KR101505163B1 - 배가스 처리 장치 및 방법 - Google Patents

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Abstract

배가스 처리 장치 및 방법이 개시된다. 유황가스가 함유된 배가스가 공급되는 공급관; 상기 유황가스 농도를 측정하는 제1 센서; 상기 배가스 내 상기 유황가스로부터 유황을 제조하는 유황생성부; 상기 유황가스와 반응하여 상기 유황을 생성하기 위한 공기가 상기 유황생성부로 주입되도록, 상기 유황생성부에 형성되는 공기 주입부; 기 유황의 생성을 촉진하기 위한 산소가 상기 제1 센서에 의해 측정된 상기 유황가스 농도의 변화와 상응하여 유황생성부로 주입되도록, 상기 유황생성부에 형성되는 산소 주입부; 및 상기 유황의 생성에 따라 발생되는 테일 가스(tail gas)가 배출되도록, 상기 유황생성부에 설치되는 배출관을 포함하는 배가스 처리 장치 및 방법이 제공된다.

Description

배가스 처리 장치 및 방법{APPARATUS FOR TREATING EXHAUST GAS AND METHOD THEROF}
본 발명은 배가스 처리 장치 및 방법에 관한 것이다.
코크스로에서 석탄을 건류하여 코크스를 생성하는 과정에서 코크스 오븐 가스(Coke Oven Gas; COG)가 발생된다. 코크스 오븐 가스 중에는 여러가지 다양한 불순물이 포함되어 있다.
불순물 중 황화수소(H2S)나 시안화수소(HCN) 및 암모니아(NH3) 가스를 제대로 제거하지 못한 상태로 상기 코크스 오븐 가스를 제철소의 각 열원으로 공급하게 되면, 대기의 오염으로 인한 공해가 발생하는 문제점이 생길 수 있다. 또한 제철소 생산제품의 품질 하락이 발생되고 생산 설비들의 부식 등이 발생되는 문제점이 있다.
특히, 황화수소를 제거하기 위하여 여러 가지 방법이 이용될 수 있다. 그 중 대표적인 방법으로, 코크스 오븐 가스로부터 황화수소를 포집하여 농축된 고농도의 산성가스를 만드는 황화수소 포집공정과 이 산성가스를 처리하여 액체황으로 회수하는 클라우스 공정(Claus Process)을 연결하는 것이 있다.
본 발명의 배경기술은 대한민국 공개특허공보 제10-2005-0042469호(2005.05.09, 클라우스 플랜트에서 코크오븐으로부터 황화수소를 분리하여 반응 후 원소 상태의 황을 회수하는 방법)에 개시되어 있다.
본 발명의 실시예들은, 유황을 생성하는 장치를 포함하는 배가스 처리 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 유황가스가 함유된 배가스가 공급되는 공급관; 상기 유황가스 농도를 측정하는 제1 센서; 상기 배가스 내 상기 유황가스로부터 유황을 제조하는 유황생성부; 상기 유황가스와 반응하여 상기 유황을 생성하기 위한 공기가 상기 유황생성부로 주입되도록, 상기 유황생성부에 형성되는 공기 주입부; 기 유황의 생성을 촉진하기 위한 산소가 상기 제1 센서에 의해 측정된 상기 유황가스 농도의 변화와 상응하여 유황생성부로 주입되도록, 상기 유황생성부에 형성되는 산소 주입부; 및 상기 유황의 생성에 따라 발생되는 테일 가스(tail gas)가 배출되도록, 상기 유황생성부에 설치되는 배출관을 포함하는 배가스 처리 장치가 제공된다.
상기 공기 주입부를 통하여 상기 유황생성부에 주입되는 상기 공기의 양은, 상기 제1 센서에 의해 측정된 상기 유황가스 농도의 최저값에 따라 결정될 수 있다.
상기 산소 주입부를 통하여 주입되는 상기 산소는, 상기 제1 센서가 측정한 상기 유황가스 농도가 상기 최저값을 초과하는 경우에 주입될 수 있다.
