KR101549722B1 - Photocurable composition, protective layer prepared from the same and optical member comprising the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 광경화 조성물, 상기 조성물로 형성된 보호층 및 상기 보호층을 포함하는 광학 부재에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 본 발명은 할로겐과 (메타)아크릴레이트기를 포함하는 실리콘 화합물과 광중합 개시제를 포함하는 광경화 조성물, 상기 조성물로 형성된 보호층, 및 상기 보호층을 포함하는 광학 부재에 관한 것이다.The present invention relates to a photo-curable composition, a protective layer formed from the composition, and an optical member including the protective layer. More particularly, the present invention relates to a photocurable composition comprising a silicone compound containing a halogen and a (meth) acrylate group and a photopolymerization initiator, a protective layer formed from the composition, and an optical member including the protective layer.

Description

광경화 조성물, 상기 조성물로 형성된 보호층 및 이를 포함하는 광학 부재{Photocurable composition, protective layer prepared from the same and optical member comprising the same}[0001] The present invention relates to a photocurable composition, a protective layer formed from the composition, and an optical member comprising the protective layer,

본 발명은 광경화 조성물, 상기 조성물로 형성된 보호층 및 이를 포함하는 광학 부재에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 본 발명은 소수성을 부여하여 수분과의 접촉을 차단하고 수분 투습율 및/또는 산소 투과도를 저감시켜, 궁극적으로 디바이스 등을 포함하는 광학 부재의 장기 신뢰성을 향상시킬 수 있는 보호층의 구현이 가능한, 광경화 조성물, 상기 조성물로 형성된 보호층 및 이를 포함하는 광학 부재에 관한 것이다.The present invention relates to a photocurable composition, a protective layer formed from the composition, and an optical member comprising the same. More particularly, the present invention relates to a protective layer which can impart hydrophobicity to shut off contact with moisture, reduce moisture permeability and / or oxygen permeability, and ultimately improve the long-term reliability of optical members including devices and the like. A protective layer formed from the composition, and an optical member comprising the same.

유기전계발광부(OLED, organic light emitting diode)는 양극과 음극 사이에 기능성 유기물 층이 삽입된 구조로서, 양극에 주입된 정공과 음극에 주입된 전자의 재결합에 의해 에너지가 높은 여기자(exciton)를 형성하게 된다. 형성된 여기자가 기저 상태(ground state)로 이동하면서 특정 파장의 빛을 발생하게 된다. 유기전계발광부는 자체 발광, 고속 응답, 광 시야각, 초박형, 고화질, 내구성의 장점을 갖고 있다.An organic light emitting diode (OLED) is a structure in which a functional organic layer is interposed between an anode and a cathode, and excitons having a high energy are recombined by holes injected into the anode and electrons injected into the cathode. Respectively. The exciton formed moves to the ground state and generates light of a specific wavelength. The organic electroluminescent part has advantages of self-emission, fast response, wide viewing angle, ultra-thin, high image quality and durability.

그러나, 유기전계발광부는 밀봉하더라도 외부에서 유입되는 수분 또는 산소나, 외부 또는 내부에서 발생되는 아웃가스에 의해 유기 재료 및/또는 전극 재료의 산화가 일어나 성능과 수명이 저하되는 문제점이 있다. 이러한 문제점을 극복하기 위하여, 유기전계발광부가 형성된 기판에 광경화형 실링제를 도포하거나, 투명 또는 불투명 흡습제를 부착시키거나, 프릿(frit)을 형성하는 방법이 제안되고 있다.However, even when the organic electroluminescent unit is sealed, there is a problem that the organic material and / or the electrode material are oxidized due to moisture or oxygen introduced from the outside, or outgas generated from the outside or the inside, thereby deteriorating the performance and lifetime. In order to overcome such a problem, a method of applying a photocurable sealing agent to a substrate on which an organic electroluminescent unit is formed, attaching a transparent or opaque moisture absorber, or forming a frit has been proposed.

일 예로, 한국공개특허 제2006-0084978호 등에 따르면, 실리콘 화합물과 고분자 수지 중 어느 하나의 수분 침투 억제 물질로 형성되는 밀봉용 보호막을 사용한 유기발광다이오드 소자의 봉지구조를 제안하고 있다.For example, Korean Patent Laid-Open Publication No. 2006-0084978 proposes an encapsulation structure of an organic light-emitting diode device using a sealing film formed of a moisture-permeation inhibiting material, either a silicone compound or a polymer resin.

본 발명의 목적은 소수성을 부여하여 수분과의 접촉을 차단할 수 있는 유기보호층의 구현이 가능한 광경화 조성물을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a photocurable composition capable of realizing an organic protective layer capable of blocking the contact with moisture by imparting hydrophobicity.

본 발명의 다른 목적은 수분 투습률 및/또는 산소 투과도가 현저하게 낮은 유기보호층을 구현할 수 있는 광경화 조성물을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a photocurable composition capable of realizing an organic protective layer having a significantly low moisture permeability and / or oxygen permeability.

본 발명의 다른 목적은 광경화율이 높은 광경화 조성물을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a photocurable composition having a high photo-curability.

본 발명의 또 다른 목적은 OLED 또는 유기태양전지 등을 포함하는 디바이스의 장기 신뢰성을 향상시킬 수 있는 유기보호층을 구현할 수 있는 광경화 조성물을 제공하는 것이다.It is still another object of the present invention to provide a photocurable composition capable of realizing an organic protective layer capable of improving the long-term reliability of a device including an OLED or an organic solar cell or the like.

본 발명의 또 다른 목적은 소수성을 갖는 유기보호층을 구현할 수 있는 광경화 조성물을 제공하는 것이다.It is still another object of the present invention to provide a photocurable composition capable of realizing an organic protective layer having hydrophobicity.

본 발명의 또 다른 목적은 상기 광경화 조성물로 형성된 유기보호층을 포함하는 광학 부재를 제공하는 것이다.It is still another object of the present invention to provide an optical member comprising an organic protective layer formed from the photocurable composition.

본 발명의 일 관점인 광경화 조성물은 할로겐과 (메타)아크릴레이트기를 포함하는 실리콘 화합물과 광중합 개시제를 포함할 수 있다.The photocurable composition which is one aspect of the present invention may comprise a silicone compound containing a halogen and a (meth) acrylate group and a photopolymerization initiator.

일 구체예에서, 상기 할로겐과 (메타)아크릴레이트기를 포함하는 실리콘 화합물은 하기 화학식 1의 구조를 가질 수 있다:In one embodiment, the silicone compound comprising a halogen and a (meth) acrylate group may have the structure of Formula 1:

<화학식 1>&Lt; Formula 1 >

Figure 112012053156591-pat00001
Figure 112012053156591-pat00001

일 구체예에서, 상기 광경화 조성물은 i)광경화성 관능기를 갖는 비실리콘계 모노머, ii)광경화성 관능기를 갖는 비할로겐계 실록산 모노머, 또는 이들의 혼합물로부터 선택되는 광경화성 모노머를 더 포함할 수 있다.In one embodiment, the photocurable composition can further comprise a photocurable monomer selected from i) a non-silicon based monomer having a photocurable functional group, ii) a non-halogenated siloxane monomer having a photocurable functional group, or a mixture thereof .

본 발명의 다른 관점인 유기 보호층은 도막 두께 5㎛에 대해 50℃ 및 100% 상대 습도 조건에서 24시간 동안 측정된 두께 방향의 수분 투습율이 8g/m2.24hr 이하일 수 있다.The organic protective layer, which is another aspect of the present invention, may have a moisture permeability of 8 g / m 2 .24 hr or less in the thickness direction measured for 24 hours under conditions of 50 캜 and 100% relative humidity for a film thickness of 5 탆.

본 발명의 또 다른 관점인 유기 보호층은 도막 두께 5㎛에 대해 25℃에서 24시간 동안 측정된 두께 방향의 산소 투과도가 300cc/m2.24hr 이하일 수 있다.The organic protective layer, which is another aspect of the present invention, may have an oxygen permeability of 300 cc / m 2 .24 hr or less in the thickness direction measured at 25 캜 for 24 hours against a coating film thickness of 5 탆.

일 구체예에서, 유기 보호층은 상기 광경화 조성물로 형성될 수 있다.In one embodiment, an organic protective layer can be formed from the photocurable composition.

본 발명의 또 다른 관점인 광학 부재는 상기 유기 보호층을 포함할 수 있다.The optical member, which is another aspect of the present invention, may comprise the organic protective layer.

본 발명은 수분 투습률 및/또는 산소 투과도가 현저하게 낮고, 소수성을 가져 수분에 대한 소자의 영향을 최소화할 수 있고, 이로부터 디바이스의 장기 신뢰성을 향상시킬 수 있는 유기보호층의 구현이 가능한 광경화 조성물을 제공하는 효과를 갖는다. 또한, 본 발명은 광경화율이 높아 경화 후 경화 수축 응력이 낮아 쉬프트가 발생되지 않은 층을 구현할 수 있는 광경화 조성물을 제공하는 효과를 갖는다.The present invention provides a method for producing an organic protective layer capable of realizing an organic protective layer capable of minimizing moisture permeability and / or oxygen permeability, minimizing the influence of elements on moisture due to hydrophobicity, It has an effect of providing a chemical composition. In addition, the present invention has an effect of providing a photocurable composition capable of realizing a layer in which a shift is not generated due to a high photo-curing rate and a low hardening shrinkage stress after curing.

도 1은 본 발명 일 구체예의 광학 부재를 개략적으로 도시한 단면도이다.
도 2는 본 발명 다른 구체예의 광학 부재를 개략적으로 도시한 단면도이다.
1 is a cross-sectional view schematically showing an optical member according to one embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view schematically showing an optical member according to another embodiment of the present invention.

