KR101487563B1 - 물체의 이미지의 이미지면에서의 전자기장의 위상 및 진폭의 공간적 해상 결정 방법 및 장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 물체의 이미지의 이미지면에서 전자기장의 위상 및 진폭의 공간적 해상 결정을 위한 방법에 관한 것이다. 여기서, 물체가 간섭광을 사용하여 조명되고 이미지 면으로 이미징되며, 광이 픽셀단위로 공간적 해상 방식으로 이미지면에서 검출되는 사실에 의해 이미지들이 생성되고, 각각의 픽셀에 대해 광의 강도가 결정되고 이미지 포인트들에 저장되며, 이미지 포인트들이 이미지에 할당된다. 먼저, 제 1 이미지 이후 적어도 하나의 또다른 이미지가 생성되고, 광의 위상 및/또는 진폭은 기정의된 방식으로 변경되며 각각의 이미지에 대한 변경은 다른 이미지의 변경과 다르다. 이미지면에서의 물체의 이미지의 위상은 생성된 이미지로부터 공간 해상 방식으로 결정된다. 본 발명은 또한 상기 방법을 이행하기 위한 장치에 관한 것이다. 이와 같은 방법에서, 광의 위상 및/또는 진폭은 물체와 이미지면 사이의 동공면에서 공간 주파수 필터링에 의해 변경된다.
조명기, 이미지 포인트, 공간 해상, 동공면, 이미지면
Description
본 발명은 물체의 이미지의 이미지면에서 전자기장의 위상 및 진폭의 공간적 해상 결정을 위한 방법에 관한 것이다. 이 방법에 의해, 이미지는 (a) 조명기(illuminator)로부터의 간섭광으로 물체를 조명하고 이미지 평면으로 이를 이미징하는 것에 의해, (b) 픽셀 단위로 공간적 해상 방식으로 이미지 평면에서 광을 검출하는 것에 의해 생성되어 (c) 각각의 픽셀에 대해 광의 강도가 결정되고 이미지 포인트(image point)에 저장되며 이미지 포인트는 이미지에 할당된다. 제 1 이미지가 생성된 후, 기정의된 방식으로 변경되는 광의 위상 및/또는 진폭을 가지는 적어도 하나 이상의 이미지가 생성되고 각각의 이미지의 변경은 다른 이미지의 변경과는 다르다. 일반적으로, 제 1 이미지는 임의로 변경하지 않고 얻어진다. 생성된 이미지들로부터, 위상은 공간적 해상 방식으로 이미지면에서 물체의 이미지에서 결정된다.
본 발명은 또한 물체의 이미지의 이미지면에서 전자지장의 위상 및 진폭의 공간적 해상 결정을 위한 장치에 관한 것이다. 이와 같은 장치는 간섭광을 방사하 는 광원을 가지는 조명기, 물체용 홀더(holder), 이미징 광학기기(imaging optics), 픽셀을 사용하는 공간적 해상 검출기, 저장 모듈 및 데이터 분석 모듈을 포함한다. 상기 장치는 (a) 간섭광에 의해 물체를 조명하고 이미징 광학기기를 통해 이미지면으로 이를 이미징하는 것에 의해, (b) 픽셀 단위로 공간적 해상 방식으로 이미지면에서 광을 검출하는 것에 의해 이미지를 생성하여, (c) 광의 강도는 각각의 픽셀에 대해 결정되고 저장 모듈의 이미지 포인트에 저장되며 이미지 포인트는 이미지에 할당된다.
간섭광을 이용해 조사된 알려지지 않은 물체의 이미징에서 파면의 위상을 결정하는 다양한 방법이 당해 기술분야에 공지되어 있다. 일반적으로, 이들은 반복적 방법이며, 이미지에서의 위상, 또는 이미지에서의 파면은 2 개 이상의 공간적 해상된 강도 측정으로부터 반복적으로 재구성된다. 강도 측정은 지정된, 잘 정의된 방식으로 달리한다. 예를 들어, 제 1 이미지가 얻어질 수 있고, 물체 및 공간적 해상 검출기 각각은 이미징 광학기기의 촛점 위치에 있다. 제 2 이미지는 계획적 디포커싱(defocusing)으로 얻어질 수 있다. 물체가 홀더상에 고정된다면, 이 홀더는 정의된 거리만큼 광학축을 따라 이동될 수 있다. 대안으로 동일하게, 검출기는 이동될 수 있고, 더 많이 이동할수록, 이미징 광학기기의 배율은 더 높다. 검출기에서, 입사광은 기록되고 강도 값으로 변환된다. 동시에 동일한 획득 조건하에서 기록된 강도 값은 이미지 포인트에 저장되고 이미지로 결합된다. 이들 적어도 2 개의 이미지로부터, 촛점에 있는 이미지 평면에서 이미지되는 경우 물체로부터 오는 광의 위상 또는 파면은 위상 복원 알고리즘으로 불리는 것에 의해 계산될 수 있다. 위상 검색 알고리즘 중에서 게르츠베르그-삭톤(Gerchberg-Saxton) 알고리즘(R.B. Gerchberg, W.O. Saxton, Optik, vol. 35, page 237, 1972) 또는 양-구(Yang-Gu) 알고리즘(G.Yang, Applied Optics, vol. 33, page 209, 1994)으로 공지되어 있는 패밀리가 주로 자주 사용된다.
원칙적으로, 2 개의 이미지가 위상을 계산하는데 충분하더라도, 때때로 오랜시간동안 반복될 수 있다. 그러므로, 가능한한 많은 이미지를 획득하는 것이 바람직하다; 몇 가지의 정보가 이때 중복될 수 있는 반면, 더 높은 정확도를 결국에는 얻을 수 있다. 몇 개의 이미지가 디포커싱에 기초해서 발생된다면, 디포커싱이 제한된 설정 범위내에서만 가능한 경우, 한계에 빠르게 직면할 것이고, 이미지들이 너무 흐려서 중요한 분석을 할 수 없다.
다른 한편으로는, 현미경 사용에서, 이미징에서의 위상 콘트라스트(contrast)가 증가될 수 있는 방법이 공지되어 있다. 이와 같은 방법에서, 미시적 또는 거시적 물체에서 또는 물체 위의 광에 영향을 미치는 얇은 눈에 보이지 않는 위상 변화는 강도 변화로 바뀌고 이에 의해 눈에 보이게 된다. 이는 이들 물체의 이미징에서, 회절되지 않은 광의 위상 및 진폭이 물체에서 회절된 광과 비교하여 변경되도록 하여 달성되며, 물체의 회절 스펙트럼은 하나의 동공면에서 간섭된다. 이 점에 있어, 거시적 대물렌즈가 푸리에 변환 광학기기와 같이 대략 설계되어, 이미징 광학기기의 동공 면에서, 물체에 의해 회절된 광의 강도 분산의 공간 주파수 스펙트럼과의 정의된 조정이 가능하다는 사실을 이용한다.
물체의 이미지의 이미지면에서 전자장의 위상 및 진폭이 결정될 수 있는 현미경은 WO 91/07682에 개시되어 있다. 이 명세서는 레이저 빔이 물체의 작은 부분 상으로 초점이 맞추어지는 공초점의 레이저 스캐닝 현미경을 설명한다. 물체의 이 부분으로부터의 광은 핀홀을 통해 검출기 상으로 이미지된다. 제 1 이미지는 조정없이 물체가 조명되며 획득된다. 제 2 이미지에 대해, 하나의 필터 각각은 물체 앞뒤의 2 개의 동공 면에서 빔 경로로 삽입된다. 2 개의 필터는 주어진 수학 함수에 따라 강도-변경 또는 진폭 변경 동작, 필터가 조명 또는 이미징 측면 모두 상에서 사용된다면 데이터 분석을 용이하게 하는 특성을 가진다. 물체의 작은 부분에 대하여, 이미지의 위상이 계산될 수 있다. 광이 핀홀을 통해 검출기 상으로 이미징됨에 따라, 공간 해상 측정이 계산되고 시간이 걸린다. 서로에 대해 매칭되어야 하는, 2 개의 필터를 사용하는 것은 복잡하다.
본 발명의 과제는 물체의 이미지에서 위상의 간단한 공간적 해상 결정이 가능한 방법을 개발하는 것이다. 본 발명은 또한 간단한 방식으로 상기 방법을 이행하고 다른 조건 하에서 이미지를 획득하기 위한 높은 유연성(flexibility)을 허용하는 장치를 개발하는 것을 지향하고 있다.
