KR101479939B1 - Imprinter - Google Patents

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Abstract

인쇄장치가 개시된다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 인쇄장치는, 웹에 임프린트 패턴을 형성하기 위한 임프린트 패턴 원형이 형성된 마스터 또는 임프린트 패턴이 형성된 웹에 접촉되어 표면에 패턴이 형성되는 기판이 안착되되, 웹 방향으로 이동가능하게 마련되는 스테이지 유닛; 및 웹에 인접하게 마련되되, 스테이지 유닛이 웹 방향으로 이동됨에 따라, 마스터에 웹을 가압 접촉시켜 웹에 임프린트 패턴을 형성하거나, 기판에 임프린트 패턴이 형성된 웹을 가압 접촉시켜 기판에 패턴을 형성하는 웹 가압유닛을 포함한다.A printing apparatus is disclosed. A printing apparatus according to an embodiment of the present invention includes a substrate on which a pattern is formed by contacting a web on which an imprint pattern circle for forming an imprint pattern is formed on a web or a web on which an imprint pattern is formed, A stage unit arranged as far as possible; And an imprinting pattern is formed on the web by pressing the web against the master as the stage unit is moved in the web direction or a pattern is formed on the substrate by pressing the web on which the imprint pattern is formed And a web pressurizing unit.

Description

인쇄장치{IMPRINTER}Printing device {IMPRINTER}

본 발명은, 인쇄장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 기판에 패턴을 형성할 수 있는 인쇄장치에 관한 것이다.The present invention relates to a printing apparatus, and more particularly, to a printing apparatus capable of forming a pattern on a substrate.

최근에는, 디스플레이, 반도체 산업을 중심으로 저가의 제품을 구현하기 위해 기존 리소그래피(lithography) 공정을 기반으로 하는 기술을 대체할 수 있는 인쇄(imprinting) 기술이 이슈가 되고 있다.In recent years, imprinting technology that can replace technologies based on existing lithography processes has become an issue in order to realize low cost products mainly in the display and semiconductor industries.

인쇄(imprinting) 기술은, LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel) 및 OLED(Organic Light Emitting Diodes) 등과 같은 디스플레이나 반도체 등의 제품 제조에 사용되는 가압 성형에 의한 패턴 형성기법이다.The imprinting technique is a pattern forming technique by press molding used for manufacturing displays such as liquid crystal display (LCD), plasma display panel (PDP), organic light emitting diode (OLED)

이러한, 인쇄 기술을 이용하여 전자 회로, 센서, 태양 전지(solar cell), 플렉서블 디스플레이(flexible display), RFID 등의 다양한 전자 소자들을 쉽게 제작할 수 있다.Various electronic devices such as an electronic circuit, a sensor, a solar cell, a flexible display, and an RFID can be easily manufactured using such a printing technique.

또한, 인쇄 기술은 기존의 리소그래피 공정과 비교하여 공정을 간소화시킬 수 있으며, 제품 제조 시간 및 생산 원가를 획기적으로 감소시킬 수 있다. 또한, 인쇄 기술은 낮은 제조 비용으로도 제품을 대량 생산할 수 있다.Further, the printing technique can simplify the process as compared with the existing lithography process, and can significantly reduce the production time and the production cost of the product. In addition, printing technology can mass produce a product with low manufacturing cost.

그리고, 인쇄 기술을 이용 시, 기존 유리 기판과는 달리 플라스틱, 섬유, 종이 등 다양한 소재들을 기판으로 사용할 수 있어 그 활용 범위가 매우 넓다.Unlike the conventional glass substrate, when printing technology is used, various materials such as plastic, fiber, and paper can be used as a substrate.

종래 기술에 따른 인쇄(imprinting) 기술은, 구현하고자 하는 패턴이 역상으로 형성된 평면형상의 몰드를 임프린트용 레진이 도포된 기판에 가압하여 기판에 패턴을 형성하였다.In the imprinting technique according to the related art, a planar mold in which a pattern to be implemented is formed in a reversed phase is pressed onto a substrate coated with an imprinting resin to form a pattern on the substrate.

이러한 종래 기술에 따른 평면 몰드를 이용한 임프린트 공정은, 몰드 제작 및 장비구성이 용이하나, 임프린트(imprint) 시 몰드와 기판 사이에 유입된 버블에 의해 기판에 형성된 패턴에 보이드(void)가 생성될 수 있으며, 몰드와 기판을 박리하기 위한 별도의 박리수단이 필요한 문제점이 있다.The imprint process using the planar mold according to the related art is easy in mold construction and equipment construction but voids are formed in the pattern formed on the substrate by bubbles flowing between the mold and the substrate at the time of imprinting And there is a problem that a separate peeling means for peeling the mold and the substrate is necessary.

따라서, 평면 몰드를 이용한 임프린트 공정의 문제점을 해결하기 위하여, 임프린트 시 가압롤러를 이용한 롤 임프린트 방법이 제시되고 있다.Therefore, in order to solve the problems of the imprint process using a flat mold, a roll imprint method using a pressure roller at the time of imprinting has been proposed.

종래 기술에 따른 롤 임프린트를 이용한 임프린트 공정은, 두개의 가압롤러 사이를 패턴이 형성된 웹과 기판을 함께 이송하면서 기판에 패턴을 형성하므로, 웹 표면에 형성된 패턴이 손상되는 경우에, 웹 자체를 교체하는 것이 번거로워 인쇄 공정에 소요되는 작업시간이 증가되는 문제점이 있다.The imprint process using the roll imprint according to the related art forms a pattern on the substrate while transferring the patterned web and the substrate together between the two pressure rollers so that when the pattern formed on the web surface is damaged, It is troublesome to increase the working time required for the printing process.

[문헌1] 대한민국 공개특허 10-2013-0019298 (삼성전자 주식회사) 2013.02.26.[Document 1] Korean Patent Laid-Open No. 10-2013-0019298 (Samsung Electronics Co., Ltd.) 2013.02.26.

따라서 본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는, 임프린트 패턴이 형성된 웹의 교체가 용이하고 인쇄공정에 따른 비용을 절감할 수 있으며, 아울러 인쇄품질을 향상시킬 수 있는 인쇄장치를 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide a printing apparatus capable of easily replacing a web on which an imprint pattern is formed, reducing the cost of a printing process, and improving printing quality.

