KR101553606B1

KR101553606B1 - Cover glass and method of manufacturing the same

Info

Publication number: KR101553606B1
Application number: KR1020140029734A
Authority: KR
Inventors: 권순성; 강보은
Original assignee: 크루셜텍 (주)
Priority date: 2014-03-13
Filing date: 2014-03-13
Publication date: 2015-09-16

Abstract

The present invention relates to a cover glass capable of being slim and providing various colors and a manufacturing method thereof. According to an embodiment of the present invention, the cover glass comprises a glass substrate, a first pattern, a second pattern, a first color layer, and a printing layer. Accordingly, the first pattern is formed through etching on one side of the glass substrate. The second pattern is formed on the other side of the glass substrate. The first color layer is prepared on the second pattern. In addition, the printing layer covers the first color layer by being prepared on the other side of the glass substrate.

Description

BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a cover glass,

본 발명은 커버글라스 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 슬림화되고, 다양한 색상을 제공할 수 있는 커버글라스 및 이의 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cover glass and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a cover glass which can be slimmed and can provide various colors and a method of manufacturing the same.

최근, 소비자들로부터 휴대폰, 스마트폰, 휴대정보단말기(PDA; Personal Digital Assistant), 휴대용 멀티미디어 플레이어(PMP; Portable Multimedia Player), 노트북 등과 같은 휴대 단말기에 대한 슬림화 요구와 함께 디자인적인 요구가 늘어나고 있다. 2. Description of the Related Art In recent years, there has been an increasing demand for designing mobile phones such as mobile phones, smart phones, personal digital assistants (PDAs), portable multimedia players (PMPs)

이에 따라, 디스플레이 패널의 슬림화와 함께, 특히, 터치스크린의 외층에 배치되는 커버부(main window)에 디자인을 가미하기 위한 다양한 시도가 이루어지고 있다.Accordingly, various attempts have been made to add design to the main window, which is disposed on the outer layer of the touch screen, in addition to the slimming of the display panel.

일 예로, 디스플레이 패널의 배선을 가리기 위하여 흑색 잉크를 인쇄하는 것이 일반적이었던 커버부의 베젤(bezel) 영역에 다양한 색상이나 패턴을 형성하는 등의 디자인적 요소가 가미되고 있다.For example, a design element such as forming various colors or patterns in a bezel region of a cover portion, in which it is common to print black ink to cover a wiring of a display panel, is added.

도 1은 종래의 커버글라스를 나타낸 평면예시도이고, 도 2는 도 1의 A-A선 단면예시도이다.FIG. 1 is a plan view of a conventional cover glass, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line A-A of FIG.

도 1 및 도 2에서 보는 바와 같이, 종래의 커버글라스(10)는 유리기판(20)의 일면에 광학투명점착제(OCA; optically clear adhesive, 이하 “OCA”라 함)(30)로 점착된 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET; polyethylene terephthalate, 이하 “PET”라 함) 필름(40)이 마련된다. 그리고, PET 필름(40) 상에 UV(ultraviolet) 패턴(50)이 형성된다. UV 패턴(50)에는 색상을 구현하기 위한 레이어(60)가 코팅되며, 레이어(60)의 상부로 블랙 매트릭스 층(70)이 형성된다.1 and 2, a conventional cover glass 10 is made of polyethylene (PET) adhered with an optically clear adhesive (OCA) 30 on one side of a glass substrate 20, A polyethylene terephthalate (PET) film 40 is provided. Then, an ultraviolet (UV) pattern 50 is formed on the PET film 40. The UV pattern 50 is coated with a layer 60 for implementing colors and the black matrix layer 70 is formed on the upper side of the layer 60. [

이처럼, PET 필름(40)과, PET 필름(40)을 유리기판(20)에 점착시키기 위한 OCA(30)가 더 마련되고, PET 필름(40) 상에 UV 패턴(50)이 형성됨에 따라, 종래의 커버글라스(10)로는 슬림화를 구현하기 어려운 문제가 있다. As described above, since the OCA 30 for adhering the PET film 40 and the PET film 40 to the glass substrate 20 is further provided and the UV pattern 50 is formed on the PET film 40, The conventional cover glass 10 has a problem that it is difficult to realize slimming down.

또한, UV 패턴(50)에 코팅된 레이어(60)는 동일 색상을 가지기 때문에, 패턴(50)이 형성된 패턴부와 패턴(50)이 형성되지 않은 주변부의 색상이 동일 색상으로 구현되어 심미감을 높이기에는 한계가 있다.In addition, since the layer 60 coated on the UV pattern 50 has the same color, the color of the pattern portion in which the pattern 50 is formed and the peripheral portion in which the pattern 50 is not formed are implemented in the same color, There is a limit.

또한, 종래의 커버글라스(10)는 색상을 구현하는 레이어(60)가 유리기판(20)의 일면에만 마련되기 때문에, 보다 다양한 색상 효과를 구현하는데 한계가 있다.In addition, the conventional cover glass 10 has a limitation in realizing a more various color effect because the layer 60 that implements the color is provided only on one side of the glass substrate 20.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 슬림화되고, 다양한 색상을 제공할 수 있는 커버글라스 및 이의 제조방법을 제공하는 것이다.In order to solve the above problems, the present invention provides a cover glass which is slim and can provide various colors and a method of manufacturing the cover glass.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 일실시예는 유리기판; 상기 유리기판의 일면에 에칭을 통해 형성되는 제1패턴; 상기 유리기판의 타면에 형성되는 제2패턴; 상기 제2패턴에 마련되는 제1색상층; 그리고 상기 유리기판의 타면에 마련되어 상기 제1색상층을 덮는 인쇄층을 포함하여 이루어지는 커버글라스를 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a display device including: a glass substrate; A first pattern formed on one surface of the glass substrate through etching; A second pattern formed on the other surface of the glass substrate; A first color layer provided on the second pattern; And a printing layer provided on the other surface of the glass substrate and covering the first color layer.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 제2패턴은 상기 유리기판의 표면에 형성된 투명한 패턴으로 이루어지거나 상기 유리기판에 에칭을 통해 형성될 수 있다.In one embodiment of the present invention, the second pattern may be formed of a transparent pattern formed on the surface of the glass substrate, or may be formed on the glass substrate through etching.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 제1패턴, 상기 제2패턴 및 상기 인쇄층은 상기 유리기판의 베젤 영역에 마련될 수 있다.In one embodiment of the present invention, the first pattern, the second pattern, and the print layer may be provided in a bezel region of the glass substrate.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 유리기판의 타면의 베젤 영역에는 제2색상층이 더 마련되고, 상기 인쇄층은 상기 제2색상층을 덮을 수 있다.In one embodiment of the present invention, a second color layer may be further provided on a bezel region of the other side of the glass substrate, and the printing layer may cover the second color layer.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 제1패턴에는 제3색상층이 마련될 수 있다.In an exemplary embodiment of the present invention, a third color layer may be provided on the first pattern.