상기 공급관 상에 설치되고, 상기 배가스로부터 상기 유황가스를 포집하여 상기 유황가스를 상기 유황생성부로 유입시키는 유황가스 포집부를 더 포함할 수 있다.
상기 배출관은, 상기 테일 가스가 상기 공급관으로 합류되도록 상기 공급관과 연결될 수 있다.
상기 배출관에 설치되어 상기 테일 가스에서 아황산가스 농도를 측정하는 제2 센서; 및 상기 아황산가스 농도가 기준값을 초과하는 경우 상기 테일 가스가 상기 유황생성부로 재유입되도록 상기 배출관과 상기 유황생성부 사이에 개재되는 재유입관을 더 포함할 수 있다..
본 발명의 다른 측면에 따르면, 유황가스가 함유된 배가스 중 상기 유황가스 농도를 측정하는 단계; 측정된 상기 유황가스 농도의 최저값에 따라 상기 유황가스와 반응하여 유황을 생성하기 위한 공기를 유황생성부로 주입하는 단계; 상기 유황가스 농도가 상기 최저값을 초과하는 경우, 상기 유황의 생성을 촉진하기 위해 상기 유황가스의 농도 변화와 상응하도록 상기 유황생성부로 산소를 주입하는 단계를 포함하는 배가스 처리 방법이 제공된다.
상기 유황생성부로 산소를 주입하는 단계 이후에, 상기 유황의 생성에 따라 발생되는 테일 가스(tail gas) 중 아황산가스 농도를 측정하는 단계; 및 상기 아황산가스 농도가 기준값을 초과하는 경우 상기 테일 가스를 상기 유황생성부로 재유입하는 단계를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따르면, 유황생성장치의 유황 생성이 촉진될 수 있다. 또한, 가열로의 연료로 사용되는 배가스 내 질소 함유량이 감소됨에 따라 배가스의 발열량이 증대될 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 배가스 처리 장치를 나타낸 도면.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 배가스 처리 장치의 유황생성부를 나타낸 도면.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 배가스 처리 장치의 유황생성부로 주입되는 공기와 산소의 양을 나타내는 그래프.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 배가스 처리 방법의 흐름도.
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
이하, 본 발명에 따른 배가스 처리 장치 및 방법의 실시예를 첨부도면을 참조하여 상세히 설명하기로 하며, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 배가스 처리 장치를 나타낸 도면이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 배가스 처리 장치의 유황생성부를 나타낸 도면이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 배가스 처리 장치(100)는, 유황생성부(110), 공급관(120), 유황가스 포집부(125), 제1 센서(130), 배출관(140), 제2 센서(150) 및 재유입관(160), BTX 제거부(170) 및 가열로(180)을 포함할 수 있다. 또한, 유황생성부(110)는 공기 주입부(111) 및 산소 주입부(112)를 포함할 수 있다.
유황생성부(110)는 배가스 내 함유된 유황가스로부터 유황을 생성하는 설비로 클라우스 플랜트(claus plant)일 수 있다. 유황은 S2일 수 있다. 이 경우, 유황생성부(110) 내부에서는 다음과 같은 반응에 의하여 유황이 생성될 수 있다.
도 2에 도시되어 있는 유황생성부(110)는 클라우스 플랜트이다. 클라우스 퍼니스(claus furnace)로 유황가스가 유입되고, 클라우스 퍼니스 내부에서는 Ni 촉매 하에서 반응이 진행될 수 있다. 이 경우, 유황가스를 포함한 다른 가스도 함께 유입될 수 있고, COG 가스도 유입될 수 있다.
Ni 촉매 반응 시, 산소가 필요하며, 그 반응 식은 다음과 같다.
H2S + 1.5 O2 → SO2 + H2O
2H2S + SO2 → 1.5S2 + 2H2O
이와 같은 반응이 이루어지기 위하여, 유황생성부(110)에는 공기 주입부(111)와 산소 주입부(112)가 형성될 수 있다. 한편, 유황가스와 공기 또는 산소의 반응이 원활하지 못한 경우에는 2차 공기(secondary air)를 주입할 수도 있다.