먼저, 앞에서 설명된 방법으로, 이 문제는 광의 위상 및/또는 진폭이 물체와 이미지면 사이의 하나의 동공 면에서의 공간 주파수 필터링에 의해 변경되는 식으로 해결된다. 위에서 설명된 현미경에서와 달리, 필터링은 단한번 수행될 필요가 있다. 또한, 디포커싱과 비교하여, 공간 주파수 필터링은 다른 상태하에서 이미지를 획득하는 더 많은 가능성을 제공하며, 본 방법의 정확도를 상당히 개선하고 추가된 응용을 허용한다. 상기 변경은 정확하게 정의되어 있다. 모든 이미지에 대해 달라서, 한 세트로 다른 강도 이미지를 얻는다. 획득한 이미지의 최소 개수는 2 개이다. 모든 이미지는 공간 주파수 필터링으로 생성될 수 있다. 대안으로는, 이미지들 중 하나의 이미지는 필터링 없이 생성될 수 있다. 이는 위상의 결정에 대해 차이가 없으나, 그러나 후처리에 대한 이점을 가질 수 있다. 획득한 이미지 데이터의 세트로부터, - 반복 방법 예를 들어, 게르츠베르그-삭톤 패밀리의 알고리즘에 의해 - 이미지 공간에서의 위상을 복원할 수 있어, 이미징 공정에 의해 제한되는 물체 공간에서의 위상을 복원할 수 있다. 공간 주파수 필터링의 본질적 이점은 주파수-선택 조정을 완벽히 자유 선택한다는 것이다. 이렇게 하여 디포커싱의 불리한 점을 보상하는 것이 가능하고, 위상 변조에서 고주파수 이미지 공유(share)에 더 많은 영향을 미친다. 이와 같은 공간 주파수 필터링은 또한 더 적은 계산으로 실질적으로 더 정확한 위상 재구성(phase reconstruction)을 가능하게 한다.
바람직하게는, 공간 주파수 필터링은 적어도 하나의 공간 주파수 필터를 삽입함으로써 수행된다. 이 공간 주파수 필터의 특성은 공지되어 있으며, 이들 특성은 매개변수로서 위상 복원(phase retrieval) 알고리즘에 사용된다. 물론, 몇 개의 공간 주파수 필터는 동시에 사용될 수 있어, 예를 들어 제 1 필터는 제 1 주파수 범위를 포함하고 제 2 필터는 제 2 주파수 범위를 포함한다. 또한, 제 1 필터는 진폭 필터로서 설계될 수 있고 제 2 필터는 위상 필터로서 설계될 수 있다. 단일 필터로 위상 및 진폭 필터를 결합하는 것이 또한 가능하다. 위상 및/또는 진폭을 변경하기 위해, 빔 경로에서의 적어도 하나의 공간 주파수 필터는 광축 및/또는 광축에 직각이고 이와 교차하는 회전축에 대해 회전되어야 하고/하거나 광축에 직각으로 이동되어야 한다. 이렇게 하여, 광의 진폭 또는 위상은 하나 및 동일 소자를 이용하여 다양한 방법으로 변경될 수 있다. 다른 축에 대한 다른 이동 및 회전이 또한 가능하다.
사용된 공간 주파수 필터 중 적어도 하나는 예를 들어, 단일 렌즈(single lens), 마이크로렌즈 어레이, 해상 테스트 스타(resolution test star), 스파이럴 필터(spiral filter), 투과형 회절 격자(transmission grating) 또는 위상 격자일 수 있다. 이들 필터는 또한 결합하여 사용될 수 있다. 단일 렌즈 또는 마이크로렌즈 어레이가 0차 회절을 차단하지 않기 때문에, 이들은 특히 적합하다. 체커보드(checkerboard) 사인파 격자는 동일한 이점을 가진다.
어레이의 렌즈들의 위치가 통계적으로 흩어져있고/있거나 규칙적이기 보다는 비주기적으로 분산되어 있다면 - 거의 대칭인 회절 스펙트럼을 가지는 - 다양한 조정 성능을 얻는다.
위상의 공간적 해상 결정 전에 공간 주파수 필터의 교정을 수행하는 것이 또한 유용하다. 이는 정확도를 증가시킨다. 공간 주파수 필터를 교정하기 위해, 공지된 이미징 특성을 가지는 물체가 사용된다. 공간 주파수 필터를 교정하기 위해, 공지된 이미징 특성을 가지는 물체를 사용한다. 위상 조정을 위해, 이때, 광축을 따르는 필터의 이동 또는 디포커싱이 수행된다. 두 경우 모두에서, 위상 복원 알고리즘을 실행한 후, 공간 주파수에 의해 달성된 위상 및 진폭 조정을 추론할 수 있다.
본 방법에 관한 바람직한 실시예에서, 조명된 필드 조리개(illuminated field diaphragm)가 조명기의 물체면에서의 빔 경로로 삽입된다. 일반적으로 첫 번째 근사로서 푸리에 변환 광학기기와 같이 작동하는 미시적인 이미징 광학기기를 사용하더라도, 회절 스펙트럼의 주기적 연속에 의해 야기된 간섭 마진(interfering margin) 효과를 최소할 수 있음에 따라, 이 근사는 또한 조명된 필드 조리개에 의해 개선된다. 조명된 필드 조리개에 의해, 이미지에 따라, 검출기의 마진에서의 강도가 0으로 떨어지는 것을 얻을 수 있다. 이때 이미징 모델로서 푸리에 변환을 사용할 수 있고, 이는 공간 주파수 아티팩트(artifact)에 의해 야기된 마진에서의 강도의 급상승이 없는, 이미지의 주기적 연속을 의미한다. 그러므로, 바람직하게는 이미지 공간에서의 번짐(blur)을 덜 형성하는 필터를 사용할 수 있다. 공간 주파수 필터의 설계에 따라, 조명된 필드가 더 크거나 또는 더 작을 수 있다. 여기서, 예를 들어, 마이크로렌즈 어레이의 사용은 체크보드 사인파 격자에 비교하여 이점을 가진다. 위상 복원 알고리즘에 의한 측정의 분석에 있어, 광학 이미지가 - FFT(fast Fourier Transform)에 대한 알고리즘에 의해 수학적으로 이행된 - 푸리에 변환만큼 모델링된 규칙임에 따라, 정확도는 증가될 수 있다. 이렇게 하여, 위상 점프(phase jump) 없이 주기적으로 이미지가 실제로 연속하는 마진에서, 공간 해상 검출기의 작은 부분만이 사용된다.
조명된 필드 조리개가 사용된다면, 이미지 또는 이미지들이 이미지 데이터가 주기적 마진 조건을 충족하도록 이미 획득되는 반면, - 이는 예를 들어, 검출 장치의 카메라 센서의 직사각형의 CCD 영역의 경우에, 상호 대향하는 이미지 마진으로부터 얻어진 강도 값이 서로 대응하거나 또는 마진 영역에 걸친 움직임이 연속 함수에 의해 설명될 수 있는 것을 의미한다- 주기적 마진 조건은 또한 조명된 필드 조리개를 사용하지 않고 이미지의 획득 또는 생성 이후 발생될 수 있다. 이를 위해, 강도 가중 함수는 생성 이후 각각의 이미지의 이미지 포인트에 적용된다: 이 함수는 이미지의 주기적 연속의 경우에 이미지에서의 강도의 움직임이 연속적으로, 바람직하게는 연속적으로 미분가능 함수에 대응하도록 강도 값을 변경하다.
강도 가중 함수를 결정하기 위한 하나의 가능한 방법은 예를 들어, 상호 대향하는 이미지 마진의 값들 사이에서 보간하는 것이다. 또다른 가능한 방법은 마진을 제외한 모든 곳에서 값 1을 가지는 가중 함수에 의해 강도 값을 곱하는 것이고, 연속하여 0 또는 다른 기정의된 값으로 접근한다. 강도 가중 함수는 또한 이미지 마진을 넘어서 확장할 수 있어, 상호 대향하는 마진의 2 개의 마진 영역이 겹친다. 가장 간단한 경우에, 적합한 함수는 기정의된 기울기를 가지는 직선이다; 이들은 단지 연속적이다. 함수가 접합 포인트(junction point)에서, 즉 강도 가중 함수가 값 1에서 0으로 감소하기 시작하는 점 및 0 이 되는 점에서 연속전인 반면, 도함수는 연속적이지 않다. 산술적 이유로, 특히 계산의 정확성과 관련하여, 이들 영역에서의 강도 가중 함수가 또한 연속적으로 미분가능하다면, 즉 적어도 일차 도함수가 또한 연속적이라면 유리하다. 이 경우에, 예를 들어, 직선 대신에, 사각 사인 함수 예를 들어, a*sin2(bx) 의 1/4 주기를 사용할 수 있고, 이 함수의 최고점들은 가중 함수의 일정한 레벨에 연결된다.
