 분동(372)이 좌측에 위치한 경우, 4포인트 프로브(310)의 좌측에 형성된 제1 탐침(311)에 압력을 더 가하도록 구현되고, 회전바(371)의 분동(372)이 우측에 위치한 경우, 4포인트 프로브(310)의 우측에 형성된 제4 탐침(314)에 압력을 더 가하도록 구현될 수 있다.For this purpose, the calibration section 390 can control the operation of the stepping motor 373 of the pressure regulator 370. The rotation bar 371 of the pressure regulator 370 can be operated to perform the semicircular motion with the step motor 373 as the origin. That is, one end of the rotation bar 371 is connected to the step motor 373, and the other end of the rotation bar 371 is formed with a weight accommodating portion so that the weight 372 can be accommodated. According to the semi-circular movement of the rotary bar 371, the pressure applied by the weight 372 can be applied while moving the left and right regions of the four-point probe 310 located at the bottom. That is, the pressure applied by the weight 372 is applied to the first probe 311, the second probe 312, the third probe 313, the fourth probe 313, and the third probe 313 formed in the left- Respectively, to the pressures of the pressurized fluid 314. For example, when the weight 372 of the rotation bar 371 is located on the left side, it is implemented to further pressurize the first probe 311 formed on the left side of the four-point probe 310, To the fourth probe 314 formed on the right side of the four-point probe 310 when the weight 372 of the four-point probe 310 is located on the right side.

도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치의 평면을 도시한 도면이다.4 is a plan view of a surface resistance measuring apparatus having a 4-point probe according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 일실시예에 따르면, 하나 이상의 압력센서(360)가 좌측 방향에서 우측방향으로 제1 압력센서(361), 제2 압력센서(362), 제3 압력센서(363), 및 제4 압력센서(364)로 형성되어 제1 압력, 제2 압력, 제3 압력 및 제4 압력을 각각 측정할 수 있다. 이 때, 캘리브레이션부(390)는 상기 측정된 각 압력 값의 크기가 상기 제1 압력이 가장 높고, 제4 압력이 가장 낮은 경우, 압력 조정기(370)가 ③번 방향에서 ④번 방향 내지 ⑤번 방향으로 이동 시 실시간으로 측정되는 제1 압력 내지 제4 압력의 크기를 서로 비교하여, 모든 압력 값이 서로 동일하게 측정되는 시점에서 압력 조정기(370)의 이동이 정지하도록 제어할 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the at least one pressure sensor 360 is provided with a first pressure sensor 361, a second pressure sensor 362, a third pressure sensor 363, and a fourth pressure sensor 362 in the left- The pressure sensor 364 may be formed to measure the first pressure, the second pressure, the third pressure, and the fourth pressure, respectively. In this case, when the magnitude of the measured pressure value is the highest first pressure and the fourth pressure is the lowest, the calibration unit 390 determines that the pressure regulator 370 is in the ④ direction to the ⑤ It is possible to compare the magnitudes of the first to fourth pressures measured in real time with each other to control the movement of the pressure regulator 370 to stop when all the pressure values are measured to be equal to each other.

압력 조정기(370)의 회전 바(371)는 스텝 모터(373)를 통해서 회전될 수 있다. 스텝 모터(373)는 캘리브레이션부(390)에서 전송되는 펄스(pulse) 모양의 전압을 수신하여 회전 바(371)를 일정한 각도 및 일정한 속도로 회전하여 하나 이상의 탐침에 동일한 압력이 전달되도록 동작될 수 있다.The rotation bar 371 of the pressure regulator 370 can be rotated through the step motor 373. [ The stepping motor 373 receives the pulse voltage transmitted from the calibration unit 390 and rotates the rotating bar 371 at a constant angle and at a constant speed so as to be operated to transmit the same pressure to one or more probes have.

따라서, 본 발명의 일실시예에 따른 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치(300)는 하나 이상의 탐침을 포함하는 4포인트 프로브(310) 상단에 프로브 소켓(330)이 설치되고, 프로브 소켓(330) 상단의 좌우 영역을 이동하면서, 4포인트 프로브(310)의 상기 하나 이상의 탐침이 베이스 플레이트(350)에 가하는 각각의 압력이 균일하게 조정되도록 압력 조정기(370)를 통해서 상기 하나 이상의 탐침이 측정물질(450)의 표면과 접촉할 때 동일한 압력으로 접촉되어 표면저항값이 정확하게 검출될 수 있다. Accordingly, in the surface resistance measuring apparatus 300 having the four-point probe according to the embodiment of the present invention, the probe socket 330 is installed on the top of the four-point probe 310 including one or more probes, The one or more probes of the four-point probe 310 can be measured through the pressure regulator 370 such that the respective pressures applied by the one or more probes to the base plate 350 are uniformly adjusted, The surface resistance value can be accurately detected by contacting with the surface of the material 450 at the same pressure.