한편, 상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 일실시예는 a) 유리기판의 일면 및 타면에 마스킹을 하는 공정; b) 상기 마스킹을 통해 상기 유리기판의 일면에 형성된 현상 패턴을 에칭하여 상기 유리기판의 일면에 제1패턴을 형성하는 공정; c) 상기 마스킹을 통해 상기 유리기판의 타면에 제2패턴을 형성하는 공정; d) 상기 제2패턴에 제1색상층을 마련하는 공정; 그리고 e) 상기 제1색상층을 덮도록 상기 유리기판의 타면에 인쇄층을 마련하는 공정을 포함하여 이루어지는 커버글라스의 제조 방법을 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a semiconductor device, comprising the steps of: a) masking one surface and the other surface of a glass substrate; b) forming a first pattern on one surface of the glass substrate by etching a development pattern formed on one surface of the glass substrate through the masking; c) forming a second pattern on the other surface of the glass substrate through the masking; d) providing a first color layer on the second pattern; And e) providing a print layer on the other surface of the glass substrate so as to cover the first color layer.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 마스킹을 하는 공정(a 공정)은, 상기 유리기판의 일면 및 타면에 포토레지스트 잉크 또는 감광성 필름을 도포하여 레지스트 필름을 마련하는 공정과, 상기 레지스트 필름을 노광하여 노광 패턴을 형성하는 공정을 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the masking step (a step) includes the steps of: applying a photoresist ink or a photosensitive film to one surface and the other surface of the glass substrate to prepare a resist film; Thereby forming an exposure pattern.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 마스킹을 하는 공정(a 공정)에서, 상기 노광 패턴을 형성하는 공정 후에 상기 노광 패턴을 현상하여 현상 패턴을 형성하는 공정이 더 이루어지고, 상기 제2패턴을 형성하는 공정(c 공정)에서, 상기 제2패턴은 상기 유리기판의 타면에 형성된 상기 현상 패턴을 에칭하여 형성할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, in the masking step (a step), after the step of forming the exposure pattern, the step of developing the exposure pattern to form a development pattern is further performed, (C), the second pattern may be formed by etching the development pattern formed on the other surface of the glass substrate.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 유리기판의 타면에 형성된 상기 현상 패턴의 에칭은, 상기 유리기판의 일면에 제1패턴을 형성하는 공정(b 공정)과 동시에 진행될 수 있다.In one embodiment of the present invention, the etching of the development pattern formed on the other surface of the glass substrate may be performed simultaneously with the step (b step) of forming the first pattern on one surface of the glass substrate.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 제2패턴을 형성하는 공정(c 공정)은, 상기 레지스트 필름을 박리하는 공정을 포함하고, 상기 제2 패턴은 투명한 상기 노광 패턴일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the step of forming the second pattern (step c) includes a step of peeling the resist film, and the second pattern may be the transparent exposure pattern.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 노광 패턴을 형성하는 공정은, 상기 유리기판의 일면의 레지스트 필름 및 상기 유리기판의 타면의 레지스트 필름에 대해 순차적으로 진행될 수 있다.In one embodiment of the present invention, the step of forming the exposure pattern may be sequentially performed on the resist film on one side of the glass substrate and the resist film on the other side of the glass substrate.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 제1색상층을 마련하는 공정(d 공정) 및 상기 인쇄층을 마련하는 공정(e 공정)의 사이에, 상기 유리기판의 타면의 베젤 영역에 제2색상층이 마련되는 공정을 더 포함할 수 있다.In an embodiment of the present invention, between the step of preparing the first color layer (step d) and the step of preparing the printing layer (step e), a second color A layer may be provided.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 제1패턴에 제3색상층을 마련하는 공정을 더 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the method may further include a step of providing a third color layer on the first pattern.

본 발명의 일실시예에 따르면, 유리기판의 일면에 에칭을 통해 제1패턴을 형성하고, 유리기판의 타면에 제1색상층을 마련할 수 있다. 따라서, 종래와 같이, OCA, PET 필름 및 UV 패턴을 마련하는 공정이 생략될 수 있어 공정이 단순해 질 수 있다.According to an embodiment of the present invention, a first pattern may be formed on one side of a glass substrate by etching, and a first color layer may be provided on the other side of the glass substrate. Therefore, the process for preparing the OCA, the PET film and the UV pattern can be omitted as in the conventional method, and the process can be simplified.

또한, 본 발명의 일실시예에 따르면, 유리기판의 일면에 에칭을 통해 제1패턴을 형성하여 색상층을 추가로 마련하고, 유리기판의 타면에 제2패턴을 형성하여 색상층을 마련함으로써, 두 가지 이상의 다중 색상 구현이 가능하다.According to an embodiment of the present invention, a first pattern is formed on one surface of a glass substrate by etching to further provide a color layer, and a second pattern is formed on the other surface of the glass substrate to form a color layer. More than one multi-color implementation is possible.

또한, 본 발명의 일실시예에 따르면, 유리기판의 양면에 패턴을 형성함으로써 커버글라스의 슬림화가 가능하다.Further, according to an embodiment of the present invention, it is possible to make the cover glass slim by forming a pattern on both sides of the glass substrate.

또한, 본 발명의 일실시예에 따르면, 유리기판의 일면 및 타면에 에칭을 통해 형성된 제1패턴 및 제2패턴에서의 굴절 및 난반사 등에 의해 입체감 있는 패턴의 형성이 가능하다.According to an embodiment of the present invention, it is possible to form a three-dimensional pattern by refraction and diffuse reflection in the first and second patterns formed through etching on one surface and the other surface of the glass substrate.

본 발명의 효과는 상기한 효과로 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 상세한 설명 또는 특허청구범위에 기재된 발명의 구성으로부터 추론 가능한 모든 효과를 포함하는 것으로 이해되어야 한다.It should be understood that the effects of the present invention are not limited to the above effects and include all effects that can be deduced from the detailed description of the present invention or the configuration of the invention described in the claims.

도 1은 종래의 커버글라스를 나타낸 평면예시도이다.
도 2는 도 1의 A-A선 단면예시도이다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 커버글라스를 나타낸 평면예시도이다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 커버글라스를 나타낸 단면예시도이다.
도 5는 본 발명의 제1실시예에 따른 커버글라스의 제조 방법을 나타낸 흐름도이다.
도 6은 본 발명의 제1실시예에 따른 커버글라스의 제조 방법에서 마스킹 공정을 나타낸 흐름도이다.
도 7 내지 도 9는 본 발명의 제1실시예에 따른 커버글라스의 제조 공정을 나타낸 예시도이다.
도 10 및 도 11은 본 발명의 제2실시예에 따른 커버글라스의 제조 공정을 나타낸 예시도이다.1 is a plan view of a conventional cover glass.
2 is a cross-sectional view taken along the line AA in Fig.
3 is a plan view illustrating a cover glass according to an embodiment of the present invention.
4 is a cross-sectional view illustrating a cover glass according to an embodiment of the present invention.
5 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a cover glass according to a first embodiment of the present invention.
6 is a flowchart showing a masking process in a method of manufacturing a cover glass according to the first embodiment of the present invention.
7 to 9 are views illustrating an example of a process for manufacturing a cover glass according to a first embodiment of the present invention.
10 and 11 are views showing an example of a process of manufacturing a cover glass according to a second embodiment of the present invention.

이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명을 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며, 따라서 여기에서 설명하는 실시예로 한정되는 것은 아니다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. In order to clearly illustrate the present invention, parts not related to the description are omitted, and similar parts are denoted by like reference characters throughout the specification.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 부재를 사이에 두고 "간접적으로 연결"되어 있는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 구비할 수 있다는 것을 의미한다.Throughout the specification, when a part is referred to as being "connected" to another part, it includes not only "directly connected" but also "indirectly connected" . Also, when an element is referred to as "comprising ", it means that it can include other elements, not excluding other elements unless specifically stated otherwise.

이하 첨부된 도면을 참고하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 커버글라스를 나타낸 평면예시도이고, 도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 커버글라스를 나타낸 단면예시도이다.FIG. 3 is a plan view illustrating a cover glass according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a cover glass according to an embodiment of the present invention.

도 3 및 도 4에서 보는 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 커버글라스(100)는 유리기판(110), 제1패턴(210), 제2패턴(220), 제1색상층(310) 그리고 인쇄층(410)을 포함하여 이루어질 수 있다.3 and 4, a cover glass 100 according to an exemplary embodiment of the present invention includes a glass substrate 110, a first pattern 210, a second pattern 220, a first color layer 310 And a printing layer 410. [0033]

본 발명에 있어서 커버글라스는 윈도우 글라스(window glass)를 포함하여 각종의 유리기판 모두를 포함할 수 있다. 커버글라스는 윈도우 글라스 또는 배터리 케이스와 같이 휴대 단말기의 전면 또는 후면 전체를 덮는 것일 수 있다. 또, 커버글라스는 휴대 단말기의 전면 일부 또는 후면 일부에 배치될 수 있다. 이때 커버글라스는 카메라 윈도우, 기능 버튼, 각종 데코부 등에 적용될 수 있다. 커버글라스가 상기 카메라 윈도우로 적용되는 경우, 상기 카메라 윈도우는 휴대 단말기의 카메라 모듈을 덮으며 카메라의 렌즈를 노출시킨다. 그리고 커버글라스가 기능 버튼으로 적용되는 경우, 기능 버튼의 표면이 되도록 배치될 수 있다. 상기 각종 데코부는 휴대 단말기의 외관에서 장식 효과를 갖도록 배치되는 모든 유리 기판일 수 있으며, 일례로 카메라 윈도우를 둘러싸고 있는 것일 수 있다.In the present invention, the cover glass may include all kinds of glass substrates including window glass. The cover glass may cover the entire front or back of the portable terminal, such as a window glass or battery case. Further, the cover glass may be disposed on a part of the front surface or a rear surface of the portable terminal. At this time, the cover glass can be applied to a camera window, function buttons, various decorations, and the like. When the cover glass is applied to the camera window, the camera window covers the camera module of the portable terminal and exposes the lens of the camera. When the cover glass is applied as a function button, it can be arranged so as to be the surface of the function button. The various decorating units may be all glass substrates arranged to have a decorative effect on the external appearance of the portable terminal, for example, one surrounding the camera window.