공기 주입부(111)는 유황생성부(110)로 공기를 주입하기 위한 통로이며, 공기는 유황가스와 반응하여 유황을 생성하는 산소를 포함하고 있다.
공기 주입부(111)에서 유황생성부(110)로 주입되는 공기의 양은 설정된 값으로 일정할 수 있다. 즉, 유황생성부(110)와 공기에 대한 적절한 공연비가 성립되도록 공기 주입량이 초기에 설정될 수 있다.
산소 주입부(112)는 유황생성부(110)로 산소를 주입하기 위한 통로이며, 산소는 상술한 바와 같이 유황가스와 반응하므로 유황을 생성을 촉진할 수 있다. 산소 주입부(112)에서 유황생성부(110)로 주입되는 산소의 양은 유황가스의 농도에 따라 변화될 수 있다.
즉, 유황가스의 농도가 작다고 판단되는 경우에는 공기 주입부(111)에서 공기가 주입되는 것으로 충분하지만, 유황가스의 농도가 크다고 판단되는 경우에는 공기 주입부(111)에서 공기가 주입됨과 동시에 산소 주입부(112)에서 산소가 주입되도록 할 수 있다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 배가스 처리 장치의 유황생성부로 주입되는 공기와 산소의 양을 나타내는 그래프이다. 도 3에는 유황생성부(110)로 주입되는 공기와 산소의 양이 구체적으로 도시되어 있다.
도 3을 참조하면, 공기 주입부(111)로 주입되는 공기의 양은 직선 형태로 일정하며, 산소 주입부(112)로 주입되는 산소의 양은 유황가스 농도의 변화와 상응하여 증감된다.
이에 따르면, 유황가스 양의 증감과 무관하게 반응속도는 일정하게 유지될 수 있다. 특히, 불유황가스의 양이 많아지더라도 그에 따라 공기 및 산소의 양도 증가될 수 있으므로 반응속도는 유지될 수 있다. 또한, 공기 및 산소의 양이 조절됨에 따라 반응속도가 향상될 수도 있다.
다시, 도 1을 참조하면, 공급관(120)은 유황생성부(110)와 연결되어 배가스를 유황생성부(110)로 공급할 수 있다. 이 경우, 배가스에는 유황가스, 암모니아 가스(NH3), 시안화수소(HCN), 벤젠(Benzen, C6H6) 등이 함유될 수 있다.
공급관(120)에서 제공되는 배가스에서 유황생성부(110)를 거치면서 유황이 제거되고, 후술할 BTX 제거부(170)를 거친 후에 가열로(180)로 유입되어 열원으로 사용될 수 있다.
공급관(120) 상에는 유황가스 포집부(125)가 설치될 수 있다. 유황가스 포집부(125)는 배가스에서 유황가스를 추출하는 설비이다. 유황가스 포집부(125)는 유황가스 스크러버(scrubber)와 유황가스 디조버(desorber)를 포함할 수 있다.
유황가스 스크러버는 약품을 이용하여 배가스로부터 유황가스를 포집할 수 있다. 약품은 안수일 수 있으며, 안수는 묽은 안수 또는 진한 안수일 수 있다. 안수가 이용되는 경우, 유황가스뿐만 아니라 암모니아 기체도 안수에 용해되어 함께 추출될 수 있다.
유황가스 디조버는 유황가스를 흡수할 수 있다. 유황가스 디조버는 유황가스를 흡수하여 유황가스를 유황생성부(110)로 배출할 수 있다.
제1 센서(130)는 공급관(120) 상에 흐르는 배가스 중 유황가스의 농도를 측정할 수 있다. 제1 센서(130)는 공급관(120) 상에 설치될 수 있고, 유황가스 포집부(125)가 있는 경우, 유황가스 포집부(125)에서 배출되는 가스가 이동하는 라인에 설치될 수 있다.
제1 센서(130)에 의하여 유황가스 농도가 측정되면, 제1 센서(130)에 의하여 측정되는 유황가스 농도에 따라, 공기 주입부(111)를 통해 주입되는 공기의 양이 결정될 수 있다. 이 경우, 제1 센서(130)에 의하여 측정되는 유황가스 농도의 최저값에 상응하여 공기의 주입량이 결정될 수 있다.
