KR101486585B1 - Cooker and method for controlling the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 조리기기 및 그 제어방법에 관한 것이다. 본 발명에서는, 조리실에서의 음식물의 조리과정에서 발생되는 음식물 냄새 및 찌꺼기의 제거를 위한 플라즈마의 공급, 공기의 흡입 및 스팀의 공급 중 적어도 하나 이상이 선택적으로 이루어진다. 따라서 본 발명에 의하면, 조리실의 내부의 음식물 냄새 및 찌꺼기가 보다 효율적으로 제거되는 이점이 있다.The present invention relates to a cooking apparatus and a control method thereof. In the present invention, at least one of a supply of plasma, a suction of air, and a supply of steam is selectively performed in order to remove food odors and debris generated in the cooking process of the food in the cooking chamber. Therefore, according to the present invention, there is an advantage that the odor and the residue of food inside the cooking chamber are more efficiently removed.

조리기기, 조리실, 플라즈마, 스팀, 환기 Cookware, galley, plasma, steam, ventilation

Description

조리기기 및 그 제어방법{Cooker and method for controlling the same}Cooker and method for controlling same

본 발명은 조리기기에 관한 것으로, 보다 상세하게는 음식물을 조리하는 과정에서 발생되는 냄새를 제거할 수 있는 조리기기 및 그 제어방법에 관한 것이다.The present invention relates to a cooking appliance, and more particularly, to a cooking appliance and a control method thereof capable of removing odors generated during a cooking process.

조리기기이란, 전기나 가스를 이용하여 음식물을 조리하는 조리기기이다. 이와 같은 조리기기에는 음식물이 조리되는 조리실이 구비되고, 상기 조리실의 내부에 안착된 음식물은 가열원, 예를 들면, 히터 등에 의하여 발생되는 열에 의하여 가열되어 조리된다. 그러나 이와 같은 종래 기술에 의한 조리기기에서는 상기 조리실의 내부에서 음식물이 조리되는 과정에서 발생되는 냄새에 의하여 사용자가 불쾌감을 느끼게 될 우려가 발생된다.A cooking device is a cooking device that cooks food using electricity or gas. Such a cooking device includes a cooking chamber in which food is cooked, and the food placed inside the cooking chamber is heated and cooked by heat generated by a heating source, for example, a heater or the like. However, in such a conventional cooking apparatus, there is a concern that the user may feel uncomfortable due to the smell generated during cooking of the food in the cooking chamber.

본 발명은 상술한 바와 같은 종래 기술에 의한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 음식물을 조리하는 과정에서 발생되는 냄새를 제거할 수 있도록 구성되는 조리기기 및 그 제어방법을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a cooking device and a control method thereof capable of removing odors generated during a cooking process.

상술한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 의하면, 본 발명은 음식물의 조리가 이루어지는 조리실; 상기 조리실의 내부의 냄새를 제거하는 탈취부; 및 상기 조리실의 환기를 위하여 상기 조리실의 내부로 공기가 흡입되는 흡기부; 를 포함하고, 상기 조리실의 내부의 탈취 및 환기는 함께 또는 별개로 이루어진다.According to an aspect of the present invention, there is provided a cooking apparatus comprising: a cooking chamber in which food is cooked; A deodorizing unit for removing the odor of the inside of the cooking chamber; And an air intake part for sucking air into the cooking chamber for ventilation of the cooking chamber; And the deodorization and ventilation of the inside of the cooking chamber are performed together or separately.

본 발명의 다른 실시예에 의하면, 본 발명은 음식물의 조리가 이루어지는 조리실이 구비되는 캐비티; 상기 조리실의 내부로 흡입되는 공기를 안내하는 에어덕트; 상기 에어덕트의 내부에 설치되고, 상기 조리실의 내부의 냄새를 제거하는 탈취부; 및 상기 에어덕트를 선택적으로 개폐하는 댐퍼; 를 포함하고, 상기 댐퍼는 상기 탈취부에 의한 상기 조리실의 내부의 음식물의 탈취와 무관하게 상기 에어덕트를 선택적으로 개폐한다.According to another embodiment of the present invention, there is provided a cooking apparatus comprising: a cavity provided with a cooking chamber in which food is cooked; An air duct for guiding air sucked into the cooking cavity; A deodorizing unit installed inside the air duct for removing the odor of the inside of the cooking chamber; And a damper selectively opening and closing the air duct. The damper selectively opens and closes the air duct irrespective of deodorization of food inside the cooking chamber by the deodorizer.

본 발명의 또 다른 실시예에 의하면, 본 발명은 조리실의 내부에서 음식물이 조리되는 단계; 및 상기 조리실의 내부의 탈취, 환기 및 상기 조리실의 내부로의 스팀의 공급 중 적어도 하나 이상의 동작이 선택적으로 이루어지는 단계; 를 포함 한다.According to another embodiment of the present invention, there is provided a method of cooking food, comprising: preparing food inside a cooking chamber; And at least one operation of deodorizing and ventilating the inside of the cooking chamber and supplying steam to the inside of the cooking chamber is selectively performed; .

본 발명에 의하면, 조리실의 내부의 음식물 냄새 및 찌꺼기가 보다 효율적으로 제거되는 이점이 있다.According to the present invention, there is an advantage that the food odor and debris inside the cooking chamber are more effectively removed.

이하에서는 본 발명에 의한 조리기기의 제1실시예의 구성을 첨부된 도면을 참조하여 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, the structure of the first embodiment of the cooking apparatus according to the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 의한 조리기기의 제1실시예를 보인 사시도이고, 도 2는 본 발명의 제1실시예를 구성하는 플라즈마 방전부를 보인 분해사시도이며, 도 3은 본 발명의 제1실시예를 구성하는 제1전극을 보인 단면도이다.2 is a disassembled perspective view showing a plasma discharge unit constituting a first embodiment of the present invention. FIG. 3 is a cross-sectional view of the plasma discharge unit according to the first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view showing a first electrode constituting the display device of FIG.

도 1을 참조하면, 캐비티(100)의 내부에는 조리실(110)이 구비된다. 상기 조리실(110)은 실질적으로 음식물이 조리되는 곳이다. 상기 조리실(110)은 대략 전면이 개구되는 육면체형상으로 형성된다.Referring to FIG. 1, a cooking chamber 110 is provided in the cavity 100. The cooking chamber 110 is a place where food is substantially cooked. The cooking chamber 110 is formed in a hexahedron shape having a substantially open front face.

한편 상기 조리실(110)의 일측면에는 흡기부(120)가 구비된다. 상기 흡기부(120)는 상기 조리실(110)의 내부로 공기가 흡입되는 입구역할을 한다. 그리고 상기 흡기부(120)의 반대편에 해당하는 상기 조리실(110)의 타측면에는 배기부(130)가 구비된다. 상기 배기부(130)는 상기 흡기부(120)를 통하여 상기 조리실(110)의 내부로 흡입된 공기가 배출되는 출구역할을 한다. 본 실시예에서는, 상기 흡기부(120) 및 배기부(130)가 상기 조리실(110)의 서로 마주보는 양측면에 형성되지만, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 뿐만 아니라, 상기 흡기부(120)를 통하여 상기 조리실(110)의 내부로 흡입되는 공기가 상기 캐비티(100) 및 상기 조리실(110)을 선택적으로 개폐하는 도어(미도시) 사이의 틈새를 통하여 배출되도록 구성될 수도 있다.On one side of the cooking chamber 110, an intake unit 120 is provided. The intake unit 120 serves as an inlet through which air is sucked into the cooking chamber 110. An exhaust unit 130 is provided on the other side of the cooking chamber 110 opposite to the intake unit 120. The exhaust unit 130 serves as an outlet through which the air sucked into the cooking chamber 110 is discharged through the intake unit 120. In the present embodiment, the intake unit 120 and the exhaust unit 130 are formed on opposite sides of the cooking chamber 110, but the present invention is not limited thereto. In addition, the air sucked into the inside of the cooking chamber 110 through the intake unit 120 is discharged through a gap between the cavity 100 and the door (not shown) that selectively opens and closes the cooking chamber 110 .

