KR101513224B1 - Chemical bubbling device - Google Patents
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- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/448—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
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- C23C16/4482—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials by evaporation using carrier gas in contact with the source material by bubbling of carrier gas through liquid source material
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- C23C16/52—Controlling or regulating the coating process
Abstract
케미컬 버블링 장치가 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 케미컬 버블링 장치는, 내부에 액상 케미컬(chemical)이 수용되는 장치본체; 상기 장치본체의 상부 일측에 마련되며, 캐리어 가스가 이송되는 흐름을 단속하는 제1 밸브; 일단부는 상기 제1 밸브에 연결되고 타단부는 상기 장치본체의 내부를 통과하여 상기 장치본체 내의 하부 영역에 배치되는 캐리어 가스 이송라인; 및 상기 장치본체 내의 하부 영역에서 상기 캐리어 가스 이송라인과 연결되며, 상기 캐리어 가스 이송라인을 통해 공급되는 캐리어 가스를 균등하게 분출시켜 캐리어 가스 버블이 형성되도록 하는 버블링 모듈을 포함한다.A chemical bubbling apparatus is disclosed. A chemical bubbling apparatus according to an embodiment of the present invention includes: an apparatus main body in which a liquid chemical is received; A first valve provided on one side of the upper portion of the apparatus main body for controlling a flow through which the carrier gas is fed; A carrier gas transfer line having one end connected to the first valve and the other end disposed in a lower region within the apparatus body through the interior of the apparatus body; And a bubbling module connected to the carrier gas transfer line in a lower region of the apparatus main body and uniformly ejecting a carrier gas supplied through the carrier gas transfer line to form a carrier gas bubble.
Description
본 발명은, 케미컬 버블링 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 캐리어 가스 이송라인을 장치본체 내에 배치함으로써 충격 또는 조임 문제로 인한 케미컬 가스의 유출 사고를 해소할 수 있는 케미컬 버블링 장치에 관한 것이다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a chemical bubbling apparatus, and more particularly, to a chemical bubbling apparatus capable of eliminating an outflow of a chemical gas due to a shock or tightness problem by arranging a carrier gas transfer line in the apparatus main body .
반도체 웨이퍼나 디스플레이의 박막은 기상으로 공급된 반응물질, 즉 캐리어 가스(carrier gas)를 웨이퍼 상에 화학 기상 증착시킴으로써 성장시킬 수 있다.A thin film of a semiconductor wafer or a display can be grown by chemical vapor deposition of a reactant supplied in a gaseous phase, that is, a carrier gas, on a wafer.
이러한 캐리어 가스는 케미컬 버블링 장치에 의하여 생성되어 화학 기상 증착설비 등으로 제공될 수 있다.Such a carrier gas may be generated by a chemical bubbling apparatus and provided to a chemical vapor deposition apparatus or the like.
부연하면, 케미컬 버블링 장치는 질소, 수소 등 캐리어 가스를 공급받아 액체 상태의 반응물질을 통과시켜 캐리어 가스의 기포에 기체상태의 반응물질이 포집되게 하는 장치이다.In addition, the chemical bubbling apparatus is a device for supplying a carrier gas such as nitrogen or hydrogen and passing a reactant in a liquid state to collect a gaseous reactant in bubbles of the carrier gas.
케미컬 버블링 장치에서 반응물질은 적당히 가열됨으로써 반응물질의 기화를 촉진할 수 있다.In the chemical bubbling apparatus, the reactants may be suitably heated to promote the vaporization of the reactants.
케미컬 버블링 장치의 산출물인 캐리어 가스와 기상의 반응물질은 캐리어 가스의 압력, 온도, 반응물질의 농도가 균일할 것을 요구한다. 이는 화학 기상 증착에 의하여 생성되는 웨이퍼의 박막의 품질을 결정하는 요소로 높은 수준으로 관리될 것이 요구되기 때문이다.The carrier gas and the gaseous reactant, which are products of the chemical bubbling apparatus, require that the pressure, temperature, and concentration of the reactant in the carrier gas be uniform. This is because it is required to be managed at a high level as a factor that determines the quality of a thin film of a wafer produced by chemical vapor deposition.
그러나 케미컬 버블링 장치 내에서 캐리어 가스는 기포 상태가 되기 때문에, 기포의 크기에 따라 액체인 반응물질 안에서 크기, 상승속도, 상승시간 등이 불규칙한 것이 일반적이다.However, in the chemical bubbling apparatus, since the carrier gas is in a bubble state, the size, rising speed, rise time, and the like are generally irregular in the reaction material which is liquid depending on the size of the bubbles.
캐리어 가스가 액상인 반응물질을 통과하는 시간 등을 정밀하게 제어하기 어렵기 때문에, 결국 케미컬 버블링 장치에서 배출되는 기상의 반응물질의 농도 등을 일정하게 유지하는 것이 쉽지 아니하다.It is difficult to precisely control the time during which the carrier gas passes through the reactant in the form of a liquid, and consequently, it is not easy to keep the concentration of the gaseous reactant discharged from the chemical bubbling apparatus constant.
