KR101543793B1 - Composition for Magnesium Alloy Surface Treatment and Surface Treated Magnesium Alloy using the Same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 (A) 불소 화합물; (B) 지르코늄 화합물; 및 (C) 세륨 화합물 또는 바나듐 화합물 중에서 선택된 1종 이상의 화합물을 포함하는 금속표면처리용 조성물 및 이를 이용한 금속재료에 관한 것이다.The present invention relates to (A) a fluorine compound; (B) a zirconium compound; And (C) at least one compound selected from a cerium compound and a vanadium compound, and a metal material using the composition.

본 발명에 따른 금속표면처리용 조성물은, 금속재료의 표면처리에 사용됨으로써 이에 따라 제조된 금속재료는 이송 또는 보관 시에 녹 발생의 염려가 없고, 방청표면처리를 수행한 후에도 미려한 표면 외관을 유지하며, 표면전기저항이 낮아, 전자기기 내부부품용 합금 등으로 유용하게 사용될 수 있다.The composition for metal surface treatment according to the present invention is used in the surface treatment of a metal material so that the metal material produced thereon is free from the risk of rusting during transportation or storage and maintains a beautiful surface appearance even after the rust- And has a low surface electric resistance, so that it can be usefully used as an alloy for internal parts of electronic equipment.

지르코늄, 불소, 세륨, 바나듐, 표면전기저항성, 광택도, 전자기기 내부부품 Zirconium, fluorine, cerium, vanadium, surface electric resistance, gloss, electronic parts inside

Description

마그네슘 합금 표면처리용 조성물 및 이를 이용하여 표면처리된 마그네슘 합금{Composition for Magnesium Alloy Surface Treatment and Surface Treated Magnesium Alloy using the Same}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a composition for surface treatment of magnesium alloy, and a magnesium alloy surface-

본 발명은 마그네슘 합금 표면처리용 조성물 및 이를 이용하여 표면처리된 마그네슘 합금에 관한 것이다.The present invention relates to a composition for surface treatment of a magnesium alloy and a magnesium alloy surface-treated using the same.

일반적으로 아연으로 도금된 강철, 알루미늄, 마그네슘 합금 또는 스테인리스 등과 같은 금속재료는 건자재 및 자동차용 강판뿐만 아니라 가전제품용 금속자재 등에 대해 폭넓게 사용되고 있다.Metal materials such as steel, aluminum, magnesium alloy or stainless steel plated with zinc in general are widely used for metal materials for home appliances as well as building materials and automotive steel sheets.

그러나 이들 금속은 쉽게 부식되거나 오염되기 때문에 이를 방지하기 위해서 금속재료의 표면에 일정한 코팅처리를 수행함으로써 금속재료에 내부식성 또는 내오염성의 기능을 부여하였다.However, since these metals are easily corroded or contaminated, the metal material is provided with a function of corrosion resistance or stain resistance by performing a predetermined coating treatment on the surface of the metal material.

즉, 금속재료의 경우 내식성이 매우 취약하기 때문에 이송 또는 보관 시에 녹이 빈번하게 발생하고, 특히 항공기를 통한 이송이나 보관 시에 온도 차이에 의한 결로 발생으로 녹 발생이 매우 용이하며, 장시간 이송 또는 보관 시에도 이와 같은 이유로 쉽게 녹이 발생한다는 문제점이 있었다.That is, since the corrosion resistance of the metal material is very weak, rust occurs frequently during transport or storage, and rust is easily generated due to temperature difference due to temperature difference during transport or storage through an aircraft, There is a problem in that rust easily occurs due to the same reason.

이에, 금속재료의 표면처리를 통하여 금속재료에 방청 효과를 부여하는 기술들이 개발되었으나, 종래 방식에 따라 방청 처리를 수행한 금속재료는 버핑 또는 헤어라인 처리를 통하여 미려한 표면 외관이 형성된 금속재료에 일반적인 방청 표면처리를 수행하는 경우, 광택도가 현저하게 저하된다는 문제점이 있었는바, 제품으로서의 가치가 떨어진다는 문제점이 있었다.Thus, although techniques for imparting a rust preventing effect to a metal material through surface treatment of a metal material have been developed, a metal material that has been subjected to rust-preventive treatment according to a conventional method is generally used for a metal material having a beautiful surface appearance through buffing or hair- When the rust-preventive surface treatment is carried out, there is a problem that the gloss is remarkably lowered, so that there is a problem that the value as a product is lowered.

또한, 상기한 바와 같이 방청 처리가 수행된 금속재료를 전자기기 내부부품용 합금 등에 적용하는 경우, 금속재료의 표면 전기저항이 매우 낮아야 하는데, 종래에는 이와 같이 표면 전기저항을 낮게 유지하기 위해서 금속재료의 표면에 별도의 부가적인 처리공정을 추가로 수행하여야 했기 때문에 비용적인 측면에서나 효율성 면에서 문제점이 있었다.In addition, when the metal material subjected to the rust-preventive treatment as described above is applied to an alloy for an internal part of an electronic device or the like, the surface electrical resistance of the metal material must be very low. Conventionally, in order to maintain the surface electrical resistance low, There is a problem in terms of cost and efficiency because additional additional processing steps have to be additionally performed on the surface of the substrate.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위하여 창출된 것으로서, 금속재료의 표면에 처리되어, 상기 금속재료에 우수한 방청성 및 광택도를 제공하는 동시에, 낮은 표면전기저항성을 제공하는 금속표면처리용 조성물을 제공하는데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide a composition for metal surface treatment which is treated on the surface of a metal material to provide excellent rust resistance and gloss to the metal material, It has its purpose.

본 발명의 다른 목적은, 상기와 같은 금속표면처리용 조성물을 이용하여 표면 처리되어 우수한 표면전기저항성, 광택도 및 내식성을 가짐으로써 건축제품, 자동차 부품, 가전제품 및 전자기기 내부부품 등과 같은 다양한 산업분야에서 유용하게 사용될 수 있는 금속재료를 제공하는데 있다.It is another object of the present invention to provide a surface treatment using the above-mentioned composition for metal surface treatment, which has excellent surface electric resistance, gloss and corrosion resistance, and thus can be applied to various industries such as building products, automobile parts, home appliances, And to provide a metal material which can be usefully used in the field.

본 발명은 상기 과제를 해결하기 위한 수단으로서, (A) 불소 화합물; (B) 지르코늄 화합물; 및 (C) 세륨 화합물 또는 바나듐 화합물 중에서 선택된 1종 이상의 화합물을 포함하는 금속표면처리용 조성물을 제공한다.The present invention provides, as means for solving the above problems, (A) a fluorine compound; (B) a zirconium compound; And (C) at least one compound selected from a cerium compound and a vanadium compound.

또한, 본 발명은 상기 과제를 해결하기 위한 다른 수단으로서, 기재; 및 상기 기재 상에 형성되는 피막층을 포함하되, 상기 피막층은 본 발명에 따른 조성물에 의하여 형성되는 금속재료를 제공한다.The present invention also provides, as another means for solving the above problems, a substrate comprising: a substrate; And a coating layer formed on the substrate, wherein the coating layer is formed by the composition according to the present invention.