본 발명의 일 측면에 따르면, 웹(web)에 임프린트 패턴을 형성하기 위한 임프린트 패턴 원형이 형성된 마스터 또는 임프린트 패턴이 형성된 상기 웹에 접촉되어 표면에 패턴이 형성되는 기판이 안착되되, 상기 웹 방향으로 이동가능하게 마련되는 스테이지 유닛; 및 상기 웹에 인접하게 마련되되, 상기 스테이지 유닛이 상기 웹 방향으로 이동됨에 따라, 상기 마스터에 상기 웹을 가압 접촉시켜 상기 웹에 임프린트 패턴을 형성하거나, 상기 기판에 임프린트 패턴이 형성된 상기 웹을 가압 접촉시켜 상기 기판에 패턴을 형성하는 웹 가압유닛을 포함하는 인쇄장치가 제공될 수 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a substrate on which a pattern is formed by contacting a web on which a master or imprint pattern having an imprint pattern circle formed for forming an imprint pattern on a web is formed, A stage unit movably provided; And an imprinting pattern is formed on the web by bringing the web into contact with the master as the stage unit is moved in the web direction, or by pressing the web on which the imprint pattern is formed on the substrate, And a web pressurizing unit for contacting and forming a pattern on the substrate can be provided.

상기 스테이지 유닛은, 상기 마스터 또는 상기 기판이 안착되는 스테이지; 및 상기 스테이지의 하부에 연결되어 상기 스테이지를 지지하되, 상기 스테이지를 상기 웹 방향으로 이동시키는 스테이지 이동부를 포함할 수 있다.Wherein the stage unit comprises: a stage on which the master or the substrate is placed; And a stage moving part connected to a lower part of the stage and supporting the stage, the stage moving part moving the stage in the web direction.

상기 스테이지 이동부는, 상기 스테이지의 하부에 이격되게 배치되어 상기 스테이지를 지지하는 스테이지 지지프레임; 상기 웹 방향으로 길게 배치된 이동 레일; 및 상기 스테이지 지지프레임에 연결되어 상기 스테이지 지지프레임을 상기 이동 레일을 따라 이동시키는 이동 구동부를 포함할 수 있다.The stage moving part includes a stage support frame arranged to be spaced apart from the lower part of the stage and supporting the stage; A moving rail disposed long in the web direction; And a movement driving unit connected to the stage support frame and moving the stage support frame along the movement rail.

상기 이동 구동부는, 상기 이동 레일을 따라 배치되되, 상기 스테이지 지지프레임에 결합된 볼 스크류; 및 상기 볼 스크류에 결합되며 상기 볼 스크류를 정방향 및 역방향 회전시켜 상기 스테이지 지지프레임을 상기 웹 방향으로 왕복운동 가능하게 하는 구동모터를 포함할 수 있다.The movement drive includes a ball screw disposed along the moving rail, the ball screw coupled to the stage support frame; And a driving motor coupled to the ball screw and rotating the ball screw in forward and reverse directions to reciprocate the stage support frame in the web direction.

상기 웹 가압유닛은, 상기 웹의 상부에 마련되되, 상기 웹의 하부로 이동되는 상기 마스터 또는 상기 기판에 상기 웹을 가압하여 접촉시키는 웹 가압부를 포함할 수 있다.The web pressing unit may include a web pressing unit that is provided on the top of the web and presses the web against the master or the substrate that is moved to a lower portion of the web.

상기 웹 가압유닛은, 상기 웹 가압부에 연결되되, 상기 웹이 상기 마스터 또는 상기 기판에 접촉 및 접촉해제되도록 상기 웹 가압부를 상하방향으로 이동시키는 가압부 구동부를 더 포함할 수 있다.The web pressing unit may further include a pressing part driving part connected to the web pressing part and moving the web pressing part up and down so that the web is contacted with and released from the master or the substrate.

상기 웹 가압부는, 상기 웹의 상부에 상하방향으로 이동가능하게 마련되되, 상기 웹의 하부로 이동되는 상기 마스터 또는 상기 기판에 상기 웹을 연속적으로 가압하여 접촉 및 접촉해제되게 하는 가압 롤러를 포함할 수 있다.The web pressurizing portion includes a pressing roller that is vertically movable on an upper portion of the web and continuously presses the web on the master or the substrate moved to the lower portion of the web so as to contact and release the web .

상기 웹을 공급하는 웹 공급유닛을 더 포함하며, 상기 웹 공급유닛은, 상기 스테이지 유닛에 의해 이동된 상기 마스터 또는 상기 기판의 상부에 상기 웹이 배치되도록, 상기 웹을 공급 또는 회수하는 롤투롤 모듈을 포함할 수 있다.And a web feed unit for feeding the web, wherein the web supply unit includes a roll-to-roll module for feeding or retrieving the web so that the web is disposed on the master or the substrate moved by the stage unit, . ≪ / RTI >

상기 롤투롤 모듈은, 상기 웹이 감겨지되, 감겨진 상기 웹을 언와인딩(unwinding)하여 상기 스테이지 유닛에 의해 이동된 상기 마스터 또는 상기 기판의 상부로 공급하는 언와인더(unwinder); 상기 언와인더와 이격되게 배치되되, 상기 언와인더와 연동되어 상기 웹을 리와인딩(rewinding) 또는 언와인딩하는 리와인더(rewinder); 및 상기 언와인더와 상기 리와인더 사이에 배치되어, 상기 웹을 안내하는 적어도 하나 이상의 아이들 롤부(idle roll)를 포함할 수 있다.The roll-to-roll module includes an unwinder for winding the web, unwinding the wound web and feeding it to the top of the master or the substrate moved by the stage unit; A rewinder arranged to be spaced apart from the unwinder and interworking with the unwinder to rewind or unwind the web; And at least one idle roll disposed between the unwinder and the rewinder for guiding the web.

상기 롤투롤 모듈은, 상기 언와인더와 상기 리와인더 사이에 배치되어 상대 이동함에 따라, 상기 언와인더와 상기 리와인더 사이에서 상기 웹의 장력을 일정하게 유지하는 적어도 하나 이상의 장력조절 롤부를 더 포함할 수 있다.The roll-to-roll module further includes at least one tension adjusting roll part that is disposed between the un-winder and the re-winder and moves relative to the un-winder and the re-winder to keep the tension of the web constant between the un- .

상기 가압 롤러는, 상기 언와인더와 상기 리와인더 사이에 배치되어 상하방향 이동함에 따라 상기 마스터 또는 상기 기판에 상기 웹을 가압하여 접촉 및 접촉해제되게 하며, 상기 롤투롤 모듈은, 상기 가압 롤러가 상기 마스터 또는 상기 기판에 상기 웹을 접촉 가압한 상태에서 상기 스테이지 유닛이 이동되는 경우에, 상기 웹이 상기 마스터 또는 상기 기판과 접촉상태를 유지하도록 상기 가압 롤러에 평행되게 배치된 보조 가압 롤러를 더 포함할 수 있다.Wherein the pressure roller is disposed between the unwinder and the rewinder and presses the web against the master or the substrate to contact and release the contact with the master or the substrate as the strip moves upward and downward, Further comprising an auxiliary pressure roller disposed parallel to the pressure roller so that the web remains in contact with the master or the substrate when the stage unit is moved with the web or the web pressed against the master or the substrate can do.

