KR101499798B1 - Inline Type Deposition Equipment Using the Roll Type Mask - Google Patents

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    • H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
    • H10K71/164—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using vacuum deposition

Abstract

본 발명에 따른 롤형 마스크를 이용한 증착장비는 증착 공정실 내에서 마스크를 두루마리형 구조로 연속 제공이 가능하도록 구성되어, 마스크 셋팅 공정이 간편하고, 연속 사용이 가능하여 전체 증착 공정의 효율성을 높일 수 있다.The deposition apparatus using the roll type mask according to the present invention is configured so that the mask can be continuously provided in a roll-like structure in the deposition process chamber, so that the mask setting process is simple and continuous use is possible, have.

Description

롤형 마스크를 이용한 인라인 타입 증착장비 {Inline Type Deposition Equipment Using the Roll Type Mask}[0001] Inline Type Deposition Equipment Using Roll Type Mask [0002]

본 발명은 반도체, OLED 등에 박막을 형성하는 데 사용하는 증착장비에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a deposition apparatus used for forming a thin film on a semiconductor, an OLED or the like.

일반적으로 OLED(Organic Light Emitting Diode)는 유기EL이라고도 불리는데, 형광성 유기화합물에 전류가 흐르면 빛을 내는 전계발광현상을 이용하여 스스로 빛을 내는 자체발광형 유기물질을 말한다.In general, OLED (Organic Light Emitting Diode) is also referred to as organic EL, which refers to a self-emitting organic material that emits light by using an electroluminescence phenomenon that emits light when a fluorescent organic compound is energized.

OLED를 활용해 TV나 휴대전화의 디스플레이를 만들거나 조명 기구를 생산할 때 필요한 장비가 OLED 증착 장비이다.OLED deposition equipment is the equipment required to make displays of TVs or mobile phones using OLEDs or to produce lighting fixtures.

OLED 증착 장비는 기판에 유기물질을 증착하여 박막을 형성하는데 사용되는 장비로서, OLED 생산을 위한 핵심 장비이다.OLED deposition equipment is a device used to deposit organic materials on a substrate to form a thin film, which is a key equipment for OLED production.

OLED 제조용 증착 장비는 주로 진공 열 증착장비(Thermal evaporation system)가 이용되는데, 일반적으로 증착 챔버의 상부에 기판이 도입되어 증착이 이루어지는 증착 공간부가 마련되고, 그 하부에 증착 물질을 공급하는 소스(source) 및 소스를 가열하는 가열 장치 등이 구비된다.In general, a substrate is introduced into an upper portion of a deposition chamber to form a deposition space, and a source for supplying an evaporation material is provided at a lower portion of the deposition chamber. And a heating device for heating the source and the like.

이와 같은 진공 열 증착장비는 증착 공간부에 기판이 위치된 상태에서 소스에서 증발된 유기물(무기물도 가능)이 제공되어 기판에 유기물질을 증착할 수 있도록 구성되는 것이다.Such a vacuum thermal vapor deposition apparatus is configured to deposit an organic material evaporated from a source (possibly an inorganic material) in a state that a substrate is positioned in a deposition space portion, thereby depositing an organic material on the substrate.

특히 기판은 마스크와 합착된 상태에서 증착이 이루어지는데, 증착 챔버 내에 마스크가 세팅되어 있는 조건에서 기판만 투입하는 방식, 증착 챔버 외부에서 기판과 마스크를 합착하여 증착 챔버 내에 투입하는 방식 등이 있다.Particularly, the substrate is deposited in the state of being attached to the mask. In this case, only the substrate is loaded under the condition that the mask is set in the deposition chamber, and a method of putting the substrate and the mask together in the deposition chamber outside the deposition chamber.

어느 경우든 기판은 이를 지지하는 모듈에 세팅된 상태에서 증착 챔버 내에 투입되는 것이 일반적이다.In either case, the substrate is generally placed in a deposition chamber with the module being set in a support.

특히, 마스크는 증착물질이 통과할 수 있도록 패턴이 형성되어 있는데, 등록특허 10-1145201에 개시된 바와 같이 통상 판형 구조로 이루어져, 그 위치가 고정되게 설치되는 것이 일반적이다.Particularly, the mask is formed with a pattern through which the evaporation material can pass, and is generally formed of a plate-like structure as disclosed in Patent Document 10-1145201, and the position of the mask is generally fixed.

그러나, 상기한 바와 같이 마스크가 기판에 세팅된 상태에서 그 기능이 실현되거나, 챔버 내에 고정된 구조에서 그 기능이 실현되는 종래 구조는 마스크 교체 및 세척에 많은 작업이 필요하게 되어 공정 효율을 향상시키는데 한계가 있는 문제점이 있다. However, as described above, the conventional structure in which the function is realized when the mask is set on the substrate or the function is realized in the structure fixed in the chamber requires a lot of work for replacing and cleaning the mask, thereby improving the process efficiency There is a problem with limitations.

이상 설명한 배경기술의 내용은 이 건 출원의 발명자가 본 발명의 도출을 위해 보유하고 있었거나, 본 발명의 도출 과정에서 습득한 기술 정보로서, 반드시 본 발명의 출원 전에 일반 공중에게 공개된 공지기술이라 할 수는 없다.The contents of the background art described above are technical information that the inventor of the present application holds for the derivation of the present invention or acquired in the derivation process of the present invention and is a known technology disclosed to the general public prior to the filing of the present invention I can not.