상술한 바와 같은 본 발명의 금속표면처리용 조성물은 금속재료의 표면에 처리되어 우수한 내식성 및 낮은 표면전기저항성을 제공할 뿐 아니라, 방청 처리 후에도 우수한 광택도를 나타낼 수 있도록 함으로써 다양한 산업분야에 사용되는 금속재료로 유용하게 사용될 수 있으며, 특히, 이와 같은 금속재료는 우수한 외관 및 낮은 표면전기저항성으로 인하여 전자기기 내부부품용 합금 등으로 보다 유용하게 사용될 수 있다.The metal surface treatment composition of the present invention as described above is treated on the surface of a metal material to provide excellent corrosion resistance and low surface electrical resistance and also exhibits excellent gloss even after rust-proofing treatment, Such a metal material can be more effectively used as an alloy for internal parts of electronic equipment due to its excellent appearance and low surface electrical resistance.

본 발명은 (A) 불소 화합물; (B) 지르코늄 화합물; 및 (C) 세륨 화합물 또는 바나듐 화합물 중에서 선택된 1종 이상의 화합물을 포함하는 금속표면처리용 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to (A) a fluorine compound; (B) a zirconium compound; And (C) at least one compound selected from a cerium compound and a vanadium compound.

이하, 본 발명의 금속표면처리용 조성물에 대하여 보다 상세하게 설명한다. 본 발명에 따른 조성물은 전술한 바와 같이, (A) 불소 화합물, (B) 지르코늄 화합물 및 (C) 세륨 화합물 또는 바나듐 화합물 중에서 선택된 1종 이상의 화합물을 포함한다.Hereinafter, the composition for metal surface treatment of the present invention will be described in more detail. The composition according to the present invention comprises at least one compound selected from the group consisting of (A) a fluorine compound, (B) a zirconium compound and (C) a cerium compound or a vanadium compound.

여기서, 상기 (A) 불소 화합물은 본 발명에 따른 조성물의 내식성 및 광택도를 향상시키는 역할을 하고, 불소 원소를 함유하는 화합물이라면 제한 없이 모두 포함할 수 있으며, 그 종류가 특별히 제한되는 것은 아니지만, 예를 들면, 불산(hydrofluoric Acid; HF), 헥사플루오로 인산(hexafluoro phosphoric acid; HPF6), 플루오로 인산(fluoro phosphoric acid; H2PO3F), 플루오로 규산(fluoro silici acid; H2SiF6), 헥사플루오로 지르콘산(hexafluoro zirconic acid; H2ZrF6), 나트륨 헥사플루오로 지르코네이트(sodium hexafluoro zirconate; Na2ZrF6) 및 나트륨 헥사플루오로 티타네이트(sodium hexafluoro titanate; Na2TiF6)로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함할 수 있고, 구체적으로는 불산을 포함할 수 있다.Here, the fluorine compound (A) serves to improve the corrosion resistance and gloss of the composition according to the present invention, and any compound containing a fluorine element may be used without limitation, and the kind thereof is not particularly limited, For example, hydrofluoric acid (HF), hexafluoro phosphoric acid (HPF 6 ), fluoro phosphoric acid (H 2 PO 3 F), fluoro silici acid (H 2 SiF 6), zirconate (hexafluoro zirconic acid hexafluoropropane; as H 2 ZrF 6), fluoro, sodium hexafluoro zirconate (sodium hexafluoro zirconate; Na 2 ZrF 6) , and titanate (sodium hexafluoro titanate, sodium hexafluoro; Na 2 TiF 6 ), and may include at least one selected from the group consisting of hydrofluoric acid.

이와 같은 (A) 불소 화합물을 함유하는 경우, 내식성 및 도막 밀착성을 크게 향상시킬 수 있으며, 특히, 불산을 포함하는 경우, 광택도 및 내식성을 크게 향상시킬 수 있다.When such a fluorine compound (A) is contained, the corrosion resistance and the film adhesion can be greatly improved, and in particular, in the case of containing hydrofluoric acid, the glossiness and corrosion resistance can be greatly improved.

한편, 상기 (B) 지르코늄 화합물은 본 발명에 따른 조성물 내에서 내식성을 향상시키는 역할을 하는 물질로서, 지르코늄 원소를 함유하는 화합물이라면 특별한 제한 없이 모두 포함할 수 있지만, 예를 들면, 불화지르코늄(zirconium fluoride), 질산 지르코닐(zirconyl nitrate), 아세트산 지르코닐(zirconyl acetate), 탄산 지르코닐 암모늄(ammonium zirconyl carbonate), 지르코늄 아세틸아세토네이트(zirconium acetylacetonate), 불화칼륨 지르코늄(potassium zirconium fluoride), 산화지르코늄(zirconia; ZrO2), 지르코늄 불화 수소산(zirconium hydrofluoric acid), 지르코늄 불화 암모늄(zirconium ammonium fluoride) 및 수산화 불화지르코늄(zirconium hydroxide fluoride)으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함할 수 있고, 구체적으로는 불화지르코늄을 포함할 수 있다.On the other hand, the (B) zirconium compound is a substance which improves the corrosion resistance in the composition according to the present invention, and may be any compound containing a zirconium element without any particular limitation. For example, zirconium fluoride, zirconyl nitrate, zirconyl acetate, ammonium zirconyl carbonate, zirconium acetylacetonate, potassium zirconium fluoride, zirconium oxide zirconia, ZrO 2 , zirconium hydrofluoric acid, zirconium ammonium fluoride, and zirconium hydroxide fluoride. Specific examples of the zirconium fluoride zirconium fluoride include zirconium fluoride . ≪ / RTI >

상기 불화지르코늄은 본 발명의 조성물 내에서 내식성을 향상시킬 뿐 아니라 버핑 및 헤어라인 처리에 의해 발현되는 판재표면의 광택을 유지하거나 보다 향상시키면서 표면전기저항 특성을 향상시키는 기능을 할 수 있다는 장점이 있다.The zirconium fluoride has an advantage that it can function not only to improve the corrosion resistance in the composition of the present invention but also to improve the surface electrical resistance property while maintaining or improving the gloss of the surface of the plate material which is developed by the buffing and hair line treatment .

한편, 상기 (C) 화합물은 본 발명에 따른 조성물 내에서 내식성을 향상시키는 역할을 하는 것으로서, 본 발명에 따른 조성물의 윤활성 및 내식성을 저하시키지 않는 범위 내에서 세륨 화합물 또는 바나듐 화합물을 단독 또는 2종 이상을 상호 보완적으로 혼합하여 사용할 수 있는 무기 화합물일 수 있고, 보다 구체적으로는 내식성 향상의 측면에서 바나듐 화합물일 수 있다.The compound (C) serves to improve the corrosion resistance in the composition according to the present invention. The cerium compound or the vanadium compound may be used singly or in combination of two kinds Or more can be mixed with each other in a complementary manner, and more specifically, it may be a vanadium compound in terms of improving the corrosion resistance.

여기서, 상기 세륨 화합물은 세륨 원소를 함유하는 화합물이라면 특별한 제한 없이 모두 포함할 수 있지만, 예를 들면, 3가 세륨 화합물, 4가 세륨 화합물 또는 이들의 혼합물 중 하나 이상을 포함할 수 있다.Here, the cerium compound may be any compound including a cerium element without any particular limitation, but may include, for example, at least one of a trivalent cerium compound, a tetravalent cerium compound, or a mixture thereof.

