KR101515613B1 - Semiconductor package including interposer and method for manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
본 발명의 반도체 패키지 제조방법은, 기판에 제1표면과 제2표면을 연결하는 관통 전극들을 형성하는 단계, 상기 제1표면에 상기 관통 전극들과 연결되는 하나 이상의 적층 반도체 칩들을 형성하는 단계, 상기 기판을 상기 반도체 칩을 단위로 다이싱하여 인터포저들을 형성하는 단계, 상기 인터포저들과 상기 반도체 칩들을 몰딩 시트 상에 일정한 간격으로 배열하는 단계, 상기 몰딩 시트 상에 보호 물질을 형성하는 단계, 및 상기 몰딩 시트를 제거한 다음, 상기 보호 물질을 다이싱하여, 인터포저와 반도체 칩의 패키지를 형성하는 단계를 포함한다. 본 발명에 의하면, 이웃하는 인터포저 사이의 공간을 마련하기 위하여 다이싱된 인터포저를 몰딩 시트 상에 적당한 간격을 두고 배열한 상태로 몰딩하기 때문에, 인터포저의 측면을 효과적으로 몰딩할 수 있다.A method of manufacturing a semiconductor package according to the present invention includes the steps of: forming through electrodes connecting a first surface and a second surface to a substrate; forming at least one laminated semiconductor chip connected to the penetrating electrodes on the first surface; Forming an interposer by dicing the substrate in a unit of the semiconductor chip, arranging the interposers and the semiconductor chips at regular intervals on a molding sheet, forming a protective material on the molding sheet And removing the molding sheet and then dicing the protective material to form a package of the interposer and the semiconductor chip. According to the present invention, since the diced interposer is molded in a state of being arranged at a suitable interval on the molding sheet in order to provide a space between adjacent interposers, the side surface of the interposer can be effectively molded.
Description
본 발명은, 인터포저를 포함하는 반도체 패키지 및 그 제조방법에 관한 것으로, 특히 인터포저의 측면 하부 엣지를 리세스하여 형성된 캐비티에 몰딩 부재를 채워 넣음으로써, 인터포저의 측면을 보호하는 동시에 인터포저가 몰딩 부재로부터 임의로 이탈되는 것을 방지하는 반도체 패키지 및 그 제조방법에 관한 것이다.In particular, the present invention relates to a semiconductor package including an interposer and a method of manufacturing the same. More particularly, the cavity formed by recessing the lower side edge of the interposer is filled with a molding member to protect the side surface of the interposer, To a semiconductor package and a method of manufacturing the same.
최근 전자산업의 추세는 경량화, 소형화, 고속화, 다기능화 되고 높은 신뢰성을 갖는 제품을 저렴하게 제조하는 방향으로 나아가고 있다. 이를 가능하게 하는 중요한 기술 중의 하나가 바로 패키지(package)기술이다. 일반적으로, 패키지기술 중에서 삼차원 구조와 소형화를 실현한 것이 인터포저 기판(Interposer substrate)이다.BACKGROUND ART [0002] Recent trends in the electronics industry are moving toward the production of lightweight, miniaturized, high-speed, multi-functional and highly reliable products at low cost. One of the important technologies that make this possible is package technology. Generally, the interposer substrate is one of the package technologies that realizes the three-dimensional structure and miniaturization.
한편, 도 1을 참조하면 반도체 패키지(10)는, 외부 단자(12)가 부착되는 인터포저 기판(14), 인터포저 기판(14) 상에 실장되는 반도체 칩(16) 그리고 인터포저 기판(14) 상부를 보호하는 몰딩 부재(18)를 포함한다. 몰딩 부재(18)는 인터포저 기판(14)의 상면에만 형성되어 있기 때문에, 인터포저 기판(14)의 측면(side) 특히 모서리(edge) 부분이 충격에 매우 취약하다. 또한, 인터포저 기판(14)이 반도체 패키지(10)에서 임의로 이탈되는 문제점이 있다.1, the
따라서 본 발명은 상기한 바와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 인터포저의 측면 특히 하부 모서리 부분을 보호할 수 있는 인터포저를 포함하는 반도체 패키지 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present invention has been made keeping in mind the above problems occurring in the prior art, and it is an object of the present invention to provide a semiconductor package including an interposer that can protect a side surface of an interposer, .
