KR101539059B1 - moving type plasma apparatus - Google Patents

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KR101539059B1
KR101539059B1 KR1020140116167A KR20140116167A KR101539059B1 KR 101539059 B1 KR101539059 B1 KR 101539059B1 KR 1020140116167 A KR1020140116167 A KR 1020140116167A KR 20140116167 A KR20140116167 A KR 20140116167A KR 101539059 B1 KR101539059 B1 KR 101539059B1
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양창실
김태룡
박종인
권기청
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Abstract

The present invention relates to a moving type plasma apparatus and, more particularly, to a moving type plasma apparatus capable of texturing a substrate by moving a plasma source unit which generates plasma. The moving type plasma apparatus according to the present invention includes a tray which includes a substrate arranged on an upper side thereof, the plasma source unit which generates the plasma and radiates the plasma in the arrangement direction of the tray, and a moving unit which linearly moves the plasma source unit with regard to the tray. The plasma source unit linearly moves and radiates the plasma on the substrate which is loaded on the tray.

Description

이동형 플라즈마 장치 { MOVING TYPE PLASMA APPARATUS }[0001] MOVING TYPE PLASMA APPARATUS [0002]

본 발명은 이동형 플라즈마 장치에 관한 것으로서, 특히 플라즈마를 발생시키는 플라즈마소스부가 이동하여 기판을 텍스쳐링하는 이동형 플라즈마 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a portable plasma apparatus, and more particularly to a portable plasma apparatus in which a plasma source portion for generating a plasma moves and textures a substrate.

태양전지는 PN접합 반도체의 내부에서 태양광에 의해 여기된 소수캐리어에 의해 기전력이 발생하는 소자이다.A solar cell is an element in which an electromotive force is generated by a minority carrier excited by sunlight inside a PN junction semiconductor.

이러한 태양전지를 제조하는데 사용되는 반도체에는 단결정실리콘, 다결정실리콘, 비정질실리콘, 화합물반도체 등이 있다.Semiconductors used for manufacturing such solar cells include monocrystalline silicon, polycrystalline silicon, amorphous silicon, and compound semiconductors.

단결정실리콘이 에너지 변환효율이 가장 좋긴 하지만 가격이 비싼 단점 때문에 다결정실리콘이 보다 많이 사용되고, 최근에는 비정질실리콘이나 화합물반도체 등의 박막을 유리나 플라스틱 등의 값싼 기판에 증착함으로써 매우 저렴하게 제조할 수 있는 박막형 태양전지도 많이 사용되고 있다.Although monocrystalline silicon has the best energy conversion efficiency, polycrystalline silicon is used more frequently because of its disadvantage that it is expensive. Recently, a thin film type which can be manufactured at a very low cost by depositing a thin film of amorphous silicon or compound semiconductor on an inexpensive substrate such as glass or plastic Solar cells are also being used a lot.

이러한 태양전지 등을 제조함에 있어서, 광 흡수율을 높이기 위하여 기판에 표면에 대하여 텍스쳐링 공정을 실시한다.In manufacturing such solar cells and the like, a texturing process is performed on the surface of the substrate in order to increase the light absorptivity.

텍스쳐링은 기판의 표면에 소정 형상의 미세한 요철을 형성하는 공정으로서, 요철 형상은 주로 피라미드형태인 것이 바람직하다.Texturing is a step of forming fine irregularities of a predetermined shape on a surface of a substrate, and the irregular shape is preferably a pyramid shape.

이러한 텍스쳐링 공정을 수행하기 위해, 종래에는 플라즈마를 발생시키는 플라즈마소스부가 고정되고, 기판이 컨베이어 등을 통해 이동하였다.In order to perform such a texturing process, conventionally, a plasma source portion for generating a plasma is fixed, and the substrate is moved through a conveyor or the like.

따라서, 기판을 플라스마로 텍스쳐링 하기 전에 투입하기 위한 공간과, 텍스쳐링 한 후의 배출공간이 필요하였는바, 장치의 전체적인 크기 커지게 되는 단점이 있었다.Therefore, there is a disadvantage that the space for inputting the substrate before texturing with the plasma and the exhausting space after texturing are required, which increases the overall size of the apparatus.