본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 증착 공정실 내에서 마스크를 두루마리형 구조로 연속 제공이 가능하도록 구성됨으로써, 마스크 셋팅 공정이 간편하고, 연속 사용이 가능하여 전체 증착 공정의 효율성을 높일 수 있는 롤형 마스크를 이용한 증착장비를 제공하는 데 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been conceived to solve the problems described above, and it is an object of the present invention to provide a mask structure in which a mask can be continuously provided in a rolled structure in a deposition process chamber, And a deposition apparatus using the roll-type mask.

또한, 본 발명은 두루마리형 구조의 연속 마스크를 인라인 증착장비에 적용하여 증착 공정의 효율을 더욱 향상시킬 수 있도록 하는 롤형 마스크를 이용한 증착장비를 제공하는 데 목적이 있다.It is another object of the present invention to provide a deposition apparatus using a roll-type mask that can further improve the efficiency of a deposition process by applying a continuous-type mask having a roll-like structure to an inline deposition apparatus.

본 발명의 실시예에 따르면, 기판이 도입되어 기판 표면에 증착이 이루어지는 증착 공정실과; 상기 증착 공정실 내에 위치되어 기판이 위치되는 기판 지지기구와; 상기 기판 지지기구에 위치된 기판에 증착물질이 통과하도록 패턴이 형성되되, 두루마리 공급 방식을 통하여 연속 이동이 가능하도록 이루어진 연속 마스크와; 상기 연속 마스크의 양단부가 감겨진 상태에서 연속 마스크의 공급 및 회수가 가능하도록 하는 마스크 지지기구와; 상기 증착 공정실 내에서 기판 표면에 증착물질을 증착시킬 수 있도록 상기 연속 마스크 방향으로 증착물질을 공급하는 증착물질 공급장치를 포함하는, 롤형 마스크를 이용한 증착장비가 제공된다.According to an embodiment of the present invention, there is provided a deposition apparatus including: a deposition processing chamber in which a substrate is introduced to perform deposition on a substrate surface; A substrate support mechanism positioned within the deposition chamber to position the substrate; A continuous mask having a pattern formed on a substrate positioned in the substrate supporting mechanism so as to allow an evaporation material to pass therethrough, the continuous mask being capable of being continuously moved through a roll supply system; A mask supporting mechanism for supplying and recovering a continuous mask in a state in which both end portions of the continuous mask are wound; And a deposition material supply device for supplying the deposition material in the direction of the continuous mask so that the deposition material can be deposited on the surface of the substrate in the deposition process chamber.

상기 연속 마스크는 각 기판에 증착물질의 증착이 가능하도록 하는 패턴 모듈이 형성되되, 복수의 기판에 증착이 가능하도록 복수의 패턴 모듈이 순서대로 형성되고, 패턴 모듈과 패턴 모듈 사이에는 패턴이 형성되지 않은 버퍼 공간부를 갖는 것이 바람직하다.A plurality of pattern modules are formed in order so that deposition can be performed on a plurality of substrates, and a pattern is formed between the pattern module and the pattern module. It is preferable to have a buffer space portion.

상기 마스크 지지기구는 상기 증착 공정실 내에 지지되어 상기 연속 마스크가 감겨져 있는 상태에서 연속 마스크를 공급하는 공급롤러와; 상기 증착 공정실 내에 상기 공급롤러와 대향된 위치에 배치되어 상기 공급롤러에서 공급된 연속 마스크를 회수하는 회수롤러를 포함하여 구성되는 것이 바람직하다.Wherein the mask holding mechanism comprises: a supply roller supported in the deposition chamber to supply the continuous mask while the continuous mask is wound; And a recovery roller disposed in the deposition chamber opposite to the supply roller and recovering the continuous mask supplied from the supply roller.

상기 연속 마스크는 상기 공급롤러 또는 회수롤러에 감겨 있을 때 그 사이가 이격되어 있도록 적어도 일면에 복수의 이격돌기가 구비될 수 있다.The continuous mask may be provided with a plurality of spaced apart projections on at least one surface thereof so that the continuous mask is spaced apart when the supply roller or the collecting roller is wound.

상기 마스크 지지기구는 상기 공급롤러와 회수롤러 사이의 연속 마스크 이동 경로 상에 연속 마스크의 위치를 안내하는 가이드 기구가 포함되는 것이 바람직하다.The mask support mechanism preferably includes a guide mechanism for guiding the position of the continuous mask on the continuous mask movement path between the supply roller and the collection roller.

상기 가이드 기구는 연속 마스크의 위치를 잡아주는 얼라인 기구가 포함되어 구성되는 것이 바람직하다.The guide mechanism preferably includes an aligning mechanism for positioning the continuous mask.

상기 마스크 지지기구에는 연속 마스크에 묻어 있는 증착물질을 제거하는 증착물질 제거기구가 포함되어 구성될 수 있다.The mask holding mechanism may include a deposition material removing mechanism for removing the deposition material on the continuous mask.