본 발명의 다른 목적은 인터포저가 패키지에서 임의로 이탈되는 것을 방지하는 인터포저를 포함하는 반도체 패키지 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a semiconductor package including an interposer that prevents the interposer from being arbitrarily disengaged from the package, and a method of manufacturing the same.
전술한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 따르면, 본 발명의 반도체 패키지는 인터포저, 인터포저 상에 적층되는 반도체 칩, 및 상기 인터포저와 상기 반도체 칩을 보호하는 몰딩 부재를 포함하되, 상기 몰딩 부재는, 적어도 상기 인터포저의 측면을 커버한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a semiconductor package including an interposer, a semiconductor chip stacked on an interposer, and a molding member for protecting the interposer and the semiconductor chip, , The molding member covers at least a side surface of the interposer.
본 발명의 반도체 패키지 제조방법은, 기판에 제1표면과 제2표면을 연결하는 관통 전극들을 형성하는 단계, 상기 제1표면에 상기 관통 전극들과 연결되는 하나 이상의 적층 반도체 칩들을 형성하는 단계, 상기 기판을 상기 적층 반도체 칩을 단위로 다이싱하여 인터포저들을 형성하는 단계, 상기 인터포저들과 상기 반도체 칩들을 몰딩 시트 상에 일정한 간격으로 배열하는 단계, 상기 몰딩 시트 상에 보호 물질을 형성하는 단계, 및 상기 몰딩 시트를 제거한 다음, 상기 보호 물질을 다이싱하여, 인터포저와 반도체 칩의 패키지를 형성하는 단계를 포함한다.A method of manufacturing a semiconductor package according to the present invention includes the steps of: forming through electrodes connecting a first surface and a second surface to a substrate; forming at least one laminated semiconductor chip connected to the penetrating electrodes on the first surface; The method comprising the steps of: dicing the substrate in a unit of the laminated semiconductor chip to form interposers; arranging the interposers and the semiconductor chips at regular intervals on the molding sheet; forming a protective material on the molding sheet And removing the molding sheet and then dicing the protective material to form a package of the interposer and the semiconductor chip.
위에서 설명한 바와 같이, 본 발명의 구성에 의하면 다음과 같은 효과를 기대할 수 있다.As described above, according to the configuration of the present invention, the following effects can be expected.
첫째, 일체형의 인터포저 웨이퍼를 단위 인터포저로 다이싱한 다음, 이웃하는 인터포저 사이의 공간을 마련하기 위하여 인터포저를 몰딩 시트 상에 적당한 간격을 두고 배열한 상태로 몰딩하기 때문에, 인터포저의 측면을 효과적으로 몰딩하는 동시에 측면 몰딩 두께를 자유롭게 조절할 수 있다. 특히 단위 인터포저 사이의 공간을 만들기 위하여 고가의 인터포저 웨이퍼를 절단할 필요가 없어 경제적이다.First, since the integrated type interposer wafer is diced by the unit interposer, and then the interposer is molded on the molding sheet at a proper interval in order to provide a space between the adjacent interposers, Side moldings can be freely adjusted while effectively molding the side surfaces. In particular, there is no need to cut expensive interposer wafers to make space between unit interposers, which is economical.
둘째, 관통 전극을 노출시키기 위하여 씨닝 시트 상에 인터포저 웨이퍼 전면을 부착시킨 상태에서 인터포저 웨이퍼 백면을 씨닝하고, 연속하여 인터포저 웨이퍼 백면을 하프 컷팅 혹은 하프 에칭하기 때문에 캐비티를 용이하게 형성할 수 있다.Second, since the interposer wafer front face is attached on the thinning sheet to expose the penetrating electrode, the interposer wafer front face is thinned, and the interposer wafer face is continuously half cut or half-etched continuously, so that the cavity can be easily formed have.