이상과 같이 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 상기의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다.While the invention has been shown and described with reference to certain preferred embodiments thereof, it will be understood by those of ordinary skill in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims. This is possible.

그러므로, 본 발명의 범위는 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니 되며, 후술하는 특허청구범위뿐 아니라 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.Therefore, the scope of the present invention should not be limited to the described embodiments, but should be determined by the equivalents of the claims, as well as the claims.

300: 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치
310: 4포인트 프로브 320: 홀더(holder)
330: 프로브 소켓(probe socket) 340: 레버
350: 베이스 플레이트 360: 압력센서
370: 압력 조정기 371: 회전 바
372: 분동 373: 스텝 모터(stepper motor)
380: 압력 측정부 390: 캘리브레이션부
400: 제1 플레이트 410: 제2 플레이트
420: 제3 플레이트 430: 제4 플레이트
440: 프로브 소켓 가이드 바 450: 측정물질300: Surface resistance measuring device with 4-point probe
310: 4-point probe 320: holder
330: probe socket 340: lever
350: Base plate 360: Pressure sensor
370: Pressure regulator 371: Rotary bar
372: Weight 373: Stepper motor
380: Pressure measuring section 390: Calibration section
400: first plate 410: second plate
420: third plate 430: fourth plate
440: probe socket guide bar 450: measuring substance

Claims (8)