한편, 커버글라스는 개구부를 포함할 수 있다. 상기 개구부는 카메라 렌즈, 기능 버튼, 센서 등을 노출시킬 수 있으며, 이에 한정되지 않고 장식 효과를 낼 수 있는 모든 부품을 위한 것일 수 있다.On the other hand, the cover glass may include openings. The opening may expose a camera lens, a function button, a sensor, or the like, but is not limited thereto and may be for all parts capable of providing decorative effects.

또한, 본 발명에 있어서 베젤 영역은 커버글라스 상의 가장자리 영역뿐만 아니라, 패턴이나 장식기능을 담당하는 비투과 영역, 또는 기능상의 구분을 위해 커버글라스 상의 일부분의 가장자리를 표시한 특정 영역을 의미하기도 한다.In the present invention, the bezel region means not only an edge region on a cover glass, but also a non-transmissive region for a pattern or decorating function, or a specific region for displaying a portion of the edge of a cover glass for functional separation.

유리기판(110)은 휴대 단말기 내부의 디스플레이 패널을 보호하고, 디스플레이 패널의 화면을 투과시킨다. 유리기판(110)의 가장자리의 베젤 영역(101)에는 디스플레이 패널의 배선(미도시), 스피커(미도시), 카메라(미도시) 등이 위치할 수 있다. 유리기판(110)은 사용되는 용도에 따라 일정한 크기로 절단된 다음, 표면이 세척 건조될 수 있다. 유리기판(110)은 소다라임 유리기판, 무알칼리 유리기판 또는 강화유리기판 등일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 유리기판(110)은 유리소재가 아닌 아크릴과 같은 투명 수지 소재로 이루어질 수도 있다.The glass substrate 110 protects the display panel inside the portable terminal and transmits the screen of the display panel. Wiring (not shown), a speaker (not shown), a camera (not shown), and the like may be positioned in the bezel area 101 at the edge of the glass substrate 110. The glass substrate 110 may be cut to a certain size depending on the application to be used, and then the surface may be washed and dried. The glass substrate 110 may be a soda lime glass substrate, an alkali-free glass substrate, a tempered glass substrate, or the like, but is not limited thereto. The glass substrate 110 may be made of a transparent resin material such as acryl rather than a glass material.

제1패턴(210)은 유리기판(110)의 일면에 에칭을 통해 형성될 수 있다. 이에 따라, 제1패턴(210)은 유리기판(110)의 일면에 음각으로 형성될 수 있다. 제1패턴(210)이 형성되는 유리기판(110)의 일면은 사용자의 손가락 터치가 이루어지는 면으로, 제품에 적용되었을 때 외부로 노출되는 면이다. 따라서, 제1패턴(210)에는 외부의 빛이 직접 적용되고 반사와 굴절이 이루어지기 때문에 난반사가 더욱 효과적으로 이루어질 수 있다. 이러한 효과에 따라, 제1패턴(210)에서는, 유리기판(110)에서 제1패턴(210)이 형성되는 않은 부분과는 다르게 색상이 나타날 수 있다. 또한, 제1패턴(210)에서의 굴절 및 난반사 등에 의해 입체감 있는 패턴의 형성이 가능하다.The first pattern 210 may be formed on one side of the glass substrate 110 by etching. Accordingly, the first pattern 210 may be formed at an obtuse angle on one side of the glass substrate 110. One surface of the glass substrate 110 on which the first pattern 210 is formed is a surface on which the user's finger is touched, and is a surface exposed to the outside when applied to a product. Accordingly, the first pattern 210 is directly applied with external light, and reflection and refraction are performed, so that irregular reflection can be more effectively performed. According to such an effect, the first pattern 210 may be colored differently from the portion of the glass substrate 110 where the first pattern 210 is not formed. Further, it is possible to form a three-dimensional pattern by refraction and diffuse reflection in the first pattern 210 and the like.

제2패턴(220)은 유리기판(110)의 타면에 형성될 수 있다. 제2패턴(220)은 도시된 바와 같이 유리기판(110)의 타면에 음각으로 형성될 수 있으며, 이 경우, 제2패턴(220)은 에칭을 통해 형성될 수 있다. 더하여, 제2패턴(220)은 도시된 바와 달리, 유리기판(110)의 타면의 표면에 형성될 수도 있으며, 이에 대한 설명은 후술한다. 이 경우, 제2패턴(220)을 형성하기 위한 에칭 공정은 생략될 수 있다.The second pattern 220 may be formed on the other surface of the glass substrate 110. The second pattern 220 may be formed on the other surface of the glass substrate 110 at a recessed angle. In this case, the second pattern 220 may be formed through etching. In addition, the second pattern 220 may be formed on the surface of the other surface of the glass substrate 110, which will be described later. In this case, the etching process for forming the second pattern 220 may be omitted.

제1색상층(310)은 제2패턴(220)에 마련될 수 있으며, 제1색상층(310)은 색상을 가질 수 있다. 제1색상층(310)은 증착, 인쇄, 스프레이 및 도금 등 중 어느 하나의 방법으로 마련될 수 있다. 일 예로, 제1색상층(310)은 다층의 박막으로 이루어질 수 있으며, 여기서, 상기 다층의 박막은 금속 산화물 층 및 비금속 산화물 층 중 하나 이상이 적층되어 이루어질 수 있다. 이러한 다층의 박막은 유입되는 빛의 파장을 다양하게 조절할 수 있으며, 이에 따라, 색상을 구현할 수 있다.The first color layer 310 may be provided in the second pattern 220, and the first color layer 310 may have a color. The first color layer 310 may be formed by any one of evaporation, printing, spraying, and plating. For example, the first color layer 310 may be a multilayer thin film, wherein the multilayer thin film may be formed by stacking at least one of a metal oxide layer and a non-metal oxide layer. Such a multi-layered film can control various wavelengths of incoming light, thereby achieving color.

제1색상층(310)은 유리기판(110)에 마련되기 때문에, 종래의 커버글라스(10)에서와는 달리, 유리기판(110)으로 입사된 광이 다른 재질의 구성요소(종래의 커버글라스(10, 도 2 참조)에 구비되는OCA(30, 도 2 참조), PET 필름(40, 도 2 참조) 및 UV 패턴(50, 도 2 참조))를 거치지 않고 바로 제1색상층(310)에 도달할 수 있게 된다. 따라서, 본 발명의 실시예에 따른 커버글라스(100)는 종래의 커버글라스(10)에서보다 높은 투과율을 가질 수 있으며, 슬림화도 가능해질 수 있다.Unlike the conventional cover glass 10, since the first color layer 310 is provided on the glass substrate 110, the light incident on the glass substrate 110 is made of a different material component (conventional cover glass 10 (See FIG. 2), the PET film 40 (see FIG. 2) and the UV pattern 50 (see FIG. 2) provided in the first color layer 310 . Therefore, the cover glass 100 according to the embodiment of the present invention can have a higher transmittance in the conventional cover glass 10, and can be made slim.

인쇄층(410)은 제1색상층(310)을 덮도록 유리기판(110)의 타면에 마련될 수 있다. 인쇄층(410)은 흑색 잉크를 이용하여 인쇄되는 블랙 매트릭스(black matrix) 층일 수 있다. 그리고, 흑색 잉크는 금속, 금속산화물과 같은 무기화합물 또는 고분자 수지와 같은 유기화합물을 포함할 수 있다. 인쇄층(410)은 커버글라스(100)의 베젤 영역(101)을 형성할 수 있다. 인쇄층(410)은 디스플레이 패널로부터 방출되는 빛을 차단하여 커버글라스(100)의 디스플레이부(102)로 디스플레이 패널이 표시되도록 하고, 외부 입사광은 반사시킬 수 있다. 제1패턴(210), 제2패턴(220) 및 인쇄층(410)은 커버글라스(100)의 베젤 영역(101)에 마련될 수 있다. The print layer 410 may be provided on the other surface of the glass substrate 110 to cover the first color layer 310. The print layer 410 may be a black matrix layer printed using black ink. The black ink may contain an inorganic compound such as a metal, a metal oxide, or an organic compound such as a polymer resin. The print layer 410 may form a bezel region 101 of the cover glass 100. The printing layer 410 shields light emitted from the display panel so that the display panel 102 of the cover glass 100 displays the display panel and reflects external incident light. The first pattern 210, the second pattern 220 and the printing layer 410 may be provided in the bezel region 101 of the cover glass 100.