본 발명의 일 관점인 광경화 조성물의 일 실시예는 할로겐과 (메타)아크릴레이트기를 포함하는 실리콘 화합물과 광중합 개시제를 포함할 수 있다.One embodiment of the photocurable composition according to one aspect of the present invention may include a silicone compound containing a halogen and a (meth) acrylate group and a photopolymerization initiator.

본 명세서에서 '치환된'은 별도의 정의가 없는 한, 본 발명의 작용기 중 하나 이상의 수소 원자가 할로겐(F, Cl, Br 또는 I), 히드록시기, 니트로기, 시아노기, 이미노기(=NH, =NR, R은 탄소수 1-10의 알킬기이다), 아미노기(-NH2, -NH(R'), -N(R")(R"'), R',R",R"'은 각각 독립적으로 탄소수 1-10의 알킬기이다), 아미디노기, 히드라진 또는 히드라존기, 카르복시기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-20의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6-30의 아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3-30의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3-30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2-30의 헤테로시클로알킬기로 치환되는 것을 의미할 수 있다.As used herein, unless otherwise defined, at least one hydrogen atom of the functional groups of the present invention is optionally substituted with at least one substituent selected from the group consisting of halogen (F, Cl, Br or I), a hydroxy group, a nitro group, a cyano group, (R "), R ', R" and R "' each independently represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, A substituted or unsubstituted alkyl group having 1-20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6-30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aryl group having 1-20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 1-20 carbon atoms, an amidino group, a hydrazine or hydrazone group, Substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted heteroaryl group having 3 to 30 carbon atoms, or substituted or unsubstituted heterocycloalkyl group having 2 to 30 carbon atoms.

본 명세서에서 '헤테로'는 탄소 원자가 N, O, S 및 P로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나의 원자로 치환된 것을 의미한다.
In the present specification, "hetero" means that a carbon atom is substituted with any one atom selected from the group consisting of N, O, S and P.

(A)할로겐과 ((A) halogen and ( 메타Meta )) 아크릴레이트기를Acrylate group 포함하는 실리콘 화합물 Containing silicon compounds

할로겐과 (메타)아크릴레이트기를 포함하는 실리콘 화합물에서 할로겐은 경화 후 생성되는 층(예:유기전계발광부 보호층)에 소수성을 부여할 수 있고, 산소 및/또는 수분의 투과도를 저하시킬 수 있고, 실리콘은 OLED의 보호층 증착 과정에서 플라즈마에 대한 내성을 부여할 수 있고, (메타)아크릴레이트기는 광경화 작용기로 개시제에 의해 경화 반응을 수행할 수 있도록 한다.In a silicone compound containing a halogen and a (meth) acrylate group, the halogen can impart hydrophobicity to the layer (for example, the organic electroluminescence portion protective layer) formed after curing, and can lower the permeability of oxygen and / or moisture , Silicon can impart resistance to plasma in the process of depositing the protective layer of the OLED, and the (meth) acrylate group enables the curing reaction to be performed by the initiator as a photo-curing functional group.

"할로겐"은 플루오르, 염소, 요오드 또는 브롬이 될 수 있고, 바람직하게는 플루오르가 될 수 있다."Halogen" may be fluorine, chlorine, iodine or bromine, preferably fluorine.

할로겐과 (메타)아크릴레이트기를 포함하는 실리콘 화합물은 할로겐화된 아릴기(예:탄소수 6-30), 할로겐화된 아랄킬기(예:탄소수 7-30), 할로겐화된 아릴알킬기(예:탄소수 7-30), 할로겐화된 알킬기(예:탄소수 1-30) 중 하나 이상, 및 (메타)아크릴레이트기를 포함하는 실록산 화합물일 수 있다.The silicone compound containing a halogen and a (meth) acrylate group may be a halogenated aryl group (e.g., 6-30 carbon atoms), a halogenated aralkyl group (e.g., 7-30 carbon atoms), a halogenated arylalkyl group ), A halogenated alkyl group (e.g., 1-30 carbon atoms), and a (meth) acrylate group.

상기 화합물에서 할로겐은 0.1-90wt%, 바람직하게는 5-30wt%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 충분한 소수성을 부여할 수 있고, 수분 투과도 및 산소 투과도 저감 효과가 있을 수 있다.The halogen in the compound may be contained in an amount of 0.1-90 wt%, preferably 5-30 wt%. Within this range, sufficient hydrophobicity can be imparted, and water permeability and oxygen permeability reduction effect can be obtained.

상기 화합물은 (메타)아크릴레이트기를 1개 이상, 바람직하게는 2-6개 포함할 수 있다.The above compound may contain at least one, preferably 2 to 6, (meth) acrylate groups.

일 구체예에서, 상기 화합물은 하기 화학식 1의 구조를 가질 수 있다:In one embodiment, the compound may have the structure:

<화학식 1>&Lt; Formula 1 >

Figure 112012053156591-pat00002
Figure 112012053156591-pat00002

(상기에서, R1은 할로겐화된 탄소수 6-30의 아릴기, 할로겐화된 탄소수 7-30의 아릴알킬기, 할로겐화된 탄소수 1-30의 알킬기이고, (Wherein R &lt; 1 &gt; is an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, a halogenated alkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or a halogenated alkyl group having 1 to 30 carbon atoms,

R2, R3 및 R4는 치환 또는 비치환된 탄소수 1-10의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2-20의 알케닐기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6-20의 아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-10의 알콕시기 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1-10의 실릴기이고,R 2 , R 3 and R 4 each represent a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms, A substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms or a substituted or unsubstituted silyl group having 1 to 10 carbon atoms,

R2, R3 및 R4 중 적어도 하나 이상은 하기 화학식 2를 포함하고,At least one of R 2 , R 3 and R 4 includes the following formula (2)

<화학식 2>(2)

Figure 112012053156591-pat00003
Figure 112012053156591-pat00003

(상기에서 R5는 수소, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬기이다)(Wherein R &lt; 5 &gt; is hydrogen, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1-30 carbon atoms)

a는 1 이상 3 이하의 정수, b, c, d는 0 이상 4 이하의 정수, a+b+c+d는 2 이상 4 이하의 정수이다).b is an integer of 0 or more and 4 or less, and a + b + c + d is an integer of 2 or more and 4 or less.

상기에서, R1 내지 R5에 대해 아릴알킬기, 알킬기, 알케닐기, 알콕시기, 실릴기는 선형 또는 분지형이 될 수 있다.The arylalkyl group, alkyl group, alkenyl group, alkoxy group and silyl group for R 1 to R 5 may be linear or branched.

바람직하게는, R1은 할로겐화된 탄소수 1-21의 알킬기, 또는 할로겐화된 탄소수 6-20의 아릴기 포함 -(CR6R7)n-기(R6과 R7은 각각 독립적으로 수소 또는 할로겐이고, n은 0-20의 정수이다)가 될 수 있다.Preferably, R 1 is a - (CR 6 R 7 ) n - group, wherein R 6 and R 7 are each independently selected from the group consisting of halogenated alkyl groups having from 1 to 21 carbon atoms or halogenated aryl groups having from 6 to 20 carbon atoms, And n is an integer of 0 to 20).

바람직하게는 n은 0-10의 정수이다.Preferably, n is an integer of 0-10.

더 바람직하게는, R1은 C6X5(CX2)x(CH2)y- 또는 CX3(CX2)x(CH2)y-(X는 플루오르, 염소, 요오드 또는 브롬이고, x는 0-10의 정수, y는 0-10의 정수이다)가 될 수 있다.More preferably, R 1 is C 6 X 5 (CX 2 ) x (CH 2 ) y - or CX 3 (CX 2 ) x (CH 2 ) y - where X is fluorine, chlorine, iodine or bromine and x Is an integer from 0 to 10, and y is an integer from 0 to 10).

상기 화합물의 중량평균분자량은 100-5,000g/mol, 바람직하게는 200-2,000g/mol, 보다 바람직하게는 300-1,000g/mol이 될 수 있다. 상기 범위에서, 광경화도는 물론 수분 투과도 및 산소 투과도가 우수한 효과를 가질 수 있다. 상기 화합물은 통상의 방법으로 합성하여 사용하거나, 상품으로 구입하여 사용할 수 있다.The weight average molecular weight of the compound may be 100-5,000 g / mol, preferably 200-2,000 g / mol, and more preferably 300-1,000 g / mol. Within the above range, it is possible to have an excellent effect of not only the degree of photo-curing but also the water permeability and oxygen permeability. These compounds can be synthesized by a conventional method or purchased as a commercial product.

할로겐과 (메타)아크릴레이트기를 포함하는 실리콘 화합물은 광경화 조성물 중 0.1-99.9중량%, 바람직하게는 0.1-99중량%, 1-90중량%, 40-99중량% 또는 20-70중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위 내에서, 경화시 생성된 보호층에 소수성을 부여할 수 있고, 산소와 수분의 투과도를 낮출 수 있으며, 궁극적으로 신뢰성을 향상시키는 효과가 있을 수 있다.The silicone compound comprising a halogen and a (meth) acrylate group is present in the photocurable composition in an amount of 0.1-99.9 wt%, preferably 0.1-99 wt%, 1-90 wt%, 40-99 wt%, or 20-70 wt% . Within the above range, hydrophobicity can be imparted to the protective layer formed at the time of curing, permeability of oxygen and moisture can be lowered, and ultimately reliability can be improved.