이러한 단점을 해소하기 위해 대한민국특허청 등록번호 제10-1084997호에 캐리어 가스에 의한 화합물 기화용 버블러가 제안된 바 있다.In order to overcome such disadvantages, Korean Patent Registration No. 10-1084997 has proposed a bubbler for vaporizing a compound by a carrier gas.
제안된 상기 기술은 배출되는 캐리어 가스와 기상의 반응물질의 농도, 압력 등의 특성을 일정하게 유지시킬 수 있도록 하고 있다.The above-described technique makes it possible to maintain constant characteristics such as concentration, pressure, etc. of the discharged carrier gas and the gaseous reactant.
그런데, 상기 문헌에 개시된 종래기술의 경우, 캐리어 가스가 이송되는 캐리어 가스 이송라인이 장치본체의 외부에 배치되어 있는 관계로 충격이 가해지거나 또는 라인의 조임 부분이 풀릴 시 케미컬 가스가 외부로 유출되어 안전사고를 일으킬 우려가 높은 문제점이 있다.However, in the case of the prior art disclosed in the above document, since the carrier gas transfer line through which the carrier gas is transferred is disposed outside the apparatus main body, when the impact is applied, or when the line fastening portion is disengaged, the chemical gas flows out There is a high risk of causing a safety accident.
뿐만 아니라 상기 문헌에 개시된 종래기술의 경우, 버블러 영역의 재질이 테프론(TEFLON) 계열의 재질로 적용되기 때문에 장기 사용 시 케미컬 가스에 의해 오염원이 생겨 품질 불량을 초래할 수 있는 문제점이 있다.
In addition, since the material of the bubbler region is applied to the Teflon-based material in the prior art disclosed in the above document, contamination may occur due to chemical gas during long-term use, which may result in poor quality.
본 발명의 목적은, 캐리어 가스 이송라인을 장치본체 내에 배치함으로써 충격 또는 조임 문제로 인한 케미컬 가스의 유출 사고를 해소할 수 있는 케미컬 버블링 장치를 제공하는 것이다.
An object of the present invention is to provide a chemical bubbling device capable of eliminating the leakage of a chemical gas due to a shock or tightness problem by arranging a carrier gas transfer line in the apparatus main body.
상기 목적은, 내부에 액상 케미컬(chemical)이 수용되는 장치본체; 상기 장치본체의 상부 일측에 마련되며, 캐리어 가스가 이송되는 흐름을 단속하는 제1 밸브; 일단부는 상기 제1 밸브에 연결되고 타단부는 상기 장치본체의 내부를 통과하여 상기 장치본체 내의 하부 영역에 배치되는 캐리어 가스 이송라인; 및 상기 장치본체 내의 하부 영역에서 상기 캐리어 가스 이송라인과 연결되며, 상기 캐리어 가스 이송라인을 통해 공급되는 캐리어 가스를 균등하게 분출시켜 캐리어 가스 버블이 형성되도록 하는 버블링 모듈을 포함하는 것을 특징으로 하는 케미컬 버블링 장치에 의해 달성된다.The above object can be achieved by an apparatus comprising: an apparatus main body in which a liquid chemical is received; A first valve provided on one side of the upper portion of the apparatus main body for controlling a flow through which the carrier gas is fed; A carrier gas transfer line having one end connected to the first valve and the other end disposed in a lower region within the apparatus body through the interior of the apparatus body; And a bubbling module connected to the carrier gas transfer line in a lower region of the apparatus main body and forming a carrier gas bubble by uniformly spraying the carrier gas supplied through the carrier gas transfer line Is achieved by a chemical bubbling apparatus.
상기 캐리어 가스 이송라인은 상기 장치본체의 중앙 영역에 배치될 수 있다.The carrier gas transfer line may be disposed in a central region of the apparatus body.
상기 버블링 모듈은 스테인리스 스틸(stainless steel) 재질로 제작될 수 있다.The bubbling module may be made of stainless steel.
상기 버블링 모듈은, 상기 캐리어 가스 이송라인의 하단부가 결합되는 라인 결합부; 및 상기 라인 결합부를 기준으로 하여 방사상으로 형성되되 외벽에 다수의 통공이 형성되는 다수의 모듈 날개부를 포함할 수 있다.The bubbling module includes: a line coupling portion to which a lower end of the carrier gas transfer line is coupled; And a plurality of module wings formed radially with respect to the line coupling portion and having a plurality of through holes formed on an outer wall thereof.
상기 다수의 모듈 날개부 각각은, 상기 라인 결합부에서 일측으로 연장되는 제1 가로부; 상기 제1 가로부의 단부에서 상기 제1 가로부와 교차 배치되는 세로부; 상기 세로부의 단부에서 곡선 형상으로 형성되는 곡선부; 상기 곡선부의 단부에서 상기 제1 가로부와 나란하게 배치되는 제2 가로부; 및 상기 제1 및 제2 가로부 사이 영역에서 상기 제1 및 제2 가로부와 나란하게 배치되고 상기 세로부와 연결되는 제3 가로부를 포함하며, 상기 제1 내지 제3 가로부, 상기 세로부 및 상기 곡선부 모두에 상기 통공이 등간격을 가지고 형성될 수 있다.Each of the plurality of module wings includes: a first transverse portion extending to one side of the line connecting portion; A vertical portion crossing the first transverse portion at an end of the first transverse portion; A curved portion formed in a curved shape at an end of the vertical portion; A second transverse portion disposed at an end of the curved portion in parallel with the first transverse portion; And a third transverse portion disposed in parallel with the first and second transverse portions in the area between the first and second transverse portions and connected to the longitudinal portion, wherein the first through third transverse portions, And the through holes may be formed at equal intervals in both the curved portions.