상기 증착물질 공급장치는 이동유닛에 의하여 상기 연속 마스크의 이동방향으로 이동 가능하게 설치될 수 있다.The deposition material supply device may be installed to be movable in the moving direction of the continuous mask by a moving unit.

본 발명의 실시예에 따르면, 기판이 연속 이동되면서 증착이 이루어지도록 상기한 바와 같은 롤형 마스크를 이용한 증착장비가 복수 개 연속하여 배치된, 롤형 마스크를 이용한 인라인 타입 증착장비가 제공된다.According to an embodiment of the present invention, there is provided an in-line type deposition apparatus using a roll-shaped mask, in which a plurality of deposition apparatuses using a roll type mask as described above are successively arranged so that deposition is performed while the substrate is continuously moved.

상기한 바와 같은 본 발명의 주요한 과제 해결 수단들은, 아래에서 설명될 '발명의 실시를 위한 구체적인 내용', 또는 첨부된 '도면' 등의 예시를 통하여 보다 구체적이고 명확하게 설명될 것이며, 이때 상기한 바와 같은 주요한 과제 해결 수단 외에도, 본 발명에 따른 다양한 과제 해결 수단들이 추가로 제시되어 설명될 것이다.The above and other objects and advantages of the present invention will become more apparent by describing in detail exemplary embodiments thereof with reference to the attached drawings, in which: In addition to the principal task solutions as described above, various task solutions according to the present invention will be further illustrated and described.

도 1은 본 발명에 따른 롤형 마스크를 이용한 인라인 방식의 증착장비가 구비된 구성도이다.
도 2는 도 1의 A-A선 방향의 단면 구성도이다.
도 3은 본 발명에 따른 롤형 마스크의 다른 실시예의 구성을 보여주는 단면 구성도이다.
도 4는 본 발명에 이용되는 롤형 마스크를 보여주는 평면도이다.
도 5는 본 발명에 이용되는 롤형 마스크의 다른 실시예를 보여주는 평면도이다.FIG. 1 is a configuration diagram of an inline deposition apparatus using a roll type mask according to the present invention.
Fig. 2 is a cross-sectional view in the direction of the line AA in Fig. 1. Fig.
3 is a cross-sectional view showing the configuration of another embodiment of the roll type mask according to the present invention.
4 is a plan view showing a roll type mask used in the present invention.
5 is a plan view showing another embodiment of the roll type mask used in the present invention.

첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 설명하면 다음과 같다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 롤형 마스크를 이용한 인라인 방식의 증착장비가 도시된 개략적인 평면도로서, 도면에서는 3개의 증착 세트가 종방향으로 연속하여 배치된 구조를 보여준다.FIG. 1 is a schematic plan view showing an in-line deposition apparatus using a roll-type mask according to the present invention, in which three deposition sets are successively arranged in the longitudinal direction.

이러한 증착장비는 도면에 나타나지는 않았지만 인라인 구조를 갖는 증착 공정실이 구비되고, 이러한 증착 공정실 내에 기판(S)이 도입되어 유기물질이 증착되는 증착공정이 이루어진다.Such a deposition apparatus is provided with a deposition chamber having an inline structure, which is not shown in the drawing, and a substrate S is introduced into the deposition chamber to deposit a deposition material.

도 1의 A-A선 방향의 단면 구성도인 도 2를 참조하여, 본 발명에 따른 롤형 마스크를 이용한 증착장비에 대하여 구체적으로 설명한다.2, which is a cross-sectional view taken along the line A-A of Fig. 1, a deposition apparatus using a roll-shaped mask according to the present invention will be described in detail.

도 2를 참조하면, 증착 공정실의 기판 지지기구를 통하여 기판(S)이 위치되고, 상측에 기판 표면에 증착물질을 증착시킬 수 있도록 증착 물질을 공급하는 증착물질 공급장치(30)가 위치되게 구성되는 것이 바람직하다. 하지만 반드시 이에 한정되는 것은 아니고 도 3에 도시된 바와 같이 기판(S)의 하측 공간에 증착물질 공급장치(30)가 위치되게 구성되는 것도 가능하다. 도 3에서 도 2의 구성과 동일 유사한 구성 부분에 대해서는 동일한 도면 부호를 부여하고 반복 설명은 생략한다.Referring to FIG. 2, a substrate S is positioned through a substrate supporting mechanism of a deposition process chamber, and a deposition material supplying device 30 for supplying a deposition material to deposit the deposition material on the substrate surface is located on the upper side . However, the present invention is not limited thereto, and it is also possible that the deposition material supplying device 30 is disposed in the lower space of the substrate S as shown in FIG. In Fig. 3, the same reference numerals are assigned to similar components as those in Fig. 2, and repetitive description is omitted.

또한, 기판(S)이 수직 또는 경사 방향으로 배치된 상태에서 기판(S)의 앞쪽에 증착물질 공급장치(30)가 위치되게 구성되는 것도 가능하다.It is also possible that the evaporation material supply device 30 is disposed in front of the substrate S in a state where the substrate S is arranged in the vertical or oblique direction.

이러한 기판(S) 및 증착물질 공급장치(30)의 배치 구성은 실시 조건에 따라 공지의 구조를 이용하여 다양하게 변경하여 실시할 수 있다.The arrangement of the substrate S and the deposition material supply device 30 can be variously modified by using a known structure in accordance with the conditions of operation.