상기 가압 롤러에 인접하게 마련되되, 상기 가압 롤러에 의해 가압되어 상기 웹에 형성된 임프린트 패턴을 이루는 레진 또는 상기 기판에 형성된 패턴을 이루는 레진을 경화하는 레진 경화유닛을 더 포함할 수 있다.And a resin curing unit which is provided adjacent to the pressing roller and which is pressed by the pressing roller to form an imprint pattern formed on the web or a resin constituting a pattern formed on the substrate.

상기 레진 경화유닛은, 상기 가압 롤러와 상기 보조 가압 롤러 사이에 배치될 수 있다.The resin curing unit may be disposed between the pressure roller and the auxiliary pressure roller.

상기 웹 방향으로 이동되는 상기 스테이지 유닛과 인라인되게 마련되되, 상기 웹 방향으로 이동되는 상기 스테이지 유닛 상의 상기 마스터의 임프린트 패턴 원형 또는 상기 기판에 임프린트 패턴용 레진을 도포하는 도포유닛을 더 포함할 수 있다.And an application unit for applying an imprint pattern resin to the substrate or the imprint pattern circle of the master on the stage unit moved in the web direction so as to be inline with the stage unit moved in the web direction .

상기 도포유닛은, 상기 마스터 또는 상기 기판에 임프린트 패턴용 레진을 도포하는 디스펜서를 포함할 수 있다.The coating unit may include a dispenser for applying the resin for the imprint pattern to the master or the substrate.

상기 웹에 임프린트 패턴을 형성하기 위한 임프린트 패턴 원형이 형성된 마스터 또는 상기 임프린트 패턴이 형성된 상기 웹에 접촉되어 표면에 패턴을 형성하기 위한 기판을 로딩하는 로딩유닛(loading unit); 및 상기 웹에 임프린트 패턴을 형성한 마스터 또는 상기 웹에 접촉되어 표면에 패턴이 형성된 기판을 언로딩하는 언로딩유닛(unloading unit)을 더 포함할 수 있다.A loading unit for loading a master having an imprinted pattern circle for forming an imprinted pattern on the web or a substrate for contacting a web on which the imprinted pattern is formed to form a pattern on the surface; And an unloading unit for unloading a master having an imprint pattern formed on the web or a substrate having a pattern formed on its surface in contact with the web.

본 발명의 실시 예는, 웹에 임프린트 패턴을 형성함으로써 임프린트 패턴의 교체가 용이하고 인쇄공정에 따른 비용을 절감할 수 있으며, 아울러 임프린트 패턴이 형성된 웹 방향으로 기판을 이동시켜 임프린트 패턴이 형성된 웹을 기판에 가압하여 접촉시켜 기판에 패턴을 형성함으로써 인쇄품질을 향상시킬 수 있다.The embodiments of the present invention can easily replace an imprint pattern by forming an imprint pattern on a web, reduce the cost of a printing process, and move a substrate in a web direction in which an imprint pattern is formed, The printing quality can be improved by pressing the substrate against the substrate to form a pattern on the substrate.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 인쇄장치를 나타내는 구조도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 스테이지 유닛을 개략적으로 나타내는 사시도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 마스터의 임프린트 패턴 원형에 형성된 주 얼라인 마크 및 보조 얼라인 마크를 나타내는 평면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판에 형성된 주 얼라인 마크 및 보조 얼라인 마크를 나타내는 평면도이다.
도 5는 도 2의 평면 투영도이다.
도 6은 도 5의 A영역 확대 사시도이다.
도 7은 도 6의 B-B에 따른 단면도이다.
도 8은 본 발명의 일 실시 예에 따른 스테이지가 X축 방향으로 이동된 상태를 나타내는 평면도이다.
도 9는 본 발명의 일 실시 예에 따른 스테이지가 Y축 방향으로 이동된 상태를 나타내는 평면도이다.
도 10은 본 발명의 일 실시 예에 따른 스테이지가 축으로 회전된 상태를 나타내는 평면도이다.
도 11은 본 발명의 일 실시 예에 따른 진공흡입형 피딩롤을 나타내는 단면도이다.
도 12는 도 11의 C-C에 따른 단면도이다.
도 13은 본 발명의 일 실시 예에 따른 웹의 임프린트 패턴에 형성된 주 얼라인 마크 및 보조 얼라인 마크를 나타내는 평면도이다.
도 14는 본 발명의 일 실시 예에 따른 웹 비젼유닛을 이용한 웹과 기판의 정렬동작을 나타내는 도면이다.
1 is a structural view showing a printing apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a perspective view schematically showing a stage unit according to an embodiment of the present invention.
3 is a plan view showing a main alignment mark and a secondary alignment mark formed on the imprint pattern circle of the master according to the embodiment of the present invention.
4 is a plan view showing a main alignment mark and auxiliary alignment mark formed on a substrate according to an embodiment of the present invention.
5 is a planar projection view of Fig.
FIG. 6 is an enlarged perspective view of the area A of FIG. 5. FIG.
7 is a sectional view taken along the line BB of Fig.
8 is a plan view showing a state in which a stage according to an embodiment of the present invention is moved in the X-axis direction.
9 is a plan view showing a state in which a stage according to an embodiment of the present invention is moved in the Y-axis direction.
10 is a plan view showing a state in which the stage is rotated by an axis according to an embodiment of the present invention.
11 is a cross-sectional view illustrating a vacuum suction type feeding roll according to an embodiment of the present invention.
12 is a cross-sectional view taken along CC in Fig.
13 is a plan view showing a main alignment mark and a secondary alignment mark formed in an imprint pattern of a web according to an embodiment of the present invention.
FIG. 14 is a view illustrating an operation of aligning a web and a substrate using a web vision unit according to an embodiment of the present invention.

본 발명과 본 발명의 동작상의 이점 및 본 발명의 실시에 의하여 달성되는 목적을 충분히 이해하기 위해서는 본 발명의 바람직한 실시 예를 예시하는 첨부 도면 및 첨부 도면에 기재된 내용을 참조하여야만 한다.In order to fully understand the present invention, operational advantages of the present invention, and objects achieved by the practice of the present invention, reference should be made to the accompanying drawings and the accompanying drawings which illustrate preferred embodiments of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 설명함으로써, 본 발명을 상세히 설명한다. 각 도면에 제시된 동일한 참조부호는 동일한 부재를 나타낸다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the preferred embodiments of the present invention with reference to the accompanying drawings. Like reference symbols in the drawings denote like elements.