대한민국 공개특허 제10-2011-0010294호Korean Patent Publication No. 10-2011-0010294

본 발명은 전술한 문제점을 해결하기 위한 것으로써, 기판을 텍스쳐링하기 위한 플라즈마 장치의 전체적인 크기를 작게 할 수 있는 이동형 플라즈마 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a portable plasma apparatus capable of reducing the overall size of a plasma apparatus for texturing a substrate.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 이동형 플라즈마 장치는, 상면에 기판이 배치되는 트레이와; 플라즈마를 발생시켜 상기 트레이가 배치된 방향으로 방사하는 플라즈마소스부와; 상기 트레이에 대하여 상기 플라즈마소스부를 직선이동시키는 이동부;를 포함하여 이루어지되, 상기 플라즈마소스부는 직선이동하면서 상기 트레이에 놓인 상기 기판에 플라즈마를 방사하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a portable plasma apparatus comprising: a tray having a substrate disposed on an upper surface thereof; A plasma source part for generating a plasma to radiate in a direction in which the tray is disposed; And a moving unit that linearly moves the plasma source unit with respect to the tray, wherein the plasma source unit radiates plasma to the substrate placed on the tray while linearly moving.

상기 플라즈마소스부와 전원공급부를 연결하여 임피던스를 조절하는 매처(Matcher)를 더 포함하여 이루어지되, 상기 전원공급부 및 매처는 고정되고 상기 플라즈마소스부가 이동된다.And a matcher for adjusting the impedance by connecting the plasma source unit and the power supply unit, wherein the power supply unit and the matcher are fixed and the plasma source unit is moved.

상기 플라즈마소스부와 매처는 동축케이블로 연결된다.The plasma source portion and the matrices are connected by a coaxial cable.

상기 이동부는, 상기 플라즈마소스부에 장착되고 관통공이 형성된 이동블럭과; 상기 관통공을 관통하는 스크류와; 상기 스크류를 회전시키는 구동모터로 이루어지되, 상기 관통공의 내주면과 상기 스크류의 외주면은 상호 나사결합되어, 상기 구동모터의 회전에 의해 상기 플라즈마소스부가 직선이동한다.The moving unit includes: a moving block mounted on the plasma source unit and having a through hole; A screw penetrating through the through hole; And an inner circumferential surface of the through hole and an outer circumferential surface of the screw are screwed to each other, and the plasma source moves linearly by rotation of the driving motor.

상기 트레이가 상부에 결합되고 상면이 개방된 하부챔버와; 상기 하부챔버의 상부에 결합되고 하면이 개방된 상부챔버를 더 포함하여 이루어지되, 상기 하부챔버와 상부챔버는 상호 결합되어 내부에 챔버부를 형성하고, 상기 플라즈마소스부는 상기 챔버부의 내부에서 상기 트레이의 상면에 놓인 기판에 플라즈마를 방사한다.A lower chamber coupled to the tray at an upper portion thereof and opened at an upper surface thereof; And a lower chamber coupled to an upper portion of the lower chamber, wherein the lower chamber and the upper chamber are coupled to each other to form a chamber portion therein, and the plasma source portion is disposed inside the chamber portion, The plasma is radiated onto the substrate placed on the upper surface.

상기 플라즈마소스부와 전원공급부를 연결하여 임피던스를 조절하는 매처(Matcher)를 더 포함하여 이루어지되, 상기 매처는 상기 챔버부의 외부에서 고정 배치되고, 상기 상부챔버에는 상기 플라즈마소스부의 이동방향으로 따라 이동공이 길게 형성되며, 상기 플라즈마소스부의 상부는 상기 이동공을 따라 이동한다.Further comprising a matcher for adjusting the impedance by connecting the plasma source unit and the power supply unit, wherein the matcher is fixedly disposed outside the chamber unit, and the upper chamber is moved in the moving direction of the plasma source unit The ball is formed long, and the upper portion of the plasma source portion moves along the moving hole.

상기 이동공에는 상기 플라즈마소스부의 상부의 이동방향인 전방 및 후방에 주름관이 장착되되, 상기 주름관은 상기 플라즈마소스부의 이동시 신축되어 상기 챔버부의 내부를 외부로부터 밀폐시킨다.The moving hole is provided with a corrugated tube on the front and rear sides of the upper portion of the plasma source portion. The corrugated tube expands and contracts when the plasma source portion is moved to seal the inside of the chamber portion from the outside.