또한, 상기 3가 세륨 화합물은 그 종류가 특별히 제한되는 것은 아니지만, 예를 들면, 아세트산세륨(Ⅲ), 탄산세륨(Ⅲ), 염화세륨(Ⅲ), 불화세륨(Ⅲ), 질산세륨(Ⅲ), 황산세륨(Ⅲ), 브롬화세륨(Ⅲ), 요오드화세륨(Ⅲ), 옥살산세륨(Ⅲ), 과염소산세륨(Ⅲ), 황화세륨(Ⅲ) 및 이들의 수화물 등일 수 있으며, 4가 세륨 화합물도 그 종류가 제한되는 것은 아니지만, 예를 들면, 3가 세륨 화합물을 산화시켜 얻어진 것일 수 있으며, 보다 구체적인 예를 들면, 질산세륨(Ⅳ), 질산암모늄세륨(Ⅳ), 헥사니트레이트세륨(Ⅳ)염, 황산4암모늄세륨(Ⅳ), 황산세륨(Ⅳ) 및 이들의 수화물 등일 수 있다.The trivalent cerium compound is not particularly limited, and examples thereof include cerium acetate (III), cerium carbonate (III), cerium chloride (III), cerium fluoride (III), cerium nitrate (III) , Cerium sulfate (III), cerium bromide (III), cerium iodide (III), cerium oxalate (III), cerium perchlorate (III), cerium sulfide (III) and their hydrates, (IV), ammonium cerium nitrate (IV), cerium (IV) hexanitrate (IV) salt, and the like. The cerium compound of the present invention can be obtained by, for example, , Ammonium cerium (IV) sulfate, cerium (IV) sulfate and their hydrates.

한편, 상기 세륨 화합물이 3가 세륨 화합물 및 4가 세륨 화합물의 혼합물인 경우, 특별히 제한되는 것은 아니지만, 예를 들면, 3가 세륨 원소 100 중량부에 대하여 4가 세륨 원소 20 중량부 내지 100 중량부를 포함하는 혼합물일 수 있다.On the other hand, when the cerium compound is a mixture of a trivalent cerium compound and a tetravalent cerium compound, there is no particular limitation. For example, 20 parts by weight to 100 parts by weight of a tetravalent cerium element is added to 100 parts by weight of a trivalent cerium element Or mixtures thereof.

본 발명에 따른 조성물 내에서, 상기 혼합물이 3가 세륨 원소 100 중량부에 대하여 4가 세륨 원소를 20 중량부 미만의 양으로 함유하는 경우, 내식성이 저하될 우려가 있고, 100 중량부를 초과하는 양으로 함유하는 경우, 상도도장 시 도막 밀착성이 저하될 우려가 있다.In the composition according to the present invention, when the mixture contains less than 20 parts by weight of tetravalent cerium element with respect to 100 parts by weight of the trivalent cerium element, the corrosion resistance may be lowered, , There is a possibility that the coating film adhesion is lowered in the top coating.

또한, 바나듐 화합물도 바나듐 원소를 함유하는 화합물이라면 모두 포함할 수 있으며 그 종류가 특별히 제한되는 것은 아니지만, 예를 들면, 바나듐산 나트륨(sodium vanadate), 바나듐산 암모늄(ammonium vanadate), 질화 바나듐(vanadium nitride) 및 산화 바나듐(vanadium oxide)으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상일 수 있다.The vanadium compound may be any compound containing a vanadium element. The type of the vanadium compound is not particularly limited. For example, sodium vanadate, ammonium vanadate, vanadium nitride, and vanadium oxide.

한편, 본 발명에 따른 조성물은, 상기 (A) 불소 화합물, (B) 지르코늄 화합물 및 (C) 화합물을 다양한 조합으로 함유할 수 있으며, 그 함량이 특별히 제한되는 것은 아니다.On the other hand, the composition according to the present invention may contain various combinations of the fluorine compound (A), the zirconium compound (B) and the compound (C), and the content thereof is not particularly limited.

따라서, 상기 금속표면처리용 조성물은 사용되는 화합물의 종류에 따라 표면처리가 수행되는 금속재료의 내식성, 광택도 및 표면 전기저항성 등과 같은 물성을 향상시킬 수 있는 범위 내에서 적절하게 선택하여 포함할 수 있다.Accordingly, the composition for metal surface treatment can be appropriately selected and included within a range that can improve physical properties such as corrosion resistance, gloss, and surface electrical resistance of a metal material to be surface-treated according to the kind of a compound to be used have.

또한, 본 발명에 따른 조성물은 상기한 바와 같은 화합물 및 잔량의 물을 포함하는 액상 조성물일 수 있으며, 특별히 제한되는 것은 아니지만, 예를 들면, 본 발명에 따른 조성물 내에서 전체 고형분의 함량은 0.1 내지 20 중량%일 수 있다.In addition, the composition according to the present invention may be a liquid composition containing the above-mentioned compound and the remaining amount of water and is not particularly limited. For example, the content of the total solid content in the composition according to the present invention is 0.1 to 20% by weight.

여기서, 본 발명에 따른 조성물은 전체 고형분 100 중량부에 대하여, 0.01 중량부 내지 2 중량부의 불소 원소를 함유할 수 있고, 보다 구체적인 예를 들면, 0.1 중량부 내지 1.5 중량부의 불소 원소를 함유할 수 있다.Here, the composition according to the present invention may contain 0.01 to 2 parts by weight of a fluorine element relative to 100 parts by weight of the total solid content, more specifically, may contain 0.1 to 1.5 parts by weight of a fluorine element have.

여기서, 상기 불소 원소의 함량은 불소 화합물에 함유되는 불소 원소의 함량뿐만 아니라 상기 조성물의 다른 화합물 내에 함유되어 있는 불소 원소의 함량을 모두 포함하는 것이다.Here, the content of the fluorine element includes not only the content of the fluorine element contained in the fluorine compound but also the content of the fluorine element contained in the other compound of the composition.

상기 불소 원소가 전체 고형분 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 미만의 양으로 함유되는 경우, 광택도가 현저하게 저하되어 금속재료의 미려한 표면외관을 구현하기 어려워질 수 있고, 2 중량부를 초과하는 경우, 상도도장 시 도막 밀착성 및 표면전기저항성이 저하될 우려가 있다.When the fluorine element is contained in an amount of less than 0.01 part by weight based on 100 parts by weight of the total solid content, the glossiness is remarkably lowered and the appearance of the surface of the metal material can be difficult to be realized. When the fluorine element is more than 2 parts by weight, There is a fear that the coating film adhesion and the surface electrical resistance at the time of top coating are lowered.

또한, 본 발명에 따른 조성물은 상기 불소 원소 100 중량부에 대하여, 1 중량부 내지 30 중량부의 지르코늄 원소를 함유할 수 있고, 구체적으로는 1 내지 20 중량부로 함유될 수 있으며, 보다 구체적으로는 1 내지 10 중량부의 양으로 함유될 수 있다.Also, the composition according to the present invention may contain 1 to 30 parts by weight of zirconium element relative to 100 parts by weight of the fluorine element, specifically 1 to 20 parts by weight, more specifically 1 To 10 parts by weight.

상기 지르코늄 원소가 불소 원소 100 중량부에 대하여 1 중량부 미만의 양으로 함유되는 경우, 내식성이 저하될 우려가 있고, 30 중량부를 초과하는 양으로 함 유되는 경우, 상도도장 시 도막 밀착성이 저하될 우려가 있다.When the zirconium element is contained in an amount of less than 1 part by weight based on 100 parts by weight of the fluorine element, the corrosion resistance may be lowered. When the zirconium element is contained in an amount exceeding 30 parts by weight, There is a concern.