본 실시 예에 따른 연속으로 공급되는 웹(web)은, 두께에 비하여 소재의 폭이 크고 길이방향으로 연속성을 가지는 기판으로서, PC(poly carbonate), PET(polyethylene terephthalate), PEN(polyethylene naphthalene), PI(polyimde) 등의 고분자 필름, 얇은 유리(thin glass), 금속 등의 물질일 수 있다.The continuously supplied web according to the present embodiment is a substrate having a large width of material and continuity in the longitudinal direction as compared with a thickness thereof and is made of polycarbonate (PC), polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalene (PEN) A polymer film such as PI (polyimide), a thin glass, or a metal.

그리고, 웹의 표면에는 SiOx, SiNx 등의 박막이 증착되거나, 임프린트 공정 등에 필요한 표면 처리가 되어 있을 수 있으며, 보호필름(P)이 증착될 수 있다.A thin film of SiOx, SiNx or the like may be deposited on the surface of the web, or may be subjected to a surface treatment necessary for the imprint process or the like, and the protective film P may be deposited.

그리고, 본 실시 예에서 기판은, 유리기판, 플라스틱, 섬유, 종이 등 다양한 소재들을 기판으로 사용할 수 있다.In this embodiment, various substrates such as a glass substrate, plastic, fiber, and paper can be used as a substrate.

그리고, 본 실시 예에 따른 인쇄장치는, 수 마이크로 급이나 나노급의 패턴을 기판에 형성히가 위한 것으로서, 반도체 제조 및·패킹 공정, 디스플레이 제조 및 패킹공정, 태양전지, 디스플레이 제조 및 패킹공정 및 의료 진단/치료 기기 제조공정 등에 이용될 수 있으며, 또한, 자동차, 가전제품 등의 플라스틱, 금속, 유리 등 재질의 외관 표면에 나노급, 마이크로급 패턴을 통한 표면 요철이나 선택적 표면처리 등에 의한 질감 효과와 빛의 회절 및 반사 등을 이용한 시각적 효과를 구현하기 위해서 사용될 수 있다.The printing apparatus according to the present embodiment is for forming a pattern of several micro or nano grades on a substrate, and includes a semiconductor manufacturing and packaging process, a display manufacturing and packaging process, a solar cell, a display manufacturing and packing process, And can be used for medical diagnosis / treatment device manufacturing process. In addition, it can be used for the exterior surface of materials such as plastic, metal, and glass of automobiles and home appliances, And visual effects using diffraction and reflection of light.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 설명함으로써, 본 발명을 상세히 설명한다. 각 도면에 제시된 동일한 참조부호는 동일한 부재를 나타낸다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Like reference symbols in the drawings denote like elements.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 인쇄장치를 나타내는 구조도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 스테이지 유닛을 개략적으로 나타내는 사시도이고, 도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 마스터의 임프린트 패턴 원형에 형성된 주 얼라인 마크 및 보조 얼라인 마크를 나타내는 평면도이고, 도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판에 형성된 주 얼라인 마크 및 보조 얼라인 마크를 나타내는 평면도이고, 도 5는 도 2의 평면 투영도이고, 도 6은 도 5의 A영역 확대 사시도이고, 도 7은 도 6의 B-B에 따른 단면도이고, 도 8은 본 발명의 일 실시 예에 따른 스테이지가 X축 방향으로 이동된 상태를 나타내는 평면도이고, 도 9는 본 발명의 일 실시 예에 따른 스테이지가 Y축 방향으로 이동된 상태를 나타내는 평면도이고, 도 10은 본 발명의 일 실시 예에 따른 스테이지가 축으로 회전된 상태를 나타내는 평면도이고, 도 11은 본 발명의 일 실시 예에 따른 진공흡입형 피딩롤을 나타내는 단면도이고, 도 12는 도 11의 C-C에 따른 단면도이고, 도 13은 본 발명의 일 실시 예에 따른 웹의 임프린트 패턴에 형성된 주 얼라인 마크 및 보조 얼라인 마크를 나타내는 평면도이고, 도 14는 본 발명의 일 실시 예에 따른 웹 비젼유닛을 이용한 웹과 기판의 정렬동작을 나타내는 도면이다.FIG. 2 is a perspective view schematically showing a stage unit according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a perspective view of a master according to an embodiment of the present invention. FIG. 4 is a plan view showing a main alignment mark and auxiliary alignment mark formed on a substrate according to an embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a plan view showing a main alignment mark and auxiliary alignment marks formed on a substrate according to an embodiment of the present invention. FIG. 6 is an enlarged perspective view of the area A of FIG. 5, FIG. 7 is a sectional view taken along line BB of FIG. 6, and FIG. 8 is a plan view of the stage moving in the X- FIG. 9 is a plan view showing a state where the stage according to the embodiment of the present invention is moved in the Y-axis direction, and FIG. 10 is a plan view showing a state where the stage according to an embodiment of the present invention 11 is a cross-sectional view showing a vacuum suction type feeding roll according to an embodiment of the present invention, FIG. 12 is a sectional view taken along CC in FIG. 11, and FIG. 13 is a cross- FIG. 14 is a plan view showing a main alignment mark and auxiliary alignment mark formed in the imprint pattern of the web according to an embodiment of the present invention, and FIG. 14 is a view illustrating alignment operation of the web and the substrate using the web vision unit according to an embodiment of the present invention. FIG.

도 1 내지 도 14를 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 인쇄장치는, 임프린트 패턴 원형(M1)이 형성된 마스터(M) 또는 표면에 패턴을 형성하기 위한 기판(G)을 로딩하는 로딩유닛(loading unit,100)과, 임프린트 패턴 원형(M1)이 형성된 마스터(M) 또는 기판(G)이 안착되되 웹(F) 방향으로 이동가능하게 마련된 스테이지 유닛(200)과, 마스터(M)의 임프린트 패턴 원형(M1) 또는 기판(G)에 임프린트 패턴용 레진을 도포하는 도포유닛(300)과, 웹(F)을 공급하는 웹 공급유닛(400)과, 웹(F)에 인접하게 마련되되 마스터(M) 또는 기판(G)에 웹(F)을 가압하여 접촉시키는 웹 가압유닛(500)과, 웹(F)에 형성된 임프린트 패턴을 이루는 레진 또는 기판(G)에 형성된 패턴을 이루는 레진을 경화하는 레진 경화유닛(700)과, 웹(F)에 임프린트 패턴을 형성한 마스터(M) 또는 표면에 패턴이 형성된 기판(G)을 언로딩하는 언로딩유닛(unloading unit,800)을 포함한다.1 to 14, a printing apparatus according to an embodiment of the present invention includes a master M having an imprint pattern circle M1 formed thereon, or a loading unit (not shown) for loading a substrate G for forming a pattern on a surface. a stage unit 200 provided with a loading unit 100 and a master M or a substrate G on which an imprint pattern circle M1 is formed and is movable in a web F direction; A coating unit 300 for applying a resin for an imprint pattern to the imprint pattern mold M1 or the substrate G, a web supply unit 400 for supplying a web F, A web pressurizing unit 500 for pressing the web F against the master M or the substrate G and a resin constituting a pattern formed on the resin or the substrate G forming the imprint pattern formed on the web F A master (M) having an imprint pattern formed on a web (F), or a pattern formed on the surface It comprises a loading and unloading unit for unloading the plate (G) (unloading unit, 800).