다시 도 1 및 도 2를 참조하면, 기판(S)은 지지 플레이트(10)에 일체로 세팅된 상태로 증착 공정실 내에 투입되는 것이 바람직하다. 여기서, 지지 플레이트(10)는 증착 공정실 내에서 기판을 이송하는 기판 이송장치(25) 또는 지지 구조물에 지지된 상태로 위치되는 것이 바람직하다. 이러한 지지 플레이트(10) 및 기판 이송장치(25) 또는 지지 구조물이 증착 공정실 내에서 기판 지지기구를 구성하는 것으로, 공지의 기판을 이송 또는 지지하기 위한 다양한 구조를 이용하여 구성할 수 있다.Referring again to FIGS. 1 and 2, it is preferable that the substrate S is introduced into the deposition chamber in a state where the substrate S is integrally set on the support plate 10. Here, it is preferable that the support plate 10 is placed in a state of being supported by the substrate transfer device 25 or the support structure for transferring the substrate in the deposition chamber. The support plate 10 and the substrate transfer device 25 or the support structure constitute a substrate support mechanism in the deposition process chamber and can be configured using various structures for transferring or supporting a known substrate.

증착물질 공급장치(30)는 통상적으로 사용되는 포인트 소스(point source), 리니어 소스(linear source) 등으로 구성될 수 있다. 또한 증착물질이 저장된 용기(또는, 도가니)(31)를 가열하는 가열장치가 구비된다. 가열장치는 증착장비 기술분야에 널리 공지되어 있으므로 도면에 예시하는 것은 생략하였다.The evaporation material supply device 30 may be constituted by a commonly used point source, a linear source, or the like. And a heating device for heating the container (or crucible) 31 in which the evaporation material is stored. The heating device is well known in the field of vapor deposition equipment, so that the illustration is omitted.

한편, 증착 공정실의 내부에는 도면에 예시하지는 않았지만 기판(S)에 증착되는 막두께를 측정할 수 있는 막두께 측정장치 등 증착 공정을 위한 여러 공지 구성이 구비될 수 있다.Although not shown in the drawings, the deposition chamber may include various well-known structures for the deposition process such as a film thickness measuring device capable of measuring the film thickness deposited on the substrate S.

특히, 증착 공정실 내에는 두루마리 방식으로 연속 이동이 가능하도록 이루어진 연속 마스크(50)가 구비된다. 연속 마스크(50)는 상기 기판 지지기구(25)에 위치된 기판(S)에 증착물질이 통과하도록 다수의 홀 구조를 갖는 패턴 모듈이 형성되는 것이 바람직하다.In particular, a continuous mask 50 is provided in the deposition chamber so as to be capable of continuous movement in a rolling manner. It is preferable that the continuous mask 50 is formed with a pattern module having a plurality of hole structures for allowing the deposition material to pass through the substrate S positioned in the substrate supporting mechanism 25. [

이러한 연속 마스크(50)의 세부 구조는 도 4 내지 도 5를 참조하여 아래서 다시 설명한다.The detailed structure of such a continuous mask 50 is described below again with reference to FIGS.

상기 연속 마스크(50)는 마스크 지지기구(60)에 양단부가 감겨진 상태에서 마스크의 공급 및 회수가 가능하도록 이루어진다.The continuous mask 50 is configured to be capable of supplying and recovering a mask in a state in which both ends are wound around the mask support mechanism 60.

마스크 지지기구(60)는 증착 공정실 내에 지지되어 상기 연속 마스크(50)가 감겨져 있는 상태에서 마스크를 공급하는 공급롤러(61)와, 증착 공정실 내에 상기 공급롤러와 대향된 위치에 배치되어 상기 공급롤러에서 공급된 연속 마스크(50)를 회수하는 회수롤러(62)를 포함하여 구성되는 것이 바람직하다.The mask holding mechanism 60 includes a supply roller 61 supported in the deposition chamber and supplying a mask in a state in which the continuous mask 50 is wound, And a recovery roller 62 for recovering the continuous mask 50 supplied from the supply roller.

이에 따라, 연속 마스크는 양쪽 공급롤러(61)와 회수롤러(62)에 연결된 상태에서 기판(S)과 증착물질 공급장치(30)를 사이를 연속하여 통과하도록 배치된다.The continuous mask is arranged so as to pass continuously between the substrate S and the deposition material supply device 30 in a state of being connected to both the supply rollers 61 and the recovery rollers 62. [

또한, 상기 마스크 지지기구(60)는 상기 공급롤러(61)와 회수롤러(62) 사이의 연속 마스크(50) 이동 경로 상에 연속 마스크의 위치를 안내하는 가이드 기구(65)가 포함되는 것이 바람직하다. 도 2에서는 가이드 롤러(66)가 구비된 구성을 보여준다.The mask support mechanism 60 preferably includes a guide mechanism 65 for guiding the position of the continuous mask on the movement path of the continuous mask 50 between the supply roller 61 and the collection roller 62 Do. FIG. 2 shows a structure in which a guide roller 66 is provided.

또한, 상기 가이드 기구(65)는 연속 마스크(50)의 위치를 잡아주는 얼라인 기구(68)가 포함되어 구성되는 것이 바람직하다.In addition, the guide mechanism 65 preferably includes an alignment mechanism 68 for positioning the continuous mask 50.