(B)(B) 광중합Light curing 개시제Initiator

광중합 개시제는 광경화성 반응을 수행할 수 있는 통상의 광중합 개시제를 제한없이 포함한다. 예를 들면, 광중합 개시제는 인계, 트리아진계, 아세토페논계, 벤조페논계, 티오크산톤계, 벤조인계, 옥심계 또는 이들의 혼합물이 될 수 있고, 바람직하게는 인계 광중합 개시제가 될 수 있다.The photopolymerization initiator includes, without limitation, conventional photopolymerization initiators capable of carrying out a photo-curable reaction. For example, the photopolymerization initiator may be a phosphorus-based, triazine-based, acetophenone-based, benzophenone-based, thioxanthone-based, benzoin-based, oxime based or mixtures thereof, and preferably a phosphorus-based photopolymerization initiator.

인계는 벤조일디페닐 포스핀옥시드, 비스벤조일페닐 포스핀옥시드 등이 될 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 트리아진계는 2,4,6-트리클로로-s-트리아진, 2-페닐-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진 등이 될 수 있지만, 이들 종류에 한정되는 것은 아니다. 아세토페논계는, 2,2'-디에톡시 아세토페논, 2,2'-디부톡시 아세토페논, 등이 될 수 있지만, 이들 종류에 한정되는 것은 아니다. 벤조페논계는 벤조페논, 벤조일 안식향산, 벤조일 안식향산 메틸 등이 될 수 있지만, 이들 종류에 한정되는 것은 아니다. 티오크산톤계는 티오크산톤, 2-메틸 티오크산톤 등이 될 수 있지만, 이들 종류에 한정되는 것은 아니다. 벤조인계는 벤조인, 벤조인 메틸 에테르 등이 될 수 있지만, 이들 종류에 한정되는 것은 아니다. 옥심계는 2-(o-벤조일옥심)-1-[4-(페닐티오)페닐]-1,2-옥탄디온, 1-(o-아세틸옥심)-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]에탄온 등이 될 수 있지만, 이들 종류에 한정되는 것은 아니다.Phosphorous can be, but is not limited to, benzoyldiphenylphosphine oxide, bisbenzoylphenylphosphine oxide, and the like. The triazine system may be 2,4,6-trichloro-s-triazine, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, and the like, but is not limited thereto. The acetophenone type can be 2,2'-diethoxyacetophenone, 2,2'-dibutoxyacetophenone, and the like, but is not limited thereto. The benzophenone-based compounds may be benzophenone, benzoyl benzoic acid, benzoyl benzoic acid methyl, and the like, but are not limited thereto. The thioxanthone system may be thioxanthone, 2-methylthioxanthone, or the like, but is not limited thereto. The benzoin group may be benzoin, benzoin methyl ether or the like, but is not limited thereto. Oxime-based compounds such as 2- (o-benzoyloxime) -1- [4- (phenylthio) phenyl] -1,2-octanedione, 1- (o- 2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] ethanone, and the like.

광중합 개시제는 광경화 조성물 중 0.1-99.9중량%, 바람직하게는 0.1-60중량%, 1-60중량% 또는 1-10중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 노광시 광중합이 충분히 일어날 수 있고, 광중합 후 미반응 개시제가 잔류하는 것을 방지할 수 있다. The photopolymerization initiator may be included in the photocurable composition in an amount of 0.1-99.9 wt%, preferably 0.1-60 wt%, 1-60 wt%, or 1-10 wt%. Within the above range, photopolymerization can sufficiently take place at the time of exposure, and the unreacted initiator can be prevented from remaining after the photopolymerization.

광경화 조성물은 상술한 성분 이외에, 광경화성 모노머를 더 포함할 수 있다.In addition to the above-mentioned components, the photocurable composition may further comprise a photocurable monomer.

(C)(C) 광경화성Photocurable 모노머Monomer

광경화성 모노머는 i)광경화성 관능기를 갖는 비실리콘계 모노머, ii)광경화성 관능기를 갖는 비할로겐계 실록산 모노머, 또는 이들의 혼합물이 될 수 있다. 상기 광경화성 관능기는 (메타)아크릴레이트기, 비닐기, (메타)아크릴레이트 함유기 등이 될 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 광경화성 모노머는 상기 광중합 개시제에 의해 상기 할로겐과 (메타)아크릴레이트기를 포함하는 실리콘 화합물과 광경화 반응할 수 있다.The photocurable monomer may be i) a non-silicon based monomer having a photocurable functional group, ii) a non-halogenated siloxane monomer having a photocurable functional group, or a mixture thereof. The photocurable functional group may be (meth) acrylate group, vinyl group, (meth) acrylate-containing group, and the like, but is not limited thereto. The photocurable monomer can be photo-cured by the photopolymerization initiator with a silicone compound containing the halogen and the (meth) acrylate group.

일 구체예에서, 광경화성 모노머는 광경화성 관능기를 갖는 비실리콘계 모노머로서, 단관능 모노머, 다관능 모노머, 또는 이들의 혼합물이 될 수 있다. 바람직하게는 상기 광경화성 모노머는 플루오르 등의 할로겐을 포함하지 않는 비할로겐계일 수 있다.In one embodiment, the photocurable monomer is a non-silicon based monomer having a photocurable functional group, which may be a monofunctional monomer, a multifunctional monomer, or a mixture thereof. Preferably, the photocurable monomer may be a non-halogen-based monomer containing no halogen such as fluorine.

광경화성 모노머는 비실리콘계이고, 광경화성 관능기로 비닐기 또는 (메타)아크릴레이트기를 1-30개, 바람직하게는 1-20개, 더 바람직하게는 1-5개 갖는 단관능 또는 다관능 모노머를 포함할 수 있다. 또한, 광경화성 모노머는 단관능 모노머와 다관능 모노머의 혼합물이 될 수 있다.The photocurable monomer is a non-silicon-based, monofunctional or multifunctional monomer having 1-30, preferably 1-20, and more preferably 1-5, vinyl groups or (meth) acrylate groups as photocurable functional groups . In addition, the photocurable monomer may be a mixture of a monofunctional monomer and a polyfunctional monomer.

예를 들면, 광경화성 모노머는 치환 또는 비치환된 탄소수 1-20의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3-20의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6-20의 아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 7-20의 아랄킬기, 또는 히드록시기 및 탄소수 1-20의 알킬기를 갖는 불포화 카르본산 에스테르; 치환 또는 비치환된 비닐기를 갖는 탄소수 6-20의 방향족 화합물; 탄소수 1-20의 아미노 알킬기를 갖는 불포화 카르본산 에스테르; 탄소수 1-20의 포화 또는 불포화 카르본산의 비닐 에스테르; 탄소수 1-20의 불포화 카르본산 글리시딜 에스테르; 시안화 비닐 화합물; 불포화 아미드 화합물; 모노 알코올 또는 다가 알코올의 단관능 또는 다관능 (메타)아크릴레이트 등이 될 수 있다. 상기 '다가 알코올'은 수산기를 2개 이상 갖는 알코올로서, 2-20개, 바람직하게는 2-10개, 더 바람직하게는 2-6개 갖는 알코올을 의미할 수 있다.For example, the photo-curable monomer may be a substituted or unsubstituted alkyl group having 1-20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3-20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6-20 carbon atoms, An aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, or an unsaturated carboxylic acid ester having a hydroxy group and an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms; An aromatic compound having 6 to 20 carbon atoms and having a substituted or unsubstituted vinyl group; An unsaturated carboxylic acid ester having an aminoalkyl group having from 1 to 20 carbon atoms; Vinyl esters of saturated or unsaturated carboxylic acids having from 1 to 20 carbon atoms; Unsaturated carboxylic acid glycidyl esters having 1 to 20 carbon atoms; Vinyl cyanide compounds; Unsaturated amide compounds; A mono-alcohol or a polyfunctional (meth) acrylate of a polyhydric alcohol, and the like. The 'polyhydric alcohol' may be an alcohol having two or more hydroxyl groups and having 2 to 20, preferably 2 to 10, more preferably 2 to 6 alcohols.

구체예에서, 광경화성 모노머는 메틸 (메타)아크릴레이트, 에틸 (메타)아크릴레이트, 부틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시부틸 (메타)아크릴레이트, 헥실 (메타)아크릴레이트, 옥틸 (메타)아크릴레이트, 노닐 (메타)아크릴레이트, 데카닐 (메타)아크릴레이트, 운데카닐 (메타)아크릴레이트, 운데카닐디올 디(메타)아크릴레이트, 도데실 (메타)아크릴레이트, 시클로헥실 (메타)아크릴레이트, 벤질 (메타)아크릴레이트, 페닐 (메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르본산 에스테르; 스티렌, α-메틸 스티렌, 비닐 톨루엔, 비닐 벤질 에테르, 비닐 벤질 메틸 에테르 등의 비닐기를 포함하는 알케닐기를 갖는 탄소수 6-20의 방향족 화합물; 2-아미노에틸 (메타)아크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸 (메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르본산 아미노 알킬 에스테르; 비닐 아세테이트, 비닐 벤조에이트 등의 포화 또는 불포화 카르본산 비닐 에스테르; 글리시딜 아크릴레이트, 글리시딜 메타크릴레이트 등의 탄소수 1-20의 불포화 카르본산 글리시딜 에스테르; 아크릴로 니트릴, 메타크릴로 니트릴 등의 시안화 비닐 화합물; 아크릴 아미드, 메타크릴 아미드 등의 불포화 아미드 화합물; 에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸프로판트리(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올 디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 디(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 노볼락에폭시 (메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 부탄디올 디(메타)아크릴레이트, 헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 옥틸디올 디(메타)아크릴레이트, 노닐디올 디(메타)아크릴레이트, 데카닐디올 디(메타)아크릴레이트, 도데실디올 디(메타)아크릴레이트 등을 포함하는 모노 알코올 또는 다가 알코올의 탄소수 5-30의 단관능 또는 다관능 (메타)아크릴레이트 등이 될 수 있고, 이에 한정되는 것은 아니다.In embodiments, the photocurable monomer is selected from the group consisting of methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2- hydroxyethyl (meth) (Meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decanyl Unsaturated carboxylic acid esters such as (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate and phenyl (meth) acrylate; An aromatic compound having 6 to 20 carbon atoms and having an alkenyl group including a vinyl group such as styrene,? -Methylstyrene, vinyltoluene, vinylbenzyl ether and vinylbenzyl methyl ether; Unsaturated carboxylic acid aminoalkyl esters such as 2-aminoethyl (meth) acrylate and 2-dimethylaminoethyl (meth) acrylate; Saturated or unsaturated carboxylic acid vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl benzoate; Unsaturated carboxylic acid glycidyl esters having 1 to 20 carbon atoms such as glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate; Vinyl cyanide compounds such as acrylonitrile and methacrylonitrile; Unsaturated amide compounds such as acrylamide and methacrylamide; Butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (Meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri Acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, bisphenol A di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (Meth) acrylate, novolac epoxy (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (Meth) acrylate, propyleneglycol di (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, octyldiol di Monofunctional or polyfunctional (meth) acrylates having 5 to 30 carbon atoms in a monoalcohol or polyhydric alcohol including di (meth) acrylate, dodecyl diol di (meth) acrylate and the like, It is not.