한편, 본 발명에 따른 조성물은 세륨 원소 또는 바나듐 원소를 함유할 수 있는데, 상기 조성물이 세륨 원소를 함유하는 경우, 상기 세륨 원소의 함량은 특별히 제한되는 것은 아니지만, 예를 들면, 불소 원소 100 중량부에 대하여 5 내지 30 중량부의 양으로 함유될 수 있고, 구체적으로는 5 내지 15 중량부의 양으로 함유될 수 있으며, 보다 구체적으로는 10 내지 15 중량부의 양으로 함유될 수 있다.The composition according to the present invention may contain a cerium element or a vanadium element. When the composition contains a cerium element, the content of the cerium element is not particularly limited. For example, 100 parts by weight of a fluorine element In an amount of 5 to 30 parts by weight, specifically 5 to 15 parts by weight, and more specifically 10 to 15 parts by weight, based on the total weight of the composition.

또한, 상기 조성물이 바나듐 원소를 함유하는 경우, 상기 바나듐 원소의 함량도 특별히 제한되는 것은 아니지만, 예를 들면, 불소 원소 100 중량부에 대하여 5 내지 40 중량부로 함유될 수 있으며, 보다 구체적으로는 10 내지 20 중량부로 함유될 수 있다.When the composition contains a vanadium element, the content of the vanadium element is not particularly limited. For example, the vanadium element may be contained in an amount of 5 to 40 parts by weight based on 100 parts by weight of the fluorine element. More specifically, To 20 parts by weight.

상기 세륨 원소 또는 바나듐 원소의 함량이 상기 한정된 범위를 벗어나는 경우, 내식성 또는 도막 밀착성이 저하되고, 표면전기저항이 커질 우려가 있다.If the content of the cerium element or the vanadium element is out of the above-mentioned range, the corrosion resistance or the film adhesion can be deteriorated and the surface electrical resistance may increase.

한편, 본 발명에 따른 조성물은 (D) 실란 화합물 또는 티탄 화합물을 추가로 포함할 수 있다. 이와 같은 화합물은 본 발명의 조성물 내에 함유된 무기 화합물을 커플링함으로써 소재와의 밀착성 및 내식성을 향상시키는 커플링제로 사용될 수 있다.Meanwhile, the composition according to the present invention may further comprise (D) a silane compound or a titanium compound. Such a compound can be used as a coupling agent for improving the adhesion with the material and the corrosion resistance by coupling the inorganic compound contained in the composition of the present invention.

여기서, 상기 실란 화합물은 규소 원소를 함유하는 물질은 모두 포함할 수 있으며, 그 종류가 특별히 제한되는 것은 아니지만, 아미노계 실란, 에폭시계 실란, 아크릴계 실란, 메르캅토 실란, 비닐계 실란 및 이들의 혼합물로 이루어진 군 으로부터 선택된 1종 이상일 수 있다.Here, the silane compound may include all of the silicon element-containing materials, and the kind thereof is not particularly limited, and examples thereof include amino silanes, epoxy silanes, acrylic silanes, mercapto silanes, vinyl silanes, and mixtures thereof And the like.

보다 구체적인 예를 들면, 상기 실란 화합물은 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 1,2-비스-트리에톡시실릴에탄, 3-메타글리옥시프로필트리메톡시실란, N-(β-아미노에틸)-γ-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(β-아미노에틸)-γ-아미노프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리에톡시실란, γ-글리시독시프로필메틸디메톡시실란 및 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상일 수 있다.More specifically, for example, the silane compound may be 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 1,2-bis-triethoxysilylethane, 3- (? -Aminoethyl) -? - aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (? -Aminoethyl) -? - aminopropyltrimethoxysilane,? -Glycidoxypropyltriethoxysilane, ? -glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, and 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane.

나아가, 구체적인 예를 들면, 상기 실란 화합물은 말단계 유기물과 반응할 수 있는 관능기를 가지는 실란 화합물과 관능기를 가지지 않는 실란 화합물을 혼합한 혼합물일 수 있다.Further, as a specific example, the silane compound may be a mixture of a silane compound having a functional group capable of reacting with a horse-organic compound and a silane compound having no functional group.

보다 구체적인 예로는, 유기물과 반응할 수 있는 관능기를 가지는 실란 화합물로서, 아민계 실란 화합물 또는 글리시딜계 실란 화합물 등을 들 수 있으며, 유기물과 반응할 수 있는 유기관능기를 가지지 않는 실란 화합물로서, 1,2 비스트리에톡시실릴에탄 등을 들 수 있다. 다만, 본 발명에서 사용되는 실란 화합물이 상기 예시된 물질에 한정되는 것은 아니다.More specifically, examples of the silane compound having a functional group capable of reacting with an organic compound include an amine-based silane compound and a glycidyl-based silane compound, and a silane compound having no organic functional group capable of reacting with an organic material, , 2-bistriethoxysilylethane, and the like. However, the silane compound used in the present invention is not limited to the above exemplified materials.

한편, 상기 티탄 화합물은 티타늄 원소를 함유하는 화합물이라면 제한 없이 포함할 수 있지만, 예를 들면, 질산티탄, 황산 티타닐 및 티탄락테이트로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다. 다만, 본 발명에 따른 티탄 화합물이 상기 예시된 물질에 한정되는 것은 아니다.On the other hand, the titanium compound is not limited as long as it is a compound containing a titanium element, and may include, for example, at least one selected from the group consisting of titanium nitrate, titanyl sulfate and titanium lactate. However, the titanium compound according to the present invention is not limited to the above exemplified materials.

한편, 본 발명에 따른 조성물은 pH가 3.0 내지 5.0일 수 있다.Meanwhile, the composition according to the present invention may have a pH of 3.0 to 5.0.

상기 조성물의 pH가 3.0 미만인 경우, 과도한 에칭 반응으로 인하여 상층에 유효한 부동태 피막을 생성하기 어려울 수 있으며, 이에 따라 내식성 및 윤활특성이 제대로 발휘되지 못할 우려가 있고, pH가 5.0을 초과하는 경우, 일부 에칭 반응이 충분하지 못하여 상층에 유효한 부동태 피막을 형성하지 못하는 결함이 발생할 수 있으며, 이에 따라 내식성이 저하될 우려가 있다.If the pH of the composition is less than 3.0, it may be difficult to produce an effective passivation film on the upper layer due to excessive etching reaction, thereby failing to exhibit corrosion resistance and lubrication characteristics. If the pH exceeds 5.0, The etching reaction may not be sufficient and defects may be formed which can not form an effective passive film on the upper layer, which may lower the corrosion resistance.

또한, 본 발명에 따른 조성물은 pH를 상기 수치범위 내로 조절하기 위하여 pH 조절을 위한 첨가제를 첨가할 수 있으며, 그 종류가 특별히 제한되는 것은 아니지만, 예를 들면, 인산, 불산 등과 같은 무기산 또는 초산, 구연산 등과 같은 유기산을 첨가할 수 있다.In addition, the composition according to the present invention may be added with an additive for controlling the pH to adjust the pH within the above-mentioned range, and the kind thereof is not particularly limited. For example, an inorganic acid such as phosphoric acid, Citric acid and the like may be added.

본 발명은 또한, 기재; 및 상기 기재 상에 형성된 피막층을 포함하되, 상기 피막층은 본 발명에 따른 조성물에 의하여 형성되는 금속재료에 관한 것이다.The invention also relates to a substrate; And a coating layer formed on the substrate, wherein the coating layer is formed by the composition according to the present invention.