상기 제2 가로부가 상기 제1 및 제3 가로부보다 길게 형성되되 상기 버블링 모듈의 평면 투영 시 상기 제2 가로부는 상기 라인 결합부를 기준으로 하여 반시계 방의 배열 구조를 가질 수 있다.The second transverse portion may be longer than the first and third transverse portions, and the second transverse portion may have a counterclockwise arrangement structure with respect to the line connecting portion when the bubbling module is projected in a plane.
상기 제1 밸브의 일측에 형성되며, 상기 장치본체 내로 액상 케미컬이 이송되는 흐름을 단속하는 제2 밸브; 및 상기 제1 밸브의 타측에 형성되며, 상기 장치본체 내에서 기화된 반응물질과 캐리어 가스가 배출되는 흐름을 단속하는 제3 밸브를 포함할 수 있다.A second valve formed at one side of the first valve for interrupting a flow through which the liquid chemical is transferred into the apparatus main body; And a third valve formed on the other side of the first valve for interrupting the flow of the vaporized reactant and the carrier gas in the apparatus main body.
상기 제2 밸브와 연결되고 상기 장치본체 내에 배치되는 액상 케미컬 이송라인; 및 상기 제3 밸브와 연결되고 상기 장치본체 내에 배치되는 기화된 반응물질 이송라인을 더 포함할 수 있다.A liquid chemical transfer line connected to the second valve and disposed within the apparatus body; And a vaporized reactant transfer line connected to the third valve and disposed within the apparatus body.
상기 장치본체 내에 수용되는 액상 케미컬의 수위를 감지하는 수위 감지센서 및 상기 수위 감지센서로부터의 정보에 기초하여 상기 제1 내지 제3 밸브 중 적어도 어느 하나의 동작을 컨트롤하는 컨트롤러를 더 포함할 수 있다.And a controller for controlling the operation of at least one of the first to third valves based on information from the level sensor and a level sensor for sensing the level of the liquid chemical contained in the apparatus body .
상기 수위 감지센서는, 상기 액상 케미컬의 적정 수위를 감지하는 하부 수위 감지센서; 및 상기 하부 수위 감지센서보다 상부에 배치되며, 상기 액상 케미컬의 오버 플로(over flow)를 감지하는 상부 수위 감지센서를 포함할 수 있다.The water level detection sensor includes: a lower water level detection sensor for sensing an appropriate water level of the liquid chemical; And a upper level sensor disposed above the lower level sensor for sensing the overflow of the liquid chemical.
상기 장치본체의 외측에는 쿨링 재킷(COOLING JACKET)이 배치될 수 있다.A cooling jacket may be disposed outside the apparatus body.
상기 다수의 모듈 날개부들 각각은 십자가 형상을 가질 수 있다.
Each of the plurality of module wings may have a cross shape.
본 발명에 따르면, 캐리어 가스 이송라인을 장치본체 내에 배치함으로써 충격 또는 조임 문제로 인한 케미컬 가스의 유출 사고를 해소할 수 있는 효과가 있다.According to the present invention, there is an effect that the leakage of the chemical gas due to the impact or tightness problem can be solved by disposing the carrier gas transfer line in the apparatus main body.
버블링 모듈의 재질을 스테인리스 스틸로 변경 적용할 경우, 버블링 모듈을 장기간 사용하더라도 오염원이 발생되지 않도록 하여 품질 불량 문제를 적절하게 해소할 수 있는 효과가 있다.
When the material of the bubbling module is changed to stainless steel, a contamination source is not generated even when the bubbling module is used for a long period of time, and the quality defect problem can be appropriately solved.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 케미컬 버블링 장치의 사시도이다.
도 2는 도 1의 상부 영역의 확대도이다.
도 3은 도 2의 부분 단면도이다.
도 4는 버블링 모듈의 평면 구조도이다.
도 5는 케미컬 버블링 장치의 제어 블록도이다.
도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 케미컬 버블링 장치에 적용되는 버블링 모듈의 평면 구조도이다.1 is a perspective view of a chemical bubbling apparatus according to a first embodiment of the present invention.
2 is an enlarged view of the upper region of Fig.
3 is a partial cross-sectional view of Fig.
4 is a plan view of the bubbling module.
5 is a control block diagram of a chemical bubbling apparatus.
6 is a plan structural view of a bubbling module applied to a chemical bubbling apparatus according to a second embodiment of the present invention.