본 실시 예에 따른 인쇄장치를 이용한 임프린트 공정은 임프린트 패턴 원형(M1)이 형성된 마스터(M)를 웹(F)으로 이동시켜 웹(F)에 임프린트 패턴을 형성함으로써, 임프린트 패턴을 교체하고자 하는 경우에 마스터(M)를 이용하여 웹(F)에 새로운 임프린트 패턴을 형성할 수 있어 임프린트 패턴의 교체가 용이하고 임프린트 패턴의 교체에 따른 인쇄공정에 소요되는 비용을 절감할 수 있다.The imprinting process using the printing apparatus according to the present embodiment is a process in which the imprinted pattern is formed on the web F by moving the master M on which the imprint pattern prototype M1 is formed to the web F A new imprint pattern can be formed on the web F by using the master M so that it is easy to replace the imprint pattern and the cost for the printing process due to the replacement of the imprint pattern can be reduced.

그리고, 임프린트 패턴이 형성된 웹(F)으로 기판(G)을 이동시켜 기판(G)의 표면에 패턴을 형성함으로써, 웹(F)의 사행 피딩에 따른 이송오차에 의해 기판(G)에 형성된 패턴의 인쇄품질이 저하되는 것을 방지할 수 있다.A pattern formed on the surface of the substrate G by moving the substrate G to the web F on which the imprinted pattern is formed allows a pattern formed on the substrate G by a feeding error due to the meandering of the web F It is possible to prevent the deterioration of the print quality of the image forming apparatus.

이하, 본 실시 예에 따른 인쇄장치를 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the printing apparatus according to the present embodiment will be described in detail.

도 1을 참조하면, 로딩유닛(100)은, 임프린트 패턴 원형(M1)이 형성된 마스터(M) 또는 표면에 패턴을 형성하기 위한 기판(G)이 최초로 놓여지는 부분이다.Referring to FIG. 1, the loading unit 100 is a portion in which a master M on which an imprint pattern circle M1 is formed or a substrate G on which a pattern is formed is first placed.

그리고, 로딩유닛(100)에 로딩된 마스터(M) 또는 기판(G)은 스테이지 유닛(200)으로 이송된다. 마스터(M) 또는 기판(G)의 스테이지 유닛(200)으로의 이송은 별도의 로봇 등에 의해 이송될 수 있다.Then, the master (M) or the substrate (G) loaded in the loading unit (100) is transferred to the stage unit (200). The transfer of the master (M) or the substrate (G) to the stage unit (200) can be carried out by a separate robot or the like.

도 1 및 도 2를 참조하면, 스테이지 유닛(200)은, 로딩유닛(100)에서 로딩된 임프린트 패턴이 형성된 마스터(M) 또는 표면에 패턴을 형성하고자 하는 기판(G)이 안착되며, 마스터(M) 또는 기판(G)을 후술할 도포유닛(300), 웹 공급유닛(400) 및 언로딩유닛(800) 방향으로 이동시키는 역할을 한다.1 and 2, the stage unit 200 includes a master M on which an imprint pattern loaded on the loading unit 100 is formed, or a substrate G on which a pattern is to be formed, M or the substrate G toward the application unit 300, the web supply unit 400 and the unloading unit 800, which will be described later.

스테이지 유닛(200)은, 마스터(M) 또는 기판(G)이 안착되는 스테이지(210)와, 스테이지(210)의 하부에 연결되어 스테이지(210)를 지지하되 스테이지(210)를 인라인화된 도포유닛(300), 웹 공급유닛(400) 및 언로딩유닛(800) 방향으로 이동시키는 스테이지 이동부(230)를 포함한다.The stage unit 200 includes a stage 210 on which the master M or the substrate G is seated and a stage 210 on which the stage 210 is supported by a lower portion of the stage 210, Unit 300, a web supply unit 400 and a stage moving unit 230 moving in the direction of the unloading unit 800.

스테이지(210)는 상면에 마스터(M) 또는 기판(G)을 진공으로 흡착한 상태에서 인라인화된 도포유닛(300), 웹 공급유닛(400) 및 언로딩유닛(800) 방향으로 이동된다.The stage 210 is moved in the direction of the inline coating unit 300, the web supply unit 400 and the unloading unit 800 with the master M or the substrate G vacuum-adsorbed on the upper surface.

이때, 스테이지(210)의 이동은 스테이지(210)의 하부를 지지하는 스테이지 이동부(230)에 의해 수행된다.At this time, the movement of the stage 210 is performed by the stage moving unit 230 that supports the lower portion of the stage 210.

스테이지 이동부(230)는, 스테이지(210)의 하부에 이격되게 배치되어 스테이지(210)를 지지하는 스테이지 지지프레임(231)과, 인라인화된 도포유닛(300), 웹 공급유닛(400) 및 언로딩유닛(800) 방향으로 길게 배치된 이동 레일(233)과, 스테이지 지지프레임(231)에 연결되어 스테이지 지지프레임(231)을 이동 레일(233)을 따라 이동시키는 이동 구동부를 포함한다.The stage moving unit 230 includes a stage support frame 231 that is disposed at a lower portion of the stage 210 to support the stage 210 and an inline coating unit 300, a web supply unit 400, And a movement driving unit connected to the stage support frame 231 to move the stage support frame 231 along the movement rail 233. The movement support unit 231 includes a movable rail 233 that is long in the direction of the unloading unit 800,

그리고, 이동 구동부는, 이동 레일(233)을 따라 배치되되 스테이지 지지프레임(231)에 결합된 볼 스크류(미도시)와, 볼 스크류에 결합되며 볼 스크류를 정방향 및 역방향 회전시켜 스테이지 지지프레임(231)을 웹 공급유닛(400) 방향으로 왕복운동 가능하게 하는 구동모터(미도시)를 포함한다.The movement driving unit includes a ball screw (not shown) disposed along the movement rail 233 and coupled to the stage support frame 231, a ball screw (not shown) coupled to the ball screw and rotating the ball screw in the forward and reverse directions, (Not shown) for reciprocating in the direction of the web feed unit 400. [

예를 들어, 이동 레일(233)이 마스터(M) 또는 기판(G)이 이동되는 방향인 도포유닛(300), 웹 공급유닛(400) 및 언로딩유닛(800) 방향으로 길게 배치된다.For example, the movable rail 233 is disposed long in the direction of the application unit 300, the web supply unit 400, and the unloading unit 800 in the direction in which the master M or the substrate G is moved.

