KR101532016B1 - 용탕 공급 장치 - Google Patents

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김덕
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Abstract

용탕 공급 장치가 개시된다, 본 발명의 일 실시예에 따른 용탕 공급 장치는, 용탕을 수용하며 기준 높이를 초과하는 용탕이 배출되도록 일측에 용탕 배출구를 포함하는 제 1 도가니; 용탕 배출구를 통해 배출되는 용탕을 수용하는 제 2 도가니; 및 제 1 도가니로부터 용탕을 공급받아서 분사하는 노즐을 포함한다.

Description

용탕 공급 장치{APPARATUS FOR SUPPLYING MOLTEN METAL}
본 발명은 용탕 공급 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 용탕의 온도 하락을 방지하고 탕면 높이를 제어할 수 있는 용탕 공급 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 용탕을 이용하여 판상의 제품을 제조하는 주조 공정의 경우, 금속을 용해할 수 있는 용해로에 금속 재료를 넣어서 용해하여 용탕을 만든 후, 일정 용탕을 공급하기 위해 용탕 높이가 일정하게 조절되는 도가니에 용탕을 주입한 후, 도가니의 스토퍼를 개방하여 용탕이 탕도를 통해 노즐로 공급되도록 하며, 노즐로부터 일정한 폭의 용탕이 출탕되도록 하였다.
기존의 공정에서 가장 문제시되었던 부분은, 도가니에서 용탕을 일정한 온도로 유지시키는 것이었는데, 출탕 온도가 낮을 경우 석출물 발생하거나 용탕의 응고로 인해 탕도가 막히는 현상이 발생하고, 용탕의 온도가 높을 경우 높은 유동성으로 인해 판상의 제조가 곤란한 실정이었다.
특히 연속적으로 주조하는 경우, 용탕의 온도 저하가 가장 큰 문제점으로 부각되었는데, 이를 해결하기 위한 방안으로 도가니를 예열하거나 공정 중에 용탕을 가열하는 방식을 적용하고 있는데, 일정 온도를 유지하기 위한 조건 설정 및 공정 중 가열 등에 의하여, 공정의 비용이 상승되는 등이 문제가 발생한다.
또한, 일정량의 용탕이 노즐에서 균일하게 분사되어야 하기 때문에, 도가니에 저장된 용탕의 탕면의 레벨이 공정 중 항상 일정하게 유지될 필요가 있다.
본 발명은 이러한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 탕면의 높이를 제어하면서 도가니의 온도 저하를 방지하고, 용탕을 재활용할 수 있는 용탕 공급 장치를 제공하는데 목적이 있다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 용탕을 수용하며 기준 높이를 초과하는 용탕이 배출되도록 일측에 용탕 배출구를 포함하는 제 1 도가니; 상기 용탕 배출구를 통해 배출되는 용탕을 수용하는 제 2 도가니; 및 상기 제 1 도가니로부터 용탕을 공급받아서 분사하는 노즐을 포함하는, 용탕 공급 장치가 제공된다.
이 때, 상기 제 2 도가니에 수용된 용탕이 상기 제 1 도가니를 둘러싸도록 상기 제 1 도가니는 상기 제 2 도가니의 내부에 위치될 수 있다.
이 때, 상기 제 1 도가니에 수용된 용탕을 상기 노즐로 공급하는 탕도를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 제 2 도가니에 수용된 용탕을 외부의 사용처로 공급하는 재사용 라인을 더 포함할 수 있다.
이 때, 상기 제 2 도가니에 수용된 용탕은 잉곳(ingot) 제조에 사용될 수 있다.