상기 이동부는, 상기 하부챔버의 상면에 결합되어 상기 플라즈마소스부의 직선이동을 안내하는 제1가이드레일을 포함하여 이루어진다.The moving unit includes a first guide rail coupled to an upper surface of the lower chamber and guiding a linear movement of the plasma source unit.

상기 이동부는, 상기 상부챔버의 외부 상면에서 상기 이동공의 길이방향을 따라 결합된 제2가이드레일을 포함하여 이루어지고, 상기 상부챔버의 외부에서 상기 플라즈마소스부의 상부에는 상기 제2가이드레일에 직선이동 가능하게 결합된 가이드블럭이 장착되되, 상기 플라즈마소스부의 직선이동시 상기 가이드블럭은 상기 제2가이드레일을 따라 직선이동한다.Wherein the moving part includes a second guide rail coupled to the upper surface of the upper chamber along the longitudinal direction of the moving hole, The guide block is linearly moved along the second guide rail when the plasma source portion is linearly moved.

이상에서 설명한 바와 같은 본 발명의 이동형 플라즈마 장치에 따르면 다음과 같은 효과가 있다.According to the portable plasma apparatus of the present invention as described above, the following effects can be obtained.

본 발명은 기판이 아닌 플라즈마소스부가 이동함으로써, 기판을 투입 및 배출하기 위한 공간과 텍스쳐링하기 위한 공간이 별개로 필요 없게 되어, 전체적으로 플라즈마 텍스쳐링 장치의 크기를 줄일 수 있다.The present invention can reduce the size of the plasma texturing apparatus as a whole by moving the plasma source portion other than the substrate, thereby eliminating the space for texturing and the space for loading and unloading the substrate.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 이동형 플라즈마 장치의 사시도,
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 이동형 플라즈마 장치의 분해사시도,
도 3은 도 1의 A-A'선을 취하여 본 단면구조도,
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 이동형 플라즈마 장치의 작동과정도.1 is a perspective view of a mobile plasma apparatus according to an embodiment of the present invention,
2 is an exploded perspective view of a mobile plasma apparatus according to an embodiment of the present invention,
3 is a cross-sectional structural view taken on line A-A 'in Fig. 1,
FIG. 4 is a flowchart illustrating an operation of a mobile plasma apparatus according to an embodiment of the present invention. FIG.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 이동형 플라즈마 장치의 사시도이고, 도 2는 본 발명의 실시예에 따른 이동형 플라즈마 장치의 분해사시도이며, 도 3은 도 1의 A-A'선을 취하여 본 단면구조도이다.FIG. 1 is a perspective view of a mobile plasma apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an exploded perspective view of a mobile plasma apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 3 is a sectional view taken along line A- It is a structural diagram.

도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이 본 발명의 이동형 플라즈마 장치는, 하부챔버(11)와, 상부챔버(12)와, 트레이(20)와, 플라즈마소스부(30)와, 이동부(40)와, 매처(50) 등을 포함하여 이루어진다.1 to 3, the portable plasma apparatus of the present invention includes a lower chamber 11, an upper chamber 12, a tray 20, a plasma source unit 30, a moving unit 40 ), A matcher (50), and the like.

상기 하부챔버(11)는 하방향으로 오목하게 함몰되어 형성되고, 상면이 상방향으로 개방되어 있으며, 내부에는 상기 트레이(20)가 결합된다.The lower chamber 11 is recessed in a downward direction, the upper surface thereof is opened upward, and the tray 20 is coupled to the inside.

상기 상부챔버(12)는 상방향으로 오목하게 함몰되어 형성되고, 하면이 하방향으로 개방되어 있다.The upper chamber 12 is recessed upwardly, and the lower surface of the upper chamber 12 is opened downward.

상기 상부챔버(12)는 상기 하부챔버(11)의 상부에 결합되어, 상기 하부챔버(11)와 상부챔버(12) 내부에 빈공간이 챔버부(15)를 형성한다.The upper chamber 12 is coupled to the upper portion of the lower chamber 11 to form a chamber 15 in the lower chamber 11 and the upper chamber 12.