도 1은 종래 기술에 의한 반도체 패키지의 구성을 나타내는 단면도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 의한 인터포저를 포함하는 반도체 패키지의 구성을 나타내는 단면도.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 의한 인터포저를 포함하는 반도체 패키지의 구성을 나타내는 단면도.
도 4a 내지 도 4j는 도 3의 제조방법을 나타내는 단면도들.
도 5a 내지 도 5f는 도 2의 제조방법을 나타내는 단면도들.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a cross-sectional view showing a configuration of a semiconductor package according to the prior art;
2 is a cross-sectional view showing a configuration of a semiconductor package including an interposer according to an embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional view showing a configuration of a semiconductor package including an interposer according to another embodiment of the present invention.
4A to 4J are cross-sectional views showing the manufacturing method of Fig.
Figures 5A-5F are cross-sectional views illustrating the method of manufacture of Figure 2;
이하, 상기한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명에 의한 인터포저를 포함하는 반도체 패키지 및 그 제조방법의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참고하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the semiconductor package including the interposer according to the present invention and the method for fabricating the same will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 2에는 본 발명의 일 실시예에 의한 반도체 패키지의 구성이 단면도로 도시되고, 도 3에는 본 발명의 다른 실시예에 의한 캐비티가 더 포함되는 반도체 패키지의 구성이 단면도로 도시되어 있다.FIG. 2 is a cross-sectional view of a semiconductor package according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a cross-sectional view of a semiconductor package including a cavity according to another embodiment of the present invention.
도 2를 참조하면 본 발명의 반도체 패키지(50)는, 인터포저(100), 반도체 칩(200), 및 몰딩 부재(400)를 포함한다. 인터포저(100)는 상부 표면에 해당되는 제1표면(110a), 제1표면(110a)과 대향되는 제2표면(110b), 및 상기 제1 및 제2표면을 연결하는 측면(110c)을 포함한다. 제1표면(110a)은 전면(front-side) 일 수 있다. 제2표면(110b)은 백면(back-side)일 수 있다. 반도체 칩(200)은 제1표면(110a) 상에 솔더 범프(122)를 이용하여 적층된다. 몰딩 부재(400)는 제2표면(110b)을 제외한 인터포저(100)의 제1표면(110a)과 측면(110c) 그리고 반도체 칩(200)을 커버한다. 따라서 몰딩 부재(400)는 제2표면(110b)만을 노출시킨다. 이와 같이, 몰딩 부재(400)가 인터포저(110)의 측면(110c)를 커버함으로써, 외부 충격으로부터 인터포저(110)를 더 잘 보호할 수 있게 된다. 또한, 제2표면(110b)이 노출되고, 제2표면(110b)에는 재배선 패턴(도시되지 않음)이 형성됨으로써, 각종 전기적 검사를 용이하게 수행할 수 있다.Referring to FIG. 2, the
도 3을 참조하면 본 발명의 반도체 패키지(60)는, 인터포저(100), 인터포저(100) 상에 솔더 범프(122)를 통해 적층되는 반도체 칩(200), 및 인터포저(100)와 반도체 칩(200)을 보호하는 몰딩 부재(400)를 포함한다. 몰딩 부재(400)는, 적어도 인터포저(100)의 측면(110c)을 커버하되, 몰딩 부재(100)에 매립되는 제1표면(110a)의 단면적이 외부로 노출되는 제2표면(110b)의 단면적보다 넓다. 이와 같이, 인터포저(100)의 제2표면(110b)의 엣지 일부가 리세스되어 측면(110c)에 캐비티(C)가 형성됨으로써, 캐비티(C)에 몰딩 부재(400)가 채워진다. 캐비티(C)에 채워진 몰딩 부재(400)는 인터포저(100)의 측면(100c)을 보호하는 동시에 인터포저(100)가 몰딩 부재(400)에서 임의로 이탈되는 것을 방지하는 걸림 기능을 수행한다.3, the semiconductor package 60 of the present invention includes an
이하, 본 발명에 의한 인터포저를 포함하는 반도체 패키지의 제조방법을 상세하게 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a semiconductor package including an interposer according to the present invention will be described in detail.