즉, 상술한 반응식에 의할 때, 유황가스와 산소의 몰농도 비를 1:1.5가 되도록 할 수 있다. 또는, 유황가스와 산소의 적정 공연비 air/fuel를 설정하고 그에 상응하여 공기량을 정할 수 있다.
예를 들어, 적정 공연비가 1.1로 판단되는 경우, 제1 센서(130)에 의해 측정되는 유황가스 농도의 최저값과 상기 공연비에 의하여 공기 주입량이 결정될 수 있다.
제1 센서(130)에 의하여 측정되는 유황가스 농도값에 대한 신호는 제어부(미도시)로 송신될 수 있다. 제어부는 유황가스 농도의 최저값을 선택하고, 이에 상응하는 공기의 양이 공기 주입부(111)를 통하여 유황생성부(110)로 유입될 수 있도록 할 수 있다.
유황가스 농도의 최저값은, 제1 센서(130)가 일정 시간 동안 유황가스의 농도를 측정하고, 그 중에서 가장 낮은 농도값으로 선택되어 고정될 수 있다. 또는 실시간 또는 일정 시간의 간격으로 최저값이 변동될 수 있다. 제어부는, 최저값이 결정된 경우에 그에 상응하는 공기의 양이 유황생성부(110) 내에 유지되도록 할 수 있다.
배출관(140)은 유황생성부(110)에 설치되어 테일 가스(tail gas)가 배출되도록 할 수 있다. 테일 가스는 유황의 생성에 따라 발생하는 찌꺼기 가스이다.
배출관(140)은 공급관(120)과 연결되어 테일 가스가 공급관(120)으로 합류되도록 할 수 있다. 공급관(120)과 연결되는 배출관(140)에 의하면, 테일 가스가 공급관(120)으로 유입되어 재처리 또는 재사용될 수 있다.
제2 센서(150)는 배출관(140)에 설치되어 아황산가스(SO2)의 농도를 측정할 수 있다. 측정된 아황산가스 농도에 따라 테일 가스의 이동 경로가 결정될 수 있다. 즉, 아황산가스 농도가 기준값을 초과하는 경우에는 테일 가스가 유황생성부(110)로 재유입되도록 할 수 있다.
또한, 아황산가스 농도가 기준값 이하인 경우에는 테일 가스를 재처리할 의미가 없으므로 테일 가스가 배출되도록 할 수 있다. 이 경우, 배출관(140)이 공급관(120)과 연결되면, 테일 가스는 공급관(120)으로 유입되어 배가스와 합류될 수 있다. 한편, 아황산가스 농도에 대한 기준값은 1000ppm일 수 있다.
제2 센서(150)도 제어부(미도시)와 연결될 수 있으며, 제어부는 아황산가스 농도에 따라 통로의 개폐를 조절할 수 있다.
재유입관(160)은 상술한 바와 같이, 테일 가스가 유황생성부(110)로 재유입될 필요가 있는 경우에 배출관(140)과 유황생성부(110) 사이에 개재되는 관이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 배가스 처리 장치(100)는 BTX 제거부(170)를 더 포함할 수 있으며, BTX 제거부(170)는 배가스의 벤젠, 타르, 자일렌 등을 제거하는 설비이다. BTX 제거부(170)를 통과한 배가스는 상술한 성분이 제거되어 정제될 수 있다.
또한, 배가스 처리 장치(100)는 가열로(180)를 더 포함할 수 있다. 공급관(120)을 통하여 공급되는 배가스의 유황가스는 유황생성부(110)로 유입되어 유황생성에 사용되며, 그 이외의 다른 성분들은 가열로(180)로 이송되어 가열로의 연료로 사용될 수 있다. 이 경우, 공급관(120)과 가열로(180) 사이에는 연결관이 개재될 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 배가스 처리 장치의 유황생성부에 공기 주입부와 산소 주입부가 각각 별도로 마련되어, 유황가스의 농도에 따라 공기 및 산소의 양을 조절될 수 있으므로 유황가스의 반응 속도가 향상될 수 있다.