얼라인 기구(68)는 기판(S) 상부에 위치된 연속 마스크(50)의 패턴 모듈이 정확히 위치되도록 그 위치를 잡아줄 수 있도록 구성된 것으로, 증착 공정실 내에 지지되는 얼라인 핀 또는 얼라인 센서 등으로 구성될 수 있다. 또한 얼라인 기구(68)는 연속 마스크(50)가 기판(S)에 밀착되도록 마스크를 밀어주는 기능을 포함하도록 구성될 수 있다.The aligning mechanism 68 is configured to position the pattern module of the continuous mask 50 located on the substrate S so that the pattern module is accurately positioned. The aligning mechanism 68 includes an alignment pin or an alignment sensor And the like. The alignment mechanism 68 may also be configured to include a function of pushing the mask so that the continuous mask 50 is brought into close contact with the substrate S. [

이제, 도 4 내지 도 5를 참조하여, 연속 마스크 구조에 대하여 설명한다.Now, with reference to Figs. 4 to 5, the continuous mask structure will be described.

도 4를 참조하면, 연속 마스크(50)는 순서대로 이어진 제1마스크(51)와 제2마스크(52)로 구분될 수 있으며, 이들 각 마스크(51,52)는 증착 공정실 내에 도입된 각 기판(S)에 인접하게 위치된 상태에서 증착 물질이 통과하여 증착이 이루어지도록 하는 기능을 수행한다.Referring to FIG. 4, the continuous mask 50 may be divided into a first mask 51 and a second mask 52 which are sequentially arranged, So that the deposition material is allowed to pass through the substrate S while being positioned adjacent to the substrate S.

각 마스크(51,52)는 앞서 설명한 바와 같이 홀 구조의 패턴들로 이루어진 패턴 모듈(P)이 형성된다. 도 4에서는 참고용으로 일자형 구조를 갖는 패턴들이 배열되어 있는 구조를 예시하였다.Each of the masks 51 and 52 is formed with a pattern module P having patterns of a hole structure as described above. FIG. 4 illustrates a structure in which patterns having a straight structure are arranged for reference.

제1마스크(51)와 제2마스크(52) 사이에는 패턴이 형성되지 않은 버퍼 공간부(55)를 갖도록 구성되는 것이 바람직하다.And a buffer space portion 55 in which no pattern is formed between the first mask 51 and the second mask 52.

도 4에서 도면 부호 57은 얼라인 마크를 나타낸 것으로 앞서 설명한 얼라인 기구(68)가 기구적으로 결합되거나 각종 센싱의 방법 등을 통하여 마스크의 위치 정열을 도울 수 있도록 하는 기능을 수행한다.In FIG. 4, reference numeral 57 denotes an alignment mark, which functions to allow the alignment mechanism 68 described above to be mechanically coupled or assist in position alignment of the mask through various sensing methods and the like.

도 5는 도 4와는 다른 실시예의 연속 마스크를 보여주는 도면이다.FIG. 5 is a view showing a continuous mask of an embodiment different from FIG. 4. FIG.

도 5에 예시된 연속 마스크(50')는 도 2에 예시된 바와 같은 공급롤러(61) 또는 회수롤러(62)에 감겨 있을 때 마스크와 마스크 사이가 이격되어 있도록 적어도 일면에 복수의 이격돌기(59)가 구비되게 구성된 것을 보여준다.The continuous mask 50 'illustrated in FIG. 5 has a plurality of spaced apart protrusions (not shown) on at least one surface thereof so as to be spaced apart from the mask when the supply roller 61 or the collecting roller 62 as illustrated in FIG. 2 is wound. 59 are provided.

이러한 이격 돌기(59)는 연속 마스크(50')에 묻어 있는 증착 물질의 제거가 용이하게 하기 위해 구성할 수 있다. 즉, 연속 마스크(50')가 회수롤러(62)에 감겨진 상태에서 열풍 등을 가하여 가열할 때, 이격 돌기(59)가 감겨진 마스크 사이의 간격을 이격시킴으로써 연속 마스크(50')에 달라붙은 증착물질을 보다 용이하게 제거할 수 있도록 하는 기능을 수행한다. The spacing protrusions 59 may be configured to facilitate removal of the deposition material on the continuous mask 50 '. That is, when the continuous mask 50 'is heated by applying hot air while being wound around the collecting roller 62, the spacing protrusions 59 are spaced apart from each other by the spacing between the wound masks 50' Thereby facilitating removal of the deposited deposition material.

이와 같이 연속 마스크(50')가 회수롤러에 감겨진 상태에서 연속 마스크를 가열하여 증착물질을 제거할 수 있으나, 이에 한정되지 않고 연속 마스크의 이동 경로 상에 다양한 방법을 통하여 증착물질을 제거하는 기능을 실현할 수 있다.In this way, while the continuous mask 50 'is wound on the collecting roller, the continuous mask may be heated to remove the deposited material, but the present invention is not limited to this, and it is possible to remove the deposited material through various methods on the movement path of the continuous mask Can be realized.