또다른 이미지 포인트가 예를 들어, 보간에 의해 원래의 포인트에 더해지는 것이 또한 가능하다. 마찬가지로, 예를 들어 중복이 발생되는 이미지 포인트들이 약해질 수 있다.
이미지 포인트들의 또다른 처리 동안, 주파수 공간으로의 변환이 일반적으로 수행된다. 주기적 마진 조건을 수립하기 위해, 대안으로 또는 추가로 생성 이후 그리고 주파수 공간으로의 이 변환 이후 각각의 이미지의 이미지 포인트들로의 강도 가중 함수의 적용에 대해- 주파수 공간으로 변환된 이미지 포인트들에 동공 가중 함수를 적용하는 것이 또한 가능하고, 이들 함수는 외부 방향으로 동공의 마진에서, 연속적으로 바람직하게는 연속적으로 미분가능하며, 0으로 떨어진다.
- 위의 설명에 따라, 이 적용은 예를 들어, 보간, 또는 곱셈으로, 또는 덧셈이 있는 곱셈, 단지 예인 앞서 설명된 함수가 있는 곱셈으로 이루어지는 반면, 여기에서 언급되지 않은 다수의 다른 함수가 또한 바람직한 결과를 얻기 위해 적합하다 - 강도 가중 함수가 이미지 포인트들에 적용된 이후, 주파수 공간으로의 변환은 이미지 포인트들에 적용된다 즉, 주파수 분석이 수행된다. 강도 값 또는 진폭은 예를 들어, 수학에 광범위하게 사용되는 FFT와 같은 변경을 포함하는, 푸리에 변환에 의해 주파수 공간으로 변환될 수 있다; 따라서 이미지에서 발생하는 주파수의 동공 공간에서의 표현(representation)을 얻는다. 주파수 공간으로의 다른 변환이 또한 적용 가능하다. 종래 기술은 동공의 영역을 정의하는 동공 정의 함수를 주파수 표현에 적용한다. 이 함수는 동공 내에서는 값 1을 선택하고, 동공 밖에서는 0을 선택한다. 동공의 마진에서, 1에서 0으로 함수는 점프한다. 본 발명에 따르면, 이 함수는 변경된다: 간단한 동공 정의 함수 대신에, 또는 이에 추가로, 동공 가중 함수는 동공의 마진에서, 연속적으로, 바람직하게는 연속적으로 미분가능하며 0으로 떨어지는 푸리에-변환된 이미지 포인트들에 적용된다. 따라서, 동공의 마진에서의 점프는 적어도 하나의 연속 함수로 교체된다. 바람직하게는, 동공은 외부 방향으로 연속되고, 즉 동공 가중 함수는 동공의 마진까지 값 1을 채택하는 반면, 외부에서는 더 빠르거나 또는 더 느린 속도로 0으로 떨어진다. 가장 간단한 경우에, 기정의된 기울기를 가지는 직선이 사용될 수 있고, 비록 도함수가 연속적이지 않더라도, 접합 포인트에서, 즉 - 외부 반경방향으로 보여지는- 가중 함수가 마지막에 1 값을 가지는 동공 마진에서, 그리고 처음으로 값이 0인 외부에서 연속적이다. 그러므로, 산술적 이유로, 동공 마진에서 적어도 연속 미분가능한 다른 함수가 사용된다. 예를 들어, 아래 방향이 열린 포물선을 사용할 수 있다. 다시 본 발명에서, 사인 또는 코사인 발진의 1/4 주기가 사용될 수 있어, 함수는 어떤 경우에라도 연속적으로 미분가능하게 된다. 또한 연속하여 0으로 떨어지기 전에, 동공의 외부에서 소정의 길이 동안 함수가 연속하는 것이 가능하다.
이렇게 하여, 주기성이 발생될 수 있고, 조명된 필드 조리개를 사용할 필요 없이 주기적 마진 조건을 시뮬레이션하는 것을 가능하게 한다. 가중 함수 중 적어도 하나의 적용이 이들 가중 함수가 실제로는 비주기적이더라도 주기적 마진 조건을 시뮬레이션함에 따라, 주기적 마진 조건을 암시적으로 사용하는, 푸리에 변환은 큰 편차들을 야기하지 않고 적용될 수 있다.
주파수 공간으로 변환하기 전에 강도 가중 함수를 적용하고/하거나 주파수 공간에서 이미지 포인트들에 동공 가중 함수를 적용하는- 위에서 설명된 단계들은 위상의 공간 해상 결정을 위한 본 발명의 방법에서 사용에 제한되지 않고, 그러나 물론 이들 사용시에 포토리소그래픽 마스크의 움직임의 에뮬레이션(emulation)을 위한 에뮬레이션 배열을 가지고 생성된 이미지들에 적용될 수 있다. 이와 같은 배열, 예를 들어 칼 짜이즈(Carl Zeiss) SMS GmbH에 의해 만들어진 AIMS은 포토레지스트 상에서 작동하는 경우 포토리소그래픽 마스크의 항공 사진을 찍는다. 이때 이들 항공 사진이 분석된다. 위에서 설명된 단계는 분석 절차로 쉽게 통합될 수 있고 따라서 정확성 면에서 이점을 가진다.
본 발명의 또다른 실시예에서, 추가로 변경된 물체를 때리는 광의 입사 각을 가지는 또다른 이미지가 발생된다. 조명기는 본질적으로 스폿-형상의, 간섭 조명을 발생한다. 입사의 각도로 조명하기 위해, 이 조명 스폿은 조명 시스템의 동공면에서 측면방향으로 이동한다. 대안으로는, 조명각도는 서로에 대해 회전할 수 있는 웨지(wedge)에 의해 조명기의 필드 면에서 기울어질 수 있다. 광축 상에 중심을 가지는 원 호를 따라 전체 조명기를 회전하는 것이 또한 가능하다. 본 방법에 관한 이 실시예는 예를 들어 포토리소그래픽 스캐너의 부분적 간섭 조명을 측정하거나 또는 시뮬레이션하기 위해 사용될 수 있다. 이를 위해, 시뮬레이션되는 조명 동공이 이미지에서 이미지로 변함에 따라, 단일 이미지들이 연이어 얻어진다. 이어서, 다양한 위상 및 진폭 이미지들이 알고리즘에 의해 조립된다. 이에 있어, 회절 스펙트럼들이 0 주파수로 중심이 맞추어 지기 전에, 개별 측정은, 후처리에 의해, 동공 면의 전자장으로 조합되고 시뮬레이션에 의해 이미지 면으로 전파된다.
본 발명의 또다른 실시예에서, 물체가 기정의된 편광을 가지는 광으로 조명되고 상기 광이 편광에 따라 검출되는 또다른 이미지들이 생성된다. 이는 물체 또는 이미징 광학기기와 이미지 면 사이로 분석기 및 조명기와 물체 사이로 편광기를 삽입함으로써 달성될 수 있고, 이미지들은 서로에 대해, 적절한 경우에, 또한 조명기에 대해 편광기와 분석기의 다른 위치에서 생성된다. 이렇게 하여, 이미징 대물렌즈(objective)의 편광 특성이 공지되어 있다면, 위상 및 진폭 상의 물체의 편광-의존 효과를 감소시킬 수 있고, 동공 및 이미지 면에서 벡터의 전기장을 결정할 수 있다.
본 발명의 이 실시예는 포토리소그래픽 마스크의 제조 및 포토리소그래픽 공정의 최적화에 특히 사용될 수 있다. 설정을 하는데 있어, 포토리소그래픽 스캐너의 것들과 동일한 조명 각도, 개별 편광 및 개구수를 선택한다. 개구와 관련하여, 측정된 물체 회절 스펙트럼이 측정 후에 요구된 직경의 개구 마스크에 의해 곱해지고, 이어서 더욱 처리된다면, 더 큰 개구를 선택하는 것이 가능하다. 이들 설정으로, 스캐너-관련 위상 및 진폭을 측정한다.