또한 상기 조리실(110)의 외측에 해당하는 상기 캐비티(100)의 외면에는 에어덕트(140)가 구비된다. 상기 에어덕트(140)는 상기 흡기부(120)를 통하여 상기 조리실(110)의 내부로 흡입되는 공기, 즉 상기 조리실(110)의 환기를 위한 공기를 안내하는 역할을 한다. 실질적으로 상기 캐비티(100)의 외면과 상기 에어덕트(140)의 내면 사이에 공기가 유동되는 유로(150)가 형성된다. 본 실시예에서는, 상기 에어덕트(140)가 상기 캐비티(100)의 도면상 좌측면 및 이에 인접하는 후면에 위치되도록 대략 L자형상의 횡단면을 가지도록 형성된다. 그러나 상기 에어덕트(140)의 형상이 이에 한정되는 것은 아니다. An air duct 140 is provided on an outer surface of the cavity 100 corresponding to the outside of the cooking chamber 110. The air duct 140 serves to guide air sucked into the cooking chamber 110 through the intake unit 120, that is, air for ventilation of the cooking chamber 110. A flow path 150 through which air flows is formed substantially between the outer surface of the cavity 100 and the inner surface of the air duct 140. In this embodiment, the air duct 140 is formed to have a substantially L-shaped cross-section so as to be positioned on the left side of the cavity 100 and the rear side adjacent thereto. However, the shape of the air duct 140 is not limited thereto.

그리고 상기 에어덕트(140)의 일단에는 입구부(141)가 구비된다. 상기 입구부(141)는 상기 에어덕트(140)의 내부로 공기가 흡입되는 입구역할을 한다. 상기 에어덕트(140)가 상기 캐비티(100)의 외면에 설치된 상태에서, 상기 입구부(141)는 상기 조리실(110)의 외부에 해당하는 공간, 예를 들면, 상기 캐비티(100)의 외면 일측에 설치되는 전장부품(미도시)를 냉각시키기 위한 공기가 유동되는 공간과 연통된다. 따라서 상기 입구부(141)를 통하여 상기 전장부품를 냉각시킨 공기의 일부가 상기 유로(150)로 흡입되고, 상기 유로(150)를 유동한 공기는 상기 흡기부(120)를 통하여 상기 조리실(110)의 내부로 흡입된다. 물론, 상기 입구부(141)를 통하여 상기 유로(150)의 내부로 유동되는 공기가 반드시 상기 전장부품을 냉각 시킨 공기로 한정되는 것은 아니다. 즉, 상기 유로(150)의 내부에는 상기 조리실(110)의 내부로 흡입시키기 위한 별도의 공기가 유동될 수도 있다.An inlet 141 is provided at one end of the air duct 140. The inlet 141 serves as an inlet through which the air is sucked into the air duct 140. When the air duct 140 is installed on the outer surface of the cavity 100, the inlet 141 is formed in a space corresponding to the outside of the cavity 110, for example, And communicates with a space through which air for cooling the electric components (not shown) installed in the space is to flow. A part of the air cooled by the electric component is sucked into the channel 150 through the inlet 141 and the air that has flowed through the channel 150 flows through the inlet 120 into the cooking chamber 110, As shown in FIG. Of course, the air flowing into the passage 150 through the inlet 141 is not necessarily limited to the air that has cooled the electric component. That is, other air for sucking the air into the cooking chamber 110 may flow into the channel 150.

그리고 상기 에어덕트(140)의 내부에는 댐퍼(160)가 설치된다. 상기 댐퍼(160)는 상기 에어덕트(140)의 내부, 즉 상기 유로(150)를 선택적으로 개폐한다. 본 실시예에서와 같이, 상기 댐퍼(160)의 위치가 상기 에어덕트(140)의 내부로 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 상기 댐퍼(160)가 상기 입구부(141)에 설치되어도 무방하다. 또한 도시되지는 않았으나, 상기 유로(150)의 개폐를 위한 구동력을 상기 댐퍼(160)에 제공하는 구동부재, 예를 들면, 구동모터가 구비된다.A damper 160 is installed inside the air duct 140. The damper 160 selectively opens and closes the inside of the air duct 140, that is, the flow path 150. The position of the damper 160 is not limited to the inside of the air duct 140, as in the present embodiment. For example, the damper 160 may be installed at the inlet 141. Further, although not shown, a driving member, for example, a driving motor that provides a driving force for opening and closing the flow path 150 to the damper 160 is provided.

한편 상기 에어덕트(140)의 내부, 즉 상기 유로(150) 상에는 플라즈마 방전부(200)가 설치된다. 본 실시예에서는, 상기 플라즈마 방전부(200)가 상기 흡기부(120)에 인접하는 상기 유로(150) 상에 설치된다. 상기 플라즈마 방전부(200)는, 상기 조리실(110)의 내부의 음식물 냄새 및 찌꺼기의 제거를 위한 플라즈마를 방전시킨다. 보다 상세하게는, 상기 플라즈마 방전장치(300)에서 플라즈마의 방전시, 수산화이온(OH-)과 같은 음이온 및 CH3-S라디컬기가 발생된다. 이와 같은 수산화이온 및 CH3-S라디컬기가, 상기 조리실(110)에서 음식물을 조리하는 과정에서 발생되는 찌꺼기의 주성분인 C-H결합을 끊어줌으로써, 음식물 냄새 및 음식물 찌꺼기의 제거가 이루어진다. 도 2 및 도 3을 참조하면, 상기 플라즈마 방전부(200)는, 케이싱(210), 제1 및 제2전극부(220)(230), 유전체(240) 및 히터(250)를 포함한다.Meanwhile, a plasma discharge unit 200 is installed in the air duct 140, that is, on the flow path 150. In this embodiment, the plasma discharge unit 200 is installed on the flow path 150 adjacent to the intake unit 120. The plasma discharging unit 200 discharges the plasma for removing odors and food odors from the inside of the cooking chamber 110. More specifically, the plasma discharge in the plasma discharge apparatus 300, hydroxide ions (OH -) are generated and the anion group is CH 3 -S radicals such as. The hydroxyl ion and the CH 3 -S radical group are removed from the CH bond which is a main component of the residue generated during cooking the food in the cooking chamber 110, thereby removing the food odor and food waste. 2 and 3, the plasma discharge unit 200 includes a casing 210, first and second electrode units 220 and 230, a dielectric 240, and a heater 250.

상기 케이싱(210)은, 상기 제1 및 제2전극부(220)(230), 유전체(240) 및 히 터(250)가 설치되는 소정의 공간을 형성한다. 본 실시예에서는, 상기 케이싱(210)이 케이싱본체(211) 및 케이싱커버(215)를 포함한다. 상기 케이싱본체(211)는 대략 일면이 개구되는 다면체형상, 예를 들면, 육면체형상으로 형성된다. 상기 케이싱본체(211)의 개구되는 일면과 마주보는 상기 케이싱본체(211)의 타면에는 전달개구(213)가 형성된다. 상기 전달개구(213)는 플라즈마를 상기 조리실(110)의 내부로 전달하기 위한 것이다. 그리고 상기 케이싱커버(215)는 상기 케이싱본체(211)의 개구된 일면을 차폐한다.The casing 210 forms a predetermined space in which the first and second electrode units 220 and 230, the dielectric 240, and the heater 250 are installed. In the present embodiment, the casing 210 includes a casing main body 211 and a casing cover 215. The casing main body 211 is formed in a polyhedral shape, for example, a hexahedron shape in which one surface is opened. A transmission opening 213 is formed on the other surface of the casing body 211 facing the opening of the casing body 211. The transfer opening 213 is for transferring the plasma into the inside of the cooking chamber 110. The casing cover (215) shields the open side of the casing body (211).