그리고, 스테이지(210)의 하부를 지지하는 스테이지 지지프레임(231)이 이동 레일(233)에 연결된 상태에서 이동 레일(233)을 따라 직선 왕복운동하게 된다. 즉, 스테이지(210)가 로딩유닛(100)에서 언로딩유닛(800)으로 이동된 후, 다시 언로딩유닛(800)에서 로딩유닛(100)으로 이동된다.The stage support frame 231 supporting the lower portion of the stage 210 is linearly reciprocated along the movement rail 233 in a state where the stage support frame 231 is connected to the movement rail 233. That is, after the stage 210 is moved from the loading unit 100 to the unloading unit 800, the stage 210 is moved from the unloading unit 800 to the loading unit 100 again.

이러한 스테이지(210)의 왕복운동은 구동모터의 정방향 및 역방향 회전에 따라 연동되어 회전하는 볼 스크류의 회전에 의해 수행된다.The reciprocating motion of the stage 210 is performed by the rotation of the ball screw rotated in conjunction with the forward and reverse rotation of the driving motor.

한편, 웹(F)에 임프린트 패턴을 형성하고자 하는 경우에 마스터(M)의 임프린트 패턴 원형(M1)에 임프린트 패턴용 레진을 도포하여야 하고, 또한, 기판(G)의 표면에 패턴을 형성하고자 하는 경우에 기판(G)의 상면에 임프린트 패턴용 레진을 도포하여야 한다.On the other hand, in the case where the imprint pattern is to be formed on the web F, the imprint pattern mold M1 of the master M must be coated with the resin for the imprint pattern, The resin for the imprint pattern should be applied to the upper surface of the substrate G.

따라서, 본 실시 예에서는 도포유닛(300)은 웹 공급유닛(400), 즉 웹(F) 방향으로 이동되는 스테이지 유닛(200)과 인라인되게 마련된다. 즉, 도포유닛(300)은 스테이지 유닛(200)이 웹(F) 방향으로 이동되는 경로 상에 마련된다.Therefore, in this embodiment, the coating unit 300 is provided to be inline with the web supply unit 400, that is, the stage unit 200 moved in the web F direction. That is, the coating unit 300 is provided on the path in which the stage unit 200 is moved in the web F direction.

도 1을 참조하면, 도포유닛(300)은, 마스터(M)의 임프린트 패턴 원형(M1)에 임프린트 패턴용 레진을 도포하거나 기판(G)의 상면에 임프린트 패턴용 레진을 도포하는 역할을 한다.Referring to FIG. 1, the coating unit 300 serves to apply a resin for an imprint pattern to the imprint pattern circle M1 of the master M or to apply a resin for an imprint pattern to the upper surface of the substrate G.

이와 같이, 임프린트 패턴용 레진을 도포하기 위해, 도포유닛(300)은 마스터(M) 또는 기판(G)에 임프린트 패턴용 레진을 도포하는 디스펜서(dispenser,310)를 포함한다.As described above, in order to apply the resin for the imprint pattern, the application unit 300 includes a dispenser 310 for applying the resin for the imprint pattern to the master M or the substrate G. [

디스펜서(310)는, 마스터(M) 또는 기판(G)에 임프린트 패턴용 레진을 도포하는 잉크젯으로 구성될 수 있으나, 이에 한정되지 않고 마스터(M) 또는 기판(G)에 임프린트 패턴용 레진을 도포할 수 있는 것이면 어느 것이든 사용가능하다.The dispenser 310 may be configured as an inkjet for applying the resin for the imprint pattern to the master M or the substrate G but is not limited thereto and may be formed by applying the resin for the imprint pattern to the master M or the substrate G Anything that can be used is available.

한편, 도포유닛(300)을 이용하여 마스터(M) 또는 기판(G)에 임프린트 패턴용 레진을 도포할 때, 마스터(M) 또는 기판(G)의 폭방향 전체에 걸쳐 도포하는 것은 아니고 도 3에서 도시한 바와 같이 마스터(M)의 임프린트 패턴 원형(M1)에 또는 도 4에서 도시한 바와 같이 기판(G)에 패턴을 형성하기 위한 인쇄영역(G1)에 도포한다.On the other hand, when applying the resin for the imprint pattern to the master (M) or the substrate (G) using the application unit 300, it is not applied over the whole width direction of the master (M) Is applied to the imprint pattern circle M1 of the master M as shown in Fig. 4A or to the printing area G1 for forming a pattern on the substrate G as shown in Fig.

그리고, 기판(G)의 경우에 패턴이 형성되는 인쇄영역(G1)을 제외한 나머지 영역은 최종적으로 재단된다.In the case of the substrate G, the remaining area except for the printing area G1 in which the pattern is formed is finally cut.

한편, 마스터(M) 또는 기판(G)에 임프린트 패턴용 레진을 도포함에 있어서, 디스펜서(310)와 마스터(M) 또는 기판(G)을 정렬하여야 한다.On the other hand, in applying the resin for the imprint pattern to the master (M) or the substrate (G), the dispenser (310) and the master (M) or the substrate (G)

이에, 도 1에서 도시한 바와 같이 도포유닛(300)은 디스펜서(310)의 일측에 마련된 정렬 비젼부(330)를 더 포함한다.As shown in FIG. 1, the coating unit 300 further includes an alignment vision unit 330 provided on one side of the dispenser 310.

정렬 비젼부(330)는 디스펜서(310)와 마스터(M) 또는 기판(G)을 정렬하도록, 도 3에서 도시한 바와 같이 마스터(M)의 임프린트 패턴 원형(M1)에 형성된 주 얼라인 마크(P1) 및 주 얼라인 마크(P1)와 소정간격 이격되게 마련된 보조 얼라인 마크(P2)를 촬영하거나, 도 4에서 도시한 바와 같이 기판(G) 상의 주 얼라인 마크(P1) 및 주 얼라인 마크(P1)와 소정간격 이격되게 마련된 보조 얼라인 마크(P2)를 촬영한다.The alignment vision unit 330 may be arranged to align the dispenser 310 and the master M or the substrate G so that the alignment mark M is formed on the imprint pattern M1 of the master M as shown in FIG. The main alignment marks P1 and the main alignment mark P1 on the substrate G as shown in Fig. 4, And photographs the auxiliary alignment mark P2 provided so as to be spaced apart from the mark P1 by a predetermined distance.