측정의 결과는 마스크가 180°의 스캐너-관련 위상을 발생하도록 마스크-제조 공정을 최적화하기 위해 포토리소그래픽 마스크의 제조에서 사용될 수 있다.
디포커싱에 의해 광의 위상 및/또는 진폭을 추가로 변경하기 위해 설비를 제공하는 것이 마지막으로 유용하다. 이는 또한 공간 주파수 필터를 교정하는데 사용될 수 있다.
본 방법의 정확도를 증가시키기 위해 위상의 공간 해상 결정 전에 단색 수차(monochromatic aberration)에 관하여 교정을 수행하는 것이 더욱 유용하다. 이를 위해, 물체에서 회절이 전체 개구수를 조명하기 위해 충분히 큰 각도를 발생하며, 구조가 공지되어 있는 위상-불활성(phase-inactive) 물체, - 예를 들어, 크롬-온-글래스(chrome-on-glass) 핀홀(pinhole) 또는 전체 이미지 필드에 결쳐 평균하기 위한 핀홀 어레이-가 사용된다. 이때 물체는 동공 필터를 사용함으로써 또는 디포커싱에 의해 측정되고, 다양한 강도 이미지들이 생성된다. 다음으로 이들은 위상 복원 알고리즘에 의해 분석된다. 동공 면에 대해 계산된, 위상, 또는 위상 분배는 단색성 수차에 대응한다. 각각의 측정으로 동공 면에서의 측정으로부터 계산된 위상에서 빼지고, 위상은 수치적으로, 예를 들어 제르니케(Zernike) 다항식 및 계수에서의 전개로서 저장된다. 벡터 수차 효과는 조명 및 분석에서 모두 다른 편광 방향에 대해 측정함으로써 고려될 수 있다.
정확성에서의 또다른 개선은 이미지들이 발생되거나 또는 획득되기 전에 임의의 디포커싱을 보상하기 위해 교정을 수행함으로써 달성될 수 있다. 이와 같은 디포커싱은 측정 동안 발생하고 시간에 따라 변하여, 이 교정은 바람직하게는 매 이미지의 생성 전에 재-수행된다. 동공에서 알려지지 않은 물체의 이미징에서, 파면의 위상이 다항식에서 전개된다면, 디포커싱이 존재하는 경우, 2차 항은 이 전개에서 발생한다. 2 차항의 계수가 추출되고 상기 항은 동공의 위상에서 빼질 수 있다. 디포커싱을 교정하기 위해 2 차 위상 항을 고려하기 위한 다른 유사한 전략이 또한 적용가능하다.
본 발명은 또한 물체의 이미지의 이미지 면에서 전자기장의 위상 및 진폭에 관한 해상 결정을 위한 장치에 관한 것이다. 처음에 설명된 종류의 이와 같은 장치에 대해, 이미징 광학기기는 빔 경로의 하나의 동공 면에 결합될 수 있는 적어도 하나의 공간 주파수 필터를 구비하고 광의 위상 및/또는 진폭이 변경되는 문제가 해결되며, 상기 장치는 제 1 이미지 및 적어도 하나의 또다른 이미지를 생성하고, 광의 위상 및/또는 진폭은 기정의된 방식으로 공간 주파수 필터에 의해 변경되며, 각각의 이미지에 대한 변경은 다른 이미지에 대한 변경과 다르다. 제 1 이미지는 결합되거나 또는 결합되지 않은 공간 주파수 필터로 생성될 수 있다. 적어도 2 개의 이미지 모두가 결합된 필터로 생성된 경우, 이는 착탈식이거나 또는 빔 경로에서의 위치가 가변적이도록 필터가 배열되어 있는 배치를 의미한다; 즉 필터의 적어도 하나의 제 2 위치는 이미지들이 다른 조건 하에서 얻어질 수 있도록 가능해야 한다. 또한 다른 2 개의 필터 사이에서 변하는 것이 가능하고, 이는 이동할 필요가 없다. 분석 모듈은 저장된 이미지를 처리하고 공간 해상 방식으로 이미지 면에서의 물체의 이미지의 위상을 결정한다. 디포커싱의 원리에 의해 작동하는 위상 결정을 위한 통상적인 배치와 비교하여, 정확도는 공간 주파수 필터의 사용에 의해 향상될 수 있고; 또한, 다양한 방법이 위상 및/또는 진폭의 변경을 위해 이용가능하다. 하나 이상의 공간 주파수 필터가 제공될 수 있고, 다른 주파수 범위에서, 이들 중 하나는, 예를 들어 위상만을 변경하고, 또다른 하나는 진폭만을 변경하며, 3 번째 것은 진폭 및 위상 모두를 변경한다. 분석 모듈에서, 예를 들어, 게르츠베르그(Gerchberg) 및 삭톤(Saxton)에 따른, 위상 복원 알고리즘은 이미지들을 처리하기 위해 이행된다; 이 알고리즘에 의해, 이미지면에서의 파면의 위상은 반복적으로 결정된다. 본 발명의 장치에 의해, 앞서 설명된 방법이 수행될 수 있다. 종래 기술과 비교하여, 더 빠르게 얻어지는 방정식의 개별 반복 시스템을 해결하는데 있어 수렴을 허용한다.
바람직하게는, 결합된 공간 주파수 필터는 광축 및/또는 광축과 교차하고 광축에 직각인 회전축에 대해 회전하고/하거나, 광축에 직각으로 이동가능하도록 배열되어 있다. 결합된 경우, 공간 주파수 필터는 측면으로 이동되어, 광축에 대하여 기울어져, 광축에 대해 회전될 수 있다. 따라서, 다양한 방식의 빔 경로와의 간섭이 이용가능하여, 공간 주파수 스펙트럼은 다양한 방식으로 변경될 수 있다. 다른 변위, 기울기 또는 회전이 마찬가지로 적합하다. 필수 조건은 이미징 광학기기가 푸리에 변환에 의해 본질적으로 변경될 수 있다는 것, 즉 이미징 광학기기가 대략 푸리에 변환 광학기기에 대응한다는 것이다. 물체의 회절 스펙트럼 또는 회절 패턴은 고-해상 대물렌즈에 의해 얻어지고 푸리에 변환된다. 이미징 광학기기는 회절 대물렌즈에서 진폭 분산의 공간 주파수 스펙트럼으로의 회절 패턴에서의 진폭 분산의 푸리에 변환에 영향을 미친다. 적절한 공간-주파수 선택적 조절에 의해, 이 스펙트럼은 위상 및/또는 진폭에 대하여 조정되어, 회절 패턴에서 진폭 분산 및/또는 위상 분산이 변경된다. 물체가 이미지 면에서 이미징되는 경우, 이는 강도 변화에 의해 명백하게 된다.
실제로, 상기 장치는 적어도 하나의 공간 주파수 필터의 다른 위치를 각각 가지는, 다수의 이미지를 생성한다. 이렇게 하여, 큰 세트의 데이터가 이용가능하게 되고, 정확성의 측정은 증가하고 수렴은 더 빠르게 달성된다. 그러나, 적어도 2 개의 이미지가 필요하다.
바람직하게는 적어도 하나의 공간 주파수 필터는 단일 렌즈, 마이크로렌즈 어레이, 해상 테스트 스타, 스파이럴 필터, 투과형 회절 격자 또는 위상 격자이다. 바람직하게는, 사용된 공간 주파수 필터는 0차 차수 회절을 차단하지 않는 종류로 되어 있고, 이들은 더 높은 정확성을 가져온다. 마이크로렌즈 어레이의 경우에, 어레이 상의 개별 렌즈의 위치가 규칙적으로 분산된 것이 아니라 통계적으로 흩어져있고/있거나 비주기적으로 분산되어 있다면, - 대칭 회절 스펙트럼을 대게 가지는 - 많은 방식의 조정이 있다.
바람직하게는, 상기 장치는 조명기의 빔 경로의 물체 면에 배열된 조명 필드 조리개를 구비한다. 이렇게 하여, 실제 이미징 움직임은 푸리에 변환에 의해 이상적인 이미징 움직임에 더욱 근접하게 접근하도록 형성될 수 있다 즉, 푸리에 변환에 기초한 모델과 실제 장치 사이의 편차가 감소된다.