하나 이상의 탐침을 포함하는 4포인트 프로브(Four Point Probe);
상기 4포인트 프로브의 몸체와 연결되는 프로브 홀더;
상기 프로브 홀더와 고정 결합되는 제1 오목레일과, 상기 제1 오목레일의 상하 운동을 가이드하는 제1 볼록레일을 포함하는 제1 LM 가이드;
상기 제1 볼록레일과 고정 결합되는 제2 오목레일과, 상기 제2 오목레일의 상하 운동을 가이드하는 제2 볼록레일을 포함하는 제2 LM 가이드;
상기 제2 LM 가이드의 상기 제2 오목레일과 연결되어 상기 제2 오목레일의 상하 운동을 제어하는 레버;
상기 제2 오목레일의 하단 및 상기 제2 오목레일이 수용되는 하우징의 내부 바닥면과 양 단이 연결되는 탄성체; 및
상기 탄성체가 최대 수축하여 상기 제2 오목레일이 상기 하우징의 내부 바닥면 방향으로 최대 이동한 위치에서의 상기 제2 오목레일의 상단 영역에 설치되어, 상기 위치에서 상기 제2 오목레일을 고정시키는 고정 홀더
를 포함하는 것을 특징으로 하는 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치.A four point probe including one or more probes;
A probe holder connected to the body of the 4-point probe;
A first LM guide including a first concave rail fixedly coupled to the probe holder and a first convex rail guiding up and down movement of the first concave rail;
A second LM guide including a second concave rail fixedly coupled to the first convex rail and a second convex rail guiding up and down movement of the second concave rail;
A lever connected to the second concave rail of the second LM guide and controlling the up and down movement of the second concave rail;
An elastic body having both ends connected to a lower end of the second concave rail and an inner bottom surface of the housing in which the second concave rail is received; And
Wherein the second concave rail is provided at an upper end region of the second concave rail at a position where the elastic body is maximally contracted and the second concave rail moves to the maximum in the direction of the inner bottom surface of the housing, holder
And measuring the surface resistance of the four-point probe. 제1항에 있어서,
상기 제1 오목레일 또는 상기 프로브 홀더와 연결되고, 하나 이상의 분동이 수용되는 분동 장착대; 및
상기 제1 오목레일이 수용되는 하우징 내부의 하단에 설치되어, 상기 제1 오목레일의 하단 방향 이동의 최대범위를 가이드하는 스토퍼(stopper)
를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치.The method according to claim 1,
A weight mount connected to the first concave rail or the probe holder and accommodating one or more weights; And
A stopper provided at a lower end of the inside of the housing in which the first concave rail is accommodated and guiding a maximum range of movement of the first concave rail in the lower direction,
Wherein the surface resistance measuring device further comprises a 4-point probe. 하나 이상의 탐침을 포함하는 4포인트 프로브(Four Point Probe);
실린더 형상이고 하단에 상기 4포인트 프로브가 장착되는 프로브 소켓;
상기 프로브 소켓의 상하이동을 제어하는 레버;
상기 프로브 소켓이 하단으로 이동하는 경우 상기 4포인트 프로브의 상기 하나 이상의 탐침과 상단이 접촉되고, 상기 상단에 표면저항 측정물질이 수용되는 베이스 플레이트; 및
상기 프로브 소켓의 상단에 설치되어 상기 상단의 좌우 영역을 이동하면서, 상기 4포인트 프로브의 상기 하나 이상의 탐침이 상기 베이스 플레이트에 가하는 각각의 압력이 균일하게 조정되도록 제어하는 압력 조정기
를 포함하는 것을 특징으로 하는 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치.A four point probe including one or more probes;
A probe socket having a cylindrical shape and the 4-point probe mounted on a lower end thereof;
A lever for controlling up and down movement of the probe socket;
A base plate having a top contact with the one or more probes of the four-point probe when the probe socket moves to the bottom, and a surface resistance measuring material accommodated in the top; And
And a pressure regulator which is provided at an upper end of the probe socket and moves in the left and right regions of the upper end so as to control each pressure applied to the base plate by the one or more probes of the four-
And measuring the surface resistance of the four-point probe. 삭제delete 제3항에 있어서,
상기 압력 조정기는,
일단이 상기 프로브 소켓의 상단영역의 중심원점에 고정되어 상기 중심원점을 기준으로 회전하고, 타단에는 하나 이상의 분동이 수용되는 분동 수용부가 형성되는 회전 바(bar); 및
상기 회전 바의 상기 분동 수용부에 수용되는 하나 이상의 분동
을 포함하는 것을 특징으로 하는 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치.The method of claim 3,
The pressure regulator includes:
A bar having one end fixed to a center origin of an upper end region of the probe socket and rotating with respect to the center origin, and a weight accommodating portion accommodating one or more weights at the other end; And
The weight of the rotary bar is received in one or more weights
Wherein the surface resistance measuring device has a four-point probe. 제3항에 있어서,
상기 베이스 플레이트는,
상기 4포인트 프로브의 상기 하나 이상의 탐침과 각각 접촉되는 하나 이상의 스팟; 및
상기 스팟마다 각각 설치되고, 상기 탐침이 가하는 압력을 각각 측정하는 하나 이상의 압력센서
를 포함하는 것을 특징으로 하는 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치.The method of claim 3,
Wherein the base plate comprises:
One or more spots in contact with the one or more probes of the four point probe, respectively; And
And at least one pressure sensor provided for each of the spots and measuring pressure applied by the probe,
And measuring the surface resistance of the four-point probe. 제6항에 있어서,
상기 하나 이상의 압력센서로부터 각각 전달받는 압력을 측정하는 압력 측정부; 및
상기 측정된 각각의 압력 값을 서로 비교하고, 상기 비교결과 상기 각 압력 값이 모두 동일하지 않은 경우, 상기 압력 조정기의 좌우영역 이동 제어를 통해 상기 각 압력센서로부터 측정되는 압력이 모두 동일한 값으로 측정되도록 캘리브레이션(calibration) 하는 캘리브레이션부
를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치.The method according to claim 6,
A pressure measuring unit for measuring pressures received from the at least one pressure sensor; And
And comparing the measured pressure values with each other, and when the pressure values are not all the same, the pressure measured from each of the pressure sensors through the left and right region movement control of the pressure regulator is measured to be the same value And a calibration unit
Wherein the surface resistance measuring device further comprises a 4-point probe. 제7항에 있어서,
상기 하나 이상의 압력센서가 좌측 방향에서 우측방향으로 제1 압력센서, 제2 압력센서, 제3 압력센서, 제4 압력센서로 형성되어 제1 압력, 제2 압력, 제3 압력, 제4 압력을 각각 측정하는 경우,
상기 캘리브레이션부는 상기 측정된 각 압력 값의 크기가 제1 압력이 가장 높고 제4 압력이 가장 낮은 경우, 상기 압력 조정기가 우측방향으로 이동되도록 제어하고, 상기 압력 조정기의 우측 방향 이동 시 실시간으로 측정되는 제1 압력 내지 제4 압력의 크기를 서로 비교하여, 모든 압력 값이 서로 동일하게 측정되는 시점에서 상기 압력 조정기의 이동이 정지하도록 제어하는 것을 특징으로 하는 4포인트 프로브를 구비한 표면저항 측정장치.8. The method of claim 7,
Wherein the at least one pressure sensor is formed of a first pressure sensor, a second pressure sensor, a third pressure sensor, and a fourth pressure sensor in the left-to-right direction, and the first pressure, the second pressure, the third pressure, When measuring each,
The calibration unit controls the pressure regulator to move in the right direction when the measured pressure value has the highest first pressure and the lowest fourth pressure, Wherein the controller is configured to compare the magnitudes of the first pressure to the fourth pressure with each other to stop the movement of the pressure regulator when all the pressure values are measured to be equal to each other.
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