상기 제1 및 제2전극부(220)(230) 및 유전체(240)는 실질적으로 플라즈마 방전이 이루어지는 부분이다. 상기 제1 및 제2전극부(220)(230) 및 유전체(240)는 상기 케이싱(210)의 내부, 즉 상기 케이싱본체(211) 및 케이싱커버(215) 사이에 형성되는 공간에 서로 이격되게 설치된다. 상기 제1전극부(220) 및 제2전극부(230)는 소정의 간격만큼 이격되게 설치된다. 보다 상세하게는, 상기 유전체(240)는, 예를 들면, 세라믹재질의 판상으로 성형될 수 있다. 그리고 상기 제1전극부(220)는, 소정의 면적을 가지는 금속판상으로 성형될 수 있다. 또한 상기 유전체(240)의 표면 및 상기 제1전극부(220)의 표면은 내산화성 재질로 형성되는 항산화코팅층(241)이 구비된다. 상기 제2전극부(230)는, 상기 제1전극부(220)의 반대편에 위치되도록 상기 유전체(240)로부터 소정의 간격만큼 이격되게 위치된다. 상기 제2전극부(230)에는 다수개의 전극핀(231)이 구비된다. 상기 전극핀(231)은, 상기 제1전극부(220)가 상기 제2전극부(230)의 일면에 형성하는 사영(射影, projection)의 내부에 해당하는 영역에 위치된다. 예를 들면, 상기 제1전극부(220)가 장방형의 금속판상으로 형성되도록 상기 유전체(240)의 일면 중앙부에 위치되면, 상기 제2전극부(230)의 전극핀(231)도 전체적으로 장방형을 이루도록 상기 제2전극부(230)의 일면에 구비될 수 있다. 그리고 상기 제1전극()에 고전압이 인가되면, 상기 제1전극부(220) 및 접지되는 상기 제2전극부(230)의 전극핀(231) 사이의 전기장 영역에서 가속되는 전자들에 의하여 그 주변의 대기가 이온화되어 플라즈마가 방전된다. 또한 상기 제2전극부(230)는, 예를 들면, 알루미늄재질로 성형될 수 있다. 상기 제2전극부(230)가 알루미늄 재질로 성형되는 경우에는, 플라즈마가 방전되는 과정에서 상기 제2전극부(230)의 표면이 산화되더라도 알루미나 코팅층이 형성됨으로써, 실질적으로 플라즈마의 방전효율의 저하가 최소화될 수 있게 된다.The first and second electrode units 220 and 230 and the dielectric 240 are portions where plasma discharge is substantially performed. The first and second electrode units 220 and 230 and the dielectric 240 are spaced apart from each other in a space formed between the casing body 211 and the casing cover 215, Respectively. The first electrode unit 220 and the second electrode unit 230 are spaced apart from each other by a predetermined distance. More specifically, the dielectric 240 can be formed, for example, in the form of a ceramic plate. The first electrode unit 220 may be formed on a metal plate having a predetermined area. Also, the surface of the dielectric 240 and the surface of the first electrode unit 220 are provided with an antioxidant coating layer 241 formed of an oxidation-resistant material. The second electrode unit 230 is spaced apart from the dielectric 240 by a predetermined distance so as to be positioned on the opposite side of the first electrode unit 220. The second electrode unit 230 is provided with a plurality of electrode pins 231. The electrode pin 231 is located in an area corresponding to the inside of the projection formed on one surface of the second electrode unit 230. For example, when the first electrode unit 220 is positioned at the center of one side of the dielectric 240 so that the first electrode unit 220 is formed on a rectangular metal plate, the electrode pins 231 of the second electrode unit 230 are also rectangular The second electrode unit 230 may be formed on one surface of the second electrode unit 230. When a high voltage is applied to the first electrode, electrons accelerated in an electric field region between the first electrode unit 220 and the electrode pin 231 of the second electrode unit 230 to be grounded, The surrounding atmosphere is ionized and the plasma is discharged. The second electrode unit 230 may be formed of, for example, aluminum. When the second electrode unit 230 is formed of an aluminum material, an alumina coating layer is formed even if the surface of the second electrode unit 230 is oxidized during discharge of the plasma, thereby substantially lowering the discharge efficiency of the plasma Can be minimized.

상기 히터(250)는 플라즈마가 방전되는 과정에서의 오존(O3)의 발생량을 선택적으로 감소시키는 역할을 한다. 보다 상세하게는, 상기 제1 및 제2전극부(220)(230)에서 플라즈마가 방전되는 과정에서 오존도 발생하게 되는데 이와 같은 오존은 인체에 유해하므로, 선택적으로, 예를 들면, 상기 조리실(110)의 환기가 이루어지는 경우에, 상기 히터(250)가 상기 오존의 발생량을 감소시키는 것이다. 상기 히터(250)는 상기 제1전극부(220)의 반대편에 해당하는 상기 유전체(240)의 타면에 패턴으로 형성된다. 이때 상기 히터(250)는 상기 제1전극부(220)와 서로 중첩되지 않는 영역, 즉 상기 유전체(240)의 일면의 테두리 부분에 구비된다. The heater 250 selectively reduces the amount of ozone O 3 generated during plasma discharge. More specifically, ozone is generated during discharge of the plasma at the first and second electrode units 220 and 230. Since the ozone is harmful to the human body, 110 is ventilated, the heater 250 reduces the amount of ozone generated. The heater 250 is formed in a pattern on the other surface of the dielectric 240 opposite to the first electrode 220. At this time, the heater 250 is provided at an edge of the dielectric 240, which is not overlapped with the first electrode 220.

이하에서는 본 발명에 의한 조리기기의 제1실시예의 작용을 첨부된 도면을 참조하여 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, the operation of the first embodiment of the cooking apparatus according to the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.

도 4 내지 도 6은 본 발명의 제1실시예에 의한 플라즈마 방전모드, 환기모드 또는 플라즈마 방전/환기모드를 보인 횡단면도이다.4 to 6 are cross-sectional views showing a plasma discharge mode, a ventilation mode, or a plasma discharge / ventilation mode according to the first embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, 플라즈마 방전모드의 경우에는, 조리실(110)의 내부로 외부의 공기는 흡입되지 않고, 즉 상기 조리실(110)의 환기는 이루어지지 않고, 상기 조리실(110)의 내부로 플라즈마 방전부(200)에서 방전된 플라즈마만 공급된다. 따라서 상기 조리실(110)의 내부에서 음식물을 조리하는 과정에서 발생되는 음식물 냄새 및 음식물 찌꺼기의 플라즈마에 의한 제거만 이루어진다.Referring to FIG. 4, in the plasma discharge mode, external air is not sucked into the cooking chamber 110, that is, the cooking chamber 110 is not ventilated, Only the plasma discharged from the discharge unit 200 is supplied. Therefore, only the smell of food and the food waste generated in the course of cooking the food in the cooking chamber 110 are removed by the plasma.

보다 상세하게는, 댐퍼(160)에 의하여 에어덕트(140)의 내부, 즉 유로(150)가 차폐된다. 따라서 상기 유로(150)를 통하여 상기 조리실(110)의 내부로의 공기의 흡입이 방지된다. 이와 같은 상태에서 상기 플라즈마 방전부(200)가 동작되면, 상기 조리실(110)의 내부로 방전된 플라즈마가 공급된다. 따라서 상기 조리실(110)의 내부의 음식물 냄새 및 찌꺼기가 플라즈마에 의하여 제거된다. 이때에는, 상기 플라즈마 방전부(200)의 히터(250)(도 2 및 도 3참조)는 동작되지 않는다.More specifically, the inside of the air duct 140, that is, the flow path 150 is shielded by the damper 160. Therefore, the air is prevented from being sucked into the cooking chamber 110 through the channel 150. In this state, when the plasma discharge unit 200 is operated, the plasma discharged into the cooking chamber 110 is supplied. Therefore, the food odor and the debris in the inside of the cooking chamber 110 are removed by the plasma. At this time, the heater 250 (see FIGS. 2 and 3) of the plasma discharge unit 200 is not operated.

다음으로 도 5를 참조하면, 환기모드에서는, 상기 조리실(110)의 내부로 상기 플라즈마 방전부(200)에서 방전된 플라즈마는 공급되지 않고, 상기 조리실(110)의 내부로 외부의 공기가 흡입되는 환기만 이루어진다. 즉 상기 유로(150)를 통하여 전장부품을 냉각시킨 공기와 같은 외부의 공기가 상기 조리실(110)의 내부로 흡입되고, 상기 조리실(110)의 내부의 음식물 냄새를 포함한 상태로 상기 조리실(110)의 외부로 배출된다. Referring to FIG. 5, in the ventilation mode, plasma discharged from the plasma discharge unit 200 is not supplied to the inside of the cooking chamber 110, and external air is sucked into the inside of the cooking chamber 110 Only ventilation is done. That is, outside air such as air that has cooled the electric component through the passage 150 is sucked into the inside of the cooking chamber 110, and the inside of the cooking chamber 110 is filled with the odor of food inside the cooking chamber 110, As shown in FIG.