본 발명의 일실시예에서, 제1색상층(310) 및 제1패턴(210)은 그 외의 부분과 대비를 이루면서 패턴 효과를 나타낼 수 있다. 즉, 본 발명의 일실시예에서는 제1패턴(210) 및 제2패턴(220)에 마련되는 제1색상층(310)이 패턴부(150)를 나타내고, 그 외의 부분은 주변부(160)가 될 수 있다. 또는 제1패턴(210) 및 제2패턴(220)에 마련되는 제1색상층(310)이 상기 주변부가 되고, 그 외의 부분이 상기 패턴부가 될 수도 있다. 이러한 패턴은 선, 도형 등의 형상일 수 있으며, 이러한 형상들이 반복 형성되어 헤어라인이나 직조 패턴과 같은 기하학 무늬를 나타낼 수 있다. 더하여, 패턴부(150)에 의해 구현되는 이러한 패턴은 기호, 숫자, 글자, 로고(logo) 등의 형상을 포함할 수도 있다.In an embodiment of the present invention, the first color layer 310 and the first pattern 210 may exhibit a pattern effect in contrast to other portions. That is, in an embodiment of the present invention, the first color layer 310 provided on the first pattern 210 and the second pattern 220 represents the pattern unit 150, . Alternatively, the first color layer 310 provided on the first pattern 210 and the second pattern 220 may be the peripheral portion, and the other portions may be the patterned portion. Such a pattern may be a line, a figure, or the like, and these shapes may be repeatedly formed to represent a geometric pattern such as a hairline or a weave pattern. In addition, this pattern implemented by the pattern unit 150 may include shapes such as symbols, numbers, letters, logos, and the like.

도 5는 본 발명의 제1실시예에 따른 커버글라스의 제조 방법을 나타낸 흐름도이고, 도 6은 본 발명의 제1실시예에 따른 커버글라스의 제조 방법에서 마스킹 공정을 나타낸 흐름도이다.FIG. 5 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a cover glass according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a flowchart illustrating a masking process in a method of manufacturing a cover glass according to the first embodiment of the present invention.

도 5 및 도 6에서 보는 바와 같이, 본 발명의 제1실시예에 따른 커버글라스의 제조 방법은 유리기판의 일면 및 타면에 마스킹을 하는 공정(S510)을 가질 수 있다. As shown in FIGS. 5 and 6, the method of manufacturing a cover glass according to the first embodiment of the present invention may have a step S510 of masking one side and the other side of the glass substrate.

그리고, 마스킹을 하는 공정(S510)는 유리기판의 일면 및 타면에 포토레지스트 (photoresist) 잉크 또는 감광성 필름(DFR, Dry Film Photoresist)을 도포하여 레지스트 필름을 마련하는 공정(S511)을 포함할 수 있다. 포토레지스트 잉크는 유리를 에칭하기 위한 에칭액(etchant)에 반응하지 않는 내산성 포토레지스트 잉크일 수 있다. 또한, 포토레지스트 잉크는 노광시 가용성이 되는 포지형(positive type)이거나, 불용성이 되는 네거형(negative type)일 수 있다. 포토레지스트 잉크는 스크린 인쇄(screen print), 스핀 코트(spin coat), 페인팅(painting), 스프레이(spray), 딥코팅(dip coating), 피딩(feeding) 및 슬릿 다이 코팅(slit die coating) 등의 방법으로 유리기판(110)에 일정한 두께로 코팅 성형될 수 있다.The masking step S510 may include a step S511 of applying a photoresist ink or a dry film photoresist (DFR) to one side and the other side of the glass substrate to form a resist film . The photoresist ink may be an acid-resistant photoresist ink that does not react to an etchant for etching the glass. Further, the photoresist ink may be a positive type which becomes soluble at the time of exposure, or a negative type which becomes insoluble. Photoresist inks can be used in various applications such as screen printing, spin coating, painting, spraying, dip coating, feeding and slit die coating. The glass substrate 110 may be coated with a predetermined thickness.

또한, 마스킹을 하는 공정(S510)은 레지스트 필름을 노광하여 노광 패턴을 형성하는 공정(S512)을 가질 수 있다. 이때, 레지스트 필름의 상측에는 마스크 패턴이 배치될 수 있으며, 마스크 패턴에 조사되는 빛은 UV광일 수 있다. 그리고, 노광 패턴을 현상하여 현상 패턴을 형성하는 공정(S513)이 진행될 수 있다.The masking step S510 may include a step S512 of exposing the resist film to form an exposure pattern. At this time, a mask pattern may be disposed on the upper side of the resist film, and the light irradiated on the mask pattern may be UV light. Then, the step of developing the exposure pattern to form a development pattern (S513) may proceed.

이후, 본 발명의 제1실시예에 따른 커버글라스의 제조 방법은 마스킹을 통해 유리기판의 일면에 형성된 현상 패턴을 에칭하여 유리기판의 일면에 제1패턴을 형성하는 공정(S520)을 가질 수 있다. Hereinafter, a method of manufacturing a cover glass according to a first embodiment of the present invention may include a step S520 of forming a first pattern on one side of a glass substrate by etching a developing pattern formed on one side of the glass substrate through masking .

그리고, 마스킹을 통해 유리기판의 타면에 형성된 현상 패턴으로 유리기판의 타면의 표면에 제2패턴을 형성하는 공정(S530)이 진행될 수 있다.Then, a step S530 of forming a second pattern on the other surface of the glass substrate using a developing pattern formed on the other surface of the glass substrate through masking may be performed.

또한, 제2패턴에 제1색상층을 마련하는 공정(S540)이 진행될 수 있으며, 제1색상층을 덮도록 유리기판의 타면에 인쇄층을 마련하는 공정(S550)이 진행될 수 있다. In addition, the step of providing the first color layer (S540) may be performed on the second pattern, and the step of providing the print layer on the other side of the glass substrate (S550) may be performed so as to cover the first color layer.

도 7 내지 도 9는 본 발명의 제1실시예에 따른 커버글라스의 제조 공정을 나타낸 예시도이다. 이하에서는 도 7 내지 도 9를 참조하여 커버글라스의 제조 공정의 흐름을 설명한다.7 to 9 are views illustrating an example of a process for manufacturing a cover glass according to a first embodiment of the present invention. Hereinafter, the flow of the manufacturing process of the cover glass will be described with reference to Figs. 7 to 9. Fig.

먼저, 도 7의 (a)~(b)에서 보는 바와 같이, 유리기판(110)의 일면 및 타면에 포토레지스트 잉크 또는 감광성 필름을 도포하여 레지스트 필름(121,122)을 마련할 수 있다. 레지스트 필름(121,122)은 유리기판(110)의 양면에 동시 마련될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니며, 유리기판(110)의 일면 및 타면에 순차적으로 마련될 수 있다. First, as shown in FIGS. 7A and 7B, resist films 121 and 122 may be formed by applying a photoresist ink or a photosensitive film to one side and the other side of the glass substrate 110. The resist films 121 and 122 may be formed on both surfaces of the glass substrate 110, but the present invention is not limited thereto. The resist films 121 and 122 may be sequentially formed on one surface and the other surface of the glass substrate 110.