도 4a 내지 도 4j는 본 발명의 일 실시예에 따른 패키지의 제조방법을 설명하기 위하여 도시한 단면도들로서, 인터포저의 이탈 방지 기능의 캐비티(C)를 포함하는 패키지의 경우를 나타낸다.4A to 4J are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a package according to an embodiment of the present invention, and show a case of a package including a cavity C for preventing deviation of the interposer.
도 4a를 참조하면, 기판(110)이 준비된다. 기판(110)의 제1표면(110a)을 패터닝하여, 기판(110)의 소정 영역에 일정한 깊이로 비아 홀들(H)이 형성된다. 비아 홀들(H)은 사진 식각 공정을 통하여 형성될 수 있다. 혹은 레이저 공정을 통하여 형성될 수 있다. 비아 홀들(H)은 한 번의 공정에 의하여 형성될 수 있고, 혹은 여러 번의 공정으로 나뉘어 형성될 수 있다.Referring to FIG. 4A, a
도 4b를 참조하면, 비아 홀들(H)을 포함하는 기판(110)의 제1표면(110a)에 CVD 혹은 PVD 공정을 통하여 절연막(도시되지 않음)이 형성될 수 있다. 상기 절연막은 제1표면(110a)을 포함하여 비하 홀들(H) 상에도 일정한 두께로 증착될 수 있다. 상기 절연막 상에 확산을 방지하는 베리어막이 더 형성될 수 있다. 도금 공정을 이용하여 관통 전극을 형성하는 경우 상기 절연막 상에 시드막이 더 형성될 수 있다. 상기 절연막 상에 비아 홀들(H)을 채우는 관통 전극들(120)이 형성될 수 있다. 이때, 기판(110)의 제1표면(110a)에 형성된 상기 배리어막 및 시드막은 평탄화 공정(CMP)에 의하여 제거될 수 있다. Referring to FIG. 4B, an insulating film (not shown) may be formed on the
도 4c를 참조하면, 기판(110)의 제2표면(110b)을 제거하는 박막 공정을 통하여 관통 전극들(120)이 노출될 수 있다. 박막 공정을 위하여 기판(110)에 씨닝 시트(170)가 부착될 수 있다. 즉, 씨닝 시트(170)에 기판(110)의 제1표면(110a)을 고정시킨 상태에서, 제2표면(110b)이 가공될 수 있다. 예컨대, 화학 기계적 연마(CMP) 공정 혹은 에치백(etch back) 공정을 이용하여 기판(110)에 매립되어 있던 관통 전극(120)을 노출시키는 씨닝 공정이 수행될 수 있다. 이와 같이 씨닝 공정에 의하여 기판(110)의 두께는 줄어든다.Referring to FIG. 4C, the penetrating
도 4d를 참조하면, 씨닝된 제2표면(110b)에 캐비티(C)를 형성하는 하프 컷팅 혹은 하프 에칭이 실시될 수 있다. 상기 캐비티(C)는 패키지 단위로 관통 전극(120)을 구획하는 경계 영역이 될 수 있다. 레이저나 다이싱 블레이드 등을 이용하여 씨닝된 제2표면(110b)이 제1폭(W1)으로 하프 컷팅되도록 부분 절단 공정을 실시한다. 기판(110)이 웨이퍼 기반인 경우 하프 에칭 공정을 통하여 부분 절단될 수 있다. 여기서 하프 컷팅 혹은 하프 에칭에 의하여 리세스 되는 캐비티(C)의 높이는 씨닝된 기판(110)의 두께의 절반 이하일 수 있다.Referring to FIG. 4D, half-cutting or half-etching may be performed to form the cavity C on the thinned
도 4e를 참조하면, 씨닝 시트(도 4d의 170)가 제거된다. 기판(110)의 제1표면(110a)에 금속화 공정을 이용하여 도전성 물질을 증착하고, 식각 공정을 이용하여 관통 전극들(120)과 전기적으로 연결되는 상기 재배선 패턴들(도시되지 않음)이 형성될 수 있다. 기판(110)의 제1표면(110a)에 상기 재배선 패턴들의 일부를 노출시키는 패시베이션막(도시되지 않음)이 일정한 두께로 형성될 수 있다. Referring to FIG. 4E, the thinning sheet 170 (FIG. 4D) is removed. A conductive material is deposited on the