본 발명에 따른 금속재료에서, 『상기 조성물에 의하여 형성되는 피막층』은, 상기 조성물을 이용하여 기재를 표면처리 함으로써 상기 기재 상에 형성되는 건조 피막층을 의미하며, 상기 조성물을 기재 상에 표면처리하는 방법은 이 분야에서 공지된 다양한 표면처리방법을 모두 포함할 수 있으며, 특별히 제한되는 것은 아니지만, 예를 들면, 상기 조성물을 포함하는 표면처리 욕 내에 기재를 침지시킨 후, 건조시킴으로써 상기 기재 상에 피막층을 형성할 수 있다.In the metallic material according to the present invention, the " coating layer formed by the composition " means a dry coating layer formed on the substrate by surface treatment of the substrate using the composition, The method may include all of various surface treatment methods known in the art and includes, but is not limited to, for example, immersing the substrate in a surface treatment bath containing the composition, and then drying, Can be formed.

여기서, 상기 기재는 표면처리가 수행될 수 있는 모든 금속재료의 기재를 포 함할 수 있고, 그 종류가 제한되는 것은 아니지만, 예를 들면, 금속 강판 등일 수 있다.Here, the substrate may include a substrate of all metal materials on which surface treatment can be performed, and may be, for example, a metal sheet or the like, although the kind thereof is not limited.

상기 금속 강판은 자동차 재료, 가전제품, 건축재료 등의 용도로 이용되는 금속, 특정적으로 철판 등의 금속을 의미하는 것으로서, 이러한 목적으로 당업계에서 통상적으로 사용되는 강판이라면 어떠한 것이라도 무방하지만, 예를 들면, 냉연강판; 아연도금 강판, 아연니켈 도금강판, 아연철 도금강판, 아연티탄 도금강판, 아연마그네슘 도금강판, 아연망간 도금강판, 아연알루미늄 도금강판 등의 아연계 전기도금 강판; 용융도금강판; 알루미늄 도금강판; 마그네슘 도금강판; 또한 이들 도금층에 이종금속 또는 불순물로서, 예를 들면, 코발트, 몰리브덴, 텅스텐, 니켈, 티탄, 알루미늄, 망간, 철, 마그네슘, 주석, 동 등을 함유한 도금 강판; 또한 이들 도금층에 실리카, 알루미나 등의 무기물을 분산시킨 도금강판; 또는 실리콘, 동, 마그네슘, 철, 망간, 티탄, 아연 등을 첨가한 알루미늄 합금판; 마그네슘 합금판; 인산염이 도포된 아연도금강판; 또는 열연강판 등을 사용할 수 있고, 필요에 따라 상기 도금 중에 2종류 이상을 순차적으로 처리한 다층 도금판을 사용할 수 있다.The metal plate refers to a metal used for automobile materials, household appliances, building materials and the like, specifically, a metal such as an iron plate. Any steel plate commonly used in the art may be used for this purpose. For example, cold rolled steel sheets; Galvanized electroplated steel sheets such as galvanized steel sheets, zinc-nickel-plated steel sheets, zinc-iron-plated steel sheets, zinc-titanium-coated steel sheets, zinc-magnesium coated steel sheets, zinc manganese-coated steel sheets and zinc- Hot - dip galvanized steel; Aluminum-plated steel sheet; Magnesium-plated steel sheet; A plating steel sheet containing a different metal or an impurity such as cobalt, molybdenum, tungsten, nickel, titanium, aluminum, manganese, iron, magnesium, tin or copper in these plating layers; A coated steel sheet in which inorganic substances such as silica and alumina are dispersed in these plating layers; Or an aluminum alloy plate to which silicon, copper, magnesium, iron, manganese, titanium, zinc or the like is added; Magnesium alloy plate; Galvanized steel plates coated with phosphate; Or a hot-rolled steel sheet may be used. If necessary, a multi-layered plating plate obtained by sequentially treating two or more kinds of the above-mentioned platings may be used.

또한, 구체적인 예로는, 상기 금속강판은 마그네슘 도금강판, 마그네슘 합금판, 알루미늄 합금판 또는 스테인리스일 수 있고, 보다 구체적으로는 마그네슘 도금강판 또는 마그네슘 합금판일 수 있다.As a concrete example, the metal sheet may be a magnesium-coated steel sheet, a magnesium alloy sheet, an aluminum alloy sheet, or stainless steel, and more specifically, a magnesium-coated steel sheet or a magnesium alloy sheet.

이와 같이, 본 발명에 따른 금속재료는 다양한 산업 분야에 유용하게 사용될 수 있으며, 구체적인 예를 들면, 전자기기 내부부품용 합금 등으로 사용될 수 있다. 즉, 상기 본 발명에 따른 금속재료는 표면전기저항이 낮고, 방청처리 후에도 미려한 외관을 유지할 수 있는 우수한 광택도를 가지므로 전자기기 내부부품용 합금 등으로 사용되는 경우, 저항성 및 장식성이 우수한 제품으로 유용하게 활용될 수 있다.As described above, the metal material according to the present invention can be usefully used in various industrial fields. For example, it can be used as an alloy for internal parts of electronic devices. That is, since the metal material according to the present invention has a low surface electric resistance and an excellent gloss that can maintain a beautiful appearance even after the rust-preventive treatment, it is excellent in resistance and decorative property when used as an alloy for internal parts of electronic devices Can be usefully used.

여기서, 본 발명에 따른 금속재료는, 표면전기저항이 0.001 mΩ 내지 2 Ω일 수 있고, 구체적으로는 0.001 mΩ 내지 1 Ω일 수 있으며, 보다 구체적으로는 0.001 mΩ 내지 0.5 Ω일 수 있다.Here, the metal material according to the present invention may have a surface electrical resistance of 0.001 m? To 2?, Specifically 0.001 m? To 1?, More specifically 0.001 m? To 0.5?.

상기 표면전기저항이 0.001 mΩ 미만인 경우, 화학반응이 충분히 일어나지 않을 수 있기 때문에 내식성 등과 같은 다른 물성 향상효과가 나타나지 않을 우려가 있고, 2 Ω을 초과하는 경우, 표면전기저항이 너무 높아 활용성이 크게 저하될 우려가 있을 뿐 아니라, 전자기기 내부부품 등과 같이 낮은 전기저항이 요구되는 제품에 적용하기 어려울 수 있다.If the surface electrical resistance is less than 0.001 m OMEGA, the chemical reaction may not sufficiently take place, and other properties such as corrosion resistance may not be improved. When the surface electrical resistance is more than 2 OMEGA, surface electrical resistance is too high, It may be difficult to apply to a product which requires a low electric resistance such as an internal part of an electronic device.

본 발명에서 『표면전기저항』이란, 금속재료의 표면에서 전류의 흐름을 방해하는 정도를 나타내는 물리량을 의미한다.In the present invention, the term " surface electrical resistance " means a physical quantity that indicates the degree of impeding the flow of current at the surface of the metal material.

이와 같은 표면전기저항을 측정하는 방법은 당해 기술 분야에서 통상적으로 사용되는 표면전기저항의 측정방법을 모두 포함할 수 있으나, 구체적으로 표면전기저항 측정기(Loresta GP, 4-probe)를 통하여 측정한 값일 수 있다.Such a method for measuring the surface electrical resistance may include all methods for measuring the surface electrical resistance commonly used in the related art. Specifically, the surface electrical resistance may be measured using a surface electric resistance meter (Loresta GP, 4-probe) .

또한, 본 발명에 따른 금속재료는 60° 광택 등급이 200 GU 내지 400 GU일 수 있고, 바람직하게는 211 GU 내지 400 GU일 수 있으며, 보다 바람직하게는 260 GU 내지 400 GU일 수 있다.In addition, the metal material according to the present invention may have a 60 ° gloss grade of 200 GU to 400 GU, preferably 211 GU to 400 GU, more preferably 260 GU to 400 GU.