그리고 도 6을 참조하면, 플라즈마 방전/환기모드에서는, 상기 플라즈마 방전부(200)에 의하여 방전되는 플라즈마가 상기 조리실(110)의 내부로 공급되는 동시에 상기 조리실(110)의 내부로 외부의 공기가 흡입된다. 따라서 상기 조리실(110)의 내부에서의 플라즈마에 의한 음식물 냄새 및 찌꺼기의 제거 및 환기가 이루어지게 된다. 이때에는 상기 히터(250)가 동작되어 상기 플라즈마 방전부(200)에서 발생되는 오존의 양을 감소시킨다.6, in the plasma discharge / ventilation mode, a plasma discharged by the plasma discharge unit 200 is supplied to the inside of the cooking chamber 110, and at the same time, the outside air flows into the inside of the cooking chamber 110 Inhaled. Therefore, the odor and the residue of food and beverage are removed and ventilated by the plasma in the cooking chamber 110. At this time, the heater 250 operates to reduce the amount of ozone generated in the plasma discharge unit 200.

보다 상세하게는, 상기 댐퍼(160)가 상기 유로(150)를 개방시키고, 상기 플라즈마 방전부(200)가 플라즈마를 방전시킨다. 따라서 상기 조리실(110)의 내부로, 플라즈마가 공급되는 동시에 상기 유로(150)를 통하여 유동되는 외부의 공기가 흡입된다. 그리고 이와 같이 상기 조리실(110)의 내부로 공급되는 플라즈마에 의하여 음식물 냄새 및 찌꺼기의 제거가 이루어지고, 상기 조리실(110)의 내부로 흡입되는 공기에 의하여 환기가 이루어진다. 이때 상기 히터(250)의 동작에 의하여 조리기기의 양이 감소된다. 이는 상기 조리실(110)의 환기가 이루어지는 과정에서의 오존의 배출을 최소화하기 위함이다. 그리고 상기 조리실(110)의 내부로 흡입된 공기는 상기 조리실(110)의 내부의 음식물 냄새를 포함한 상태에서 상기 조리실(110)의 외부로 배출된다. More specifically, the damper 160 opens the flow path 150, and the plasma discharge unit 200 discharges the plasma. Therefore, plasma is supplied to the inside of the cooking chamber 110, and at the same time, external air flowing through the channel 150 is sucked. As described above, the odor and the deodorization of the food are removed by the plasma supplied to the inside of the cooking chamber 110, and the air is sucked into the cooking chamber 110 by the air sucked into the cooking chamber 110. At this time, the amount of the cooking appliance is reduced by the operation of the heater 250. This is to minimize the discharge of ozone during the ventilation of the cooking chamber 110. The air sucked into the inside of the cooking chamber 110 is discharged to the outside of the cooking chamber 110 in a state including a food odor inside the cooking chamber 110.

이하에서는 본 발명에 의한 조리기기의 제1실시예를 제어하는 방법을 첨부된 도면을 참조하여 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, a method of controlling the first embodiment of the cooking apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 7은 본 발명에 의한 조리기기의 제1실시예를 제어하는 방법을 보인 제어흐름도이다.7 is a control flowchart showing a method of controlling the first embodiment of the cooking apparatus according to the present invention.

도 7을 참조하면, 먼저 조리실(110)의 내부에서 음식물의 조리가 이루어진다.(S11) 이와 같은 상기 조리실(110)의 내부에서의 음식물의 조리는 사용자가 설정한 조리온도 및 조리시간, 또는 사용자가 선택한 요리의 종류 등에 따라서 설정된 조리온도 및 조리시간으로 히터나 마그네트론과 같은 가열원(미도시)이 구동함으로써, 이루어진다. 이때 상기 조리실(110)의 내부로 흡입되는 공기가 유동되는 유로(150)는 댐퍼(160)에 의하여 차폐된 상태를 유지하게 된다. 따라서 상기 조리실(110)의 내부에서 음식물을 조리하기 위한 열이 상기 유로(150)를 통하여 상기 조리실(110)의 외부로 누설되지 않게 된다.7, the food is first cooked inside the cooking chamber 110. (S11) The cooking of the food inside the cooking chamber 110 may be performed by the cooking temperature and the cooking time set by the user, (Not shown) such as a heater or a magnetron is driven by the cooking temperature and the cooking time set according to the type of cooking selected by the user. At this time, the channel 150 through which the air sucked into the cooking chamber 110 flows is maintained in a state of being shielded by the damper 160. Accordingly, the heat for cooking food in the cooking chamber 110 is not leaked to the outside of the cooking chamber 110 through the channel 150.

그리고 상기 조리실(110)의 내부에서의 음식물의 조리가 완료되었는지 여부를 판단한다.(S13) 예를 들면, 사용자가 설정한 조리시간이 경과되거나 사용자가 선택한 요리의 종류에 따른 설정된 조리시간이 경과되면, 상기 조리실(110)의 내부에서의 음식물의 조리의 완료된 것으로 판단한다. Then, it is determined whether or not the cooking of the food inside the cooking chamber 110 has been completed (S13). For example, if the cooking time set by the user has elapsed or the cooking time set according to the type of cooking selected by the user has elapsed It is determined that the cooking of the food inside the cooking chamber 110 is completed.

상기 S13단계에서, 음식물의 조리가 완료된 것으로 판단되면, 플라즈마 방전모드가 선택되었는지 여부를 판단한다.(S15) 이와 같은 플라즈마 방전모드는, 사용자가 플라즈마 방전모드를 선택하는 조작신호를 입력함으로써 선택되거나, 사용자가 플라즈마 방전모드를 수행하지 않고 종료하는 조작신호를 입력하지 않음으로써 선택될 수 있다. 또한 사용자는 상기 플라즈마 방전모드의 선택과 동시에 플라즈마 방전모드의 동작시간을 설정하거나, 플라즈마 방전모드가 사용자의 선택과 무관하게 소정의 시간동안 동작되도록 기설정될 수 있다.If it is determined in step S13 that the cooking of the food is completed, it is determined whether or not the plasma discharge mode is selected. (S15) Such a plasma discharge mode is selected by the user inputting an operation signal for selecting the plasma discharge mode , And can be selected by not inputting an operation signal that the user ends without performing the plasma discharge mode. In addition, the user may set the operation time of the plasma discharge mode simultaneously with the selection of the plasma discharge mode, or may be set such that the plasma discharge mode is operated for a predetermined time regardless of the user's selection.

상기 S15단계에서, 플라즈마 방전모드가 선택된 경우에는, 플라즈마 방전 부(200)가 동작되어 플라즈마가 방전된다.(S17) 그리고 이와 같이 방전된 플라즈마는 상기 조리실(110)의 내부로 공급된다. 따라서 상기 조리실(110)의 내부에서 음식물을 조리하는 과정에서 발생되는 음식물 냄새 및 찌꺼기가 플라즈마에 의하여 제거되는 플라즈마 방전모드가 수행된다. 이때에는 상기 플라즈마 방전부(200)의 히터(250)가 동작되지 않음으로써, 상기 플라즈마 방전부(200)에서의 플라즈마의 방전과정에서 발생되는 오존도 그 양이 감소되지 않고 상기 조리실(110)의 내부로 공급된다.In step S15, when the plasma discharge mode is selected, the plasma discharge unit 200 is operated to discharge the plasma (S17). The plasma thus discharged is supplied to the inside of the cooking chamber 110. FIG. Accordingly, a plasma discharge mode in which food odors and debris generated in the process of cooking food in the cooking chamber 110 are removed by plasma is performed. At this time, since the heater 250 of the plasma discharge unit 200 is not operated, the amount of ozone generated during the discharge process of the plasma in the plasma discharge unit 200 is not reduced, Respectively.

그리고 상기 S17단계에서 플라즈마 방전모드, 즉 플라즈마에 의한 상기 조리실(110)의 내부의 음식물 냄새 및 찌꺼기의 제거가 완료되었는지 여부를 판단한다.(S19) 예를 들면, 상기 S15단계에서의 사용자가 설정한 플라즈마 방전모드의 동작시간 또는 기설정된 플라즈마 방전모드의 동작시간이 완료되면, 플라즈마 방전모드가 완료된 것으로 판단할 수 있다.In step S17, it is determined whether or not the removal of the food odor and debris from the inside of the cooking chamber 110 by the plasma discharge mode, that is, plasma, is completed. (S19) For example, When the operation time of one plasma discharge mode or the operation time of the predetermined plasma discharge mode is completed, it can be determined that the plasma discharge mode is completed.