다른 구체예에서, 광경화성 모노머는 광경화성 관능기를 갖는 비할로겐계 실록산 모노머가 될 수 있다.In other embodiments, the photocurable monomer can be a non-halogenated siloxane monomer having a photocurable functional group.

예를 들면, 상기 광경화성 모노머는 (메타)아크릴레이트기 또는 (메타)아크릴옥시알킬기로부터 선택되는 적어도 하나 이상의 말단기(chain terminating group)를 갖는 탄소수 2-30의 알킬, 탄소수 6-30의 아릴, 또는 탄소수 7-20의 아릴알킬를 갖는 비할로겐계 실록산 모노머가 될 수 있다. For example, the photocurable monomer may be an alkyl of 2 to 30 carbon atoms, an aryl of 6 to 30 carbon atoms having at least one chain terminating group selected from a (meth) acrylate group or a (meth) acryloxyalkyl group , Or a non-halogen siloxane monomer having an arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms.

구체적으로, 광경화성 모노머는 1,3-비스(3-(메타)아크릴옥시프로필)테트라메틸디실록산, 1,3-비스[(p-(메타)아크릴옥시메틸)펜에틸]테트라메틸디실록산, 1,3-비스(3-(메타)아크릴옥시프로필)테트라키스(트리메틸실옥시)디실록산 또는 이들의 혼합물이 될 수 있다.Specifically, the photo-curable monomer may be 1,3-bis (3- (meth) acryloxypropyl) tetramethyldisiloxane, 1,3-bis [(p- (meth) acryloxymethyl) phenethyl] tetramethyldisiloxane , 1,3-bis (3- (meth) acryloxypropyl) tetrakis (trimethylsiloxy) disiloxane, or mixtures thereof.

바람직하게는, 광경화성 모노머는 모노 알코올 또는 다가 알코올의 탄소수 5-30의 단관능 또는 다관능 (메타)아크릴레이트, 디(메타)아크릴레이트 말단기를 갖는 비할로겐계 실록산 모노머, 또는 이들의 혼합물이 될 수 있다.Preferably, the photocurable monomer is a monohydric alcohol or a monohydric siloxane monomer having a polyfunctional (meth) acrylate, a di (meth) acrylate end group, or a mixture thereof .

광경화성 모노머의 중량평균분자량은 100-5,000g/mol, 바람직하게는 200-2,000g/mol, 보다 바람직하게는 300-1,000g/mol이 될 수 있다. 상기 범위에서, 광경화도가 우수한 조성물을 얻을 수 있는 효과가 있을 수 있다.The weight average molecular weight of the photocurable monomer may be 100-5,000 g / mol, preferably 200-2,000 g / mol, and more preferably 300-1,000 g / mol. Within this range, there can be obtained an effect of obtaining a composition excellent in the degree of photo-curing.

광경화성 모노머는 광경화 조성물 중 1-90중량%, 바람직하게는 10-70중량%, 20-70중량%, 더 바람직하게는 30-70중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위 내에서, 광경화 조성물은 플라즈마에 대한 내성이 강하여, 박막봉지층 제조 시에 발생하는 플라즈마로부터 발생될 수 있는 아웃가스 및 투습도 저하를 낮추거나 방지할 수 있다.The photocurable monomer may be included in the photocurable composition in an amount of 1-90 wt%, preferably 10-70 wt%, 20-70 wt%, more preferably 30-70 wt%. Within the above range, the photo-curing composition is resistant to plasma, and it is possible to lower or prevent deterioration of the out gas and the moisture permeability that may be generated from the plasma generated in the manufacture of the thin film encapsulation layer.

광경화 조성물은 상술한 성분 이외에 통상의 첨가제를 더 포함할 수 있다. 예를 들면, 첨가제는 경화촉진제, 경화억제제, 분산제 등이 될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The photo-curable composition may further contain conventional additives in addition to the above-mentioned components. For example, the additive may be a curing accelerator, a curing inhibitor, a dispersing agent, or the like, but is not limited thereto.

광경화 조성물은 광경화율이 95% 이상이 될 수 있다. 상기 범위 내에서, 경화 후 경화 수축 응력이 낮아 쉬프트가 발생되지 않은 층을 구현하여 소자의 밀봉 용도로 사용할 수 있다. 바람직하게는 95-99% 더 바람직하게는 96-98%가 될 수 있다.The photo-curable composition may have a photo-curing rate of 95% or more. Within this range, it is possible to realize a layer in which the hardening shrinkage stress is low after curing and no shift occurs, and thus the layer can be used for sealing the device. , Preferably 95-99%, more preferably 96-98%.

광경화율은 통상의 방법으로 측정할 수 있다. 예를 들면, 광경화 조성물을 유리 기판 위에 도포하고 100J/cm2 및 10초 동안 자외선 조사하여 UV 경화시킨다. 경화된 필름(도막 두께 5㎛)을 분취하고 FT-IR을 사용하여 광경화율을 측정한다. 광경화율은 하기 실험예에서 기술한 조건으로 구한다.The photo-curing rate can be measured by a usual method. For example, the photocurable composition is applied onto a glass substrate and UV-cured by ultraviolet irradiation for 10 seconds at 100 J / cm &lt; 2 &gt;. The cured film (film thickness: 5 mu m) was sampled and the photo-curability was measured using FT-IR. The photo-curing rate is obtained under the conditions described in the following experimental examples.

본 발명의 광경화 조성물은 유기전계발광부, 유기태양전지 등을 포함하는 소자를 밀봉할 수 있다.
The photocurable composition of the present invention can seal an element including an organic electroluminescent portion, an organic solar cell, and the like.

본 발명의 다른 관점인 광학 부재는 상기 조성물로 형성된 유기 보호층을 포함할 수 있다. 상기 유기 보호층은 유기전계발광부, 유기태양전지 등을 포함하는 소자를 보호하는 밀봉층을 의미할 수 있다. The optical member, which is another aspect of the present invention, may include an organic protective layer formed from the composition. The organic protective layer may mean a sealing layer for protecting an organic electroluminescent unit, an organic solar cell, and the like.

유기 보호층은 상기 소자를 밀봉함으로써 수분, 산소 등에 대한 외부 환경에 의해 분해되거나 산화되는 것을 막고, 아웃가스 발생량이 적어 아웃가스에 의한 소자의 손상을 방지할 수 있다.The organic protective layer is prevented from being decomposed or oxidized due to the external environment due to moisture, oxygen or the like by sealing the device, and it is possible to prevent damage of the device due to outgas due to a small amount of outgas.

유기 보호층은 수분 투습율이 낮아 소자에 대해 수분의 영향을 최소화할 수 있다. 수분 투습율은 유기 보호층의 두께 방향에 대하여 8g/m2.24hr 이하가 될 수 있다. 상기 범위에서, 소자의 밀봉용으로 사용가능하다. 바람직하게는, 0-8g/m2.24hr, 0 초과 8g/m2.24hr 이하, 1-8g/m2.24hr, 더 바람직하게는 3-6g/m2.24hr가 될 수 있다.The organic protective layer has a low moisture permeability and can minimize the influence of moisture on the device. The moisture permeability may be 8 g / m 2 .24 hr or less with respect to the thickness direction of the organic protective layer. Within this range, it can be used for sealing of devices. Preferably, there can be a 0-8g / m 2 .24hr, 0 greater than 8g / m 2 .24hr below, 1-8g / m 2 .24hr, more preferably 3-6g / m 2 .24hr.

수분 투습율은 통상의 방법으로 측정할 수 있다. 예를 들면, 광경화율 측정시와 동일한 방법으로 도막 두께 5㎛의 경화된 시편을 형성한다. 투습도 측정기(PERMATRAN-W 3/33, MOCON사)를 이용하여 도막 두께 5㎛에 대해 50℃ 및 100% 상대 습도 조건에서 24시간 동안 두께 방향으로 수분 투습율을 측정한다.The moisture permeability can be measured by a conventional method. For example, a cured specimen having a coating film thickness of 5 mu m is formed in the same manner as in the measurement of the photo-curability. Using a moisture permeability meter (PERMATRAN-W 3/33, MOCON), the moisture permeability was measured in the thickness direction for 5 hours at a temperature of 50 ° C and 100% relative humidity for 24 hours.