본 발명에서, 상기 『60° 광택 등급』이란, 이 분야에서 공지된 일반적인 광택도 측정기를 가지고, 버핑 방향을 60°각도로 하여 측정한 값을 의미한다.In the present invention, the " 60 ° gloss grade " means a value measured with a general gloss meter known in the art, with the buffing direction at an angle of 60 °.

이와 같이, 측정된 60° 광택 등급이 200 GU 미만인 경우, 버핑 및 헤어라인 직후 판재표면의 광택도와 대비하여 낮은 광택도를 나타내는 것이므로 광택을 살린 의장용 판재 등에 사용하기 어려울 수 있고, 400 GU를 초과하는 경우, 에칭 반응이 너무 활성화되어 유효한 무기물 코팅이 원활하게 이루어지지 않을 수 있어 내식성, 도막 밀착성 등의 물성 향상효과가 제대로 발휘되지 않을 우려가 있다.As described above, when the measured 60 ° gloss grade is less than 200 GU, since it shows a low glossiness compared to the glossiness of the plate surface immediately after the buffing and hair line, it may be difficult to use in the glossy plate and the like, , The etching reaction may be excessively activated, the effective inorganic coating may not be smoothly performed, and the effect of improving the physical properties such as corrosion resistance and coating film adhesion may not be exhibited properly.

여기서, 상기 본 발명에 따른 금속재료의 표면처리방법은, 상기한 바와 같은 조성물에 의하여 기재 상에 피막층을 형성하는 모든 공지된 표면처리방식을 포함할 수 있으며, 특별히 제한되는 것은 아니지만, 예를 들면, 본 발명에 따른 조성물을 함유하는 표면처리 욕에 기재를 침지시키는 제 1단계; 및 상기 침지 처리된 기재를 건조시키는 제 2단계를 포함할 수 있다.Here, the method for surface treatment of the metallic material according to the present invention may include all known surface treatment methods for forming a coating layer on a substrate by the above-mentioned composition, and is not particularly limited. For example, , A first step of immersing the substrate in a surface treatment bath containing the composition according to the present invention; And a second step of drying the immersed base material.

이 경우, 상기 제 1단계에서 상기 표면처리 욕에 기재를 침지시키는 시간은 특별히 제한되는 것은 아니고, 용도 및 적용되는 조성물의 함량에 따라 이 분야에서 공지된 방법에 따라 적절하게 조절할 수 있는 것이지만, 예를 들면, 10초 내지 40초 동안 수행할 수 있고, 보다 구체적으로는 10초 내지 25초 동안 수행할 수 있다.In this case, the time for immersing the substrate in the surface treatment bath in the first step is not particularly limited, and can be appropriately adjusted according to the method known in the art depending on the application and the content of the composition to be applied. However, For example, it may be carried out for 10 seconds to 40 seconds, more specifically for 10 seconds to 25 seconds.

상기 침지 시간이 10초 미만인 경우, 방청 처리가 잘 이루어지지 않을 우려가 있고, 40초를 초과하는 경우, 광택도와 도막 밀착성이 저하될 우려가 있다.If the immersion time is less than 10 seconds, the anti-rust treatment may not be performed well, and if it exceeds 40 seconds, the gloss and the film adhesion may be deteriorated.

또한, 침지 처리된 기재를 건조시키는 방법도 이 분야에서 기재 상에 피막층 을 형성하기 위하여 사용될 수 있는 다양한 공지의 건조 및 고화 방식이 이용될 수 있고, 건조 도막량 또한 특별히 제한되는 것은 아니지만, 예를 들면, 10 내지 1000 mg/㎡의 건조 도막량으로 도포할 수 있고, 구체적으로는 30 내지 500 mg/㎡의 건조 도막량으로 도포할 수 있다.In addition, a method of drying the immersed substrate may be various known drying and solidifying methods that can be used to form a coating layer on the substrate in this field, and the amount of the dried coating film is not particularly limited, , It can be applied with a dry coating amount of 10 to 1000 mg / m 2, specifically, 30 to 500 mg / m 2.

여기서, 상기 건조 도막량이 10 mg/㎡ 미만인 경우, 내식성 및 가공성 등이 감소될 우려가 있고 1000 mg/㎡을 초과하면 용접성 및 윤활성이 감소할 우려가 있다.If the dry film amount is less than 10 mg / m 2, the corrosion resistance and workability may be reduced. If the dry film amount is more than 1000 mg / m 2, the weldability and lubricity may decrease.

이하, 하기 실시예를 통하여 본 발명을 보다 상세하게 설명하고자 한다. 다만, 본 발명이 하기 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the following examples. However, the present invention is not limited by the following examples.

[실시예 1][Example 1]

0.06mol의 불화지르코늄 10 중량부, 0.1 mol의 바나듐산 나트륨 30 중량부 및 2.0 mol의 불산 40 중량부로 이루어진 혼합물을 물 1000ml와 혼합하여 금속표면처리용 코팅용액을 준비한 후, 상기 금속표면처리용 코팅액에 판 두께 0.6 mm인 마그네슘 합금 판재를 20초 동안 침지 처리(bonderite NT-1, Henkel)하여 부동태 피막을 형성시켰다. 이어서, 상기 마그네슘 합금 판재를 수세하고, 압축공기 또는 60 내지 120℃의 온도로 오븐을 통과시킴으로써 소부 건조시켜 후처리된 마그네슘 합금 판재를 제조하였다.10 parts by weight of 0.06 mol of zirconium fluoride, 30 parts by weight of 0.1 mol of sodium vanadate and 40 parts by weight of 2.0 mol of hydrofluoric acid was mixed with 1000 mL of water to prepare a coating solution for metal surface treatment, A magnesium alloy sheet having a thickness of 0.6 mm was immersed for 20 seconds (bonderite NT-1, Henkel) to form a passive film. Next, the magnesium alloy sheet material was washed with water and then baked by passing through an oven at a temperature of 60 to 120 DEG C to produce a post-treated magnesium alloy sheet material.

[실시예 2 내지 11][Examples 2 to 11]

하기 표 1과 같은 조성으로 이루어진 코팅용액을 이용하고, 침지시간을 변화시켰다는 점을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 마그네슘 합금 판재를 제조하였다.A magnesium alloy sheet material was prepared in the same manner as in Example 1, except that the coating solution having the composition shown in Table 1 was used and the immersion time was changed.

아울러, 상기 실시예 1 내지 11에서 사용된 코팅용액 내에 함유되어 있는 불소 원소의 함량을 기준으로 주요 금속 성분의 함량을 하기 표 2에 나타내었다.The contents of the main metal components based on the contents of the fluorine elements contained in the coating solution used in Examples 1 to 11 are shown in Table 2 below.