이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 케미컬 버블링 장치의 사시도, 도 2는 도 1의 상부 영역의 확대도, 도 3은 도 2의 부분 단면도, 도 4는 버블링 모듈의 평면 구조도, 그리고 도 5는 케미컬 버블링 장치의 제어 블록도이다.Fig. 1 is a perspective view of a chemical bubbling apparatus according to a first embodiment of the present invention, Fig. 2 is an enlarged view of an upper region of Fig. 1, Fig. 3 is a partial sectional view of Fig. , And Figure 5 is a control block diagram of a chemical bubbling apparatus.
이들 도면을 참조하면, 본 실시예의 케미컬 버블링 장치는 충격 또는 조임 문제로 인한 케미컬 가스의 유출 사고를 해소할 수 있도록 한 것으로서, 장치본체(110), 장치본체(110)의 상부에 마련되는 제1 내지 제3 밸브(131~133), 그리고 제1 내지 제3 밸브(131~133)와 연결되는 다수의 라인들(141~143)을 포함한다.Referring to these figures, the chemical bubbling apparatus of the present embodiment is capable of eliminating the leakage of the chemical gas due to the impact or tightness problem. The chemical bubbling apparatus includes a
장치본체(110)는 본 실시예의 케미컬 버블링 장치의 외관을 형성하는 하우징으로서, 그 내부에는 액상 케미컬(chemical)이 수용된다.The apparatus
도 1에 도시된 바와 같이, 장치본체(110)는 원통형 구조물로 제작될 수 있으며, 그 상부 영역에 제1 내지 제3 밸브(131~133)가 갖춰지는 구조를 갖는다.As shown in FIG. 1, the apparatus
하지만, 이러한 형상에 본 발명의 권리범위가 제한될 수 없다. 즉 장치본체(110)가 원통형 구조물인 아닌 사각통 혹은 삼각통 등 다각형 구조를 취할 수도 있을 것이며, 그렇게 형성되더라도 관계는 없다.However, the scope of the rights of the present invention can not be limited to such a shape. That is, the apparatus
장치본체(110) 내에는 장치본체(110) 내에 수용되는 액상 케미컬의 수위를 감지하는 수위 감지센서(116,117)가 마련된다.In the apparatus
수위 감지센서(116,117)는 도 4에 도시된 바와 같이, 하부 수위 감지센서(116)와, 하부 수위 감지센서(116)보다 상부에 배치되는 상부 수위 감지센서(117)를 포함할 수 있다.The
하부 수위 감지센서(116)는 액상 케미컬의 적정 수위를 감지하고, 상부 수위 감지센서(117)는 액상 케미컬의 오버 플로(over flow)를 감지한다.The lower
수위 감지센서(116,117)로부터의 정보는 모두 컨트롤러(160)로 전송된다.All information from the
장치본체(110)의 외측에는 쿨링 재킷(COOLING JACKET, 120)이 배치된다. 쿨링 재킷(120)은 장치본체(110) 내에 수용되는 액상 케미컬 원료의 온도를 일정한 온도로 유지시키는 역할을 한다.A
제1 내지 제3 밸브(131~133)는 장치본체(110)의 상부 영역에 배치된다. 제1 내지 제3 밸브(131~133)가 장치본체(110)의 측부에 배치되는 것을 고려해볼 수도 있으나 본 실시예처럼 장치본체(110)의 상부에 제1 내지 제3 밸브(131~133)가 배치되는 것이 바람직할 수 있다.The first to
제1 내지 제3 밸브(131~133)가 배치될 수 있도록 장치본체(110)의 상부에는 밸브 장착용 헤드(111)가 마련될 수 있다.A
제1 밸브(131)는 장치본체(110)의 상부 일측에 마련되며, 캐리어 가스가 이송되는 흐름을 단속한다.The
제2 밸브(132)는 제1 밸브(131)의 일측에 형성되며, 장치본체(110) 내로 액상 케미컬이 이송되는 흐름을 단속한다.The
그리고 제3 밸브(133)는 제1 밸브(131)의 타측에 형성되며, 장치본체(110) 내에서 기화된 반응물질과 캐리어 가스가 배출되는 흐름을 단속한다.The
이러한 제1 내지 제3 밸브(131~133) 모두는 기계식 밸브일 수도 있으나 전자제어가 가능한 솔레노이드 밸브인 것이 바람직하며, 그럴 경우, 원격 및 무선 제어가 편리한 이점이 있다.Although all of the first to
한편, 제1 밸브(131)에는 캐리어 가스 이송라인(141)이 연결되고, 제2 밸브(132)에는 액상 케미컬 이송라인(142)이 연결되며, 제3 밸브(133)에는 기화된 반응물질 이송라인(143)이 연결된다.A carrier