그리고 상기 상부챔버(12)에는 상기 플라즈마소스부(30)의 이동방향으로 따라 이동공(13)이 길게 형성되며, 상기 플라즈마소스부(30)의 상부는 상기 이동공(13)을 따라 이동한다.A moving hole 13 is formed in the upper chamber 12 along the movement direction of the plasma source unit 30 and the upper part of the plasma source unit 30 moves along the moving hole 13 .

상기 트레이(20)는 평판 형상으로 이루어지고, 상기 챔버부(15)에서 상기 하부챔버(11)의 상부에 결합되며, 상면에 기판(60)이 배치된다.The tray 20 has a flat plate shape and is coupled to the upper portion of the lower chamber 11 in the chamber portion 15, and a substrate 60 is disposed on the upper surface.

상기 트레이(20)에는 다수개의 흡착공(21)이 형성되고 상기 흡착공(32)은 진공펌프와 연결되어, 상기 트레이(20)의 상면에 놓인 기판(60)을 상기 트레이(20)에 진공흡착시켜 고정시키도록 함이 바람직하다.A plurality of suction holes 21 are formed in the tray 20 and the suction holes 32 are connected to a vacuum pump so that the substrate 60 placed on the upper surface of the tray 20 is vacuum- It is preferable to adsorb and fix it.

상기 플라즈마소스부(30)는 플라즈마를 발생시켜 상기 트레이(20)가 배치된 방향 즉 본 실시예에서 하방향으로 플라즈마를 방사한다.The plasma source 30 generates a plasma to emit a plasma in a direction in which the tray 20 is disposed, that is, in a downward direction in the present embodiment.

즉, 상기 플라즈마소스부(30)는 상기 챔버부(15)의 내부에서 상기 트레이(20)의 상면에 놓인 기판(60)에 플라즈마를 방사한다.That is, the plasma source 30 emits plasma to the substrate 60 placed on the upper surface of the tray 20 inside the chamber part 15.

이러한 상기 플라즈마소스부(30)는 상부가 상기 상부챔버(12)에 형성된 상기 이동공(13)을 관통하여 상방향으로 노출되고, 하부는 상기 챔버부(15) 내부에 배치된다.The upper part of the plasma source part 30 is exposed upward through the moving hole 13 formed in the upper chamber 12 and the lower part is disposed inside the chamber part 15.

따라서, 상기 챔버부(15)의 내부에서 상기 플라즈마소스부(30)에서 방사된 플라즈마에 의해 상기 트레이(20)의 상부에 놓인 상기 기판(60)은 텍스쳐링된다.Thus, the substrate 60 placed on top of the tray 20 is textured by the plasma emitted from the plasma source portion 30 within the chamber portion 15.

그리고, 상기 이동공(13)에는 상기 플라즈마소스부(30)의 상부의 이동방향인 전방 및 후방에 주름관(14)이 장착되어 있다.A corrugated tube 14 is attached to the moving hole 13 at the forward and rearward directions of the upper portion of the plasma source 30.

상기 주름관(14)은 상기 플라즈마소스부(30)의 이동시 신축되어 상기 챔버부(15)의 내부를 외부로부터 밀폐시킨다.The corrugated pipe 14 expands and contracts when the plasma source part 30 is moved to seal the inside of the chamber part 15 from the outside.

상기 이동부(40)는 상기 트레이(20)에 대하여 상기 플라즈마소스부(30)를 직선이동시킨다.The moving unit 40 linearly moves the plasma source unit 30 with respect to the tray 20.

이러한 상기 이동부(40)는 상기 플라즈마소스부(30)는 직선이동하면서 상기 트레이(20)에 놓인 상기 기판(60) 전체에 플라즈마를 방사하도록 한다.The moving unit 40 causes the plasma source 30 to radiate plasma to the entire substrate 60 placed on the tray 20 while moving linearly.

즉, 상기 이동부(40)에 의해 상기 플라즈마소스부(30)는 상기 이동공(13)을 따라 직선이동하게 된다.That is, the plasma source 30 moves linearly along the moving hole 13 by the moving unit 40.