다음으로 상기 S19단계에서 플라즈마 방전모드가 완료된 것으로 판단되면, 상기 플라즈마 방전부(200)가 정지된다.(S21) 따라서 상기 조리실(110)의 내부로의 플라즈마의 공급이 중지되어 플라즈마 방전모드가 종료된다.Next, when it is determined that the plasma discharge mode is completed in step S19, the plasma discharge unit 200 is stopped (S21). Accordingly, the supply of the plasma into the cooking chamber 110 is stopped and the plasma discharge mode is terminated do.

한편 상기 S15단계에서, 플라즈마 방전모드가 선택되지 않은 경우에는, 환기모드가 선택되었는지 여부를 판단한다.(S23) 이와 같은 환기모드의 선택은, 상술한 플라즈마 방전모드의 선택과 동일하게 이루어질 수 있다.On the other hand, if the plasma discharge mode is not selected in step S15, it is determined whether or not the ventilation mode is selected (S23). Such selection of the ventilation mode may be the same as selection of the plasma discharge mode .

그리고 상기 S23단계에서 환기모드가 선택된 것으로 판단된 경우에는, 상기 댐퍼(160)가 상기 유로(150)를 개방시킨다.(S25) 따라서 상기 유로(150)를 통하여 상기 조리실(110)의 내부로 외부의 공기, 예를 들면, 전장부품을 냉각시킨 공기가 상기 조리실(110)의 내부로 흡입될 수 있게 된다. 이와 같이 상기 조리실(110)의 내부로 흡입되는 공기가 배기부(130)를 통하여 상기 조리실(110)의 외부로 배출됨으로써 환기모드가 수행된다.If it is determined in step S23 that the ventilation mode is selected, the damper 160 opens the flow path 150 (S25). Accordingly, the flow path 150 is opened to the inside of the cooking chamber 110 For example, the air cooled by the electric component can be sucked into the inside of the cooking chamber 110. In this way, the air sucked into the cooking chamber 110 is discharged to the outside of the cooking chamber 110 through the exhaust unit 130, thereby performing the ventilation mode.

다음으로 상기 S25단계에서 환기모드, 즉 상기 조리실(110)의 환기가 완료되었는지 여부를 판단한다.(S27) 그리고 상기 S27단계에서 상기 조리실(110)의 환기가 완료된 것으로 판단된 경우에는, 상기 댐퍼(160)가 상기 유로(150)를 차폐함으로써, 환기모드가 종료된다.(S29)Next, in step S25, it is determined whether the ventilation mode, that is, whether the ventilation of the cooking chamber 110 has been completed (S27). If it is determined in step S27 that the ventilation of the cooking chamber 110 is completed, The ventilation mode is ended by shielding the flow passage 150 by the ventilation duct 160 (S29)

상기 S23단계에서, 환기모드가 선택되지 않은 경우에는, 플라즈마 방전/환기모드가 선택되었는지 여부를 판단한다.(S31) 이와 같은 플라즈마 방전/환기모드의 선택은, 상술한 플라즈마 방전모드 및 환기모드의 선택과 동일하게 이루어질 수 있다.In step S23, if the ventilation mode is not selected, it is determined whether or not the plasma discharge / ventilation mode is selected. (S31) The plasma discharge / ventilation mode is selected by the plasma discharge mode and the ventilation mode The same as selection.

그리고 상기 S31단계에서 플라즈마 방전/환기모드가 선택된 것으로 판단되면, 상기 플라즈마 방전부(200)의 동작 및 상기 댐퍼(160)에 의한 상기 유로(150)의 개방이 이루어진다.(S33) 상기 S33단계에서의 상기 플라즈마 방전부(200)의 동작 및 상기 댐퍼(160)에 의한 상기 유로(150)의 개방은 동시 또는 소정의 시간적 간격으로 이루어질 수 있다. 예를 들면, 상기 플라즈마 방전부(200)가 동작되어 상기 조리실(110)의 내부로 방전된 플라즈마의 공급이 소정의 시간동안 이루어진 다음에 상기 댐퍼(160)에 의한 상기 유로(150)의 개방이 이루어질 수 있다. 또한 이와 반대로 상기 댐퍼(160)에 의한 상기 유로(150)의 개방이 이루어지고 소정의 시간이 경과한 후에 상기 플라즈마 방전부(200)의 동작이 개시될 수도 있다. 그리고 상기 플라즈마 방전/환기모드의 경우에는, 상기 히터(250)가 동작된다. 따라서 상기 플라즈마 방전부(200)에서 플라즈마가 방전되는 과정에서 발생되는 오존의 발생량을 감소됨으로써, 상기 조리실(110)을 환기시키는 과정에서 상기 조리실(110)의 외부로의 오존의 배출이 감소된다. If it is determined in step S31 that the plasma discharge / ventilation mode has been selected, the operation of the plasma discharge unit 200 and the opening of the flow path 150 by the damper 160 are performed. (S33) In step S33 The operation of the plasma discharge unit 200 and the opening of the flow path 150 by the damper 160 can be performed simultaneously or at predetermined time intervals. For example, when the plasma discharge unit 200 is operated to supply plasma discharged to the inside of the cooking chamber 110 for a predetermined time, the opening of the flow channel 150 by the damper 160 Lt; / RTI > On the contrary, the operation of the plasma discharge unit 200 may be started after the passage 150 is opened by the damper 160 and a predetermined time has elapsed. In the plasma discharge / ventilation mode, the heater 250 is operated. Accordingly, the amount of ozone generated during the discharge of the plasma in the plasma discharge unit 200 is reduced, so that the discharge of ozone to the outside of the cooking chamber 110 is reduced in the process of ventilating the cooking chamber 110.

상기 S33단계에서 상기 플라즈마 방전부(200)의 동작 및 상기 댐퍼(160)에 의한 상기 유로(150)의 개방이 이루어지면, 플라즈마 방전/환기모드, 즉 플라즈마에 의한 상기 조리실(110)의 내부의 냄새 및 찌꺼기의 제거 및 환기가 완료되었는지 여부를 판단한다.(S35) 그리고 상기 S35단계에서 플라즈마에 의한 상기 조리실(110)의 내부의 냄새 및 찌꺼기의 제거 및 환기가 완료된 것으로 판단되면, 상기 플라즈마 방전부(200)의 정지 및 상기 댐퍼(160)에 의한 상기 유로(150)의 차폐가 이루어진다.(S37)If the operation of the plasma discharge unit 200 and the opening of the flow path 150 by the damper 160 are performed in step S33, the plasma discharge / ventilation mode, i.e., (S35). If it is determined in step S35 that the removal and ventilation of odors and debris from the inside of the cooking chamber 110 by plasma is completed, the plasma room The stopping of the front part 200 and the blocking of the flow path 150 by the damper 160 are performed. (S37)

한편 상기 S15단계, S23단계 및 S31단계에서, 플라즈마 방전모드, 환기모드 또는 플라즈마 방전/환기모드가 선택되지 않은 경우에는, 상기 S11 및 S13단계에서 음식물의 조리가 수행되고, 음식물의 조리가 완료된 것으로 판단되면, 상기 조리실(110)의 내부로의 플라즈마의 공급 및 상기 조리실(110)의 내부의 환기가 수행되지 않고, 조리기기의 동작이 종료된다.On the other hand, if the plasma discharge mode, the ventilation mode, or the plasma discharge / ventilation mode is not selected in steps S15, S23, and S31, the food is cooked in steps S11 and S13, If it is determined that the supply of plasma to the inside of the cooking chamber 110 and the ventilation of the inside of the cooking chamber 110 are not performed, the operation of the cooking apparatus is terminated.

이하에서는 본 발명에 의한 조리기기의 제2실시예를 첨부된 도면을 참조하여 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, a second embodiment of a cooking apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 8은 본 발명에 의한 조리기기의 제2실시예를 보인 사시도이다.8 is a perspective view showing a second embodiment of the cooking apparatus according to the present invention.