또한, 테일 가스 내에 질소(N2) 함유량이 현저하게 감소될 수 있다. 이는, 공기의 성분 중에는 질소의 함유량이 가장 높으므로 본 발명에서는 유황가스의 연소를 위한 공기를 최소량으로 주입하고, 유황가스의 연소를 촉진시키기 위하여 공기 중 산소만 주입하기 때문이다.
이처럼, 테일 가스 내에 질소 함유량이 현저하게 감소되면, 테일 가스가 가열로로 유입되어 연료로 사용되는 경우에 발열량이 높아지고 발열량의 변화율이 안정화될 수 있다. 배가스 중의 질소 성분은 연료의 발열량을 저하시키고, 발열량을 크게 변동시키기 때문이다.
이상, 본 발명의 일 실시예에 따른 배가스 처리 장치에 대하여 설명하였다. 이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 배가스 처리 방법에 대하여 설명하도록 한다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 배가스 처리 방법의 흐름도이다.
도 4를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 배가스 처리 방법은, 배가스 중 유황가스 농도를 측정하는 단계(S110), 유황생성부(110)로 공기를 주입하는 단계(S120), 유황가스 농도가 최저값을 초과하는 지 판단하는 단계(S130), 유황생성부(110)로 산소를 주입하는 단계(S140), 테일 가스 중 아황산가스 농도를 측정하는 단계(S150), 아황산가스 농도가 기준값 이하인지를 판단하는 단계(S160), 테일 가스를 유황생성부(110)로 유입시키는 단계(S170) 및 테일 가스를 공급관(120)으로 유입시키는 단계(S180)를 포함할 수 있다.
배가스 중 유황가스 농도를 측정하는 단계(S110)는, 배가스 내에 함유된 유황가스의 농도를 측정하는 단계이며, 제1 센서(130)가 측정할 수 있다.
유황생성부(110)로 공기를 주입하는 단계(S120)는, 측정된 상기 유황가스 농도의 최저값에 따라 상기 유황가스와 반응하여 유황을 생성하기 위한 공기를 유황생성부(110)로 주입하는 단계이다.
유황가스 농도가 최저값을 초과하는 지 판단하는 단계(S130)는, 변화하는 유황가스의 농도를 측정하고, 상기 최저값과 비교하는 단계이다. 유황가스 농도가 최저값보다 낮다면 산소를 주입할 필요가 없으며, 유황가스 농도가 최저값보다 높다면 산소가 주입될 필요가 있다고 판단한다.
유황생성부(110)로 산소를 주입하는 단계(S140)는, 상기 유황가스 농도가 상기 최저값을 초과하는 경우, 상기 유황의 생성을 촉진하기 위해 상기 유황가스의 농도 변화와 상응하도록 상기 유황생성부(110)로 산소를 주입하는 단계이다.
테일 가스 중 아황산가스 농도를 측정하는 단계(S150)는, 상기 유황의 생성에 따라 발생되는 테일 가스(tail gas) 중 아황산가스 농도를 측정하는 단계이다. 제2 센서(150)가 측정할 수 있다.
아황산가스 농도가 기준값 이하인지를 판단하는 단계(S160)는 테일 가스 중 아황산가스 농도를 측정하고 측정된 아황산가스 농도가 기준값 이하인지를 판단하는 단계이다.
도 4에 도시된 바와 같이, 기준값은 1000ppm일 수 있다. 이 경우, 아황산가스 농도가 1000ppm 초과이면 유황생성부(110)로 재유입될 필요가 있고, 아황산가스 농도가 1000ppm 이하이면 유황생성부(110)로 재유입될 필요가 없다고 판단한다.
테일 가스를 유황생성부(110)로 유입시키는 단계(S170)는, 테일 가스를 공급관(120)으로 유입시키는 단계(S180) 아황산가스 농도가 기준값 초과인 경우, 테일 가스를 유황생성부(110)로 재유입시켜 유황을 더 생성하도록 하는 단계이다.