유기 보호층은 산소 투과도가 낮아 소자에 대한 산소의 영향을 최소화할 수 있다. 산소 투과도는 산소 투과도 측정기 (OX-TRAN Model 2/21, MOCON사)를 이용하여 도막 두께 5㎛에 대해 25℃ 조건에서 24시간 동안 두께 방향으로 산소 투과도를 측정한다. 산소 투과도는 유기 보호층의 두께 방향에 대하여 300cc/m2.24hr 이하가 될 수 있다. 상기 범위에서, 소자의 밀봉용으로 사용가능하다. 바람직하게는, 0-300cc/m2.24hr, 0 초과 300cc/m2.24hr, 더 바람직하게는 250-300cc/m2.24hr가 될 수 있다. The organic protective layer has low oxygen permeability and can minimize the effect of oxygen on the device. Oxygen permeability was measured by using an oxygen permeability meter (OX-TRAN Model 2/21, MOCON Co.) in a thickness direction of 25 占 폚 for a film thickness of 5 占 퐉 for 24 hours. The oxygen permeability may be 300 cc / m 2 .24 hr or less with respect to the thickness direction of the organic protective layer. Within this range, it can be used for sealing of devices. Preferably, there can be a 0-300cc / m 2 .24hr, 0 greater than 300cc / m 2 .24hr, more preferably 250-300cc / m 2 .24hr.

유기 보호층은 아웃가스 발생량이 소자에 대한 아웃가스 영향을 최소화함으로써 소자가 아웃가스에 의해 분해되거나 성능이 저하되는 것을 막을 수 있다. 구체적으로, 유기 보호층은 아웃가스 발생량이 2,000ppm 이하가 될 수 있다. 상기 범위 내에서, 소자에 적용 시 영향이 미미하고, 소자의 수명을 길게 할 수 있는 효과가 있을 수 있다. 바람직하게는 0-2000ppm, 0 초과 2,000ppm 이하, 0-500ppm, 0 초과 500ppm 이하, 0-100ppm, 0 초과 100ppm 이하, 1-2000ppm이 될 수 있다.The organic protective layer can prevent the outgassing of the device from degrading or degrading performance by minimizing the outgassing effect on the device. Specifically, the organic protective layer may have an outgassing amount of 2,000 ppm or less. Within the above range, there is little effect when applied to the device, and the life of the device can be prolonged. Preferably from 0 to 2,000 ppm, from 0 to 2,000 ppm, from 0 to 500 ppm, from 0 to 500 ppm, from 0 to 100 ppm, from 0 to 100 ppm, and from 1 to 2000 ppm.

유기 보호층의 수분 투습율, 산소 투과도, 아웃가스 발생량이 낮을수록 소자에 적용시 영향이 미미하고 소자의 수명을 길게 할 수 있다.The lower the moisture permeability, oxygen permeability, and outgassing amount of the organic protective layer, the smaller the effect on application to the device and the longer the life of the device.

아웃가스 발생량은 통상의 방법으로 측정할 수 있다. 예를 들면, 유리 기판 위에 광경화 조성물을 도포하고 100mW/cm2, 10초 동안 조사하여 UV 경화시켜, 20cm x 20cm x 3㎛(가로 x 세로 x 두께)의 유기 보호층을 얻는다. 시편에 대하여, 하기 실험예에서 기술한 조건으로 구한다.The amount of generated outgas can be measured by a conventional method. For example, a photocurable composition is applied onto a glass substrate and irradiated with 100 mW / cm 2 for 10 seconds to be UV cured to obtain an organic protective layer of 20 cm x 20 cm x 3 m (width x length x thickness). The specimen is obtained under the conditions described in the following experimental examples.

유기 보호층의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 0.1μm-10μm가 될 수 있다.The thickness of the organic protective layer is not particularly limited, but may be 0.1 占 퐉 to 10 占 퐉.

유기 보호층은 상술한 광경화 조성물을 경화시켜 제조될 수 있으며, 경화 방법은 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, 10-500J/cm2으로 1초-50초 동안 조사하여 경화시킨다. The organic protective layer can be prepared by curing the above-mentioned photocurable composition, and the curing method is not particularly limited. For example, 10-500 J / cm 2 for 1 second-50 seconds to cure.

광학 부재는 기판, 상기 기판 위에 형성된 소자, 상기 소자를 밀봉하는 무기 보호층, 상기 무기 보호층 위에 적층되어 있고 상기 조성물로 형성된 유기 보호층을 포함할 수 있다.The optical member may include a substrate, an element formed on the substrate, an inorganic protective layer sealing the element, and an organic protective layer formed on the inorganic protective layer and formed of the composition.

광학 부재는 유기전계발광부를 포함하는 유기전계발광표시장치, 태양전지, 액정표시장치가 될 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.The optical member may be an organic electroluminescent display device, a solar cell, or a liquid crystal display device including an organic electroluminescent portion, but is not limited thereto.

기판은 소자가 적층될 수 있는 기판이라면 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, 투명 유리, 플라스틱 시트, 실리콘 또는 금속 기판 등과 같은 물질로 이루어질 수 있다.The substrate is not particularly limited as long as it is a substrate on which elements can be stacked. For example, a transparent glass, a plastic sheet, a silicon or metal substrate, or the like.

소자는 수분, 산소 등의 외부 환경에 노출시 분해 또는 산화되거나 성능이 저하될 수 있는 것으로서, 예를 들면 유기전계발광부, 유기태양전지 등을 들 수 있다.The device may be decomposed or oxidized or deteriorated in performance when exposed to an external environment such as moisture and oxygen, and examples thereof include an organic electroluminescent portion and an organic solar cell.

본 발명의 광학 부재는 서로 다른 성질을 갖는 보호층인 무기 보호층과 유기 보호층에 의해 소자가 밀봉되어 있다. 무기 보호층과 유기보호층 중 하나 이상은 소자의 밀봉을 위하여 기판과 결합될 수 있다.In the optical member of the present invention, the device is sealed by the inorganic protective layer, which is a protective layer having different properties, and the organic protective layer. At least one of the inorganic protective layer and the organic protective layer may be combined with the substrate for sealing of the device.

무기 보호층은 유기전계발광부, 유기태양전지 등을 포함하는 소자를 보호하는 밀봉층을 의미할 수 있다. 무기 보호층은 소자와 접촉함으로써 소자를 밀봉하거나, 소자와 접촉없이 소자가 수용된 내부 공간을 밀봉할 수도 있다. 무기 보호층은 외부의 산소 또는 수분과 소자의 접촉을 차단함으로써, 소자가 분해 또는 손상되는 것을 예방할 수 있다.The inorganic protective layer may mean a sealing layer for protecting an element including an organic electroluminescent portion, an organic solar cell, and the like. The inorganic protective layer may seal the element by contact with the element or may seal the internal space in which the element is accommodated without contacting the element. The inorganic protective layer can prevent the element from being decomposed or damaged by blocking external oxygen or moisture from contacting the element.

무기 보호층은 금속, 금속간 화합물 또는 합금, 금속 및 혼합 금속의 산화물, 금속 및 혼합 금속의 불화물, 금속 및 혼합 금속의 질화물, 금속 및 혼합 금속의 산질화물, 금속 및 혼합 금속의 붕소화물, 금속 및 혼합 금속의 산붕소화물, 금속 및 혼합 금속의 실리사이드, 또는 이들의 조합으로 형성될 수 있다. 상기 금속은 전이 금속, 란탄족 금속, 알루미늄, 인듐, 게르마늄, 주석, 안티몬, 비스무트 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.The inorganic protective layer may be a metal, an intermetallic compound or an alloy, an oxide of a metal and a mixed metal, a fluoride of a metal and a mixed metal, a nitride of a metal and a mixed metal, an oxynitride of a metal and a mixed metal, And oxides of mixed metals, silicides of metals and mixed metals, or combinations thereof. The metal may include a transition metal, a lanthanide metal, aluminum, indium, germanium, tin, antimony, bismuth, or a combination thereof.

무기 보호층은 스퍼터링, 화학기상증착, 금속유기화학기상증착, 플라즈마화학기상증착, 증발, 승화, 전자 사이클로트론 공명-플라즈마 강화 화학기상증착 및 이들의 조합과 같은 진공 프로세스를 이용하여 침적될 수 있다.The inorganic protective layer may be deposited using a vacuum process such as sputtering, chemical vapor deposition, metal organic chemical vapor deposition, plasma chemical vapor deposition, evaporation, sublimation, electron cyclotron resonance-plasma enhanced chemical vapor deposition, and combinations thereof.

무기 보호층의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 100-2,000Å이 될 수 있다.The thickness of the inorganic protective layer is not particularly limited, but may be 100-2,000A.

유기 보호층은 무기 보호층 위에 적층되어 있으며 무기 보호층과는 다른 물질로 구성되어 있어, 무기 보호층이 외부의 산소 또는 수분과 소자의 접촉을 차단하는 역할을 강화하거나 결점을 보완할 수 있다. The organic protective layer is laminated on the inorganic protective layer and is made of a material different from the inorganic protective layer, so that the inorganic protective layer can enhance the function of blocking external oxygen or moisture from contact with the element or compensate for the defect.

본 발명의 광학 부재에서 무기 보호층과 유기 보호층은 2회 이상 복수 회 포함될 수 있다. 일 구체예에서, 무기 보호층과 유기 보호층은 무기 보호층/유기 보호층/무기 보호층/유기 보호층 ... 과 같이 교대로 증착될 수 있다. 바람직하게는, 무기 보호층과 유기 보호층은 10회 이하, 더 바람직하게는 7회 이하로 포함될 수 있다.In the optical member of the present invention, the inorganic protective layer and the organic protective layer may be included two or more times. In one embodiment, the inorganic protective layer and the organic protective layer may be alternately deposited, such as an inorganic protective layer / an organic protective layer / an inorganic protective layer / an organic protective layer. Preferably, the inorganic protective layer and the organic protective layer may be contained 10 times or less, more preferably 7 times or less.