상기 이동부(40)는 다양한 구조로 이루어질 수 있으나, 본 실시예에서 상기 이동부(40)는, 이동블럭(41)과 스크류(42)와 구동모터(43) 등으로 이루어진다.The moving unit 40 may have various structures. In the present embodiment, the moving unit 40 includes a moving block 41, a screw 42, a driving motor 43, and the like.

상기 이동블럭(41)은 상기 플라즈마소스부(30)에 장착되고 관통공이 형성되어 있다.The moving block 41 is mounted on the plasma source part 30 and has a through-hole.

상기 스크류(42)는 상기 관통공을 관통하며, 상기 관통공의 내주면과 상기 스크류(42)의 외주면은 상호 나사결합되어 있다.The screw 42 passes through the through hole, and the inner peripheral surface of the through hole and the outer peripheral surface of the screw 42 are screwed to each other.

이러한 상기 스크류(42)는 상기 이동공(13)과 평행한 방향으로 배치된다.The screw (42) is disposed in a direction parallel to the moving hole (13).

상기 구동모터(43)는 상기 스크류(42)를 회전시키는 역할을 한다.The driving motor 43 rotates the screw 42.

따라서, 상기 구동모터(43)에 의해 상기 스크류(42)가 회전하게 되면, 상기 스크류(42)와 나사결합된 상기 이동블럭(41) 상기 플라즈마소스부(30)에 장착되어 있는바 상기 플라즈마소스부(30)는 상기 스크류(42) 및 이동공(13)을 따라 직선이동하게 된다.Therefore, when the screw 42 is rotated by the driving motor 43, the moving block 41 screwed with the screw 42 is mounted on the plasma source 30, The portion 30 is linearly moved along the screw 42 and the moving hole 13.

위와 같은 상기 이동부(40)는, 제1가이드레일(44)과 제2가이드레일(45) 및 가이드블럭(46)을 더 포함하여 이루어질 수 있다.The moving unit 40 may further include a first guide rail 44, a second guide rail 45, and a guide block 46.

상기 제1가이드레일(44)은 상기 하부챔버(11)의 상면에 상기 이동공(13) 및 스크류(42)와 평행하게 결합되어 상기 플라즈마소스부(30)의 직선이동을 안내한다.The first guide rail 44 is coupled to the upper surface of the lower chamber 11 in parallel with the moving hole 13 and the screw 42 to guide the linear movement of the plasma source unit 30.

상기 제2가이드레일(45)은 상기 상부챔버(12)의 외부 상면에서 상기 이동공(13)의 길이방향을 따라 상기 이동공(13)의 양측에 길게 결합된다.The second guide rail 45 is coupled to both sides of the moving hole 13 along the longitudinal direction of the moving hole 13 on the outer upper surface of the upper chamber 12.

상기 가이드블럭(46)은 상기 상부챔버(12)의 외부에서 상기 플라즈마소스부(30)의 상부에 결합되고, 상기 제2가이드레일(45)에 직선이동 가능하게 결합된다.The guide block 46 is coupled to an upper portion of the plasma source 30 outside the upper chamber 12 and is coupled to the second guide rail 45 in a linear movement.

따라서, 상기 플라즈마소스부(30)의 직선이동시 상기 가이드블럭(46)은 상기 제2가이드레일(45)을 따라 직선이동한다.Therefore, when the plasma source 30 is linearly moved, the guide block 46 linearly moves along the second guide rail 45.

상기 매처(50)는 상기 플라즈마소스부(30)와 전원공급부(55)를 연결하여 임피던스를 조절하는 한다.The matching unit 50 connects the plasma source unit 30 and the power supply unit 55 to adjust the impedance.

이러한 상기 매처(50)는 커패시터를 이용하여 임피던스(Impedance)를 조절함으로써 플라즈마의 안정화를 수행한다.The matcher 50 performs plasma stabilization by adjusting the impedance using a capacitor.

이때, 상기 전원공급부(55) 및 매처(50)는 고정되고, 상기 플라즈마소스부(30)는 상기 이동부(40)에 의해 이동되도록 한다.At this time, the power supply unit 55 and the matcher 50 are fixed, and the plasma source unit 30 is moved by the moving unit 40.

상기 매처(50)는 상기 챔버부(15)의 외부에서 고정 결합되도록 한다.The coater (50) is fixedly coupled to the outside of the chamber part (15).