테일 가스를 공급관(120)으로 유입시키는 단계(S180)는, 테일 가스를 공급관(120)으로 유입시키는 단계(S180) 아황산가스 농도가 기준값 이하인 경우, 테일 가스를 그대로 배출시키는 단계이다. 이 경우, 테일 가스는 배가스 공급관(120)으로 유입될 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 배가스 처리 방법에 의하면, 유황생성부에서 유황이 저렴한 비용으로 효율적으로 생성될 수 있으며, 유황의 회수율이 향상될 수 있다.
이상, 본 발명의 일 실시예에 대하여 설명하였으나, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서, 구성 요소의 부가, 변경, 삭제 또는 추가 등에 의해 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있을 것이며, 이 또한 본 발명의 권리범위 내에 포함된다고 할 것이다.
100: 배가스 처리 장치 110: 유황생성부
111: 공기 주입부 112: 산소 주입부
120: 공급관 125: 유황가스 포집부
130: 제1 센서 140: 배출관
150: 제2 센서 160: 재유입관
170: BTX 제거부 180: 가열로

Claims (8)

  1. 유황가스가 함유된 배가스가 공급되는 공급관;
    상기 유황가스 농도를 측정하는 제1 센서;
    상기 배가스 내 상기 유황가스로부터 유황을 제조하는 유황생성부;
    상기 유황가스와 반응하여 상기 유황을 생성하기 위한 공기가 상기 유황생성부로 주입되도록, 상기 유황생성부에 형성되는 공기 주입부;
    상기 유황의 생성을 촉진하기 위한 산소가 상기 제1 센서에 의해 측정된 상기 유황가스 농도의 변화와 상응하여 유황생성부로 주입되도록, 상기 유황생성부에 형성되는 산소 주입부;
    상기 유황의 생성에 따라 발생되는 테일 가스(tail gas)가 배출되도록, 상기 유황생성부에 설치되는 배출관; 및
    상기 공급관 상에 설치되고, 상기 배가스로부터 상기 유황가스를 포집하여 상기 유황가스를 상기 유황생성부로 유입시키는 유황가스 포집부를 포함하는 배가스 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 공기 주입부를 통하여 상기 유황생성부에 주입되는 상기 공기의 양은, 상기 제1 센서에 의해 측정된 상기 유황가스 농도의 최저값에 따라 결정되는 것을 특징으로 하는 배가스 처리 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 산소 주입부를 통하여 주입되는 상기 산소는, 상기 제1 센서가 측정한 상기 유황가스 농도가 상기 최저값을 초과하는 경우에 주입되는 것을 특징으로 하는 것을 특징으로 하는 배가스 처리 장치.
  4. 삭제
  5. 제1항에 있어서,
    상기 배출관은, 상기 테일 가스가 상기 공급관으로 합류되도록 상기 공급관과 연결되는 것을 특징으로 하는 배가스 처리 장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 배출관에 설치되어 상기 테일 가스에서 아황산가스 농도를 측정하는 제2 센서; 및
    상기 아황산가스 농도가 기준값을 초과하는 경우 상기 테일 가스가 상기 유황생성부로 재유입되도록 상기 배출관과 상기 유황생성부 사이에 개재되는 재유입관을 더 포함하는 배가스 처리 장치.
  7. 유황가스가 함유된 배가스 중 상기 유황가스 농도를 측정하는 단계;
    측정된 상기 유황가스 농도의 최저값에 따라 상기 유황가스와 반응하여 유황을 생성하기 위한 공기를 유황생성부로 주입하는 단계;
    상기 유황가스 농도가 상기 최저값을 초과하는 경우, 상기 유황의 생성을 촉진하기 위해 상기 유황가스의 농도 변화와 상응하도록 상기 유황생성부로 산소를 주입하는 단계;
    상기 유황의 생성에 따라 발생되는 테일 가스(tail gas) 중 아황산가스 농도를 측정하는 단계; 및
    상기 아황산가스 농도가 기준값을 초과하는 경우 상기 테일 가스를 상기 유황생성부로 재유입하는 단계를 포함하는 배가스 처리 방법.
  8. 삭제
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