마지막으로, 홀더는 광축을 따라 이동가능하도록 형성될 수 있다. 이렇게 하여, 디포커싱에 관한 - 예를 들어, 검사 또는 교정을 위한 - 고전적 방법이 또한 이미지 면에서 위상 결정에 사용될 수 있다.
바람직하게는, 상기 장치는 또한 물체 상으로의 조명 광의 입사각을 설정하기 위한 수단을 구비하고 있다. 이들 설정 수단에 의해, 조명기에 의해 발생된 간섭 조명의 스폿은 조명기의 동공 면에서 옆으로 이동된다. 바람직하게는, 이를 위해, 서로에 대해 이동가능한 2 개의 광학 소자, 예를 들어 서로에 대해 회전될 수 있고 필드 면에서 각도를 만드는 2 개의 회전 웨지가 제공된다. 또다른 가능한 방법은 2 개의 기울임이 가능한 광학 플랫(flat)을 사용하는 것이고, 이는 동공 면에서 측면 오프셋을 생성한다.
본 발명의 바람직한 실시예에서 편광기는 조명기와 물체 사이에 배열되어 있고, 분석기는 이미징 광학기기와 검출기 사이에 배열되어 있다. 이렇게 하여, 공지되지 않은 물체는 정의된 편광 방향의 광으로 조명될 수 있다; 강도는 검출기의 앞에서 다른 위치의 분석기를 사용함으로써 편광에 따라 검출된다. 물론 편광기의 위치는 변할 수 있다. 동공과 이미지 면 사이의 이미징 시스템의 스칼라 움직임을 가정하면, 즉 작은 이미징 각을 가정하면, 스칼라 위상 복원 알고리즘은 동공 및 이미지 공간에서의 위상 및 진폭을 재구성하는데 사용될 수 있다. 필요 조건으로서, 이미징 대물렌즈의 편광 특성, 즉 존스 매트릭스(Jones matrix)가 공지되어야 한다. 이미징 시스템의 존스 매트릭스의 인수분해(factoring-in) 후, 위상 및 진폭 상의 물체의 편광-의존 효과는 이런 방식으로 직접 감소될 수 있다. 조명에서 편광의 다른 방향, 즉 편광기의 다른 위치로 이들 단계를 반복한다면, 이는 동공 및 이미지 면에서 벡터 전기장을 감소시키는 것을 허용한다. 물론, 추가로, 조명 각은 또한 변경될 수 있다. 예를 들어, 이렇게 하여, 포토리소그래픽 마스크의 존스 매트릭스가 결정될 수 있다. 포토리소그래픽 스캐너의 이미징 움직임을 시뮬레이션하기 위해, 이미징 광학 기기의 광학 특성, 즉 전달 함수는 바람직하게는 개구수와 관련하여, 시뮬레이션되는 포토리소그래픽 스캐너의 광학 특성과 본질적으로 대응한다; 바람직하게는 조명기의 광학 특성은 조명 각 및/또는 편광과 관련하여, 시뮬레이션되는 스캐너의 광학 특성에 본질적으로 대응한다. 따라서 또다른 특성들이 또한 선택될 수 있다. 대안으로는, 이미징 광학기기의 개구수는 시뮬레이션되는 포토리소그래픽 스캐너의 개구수보다 더 클 수 있다. 또다른 공정 단계에서, 동공 면, 즉 이미지면과 켤레의 면에서 결정된 전자장은 개구 마스크와의 곱셈에 의해 또한 처리되고, 이의 직경은 스캐너의 개구의 직경에 대응한다.
이 절차는 포토리소그래픽 마스크의 편광 특성을 측정하는데 특히 적합하다. 이렇게 하여 이와 같은 마스크의 회절 스펙트럼의 전기장을 벡터로 결정하는 것이 가능함에 따라, 본 발명의 장치는 측정된 전자장을 사용하여, 포토리소그래픽 스캐너의 이미징 움직임을 시뮬레이션하는데 특히 적합하다. 조명 파장의 크기의 차수 또는 더 작은 차수로 포토리소그래픽 마스크 상의 폭 및 깊이의 특징을 가지고, 마스크 상의 회절의 정밀한 효과는 더이상 무시될 수 없다. 예를 들어, 유한-요소 방법에 기초하여, 맥스웰 방정식을 푸는 보통의 정밀한 시뮬레이터는 사용된 모델에 따라 이들 결과의 파동을 나타낸다. 그러므로 3 차원 마스크 형상의 입력 데이터, 즉 간접적으로 많은 노력으로 얻을 수 있는 데이터를 필요로 한다. 본 발명의 장치의 측정 결과에 의해, 스캐너의 부분 간섭 이미지는 포토리소그래픽 마스크 및 포토리소그래픽 스캐너의 벡터 효과를 고려하여, 홉킨스 이론에 의해 시뮬레이션될 수 있다. 상기 장치에 의해 결정된 회절 스펙트럼의 전기장은 마스크의 정밀한 효과에 대한 모든 정보를 포함한다. 따라서 정밀한 시뮬레이션이 필요 없을 수 있다.
또한, 다른 조명 각도 하에서 생성된 측정되거나 또는 보간된 회절 스펙트럼을 인수분해함으로써 홉킨스 시뮬레이션에서 부분적 간섭 조명의 다양한 조명 각도에 대한 수직의 입사를 가지는 간섭 회절 스펙트럼의 이동을 결정하는 것이 가능하다.
이렇게 하여, 시뮬레이션은 개선될 수 있다. 스캐너를 시뮬레이션하는데 있어 다양한 특성 예를 들어, 스캐너의 존스 매트릭스, 수차, 소위 플레어(flare), 스캐너의 내츄럴 아포다이제이션(natural apodization) 및 층 아포다이제이션, 선택적 침지 액체(immersion liquid)의 굴절률 및 침지 액체 또는 공기로부터 포토레지스트 또는 반사방지 코트로의 천이에서의 프레넬 반사를 고려할 수 있다. 스캐너 시뮬레이션에서 또한 스캐너의 조명 시스템의 시간 및 공간 간섭 함수를 고려할 수 있다.
사용된 파장 및 분해능에 가까운 특징 사이즈에 대해, 노출시의 위상은 조명 광의 입사 각도, 조명 광의 편광 및 개구에 크게 좌우된다. 포토리소그래픽 스캐너에서 발생하는 위상을 결정하기 위해, 가능하다면 정확하게, 스캐너의 이미징 개구 뿐만 아니라, 스캐너의 조명 - 가능하다면 보간하기 위한 다른 조명 각도들의 연이은 측정에 의해, 예를 들어 이중극 조명 - 을 시뮬레이션하는 것이 필요하고, 이는 본 발명의 장치로 얻어질 수 있다. 개구와 관련하여, 더 높은 개구를 가지는 측정이 또한 가능하다; 기록된 회절 스펙트럼은 특수 알고리즘에 의해 연이어 제거될 수 있다. 측정된 위상 및 처리 후의 출력은 스캐너 관련 광학 설정을 나타내고 스캐너의 노출 공정에서 발생하는 위상에 대략 대응한다. 포토리소그래피를 위한 마스크의 제조 공정을 최적화하여, 예를 들어 180 도의 위상 또는 기정의된 값을 발생한다면, 생성된 마스크는 최적이다. 시뮬레이션으로부터 얻은 이들 변수를 가지고, 제조 공정은 최적화될 수 있고, 즉 요구된 특성에 적합할 수 있어 설정될 수 있으므로, 이미지 면에서의 포토리소그래픽 마스크의 이미징에서, 180˚의 위상 점프는 마스크 구조에 의해 정의된 곳에서 생성된다. 이렇게 하여 위상 리소그래픽 마스크의 제조를 모니터하는 것이 또한 가능하다.
비용-집약 마스크에 대한 제조 공정을 최적화하는 것 대신에, 반대로 시작될 수 있다: 포토리소그래픽 스캐너의 이미징 움직임이 최적화되어 즉, 주어진 마스크 구조에 대해, 설계되고 설정되어, 이미지 면에서의 180˚의 위상 점프는 마스크 구조에 의해 기정의된 위치들 중에서 그곳에 발생된다. 이 점에서, 이미지 면으로의 마스크의 전자기 회절 스펙트럼의 전파가 가능한 한 스캐너의 조명 특성 및 이미징 특성을 고려하여 시뮬레이션된다. 시뮬레이션된 이미지의 분석에 기초하여, 이들 특성은 포토리소그래픽 공정에 대해 특수한 마스크 구조를 적합하게 하기 위해 설정될 수 있고 이에 의해 최적화될 수 있다.