그리고, 유리기판(110)에 도포된 레지스트 필름(121,122)을 노광하여 노광 패턴(131,132)을 형성할 수 있다. 레지스트 필름(121,122)의 노광 공정은 도 7의 (c)에서와 같이, 유리기판(110)의 일면에 도포된 레지스트 필름(121)에 대한 1차 노광 공정과, 도 7의 (d)에서와 같이, 유리기판(110)의 타면에 도포된 레지스트 필름(122)에 대한 2차 노광 공정을 포함할 수 있다. 이러한 노광 공정을 통해, 유리기판(110)의 양면에 도포된 레지스트 필름(121,122)에는 각각 노광 패턴(131,132)이 형성될 수 있다. 이때, 1차 노광 공정 및 2차 노광 공정이 유리기판(110)의 어느 면에 먼저 이루어지는 지는 실제 공정과정에서 적절하게 조절, 적용될 수 있다. 또한, 1차 노광 공정 및 2차 노광 공정은 동시에 진행될 수도 있다. Then, the exposure patterns 131 and 132 can be formed by exposing the resist films 121 and 122 coated on the glass substrate 110. The exposure process of the resist films 121 and 122 is a process of exposing the resist film 121 to a primary exposure process for the resist film 121 applied on one side of the glass substrate 110, Similarly, a second exposure process for the resist film 122 applied to the other surface of the glass substrate 110 may be included. Through such an exposure process, the exposure patterns 131 and 132 may be formed on the resist films 121 and 122 coated on both sides of the glass substrate 110, respectively. At this time, whether the primary exposure process and the secondary exposure process are performed first on the surface of the glass substrate 110 can be appropriately adjusted and applied during the actual process. Further, the primary exposure step and the secondary exposure step may be carried out simultaneously.

이후, 노광 패턴(131,132)을 현상하여 도 7의 (e)에서 보는 바와 같이, 유리기판(110)의 일면 및 타면에 현상 패턴(141,142)을 형성할 수 있다. 그리고, 각각의 현상 패턴(141,142)을 에칭하여 유리기판(110)의 일면에 제1패턴(210)을 형성하고, 유리기판(110)의 타면에는 제2패턴(220)을 형성할 수 있다(도 7의 (f)). 이때, 유리기판(110)의 양면에 마련된 각각의 현상 패턴(141,142)에 대한 에칭은 동시에 진행될 수 있으며, 이를 통해, 유리기판(110)의 일면에 제1패턴(210)을 형성하는 공정과 유리기판(110)의 타면에 제2패턴(220)을 형성하는 공정은 동시에 진행될 수 있다.Thereafter, the exposure patterns 131 and 132 are developed to form the development patterns 141 and 142 on one side and the other side of the glass substrate 110, as shown in FIG. 7 (e). The first pattern 210 may be formed on one surface of the glass substrate 110 and the second pattern 220 may be formed on the other surface of the glass substrate 110 by etching each of the development patterns 141 and 142 7 (f)). At this time, etching of the respective development patterns 141 and 142 provided on both surfaces of the glass substrate 110 can proceed simultaneously, thereby forming a first pattern 210 on one surface of the glass substrate 110, The process of forming the second pattern 220 on the other surface of the substrate 110 may be performed at the same time.

그리고, 도 7의 (g)~(h)에서 보는 바와 같이, 유리기판(110)의 양면의 레지스트 필름(121,122)을 박리하여 제거할 수 있으며, 유리기판(110)의 타면에 제1색상층(310)을 마련할 수 있다. 이때, 제1색상층(310)은 유리기판(110)의 타면에 전체적으로 마련될 수 있으며, 이를 통해, 제1색상층(310)은 제2패턴(220)에 마련될 수 있게 된다.7 (g) to 7 (h), the resist films 121 and 122 on both sides of the glass substrate 110 can be peeled off and removed. On the other surface of the glass substrate 110, (310) can be provided. The first color layer 310 may be provided on the other surface of the glass substrate 110 so that the first color layer 310 may be provided on the second pattern 220.

한편, 유리기판(110)의 일면에 제1패턴(210)이 형성되고, 유리기판(110)의 타면에 제2패턴(220)이 형성된 상태에서(도 7의 (f)), 제1색상층(310)이 유리기판(110)의 타면에 도포될 수도 있다. 그리고 이후, 유리기판(110)의 레지스트 필름(121,122)이 제거될 수도 있다(도 8의 (g)~(h) 참조). 즉, 제1색상층(310)은 유리기판(110)의 타면의 레지스트 필름(122)이 제거되기 전 또는 제거된 후에 제2패턴(220)에 마련될 수 있다. 이러한 공정의 순서 변경은 커버글라스(100)에 제1색상층(310)만이 적용될 때, 즉 하나의 색상층이 적용될 때 가능하다. 전술한 두 가지 경우 모두 제2패턴(220)에는 제1색상층(310)이 마련될 수 있다. The first pattern 210 is formed on one side of the glass substrate 110 and the second pattern 220 is formed on the other side of the glass substrate 110 The layer 310 may be applied to the other side of the glass substrate 110. [ Then, the resist films 121 and 122 of the glass substrate 110 may be removed (see FIGS. 8 (g) to 8 (h)). That is, the first color layer 310 may be provided on the second pattern 220 before or after the resist film 122 on the other surface of the glass substrate 110 is removed. This order change of the process is possible when only the first color layer 310 is applied to the cover glass 100, that is, when one color layer is applied. In both of the above-described cases, the first pattern layer 310 may be provided in the second pattern 220.

이후, 도 7의 (i)에서 보는 바와 같이, 유리기판(110)의 타면에는 제1색상층(310)을 덮도록 인쇄층(410)이 마련될 수 있다. 인쇄층(410)은 유리기판(110)의 베젤 영역에 마련될 수 있다. 따라서, 베젤 영역에는 제1색상층(310)에 의한 색상이 구현될 수 있다. 그리고, 제1색상층(310) 중에 인쇄층(410)을 벗어난 부분(311)은 제거될 수 있으며, 이를 통해, 제1패턴(210), 제2패턴(220), 제1색상층(310) 및 인쇄층(410)은 베젤 영역 내에 마련될 수 있게 된다(도 7의 (j)). 7 (i), a print layer 410 may be formed on the other surface of the glass substrate 110 so as to cover the first color layer 310. The print layer 410 may be provided in a bezel region of the glass substrate 110. Accordingly, the hue of the first color layer 310 can be realized in the bezel region. The portion 311 of the first color layer 310 which is out of the print layer 410 may be removed so that the first pattern 210, the second pattern 220, the first color layer 310 And the print layer 410 can be provided in the bezel region (Fig. 7 (j)).

본 실시예에서, 색상은 제1색상층(310)에 의해 구현되지만, 제1패턴(210)에서의 빛의 난반사 등에 의해 제1패턴(210)이 보이기 때문에, 커버글라스(100)는 제1색상층(310)에 의한 패턴과 제1패턴(210)에 의한 두 개의 패턴을 구현할 수 있다. 또한, 제1패턴(210)에서의 빛의 난반사 등에 의해 제1패턴(210)이 색상을 구현할 수 있기 때문에, 실질적으로 커버글라스(100)는 두 가지의 색상을 구현하는 효과도 가질 수 있다.In this embodiment, the hue is implemented by the first color layer 310, but since the first pattern 210 is visible due to irregular reflection of light in the first pattern 210, A pattern by the color layer 310 and two patterns by the first pattern 210 can be realized. In addition, since the first pattern 210 can embody hues due to irregular reflection of light in the first pattern 210, the cover glass 100 may have an effect of implementing two colors.

또한, 제1패턴(210) 및 제2패턴(220)이 유리기판(110)에 에칭을 통해 음각으로 형성됨으로써, 제1패턴(210) 및 제2패턴(220)에서의 굴절 및 난반사 등에 의해 입체감 있는 패턴의 형성 및 시각적인 효과 구현이 가능하다.The first pattern 210 and the second pattern 220 are formed on the glass substrate 110 at an oblique angle by etching so that the first pattern 210 and the second pattern 220 are refracted or diffused by the first pattern 210 and the second pattern 220, It is possible to form a three-dimensional pattern and realize a visual effect.

한편, 본 발명의 제1실시예에 따른 커버글라스(100)에는 제2색상층이 더 마련될 수 있다. 이하에서는 도 8을 참조하여 설명한다. 도 8의 (a)~(f)는 도 7의 (a)~(f)와 동일하며, 도 8의 (a)~(f)의 내용은 도 7의 (a)~(f)를 참조하여 전술한 내용과 동일하므로 설명을 생략한다.Meanwhile, the cover glass 100 according to the first embodiment of the present invention may further include a second color layer. The following description will be made with reference to Fig. 8A to 8F are the same as Figs. 7A to 7F, and the contents of Figs. 8A to 8F are shown in Figs. 7A to 7F And the description is omitted.