그리고, 정렬 비젼부(330)에 의해 촬영된 마스터(M)의 임프린트 패턴 원형(M1) 또는 기판(G) 상의 주 얼라인 마크(P1) 및 보조 얼라인 마크(P2)를 기초로 디스펜서(310)와 마스터(M) 또는 기판(G)을 정렬하는데 있어, 도 2에서 도시한 바와 같이, 본 실시 예에 따른 스테이지 유닛(200)은 스테이지 정렬모듈(250)을 더 포함한다.Based on the imprint pattern circle M1 of the master M photographed by the alignment vision unit 330 or the primary alignment marks P1 and secondary alignment marks P2 on the substrate G, 2, the stage unit 200 according to the present embodiment further includes a stage alignment module 250. The stage alignment module 250 includes a stage alignment module 250,

스테이지 정렬모듈(250)은 정렬 비젼부(330)에 의해 촬영된 마스터(M)의 임프린트 패턴 원형(M1) 또는 기판(G) 상의 복수의 얼라인 마크를 기초로 디스펜서(310)에 대해 스테이지(210)를 상대 이동시켜 디스펜서(310)와 마스터(M) 또는 기판(G)을 정렬한다.The stage alignment module 250 is configured to position the stage M on the stage 310 with respect to the dispenser 310 based on the alignment pattern M1 of the master M photographed by the alignment vision portion 330 or a plurality of alignment marks on the substrate G. [ 210 are moved relative to each other to align the dispenser 310 with the master (M) or the substrate (G).

스테이지 정렬모듈(250)은 스테이지(210)를 스테이지(210)의 판면 방향, 예를들어 X축 방향 (도 8참조), Y축 방향(도 9참조) 및 θ축 방향(도 10참조)으로 이동시킴으로써 디스펜서(310)에 대한 마스터(M) 또는 기판(G)의 정렬작업을 진행한다.The stage alignment module 250 is configured to align the stage 210 in the plate surface direction of the stage 210, for example, in the X axis direction (see FIG. 8), the Y axis direction The alignment operation of the master M or the substrate G with respect to the dispenser 310 is performed.

즉, 스테이지 정렬모듈(250)은 스테이지(210)의 하부에 결합되어 스테이지(210)를 이동가능하게 지지하는 역할을 한다.That is, the stage alignment module 250 is coupled to the lower portion of the stage 210 to support the stage 210 movably.

도 2 및 도 5 내지 도 7을 참조하여 스테이지 정렬모듈(250)에 대하여 설명하면 다음과 같다.The stage alignment module 250 will be described with reference to FIGS. 2 and 5 to 7 as follows.

스테이지 정렬모듈(250)은 스테이지 지지프레임(231)의 상면과 스테이지(210)의 하면에 결합되어 스테이지 지지프레임(231)과 스테이지(210)를 연결한다.The stage alignment module 250 is coupled to the upper surface of the stage support frame 231 and the lower surface of the stage 210 to connect the stage support frame 231 to the stage 210.

그리고, 스테이지 정렬모듈(250)은, 스테이지(210)의 판면에 대해 실질적으로 사각 구도로 배치되어 스테이지(210)를 스테이지(210)의 판면 방향(X축, Y축 및 θ축 방향)으로 이동 가능하게 지지하는 역할을 한다.The stage alignment module 250 is disposed in a substantially rectangular configuration with respect to the plate surface of the stage 210 to move the stage 210 in the plate surface direction (X axis, Y axis, and? Axis direction) It is the role of supporting.

이러한, 스테이지 정렬모듈(250)은 스테이지(210)의 네 모서리 영역에 각각 배치되어 디스펜서(310)에 대해 스테이지(210)를 상대이동가능하게 하는 4개의 스테이지 정렬부(260a~260d)를 포함한다. The stage alignment module 250 includes four stage alignment portions 260a to 260d that are disposed in four corner areas of the stage 210 and allow the stage 210 to be relatively movable with respect to the dispenser 310 .

이처럼, 4개의 스테이지 정렬부(260a~260d)를 스테이지(210)의 네 모서리 영역에 사각 구도로 배치할 경우, 안정적인 지지 구조를 가지기 때문에 임프린팅 시 후술할 웹 가압유닛(500)으로 스테이지(210)를 높은 가압력으로 가압한다 하더라도 스테이지(210)가 임의 방향으로 이동되지 않게 된다. 즉, 웹 가압유닛(500)에 의해 스테이지(210)가 밀리는 것을 방지할 수 있다.When the four stage alignment units 260a to 260d are arranged in the four corners of the stage 210 in a rectangular configuration, the web pressing unit 500, which will be described later, The stage 210 is not moved in any direction even if it is pressed with a high pressing force. That is, it is possible to prevent the stage 210 from being pushed by the web pressing unit 500.

또한, 스테이지(210) 자체를 X축, Y축 및 θ축 방향으로 용이하고 효율적으로 미세 이동시킬 수 있다.Further, the stage 210 itself can be finely moved easily and efficiently in the X-axis, Y-axis, and? -Axis directions.

이하, 설명의 편의를 위해 4개의 스테이지 정렬부(260a~260d) 각각을, 도 5의 A 영역을 기준으로 반시계 방향을 따라가면서 각각 제1 내지 제4 스테이지 정렬부(260a~260d)라 하여 설명하기로 한다.Hereinafter, for convenience of description, each of the four stage arranging units 260a to 260d is referred to as first to fourth stage arranging units 260a to 260d along the counterclockwise direction with reference to the area A in FIG. 5 I will explain.