도 8을 참조하면, 캐비티(300)의 내부에 구비되는 조리실(310)의 일측면에는 흡기부(320)가 구비된다. 그리고 상기 흡기부(320)를 통하여 상기 조리실(310)의 내부로 흡입되는 공기의 안내를 위한 유로(350)를 형성하기 위하여 상기 캐비티(300)의 외측에 에어덕트(340)가 설치된다. 상기 에어덕트(340)에는 공기가 흡입되는 입구부(341)가 구비된다. 그리고 상기 유로(350) 상에는, 상기 유로(350)를 선택적으로 개폐하기 위한 댐퍼(360) 및 플라즈마의 방전을 위한 플라즈마 방전부(400)가 설치된다. 이와 같은 본 실시예의 구성요소는, 상술한 본 발명의 제1실시예와 동일하므로, 이에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.Referring to FIG. 8, a suction portion 320 is provided on one side of a cooking chamber 310 provided in the cavity 300. An air duct 340 is installed on the outer side of the cavity 300 to form a channel 350 for guiding air sucked into the cooking chamber 310 through the intake unit 320. The air duct 340 is provided with an inlet 341 through which air is sucked. A damper 360 for selectively opening and closing the flow path 350 and a plasma discharge unit 400 for discharging plasma are provided on the flow path 350. The constituent elements of this embodiment are the same as those of the first embodiment of the present invention described above, so a detailed description thereof will be omitted.

한편 상기 조리실(310)의 일측에는 스팀 발생부(500)가 설치된다. 상기 스팀 발생부(500)는 상기 조리실(310)의 내부의 음식물의 냄새 및 찌꺼기의 제거를 위한 스팀을 발생시킨다. 본 실시예에서는, 상기 스팀 발생부(500)가 상기 플라즈마 방전부(400)가 설치되는 상기 흡기부(320)의 반대편에 해당하는 상기 조리실(310)의 일측에 설치된다. 그러나 상기 스팀 발생부(500)의 위치가 이에 한정되는 것은 아니다.On the other hand, a steam generating part 500 is installed on one side of the cooking chamber 310. The steam generating unit 500 generates steam for removing odors and debris from food inside the cooking chamber 310. The steam generating unit 500 is installed on one side of the cooking chamber 310 corresponding to the opposite side of the intake unit 320 on which the plasma discharge unit 400 is installed. However, the position of the steam generating part 500 is not limited thereto.

또한 상기 스팀 발생부(500)는, 적어도 스팀용수가 저장되는 물탱크(미도시), 상기 물탱크에 저장된 물을 가열하여 스팀을 발생시키는 스팀히터(미도시) 및 상기 스팀히터에 의하여 가열되어 발생되는 스팀을 상기 조리실(310)의 내부로 분사하기 위한 노즐(미도시)을 포함한다. 이와 같은 상기 스팀 발생부(500)의 구성은 이미 널리 공지된 기술이므로, 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.The steam generator 500 includes a water tank (not shown) in which steam is stored, a steam heater (not shown) for heating the water stored in the water tank to generate steam, and a steam heater And a nozzle (not shown) for spraying the generated steam into the inside of the cooking chamber 310. Since the structure of the steam generator 500 is well known in the art, a detailed description thereof will be omitted.

이하에서는 본 발명에 의한 조리기기의 제2실시예를 제어하는 방법을 첨부된 도면을 참조하여 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, a method of controlling a cooking apparatus according to a second embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 9 및 도 10은 본 발명의 제2실시예를 제어하는 방법을 보인 제어흐름도이다.Figures 9 and 10 are control flow diagrams illustrating a method for controlling a second embodiment of the present invention.

도 9 및 도 10을 참조하면, 먼저 조리실(310)의 내부에서 가열원에 의하여 음식물이 조리되고, 상기 조리실(310)에서의 음식물의 조리가 완료되었는지 여부를 판단한다.(S41)(S43) 그리고 상기 S43단계에서 음식물의 조리가 완료된 것으로 판단되면, 사용자는 상기 조리실(310)의 내부의 음식물 냄새 및 찌꺼기의 제거를 위한 모드를 선택한다. 9 and 10, the food is cooked by the heating source in the cooking chamber 310 and it is determined whether or not the cooking of the food in the cooking chamber 310 is completed (S41) (S43) If it is determined in step S43 that the cooking of the food has been completed, the user selects a mode for removing odors and food odors from the inside of the cooking chamber 310. [

이하에서는 설명의 편의상 상기 조리실(310)의 내부로의 플라즈마의 공급이 이루어지는 경우를 제1모드, 상기 조리실(310)의 환기가 이루어지는 경우를 제2모드, 상기 조리실(310)의 내부로의 스팀이 공급이 이루어지는 경우를 제3모드, 상기 조리실(310)의 내부로의 플라즈마의 공급 및 환기가 이루어지는 경우를 제4모드, 상기 조리실(310)의 환기 및 상기 조리실(310)의 내부로의 스팀의 공급이 이루어지는 경우를 제5모드, 상기 조리실(310)의 내부로의 스팀 및 플라즈마의 공급이 이루어지는 경우를 제6모드 및 상기 조리실(310)의 내부로의 플라즈마의 공급, 환기 및 스팀의 공급이 이루어지는 경우를 제7모드라 칭한다.Hereinafter, for the sake of convenience, the first mode is a mode in which the plasma is supplied to the inside of the cooking chamber 310, the second mode in which the cooking chamber 310 is ventilated, the second mode in which steam is supplied to the inside of the cooking chamber 310 A fourth mode in which the supply of the plasma to the inside of the cooking chamber 310 is performed and a fourth mode in which the plasma is supplied to the inside of the cooking chamber 310; A mode in which steam and plasma are supplied to the inside of the cooking chamber 310 is referred to as a sixth mode and a case where supply of plasma to the inside of the cooking chamber 310, Is referred to as a seventh mode.

다시 도 9 및 도 10을 참조하면, 상기 S43단계에서 음식물의 조리가 완료된 것으로 판단되면, 제1모드가 선택되었는지 여부를 판단한다.(S45) 상기 S45단계에서 제1모드가 선택된 것으로 판단되면, 플라즈마 방전부(400)의 동작, 제1모드의 완료여부의 판단 및 플라즈마 방전부(400)의 정지가 수행된다.(S47)(S49)(S51) 상 기 S41단계 내지 S45단계는, 상술한 제1실시예의 제어방법의 S17단계 내지 S21단계와 동일하므로, 상세한 설명은 생략한다.9 and 10, if it is determined in step S43 that the cooking of the food is completed, it is determined whether the first mode is selected (S45). If it is determined in step S45 that the first mode is selected, The operation of the plasma discharge unit 400 and the determination of whether the first mode has been completed and the stop of the plasma discharge unit 400 are performed. (S47) (S49) (S51) In steps S41 to S45, Are the same as the steps S17 to S21 of the control method of the first embodiment, and thus detailed description thereof will be omitted.

그리고 상기 S43단계에서 제1모드가 선택되지 않은 것으로 판단되면, 제2모드가 선택되었는지 여부를 판단한다.(S53) 상기 S53단계에서 제2모드가 선택된 것으로 판단되면, 상술한 제1실시예의 S25단계 내지 S29단계와 동일한, S55 내지 S59단계가 수행된다.If it is determined in step S43 that the first mode is not selected, it is determined whether the second mode is selected (S53). If it is determined in step S53 that the second mode is selected, Steps S55 to S59 are performed in the same manner as in steps S29 to S29.

또한 상기 S43단계에서 제2모드가 선택되지 않은 것으로 판단되면, 제3모드가 선택되었는지 여부를 판단한다.(S61) 상기 S61단계에서 제3모드가 선택된 것으로 판단되면, 스팀 발생부(500)가 동작하여 스팀이 발생된다.(S63) 그리고 상기 스팀 발생부(500)에서 발생되는 스팀은 상기 조리실(310)의 내부로 공급되어 상기 조리실(310)의 내부의 음식물 냄새 및 찌꺼기를 제거한다. 상기 S63단계에서 상기 조리실(310)의 내부로의 공급되는 스팀에 의한 상기 조리실(310)의 내부의 음식물 냄새 및 찌꺼기의 제거가 완료, 즉 제3모드가 완료되었는지 여부를 판단하고, 제3모드가 종료된 것으로 판단되면, 상기 스팀 발생부(500)가 정지된다.(S65)(S67)If it is determined in step S43 that the second mode is not selected, it is determined whether the third mode is selected (S61). If it is determined in step S61 that the third mode is selected, the steam generator 500 The steam generated in the steam generating unit 500 is supplied to the inside of the cooking chamber 310 to remove the food odor and debris from the inside of the cooking chamber 310. [ In step S63, it is determined whether or not the removal of the food odor and the debris from the inside of the cooking chamber 310 by the steam supplied into the cooking chamber 310, that is, the third mode is completed, The steam generator 500 is stopped (S65) (S67)