즉, 도 2에 예시된 바와 같이 증착 공정실 내에 증착물질 제거기구(70)가 설치되어 연속 마스크(50)가 회수롤러(62)에 감기기 전에 마스크를 가열하는 방식 또는 열풍 제공 방식, 브러싱 방식, 세정 방식 등 다양한 방식을 이용하여 연속 마스크에 묻어 있는 증착물질을 제거하도록 구성하는 것도 가능하다.2, a deposition material removing mechanism 70 is provided in the deposition chamber to heat the mask before the continuous mask 50 is wound on the collection roller 62, a method of providing a hot air, a brushing method, It is also possible to remove the deposition material buried in the continuous mask by using various methods such as a cleaning method.

상기한 바와 같은 본 발명에 따른 롤형 마스크를 이용한 증착장비는 증착 공정실에 기판(S)을 도입한 상태에서 증착 위치에 위치시키고, 공급롤러(61)와 회수롤러(62)를 회전시켜 기판의 상부에 연속 마스크(50)에서 증착물질을 증착할 패턴 모듈이 위치되도록 한 다음, 상부의 증착물질 공급장치(30)에서 증착물질을 공급하여 기판 표면에 증착작업을 실시한다.The deposition apparatus using the roll type mask according to the present invention as described above places the substrate S in the deposition process chamber in the deposition position while rotating the supply roller 61 and the recovery roller 62, A pattern module for depositing a deposition material in the continuous mask 50 is positioned on the upper portion of the substrate, and then a deposition material is supplied from the upper deposition material supply device 30 to perform deposition on the substrate surface.

이러한 증착작업을 통하여 하나의 기판(S)에 증착작업이 완료되면, 다음 기판을 도입함과 아울러, 공급롤러(61) 및 회수롤러(62)를 이동시켜 연속 마스크(50)의 다음 패턴 모듈이 다음 기판의 하부에 위치되도록 한 상태에서 증착 공정을 반복적으로 실시한다.When the deposition operation is completed on one substrate S through the deposition operation, the next substrate is introduced and the next pattern module of the continuous mask 50 is moved by moving the supply roller 61 and the collection roller 62 And then the deposition process is repeatedly performed while being positioned at the bottom of the next substrate.

이와는 달리, 특정 패턴 모듈에 의해 증착이 이루어진 기판을 그대로 위치시킨 상태에서 연속 마스크(50)를 이동시켜 다른 패턴 모듈을 기판(S)의 상부에 위치시킨 후에 추가 증착 공정을 실시하는 것도 가능하다.Alternatively, it is also possible to carry out the additional deposition process after moving the continuous mask 50 with the substrate on which the deposition has been carried out by the specific pattern module as it is, and position the other pattern module on the top of the substrate S.

이와 같은 증착 방법 외에, 기판(S)을 증착 공정실 내에 이송함과 아울러 연속 마스크도 기판 이송 속도와 동일한 속도로 이송하면서 증착하는 것도 가능하다. 이때에는 기판(S) 이송 방향과 연속 마스크(50)의 이송 방향이 동일하게 배치된 구조로 구성하는 것으로, 도 3에서와 같은 배치 구조를 통해서 가능해진다.In addition to such a deposition method, it is also possible to deposit the substrate S in the deposition chamber while transferring the continuous mask at the same rate as the substrate transfer speed. At this time, the transfer direction of the substrate S and the transfer direction of the continuous mask 50 are configured to be the same, and it becomes possible through the arrangement structure as shown in FIG.

또한, 상기에서는 마스크 지지기구(60)를 공급롤러(61)와 회수롤러(62)로 구분하여 연속 마스크(50)가 한 방향으로만 이동하는 것으로 설명하였으나, 이에 한정되지 않고 공급롤러(61)와 회수롤러(62)를 역회전시켜 각 롤러의 기능을 반대로 구현하는 것도 가능하다. 이때에는 연속 마스크(50)가 양 방향으로 이동되면서 증착 공정을 수행할 수 있게 된다.In the above description, the continuous mask 50 is moved in only one direction by dividing the mask supporting mechanism 60 into the feed roller 61 and the collecting roller 62. However, the present invention is not limited to this, It is also possible to reverse the function of each roller by reversely rotating the take-up roller 62 and the take-up roller 62. At this time, the continuous mask 50 can be moved in both directions to perform the deposition process.

또한, 공급롤러(61)와 회수롤러(62) 사이의 간격을 크게 하여 그 사이에 다수의 기판(S)들이 위치시킨 상태에서 각 기판에 대응하는 연속 마스크(50)의 다수의 패턴 모듈을 이용하여 다수의 기판(S)에 동시에 증착 작업을 실시하도록 구성되는 것도 가능하다. 이때, 증착물질 공급장치(30)는 각 기판의 개수에 맞게 다수 개를 설치하여 구성하는 것도 가능하다.It is also possible to use a plurality of pattern modules of the continuous mask 50 corresponding to each substrate in a state where a large number of substrates S are positioned therebetween by increasing the interval between the supply roller 61 and the collection roller 62 So as to simultaneously perform a deposition operation on a plurality of substrates S. At this time, the evaporation material supply device 30 may be constructed by installing a plurality of evaporation material supply devices 30 corresponding to the number of the substrates.