또한, 기판(110)의 제1표면(110a) 상에 적어도 하나의 반도체 칩들(200)이 적층될 수 있다. 반도체 칩들(200)에는 관통 전극들(도시되지 않음) 및 반도체 칩 패드들(도시되지 않음)이 형성되어 있기 때문에, 솔더 범프(122)를 통해서 기판(110)의 관통 전극들(120)과 전기적으로 연결될 수 있다. 가령, 기판(110)의 관통 전극들(120)은 재배선 패턴들(도시되지 않음)을 통하여 그 상부에 적층되는 반도체 칩들(200)의 관통 전극들(도시되지 않음)과 전기적으로 연결될 수 있다. Also, at least one
반도체 칩들(200)은 메모리 반도체 칩, 로직 반도체 칩, 혹은 저항, 콘덴서 등의 각종 수동소자를 포함할 수 있다. 반도체 칩들(200)은 동일한 종류의 반도체 칩으로 구성될 수도 있고 서로 다른 종류의 반도체 칩들로 구성될 있다. The semiconductor chips 200 may include a memory semiconductor chip, a logic semiconductor chip, or various passive elements such as a resistor, a capacitor, and the like. The semiconductor chips 200 may be composed of the same kind of semiconductor chips or different kinds of semiconductor chips.
도 4f를 참조하면, 기판(110)을 관통하는 풀 컷팅이 실시될 수 있다. 제2표면(110b)에 다이싱 시트(180)가 부착될 수 있다. 레이저를 이용하여 기판(110)이 제2폭(W2)으로 풀 컷팅 됨으로써, 기판(110) 즉 일체형 인터포저가 단위 인터포저(100)로 다이싱 된다. 제2폭(W2)은 제1폭(W1)보다 좁다. 풀 컷 라인(L)은 기판(110)의 제2표면(110b)에서 바라 볼 때 캐비티(C)의 중앙을 지날 수 있다.Referring to FIG. 4F, full cutting through the
도 4g를 참조하면, 반도체 칩(200)과 인터포저(100)가 일체로 밀봉된다. 이를 위하여, 인터포저(100)가 몰딩 시트(190) 상에 접착제(도시되지 않음)를 이용하여 부착될 수 있다. 이때, 몰딩 시트(190) 상에 인터포저(100)와 반도체 칩(200)을 배치할 때 소정 간격이 유지되도록 한다. 즉, 인터포저(100)의 양 측면이 몰딩되고, 다이싱 공정 후에도 인터포저(100)의 양 측면에도 단위 몰딩 부재(도 4j의 400)가 존재하도록 충분한 간격을 유지하여야 한다. Referring to FIG. 4G, the
도 4h를 참조하면, 몰딩 시트(190) 상에 일정한 간격으로 배치된 반도체 칩(200)과, 인터포저(100)를 일체로 몰딩한다. 즉, 몰딩 시트(190)에 인터포저(100)의 제2표면(110b)이 고정된 상태에서, 제1표면(110a) 상에 보호 물질(330)이 형성될 수 있다. 이때 보호 물질(330)은 인터포저(100)의 양 측면과 반도체 칩(200)의 상면을 덮도록 몰딩된다. Referring to FIG. 4H, the
도 4i를 참조하면, 몰딩 시트(190)가 제거될 수 있다. 접착제(도시되지 않음)가 완전히 제거될 수 있도록 클린 공정이 실시될 수 있다. 이때, 백랩된 제2표면(110b)에 재배선 공정 및 범프 공정이 실시될 수 있다. Referring to FIG. 4I, the
도 4j를 참조하면, 몰딩된 인터포저(100)와 반도체 칩(200)을 패키지 단위로 분리하는 싱귤레이션 공정이 실시될 수 있다. 다이싱(dicing) 등의 공정을 통해 일체형의 보호 물질(330)을 단위 몰딩 부재(도 4j의 400)로 절단하는 공정이 실시될 수 있다. 이와 같은 단위 패키지는 테스트 소켓(Test socket)에 넣어 전기적 검사가 실시될 수 있다.Referring to FIG. 4J, a singulation process for separating the molded
이하 본 발명의 다른 실시예에 따른 패키지의 제조공정을 나타낸 도 5a 내지 도 5f를 참조하여 설명하되, 전술한 부분과 중복되는 내용은 생략하거나 간단히 설명하도록 한다.5A to 5F, which illustrate a manufacturing process of a package according to another embodiment of the present invention, the contents overlapping with those described above will be omitted or briefly described.