한편 상기 S61단계에서 제3모드가 선택되지 않은 것으로 판단되면, 제4모드가 선택되었는지 여부를 판단한다.(S69) 상기 S69단계에서 제4모드가 선택된 것으로 판단되면, 상기 플라즈마 방전부(400)의 동작 및 상기 댐퍼(360)에 의하여 상기 유로(350)의 개방이 이루어진다.(S71) 따라서 상기 플라즈마 방전부(400)에서 방전된 플라즈마가 상기 조리실(310)의 내부로 공급되어 상기 조리실(310)의 내부의 음식물 냄새 및 찌꺼기를 제거하고, 상기 조리실(310)의 환기가 이루어진다. 이때 상기 플라즈마 방전부(400)의 히터(250)(도 2 및 도 3참조)가 동작되어 상기 플라즈마 방전부(400)에서 발생되는 오존의 양이 감소된다. 그리고 제4모드의 완료여부를 판단하고, 제4모드가 완료된 것으로 판단되면, 상기 플라즈마 방전부(400)의 정지 및 상기 댐퍼(360)에 의한 상기 유로(350)의 차폐가 이루어진다.(S73)(S75)If it is determined in step S61 that the third mode is not selected, it is determined whether the fourth mode is selected (S69). If it is determined in step S69 that the fourth mode is selected, The plasma 350 discharged from the plasma discharge unit 400 is supplied to the inside of the cooking chamber 310 so that the cooking chamber 310 And the ventilation of the cooking chamber 310 is performed. At this time, the heater 250 (see FIGS. 2 and 3) of the plasma discharge unit 400 is operated to reduce the amount of ozone generated in the plasma discharge unit 400. If it is determined that the fourth mode is completed, the plasma discharge unit 400 is stopped and the flow path 350 is blocked by the damper 360. (S73) (S75)

다음으로 상기 S69단계에서 제4모드가 선택되지 않은 것으로 판단되면, 제5모드가 선택되었는지 여부를 판단한다.(S77) 상기 S77단계에서 제5모드가 선택된 것으로 판단되면, 상기 댐퍼(360)에 의한 상기 유로(350)의 개방 및 상기 스팀 발생부(500)의 동작에 의한 스팀의 발생이 이루어진다.(S79) 따라서 상기 조리실(310)의 환기 및 상기 스팀 발생부(500)에서 발생되어 상기 조리실(310)의 내부로 공급된 스팀에 의한 음식물 냄새 및 찌꺼기의 제거가 이루어진다. 그리고 제5모드의 완료여부를 판단하고, 제5모드가 완료된 것으로 판단되면, 상기 댐퍼(360)에 의한 상기 유로(350)의 차폐 및 상기 스팀 발생부(500)의 정지가 이루어진다.(S81)(S83)If it is determined in step S69 that the fourth mode is not selected, it is determined whether the fifth mode is selected (S77). If it is determined in step S77 that the fifth mode is selected, the damper 360 The opening of the channel 350 and the steam generated by the operation of the steam generating unit 500 are generated by the steam generating unit 500 and the steam generating unit 500. [ The odor and the debris of the food is removed by the steam supplied to the inside of the cooking chamber 310. If it is determined that the fifth mode is completed, the flow path 350 is blocked by the damper 360 and the steam generating unit 500 is stopped (S81) (S83)

또한 상기 S77단계에서 제5모드가 선택되지 않은 것으로 판단되면, 제6모드가 선택되었는지 여부를 판단한다.(S85) 상기 S85단계에서 제6모드가 선택된 것으로 판단되면, 상기 스팀 발생부(500) 및 플라즈마 방전부(400)가 동작된다.(S87) 따라서 상기 스팀 발생부(500)에서 발생되는 스팀 및 상기 플라즈마 방전부(400)에서 방전되는 플라즈마에 의한 상기 조리실(310)의 내부의 음식물 냄새 및 찌꺼기의 제거가 이루어진다. 그리고 제6모드의 완료여부를 판단하고, 제6모드가 완료된 것으로 판단되면, 상기 스팀 발생부(500) 및 플라즈마 방전부(400)가 정지된다 .(S89)(S91)If it is determined in step S77 that the fifth mode is not selected, it is determined whether the sixth mode is selected (S85). If it is determined in step S85 that the sixth mode is selected, And the plasma discharge unit 400 are operated in step S87. Accordingly, the steam generated in the steam generating unit 500 and the plasma discharged in the plasma discharge unit 400 cause the food odor inside the cooking chamber 310 And debris is removed. If it is determined that the sixth mode is completed, the steam generator 500 and the plasma discharge unit 400 are stopped (S89) (S91)

다음으로 상기 S85단계에서 제6모드가 선택되지 않은 것으로 판단된 경우에는, 제7모드가 선택되었는지 여부를 판단한다.(S93) 그리고 상기 S93단계에서 제7모드가 선택된 것으로 판단된 경우에는, 상기 플라즈마 방전부(400) 및 스팀 발생부(500)가 동작되고, 상기 댐퍼(360)가 상기 유로(350)를 개방시킨다.(S95) 이때 상기 히터(250)가 동작되어 오존의 양을 감소시킨다. 따라서 상기 조리실(310)의 내부로 플라즈마 및 스팀이 공급되어 음식물 냄새 및 찌꺼기가 제거되고, 상기 조리실(310)의 환기가 이루어진다. 그리고 제7모드가 완료되었는지 여부를 판단하여, 제7모드가 완료된 것으로 판단되면, 상기 플라즈마 방전부(400) 및 스팀 발생부(500)의 동작을 정지시키고, 상기 댐퍼(360)가 상기 유로(350)를 차폐시킨다.(S97)(S99)Next, if it is determined in step S85 that the sixth mode is not selected, it is determined whether the seventh mode is selected (S93). If it is determined in step S93 that the seventh mode is selected, The plasma discharge unit 400 and the steam generating unit 500 are operated and the damper 360 opens the flow channel 350. At this time, the heater 250 is operated to reduce the amount of ozone . Accordingly, plasma and steam are supplied to the inside of the cooking chamber 310 to remove food odors and debris, thereby ventilating the cooking chamber 310. If it is determined that the seventh mode has been completed, the operation of the plasma discharge unit 400 and the steam generator 500 is stopped, 350). (S97) (S99)

한편 상기 S93단계에서 제7모드가 선택되지 않은 것으로 판단된 경우에는, 상기 플라즈마 방전부(400)에서 방전되는 플라즈마에 의한 음식물 냄새 및 찌꺼기의 제거, 상기 조리실(310)의 환기 및 상기 스팀 발생부(500)에서 발생되는 스팀에 의한 음식물 냄새 및 찌꺼기의 제거가 이루어지지 않는다. 다시 말하면, 상기 S41단계에서의 음식물의 조리가 이루어지고, 상기 S43단계에서 음식물의 조리완료여부를 판단하여 음식물의 조리가 완료된 것으로 판단되면, 조리기기의 동작이 종료된다. On the other hand, if it is determined in the step S93 that the seventh mode is not selected, it is possible to remove odors and food odors from the plasma by the plasma discharged from the plasma discharge unit 400, to ventilate the cooking chamber 310, The odor and the debris of the food by the steam generated in the steam generator 500 is not removed. In other words, the food is cooked in step S41, and if it is determined that the cooking of the food is completed in step S43, the operation of the cooking appliance is terminated.

이와 같은 본 발명의 기본적인 기술적 사상의 범주 내에서, 당업계의 통상의 지식을 가진 자에게 있어서는 다른 많은 변형이 가능함은 물론이고, 본 발명의 권 리범위는 첨부한 특허청구범위에 기초하여 해석되어야 할 것이다. It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims. something to do.

이상에서 설명한 바와 같이 구성되는 본 발명에 의한 조리기기 및 그 제어방법에 의하면 다음과 같은 효과를 기대할 수 있게 된다.According to the cooking apparatus and the control method of the present invention configured as described above, the following effects can be expected.

본 발명에서는, 조리실의 내부에서 음식물을 조리하는 과정에서 발생되는 음식물 냄새 및 찌꺼기가 플라즈마 또는/및 스팀에 의하여 제거되거나 상기 조리실이 환기된다. 따라서 사용자가 조리기기을 보다 쾌적하게 사용할 수 있게 된다.In the present invention, the food odor and debris generated in the course of cooking food inside the cooking chamber are removed by plasma and / or steam, or the cooking chamber is ventilated. Therefore, the user can use the cooking device more comfortably.