설명되지 않은 도면부호 100은 이동유닛이다. 증착물질 공급장치(30)는 이동유닛(100)에 의하여 연속 마스크(50, 50')의 이동방향으로 이동 가능하도록 설치될 수 있다. 이동유닛(100)으로는 리니어 모터가 적용될 수 있다. 또는, 리니어 모터 대신, 공압식이나 유압식 실린더, 회전식 모터와 회전식 모터의 회전운동을 직선운동으로 바꾸어 전달하는 동력전달수단으로 구성된 기구이 적용될 수도 있다.Reference numeral 100, which is not described, is a mobile unit. The evaporation material supply device 30 may be installed to be movable in the moving direction of the continuous masks 50 and 50 'by the moving unit 100. The mobile unit 100 may be a linear motor. Alternatively, instead of the linear motor, a mechanism constituted by a pneumatic type or a hydraulic cylinder, or a power transmission means for converting the rotary motion of the rotary motor into a linear motion and transmitting the rotary motion may be applied.

이와 같이 증착물질 공급장치(30)를 이동유닛(100)에 의하여 이동 가능하도록 한 구성에 따르면 증착물질 공급장치(30)를 이동시키면서 증착공정을 진행할 수 있다. 예를 들면, 연속 마스크(50, 50')의 이동을 정지시키고 증착물질 공급장치(30)를 이동시키면서 증착물질을 증착할 수 있다. 또는, 기판, 연속 마스크(50, 50') 및 증착물질 공급장치(30)를 모두 동일한 방향 및 속도로 이동시키면 증착물질을 증착할 수도 있다.According to the structure in which the evaporation material supply device 30 is movable by the moving unit 100, the evaporation process can be performed while moving the evaporation material supply device 30. For example, the deposition material can be deposited while stopping the movement of the continuous masks 50 and 50 'and moving the deposition material supply device 30. Alternatively, the deposition material may be deposited by moving both the substrate, the continuous masks 50 and 50 'and the deposition material supply device 30 in the same direction and at the same speed.

상기한 바와 같은, 본 발명의 실시예들에서 설명한 기술적 사상들은 각각 독립적으로 실시될 수 있으며, 서로 조합되어 실시될 수 있다. 또한, 본 발명은 도면 및 발명의 상세한 설명에 기재된 실시예를 통하여 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다. 따라서, 본 발명의 기술적 보호범위는 첨부된 특허청구범위에 의해 정해져야 할 것이다. As described above, the technical ideas described in the embodiments of the present invention can be implemented independently of each other, and can be implemented in combination with each other. While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is evident that many alternatives, modifications, and variations will be apparent to those skilled in the art. It is possible. Accordingly, the technical scope of the present invention should be determined by the appended claims.

Claims (9)