상기 매처(50)가 고정되고 상기 플라즈마소스부(30)가 이동되도록 하기 위해, 상기 플라즈마소스부(30)와 매처(50)는 동축케이블(35)로 연결된다.The plasma source portion 30 and the mattress 50 are connected by a coaxial cable 35 so that the coherent 50 is fixed and the plasma source portion 30 is moved.

상기 매처(50)와 플라즈마소스부(30)가 동축케이블(35)로 연결됨으로써, 임피던스의 변경시 발생되는 열에 보다 잘 견디도록 할 수 있다.The coater 50 and the plasma source 30 are connected to each other by a coaxial cable 35, so that the coater cable 35 can withstand the heat generated when the impedance is changed.

즉, 상기 플라즈마소스부(30)와 기판(60) 사이의 간격에 따라 임피던스가 변경되어 열이 발생될 수 있는데, 상기 매처(50)와 플라즈마소스부(30)를 동축케이블(35)로 연결하고 있기 때문에 열저항 범위가 넓게 되어 임피던스의 변경에 따른 열에 보다 잘 견딜 수 있다.
That is, the impedance may be changed according to the distance between the plasma source 30 and the substrate 60 to generate heat. The coater 50 and the plasma source 30 are connected to each other by a coaxial cable 35 So that the thermal resistance range is widened and can withstand the heat due to the change of the impedance.

이하, 상술한 구성으로 이루어진 본 발명의 작동과정에 대하여 살펴본다.Hereinafter, an operation process of the present invention having the above-described configuration will be described.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 이동형 플라즈마 장치의 작동과정도이다.FIG. 4 is a diagram illustrating the operation and the degree of the mobile plasma apparatus according to the embodiment of the present invention.

도 4(a)에 도시된 바와 같이 상기 챔버부(15)의 내부에 배치된 상기 트레이(20)의 상부에 상기 기판(60)을 배치한다.As shown in FIG. 4 (a), the substrate 60 is disposed on the tray 20 disposed inside the chamber 15.

상기 기판(60)을 상기 트레이(20)에 배치하는 방법으로는, 상기 가이드블럭(46)을 상기 플라즈마소스부(30)의 상부에 분리한 후, 상기 하부챔버(11)를 하강시키거나 상기 상부챔버(12)를 상승시켜 상기 하부챔버(11)와 상부챔버(12)가 상호 이격되도록 하여, 그 사이를 통해 상기 기판(60)을 상기 트레이(20)에 배치하도록 한다.The method of disposing the substrate 60 on the tray 20 may include separating the guide block 46 from the upper portion of the plasma source 30 and then lowering the lower chamber 11, The upper chamber 12 is raised so that the lower chamber 11 and the upper chamber 12 are separated from each other so that the substrate 60 is disposed on the tray 20 therebetween.

상기 트레이(20)의 상부에 상기 기판(60)을 배치한 후에는 상기 이동부(40)를 작동시킨다.After the substrate 60 is disposed on the tray 20, the moving unit 40 is operated.

도 4(b)에 도시된 바와 같이 상기 구동모터(43)가 작동됨에 따라 상기 스크류(42)는 회전하게 되고, 이로 인해 상기 스크류(42)와 나사 결합된 상기 이동블럭(41)은 직선이동하게 되는데, 이때 상기 이동블럭(41)은 상기 플라즈마소스부(30)에 장착되어 있는바, 상기 플라즈마소스부(30)는 상기 스크류(42)를 따라 직선이동하게 된다.4 (b), the screw 42 is rotated as the driving motor 43 is operated, so that the moving block 41, which is screwed with the screw 42, At this time, the moving block 41 is mounted on the plasma source part 30, and the plasma source part 30 moves linearly along the screw 42.

이와 동시에 상기 플라즈마소스부(30)에 전류 및 가스가 공급되어 상기 플라즈마소스부(30)의 하부에 배치된 상기 기판(60)에 플라즈마를 방사시켜, 상기 플라즈마소스부(30)가 이동하면서 상기 기판(60) 전체를 텍스쳐링하도록 한다.At the same time, current and gas are supplied to the plasma source unit 30 to radiate plasma to the substrate 60 disposed under the plasma source unit 30, and the plasma source unit 30 is moved The entire substrate 60 is textured.