본 실시예의 경우, 캐리어 가스 이송라인(141)이 중앙 영역에 배치되고, 그 양측으로 액상 케미컬 이송라인(142)과 기화된 반응물질 이송라인(143)이 배치되는 구조를 갖는다.In the case of this embodiment, the carrier
이하, 라인들(141~143)들에 대해 살펴본다.Hereinafter, the
우선, 캐리어 가스 이송라인(141)에 대해 살펴본다. 캐리어 가스 이송라인(141)은 그 일단부가 제1 밸브(131)에 연결되고 타단부가 장치본체(110)의 내부를 통과하여 장치본체(110) 내의 하부 영역에 배치된다.First, the carrier
캐리어 가스 이송라인(141)은 제1 밸브(131)를 통해서 캐리어 가스가 이송되는 라인을 이룬다.The carrier
본 실시예처럼 캐리어 가스 이송라인(141)이 장치본체(110)의 내부에 배치되면, 설사 장치본체(110) 측으로 충격이 가해지거나 또는 제1 밸브(131)와 캐리어 가스 이송라인(141)의 조임 부분이 풀리더라도 케미컬 가스가 외부로 유출되어 안전사고를 일으킬 우려는 없다.When the carrier
실제, 반도체 생산 중에 케미컬에 의한 안전사고 문제가 큰 이슈로 발생하고 있다는 점을 감안할 때, 본 실시예처럼 캐리어 가스 이송라인(141)을 장치본체(110) 내에 배치하는 것은 상당히 중요하다 할 수 있다.Actually, it is very important to arrange the carrier
본 실시예에서 캐리어 가스 이송라인(141)은 장치본체(110)의 중앙 영역에 배치된다.In this embodiment, the carrier
장치본체(110) 내에서 캐리어 가스 이송라인(141)의 하단부는 버블링 모듈(150)과 연결되는데 버블링 모듈(150)에 대해서는 후술한다.The lower end of the carrier
다음으로, 액상 케미컬 이송라인(142)에 대해 살펴본다. 액상 케미컬 이송라인(142)은 제2 밸브(132)와 연결되고 장치본체(110) 내에 배치되어 장치본체(110) 내로 액상 케미컬이 이송되는 라인을 이룬다.Next, the liquid chemical transfer line 142 will be described. The liquid chemical transfer line 142 is connected to the
마지막으로, 기화된 반응물질 이송라인(143)에 대해 살펴본다. 기화된 반응물질 이송라인(143)은 제3 밸브(133)와 연결되고 장치본체(110) 내에 배치되어 장치본체(110) 내에서 기화된 반응물질과 캐리어 가스가 배출되는 라인을 이룬다.Finally, the vaporized
한편, 버블링 모듈(150)은 장치본체(110) 내의 하부 영역에서 캐리어 가스 이송라인(141)과 연결되며, 캐리어 가스 이송라인(141)을 통해 공급되는 캐리어 가스를 균등하게 분출시켜 캐리어 가스 버블이 형성되도록 하는 역할을 한다.The bubbling
예컨대, 장치본체(110) 내에는 액상 케미컬이 수용되어 있기 때문에 액상 케미컬의 하부 영역에서 버블링 모듈(150)을 통해 캐리어 가스를 분출시키면 캐리어 가스 버블이 형성될 수 있다.For example, since the liquid chemical is contained in the apparatus
다시 말해, 본 실시예의 버블링 모듈(150)은 장치본체(110) 내의 캐리어 가스의 기포를 일정하고 균등하게 형성시켜 안정되게 버블링 작용이 진행되도록 하는 역할을 한다. 종래와 달리, 본 실시예의 버블링 모듈(150)은 간단하고 심플하면서도 효과가 우수한 구조적인 특징을 갖는다.In other words, the bubbling
이때, 캐리어 가스가 버블링 모듈(150)의 전체 영역에서 골고루 또한 균등하게 분출될 수 있도록 한다면 장치본체(110) 내에서의 버블량이 많아지면서 골고루 확산될 수 있어 많은 양을 이끌어내기에 충분하다.At this time, if the carrier gas can be evenly sprayed evenly over the entire area of the bubbling
이와 같은 역할을 담당하는 버블링 모듈(150)은 종전과 달리 스테인리스 스틸(stainless steel) 재질로 제작된다.The bubbling
종전의 것이 테프론(TEFLON) 계열의 재질로 적용되었기 때문에 장기 사용 시 케미컬 가스에 의해 오염원이 생겨 품질 불량을 초래할 수 있었던 반면, 이를 스테인리스 스틸 재질로 적용할 경우, 이와 같은 문제점을 말끔히 해소시킬 수 있다.Since the former is applied to the Teflon-based material, it is possible to cause a quality defect due to a contamination source due to chemical gas during long-term use. However, if it is applied to a stainless steel material, such problems can be solved .