한편, 상기 용탕 배출구는 복수 개로 형성되며, 상기 복수 개의 용탕 배출구는 상기 기준 높이에 배치될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 제 1 도가니가 제 2 도가니의 내부에 위치되도록 도가니를 이중으로 구성함으로써, 제 1 도가니의 온도 저하를 방지할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 제 1 도가니의 일정 높이에 용탕 배출구를 형성함으로써, 제 1 도가니의 탕면을 일정하게 제어할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 제 1 도가니에서 제 2 도가니로 배출되어 제 1 도가니의 온도 저하를 방지하는데 사용된 용탕을 재활용할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 용탕 공급 장치의 모습을 도시한 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 용탕 공급 장치의 단면도이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 용탕 공급 장치(100)의 모습을 도시한 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 용탕 공급 장치(100)의 단면도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 용탕 공급 장치(100)는 제 1 도가니(110), 제 2 도가니(120), 탕도(140), 노즐(160) 및 재사용 라인(150)을 포함할 수 있다.
제 1 도가니(110)는 용탕(10)을 수용하며 제품 제조를 위한 노즐(160)로 용탕을 공급하는 구성이다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 제 1 도가니(110)는 수용된 용탕(10)의 탕면의 높이를 일정하게 유지시킬 수 있다.
예를 들어, 도 1 및 도 2를 참조하면, 제 1 도가니(110)는 수용된 용탕의 탕면 높이가 기준 높이(H)를 유지할 수 있도록 제어할 수 있다.
이는, 제 1 도가니(110)에 수용된 용탕을 이용하여 연속 주조 방식으로 제품을 제조하기 위해서는, 철정압이 일정하게 유지됨으로써, 항상 일정한 양의 용탕이 노즐(160)로 공급되어야 균일한 품질의 제품을 제조할 수 있기 때문에, 제 1 도가니(110)에서는 수용된 용탕의 탕면 높이가 일정하게 유지되도록 제어될 필요가 있다.
이 때, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 제 1 도가니(110)는 용탕 배출구(112)를 포함할 수 있다.
용탕 배출구(112)는 제 1 도가니(110)의 일측에 형성될 수 있는데, 용탕의 탕면 높이가 항상 기준 높이(H)를 유지하도록, 기준 높이(H)를 초과하는 용탕을 제 1 도가니(110)의 외부로 배출시키는 구성이다.
이 때, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 용탕 배출구(112)는 용탕의 탕면이 기준 높이(H)로 일정하게 유지될 수 있도록, 기준 높이(H)의 위치에 배치될 수 있다.
이 때, 용탕 배출구(112)는 제 1 도가니(110)의 내부 공간을 외부 공간에 연통시키도록 형성될 수 있다.
예를 들어, 도 2를 참조하면, 용탕 배출구(112)는 제 1 도가니(110)의 외측으로 돌출되도록 형성될 수 있는데, 제 1 도가니(110) 내부의 용탕이 외부로 용이하게 배출될 수 있도록 용탕 배출구(112)는 하부 방향을 향하도록 형성될 수 있으며, 이 때, 경사가 형성될 수도 있다.
그러나, 용탕 배출구(112)의 형상이 이에 한정되는 것은 아니며, 제 1 도가니(110) 내부의 용탕이 외부로 용이하게 배출될 수 있도록 제 1 도가니(110)의 내부 공간을 외부 공간에 연통시키는 형상이라면 모두 본 발명에 포함된다.
용탕 배출구(112)가 탕면의 높이를 기준 높이(H)로 일정하게 유지되도록 제어하는 원리를 상세히 설명하면, 도 2에 도시된 바와 같이, 기준 높이(H) 위치에 용탕 배출구(112)가 형성됨으로써, 탕면의 높이가 제어될 수 있다.
즉, 외부의 용탕이 제 1 도가니(110)로 공급될 때 제 1 도가니(110)에 수용된 용탕의 탕면의 높이가 기준 높이(H)를 초과하는 경우에는, 기준 높이(H)를 초과한 양만큼의 용탕이 용탕 배출구(112)를 통해 제 1 도가니(110)의 외부로 배출되게 되며, 이에 따라, 제 1 도가니(110) 내부의 용탕의 높이는 항상 일정한 높이, 예를 들어 기준 높이(H)를 유지할 수 있게 된다.