본 발명의 장치의 또다른 가능한 응용은 포토리소그래픽 마스크의 공간 구조를 결정하는 것이다. 이와 같은 마스크의 3 차원 구조 및 이의 재료 특성에 대한 정보를 복원하기 위해, 편광 및 조명 각도에 좌우되는 마스크의 회절 스펙트럼의 벡터 필드는 정밀하게 시뮬레이션된 회절 스펙트럼이 다른 측정 구성하에서 측정되고 저장된 스펙트럼에 대응할 때까지, 이 마스크의 설명을 위해 매개변수를 반복하여 최적화하는데 사용된다. 많은 마스크가 동일한 회절 패턴을 생성함에 따라, 가능하다면 많은 정보를 가지는 것이 필요하다. 이렇게 하여 마스크의 에지 경사도(steepness), 층 두께 및 마스크의 층 시스템의 복소 굴절률을 감소시키는 것이 가능하다.
이하, 본 발명은 다음의 첨부한 도면을 참고로 하여 예시적인 실시예를 기초로 더욱 상세히 설명되어 있다:
도 1은 이와 같은 장치에 관한 예시적인 설계도를 나타내고, 그리고
도 2는 예시적인 절차에 의해 방법의 적용을 나타낸다.
이 장치는 조명기(1)를 포함한다. 이 조명기는 간섭광을 방사한다. 바람직하게는 광원은 레이저이다. 조명기(1)로부터의 광은 물체(2)로 방사되고, 예를 들어, 이는 포토리소그래픽(photolithographic) 마스크일 수 있다. 조명기(1)로부터 떨어져서 마주하는 물체(2)의 측면은 이미징 광학기기의 초점 면(3)에 놓인다. 조명기(1)는 조명된 필드 조리개(4)를 구비하고, 이는 조명되고 이미징된 영역을 감소시켜, 푸리에 변환에 의해 모델링된 이미지로부터 실제 이미지의 편차가 감소된다. 또한, 물체(2)로 광 입사의 각도를 설정하기 위한 수단이 제공될 수 있다(도시되지 않음). 이는 예를 들어, 조명기(1)에 의해 생성된 조명 스폿이 조명기의 동공면에서 옆으로 이동된다면, 얻어질 수 있다. 대안으로는, 조명기(1)는 초점면(3)과의 광학 축의 교차점에 중심을 가지는 원형의 호 상에서, 예를 들어 이동될 수 있다.
물체(2)에 의해 방사되고 회절된 광은 높은 해상 대물렌즈에 의해 획득되고; 물체의 이미지는 예를 들어, 450X의 배율 스케일로 크게 재-확대된다. 여기서, 이미징 광학기기는 일반적으로 예를 들어 2 개 이상의 렌즈를 포함할지라도, 2 개의 렌즈(5, 6)의 시스템으로서 도시되어 있다. 이미징 광학기기는 공간 해상 검출 기(7) 상으로 광을 이미징하고, 레지스터되며 강도가 결정되고 이미지 포인트에 저장된다. 따라서 측정 동작의 이미지 포인트는 이미지에 할당된다. 이미징 광학기기의 동공면에- 도시된 예에서 이는 렌즈(5)와 렌즈(6) 사이에 있다- 공간 주파수 필터(8)가 배열되어 있다. 이 공간 주파수 필터(8)는 빔 경로로부터 완벽히 제거될 수 있다. 이때 장치는 빔 경로로부터 완벽히 제거되는 공간 주파수 필터(8)를 가지는 제 1 이미지를 획득한다. 이어서, 적어도 하나의 또다른 이미지는 빔 경로로 삽입된 공간 주파수 필터(8)로 생성된다. 2 개의 이미지의 이미지 포인트들은 저장 모듈(9)에 이미지로서 저장된다. 이로부터 이들은 분석 모듈(10)로 전송되고, 검출기(7)가 배열되어 있는, 이미지면에서의 물체의 이미지의 위상은 위상 복원 알고리즘에 의해 2 개의 이미지로부터 계산된다.
공간 주파수 필터(8)의 다른 위치에서 2 개의 이미지보다는, 일련의 전체 이미지를 획득하는 것이 유리하다. 이를 위해, 공간 주파수 필터(8)는 광측에 직각으로, 옆으로 이동될 수 있거나 또는, 광축에 직각이고 바람직하게는 광축과 교차하는 축에 대해 기울어질 수 있다. 이들 2 개의 이동은 공간 주파수 필터(8) 위의 화살표에 의해 도면상에 나타나 있다. 또한, 공간 주파수 필터(8)는 또한 회전축으로서 광축에 대해 회전될 수 있다. 이렇게 하여, 많은 다른 설정이 가능하고, 이미지면에서 파면의 위상의 정확한, 빠르게 수렴하는, 반복 결정을 허용한다. 또한, 예를 들어, 선택적으로 주파수가 다른 몇 개의 공간 주파수 필터(8)가 사용될 수 있다. 마지막으로, (도시되지 않은) 편광기(polarizer)는 조명기(1)와 물체(2) 사이에 배열될 수 있고, (도시되지 않은) 분석기는 렌즈(6)와 검출기(7) 사이에 배열될 수 있다. 편광기 및 분석기의 상대적 위치를 변경함으로써 동공면에서, 마찬가지로 이미지면에서의 벡터 전기장을 결정하기 위해 사용될 수 있는 연속의 이미지를 생성하는 것이 가능하다. 이 결정은 또한 분석 모듈(10)에서 발생할 수 있다. 공간 주파수 필터(8)는 예를 들어, 마이크로렌즈 어레이로서 구성될 수 있다. 측정하기 전에, 적당한 교정(calibration)이 수행될 수 있다.
설명된 장치를 이용하여 이미지면에서의 파면의 위상을 재구성하는 것 뿐만 아니라, 포토리소그래픽 스캐너를 시뮬레이션하는 것이 가능하다. 충분한 데이터가 제공된다면, 또한 상기 장치에 의해, 물체, 특히 포토리소그래픽 마스크의 구조를 추론할 수 있다.
도 2는 포토리소그래픽 마스트의 공간 구조의 계산 또는 포토리소그래픽 스캐너의 시뮬레이션을 위해 수행되기 위한 방법의 필수 단계를 나타낸다. 가장 왼쪽에 있는 박스에서, 특히 존스 매트릭스의 결정을 포함하는, 포토리소그래픽 스캐너의 시뮬레이션을 위한 입력 데이터를 발생하기 위해 처음에 수행되는 A로 표시된 단계가 도시되어 있다. B로 표시된 박스는 위상 및 진폭 측정을 위해 구체적으로 수행된 단계를 포함한다.
먼저, 단계 a1에서, 편광기의 다양한 위치 및 다양한 조명 각도가 존 매트릭스를 측정하기 위해 또는 시뮬레이션 되는 스캐너에 대응하는 부분 간섭 조명을 설정하기 위해 특정된다. 단계 a2에서 한 세트의 N 개의 조명 설정을 이런 방식으로 얻는다. 이들 N 개의 조명 설정에 대해, 단계 b1에서 단계 b6이 수행되고; 마지막에서, 단계 a3에서, 동공 면 및 이미지 면에서의 N 개의 위상 및 진폭을 얻는다.
박스 B에서 설명된 위상 및 진폭 측정에서, 먼저 각도와 편광에 대하여 N 개의 조명 설정 중 하나를 단계 b1에서 선택한다. 선택적 단계 b2에서, 특히 시뮬레이션되는 포토리소그래픽 스캐너의 개구수(numerical aperture)와 같은, 이미징 특성들은 설정될 수 있다. 이어서, 몇 개의 강도 이미지는 단계 b3에서 동공 조정을 변경함으로써 얻어지고; 이들은 단계 b4에서 예를 들어 위상 복원 알고리즘을 이용하여 분석된다. 단계 b5에서 기정의된 조명 설정에 대한 결과로서, 동공면 및 이미지면에서 위상 및 진폭을 얻는다. 또다른 선택적 단계 b6에서, 동공 진폭 및 위상은 후처리 될 수 있는, 예를 들어, 개구 마스크로 곱해질 수 있다. 단계 b2에서 이미징 특성을 설정함에 있어, 시뮬레이션되는 포토리소그래픽 스캐너의 개구소보다 많은 개구수를 선택한다면 이는 필요하다.