도 8의 (g)에서 보는 바와 같이, 유리기판(110)의 양면에 레지스트 필름(121,122)이 도포된 상태에서 제2패턴(220)에 제1색상층(310)을 마련할 수 있다. 이때, 실제 공정상에서 제1색상층(310)은 제2패턴(220) 뿐만 아니라, 유리기판(110)의 타면에 도포된 레지스트 필름(122)에도 마련될 수 있다. The first color layer 310 may be provided on the second pattern 220 while the resist films 121 and 122 are coated on both sides of the glass substrate 110 as shown in FIG. At this time, the first color layer 310 may be provided not only on the second pattern 220 but also on the resist film 122 coated on the other surface of the glass substrate 110.

그리고, 유리기판(110)의 양면에 도포된 레지스트 필름(121,122)을 제거할 수 있다. 이에 따라, 제1색상층(310)은 제2패턴(220)에만 마련된 상태가 될 수 있다(도 8의 (h)). Then, the resist films 121 and 122 coated on both sides of the glass substrate 110 can be removed. Accordingly, the first color layer 310 may be provided only in the second pattern 220 (FIG. 8 (h)).

이후, 유리기판(110)의 타면에 제2색상층(320)이 마련될 수 있다. 이때, 제2색상층(320)은 제1색상층(310)과 다른 색상을 가질 수 있다(도 8의 (i)). 그리고, 제2색상층(320)은 유리기판(110)의 타면과 함께 제1색상층(310)을 덮도록 마련될 수 있다. 이에 따라, 유리기판(110)의 타면에는 제1색상층(310) 및 제2색상층(320)이 모두 마련될 수 있으며, 이를 통해, 커버글라스(100)는 제1색상층(310) 및 제2색상층(320)에 의한 색상이 구현될 수 있다.Thereafter, the second color layer 320 may be provided on the other surface of the glass substrate 110. At this time, the second color layer 320 may have a color different from that of the first color layer 310 (FIG. 8 (i)). The second color layer 320 may be provided to cover the first color layer 310 together with the other surface of the glass substrate 110. Accordingly, the first color layer 310 and the second color layer 320 may be all formed on the other surface of the glass substrate 110, so that the cover glass 100 may include the first color layer 310 and / Colors by the second color layer 320 may be implemented.

그리고, 도 8의 (j)에서 보는 바와 같이, 유리기판(110)의 타면에는 제2색상층(320)을 덮도록 인쇄층(410)이 마련될 수 있으며, 인쇄층(410)은 유리기판(110)의 베젤 영역에 마련될 수 있다. 8 (j), the print layer 410 may be formed on the other surface of the glass substrate 110 so as to cover the second color layer 320, and the print layer 410 may be formed on the glass substrate 110. [ (Not shown).

이후, 제2색상층(320) 중에 인쇄층(410)을 벗어난 부분(321)은 제거될 수 있으며, 이를 통해, 제1색상층(310)과 함께 제2색상층(320)이 베젤 영역 내에 마련될 수 있게 된다(도 8의 (k)).The portion 321 of the second color layer 320 that is out of the print layer 410 may then be removed so that the second color layer 320 with the first color layer 310 (Fig. 8 (k)).

또한, 본 발명의 제1실시예에 따른 커버글라스(100)에는 제3색상층이 더 마련될 수 있다. 이하에서는 도 9를 참조하여 설명하며, 도 9의 (a)~(f)는 도 7의 (a)~(f)를 참조하여 전술한 내용과 동일하므로 설명을 생략한다.In addition, the cover glass 100 according to the first embodiment of the present invention may further include a third color layer. 9 (a) to 9 (f) are the same as those described above with reference to FIGS. 7 (a) to 7 (f), and a description thereof will be omitted.

도 9의 (g)에서 보는 바와 같이, 제2패턴(220)에 제1색상층(310)을 마련할 수 있다. 이때, 실제 공정상에서 제1색상층(310)은 제2패턴(220) 뿐만 아니라, 유리기판(110)의 타면에 도포된 레지스트 필름(122)에도 마련될 수 있다. As shown in FIG. 9G, the first color layer 310 may be provided on the second pattern 220. At this time, the first color layer 310 may be provided not only on the second pattern 220 but also on the resist film 122 coated on the other surface of the glass substrate 110.

그리고, 제1패턴(210)에는 제3색상층(330)이 마련될 수 있다. 여기서, 제3색상층(330)은 제1색상층(310)과 다른 색상을 가질 수 있다. 그리고, 제3색상층(330)은 실제 공정상에서 제1패턴(210)과 함께 유리기판(110)의 일면에 도포된 레지스트 필름(121)에도 마련될 수 있다. 제3색상층(330)은 도 8에서 설명한 제1색상층 및 제2색상층과 구별되는 색상층의 의미로서 정의될 수 있으며, 설명의 편의상 ‘제3색상층’으로 기재된다. 제3색상층은 제1색상층(310) 및 후술할 제2색상층(320)과의 마련 순서를 포함하는 의미로 사용되는 것은 아니다. A third color layer 330 may be provided on the first pattern 210. Here, the third color layer 330 may have a different color from the first color layer 310. The third color layer 330 may be provided on the resist film 121 coated on one side of the glass substrate 110 together with the first pattern 210 on an actual process. The third color layer 330 may be defined as a color layer distinguished from the first color layer and the second color layer described in FIG. 8, and is described as a 'third color layer' for convenience of explanation. The third color layer is not used to include the order of arranging the first color layer 310 and the second color layer 320 to be described later.

한편, 제1색상층(310) 및 제3색상층(330)의 마련 순서는 바뀔 수도 있다. 즉, 제1패턴(210)에 제3색상층(330)이 먼저 마련되고, 이후, 제2패턴(220)에 제1색상층(310)이 마련될 수도 있다.Meanwhile, the order of arranging the first color layer 310 and the third color layer 330 may be changed. That is, the third color layer 330 may be provided first in the first pattern 210, and then the first color layer 310 may be provided in the second pattern 220.

이후, 유리기판(110)의 양면에 도포된 레지스트 필름(121,122)을 제거할 수 있다. 이에 따라, 제1색상층(310)은 제2패턴(220)에만 마련된 상태가 될 수 있고, 제3색상층(330)은 제1패턴(210)에만 마련된 상태가 될 수 있다(도 9의 (i)).Thereafter, the resist films 121 and 122 coated on both sides of the glass substrate 110 can be removed. Accordingly, the first color layer 310 may be provided only in the second pattern 220, and the third color layer 330 may be provided only in the first pattern 210 (i).

그리고, 유리기판(110)의 타면에 제2색상층(320)이 마련될 수 있다. 이때, 제2색상층(320)은 제1색상층(310) 및 제3색상층(330)과 다른 색상을 가질 수 있다(도 9의 (j)). 제2색상층(320)은 실제 공정상에서 유리기판(110)의 타면의 표면과 함께 제1색상층(310)을 덮도록 마련될 수 있다.The second color layer 320 may be provided on the other surface of the glass substrate 110. At this time, the second color layer 320 may have a different color from the first color layer 310 and the third color layer 330 (FIG. 9 (j)). The second color layer 320 may be provided to cover the first color layer 310 together with the other surface of the glass substrate 110 on the actual process.

그리고, 도 9의 (k)에서 보는 바와 같이, 유리기판(110)의 타면에는 제1색상층(310) 및 제2색상층(320)을 덮도록 인쇄층(410)이 마련될 수 있으며, 인쇄층(410)은 유리기판(110)의 베젤 영역에 마련될 수 있다.9 (k), the print layer 410 may be formed on the other surface of the glass substrate 110 so as to cover the first color layer 310 and the second color layer 320, The print layer 410 may be provided in a bezel region of the glass substrate 110.

제2색상층(320) 중에 인쇄층(410)을 벗어난 부분(321)은 제거될 수 있으며, 이를 통해, 제1색상층(310), 제2색상층(320)과 함께 제3색상층(330)은 베젤 영역 내에 마련될 수 있게 된다(도 9의 (l)).The portion 321 of the second color layer 320 which is out of the print layer 410 can be removed so that the third color layer 310 and the third color layer 320 together with the second color layer 320 330 can be provided in the bezel region (FIG. 9 (1)).