이동하는 상기 플라즈마소스부(30)는 상기 이동공(13), 제1가이드레일(44) 및 제2가이드레일(45)을 따라 직선이동하게 된다.The moving plasma source 30 moves linearly along the moving hole 13, the first guide rail 44, and the second guide rail 45.

이때, 상기 이동공(13)에는 상기 주름관(14)이 장착되어 있는바, 상기 플라즈마소스부(30)가 상기 이동공(13)을 따라 이동하더라도 상기 주름관(14)이 신축되어 상기 챔버부(15)의 내부를 외부로부터 밀폐시킬 수 있어, 상기 기판(60)의 텍스쳐링시 외부의 이물질이 상기 챔버부(15) 내부로 유입되거나 상기 챔버부(15) 내부의 가스가 외부로 방출되는 것을 방지할 수 있다.At this time, the corrugated tube 14 is mounted on the moving hole 13, and the corrugated tube 14 is expanded and contracted even when the plasma source part 30 moves along the moving hole 13, 15 can be hermetically sealed from the outside so that external foreign substances can be prevented from flowing into the chamber portion 15 during the texturing of the substrate 60 or the gas inside the chamber portion 15 is released to the outside can do.

위와 같이 본 발명은 기판(60)이 아닌 플라즈마소스부(30)가 이동함으로써, 기판(60)을 투입 및 배출하기 위한 공간과 텍스쳐링하기 위한 공간이 별개로 필요 없게 되어, 전체적으로 플라즈마 텍스쳐링 장치의 크기를 줄일 수 있다.As described above, according to the present invention, since the plasma source unit 30 is moved, not the substrate 60, a space for inputting and discharging the substrate 60 and a space for texturing are not separately required, and the size of the plasma texturing apparatus .

본 발명인 이동형 플라즈마 장치는 전술한 실시예에 국한하지 않고, 본 발명의 기술 사상이 허용되는 범위 내에서 다양하게 변형하여 실시할 수 있다.The portable plasma apparatus of the present invention is not limited to the above-described embodiments, and can be variously modified and practiced within the scope of the technical idea of the present invention.

11 : 하부챔버, 12 : 상부챔버, 13 : 이동공, 14 : 주름관, 15 : 챔버부,
20 : 트레이, 21 : 흡착공
30 : 플라즈마소스부, 35 : 동축케이블,
40 : 이동부, 41 : 이동블럭, 42 : 스크류, 43 : 구동모터, 44 : 제1가이드레일, 45 : 제2가이드레일, 46 : 가이드블럭,
50 : 매처, 55 : 전원공급부,
60 : 기판,11: Lower chamber, 12: Upper chamber, 13: Moving ball, 14: Corrugated tube, 15:
20: tray, 21: adsorber
30: Plasma source part, 35: Coaxial cable,
The present invention relates to a driving apparatus for a driving apparatus for a vehicle,
50: Matcher, 55: Power supply,
60: substrate,

Claims (9)