이들 단계가 모든 N 개의 조명 설정에 대해 수행된다면, 결과로서 동공면 및 이미면에서의 N 개 위상 및 진폭은 단계 a3에서, 모아서 또다른 처리를 하고, 이는 마스크-메이킹(mask-making) 또는 포토리소그래픽 공정(박스 C)을 최적화하고 모니터하기 위한 시뮬레이션 또는 역회절 문제(박스 D)의 해결책이다. 단계 c1, c2 및 d1은 대안으로 의미된다.
단계 c1에서, 포토리소그래픽 스캐너는 마스크 제조 공정을 최적화하고 모니터하는 것을 지향하여 시뮬레이션되어, 스캔하는 동안 이미지면에서 180˚의 위상 점프를 야기하는 마스크 구조가 제조된다. 대안으로는, 몇 개의 포토리소그래픽 스캐너는 단계 c2에서 시뮬레이션 될 수 있고, 이들 스캐너는 다른 조명 및 이미징 특성을 가진다. 이들 시뮬레이션된 포토리소그래픽 스캐너는 또한 180˚의 위상 점 프를 발생하기 위해 최적화된다.
마지막으로, 단계 d1에서, 단계 a3에서 모은 데이터로부터 포토리소그래픽 마스크의 3차원 구조를 계산할 수 있다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
1 조명기
2 물체
3 초점면
4 조명된 필드 조리개
5, 6 렌즈
7 검출기
8 공간 주파수 필터
9 저장 모듈
10 분석 모듈
본 발명에 포함되어 있음.
Claims (31)
- - 물체가 조명기로부터의 간섭광으로 조명되고 이미지면으로 이미징되며, 광이 픽셀단위로 공간적 해상 방식으로 이미지면에서 검출되어, 각각의 픽셀에 대해 광의 강도가 결정되고 이미지 포인트들에 저장되며, 이미지 포인트들이 이미지에 할당되어 이미지는 생성되고,- 처음에 제 1 이미지, 및 이후 적어도 하나의 또다른 이미지가 생성되어, 광의 위상 및/또는 진폭은 기정의된 방식으로 변경되고 각각의 이미지에 대한 변경방식은 다른 이미지의 변경 방식과 다르며,- 생성된 이미지로부터, 이미지면에서의 물체의 이미지의 위상은 공간 해상 방식으로 결정되는, 물체의 이미지의 이미지면에서 전자기장의 위상 및 진폭의 공간적 해상 결정을 위한 방법으로서,- 상기 광의 위상 및/또는 진폭은 상기 물체와 상기 이미지면 사이의 동공면에서, 적어도 하나의 공간 주파수 필터의 삽입에 의한 공간 주파수 필터링에 의해 변경되며,- 빔 경로에서의 위상 및/또는 진폭의 변경을 위한 적어도 하나의 공간 주파수 필터는 광축 및/또는 광축에 직각이고 교차하는 회전축에 대해 회전하고/하거나, 광축에 직각으로 병진이동하는 것을 특징으로 하는 공간적 해상 결정 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 적어도 하나의 공간 주파수 필터로서, 단일 렌즈, 마이크로렌즈 어레이, 해상 테스트 스타(star), 나선형 필터, 투과형 회절 격자(transmission grating) 또는 위상 격자가 사용되는 것을 특징으로 하는 공간적 해상 결정 방법.
- 제 2 항에 있어서,상기 마이크로렌즈 어레이 상의 렌즈의 위치는 비주기적이고/이거나 통계적으로 선택되는 것을 특징으로 하는 공간적 해상 결정 방법.
- 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 위상의 공간적 해상 결정 전에 상기 공간 주파수 필터의 교정이 수행되는 것을 특징으로 하는 공간적 해상 결정 방법.
- 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,강도 가중 함수는 이미지의 생성 후에 각각의 이미지의 이미지 포인트들에 적용되고,- 상기 강도 가중 함수는, 이미지의 주기적 연속의 경우에, 이미지의 강도의 행동이 연속적인 함수에 대응하도록 강도 값을 변경하는 것을 특징으로 하는 공간적 해상 결정 방법.
- 제 5 항에 있어서,상기 강도 가중 함수는, 연속적으로 미분 가능한 것을 특징으로 하는 공간적 해상 결정 방법.
- 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,- 주파수 공간으로의 변환은 이미지의 생성 후에 각각의 이미지의 이미지 포인트들에 적용되고, 그리고- 동공 가중 함수는 주파수 공간으로 변환된 이미지 포인트들에 적용되고, 동공의 마진(margin)에서 상기 동공 가중 함수는 연속적으로 외측 방향으로 0을 향해 떨어지는 것을 특징으로 하는 공간적 해상 결정 방법.
- 제 7 항에 있어서,상기 동공 가중 함수는 연속적으로 미분 가능하게 외측 방향으로 0을 향해 떨어지는 것을 특징으로 하는 공간적 해상 결정 방법.
- 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,조명된 필드 조리개는 상기 조명기의 물체면에서 빔 경로에 삽입되는 것을 특징으로 하는 공간적 해상 결정 방법.
- 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,또다른 이미지는 상기 물체로의 광입사의 각도가 변경되도록 추가로 생성되는 것을 특징으로 하는 공간적 해상 결정 방법.
- 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,또다른 이미지들은 물체가 기정의된 편광의 광에 의해 조명되고 상기 광이 편광에 따라 검출되도록 생성되는 것을 특징으로 하는 공간적 해상 결정 방법.
- 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 광의 위상 및/또는 진폭은 추가로, 디포커싱에 의해 변경되는 것을 특징으로 하는 공간적 해상 결정 방법.
- 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 위상의 공간적 해상 결정 전에 단색 수차 (monochromatic aberration)에 관한 교정이 수행되는 것을 특징으로 하는 공간적 해상 결정 방법.
- 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,임의의 디포커싱의 보상을 위한 교정은 이미지의 생성 전에 수행되는 것을 특징으로 하는 공간적 해상 결정 방법.
- 제 14 항에 있어서,상기 교정은 각각의 이미지의 생성 전에 수행되는 것을 특징으로 하는 공간적 해상 결정 방법.
- - 간섭광을 방사하는 광원을 가지는 조명기, 물체용 홀더, 이미징 광학기기, 픽셀을 이용하는 공간 해상 검출기, 저장 모듈 및 데이터 분석 모듈을 포함하고,- 물체가 간섭광에 의해 조명되고 이미징 광학기기를 통해 이미지면으로 이미지되며,상기 이미지면에서의 광이 공간 해상 방식으로 픽셀단위로 검출되고,상기 광의 강도가 각각의 픽셀에 대해 결정되고 상기 저장 모듈의 이미지 포인트들에 저장되며, 이미지 포인트들이 이미지에 할당되도록 이미지를 생성하는, 물체의 이미지의 이미지면에서의 전자장의 위상 및 진폭의 공간적 해상 결정을 위한 장치로서,- 상기 이미징 광학기기는 광의 위상 및/또는 진폭이 변경되고 동공면에서 빔 경로로 결합될 수 있는 적어도 하나의 공간 주파수 필터를 구비하고,- 결합된 공간 주파수 필터는 광축 및/또는 광축에 직각이며 교차하는 회전축에 대해 회전가능하고/하거나, 광축에 직각으로 병진이동하도록 배열되며,- 상기 장치는 제 1 이미지 및 적어도 하나의 또다른 이미지를 생성하고, 상기 광의 위상 및/또는 진폭은 기정의된 방식으로 상기 공간 주파수 필터에 의해 변경되고 각각의 이미지에 대한 변경 방식은 다른 이미지에 대한 변경 방식과 다르며,상기 데이터 분석 모듈은 저장된 이미지를 처리하고, 공간적 해상 방식으로, 이미지면에서 물체의 이미지의 위상을 결정하는 것을 특징으로 하는 공간적 해상 결정 장치.
- 제 16 항에 있어서,적어도 하나의 공간 주파수 필터로서, 단일 렌즈, 마이크로렌즈 어레이, 해상 테스트 스타, 스파이럴 필터, 투과형 회절 격자 또는 위상 격자가 사용되는 것을 특징으로 하는 공간적 해상 결정 장치.
- 제 17 항에 있어서,마이크로렌즈 어레이 상의 렌즈의 위치는 비주기적 및/또는 통계적으로 선택되는 것을 특징으로 하는 공간적 해상 결정 장치.