한편, 본 발명에서는 유리기판(110)의 양면에 도포된 레지스트 필름의 노광 공정 및 현상 공정이 유리기판(110)의 일면 및 타면에 대해 순차적으로 이루어지고, 제2패턴이 유리기판(110)의 타면의 표면에 형성될 수 있다. 이하에서는 이에 대해 설명한다.In the present invention, the exposure process and the development process of the resist film coated on both sides of the glass substrate 110 are sequentially performed on one surface and the other surface of the glass substrate 110, and the second pattern is formed on the glass substrate 110 Can be formed on the surface of the other surface. This will be described below.

도 10 및 도 11은 본 발명의 제2실시예에 따른 커버글라스의 제조 공정을 나타낸 예시도이다.10 and 11 are views showing an example of a process of manufacturing a cover glass according to a second embodiment of the present invention.

먼저, 도 10의 (a)~(c)에서 보는 바와 같이, 본 발명의 제2실시예에 따른 커버글라스(1100)의 제조 공정에서는, 유리기판(1110)의 일면 및 타면에 레지스트 필름(1121,1122)이 도포되고, 유리기판(1110)의 일면에 도포된 레지스트 필름(1121)에 대해서 1차 노광 공정이 진행될 수 있다. 10 (a) to 10 (c), in the manufacturing process of the cover glass 1100 according to the second embodiment of the present invention, a resist film 1121 is formed on one surface and the other surface of the glass substrate 1110, And 1122 are coated on the glass substrate 1110 and the first exposure process can be performed on the resist film 1121 coated on one side of the glass substrate 1110. [

그리고, 노광 공정을 통해 형성된 노광 패턴(1131)을 현상하여 현상 패턴(1141)을 형성할 수 있으며, 현상 패턴(1141)을 에칭함으로써 유리기판(1110)의 일면에 제1패턴(1210)을 형성할 수 있다(도 10의 (d)~(e)).The exposure pattern 1131 formed through the exposure process may be developed to form the development pattern 1141. The first pattern 1210 may be formed on one surface of the glass substrate 1110 by etching the development pattern 1141 (Fig. 10 (d) to (e)).

여기서, 유리기판(1110)의 일면에 에칭하는 공정이 진행되기 전에, 유리기판(1110)의 타면에, 구체적으로는 유리기판(1110)의 타면에 마련된 레지스트 필름(1122)에 UV층(미도시)이 도포될 수 있다. 이를 통해, 에칭을 하고자 하는 면에만 에칭이 이루어지도록 할 수 있다. 에칭 공정이 완료된 후에는 도포된 UV층은 제거될 수 있다. 이러한 UV 층은 공정상의 편의성을 위해 유리기판(1110)의 일면 또는 타면에 도포 및 제거를 반복하면서 적용될 수 있다. A UV layer (not shown) is formed on the other surface of the glass substrate 1110, specifically, on the resist film 1122 provided on the other surface of the glass substrate 1110, before the process of etching the surface of the glass substrate 1110. [ ) Can be applied. Thus, etching can be performed only on the surface to be etched. After the etching process is completed, the applied UV layer can be removed. This UV layer can be applied while repeating application and removal to one side or the other side of the glass substrate 1110 for convenience of processing.

이후, 유리기판(1110)의 타면의 레지스트 필름(1122)에 대해 2차 노광 공정이 진행되어 노광 패턴(1132)을 형성할 수 있으며(도 10의 (f)), 이와 같이 형성된 노광 패턴(1132)으로 유리기판(1110)의 타면에 제2패턴(1220)을 형성할 수 있다(도 10의 (g)). 상기 노광 패턴(1132)은 현상 과정을 생략하고 레지스트 필름(1122)을 박리하여 형성할 수 있다. 따라서, 이 경우, 유리기판(1110)의 타면에 형성되는 제2패턴(1220)은 유리기판(1110)의 타면의 표면에 형성되게 된다. 이처럼, 본 실시예에서는 유리기판(1110)의 일면에 도포된 레지스트 필름에 노광 패턴 및 현상 패턴을 형성하고, 이어서 유리기판(1110)의 타면에 도포된 레지스트 필름에 노광 패턴을 형성하는 공정이 순차적으로 진행될 수 있다. 여기서, 레지스트 필름에 노광 패턴 및 현상 패턴을 형성하는 공정이 유리기판(1110)의 어느 면에 도포된 레지스트 필름에 먼저 이루어는가 하는 것은 실제 공정에 따라 적절하게 조절될 수 있음은 물론이다.Then, the resist film 1122 on the other side of the glass substrate 1110 is subjected to a secondary exposure process to form an exposure pattern 1132 (FIG. 10F), and the thus formed exposure pattern 1132 The second pattern 1220 can be formed on the other surface of the glass substrate 1110 (Fig. 10 (g)). The exposure pattern 1132 can be formed by peeling off the resist film 1122 while omitting the developing process. Accordingly, in this case, the second pattern 1220 formed on the other surface of the glass substrate 1110 is formed on the surface of the other surface of the glass substrate 1110. As described above, in the present embodiment, the steps of forming an exposure pattern and a development pattern on a resist film coated on one side of a glass substrate 1110, and subsequently forming an exposure pattern on a resist film coated on the other side of the glass substrate 1110, Lt; / RTI > It goes without saying that the step of forming the exposure pattern and the development pattern on the resist film first on the resist film applied to the surface of the glass substrate 1110 can be appropriately adjusted according to the actual process.

그리고, 제2패턴(1220)에 제1색상층(1310)이 마련될 수 있다. 실제 공정상에서 제1색상층(1310)은 제2패턴(1220)과 함께 레지스트 필름(1122)에도 마련될 수 있다(도 10의 (h)). A first color layer 1310 may be provided on the second pattern 1220. The first color layer 1310 may be provided on the resist film 1122 together with the second pattern 1220 in the actual process (FIG. 10 (h)).

이후, 도 10의 (i)에서 보는 바와 같이, 유리기판(1110)의 양면의 레지스트 필름(1121,1122)이 제거될 수 있으며, 이를 통해, 유리기판(1110)의 타면의 표면에 제1색상층(1310)이 남을 수 있게 된다.10 (i), the resist films 1121 and 1122 on both sides of the glass substrate 1110 can be removed, thereby forming a first color on the surface of the other surface of the glass substrate 1110, Layer 1310 may remain.

유리기판(1110)의 타면에는 제2색상층(1320)이 더 마련될 수 있으며, 제2색상층(1320)은 제1색상층(1310)을 덮으면서 유리기판(1110)의 타면에 마련될 수 있다(도 10의 (j)). A second color layer 1320 may be further provided on the other surface of the glass substrate 1110 and a second color layer 1320 may be provided on the other surface of the glass substrate 1110 while covering the first color layer 1310 (Fig. 10 (j)).

이후, 도 10의 (k)에서 보는 바와 같이, 유리기판(1110)의 타면에는 제2색상층(1320)을 덮도록 인쇄층(1410)이 마련될 수 있으며, 인쇄층(1410)은 유리기판(1110)의 베젤 영역에 마련될 수 있다. 10 (k), a print layer 1410 may be formed on the other surface of the glass substrate 1110 so as to cover the second color layer 1320, and the print layer 1410 may be formed on the glass substrate 1110. [ May be provided in the bezel region of the display device 1110.

그리고, 제2색상층(1320) 중에 인쇄층(1410)을 벗어난 부분(1321)은 제거될 수 있으며, 이를 통해, 제1패턴(1210), 제1색상층(1310)과 함께 제2색상층(1320)이 베젤 영역 내에 마련될 수 있게 된다(도 10의 (l)).The portion 1321 of the second color layer 1320 that is out of the print layer 1410 may be removed so that the second color layer 1310 with the first pattern 1210, (1320) can be provided in the bezel region ((l) in Fig. 10).

또한, 본 발명의 제2실시예에 따른 커버글라스(1100)에도 제3색상층이 더 마련될 수 있다. 이하에서는 도 11을 참조하여 설명하며, 도 11의 (a)~(h)는 도 10의 (a)~(h)를 참조하여 전술한 내용과 동일하므로 설명을 생략한다.Further, a third color layer may be further provided on the cover glass 1100 according to the second embodiment of the present invention. 11 (a) to 11 (h) are the same as those described above with reference to FIGS. 10 (a) to 10 (h), and a description thereof will be omitted.