실시예Example AA BB C1C1 C2C2 DD E1E1 E2E2 E3E3 E4E4 E5E5 E6E6 E7E7 pHpH 침지시간
(초)
Immersion time
(second)
1One 10001000 1010 -- -- 3030 4040 -- -- -- -- -- -- 3.503.50 2020 22 10001000 1010 -- -- 6060 4040 55 1010 44 -- -- 3232 3.343.34 1010 33 10001000 1010 1010 4040 6060 8080 -- -- -- -- -- -- 3.493.49 4040 44 10001000 1010 1010 4040 6060 5656 -- -- -- -- -- 1616 4.304.30 2020 55 10001000 1010 -- -- 6060 2828 -- 2020 -- 1010 -- 1616 4.204.20 1010 66 10001000 1010 -- -- 4545 5656 -- -- -- 1010 -- 3232 4.144.14 1010 77 10001000 1010 1010 5555 4545 5656 -- 1010 44 -- -- 6464 3.413.41 1010 88 10001000 1010 1010 5555 4545 5656 22 1010 -- 1010 -- 3232 3.973.97 1010 99 10001000 1010 1010 5555 -- 120120 -- -- -- -- -- -- 4.464.46 1010 1010 10001000 1515 1010 4040 4545 4040 55 2020 1010 2020 -- 3232 3.873.87 1010 1111 10001000 1212 -- 7575 -- 4040 -- -- 2020 1010 44 4848 3.683.68 1010

단위: 중량부Unit: parts by weight

A: 물(H2O)A: water (H 2 O)

B: 불화지르코늄(ZrF4) 10g/LB: Zirconium fluoride (ZrF 4 ) 10 g / L

C1: 3가 세륨 화합물(Ce(NO3)3 (Ⅲ)·6H2O) 0.05 molC1: the cerium compound 3 (Ce (NO 3) 3 ( Ⅲ) · 6H 2 O) 0.05 mol

C2: 3가 세륨 화합물 및 4가 세륨 화합물의 1:1 혼합물 (Ce(NO3)3 (Ⅲ/Ⅳ)·6H2O) 0.05 molC2: 3 and 4, the cerium compound is a cerium compound. 1: 1 mixture of (Ce (NO 3) 3 ( Ⅲ / Ⅳ) · 6H 2 O) 0.05 mol

D: 바나듐산 나트륨(NaVO3) 0.1 molD: sodium vanadium (NaVO 3) 0.1 mol

E1: 불산(HF) 2.0 molE1: 2.0 mol of hydrofluoric acid (HF)

E2: 헥사플루오로 인산(HPF6) 0.25 molE2: 0.25 mol of hexafluorophosphoric acid (HPF 6 )

E3: 플루오로 인산(H2PO3F) 0.5 molE3: 0.5 mol of fluorophosphoric acid (H 2 PO 3 F)

E4: 헥사플루오로 지르콘산(H2ZrF6) 0.5 molE4: 0.5 mol of hexafluorozirconic acid (H 2 ZrF 6 )

E5: 나트륨 헥사플루오로 티타네이트(Na2TiF6) 0.08 molE5: sodium hexafluoro titanate (Na 2 TiF 6) 0.08 mol

E6: 나트륨 헥사플루오로 지르코네이트(Na2ZrF6) 0.2 molE6: zirconate as sodium hexafluoro carbonate (Na 2 ZrF 6) 0.2 mol

E7: 플루오로 규산(H2SiF6) 0.2 molE7: 0.2 mol of fluorosilicic acid (H 2 SiF 6 )

실시예Example 불소(F)Fluorine (F) 지르코늄(Zr)Zirconium (Zr) 세륨(Ce)Cerium (Ce) 바나듐(V)Vanadium (V) 티탄(Ti)Titanium (Ti) 규소(Si)Silicon (Si) 1One 100100 3.483.48 -- 9.779.77 -- -- 22 100100 8.578.57 -- 11.0811.08 -- 6.496.49 33 100100 1.771.77 11.3411.34 9.929.92 -- -- 44 100100 2.152.15 13.7913.79 12.0612.06 -- 3.533.53 55 100100 3.103.10 -- 17.4317.43 2.192.19 5.105.10 66 100100 1.821.82 -- 7.667.66 1.281.28 5.985.98 77 100100 5.985.98 11.5011.50 5.805.80 -- 9.069.06 88 100100 1.731.73 14.4614.46 7.297.29 1.221.22 5.705.70 99 100100 1.181.18 9.889.88 -- -- -- 1010 100100 15.7715.77 10.2910.29 6.756.75 2.262.26 5.275.27 1111 100100 26.2626.26 13.1513.15 -- 0.960.96 6.736.73

단위: 중량부Unit: parts by weight

[실험예] [Experimental Example]

1. 광택도 테스트1. Gloss test

광택도 측정기를 이용하여 버핑 방향 60°각도로 버핑 처리만을 수행하고 표면처리를 수행하지 않은 마그네슘 합금 판재 원판 및 실시예 1 내지 11에 따른 마그네슘 합금 판재에 대한 광택도를 측정한 값(GU)을 가지고 광택도를 평가하고, 그 결과를 하기 표 3 및 표 4에 나타내었다.A buffing process was performed only at an angle of 60 ° in the buffing direction using a gloss meter, and the value (GU) of the gloss of the magnesium alloy plate, which had not been subjected to the surface treatment, and the magnesium alloy plate according to Examples 1 to 11, The results are shown in Tables 3 and 4 below.

평가기준 ◎: 260이상, ○: 211~260, △: 160~210, ×: 159이하Evaluation criterion?: 260 or more,?: 211 to 260,?: 160 to 210, 占: 159 or less

2. 표면전기저항 테스트2. Surface electrical resistance test

표면전기저항 측정기(Loresta GP, 4-probe)를 가지고 버핑 처리만을 수행하고 표면처리를 수행하지 않은 마그네슘 합금 판재 원판 및 실시예 1 내지 11에 따른 마그네슘 합금 판재에 대한 표면전기저항(Ω)을 측정하고, 그 결과를 하기 표 3 및 표 4에 나타내었다.The surface electrical resistance (Ω) of the magnesium alloy sheet according to Examples 1 to 11 was measured with a surface electric resistance meter (Loresta GP, 4-probe) only for the buffing treatment and without the surface treatment And the results are shown in Tables 3 and 4 below.

평가기준 ◎: 0.05이하, ○: 0.06~1.0, △: 1.1~1.5, ×: 1.6이상Evaluation criterion?: 0.05 or less,?: 0.06 to 1.0,?: 1.1 to 1.5, x: 1.6 or more

3. 내식성 테스트3. Corrosion resistance test

JIS Z2371 규격의 염수분무시험 결과 5% 발청 발생시점(시간)을 가지고 실시예 1 내지 11에 따른 마그네슘 합금 판재에 대하여 하기 평가기준에 따라 내식성을 평가하여 표 4에 나타내었다.The corrosion resistance of the magnesium alloy sheets according to Examples 1 to 11 was evaluated in accordance with the following evaluation criteria with the time point (time) of 5% tingling occurrence as a result of the salt spray test according to JIS Z2371 standard.

평가기준 ◎: 18 초과, ○: 12~18, △: 6~11, ×: 6 미만Evaluation criteria ⊚: more than 18, ∘: 12 to 18, Δ: 6 to 11, ×: less than 6

4. 도막 밀착성 테스트4. Coating film adhesion test

실시예 1 내지 11에 따른 마그네슘 합금 판재에 Alkyd 소부 경화도료를 사용하여 건조 막을 형성하고 20 내지 25㎛의 두께로 스프레이 도장을 실시하였다. 이어서, 15 내지 160℃의 온도에서 15분간 소부 경화하고, 24시간 이상이 경과한 후, 항온 수조 98℃에 30분간 침전시킨 다음 꺼내어 물기를 제거하고, 상온에서 2 시간 동안 방치한 후, 외관상태를 확인하고, 1 × 1 mm 100 scale, cross-cut 테스트 실시결과를 가지고 다음과 같이 평가하였다(3M 테이프 박리 시험 후, 100개 scale 중 박리된 양상(눈금 수 또는 이에 상응하는 면적)을 가지고 평가함).A dry film was formed on the magnesium alloy sheet materials according to Examples 1 to 11 using an Alkyd sintered curing paint, and spray coating was performed to a thickness of 20 to 25 탆. Subsequently, after curing for 15 minutes at a temperature of 15 to 160 캜 for more than 24 hours, it was precipitated in a constant temperature water bath at 98 캜 for 30 minutes, then taken out to remove moisture, left at room temperature for 2 hours, (1 × 1 mm 100 scale, cross-cut test). The results were evaluated as follows (after 3M tape peel test, 100 peeled patterns (the number of scales or equivalent area) box).