도 5a를 참조하면, 기판(100)의 제1표면(110a)과 제2표면(110b)을 연결하는 관통 전극들(120)이 형성된다. Referring to FIG. 5A, penetrating
도 5b를 참조하면, 기판(110)의 제1표면(110a)에 관통 전극들(120)과 전기적으로 연결되는 상기 재배선 패턴들(도시되지 않음)이 형성될 수 있다. 기판(110)의 제1표면(110a) 상에 적어도 하나의 반도체 칩들(200)이 적층될 수 있다. 반도체 칩들(200)은 솔더 범프(122)를 이용해서 기판(110)의 관통 전극들(120)과 전기적으로 연결된다.Referring to FIG. 5B, the redistribution patterns (not shown) electrically connected to the penetrating
도 5c를 참조하면, 제2표면(110b)에 다이싱 시트(180)를 부착하여, 기판(도 5b의 110)을 관통하는 풀 컷팅이 실시될 수 있다. 이로써, 기판(110)은 단위 인터포저(100)로 다이싱되고, 인터포저(100)와 반도체 칩(200)은 하나의 패키지 단위를 구성하게 된다.Referring to FIG. 5C, a
도 5d를 참조하면, 반도체 칩(200)과 인터포저(100)가 몰딩 시트(190)를 이용하여 소정 간격으로 배열된다. Referring to FIG. 5D, the
도 5e를 참조하면, 몰딩 시트(190) 상에 일정한 간격으로 배치된 반도체 칩(200)과, 인터포저(100)가 보호 물질(330)을 이용하여 일체로 몰딩된다. 이때 보호 물질(330)은 인터포저(100)의 측면과 반도체 칩(200)의 상면을 덮도록 몰딩된다. Referring to FIG. 5E, the
도 5f를 참조하면, 몰딩 시트(도 5e의 190)가 제거된 다음, 몰딩된 인터포저(100), 반도체 칩(200) 그리고 몰딩 부재(400)를 패키지 단위로 분리하는 싱귤레이션 공정이 실시될 수 있다.Referring to FIG. 5F, after the molding sheet 190 (FIG. 5E) is removed, a singulation process for separating the molded
이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명은 다이싱 된 인터포저를 몰딩 시트 상에 재배치할 때 인터포저 사이에 공간을 형성함으로써, 인터포저의 측면을 보호하는 몰딩 부재가 형성되고, 특히 인터포저의 측면 하부 일부를 리세스하여 형성된 캐비티에 몰딩 부재를 채워 넣음으로써, 인터포저가 몰딩 부재로부터 임의로 이탈되는 것을 방지하는 구성을 기술적 사상으로 하고 있음을 알 수 있다. 이와 같은 본 발명의 기본적인 기술적 사상의 범주 내에서, 당업계의 통상의 지식을 가진 자에게 있어서는 다른 많은 변형이 가능할 것이다.As described above, the present invention forms a molding member for protecting the side surface of the interposer by forming a space between the interposers when rearranging the diced interposer on the molding sheet, It can be seen that the structure for preventing the interposer from being arbitrarily disengaged from the molding member by filling a molding member into the cavity formed by recessing a part is considered as a technical idea. Many other modifications will be possible to those skilled in the art, within the scope of the basic technical idea of the present invention.