- 제 16 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 있어서,위상 복원 방법이 상기 분석 모듈에서 이행되는 것을 특징으로 하는 공간적 해상 결정 장치.
- 제 16 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 있어서,조명된 필드 조리개가 상기 조명기의 빔 경로에서의 물체면에 배열되어 있는 것을 특징으로 하는 공간적 해상 결정 장치.
- 제 16 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 홀더는 광축에 대해 병진이동가능한 것을 특징으로 하는 공간적 해상 결정 장치.
- 제 16 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 물체 상으로 광 입사의 각도를 설정하기 위한 설정 수단이 제공되는 것을 특징으로 하는 공간적 해상 결정 장치.
- 제 22 항에 있어서,상기 설정 수단은 서로에 대해 이동가능한 2 개의 광학 소자를 포함하는 것을 특징으로 하는 공간적 해상 결정 장치.
- 제 16 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 있어서,편광기는 상기 조명기와 상기 물체 사이에 배치되고, 분석기는 상기 이미징 광학기기와 상기 검출기 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 공간적 해상 결정 장치.
- 제 16 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 이미징 광학기기 및/또는 상기 조명기의 광학 특성은 시뮬레이션되는 포토리소그래픽 스캐너의 광학 특성에 본질적으로 대응하는 것을 특징으로 하는 공간적 해상 결정 장치.
- 제 16 항 또는 제 17 항에 있어서,상기 공간적 해상 결정 장치는, 포토리소그래픽 스캐너의 이미징 움직임의 시뮬레이션에 적용되는 것을 특징으로 하는, 공간적 해상 결정 장치.
- 제 16 항 또는 제 17 항에 있어서,상기 공간적 해상 결정 장치는, 포토리소그래픽 마스크의 공간 구조를 결정하기 위하여 적용되는 것을 특징으로 하는, 공간적 해상 결정 장치.
- 제 16 항 또는 제 17 항에 있어서,상기 공간적 해상 결정 장치는, 포토리소그래픽 마스크의 존스 매트릭스(Jones matrix)를 결정하기 위하여 적용되는 것을 특징으로 하는, 공간적 해상 결정 장치.
- 제 16 항 또는 제 17 항에 있어서,상기 공간적 해상 결정 장치는, 포토리소그래픽 마스크가 이미지면으로 이미징되는 경우, 180˚의 위상 점프가 마스크 구조에 의해 기정의된 장소들 중 그곳에서 발생하도록, 포토리소그래픽 마스크의 제조 공정을 설계하고 설정하기 위하여 사용되는 것을 특징으로 하는, 공간적 해상 결정 장치.
- 제 16항 또는 제 17항에 있어서,상기 공간적 해상 결정 장치는,주어진 포토리소그래픽 마스크가 이미징 면으로 이미징되는 경우, 180˚의 위상 점프가 마스크 구조에 의해 기정의된 장소들 중 그곳에서 발생하도록, 주어진 포토리소그래픽 마스크용 포토리소그래픽 스캐너의 이미징 움직임을 설계하고 설정하기 위하여 적용되는 것을 특징으로 하는, 공간적 해상 결정 장치.
- 삭제
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Families Citing this family (23)
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| DE102013226932A1 (de) * | 2013-12-20 | 2015-06-25 | Carl Zeiss Ag | Verfahren zur Ermittlung der Phasenverteilung |
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| DE102018221647B3 (de) | 2018-12-13 | 2020-06-04 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Detektionseinrichtung zur Erfassung einer Struktur auf einem Flächenabschnitt einer Lithografiemaske sowie Vorrichtung und Verfahren mit einer derartigen Detektionseinrichtung |
| DE102019205642A1 (de) * | 2019-04-17 | 2020-10-22 | Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh | Ortsfrequenzfiltereinrichtung zur Verwendung mit einem Laserstrahl, Ortsfrequenzfilteranordnung mit einer solchen Ortsfrequenzfiltereinrichtung und Verfahren zur Ortsfrequenzfilterung eines Laserstrahls |
| DE102019123741A1 (de) | 2019-09-04 | 2021-03-04 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Charakterisierung einer Maske für die Mikrolithographie |
| DE102020101989A1 (de) | 2020-01-28 | 2021-07-29 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Technik e.V. | Verfahren und Vorrichtung zur Charakterisierung eines kohärenten Lichtfelds in Amplitude und Phase |
| DE102020123615B9 (de) | 2020-09-10 | 2022-04-28 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zur Charakterisierung einer Maske für die Mikrolithographie |
| DE102021205328B3 (de) | 2021-05-26 | 2022-09-29 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zur Bestimmung einer Abbildungsqualität eines optischen Systems bei Beleuchtung mit Beleuchtungslicht innerhalb einer zu vermessenden Pupille und Metrologiesystem dafür |
| DE102022126509A1 (de) | 2022-10-12 | 2024-04-18 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Verfahren zur Bestimmung der Phase und/oder Brechzahl eines Bereiches eines Objektes und Mikroskop zur Bestimmung der Phase und/oder Brechzahl eines Bereiches eines Objektes |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1991007682A1 (en) * | 1989-11-22 | 1991-05-30 | The Secretary Of State For Defence In Her Britannic Majesty's Government Of The United Kingdom Of Great Britain And Northern Ireland | Phase measuring scanning optical microscope |
| US20030137654A1 (en) * | 2000-12-22 | 2003-07-24 | Nikon Corporation | Wavefront aberration measuring instrument, wavefront aberration measuring method, exposure apparautus, and method for manufacturing micro device |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3597045A (en) * | 1969-06-30 | 1971-08-03 | Ibm | Automatic wafer identification system and method |
| BE760042A (fr) * | 1970-01-19 | 1971-05-17 | Ibm | Filtre spatial complexe utilisant seulement la modulation de phase |
| DE2462111B2 (de) * | 1974-08-07 | 1981-01-22 | Will Wetzlar Gmbh, 6330 Wetzlar | Verfahren zur Kontrastverbesserung sowie zur Steigerung der förderlichen Vergrößerung (Auflösungsvermögen) eines optischen Mikroskopes |
| US3946433A (en) * | 1974-11-25 | 1976-03-23 | Xerox Corporation | Phase image scanning method |
| DD292744A5 (de) * | 1987-05-26 | 1991-08-08 | Carl Zeiss Jena,De | Verfahren und anordnung zur schaerfeerkennung |
| DE69224514T2 (de) * | 1992-03-23 | 1998-06-18 | Erland Torbjoern Sandstroem | Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung eines Bildes |
| US5859728A (en) * | 1994-10-24 | 1999-01-12 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Method and apparatus for improved spatial light modulation |
| AUPP690098A0 (en) * | 1998-11-02 | 1998-11-26 | University Of Melbourne, The | Phase determination of a radiation wave field |
| US6421163B1 (en) * | 1998-11-05 | 2002-07-16 | Comptic, Inc. | Two dimensional transform generator |
| US6545790B2 (en) * | 1999-11-08 | 2003-04-08 | Ralph W. Gerchberg | System and method for recovering phase information of a wave front |
| RU2179336C1 (ru) * | 2000-12-26 | 2002-02-10 | Общество С Ограниченной Ответственностью "Инсмат Технология" | Способ формирования оптического изображения в некогерентном свете и устройство для его осуществления (варианты) |
| US7567596B2 (en) * | 2001-01-30 | 2009-07-28 | Board Of Trustees Of Michigan State University | Control system and apparatus for use with ultra-fast laser |
| AUPR830801A0 (en) * | 2001-10-16 | 2001-11-08 | Iatia Imaging Pty Ltd | Phase determination of a radiation wavefield |
| WO2006072581A1 (en) * | 2005-01-10 | 2006-07-13 | Medizinische Universität Innsbruck | Spiral phase contrast imaging in microscopy |
-
2007
- 2007-02-21 DE DE102007009661A patent/DE102007009661A1/de not_active Withdrawn
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Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1991007682A1 (en) * | 1989-11-22 | 1991-05-30 | The Secretary Of State For Defence In Her Britannic Majesty's Government Of The United Kingdom Of Great Britain And Northern Ireland | Phase measuring scanning optical microscope |
| US20030137654A1 (en) * | 2000-12-22 | 2003-07-24 | Nikon Corporation | Wavefront aberration measuring instrument, wavefront aberration measuring method, exposure apparautus, and method for manufacturing micro device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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