도 1은 본 발명 일 구체예의 광학 부재의 단면도를 나타낸 것이다. 도 1에 따르면, 광학 부재(100)는 기판(10), 상기 기판 위에 형성된 소자(20), 소자를 밀봉하는 무기 보호층(31)과 유기 보호층(32)을 포함하는 복합 보호층(30)으로 구성되어 있고, 무기 보호층은 소자와 접촉하는 상태로 되어 있다. 1 is a sectional view of an optical member according to an embodiment of the present invention. 1, an optical member 100 includes a substrate 10, an element 20 formed on the substrate, an inorganic protective layer 31 sealing the element, and a composite protective layer 30 including an organic protective layer 32 ), And the inorganic protective layer is in contact with the element.

도 2는 본 발명 다른 구체예의 광학 부재의 단면도를 나타낸 것이다. 도 3에 따르면, 광학 부재(200)는 기판(10), 상기 기판 위에 형성된 소자(20), 소자를 밀봉하는 무기 보호층(31)과 유기 보호층(32)을 포함하는 복합 보호층(30)으로 구성되어 있고, 무기 보호층은 소자가 수용된 내부 공간을 밀봉할 수 있다.  2 is a sectional view of an optical member according to another embodiment of the present invention. 3, the optical member 200 includes a substrate 10, an element 20 formed on the substrate, an inorganic protective layer 31 sealing the element, and a composite protective layer 30 including an organic protective layer 32 ), And the inorganic protective layer can seal the internal space in which the element is accommodated.

도 1과 2는 무기 보호층과 유기 보호층이 각각 단일층으로 형성된 구조를 도시하였으나, 무기 보호층과 유기 보호층은 복수회 형성될 수 있다. 또한, 무기 보호층과 유기 보호층으로 구성되는 복합 보호층 측면 및/또는 상부에는 실란트 및/또는 기판이 더 형성될 수 있다(도 1과 2에서는 도시하지 않았음). 1 and 2 show a structure in which the inorganic protective layer and the organic protective layer are formed as a single layer, respectively. However, the inorganic protective layer and the organic protective layer may be formed a plurality of times. Further, a sealant and / or a substrate may be further formed on the side and / or the upper side of the complex protective layer composed of the inorganic protective layer and the organic protective layer (not shown in FIGS. 1 and 2).

광학 부재는 통상의 방법으로 제조될 수 있다. 기판 위에 소자를 증착하고 무기 보호층을 형성한다. 광경화 조성물을 스핀 도포, 슬릿 도포 등의 방법을 사용하여 1㎛-5㎛의 두께로 도포하고 광을 조사하여 유기 보호층을 형성할 수 있다. 무기 보호층과 유기 보호층의 형성 과정은 반복될 수 있다(바람직하게는 10회 이하).
The optical member can be manufactured by a conventional method. A device is deposited over the substrate and an inorganic protective layer is formed. The photocurable composition can be coated with a thickness of 1 占 퐉 to 5 占 퐉 by spin coating, slit coating, or the like, and light can be irradiated to form an organic protective layer. The formation process of the inorganic protective layer and the organic protective layer may be repeated (preferably, 10 times or less).

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 통해 본 발명의 구성 및 작용을 더욱 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 본 발명의 바람직한 예시로 제시된 것이며 어떠한 의미로도 이에 의해 본 발명이 제한되는 것으로 해석될 수는 없다.Hereinafter, the configuration and operation of the present invention will be described in more detail with reference to preferred embodiments of the present invention. It is to be understood, however, that the same is by way of illustration and example only and is not to be construed in a limiting sense.

여기에 기재되지 않은 내용은 이 기술 분야에서 숙련된 자이면 충분히 기술적으로 유추할 수 있는 것이므로 그 설명을 생략하기로 한다.The contents not described here are sufficiently technically inferior to those skilled in the art, and a description thereof will be omitted.

하기 실시예와 비교예에서 사용한 성분의 구체적인 사양은 다음과 같다.Specific specifications of the components used in the following examples and comparative examples are as follows.

(A)할로겐과 (메타)아크릴레이트기를 포함하는 실리콘 화합물: 하기 합성예의 C6F5(CH2)3Si(OSi(CH3)2(CH2)3OCOCH=CH2))3 (A) a silicone compound containing a halogen and a (meth) acrylate group: C6F5 (CH2) 3Si (OSi (CH3) 2 (CH2) 3OCOCH = CH2)) 3

(B)광중합 개시제: Darocur TPO (BASF사)(B) Photopolymerization initiator: Darocur TPO (BASF)

(C)광경화성 모노머: (C1)헥산디올 디아크릴레이트, (C2)1,3-비스(3-메타아크릴옥시프로필)테트라메틸디실록산
(C) photocurable monomer: (C1) hexanediol diacrylate, (C2) 1,3-bis (3-methacryloxypropyl) tetramethyldisiloxane

합성예Synthetic example :: CC 66 FF 55 (( CHCH 22 )) 33 SiSi (( OSiOSi (( CHCH 33 )) 22 (CH(CH 22 )) 33 OCOCHOCOCH == CHCH 22 )))) 33 제조 Produce

3-아크릴록시프로필디메틸메톡시실란 (H3COSi(CH3)2(CH2)3OCOCH=CH2, Gelest사) 188.9g과 H2O 31.5g, 톨루엔 300g을 온도 제어가 가능한 자켓형 반응기에 넣고 상온에서 30분 동안 교반하였다. 그 후 반응기를 0℃로 냉각시킨 상태에서, 펜타플루오로페닐프로필트리클로로실란 (C6F5(CH2)3SiCl3, Gelest사) 100.0g을 1시간에 걸쳐 서서히 반응기에 적하시켰다. 투입이 끝나면 반응기를 상온으로 상승시킨 상태에서 6시간 동안 교반한 후 반응을 종료하였다. 반응기 내 유기 용액을 pH가 중성이 될 때까지 물로 중화한 다음 감압하여 건조시킨 후 최종 생성물을 얻었다. 얻어진 생성물은 NMR과 GC로 최종 구조를 분석하여 확인하였다.
188.9 g of 3-acryloxypropyldimethylmethoxysilane (H 3 COSi (CH 3 ) 2 (CH 2 ) 3 OCOCH═CH 2 , Gelest), 31.5 g of H 2 O and 300 g of toluene were charged into a jacketed reactor And the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes. Thereafter, 100.0 g of pentafluorophenylpropyltrichlorosilane (C 6 F 5 (CH 2 ) 3 SiCl 3 , Gelest) was slowly added dropwise to the reactor over a period of 1 hour while the reactor was cooled to 0 ° C. After the addition, the reactor was stirred at room temperature for 6 hours, and the reaction was terminated. The organic solution in the reactor was neutralized with water until the pH became neutral and then dried under reduced pressure to obtain the final product. The obtained product was identified by analyzing the final structure by NMR and GC.

실시예와Examples 비교예Comparative Example

(A)할로겐과 (메타)아크릴레이트기를 포함하는 실리콘 화합물, (B)광중합 개시제 및 (C)광경화성 모노머를 하기 표 3에 기재된 함량(단위:중량부)으로 배합하여 액상의 조성물을 제조하였다.
(A) a silicone compound containing a halogen and a (meth) acrylate group, (B) a photopolymerization initiator, and (C) a photocurable monomer were blended in the contents (unit: parts by weight) .

상기 실시예와 비교예에서 제조한 조성물에 대해 하기의 물성을 평가하고 그 결과를 하기 표 3에 나타내었다.The following properties of the compositions prepared in Examples and Comparative Examples were evaluated, and the results are shown in Table 3 below.

물성 평가 방법Property evaluation method

1.광경화율: 광경화 조성물에 대하여 FT-IR(NICOLET 4700, Thermo사)을 사용하여 1635cm-1 부근(C=C), 1720cm-1 부근(C=O)에서의 흡수 피크의 강도를 측정한다. 유리 기판 위에 광경화 조성물을 스프레이로 도포하고 100J/cm2으로 10초 동안 조사하여 UV 경화시켜, 20cm x 20cm x 5㎛(가로 x 세로 x 두께)의 경화된 시편을 얻는다. 경화된 필름을 분취하고, FT-IR(NICOLET 4700, Thermo사)를 이용하여 1635cm-1 부근(C=C), 1720cm-1 부근(C=O)에서의 흡수 피크의 강도를 측정한다. 광경화율을 하기 식 1에 따라 계산한다.1. sight rate: About photocurable composition FT-IR (NICOLET 4700, Thermo Co.) for use in the vicinity of 1635cm -1 (C = C), 1720cm -1 measured intensity of the absorption peak in the vicinity of the (C = O) do. The photocurable composition is applied on a glass substrate by spraying and irradiated at 100 J / cm &lt; 2 &gt; for 10 seconds to be UV cured to obtain a cured specimen of 20 cm x 20 cm x 5 mu m (width x length x thickness). Obtain a cured film and, FT-IR (NICOLET 4700, Thermo Co.) is used in the vicinity of 1635cm -1 (C = C), 1720cm -1 measured intensity of the absorption peak in the vicinity of the (C = O) a. The photo-curing rate is calculated according to the following formula (1).