버블링 모듈(150)은 캐리어 가스 이송라인(141)의 하단부가 결합되는 라인 결합부(151)와, 라인 결합부(151)를 기준으로 하여 방사상으로 형성되되 외벽에 다수의 통공(H)이 형성되는 다수의 모듈 날개부(152)를 포함한다.The bubbling
본 실시예의 경우, 방사상의 모듈 날개부(152)가 라인 결합부(151)를 기준으로 하여 4개 배치되고 있다.In the case of this embodiment, four
특히, 라인 결합부(151)가 장치본체(110) 내에서 중앙의 센터점을 이루고 이 센터점을 기준으로 하여 4개의 모듈 날개부(152)가 방사상의 배열 구조 즉 바람개비 구조를 가짐에 따라 매우 균일한 가스 공급을 이루어낼 수 있으며, 이에 따라 많은 양의 버블을 형성시킬 수 있다.Particularly, since the
다수의 모듈 날개부(152) 각각은, 라인 결합부(151)에서 일측으로 연장되는 제1 가로부(152a)와, 제1 가로부(152a)의 단부에서 제1 가로부(152a)와 교차 배치되는 세로부(152b)와, 세로부(152b)의 단부에서 곡선 형상으로 형성되는 곡선부(152c)와, 곡선부(152c)의 단부에서 제1 가로부(152a)와 나란하게 배치되는 제2 가로부(152d)와, 제1 및 제2 가로부(152a,152d) 사이 영역에서 제1 및 제2 가로부(152a,152d)와 나란하게 배치되고 세로부(152b)와 연결되는 제3 가로부(152e)를 포함한다.Each of the plurality of
이때, 제1 내지 제3 가로부(152a,152d,152e), 세로부(152b) 및 곡선부(152c) 모두에 통공(H)이 등간격을 가지고 형성된다.At this time, through holes H are formed at equal intervals in both the first to third
그리고 단위 면적 당 보다 많은 통공(H)을 형성시키기 위하여 제2 가로부(152d)가 제1 및 제3 가로부(152a,152e)보다 길게 형성되되 버블링 모듈(150)의 평면 투영 시 제2 가로부(152d)는 라인 결합부(151)를 기준으로 하여 반시계 방의 배열 구조를 갖는다.The second
마지막으로, 컨트롤러(160)는 수위 감지센서(116,117)로부터의 정보에 기초하여 제1 내지 제3 밸브(131~133) 중 적어도 어느 하나의 동작을 컨트롤한다.Finally, the
이러한 역할을 수행하는 컨트롤러(160)는, 도 5에 도시된 바와 같이, 중앙처리장치(161, CPU), 메모리(162, MEMORY), 서포트 회로(163, SUPPORT CIRCUIT)를 포함할 수 있다.The
중앙처리장치(161)는 본 실시예에서 수위 감지센서(116,117)로부터의 정보에 기초하여 제1 내지 제3 밸브(131~133) 중 적어도 어느 하나의 동작을 컨트롤하기 위해서 산업적으로 적용될 수 있는 다양한 컴퓨터 프로세서들 중 하나일 수 있다.In order to control the operation of at least one of the first to
메모리(162, MEMORY)는 중앙처리장치(161)와 연결된다. 메모리(162)는 컴퓨터로 읽을 수 있는 기록매체로서 로컬 또는 원격지에 설치될 수 있으며, 예를 들면 랜덤 액세스 메모리(RAM), ROM, 플로피 디스크, 하드 디스크 또는 임의의 디지털 저장 형태와 같이 쉽게 이용가능한 적어도 하나 이상의 메모리이다.The memory 162 (MEMORY) is connected to the
서포트 회로(163, SUPPORT CIRCUIT)는 중앙처리장치(161)와 결합되어 프로세서의 전형적인 동작을 지원한다. 이러한 서포트 회로(163)는 캐시, 파워 서플라이, 클록 회로, 입/출력 회로, 서브시스템 등을 포함할 수 있다.A support circuit 163 (SUPPORT CIRCUIT) is coupled with the
본 실시예에서 컨트롤러(160)는 수위 감지센서(116,117)로부터의 정보에 기초하여 제1 내지 제3 밸브(131~133) 중 적어도 어느 하나의 동작을 컨트롤한다. 이때, 컨트롤러(160)가 수위 감지센서(116,117)로부터의 정보에 기초하여 제1 내지 제3 밸브(131~133) 중 적어도 어느 하나의 동작을 컨트롤하는 일련의 프로세스 등은 메모리(162)에 저장될 수 있다.In this embodiment, the
전형적으로는 소프트웨어 루틴이 메모리(162)에 저장될 수 있다. 소프트웨어 루틴은 또한 다른 중앙처리장치(미도시)에 의해서 저장되거나 실행될 수 있다.Typically, a software routine may be stored in the
본 발명에 따른 프로세스는 소프트웨어 루틴에 의해 실행되는 것으로 설명하였지만, 본 발명의 프로세스들 중 적어도 일부는 하드웨어에 의해 수행되는 것도 가능하다.Although processes according to the present invention are described as being performed by software routines, it is also possible that at least some of the processes of the present invention may be performed by hardware.
이처럼, 본 발명의 프로세스들은 컴퓨터 시스템 상에서 수행되는 소프트웨어로 구현되거나 또는 집적 회로와 같은 하드웨어로 구현되거나 또는 소프트웨어와 하드웨어의 조합에 의해서 구현될 수 있다.As such, the processes of the present invention may be implemented in software executed on a computer system, or in hardware such as an integrated circuit, or in combination of software and hardware.