50, 60: 반도체 패키지
100: 인터포저 110: 기판
110a: 제1표면 110b: 제2표면
110c: 측면 120: 관통 전극
122: 솔더 범프 170: 씨닝 시트
180: 다이싱 시트 190: 몰딩 시트
200: 반도체 칩 330: 보호 물질
400: 몰딩 부재 H: 비아 홀
C: 캐비티 L: 풀 컷 라인50, 60: semiconductor package
100: interposer 110: substrate
110a:
110c: side surface 120: penetrating electrode
122: solder bump 170: thinning sheet
180: dicing sheet 190: molding sheet
200: semiconductor chip 330: protective material
400: molding member H: via hole
C: cavity L: full cut line
Claims (9)
인터포저 상에 적층되는 반도체 칩; 및
상기 인터포저와 상기 반도체 칩을 보호하는 몰딩 부재를 포함하되,
상기 몰딩 부재는, 적어도 상기 인터포저의 측면을 커버하고,
상기 인터포저는 상기 몰딩 부재에 매립되는 제1표면과, 외부로 노출되는 제2표면을 포함하고, 상기 제1표면의 단면적이 상기 제2표면의 단면적보다 넓으며,
상기 인터포저는 상기 제2표면 엣지 일부가 리세스되어 측면에 캐비티가 형성되고, 상기 캐비티에 몰딩 부재가 채워지는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.Interposer;
A semiconductor chip stacked on an interposer; And
And a molding member for protecting the interposer and the semiconductor chip,
Wherein the molding member covers at least a side surface of the interposer,
Wherein the interposer includes a first surface that is embedded in the molding member and a second surface that is exposed to the outside, wherein the cross-sectional area of the first surface is wider than the cross-sectional area of the second surface,
Wherein a portion of the second surface edge of the interposer is recessed to form a cavity on a side surface thereof, and the cavity is filled with a molding member.
상기 제1표면에 상기 관통 전극들과 연결되는 하나 이상의 적층 반도체 칩들을 형성하는 단계;
상기 기판을 상기 반도체 칩을 단위로 다이싱하여 인터포저들을 형성하는 단계;
상기 인터포저들과 상기 반도체 칩들을 몰딩 시트 상에 일정한 간격으로 배열하는 단계;
상기 몰딩 시트 상에 보호 물질을 형성하는 단계; 및
상기 몰딩 시트를 제거한 다음, 상기 보호 물질을 다이싱하여, 인터포저, 반도체 칩 그리고 몰딩 부재의 단위 패키지를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지 제조방법.Forming through electrodes connecting the first surface of the front surface and the second surface of the white surface to the substrate;
Forming one or more laminated semiconductor chips connected to the penetrating electrodes on the first surface;
Dicing the substrate into the semiconductor chips to form interposers;
Arranging the interposers and the semiconductor chips at regular intervals on a molding sheet;
Forming a protective material on the molding sheet; And
Removing the molding sheet, and then dicing the protective material to form a unit package of the interposer, the semiconductor chip, and the molding member.