<식 1> <Formula 1>

Figure 112012053156591-pat00004
Figure 112012053156591-pat00004

(상기에서, A는 경화된 필름에 대해 1720cm-1 부근에서의 흡수 피크의 강도에 대한 1635cm-1 부근에서의 흡수 피크의 강도의 비이고, B는 광경화 조성물에 대해 1720cm-1 부근에서의 흡수 피크의 강도에 대한 1635cm-1 부근에서의 흡수 피크의 강도의 비이다)(Wherein, A is the ratio of the intensity of the absorption peak of 1635cm -1 in the vicinity of the intensity of the absorption peak in the vicinity of 1720cm -1 for the cured film, B is in the vicinity of 1720cm -1 for the photocurable composition The ratio of the intensity of the absorption peak at around 1635 cm &lt; -1 &gt; to the intensity of the absorption peak)

2.수분 투습률: 수분 투습률 측정기(PERMATRAN-W 3/33, MOCON사)를 이용한다. Al 샘플 홀더(sample holder)위에 광경화 조성물을 스프레이로 도포하고 100J/cm2으로 10초동안 조사하여 UV 경화시켜 도막 두께 5㎛의 경화된 시편을 형성한다. 도막 두께 5㎛에 대해 수분 투습률 측정기(PERMATRAN-W 3/33, MOCON사)를 이용하고, 50℃ 및 100% 상대 습도 조건에서 24시간 동안 투습도를 측정한다.2. Water Permeability: Use a moisture permeability meter (PERMATRAN-W 3/33, MOCON). The photocurable composition is applied by spraying on an Al sample holder and irradiated at 100 J / cm 2 for 10 seconds to UV cure to form a cured specimen of 5 μm thick. The moisture permeability is measured for 24 hours at 50 占 폚 and 100% relative humidity using a moisture permeability meter (PERMATRAN-W 3/33, MOCON) for a film thickness of 5 占 퐉.

3.산소 투과도: 상기 수분 투습률과 동일한 방법으로 시편을 제조하고 산소 투과도 측정기 (OX-TRAN Model 2/21, MOCON사)를 이용하여 25℃ 조건에서 24시간 동안 두께 방향으로 산소 투과도를 측정한다. 3. Oxygen Permeability: A sample was prepared in the same manner as the above moisture permeability, and the oxygen permeability was measured for 24 hours at 25 ° C using an oxygen permeability meter (OX-TRAN Model 2/21, MOCON) .

4.신뢰성:기판 위에 소자를 증착하고 무기 보호층을 증착한다. 그 위에 광경화 조성물을 도포하고 UV 경화시켜 도막 두께 5㎛의 유기 보호층을 형성하여 신뢰성 평가용 OLED 디바이스 패키지를 제작한다. 85℃ 상대습도 85% 조건에서 방치하면서 현미경으로 패키지 내부에 변색이 발생되는 시간을 관찰하여 판별한다. 하기 표 2와 같이 변색 발생 시점을 기준으로 신뢰성 점수를 주었다.4. Reliability: Deposition the device on the substrate and deposit an inorganic protective layer. And a photocurable composition is applied thereon and UV-cured to form an organic protective layer having a film thickness of 5 占 퐉 to prepare an OLED device package for reliability evaluation. It is distinguished by observing the time during which the discoloration occurs inside the package under a microscope while being left at 85 캜 and 85% relative humidity. The reliability score was given based on the time point of discoloration as shown in Table 2 below.

5.유기 보호층의 아웃가스 발생량: 유리 기판 위에 광경화 조성물을 스프레이로 도포하고 100mW/cm2으로 10초 동안 조사하여 UV 경화시켜, 20cm x 20cm x 3㎛(가로 x 세로 x 두께)의 유기 보호층 시편을 얻는다. 시편에 대하여, GC/MS 기기(Perkin Elmer Clarus 600)을 이용한다. GC/MS는 칼럼으로 DB-5MS 칼럼(길이:30m, 지름:0.25mm, 고정상 두께:0.25㎛)을 사용하고, 이동상으로 헬륨 가스(플로우 레이트:1.0mL/min, average velocity = 32 cm/s)를 이용하고, split ratio는 20:1, 온도 조건은 40℃에서 3분 유지하고, 그 다음에 10℃/분의 속도로 승온한 후 320℃에서 6분 유지한다. 아웃 가스는 glass size 20 cm x 20cm, 포집 용기는 Tedlar bag, 포집 온도는 90℃, 포집 시간은 30분, N2 퍼지(purge) 유량은 300mL/분, 흡착제는 Tenax GR(5% 페닐메틸폴리실록산)을 이용하여 포집한다. 표준 용액으로 n-헥산 중 톨루엔 용액 150ppm, 400ppm, 800ppm으로 검량선을 작성하고 R2값을 0.9987로 얻는다. 이상의 조건을 요약하면 하기 표 1과 같다.5. Outgassing of Organic Protective Layer: A photocurable composition was applied on a glass substrate by spraying and irradiated at 100 mW / cm 2 for 10 seconds to be UV-cured to form a 20 cm x 20 cm x 3 탆 (width x length x thickness) organic A protective layer specimen is obtained. For the specimen, use a GC / MS instrument (Perkin Elmer Clarus 600). As GC / MS, a helium gas (flow rate: 1.0 mL / min, average velocity = 32 cm / s) was used as a mobile phase using a DB-5MS column (length: 30 m, diameter: 0.25 mm, ), The split ratio is 20: 1, the temperature condition is kept at 40 占 폚 for 3 minutes, then the temperature is raised at a rate of 10 占 폚 / min, and the temperature is maintained at 320 占 폚 for 6 minutes. The outgas was 20 cm x 20 cm in glass size, the Tedlar bag was collected, the collection temperature was 90 ° C, the collection time was 30 minutes, the N 2 purge flow was 300 mL / min and the adsorbent was Tenax GR (5% phenylmethylpolysiloxane ). As a standard solution, a calibration curve is prepared at 150 ppm, 400 ppm, and 800 ppm of a toluene solution in n-hexane, and R2 value is obtained as 0.9987. The above conditions are summarized in Table 1 below.

구분
division
세부사항Detail
포집조건





Collection conditions





Glass size : 20cm*20cmGlass size: 20cm * 20cm
포집 용기 : Tedlar bagCollecting container: Tedlar bag 포집 온도 : 90 ℃Collecting temperature: 90 ℃ 포집 시간 : 30 minCollection time: 30 min N2 purge 유량 : 300 mL/minN2 purge flow rate: 300 mL / min 흡착제 : Tenax GR(5% phenylmethylpolysiloxane )Adsorbent: Tenax GR (5% phenylmethylpolysiloxane) 검량선 작성 조건


Calibration Curve Condition


표준용액 : Toluene in n-HexaneStandard solution: Toluene in n-Hexane
농도 범위(reference) : 150 ppm, 400 ppm, 800 ppmConcentration range: 150 ppm, 400 ppm, 800 ppm R2 : 0.9987R2: 0.9987 GC/MS 조건



GC / MS conditions



ColumnColumn DB-5MS→30m 0.25㎜ 0.25㎛
(5% phenylmethylpolysiloxane)
DB-5MS? 30 m 0.25 mm 0.25 占 퐉
(5% phenylmethylpolysiloxane)
이동상Mobile phase HeHe FlowFlow 1.0 mL/min (Average velocity = 32 ㎝/s)1.0 mL / min (Average velocity = 32 cm / s) SplitSplit Split ratio = 20:1Split ratio = 20: 1 methodmethod 40 ℃(3 min) -10 ℃/min→ 320 ℃(6 min)40 캜 (3 min) -10 캜 / min? 320 캜 (6 min)

변색 발생 시점When discoloration occurred 신뢰성 점수Reliability score 1주 미만Less than 1 week 0점0 point 1주 이상 ~ 2주 미만More than 1 week ~ 2 weeks 1점1 point 2주 이상 ~ 3주 미만More than 2 weeks ~ less than 3 weeks 2점2 points 3주 이상 ~ 4주 미만Less than 3 weeks to less than 4 weeks 3점3 points 4주 이상 ~ 5주 미만Less than 4 weeks to less than 5 weeks 4점4 points 5주 이상 ~ 6주 미만More than 5 weeks ~ less than 6 weeks 5점5 points 6주 이상 ~ 7주 미만More than 6 weeks ~ less than 7 weeks 6점6 points 7주 이상 ~ 8주 미만More than 7 weeks ~ less than 8 weeks 7점7 points 8주 이상 ~ 9주 미만More than 8 weeks ~ less than 9 weeks 8점8 points 9주 이상 ~ 10주 미만Less than 9 weeks to less than 10 weeks 9점9 points 10주 이상More than 10 weeks 10점10 points

  실시예1Example 1 실시예2Example 2 실시예3Example 3 실시예4Example 4 비교예1Comparative Example 1 비교예2Comparative Example 2 (A)(A) 9898 8888 4949 4949 -- -- (B)(B) 22 22 22 22 22 22 (C)(C) (C1)(C1) -- 22 -- 4949 4949 9898 (C2)(C2) -- 88 4949 -- 4949 -- 광경화 조건Photocuring condition 100 J/cm2, 10 sec으로 UV 조사100 J / cm 2 , 10 sec UV irradiation 광경화율 (%)Light curing rate (%) 9898 9797 9797 9696 9393 9494 수분 투습률 (g/m2day)Moisture permeability (g / m 2 day) 33 44 55 66 99 1010 산소 투과도 (cc/m2day)Oxygen permeability (cc / m 2 day) 256256 261261 282282 283283 384384 420420 신뢰성responsibility 10점10 points 10점10 points 8점8 points 7점7 points 4점4 points 3점3 points 아웃가스 발생량(ppm)Outgassing Amount (ppm) 3939 3737 4242 4141 4545 4343

상기 표 3에서 나타난 바와 같이, 본 발명의 광경화 조성물은 광경화율이 높고 이로부터 제조된 유기 보호층은 수분 투습률과 산소 투과도를 저감시키고, 결과적으로 OLED 또는 유기태양전지와 같은 소자의 장기 신뢰성을 향상시킬 수 있다. As shown in Table 3, the photocurable composition of the present invention has a high photo-curability and the organic protective layer produced therefrom can reduce the moisture permeability and oxygen permeability, and consequently the long-term reliability of devices such as OLEDs or organic solar cells Can be improved.