이상 설명한 바와 같은 구조에 따르면, 장치본체(110) 내의 하부 영역에서 캐리어 가스 이송라인(141)을 통해 공급되는 캐리어 가스는 버블링 모듈(150)을 통해 균등하게 분출됨에 따라 캐리어 가스 버블로 형성될 수 있다.According to the structure as described above, the carrier gas supplied through the carrier
이와 같은 구조와 작용을 갖는 본 실시예에 따르면, 캐리어 가스 이송라인(141)을 장치본체(110) 내에 배치함으로써 충격 또는 조임 문제로 인한 케미컬 가스의 유출 사고를 해소할 수 있게 된다.According to the present embodiment having such a structure and action, the carrier
버블링 모듈(150)의 재질을 스테인리스 스틸로 변경 적용할 경우, 버블링 모듈(150)을 장기간 사용하더라도 오염원이 발생되지 않도록 하여 품질 불량 문제를 적절하게 해소할 수 있게 된다.When the material of the bubbling
도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 케미컬 버블링 장치에 적용되는 버블링 모듈의 평면 구조도이다.6 is a plan structural view of a bubbling module applied to a chemical bubbling apparatus according to a second embodiment of the present invention.
본 실시예 역시, 버블링 모듈(250)은 라인 결합부(152)와, 라인 결합부(152)를 기준으로 하여 방사상으로 형성되되 외벽에 다수의 통공(H)이 형성되는 다수의 모듈 날개부(252)를 포함하고 있다.The bubbling
이때, 모듈 날개부(252)들은 전술한 실시예와 달리 십자가 형상을 갖는다.At this time, the
이와 같은 버블링 모듈(250)이 적용되더라도 캐리어 가스 이송라인(141, 도 4 참조)을 장치본체(210) 내에 배치함으로써 충격 또는 조임 문제로 인한 케미컬 가스의 유출 사고를 해소할 수 있게 된다.Even if the bubbling
버블링 모듈(250)의 재질을 스테인리스 스틸로 변경 적용할 경우, 버블링 모듈(250)을 장기간 사용하더라도 오염원이 발생되지 않도록 하여 품질 불량 문제를 적절하게 해소할 수 있게 된다.When the material of the bubbling
이와 같이 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명하다. 따라서 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.
It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention. Accordingly, such modifications or variations are intended to fall within the scope of the appended claims.
110 : 장치본체 116 : 하부 수위 감지센서
117 : 상부 수위 감지센서 120 : 쿨링 재킷
131 : 제1 밸브 132 : 제2 밸브
133 : 제3 밸브 141 : 캐리어 가스 이송라인
142 : 액상 케미컬 이송라인 143 : 기화된 반응물질 이송라인
150 : 버블링 모듈 151 : 라인 결합부
152 : 모듈 날개부 152a : 제1 가로부
152b : 세로부 152c : 곡선부
152d : 제2 가로부 152e : 제3 가로부
160 : 컨트롤러110: Device main body 116: Lower level sensor
117: Upper level sensor 120: Cooling jacket
131: first valve 132: second valve
133: third valve 141: carrier gas transfer line
142: liquid chemical transfer line 143: vaporized reactant transfer line
150: bubbling module 151: line coupling part
152:
152b:
152d: second
160: Controller
Claims (12)
상기 장치본체의 상부 일측에 마련되며, 캐리어 가스가 이송되는 흐름을 단속하는 제1 밸브;
일단부는 상기 제1 밸브에 연결되고 타단부는 상기 장치본체의 내부를 통과하여 상기 장치본체 내의 하부 영역에 배치되는 캐리어 가스 이송라인; 및
상기 장치본체 내의 하부 영역에서 상기 캐리어 가스 이송라인과 연결되며,상기 캐리어 가스 이송라인을 통해 공급되는 캐리어 가스를 균등하게 분출시켜 캐리어 가스 버블이 형성되도록 하는 버블링 모듈을 포함하되,
상기 버블링 모듈은,
상기 캐리어 가스 이송라인은 상기 장치본체의 중앙 영역에 배치되고, 스테인리스 스틸(stainless steel) 재질로 제작되는 것을 특징으로 하는 케이컬 버블링 장치.A device body in which a liquid chemical is received;
A first valve provided on one side of the upper portion of the apparatus main body for controlling a flow through which the carrier gas is fed;
A carrier gas transfer line having one end connected to the first valve and the other end disposed in a lower region within the apparatus body through the interior of the apparatus body; And
And a bubbling module connected to the carrier gas transfer line in a lower region of the apparatus main body to uniformly spray a carrier gas supplied through the carrier gas transfer line to form a carrier gas bubble,
Wherein the bubbling module comprises:
Wherein the carrier gas transfer line is disposed in a central region of the apparatus body and is made of stainless steel material.
상기 버블링 모듈은,
상기 캐리어 가스 이송라인의 하단부가 결합되는 라인 결합부;
상기 라인 결합부를 기준으로 하여 방사상으로 형성되되 외벽에 다수의 통공이 형성되는 다수의 모듈 날개부를 포함하는 것을 특징으로 하는 케미컬 버블링 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the bubbling module comprises:
A line coupling portion to which a lower end of the carrier gas transfer line is coupled;
And a plurality of module vanes formed radially with respect to the line coupling portion and having a plurality of through holes formed on an outer wall thereof.