도 11의 (h)에서 보는 바와 같이, 제1패턴(1210)에는 제3색상층(1330)이 마련될 수 있다(도 10의 (i)). 여기서, 제3색상층(1330)은 제1색상층(1310)과 다른 색상을 가질 수 있다. 그리고, 제3색상층(1330)은 실제 공정상에서 제1패턴(1210)과 함께 유리기판(1110)의 일면에 도포된 레지스트 필름(1121)에도 마련될 수 있다. 제3색상층(1330)은 도 10에서 설명한 제1색상층 및 제2색상층과 구별되는 색상층의 의미로서 정의될 수 있으며, 설명의 편의상 ‘제3색상층’으로 기재된다. 제1실시예에서 설명한 바와 같이, 제3색상층은 제1색상층(1310) 및 후술할 제2색상층(1320)과의 마련 순서를 포함하는 의미로 사용되는 것은 아니다. As shown in FIG. 11 (h), a third color layer 1330 may be provided in the first pattern 1210 (FIG. 10 (i)). Here, the third color layer 1330 may have a different color from the first color layer 1310. The third color layer 1330 may be provided on the resist film 1121 coated on one side of the glass substrate 1110 together with the first pattern 1210 on the actual process. The third color layer 1330 may be defined as a color layer distinguished from the first color layer and the second color layer described in Fig. 10, and is described as a 'third color layer' for convenience of explanation. As described in the first embodiment, the third color layer is not used to include the order of arranging the first color layer 1310 and the second color layer 1320 to be described later.

또한, 전술한 바와 같이, 제1색상층(1310) 및 제3색상층(1330)의 마련 순서는 바뀔 수도 있다. 즉, 제1패턴(1210)에 제3색상층(1330)이 먼저 마련되고, 이후, 제2패턴(1220)에 제1색상층(1310)이 마련될 수도 있다.Also, as described above, the order of arranging the first color layer 1310 and the third color layer 1330 may be changed. That is, the third color layer 1330 may be provided first in the first pattern 1210, and then the first color layer 1310 may be provided in the second pattern 1220.

이후, 유리기판(1110)의 양면에 도포된 레지스트 필름(1121,1122)을 제거할 수 있다. 이에 따라, 제1색상층(1310)은 유리기판(1110)의 타면의 표면의 제2패턴(1220)에 마련된 상태가 될 수 있고, 제3색상층(1330)은 제1패턴(1210)에 마련된 상태가 될 수 있다(도 10의 (j)).Thereafter, the resist films 1121 and 1122 coated on both sides of the glass substrate 1110 can be removed. The first color layer 1310 may be provided on the second pattern 1220 on the other surface of the glass substrate 1110 and the third color layer 1330 may be formed on the first pattern 1210 (Fig. 10 (j)).

그리고, 유리기판(1110)의 타면에 제2색상층(1320)이 마련될 수 있다. 이때, 제2색상층(1320)은 제1색상층(1310) 및 제3색상층(1330)과 다른 색상을 가질 수 있다(도 11의 (k)). 제2색상층(1320)은 실제 공정상에서 제1색상층(1310)과 함께 유리기판(1110)의 타면의 표면을 덮도록 마련될 수 있다.A second color layer 1320 may be provided on the other surface of the glass substrate 1110. At this time, the second color layer 1320 may have a different color from the first color layer 1310 and the third color layer 1330 (FIG. 11 (k)). The second color layer 1320 may be provided to cover the surface of the other surface of the glass substrate 1110 together with the first color layer 1310 on an actual process.

그리고, 도 11의 (l)에서 보는 바와 같이, 유리기판(1110)의 타면에는 제2색상층(1320)을 덮도록 인쇄층(1410)이 마련될 수 있으며, 인쇄층(1410)은 유리기판(1110)의 베젤 영역에 마련될 수 있다.11 (1), a print layer 1410 may be provided on the other surface of the glass substrate 1110 so as to cover the second color layer 1320, and the print layer 1410 may be formed on the glass substrate 1110. [ May be provided in the bezel region of the display device 1110.

제2색상층(1320) 중에 인쇄층(1410)을 벗어난 부분(1321)은 제거될 수 있으며, 이를 통해, 제1색상층(1310), 제2색상층(1320)과 함께 제3색상층(1330)은 베젤 영역 내에 마련될 수 있게 된다(도 10의 (m)).The portion 1321 of the second color layer 1320 which is out of the print layer 1410 can be removed so that the third color layer 1310 and the third color layer 1320 together with the second color layer 1320 1330) can be provided in the bezel area (FIG. 10 (m)).

전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.It will be understood by those skilled in the art that the foregoing description of the present invention is for illustrative purposes only and that those of ordinary skill in the art can readily understand that various changes and modifications may be made without departing from the spirit or essential characteristics of the present invention. will be. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive. For example, each component described as a single entity may be distributed and implemented, and components described as being distributed may also be implemented in a combined form.

본 발명의 범위는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The scope of the present invention is defined by the appended claims, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents should be construed as being included within the scope of the present invention.

100,1100: 커버글라스
110,1110: 유리기판
121,122,1121,1122: 레지스트 필름
131,132,1131,1132: 노광 패턴
141,142,1141: 현상 패턴
210,1210: 제1패턴
220,1220: 제2패턴
310,1310: 제1색상층
320,1320: 제2색상층
330,1330: 제3색상층
410,1410: 인쇄층100,1100: cover glass
110, 1110: glass substrate
121, 122, 1121, 1122:
131, 132, 1131, 1132:
141, 142, 1141:
210, 1210: 1st pattern
220, 1220: the second pattern
310, 1310: a first color layer
320, 1320: a second color layer
330, 1330: Third color layer
410, 1410: Printed layer

Claims

A glass substrate;
A first pattern formed on one surface of the glass substrate through etching;
A second pattern formed on the other surface of the glass substrate;
A first color layer provided on the second pattern; And
And a printing layer provided on the other surface of the glass substrate and covering the first color layer,
Wherein the first pattern causes diffused light to be directly reflected and refracted from the outside, thereby forming a pattern together with the first color layer.

The method according to claim 1,
Wherein the second pattern is formed of a transparent pattern formed on the surface of the glass substrate or is formed through etching on the glass substrate.

The method according to claim 1,
Wherein the first pattern, the second pattern, and the print layer are provided in a bezel region of the glass substrate.

The method according to claim 1,
Wherein a second color layer is further provided on a bezel region of the other surface of the glass substrate, and the printing layer covers the second color layer.

The method according to claim 1,
And a third color layer is provided on the first pattern.

a) masking one surface and the other surface of the glass substrate;
b) forming a first pattern on one surface of the glass substrate by etching a development pattern formed on one surface of the glass substrate through the masking;
c) forming a second pattern on the other surface of the glass substrate through the masking;
d) providing a first color layer on the second pattern; And
e) providing a printing layer on the other side of the glass substrate so as to cover the first color layer,
Wherein the first pattern causes diffused light to be directly reflected and refracted from the outside, thereby forming a pattern together with the first color layer.

The method according to claim 6,
The masking step (a step)
A step of applying a photoresist ink or a photosensitive film to one surface and the other surface of the glass substrate to prepare a resist film,
And exposing the resist film to form an exposure pattern.

8. The method of claim 7,
Further comprising a step of developing the exposure pattern after the step of forming the exposure pattern to form a development pattern in the masking step (a step)
Wherein in the step of forming the second pattern (step c), the second pattern is formed by etching the development pattern formed on the other surface of the glass substrate.

9. The method of claim 8,
Wherein the etching of the development pattern formed on the other surface of the glass substrate proceeds simultaneously with the step of forming the first pattern on one surface of the glass substrate (step b).

8. The method of claim 7,
Wherein the step of forming the second pattern (step c) includes a step of peeling off the resist film, and the second pattern is the transparent exposure pattern.

8. The method of claim 7,
Wherein the step of forming the exposure pattern sequentially proceeds with respect to a resist film on one side of the glass substrate and a resist film on the other side of the glass substrate.

The method according to claim 6,
Further comprising the step of providing a second color layer in a bezel region of the other side of the glass substrate between the step of preparing the first color layer (step d) and the step of preparing the printing layer (step e) &Lt; / RTI >

The method according to claim 6,
Further comprising the step of providing a third color layer on the first pattern.

The method according to claim 6,
Wherein the first pattern, the second pattern, and the print layer are provided in a bezel region of the glass substrate.