반면에, 할로겐과 (메타)아크릴레이트기를 포함하는 실리콘 화합물을 포함하지 않은 비교예 1-2의 광경화 조성물은 광경화율이 상대적으로 낮았고, 이로부터 제조된 유기 보호층도 수분 투습률과 산소 투과도가 높아 소자의 신뢰성이 떨어져, 본 발명의 효과를 구현하지 못하였다.
On the other hand, the photocurable composition of Comparative Example 1-2, which did not contain a silicone compound containing a halogen and a (meth) acrylate group, had a relatively low photo-curing rate, and the organic protective layer prepared therefrom was also excellent in moisture permeability and oxygen permeability The reliability of the device is deteriorated and the effect of the present invention is not realized.

본 발명은 상기 실시예 및 도면에 의해 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태가 될 수 있고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 것이다. 그러므로, 이상에서 기술한 실시예와 도면은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야 한다.
It is to be understood that the present invention is not limited to the above embodiments and drawings and that various changes and modifications may be made therein without departing from the spirit and scope of the present invention. As will be understood by those skilled in the art. Therefore, it should be understood that the above-described embodiments and drawings are to be considered in all respects as illustrative and not restrictive.

Claims (16)

할로겐과 (메타)아크릴레이트기를 포함하는 실리콘 화합물과 광중합 개시제를 포함하고,
상기 실리콘 화합물은 하기 화학식 1의 구조를 갖는 광경화 조성물이고,
상기 광경화 조성물의 경화물은 도막 두께 5㎛에 대해 50℃ 및 100% 상대 습도 조건에서 24시간 동안 측정된 두께 방향의 수분 투습율이 8g/m2.24hr 이하인 광경화 조성물:
<화학식 1>
Figure 112014102275185-pat00009

상기에서, R1은 할로겐화된 탄소수 6-30의 아릴기, 할로겐화된 탄소수 7-30의 아릴알킬기 또는 할로겐화된 탄소수 1-30의 알킬기이고,
R2, R3 및 R4는 치환 또는 비치환된 탄소수 1-10의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2-20의 알케닐기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6-20의 아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-10의 알콕시기 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1-10의 실릴기이고,
R2, R3 및 R4 중 적어도 하나 이상은 하기 화학식 2를 포함하고
<화학식 2>
Figure 112014102275185-pat00010

상기에서 R5는 수소 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬기이고,
a는 1 이상 3 이하의 정수,
b, c, d는 각각 0 이상 4 이하의 정수(단, b, c, d가 모두 0인 경우는 제외함),
a+b+c+d는 2 이상 4 이하의 정수이다.
A silicone compound containing a halogen and a (meth) acrylate group, and a photopolymerization initiator,
The silicone compound is a photocurable composition having a structure represented by the following formula (1)
Wherein the cured product of the photocurable composition has a moisture permeability of 8 g / m < 2 > .24 hr or less in the thickness direction measured for 24 hours at 50 DEG C and 100%
&Lt; Formula 1 >
Figure 112014102275185-pat00009

R 1 is a halogenated aryl group having 6 to 30 carbon atoms, a halogenated arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or a halogenated alkyl group having 1 to 30 carbon atoms,
R 2 , R 3 and R 4 each represent a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms, A substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms or a substituted or unsubstituted silyl group having 1 to 10 carbon atoms,
At least one of R 2 , R 3 and R 4 contains the following formula
(2)
Figure 112014102275185-pat00010

Wherein R 5 is hydrogen or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1-30 carbon atoms,
a is an integer of 1 or more and 3 or less,
b, c and d each represent an integer of 0 to 4, provided that all of b, c and d are not 0,
a + b + c + d is an integer of 2 or more and 4 or less.
제1항에 있어서, 상기 실리콘 화합물은 할로겐을 0.1-90wt%의 비율로 포함하는 광경화 조성물.The photocurable composition according to claim 1, wherein the silicone compound contains 0.1-90 wt% of a halogen. 제1항에 있어서, 상기 실리콘 화합물은 할로겐을 5-30wt%의 비율로 포함하는 광경화 조성물.The photocurable composition according to claim 1, wherein the silicone compound contains halogen in a proportion of 5-30 wt%. 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 R1은 C6X5(CX2)x(CH2)y- 또는 CX3(CX2)x(CH2)y-(X는 플루오르, 염소, 요오드 또는 브롬이고, x는 0-10의 정수, y는 0-10의 정수이다)인 광경화 조성물.The method of claim 1, wherein R 1 is C 6 X 5 (CX 2 ) x (CH 2 ) y - or CX 3 (CX 2 ) x (CH 2 ) y - wherein X is fluorine, chlorine, iodine, , x is an integer from 0 to 10, and y is an integer from 0 to 10). 제1항에 있어서, 상기 실리콘 화합물의 중량평균분자량은 100-5,000인 광경화 조성물.The photocurable composition according to claim 1, wherein the silicone compound has a weight average molecular weight of 100-5,000. 제1항에 있어서, 상기 조성물은 상기 실리콘 화합물 0.1-99.9중량%와 상기 광중합 개시제 0.1-99.9중량%를 포함하는 광경화 조성물.The photocurable composition of claim 1, wherein the composition comprises 0.1-99.9 wt% of the silicone compound and 0.1-99.9 wt% of the photopolymerization initiator. 제1항에 있어서, 상기 조성물은 i)광경화성 관능기를 갖는 비실리콘계 모노머, ii)광경화성 관능기를 갖는 비할로겐계 실록산 모노머, 또는 이들의 혼합물로부터 선택되는 광경화성 모노머를 더 포함하는 광경화 조성물.The photocurable composition of claim 1, wherein the composition further comprises a photocurable monomer selected from i) a non-silicon based monomer having a photocurable functional group, ii) a non-halogenated siloxane monomer having a photocurable functional group, or a mixture thereof . 제8항에 있어서, 상기 광경화성 모노머는 i)모노 알코올 또는 다가 알코올의 탄소수 5-30의 비실리콘계 (메타)아크릴레이트, ii)(메타)아크릴레이트기 또는 (메타)아크릴옥시알킬기로부터 선택되는 적어도 하나 이상의 말단기를 갖는 비할로겐계 실록산 모노머, 또는 이들의 혼합물인 광경화 조성물.The photocurable monomer according to claim 8, wherein the photocurable monomer is selected from the group consisting of i) a non-silicon-based (meth) acrylate of 5-30 carbon atoms of a monoalcohol or a polyhydric alcohol, ii) a (meth) acrylate group or A halogen-free siloxane monomer having at least one terminal group, or a mixture thereof. 제8항에 있어서, 상기 조성물은 상기 실리콘 화합물 1-90중량%, 상기 광중합 개시제 1-10중량%, 및 상기 광경화성 모노머 1-90중량%를 포함하는 광경화 조성물.The photocurable composition of claim 8, wherein the composition comprises 1-90 wt% of the silicone compound, 1-10 wt% of the photopolymerization initiator, and 1-90 wt% of the photocurable monomer. 제1항 내지 제3항 및 제5항 내지 제10항 중 어느 한 항의 광경화 조성물로 형성되고, 도막 두께 5㎛에 대해 50℃ 및 100% 상대 습도 조건에서 24시간 동안 측정된 두께 방향의 수분 투습율이 8g/m2.24hr 이하인, 유기전계발광부 또는 유기태양전지 소자를 밀봉하는 유기 보호층.Characterized in that the moisture content in the thickness direction measured with the photocurable composition of any one of claims 1 to 3 and 5 to 10 measured for 24 hours at 50 DEG C and 100% relative humidity conditions for a film thickness of 5 mu m An organic electroluminescent portion or an organic solar cell element having a moisture permeability of 8 g / m 2 .24 hr or less. 제11항에 있어서, 도막 두께 5㎛에 대해 25℃에서 24시간 동안 측정된 두께 방향의 산소 투과도가 300cc/m2.24hr 이하인, 유기전계발광부 또는 유기태양전지 소자를 밀봉하는 유기 보호층.12. The method of claim 11, in 25 ℃ for the film thickness 5㎛ oxygen permeability of 24 hours the measured thickness while 300cc / m 2 .24hr or less, the organic protective layer to seal the portion around the development of organic or organic solar cell device. 제11항에 있어서, 상기 유기 보호층은 아웃가스 발생량이 2,000ppm 이하인 유기 보호층.12. The organic protective layer according to claim 11, wherein the organic protective layer has an outgassing amount of 2,000 ppm or less. 삭제delete 제11항의 유기 보호층을 포함하는 광학 부재.An optical member comprising the organic protective layer of claim 11. 제15항에 있어서, 상기 광학 부재는 기판, 상기 기판 위에 형성된 유기전계발광부, 상기 유기전계발광부를 밀봉하는 무기 보호층, 및 상기 무기 보호층 위에 적층되어 있는 상기 유기 보호층을 포함하는 광학 부재.
16. The organic electroluminescent device according to claim 15, wherein the optical member comprises a substrate, an organic electroluminescent portion formed on the substrate, an inorganic protective layer sealing the organic electroluminescent portion, and an organic protective layer stacked on the inorganic protective layer absence.
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