상기 다수의 모듈 날개부 각각은,
상기 라인 결합부에서 일측으로 연장되는 제1 가로부;
상기 제1 가로부의 단부에서 상기 제1 가로부와 교차 배치되는 세로부;
상기 세로부의 단부에서 곡선 형상으로 형성되는 곡선부;
상기 곡선부의 단부에서 상기 제1 가로부와 나란하게 배치되는 제2 가로부; 및
상기 제1 및 제2 가로부 사이 영역에서 상기 제1 및 제2 가로부와 나란하게 배치되고 상기 세로부와 연결되는 제3 가로부를 포함하며,
상기 제1 내지 제3 가로부, 상기 세로부 및 상기 곡선부 모두에 상기 통공이 등간격을 가지고 형성되는 것을 특징으로 하는 케미컬 버블링 장치.
5. The method of claim 4,
Each of the plurality of module wings includes:
A first transverse portion extending to one side of the line connecting portion;
A vertical portion crossing the first transverse portion at an end of the first transverse portion;
A curved portion formed in a curved shape at an end of the vertical portion;
A second transverse portion disposed at an end of the curved portion in parallel with the first transverse portion; And
And a third transverse portion disposed in parallel with the first and second transverse portions in the region between the first and second transverse portions and connected to the longitudinal portion,
Wherein the through holes are formed at equal intervals in the first to third transverse portions, the vertical portion, and the curved portion.
상기 제2 가로부가 상기 제1 및 제3 가로부보다 길게 형성되되 상기 버블링 모듈의 평면 투영 시 상기 제2 가로부는 상기 라인 결합부를 기준으로 하여 반시계 방의 배열 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 케미컬 버블링 장치.
6. The method of claim 5,
Wherein the second transverse portion is longer than the first and third transverse portions, and the second transverse portion has a counter-clockwise arrangement structure with respect to the line connecting portion when the bubble module is projected in a plane. Ring device.
상기 제1 밸브의 일측에 형성되며, 상기 장치본체 내로 액상 케미컬이 이송되는 흐름을 단속하는 제2 밸브; 및
상기 제1 밸브의 타측에 형성되며, 상기 장치본체 내에서 기화된 반응물질과 캐리어 가스가 배출되는 흐름을 단속하는 제3 밸브를 포함하는 것을 특징으로 하는 케미컬 버블링 장치.
The method according to claim 1,
A second valve formed at one side of the first valve for interrupting a flow through which the liquid chemical is transferred into the apparatus main body; And
And a third valve formed on the other side of the first valve for interrupting the flow of vaporized reactant and carrier gas in the apparatus main body.
상기 제2 밸브와 연결되고 상기 장치본체 내에 배치되는 액상 케미컬 이송라인; 및
상기 제3 밸브와 연결되고 상기 장치본체 내에 배치되는 기화된 반응물질 이송라인을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 케미컬 버블링 장치.
8. The method of claim 7,
A liquid chemical transfer line connected to the second valve and disposed within the apparatus body; And
And a vaporized reactant transfer line connected to the third valve and disposed within the apparatus body.
상기 장치본체 내에 수용되는 액상 케미컬의 수위를 감지하는 수위 감지센서 및
상기 수위 감지센서로부터의 정보에 기초하여 상기 제1 내지 제3 밸브 중 적어도 어느 하나의 동작을 컨트롤하는 컨트롤러를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 케미컬 버블링 장치.
8. The method of claim 7,
A water level sensor for sensing the level of the liquid chemical contained in the apparatus main body;
Further comprising a controller for controlling the operation of at least one of the first to third valves based on information from the water level detection sensor.
상기 수위 감지센서는,
상기 액상 케미컬의 적정 수위를 감지하는 하부 수위 감지센서; 및
상기 하부 수위 감지센서보다 상부에 배치되며, 상기 액상 케미컬의 오버 플로(over flow)를 감지하는 상부 수위 감지센서를 포함하는 것을 특징으로 하는 케미컬 버블링 장치.
10. The method of claim 9,
The water level sensor comprises:
A lower level sensor for sensing an appropriate level of the liquid chemical; And
And a upper water level sensor disposed above the lower water level sensor for sensing an overflow of the liquid chemical.
상기 장치본체의 외측에는 쿨링 재킷(COOLING JACKET)이 배치되는 것을 특징으로 하는 케미컬 버블링 장치.
The method according to claim 1,
And a cooling jacket is disposed outside the apparatus main body.
상기 다수의 모듈 날개부들 각각은 십자가 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 케미컬 버블링 장치.5. The method of claim 4,
Wherein each of the plurality of module wings has a cross shape.
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KR1020130057788A KR101513224B1 (en) | 2013-05-22 | 2013-05-22 | Chemical bubbling device |
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KR20140137184A KR20140137184A (en) | 2014-12-02 |
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Citations (1)
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---|---|---|---|---|
JP3747403B2 (en) * | 1997-12-08 | 2006-02-22 | エイエスエムエル ユーエス インコーポレイテッド | Photoresist coating process control device with solvent vapor sensor |
-
2013
- 2013-05-22 KR KR1020130057788A patent/KR101513224B1/en active IP Right Grant
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JP3747403B2 (en) * | 1997-12-08 | 2006-02-22 | エイエスエムエル ユーエス インコーポレイテッド | Photoresist coating process control device with solvent vapor sensor |
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