상기 제2표면에 상기 관통 전극들을 패키지 단위로 구획하는 캐비티를 형성하는 단계;
상기 제1표면에 상기 관통 전극들과 연결되는 하나 이상의 적층 반도체 칩들을 형성하는 단계;
상기 기판을 상기 패키지 단위로 다이싱하여 인터포저들을 형성하는 단계;
상기 인터포저들과 상기 반도체 칩들을 몰딩 시트 상에 일정한 간격으로 배열하는 단계;
상기 몰딩 시트 상에 보호 물질을 형성하는 단계; 및
상기 몰딩 시트를 제거한 다음, 상기 보호 물질을 다이싱하여, 인터포저, 반도체 칩 그리고 몰딩 부재의 단위 패키지를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지 제조방법.Forming through electrodes connecting the first surface and the second surface to the substrate;
Forming a cavity for partitioning the penetrating electrodes in a package unit on the second surface;
Forming one or more laminated semiconductor chips connected to the penetrating electrodes on the first surface;
Dicing the substrate in the package unit to form interposers;
Arranging the interposers and the semiconductor chips at regular intervals on a molding sheet;
Forming a protective material on the molding sheet; And
Removing the molding sheet, and then dicing the protective material to form a unit package of the interposer, the semiconductor chip, and the molding member.
상기 관통 전극들을 형성하는 단계는,
상기 기판의 제1표면을 패터닝하여, 비아 홀들을 형성하는 단계;
상기 비아 홀들에 절연막을 형성하는 단계;
상기 절연막 상에 관통 전극을 형성하는 단계; 및
상기 제1표면에 씨닝 시트를 부착시키고, 상기 제2표면을 씨닝하여, 상기 기판에 메립되던 관통 전극을 노출시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지 제조방법.The method according to claim 6,
The forming of the penetrating electrodes may include:
Patterning the first surface of the substrate to form via holes;
Forming an insulating film on the via-holes;
Forming a through electrode on the insulating film; And
Attaching a thinning sheet to the first surface and thinning the second surface to expose penetrating electrodes that are buried in the substrate.
상기 캐비티를 형성하는 단계는,
상기 제1표면에 부착된 상기 씨닝 시트를 이용하여, 상기 제2표면을 하프 컷팅하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지 제조방법.8. The method of claim 7,
Wherein forming the cavity comprises:
Wherein the second surface is half-cut using the thinning sheet attached to the first surface.
상기 비아 홀들에 도전성 물질을 채워, 관통 전극들을 형성하는 단계;
상기 기판의 제2표면을 씨닝하여, 상기 관통 전극을 노출시키는 단계;
상기 씨닝된 제2표면을 하프 컷팅하여, 상기 관통 전극들을 패키지 단위로 구획하는 캐비티를 형성하는 단계;
상기 기판의 제1표면에 하나 이상의 반도체 칩을 적층시켜, 상기 관통 전극들과 전기적으로 연결하는 단계;
상기 기판을 상기 패키지 단위의 인터포저로 다이싱하는 단계;
상기 인터포저와 상기 반도체 칩을 몰딩 시트 상에 일정한 간격으로 배치하는 단계;
상기 몰딩 시트 상에 적어도 상기 인터포저의 측면과 상기 반도체 칩의 상면을 덮도록 보호 물질을 형성하는 단계;
상기 몰딩 시트를 제거하는 단계; 및
상기 인터포저와 상기 반도체 칩을 포함하도록 상기 보호 물질을 상기 패키지 단위로 다이싱하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지 제조방법.Forming via holes in the first surface of the substrate;
Filling the via holes with a conductive material to form through electrodes;
Thinning a second surface of the substrate to expose the penetrating electrode;
Half-cutting the thinned second surface to form a cavity for partitioning the penetrating electrodes in a package unit;
Stacking one or more semiconductor chips on a first surface of the substrate and electrically connecting the penetrating electrodes;
Dicing the substrate with the interposer of the package unit;
Disposing the interposer and the semiconductor chip on the molding sheet at regular intervals;
Forming a protective material on at least the side surface of the interposer and the upper surface of the semiconductor chip on the molding sheet;
Removing the molding sheet; And
And dicing the protective material in the package unit so as to include the interposer and the semiconductor chip.
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