상면에 기판이 배치되는 트레이와;
플라즈마를 발생시켜 상기 트레이가 배치된 방향으로 방사하는 플라즈마소스부와;
상기 트레이에 대하여 상기 플라즈마소스부를 직선이동시키는 이동부와;
상기 플라즈마소스부와 전원공급부를 연결하여 임피던스를 조절하는 매처(Matcher)와;
상기 트레이가 상부에 결합되고 상면이 개방된 하부챔버와;
상기 하부챔버의 상부에 결합되고 하면이 개방된 상부챔버;를 포함하여 이루어지되,
상기 하부챔버와 상부챔버는 상호 결합되어 내부에 챔버부를 형성하고,
상기 플라즈마소스부는 상기 챔버부의 내부에서 직선이동하면서 상기 트레이의 상면에 놓인 기판에 플라즈마를 방사하며,
상기 매처는 상기 챔버부의 외부에서 고정 배치되고,
상기 상부챔버에는 상기 플라즈마소스부의 이동방향으로 따라 이동공이 길게 형성되며,
상기 플라즈마소스부의 상부는 상기 이동공을 따라 이동하는 것을 특징으로 하는 이동형 플라즈마 장치.A tray on which a substrate is disposed;
A plasma source part for generating a plasma to radiate in a direction in which the tray is disposed;
A moving unit that linearly moves the plasma source unit with respect to the tray;
A matcher for adjusting the impedance by connecting the plasma source unit and the power supply unit;
A lower chamber coupled to the tray at an upper portion thereof and opened at an upper surface thereof;
And an upper chamber coupled to an upper portion of the lower chamber and opened at a lower surface thereof,
Wherein the lower chamber and the upper chamber are coupled to each other to form a chamber portion therein,
Wherein the plasma source portion radiates a plasma to a substrate placed on an upper surface of the tray while linearly moving within the chamber portion,
Wherein the matrices are fixedly disposed outside the chamber portion,
The upper chamber is formed with a long moving hole in the moving direction of the plasma source part,
Wherein an upper portion of the plasma source portion moves along the moving hole. 청구항1에 있어서,
상기 전원공급부 및 매처는 고정되고 상기 플라즈마소스부가 이동되는 것을 특징으로 하는 이동형 플라즈마 장치.The method according to claim 1,
Wherein the power supply and the match are fixed and the plasma source is moved. 청구항2에 있어서,
상기 플라즈마소스부와 매처는 동축케이블로 연결된 것을 특징으로 하는 이동형 플라즈마 장치.The method of claim 2,
Wherein the plasma source portion and the matched portion are connected by a coaxial cable. 청구항1에 있어서,
상기 이동부는,
상기 플라즈마소스부에 장착되고 관통공이 형성된 이동블럭과;
상기 관통공을 관통하는 스크류와;
상기 스크류를 회전시키는 구동모터로 이루어지되,
상기 관통공의 내주면과 상기 스크류의 외주면은 상호 나사결합되어, 상기 구동모터의 회전에 의해 상기 플라즈마소스부가 직선이동하는 것을 특징으로 하는 이동형 플라즈마 장치.The method according to claim 1,
The moving unit includes:
A moving block mounted on the plasma source and having a through hole;
A screw penetrating through the through hole;
And a driving motor for rotating the screw,
Wherein the inner circumferential surface of the through hole and the outer circumferential surface of the screw are screwed to each other so that the plasma source moves linearly by rotation of the driving motor. 삭제delete 삭제delete 청구항1에 있어서,
상기 이동공에는 상기 플라즈마소스부의 상부의 이동방향인 전방 및 후방에 주름관이 장착되되,
상기 주름관은 상기 플라즈마소스부의 이동시 신축되어 상기 챔버부의 내부를 외부로부터 밀폐시키는 것을 특징으로 하는 이동형 플라즈마 장치.The method according to claim 1,
The moving hole is provided with a corrugated tube on the front and rear sides in the moving direction of the upper portion of the plasma source portion,
Wherein the corrugated tube expands and contracts when the plasma source portion is moved to seal the inside of the chamber portion from the outside. 청구항1에 있어서,
상기 이동부는,
상기 하부챔버의 상면에 결합되어 상기 플라즈마소스부의 직선이동을 안내하는 제1가이드레일을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 이동형 플라즈마 장치.The method according to claim 1,
The moving unit includes:
And a first guide rail coupled to an upper surface of the lower chamber to guide linear movement of the plasma source part. 청구항1에 있어서,
상기 이동부는,
상기 상부챔버의 외부 상면에서 상기 플라즈마소스브의 이동방향인 상기 이동공의 길이방향을 따라 결합된 제2가이드레일을 포함하여 이루어지고,
상기 상부챔버의 외부에서 상기 플라즈마소스부의 상부에는 상기 제2가이드레일에 직선이동 가능하게 결합된 가이드블럭이 장착되되,
상기 플라즈마소스부의 직선이동시 상기 가이드블럭은 상기 제2가이드레일을 따라 직선이동하는 것을 특징으로 하는 이동형 플라즈마 장치.The method according to claim 1,
The moving unit includes:
And a second guide rail coupled to the outer surface of the upper chamber along the longitudinal direction of the moving hole, the moving direction of the plasma source,
A guide block mounted on an upper portion of the plasma source portion outside the upper chamber so as to be linearly movable with respect to the second guide rail,
And the guide block linearly moves along the second guide rail when the plasma source portion moves linearly.
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