이 때, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 용탕의 높이 제어의 효율성을 높이기 위하여, 용탕 배출구(112)는 복수 개가 형성될 수 있으며, 복수 개의 용탕 배출구(112)는 모두 기준 높이(H) 위치에 배치될 수 있다.
한편, 도 1을 참조하면, 전술한 제 1 도가니(110)에 수용된 용탕은 탕도(140)를 통해서 노즐(160)로 공급될 수 있다.
즉, 탕도(140)는 제 1 도가니(110)의 용탕을 노즐(160)로 공급하는 통로이다.
또한, 노즐(160)은 탕도(140)를 통해 용탕을 공급받아서 외부로 분사하는 구성이다.
이 때, 노즐(160)에서 분사된 용탕은 냉각되어 제품으로 제조될 수 있으며, 노즐(160)에 형상에 따라서 다양한 제품이 제조될 수 있다.
예를 들어, 노즐(160)에서 얇게 분사된 용탕은 판상의 제품으로 주조될 수 있으며, 이 때, 제 1 도가니(110)의 탕면이 일정하게 유지됨에 따라 철정압이 일정하게 유지되므로, 연속 주조되는 경우에도 균일한 품질의 제품 생산이 가능하다.
한편, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 제 1 도가니(110)에서 노즐(160)로 공급하는 용탕은 후술할 제 2 도가니(120)에 의하여 온도 저하가 방지되어 고온이 유지될 수 있는데, 이하, 제 2 도가니(120)를 상세히 설명한다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 제 2 도가니(120)는 용탕 배출구(112)를 통해서 배출되는 용탕을 수용하는 구성이다.
즉, 제 2 도가니(120)는 제 1 도가니(110)에 공급된 용탕 중 일정 탕면 레벨을 유지하게 위한 기준 높이(H)를 초과한 잉여 용탕을 수용할 수 있다.
이 때, 전술하였듯이 본 발명의 일 실시예에 따르면, 제 1 도가니(110)에 형성된 용탕 배출구(112)를 통해서 상기 잉여 용탕이 배출될 수 있는데, 용탕 배출구(112)를 통해서 배출된 용탕이 제 2 도가니(120)에 수용될 수 있다.
이 때, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 제 2 도가니(120)는 제 2 도가니(120)에 수용된 용탕이 제 1 도가니(110)를 둘러싸도록 형성될 수 있다.
예를 들어, 도 1 및 도 2를 참조하면, 제 1 도가니(110)는 제 2 도가니(120)의 내부에 위치될 수 있다.
이에 따라, 도 2에 도시된 바와 같이, 제 2 도가니(120)에 수용된 용탕(12)은 제 1 도가니(110)를 둘러싸게 되며, 제 1 도가니(110)에 수용된 용탕(11)은 제 1 도가니(110)를 둘러싸고 있는 제 2 도가니(120)에 수용된 용탕(12)에 의하여 온도가 저하되는 것이 방지될 수 있다.
따라서, 제 1 도가니(110)를 통해서 노즐(160)로 공급되는 용탕(11)은 제 2 도가니(120)에 수용된 용탕(12)에 의하여 고온이 유지될 수 있으므로, 우수한 품질의 제품을 제조할 수 있다.
이와 같이, 제 1 도가니(110)를 제 2 도가니(120)로 둘러싸는 형태의 이중 구조의 도가니를 구성함으로써, 노즐(160)로 공급되는 용탕의 온도 저하를 방지하기 위한 별도의 가열 설비 없이도, 용탕의 온도를 효과적으로 유지할 수 있다.
한편, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 제 2 도가니(120)에는 재사용 라인(150)이 연결될 수 있다.
재사용 라인(150)은 제 2 도가니(120)에 수용된 용탕을 외부의 사용처로 공급하는 구성이다.