그 결과, 도막 밀착성은 표 4와 같이 나타났다.As a result, the film adhesion was as shown in Table 4.

평가기준 ◎: 0(미박리), ○: 1~2, △: 3~5, ×: 6 이상Evaluation criterion?: 0 (peeled off),?: 1 to 2,?: 3 to 5, x: 6 or more

색차Color difference 광택도
(60°)
Glossiness
(60 DEG)
표면저항
(Ω)
Surface resistance
(Ω)
L*L * a*a * b*b * 원판negative 73.1473.14 -0.62-0.62 6.826.82 262262 0.051 ×10-3 0.051 10 -3 실시예 1Example 1 78.2578.25 -0.65-0.65 2.432.43 319319 0.034 ×10-3 0.034 x 10 -3 실시예 2Example 2 77.0577.05 -0.38-0.38 2.992.99 266266 0.035 ×10-3 0.035 x 10 -3 실시예 3Example 3 78.2178.21 -1.07-1.07 3.873.87 362362 0.035 ×10-3 0.035 x 10 -3 실시예 4Example 4 78.0678.06 -0.38-0.38 3.303.30 297297 0.034 ×10-3 0.034 x 10 -3 실시예 5Example 5 75.6475.64 -0.97-0.97 5.305.30 266266 0.034 ×10-3 0.034 x 10 -3 실시예 6Example 6 78.5478.54 -0.77-0.77 2.702.70 284284 0.034 ×10-3 0.034 x 10 -3 실시예 7Example 7 79.0879.08 -1.14-1.14 4.144.14 369369 0.034 ×10-3 0.034 x 10 -3 실시예 8Example 8 79.1079.10 -0.75-0.75 3.433.43 333333 0.034 ×10-3 0.034 x 10 -3 실시예 9Example 9 78.4678.46 -0.88-0.88 1.641.64 322322 0.034 ×10-3 0.034 x 10 -3 실시예 10Example 10 75.8275.82 1.521.52 2.852.85 332332 0.035 ×10-3 0.035 x 10 -3 실시예 11Example 11 77.5177.51 -0.71-0.71 5.185.18 345345 0.034 ×10-3 0.034 x 10 -3

광택도Glossiness 표면저항Surface resistance 내식성Corrosion resistance 도막 밀착성Coating film adhesion 실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 실시예 4Example 4 실시예 5Example 5 실시예 6Example 6 실시예 7Example 7 실시예 8Example 8 실시예 9Example 9 실시예 10Example 10 실시예 11Example 11

Claims (17)

(A) 불소 화합물;(A) a fluorine compound; (B) 지르코늄 화합물; 및(B) a zirconium compound; And (C) 세륨 화합물 또는 바나듐 화합물 중에서 선택된 1종 이상의 화합물을 포함하되,(C) at least one compound selected from a cerium compound or a vanadium compound, 각 성분의 함량 비율은, The content ratio of each component, (A) 불소 원소 100 중량부를 기준으로, (A) 100 parts by weight of a fluorine element, (B) 지르코늄 원소의 함량은, 불소 원소 100 중량부에 대하여, 1 중량부 내지 30 중량부이고,(B) the content of the zirconium element is 1 part by weight to 30 parts by weight relative to 100 parts by weight of the fluorine element, (C) 세륨 및 바나듐 원소는, 불소 원소 100 중량부에 대하여, 세륨 원소 5 중량부 내지 30 중량부; 및 바나듐 원소 5 중량부 내지 40 중량부 중 1 종 이상을 포함하는(C) the cerium and the vanadium element are contained in an amount of 5 to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of the fluorine element, of the cerium element; And 5 to 40 parts by weight of a vanadium element 마그네슘 합금 표면처리용 조성물.Compositions for surface treatment of magnesium alloys. 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, (A) 불소 화합물은 불산, 헥사플루오로 인산, 플루오로 인산, 플루오로 규산, 헥사플루오로 지르콘산, 나트륨 헥사플루오로 지르코네이트 및 나트륨 헥사플루오로 티타네이트으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.(A) the fluorine compound includes at least one selected from the group consisting of hydrofluoric acid, hexafluorophosphoric acid, fluorophosphoric acid, fluorosilicic acid, hexafluorozirconic acid, sodium hexafluorozirconate and sodium hexafluorotitanate ≪ / RTI > 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, (A) 불소 화합물은 불산을 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.(A) the fluorine compound comprises hydrofluoric acid. 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, (B) 지르코늄 화합물은 불화지르코늄, 질산 지르코닐, 아세트산 지르코닐, 탄산 지르코닐 암모늄, 지르코늄 아세틸아세토네이트, 불화칼륨 지르코늄, 산화지르코늄, 지르코늄 불화수소산, 지르코늄 불화 암모늄 및 수산화 불화지르코늄으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.(B) the zirconium compound is selected from the group consisting of zirconium fluoride, zirconyl nitrate, zirconyl acetate, zirconyl ammonium carbonate, zirconium acetylacetonate, potassium zirconium fluoride, zirconium oxide, zirconium hydrofluoric acid, zirconium ammonium fluoride and zirconium fluoride zirconium hydroxide ≪ / RTI > 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, (B) 지르코늄 화합물은 불화지르코늄을 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.(B) the zirconium compound comprises zirconium fluoride. 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, 세륨 화합물은 3가 세륨 화합물, 4가 세륨 화합물 또는 이들의 혼합물 중 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.Wherein the cerium compound comprises at least one of a trivalent cerium compound, a tetravalent cerium compound, or a mixture thereof. 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, 바나듐 화합물은 바나듐산 나트륨, 바나듐산 암모늄, 질화 바나듐 및 산화 바나듐으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 조성물.Wherein the vanadium compound is at least one selected from the group consisting of sodium vanadate, ammonium vanadium, vanadium nitride and vanadium oxide. 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, 전체 고형분 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 2 중량부의 불소 원소를 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.And 0.01 to 2 parts by weight of a fluorine element based on 100 parts by weight of the total solid content. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, (D) 실란 화합물 또는 티탄 화합물을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.(D) a silane compound or a titanium compound. 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, pH가 3.0 내지 5.0인 것을 특징으로 하는 조성물.wherein the pH is from 3.0 to 5.0. 마그네슘 합금; 및 상기 마그네슘 합금 상에 형성된 피막층을 포함하되,Magnesium alloy; And a coating layer formed on the magnesium alloy, 상기 피막층은 제 1 항 내지 제 8 항, 제 12 항 및 제 13 항 중 어느 한 항에 따른 조성물에 의하여 형성되는 금속재료.Wherein the coating layer is formed by the composition according to any one of claims 1 to 8, 12 and 13. 삭제delete 제 14 항에 있어서,15. The method of claim 14, 표면전기저항이 0.001 mΩ 내지 2 Ω인 것을 특징으로 하는 금속재료.And a surface electric resistance of 0.001 m? To 2?. 제 14 항에 있어서,15. The method of claim 14, 60° 광택 등급이 200 GU 내지 400 GU인 것을 특징으로 하는 금속재료.Wherein the 60 ° gloss grade is from 200 GU to 400 GU.
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