기판이 도입되어 기판 표면에 증착이 이루어지는 증착 공정실과;
상기 증착 공정실 내에 위치되어 기판이 위치되는 기판 지지기구와;
상기 기판 지지기구에 위치된 기판에 증착물질이 통과하도록 패턴이 형성되되, 두루마리 공급 방식을 통하여 연속 이동이 가능하도록 이루어진 연속 마스크와;
상기 연속 마스크의 양단부가 감겨진 상태에서 연속 마스크의 공급 및 회수가 가능하도록 하는 마스크 지지기구와;
상기 증착 공정실 내에서 기판 표면에 증착물질을 증착시킬 수 있도록 상기 연속 마스크 방향으로 증착물질을 공급하는 증착물질 공급장치를 포함하고,
상기 기판의 도입이 상기 연속 마스크의 너비방향으로 이루어지도록 구성되어 상기 기판의 도입방향이 상기 연속 마스크의 이동방향과 교차하는 것을 특징으로 하는 롤형 마스크를 이용한 증착장비.A deposition process chamber in which a substrate is introduced and deposited on the substrate surface;
A substrate support mechanism positioned within the deposition chamber to position the substrate;
A continuous mask having a pattern formed on a substrate positioned in the substrate supporting mechanism so as to allow an evaporation material to pass therethrough, the continuous mask being capable of being continuously moved through a roll supply system;
A mask supporting mechanism for supplying and recovering a continuous mask in a state in which both end portions of the continuous mask are wound;
And a deposition material supply device for supplying the deposition material in the direction of the continuous mask so as to deposit the deposition material on the surface of the substrate in the deposition process chamber,
Wherein the introduction of the substrate is performed in the width direction of the continuous mask so that the introduction direction of the substrate crosses the movement direction of the continuous mask. 기판이 도입되어 기판 표면에 증착이 이루어지는 증착 공정실과; 상기 증착 공정실 내에 위치되어 기판이 위치되는 기판 지지기구와; 상기 기판 지지기구에 위치된 기판에 증착물질이 통과하도록 패턴이 형성되되, 두루마리 공급 방식을 통하여 연속 이동이 가능하도록 이루어진 연속 마스크와; 상기 연속 마스크의 양단부가 감겨진 상태에서 연속 마스크의 공급 및 회수가 가능하도록 하는 마스크 지지기구와; 상기 증착 공정실 내에서 기판 표면에 증착물질을 증착시킬 수 있도록 상기 연속 마스크 방향으로 증착물질을 공급하는 증착물질 공급장치를 포함하고,
상기 마스크 지지기구는, 상기 증착 공정실 내에 지지되어 상기 연속 마스크가 감겨져 있는 상태에서 연속 마스크를 공급하는 공급롤러와; 상기 증착 공정실 내에 상기 공급롤러와 대향된 위치에 배치되어 상기 공급롤러에서 공급된 연속 마스크를 회수하는 회수롤러를 포함하며,
상기 연속 마스크는 상기 공급롤러 또는 회수롤러에 감겨 있을 때 그 사이가 이격되어 있도록 적어도 일면에 복수의 이격돌기가 구비된 것을 특징으로 하는 롤형 마스크를 이용한 증착장비.A deposition process chamber in which a substrate is introduced and deposited on the substrate surface; A substrate support mechanism positioned within the deposition chamber to position the substrate; A continuous mask having a pattern formed on a substrate positioned in the substrate supporting mechanism so as to allow an evaporation material to pass therethrough, the continuous mask being capable of being continuously moved through a roll supply system; A mask supporting mechanism for supplying and recovering a continuous mask in a state in which both end portions of the continuous mask are wound; And a deposition material supply device for supplying the deposition material in the direction of the continuous mask so as to deposit the deposition material on the surface of the substrate in the deposition process chamber,
Wherein the mask holding mechanism comprises: a supply roller supported in the deposition chamber and supplying a continuous mask while the continuous mask is wound; And a recovery roller disposed in the deposition chamber opposite to the supply roller and recovering a continuous mask supplied from the supply roller,
Wherein the continuous mask is provided with a plurality of spaced apart projections on at least one side thereof so that the continuous mask is spaced apart when the feed roller or the collecting roller is wound. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 연속 마스크는 각 기판에 증착물질의 증착이 가능하도록 하는 패턴 모듈이 형성되되, 복수의 기판에 증착이 가능하도록 복수의 패턴 모듈이 순서대로 형성되고, 패턴 모듈과 패턴 모듈 사이에는 패턴이 형성되지 않은 버퍼 공간부를 갖는 것을 특징으로 하는 롤형 마스크를 이용한 증착장비.The method according to claim 1 or 2,
A plurality of pattern modules are formed in order so that deposition can be performed on a plurality of substrates, and a pattern is formed between the pattern module and the pattern module. And a buffer space portion which is not formed in the buffer space portion. 청구항 1에 있어서,
상기 마스크 지지기구는, 상기 증착 공정실 내에 지지되어 상기 연속 마스크가 감겨져 있는 상태에서 연속 마스크를 공급하는 공급롤러와; 상기 증착 공정실 내에 상기 공급롤러와 대향된 위치에 배치되어 상기 공급롤러에서 공급된 연속 마스크를 회수하는 회수롤러를 포함하며,
상기 연속 마스크는 상기 공급롤러 또는 회수롤러에 감겨 있을 때 그 사이가 이격되어 있도록 적어도 일면에 복수의 이격돌기가 구비된 것을 특징으로 하는 롤형 마스크를 이용한 증착장비.The method according to claim 1,
Wherein the mask holding mechanism comprises: a supply roller supported in the deposition chamber and supplying a continuous mask while the continuous mask is wound; And a recovery roller disposed in the deposition chamber opposite to the supply roller and recovering a continuous mask supplied from the supply roller,
Wherein the continuous mask is provided with a plurality of spaced apart projections on at least one side thereof so that the continuous mask is spaced apart when the feed roller or the collecting roller is wound. 청구항 2 또는 청구항 4에 있어서,
상기 마스크 지지기구는 상기 공급롤러와 회수롤러 사이의 연속 마스크 이동 경로 상에 연속 마스크의 위치를 안내하는 가이드 기구가 포함된 것을 특징으로 하는 롤형 마스크를 이용한 증착장비.The method according to claim 2 or 4,
Wherein the mask support mechanism includes a guide mechanism for guiding the position of the continuous mask on a continuous mask movement path between the supply roller and the collection roller. 청구항 5에 있어서,
상기 가이드 기구는 연속 마스크의 위치를 잡아주는 얼라인 기구가 포함된 것을 특징으로 하는 롤형 마스크를 이용한 증착장비.The method of claim 5,
Wherein the guide mechanism includes an alignment mechanism for positioning the continuous mask. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 마스크 지지기구에는 연속 마스크에 묻어 있는 증착물질을 제거하는 증착물질 제거기구가 포함된 것을 특징으로 하는 롤형 마스크를 이용한 증착장비.The method according to claim 1 or 2,
Wherein the mask supporting mechanism includes a deposition material removing mechanism for removing the deposition material on the continuous mask. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 증착물질 공급장치는 이동유닛에 의하여 상기 연속 마스크의 이동방향으로 이동 가능하게 설치된 것을 특징으로 하는 롤형 마스크를 이용한 증착장비.The method according to claim 1 or 2,
Wherein the deposition material supply device is installed movably in a moving direction of the continuous mask by a moving unit. 기판이 연속 이동되면서 증착이 이루어지도록 청구항 1 또는 청구항 2에 기재된 롤형 마스크를 이용한 증착장비가 복수 개 연속하여 배치된 것을 특징으로 하는 롤형 마스크를 이용한 인라인 타입 증착장비.Wherein a plurality of deposition equipment using the roll type mask according to claim 1 or 2 is continuously disposed so that the deposition is performed while the substrate is continuously moved.
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