이 때, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 재사용 라인(150)은, 제 2 도가니(120)에 수용된 용탕을 외부의 사용처로 공급하는 통로를 포함하여, 공급량을 제어하는 수단 등 용탕 공급에 필요한 구성을 모두 포함할 수 있다.
이 때, 외부의 사용처는 제 2 도가니(120)에 저장되어 있는 용탕이 사용될 수 있는 사용처는 모두 포함할 수 있으며, 예를 들어, 외부의 사용처는, 도 1에 도시된 바와 같이, 잉곳 제조가 가능한 잉곳 제조용 몰드(50)일 수 있다.
이에 따라, 제 1 도가니(110)에서 배출되어 제 2 도가니(120)에 수용된 용탕(12, 도 2 참조)은, 제 1 도가니(110)에 수용된 용탕(11, 도 2 참조)의 온도가 저하되는 것을 방지하는 역할을 수행할 수 있으며, 필요에 따라, 재사용 라인(150)을 통해 외부의 사용처, 예를 들어 잉곳 제조용 몰드(50)로 공급되어 유용하게 활용될 수 있다.
예컨대, 제 1 도가니(110)에 수용된 용탕의 보온이 필요 없는 경우나, 보온에 필요한 용탕의 양을 초과하여 제 2 도가니(120)이 수용된 경우에는, 제 2 도가니(120)에 저장된 용탕을 재사용 라인(150)을 통해 적절한 사용처로 공급할 수 있으므로, 용탕을 효율적으로 활용할 수 있다.
이와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 용탕 공급 장치(100)는, 제 1 도가니(110)의 일정 높이에 용탕 배출구(112)를 형성함으로써, 제 1 도가니(110)에 저장된 용탕의 탕면의 높이를 일정하게 제어할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 제 1 도가니(110)가 제 2 도가니(120)의 내부에 위치되도록 도가니를 이중으로 구성함으로써, 제 1 도가니(110)에서 용탕 배출구(112)를 통해 배출되어 제 2 도가니(120)에 저장된 용탕을 이용하여, 제 1 도가니(110)에 저장된 용탕의 온도 저하를 방지할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 제 1 도가니(110)에 저장된 용탕의 온도 저하를 방지하는데 사용된 제 2 도가니(120)의 용탕을 잉곳 제조에 재활용할 수 있다.
이상 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.
그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변경된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
10 용탕 50 잉곳 제조용 몰드
100 용탕 공급 장치 110 제 1 도가니
112 용탕 배출구 120 제 2 도가니
140 탕도 150 재사용 라인
160 노즐

Claims (6)

  1. 용탕을 수용하며 기준 높이를 초과하는 용탕이 배출되도록 일측에 용탕 배출구를 포함하는 제 1 도가니;
    상기 용탕 배출구를 통해 배출되는 용탕을 수용하는 제 2 도가니; 및
    상기 제 1 도가니로부터 용탕을 공급받아서 분사하는 노즐을 포함하고,
    상기 제 2 도가니에 수용된 용탕을 외부의 사용처로 공급하는 재사용 라인을 더 포함하며,
    상기 제 2 도가니에 수용된 용탕은 잉곳(ingot) 제조에 사용될 수 있는, 용탕 공급 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 도가니에 수용된 용탕이 상기 제 1 도가니를 둘러싸도록 상기 제 1 도가니는 상기 제 2 도가니의 내부에 위치되는, 용탕 공급 장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 제 1 도가니에 수용된 용탕을 상기 노즐로 공급하는 탕도를 더 포함하는, 용탕 공급 장치.
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 용탕 배출구는 복수 개로 형성되며,
    상기 복수 개의 용탕 배출구는 상기 기준 높이에 배치되는, 용탕 공급 장치.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2006102764A (ja) * 2004-10-04 2006-04-20 Dowa Mining Co Ltd 溶湯供給装置
KR101242845B1 (ko) * 2010-12-28 2013-03-12 재단법인 포항산업과학연구원 급속 예열 가능한 턴디쉬
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