또한 본 발명에서는, 상기 조리실의 내부에서 음식물을 조리하는 과정에서 발생되는 음식물 냄새 및 찌꺼기의 제거를 위하여 상기 조리실의 내부로의 플라즈마의 방전, 상기 조리실의 환기 및 상기 조리실의 내부로의 스팀의 분사 중 어느 하나 이상이 선택될 수 있다. 따라서 상기 조리실의 내부에서 조리되는 음식물의 종류 등에 따른 냄새의 제거 또는 이물질의 청소가 보다 효율적으로 이루어질 수 있다.In the present invention, in order to remove odors and food odors generated during the cooking process of the food in the cooking chamber, discharge of plasma into the cooking chamber, ventilation of the cooking chamber, and injection of steam into the cooking chamber May be selected. Therefore, the odor can be removed or the foreign substance can be cleaned more efficiently according to the type of food to be cooked in the cooking chamber.

도 1은 본 발명에 의한 조리기기의 제1실시예를 보인 사시도.1 is a perspective view showing a first embodiment of a cooking apparatus according to the present invention;

도 2는 본 발명의 제1실시예를 구성하는 플라즈마 방전부를 보인 분해사시도. 2 is an exploded perspective view showing a plasma discharge unit constituting the first embodiment of the present invention;

도 3은 본 발명의 제1실시예를 구성하는 제1전극을 보인 단면도.3 is a cross-sectional view showing a first electrode constituting a first embodiment of the present invention.

도 4 내지 도 6은 본 발명의 제1실시예에 의한 플라즈마 방전모드, 환기모드 또는 플라즈마 방전/환기모드를 보인 횡단면도.4 to 6 are cross-sectional views illustrating a plasma discharge mode, a ventilation mode, or a plasma discharge / ventilation mode according to the first embodiment of the present invention.

도 7은 본 발명에 의한 조리기기의 제1실시예를 제어하는 방법을 보인 제어흐름도.7 is a control flowchart showing a method of controlling a first embodiment of a cooking apparatus according to the present invention.

도 8은 본 발명에 의한 조리기기의 제2실시예를 보인 사시도.8 is a perspective view showing a second embodiment of the cooking apparatus according to the present invention.

도 9 및 도 10은 본 발명의 제2실시예를 제어하는 방법을 보인 제어흐름도. Figures 9 and 10 are control flow diagrams illustrating a method of controlling a second embodiment of the present invention.

Claims (21)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 음식물이 조리되는 조리실이 내부에 형성된 캐비티; A cavity in which a cooking chamber in which food is cooked is formed; 상기 조리실의 내부로 흡입되는 공기를 안내하는 에어덕트; An air duct for guiding air sucked into the cooking cavity; 상기 에어덕트의 내부 또는 상기 조리실에 설치되고, 플라즈마를 발생시켜 상기 조리실의 내부의 냄새를 제거하는 플라즈마 발생부; 및A plasma generator installed in the air duct or in the cooking chamber to generate a plasma to remove the odor of the inside of the cooking chamber; And 상기 에어덕트에서 유동하는 공기의 유동을 선택적으로 차단하는 댐퍼를 포함하고,And a damper for selectively blocking the flow of air flowing in the air duct, 상기 플라즈마 발생부는,The plasma generator may include: 케이싱과,A casing, 상기 케이싱의 내부에 설치되고, 외부의 전원과 통전되는 제1전극부와 ,A first electrode unit provided inside the casing and electrically connected to an external power source, 상기 제1전극부와 이격되며, 상기 제1전극부의 사영에 해당하는 영역에 위치한 복수의 전극핀을 구비한 제2전극부와,A second electrode part spaced apart from the first electrode part and having a plurality of electrode fins located in a region corresponding to the projection of the first electrode part; 상기 제1전극부와 상기 제2전극부 사이에 배치된 유전체를 포함하는 조리기기.And a dielectric disposed between the first electrode portion and the second electrode portion. 제 6 항에 있어서, The method according to claim 6, 상기 조리실의 일측에는 상기 에어덕트에 의하여 안내되는 공기가 흡입되는 흡기부가 형성되고,An air intake part for sucking air guided by the air duct is formed at one side of the cooking chamber, 상기 플라즈마 발생부는, 상기 흡기부와 인접하여 상기 조리실 내부에 설치되는 조리기기.Wherein the plasma generating unit is installed inside the cooking chamber adjacent to the intake unit. 제 6 항에 있어서, The method according to claim 6, 상기 에어덕트를 통해 상기 조리실의 내부로 흡입되는 공기는 상기 댐퍼를 지나 상기 플라즈마 발생부로 유동하는 조리기기.Wherein the air sucked into the cooking chamber through the air duct flows to the plasma generating portion through the damper. 제 6 항에 있어서, The method according to claim 6, 상기 에어덕트의 일단에는 공기가 유입되는 입구부가 형성되고,An inlet portion into which air flows is formed at one end of the air duct, 상기 입구부는 상기 캐비티 외면에 설치되는 전장부품을 냉각시키기 위한 공기가 유동하는 공간과 연통되는 조리기기.Wherein the inlet portion is in communication with a space through which air for cooling an electric component installed on an outer surface of the cavity flows. 삭제delete 삭제delete 제 6 항에 있어서, The method according to claim 6, 상기 유전체에 구비되어, 상기 제1전극부에 고전압이 인가되어 발생하는 오존의 양을 감소시키는 히터를 더 포함하는 조리기기.And a heater provided in the dielectric to reduce an amount of ozone generated when a high voltage is applied to the first electrode unit. 제 12 항에 있어서, 13. The method of claim 12, 상기 유전체는 상기 제1전극부의 사영에 해당하는 영역에 보다 넓게 형성되고,The dielectric is formed to be wider in a region corresponding to the projection of the first electrode portion, 상기 히터는 상기 제1전극부의 사영의 외측에서 상기 유전체의 외각을 따라 배치되는 조리기기.Wherein the heater is arranged along the outer periphery of the dielectric at the outside of the projection of the first electrode portion. 삭제delete 제 6 항에 있어서, The method according to claim 6, 상기 조리실의 내부로 공급되는 스팀을 발생시키는 스팀 발생부를 더 포함하는 조리기기.Further comprising a steam generating unit generating steam supplied to the inside of the cooking chamber. 조리실의 내부에서 음식물을 조리하는 단계;Cooking food inside the cooking chamber; 플라즈마 발생부에서 발생하는 플라즈마를 상기 조리실로 안내하여 상기 조리실 내부를 탈취하는 단계;Guiding the plasma generated in the plasma generating portion to the cooking chamber and deodorizing the inside of the cooking chamber; 상기 조리실의 내부를 환기하는 단계; 및Ventilating the inside of the cooking chamber; And 스팀 발생부에서 발생한 스팀을 상기 조리실 내부로 공급하는 단계를 포함하는 조리기기의 제어방법.And supplying steam generated in the steam generating unit to the inside of the cooking chamber. 삭제delete 제 16 항에 있어서,17. The method of claim 16, 상기 스팀발생부는, 음식물의 조리가 완료되거나, 음식물의 조리가 완료된 후 상기 조리실이 1회 개폐되거나, 음식물의 조리가 완료된 후 별도의 개시신호가 입력되면, 스팀을 발생시키는 조리기기의 제어방법.Wherein the steam generating unit generates steam when a separate start signal is input after the cooking chamber is once opened or closed after the cooking of the food is completed or the cooking of the food is completed. 제제 18 항에 있어서, The method according to claim 18, 상기 탈취 단계에서 발생되는 오존의 양을 감소시키는 히터가 동작하는 단계를 더 포함하는 조리기기의 제어방법.Further comprising the step of operating the heater to reduce the amount of ozone generated in the deodorization step. 제 16 항에 있어서, 17. The method of claim 16, 상기 탈취 단계 및 상기 스팀 공급단계가 기설정된 시간동안 이루어진 다음에 상기 환기 단계가 이루어지는 조리기기의 제어방법.Wherein the deodorization step and the steam supply step are performed for a preset time, and then the ventilation step is performed. 제 16 항에 있어서, 17. The method of claim 16, 상기 환기 단계는, 상기 조리실의 내부로 흡입되는 공기를 안내하는 에어덕트가 그 내부에 설치되는 댐퍼에 의하여 선택적으로 개폐되어 이루어지는 조리기기의 제어방법.Wherein the ventilation step is performed by selectively opening and closing an air duct for guiding air sucked into the cooking chamber by a damper installed therein.
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