제1 내지 제4 스테이지 정렬부(260a~260d) 각각은, 제1 내지 제4 구동모터(261a~261d)와, 제1 내지 제4 구동모터(261a~261d)에 결합되어 제1 내지 제4 구동모터(261a~261d)에 의해 정방향 및 역방향으로 회전 가능한 제1 내지 제4 볼 스크류(262a~262d)와, 제1 내지 제4 볼 스크류(262a~262d)를 사이에 두고 제1 내지 제4 구동모터(261a~261d)의 대향 측에 마련되어 제1 내지 제4 볼 스크류(262a~262d)의 단부를 회전 가능하게 지지하는 제1 내지 제4 회전 지지부(267a~267d)와, 제1 내지 제4 볼 스크류(262a~262d)에 결합되고 제1 내지 제4 볼 스크류(262a~262d)의 회전 시 제1 내지 제4 볼 스크류(262a~262d)의 길이 방향을 따라 이동 가능한 제1 내지 제4 이동블록(263a~263d)과, 제1 내지 제4 이동블록(263a~263d)에 결합되며 제1 내지 제4 이동블록(263a~263d)이 이동하는 방향에 교차하는 방향으로 자유 이동 가능한 제1 내지 제4 교차블록(264a~264d)과, 양단이 제1 내지 제4 교차블록(264a~264d)의 상면 및 스테이지(210)의 하면에 각각 고정되는 제1 내지 제4 고정부(265a~265d)를 포함한다.Each of the first to fourth stage arrangements 260a to 260d includes first to fourth drive motors 261a to 261d and first to fourth drive motors 261a to 261d, First to fourth ball screws 262a to 262d rotatable in forward and reverse directions by drive motors 261a to 261d and first to fourth ball screws 262a to 262d via first to fourth ball screws 262a to 262d, First to fourth rotation supporting portions 267a to 267d provided on the opposite sides of the driving motors 261a to 261d for rotatably supporting the ends of the first to fourth ball screws 262a to 262d, The first to fourth ball screws 262a to 262d and the first to fourth ball screws 262a to 262d which are movable along the longitudinal direction of the first to fourth ball screws 262a to 262d during rotation of the first to fourth ball screws 262a to 262d. The movable block 263a to 263d and the movable block 263a to 263d and the first to fourth movable blocks 263a to 263d and movable in the direction crossing the moving direction of the first to fourth moving blocks 263a to 263d. The first to fourth fixing portions 265a to 264d are fixed to the upper surface of the first to fourth intersecting blocks 264a to 264d and the lower surface of the stage 210, respectively, 265d.

제1 내지 제4 구동모터(261a~261d)는 각각 제어부(미도시)에 의해 독립적으로 제어된다. 즉, 디스펜서(310)에 대해 스테이지(210) 상에 진공으로 흡착된 마스터(M) 또는 기판(G)이 X축, Y축 및 θ축 방향으로 틀어진 정도가 계산되면, 제어부는 제1 내지 제4 구동모터(261a~261d)를 개별적으로 독립 제어하여 제1 내지 제4 이동블록(263a~263d)과, 제1 내지 제4 교차블록(264a~264d)의 이동을 통해 스테이지(210)가 이동될 수 있도록 한다.The first to fourth drive motors 261a to 261d are independently controlled by a control unit (not shown). That is, when the degree to which the master M or the substrate G vacuum-attracted on the stage 210 with respect to the dispenser 310 is calculated in the X-axis, Y-axis and θ-axis directions is calculated, The stage 210 is moved through the movement of the first to fourth moving blocks 263a to 263d and the first to fourth intersecting blocks 264a to 264d by independently controlling the four driving motors 261a to 261d, .

제1 내지 제4 이동블록(263a~263d)의 안정적인 이동을 위해 스테이지 지지프레임(231)의 상면에는 제1 내지 제4 이동블록(263a~263d)의 이동을 안내하는 복수의 제1 내지 제4 가이드 레일(266a~266d)이 마련된다.For stable movement of the first to fourth moving blocks 263a to 263d, a plurality of first to fourth moving blocks 263a to 263d for guiding the movement of the first to fourth moving blocks 263a to 263d are formed on the upper surface of the stage supporting frame 231, And guide rails 266a through 266d are provided.

따라서 제1 내지 제4 볼 스크류(262a~262d)의 회전에 의해 제1 내지 제4 볼 스크류(262a~262d)의 길이 방향을 따라 이동하는 제1 내지 제4 이동블록(263a~263d)은 복수의 제1 내지 제4 가이드 레일(266a~266d)을 따라 안정적으로 이동할 수 있게 된다.Accordingly, the first to fourth moving blocks 263a to 263d, which move along the longitudinal direction of the first to fourth ball screws 262a to 262d by the rotation of the first to fourth ball screws 262a to 262d, The first to fourth guide rails 266a to 266d can be stably moved along the first to fourth guide rails 266a to 266d.

전술한 바와 같이, 제1 내지 제4 이동블록(263a~263d)은 제1 내지 제4 구동모터(261a~261d)의 동작에 의해 이동한다. 하지만, 제1 내지 제4 교차블록(264a~264d)은 제1 내지 제4 이동블록(263a~263d)과는 달리, 제1 내지 제4 이동블록(263a~263d)상에서 자유 이동된다.As described above, the first to fourth moving blocks 263a to 263d are moved by the operation of the first to fourth driving motors 261a to 261d. However, unlike the first to fourth moving blocks 263a to 263d, the first to fourth intersecting blocks 264a to 264d are freely moved on the first to fourth moving blocks 263a to 263d.

이를 위해, 도 6 및 도 7에 도시한 바와 같이, 제1 이동블록(263a)의 상면으로부터 상방으로 돌출되고, 내부에 관통홀(268a)이 형성되어 있는 복수의 돌출부(269a)와, 관통홀(268a)을 통과하도록 돌출부(269a)에 이동 가능하게 결합되고, 적어도 일부분이 제1 교차블록(264a)에 고정되는 이동축(270)이 더 마련된다.6 and 7, a plurality of protrusions 269a protruding upward from the upper surface of the first moving block 263a and having a through hole 268a formed therein, Is further movably coupled to the projection 269a to pass through the first intersection block 268a and is further provided with a movement axis 270 at least a portion of which is fixed to the first intersection block 264a.

이러한 구조를 통해서, 제1 교차블록(264a)은 제1 이동블록(263a)의 상면에서 이동축(270)의 길이 방향을 따라 자유 이동할 수 있다.Through this structure, the first intersection block 264a can freely move along the longitudinal direction of the moving shaft 270 from the upper surface of the first moving block 263a.

도 6 및 도 7에 도시한 바와 같이, 돌출부(269a) 및 이동축(270)의 구성은 제1 스테이지 정렬부(260a) 외에도 제2 내지 제4 스테이지 정렬부(260b~260d)에 각각 마련될 수 있으나, 편의를 위해 제2 내지 제4 스테이지 정렬부(260b~260d) 부분들에 대해서는 상세한 설명을 생략하기로 한다.6 and 7, the projections 269a and the moving shafts 270 are provided in the second to fourth stage alignment units 260b to 260d, respectively, in addition to the first stage alignment unit 260a The detailed description of the second to fourth stage arranging units 260b to 260d will be omitted for the sake of convenience.

제1 내지 제4 스테이지 정렬부(260a~260d)를 스테이지 지지프레임(231)의 네 모서리 영역에 사각 구도로 배치함으로써 스테이지(210)는 보다 안정적으로 지지될 수 있다.The stage 210 can be more stably supported by arranging the first to fourth stage alignment portions 260a to 260d in a rectangular shape in the four corner regions of the stage support frame 231. [

하지만, 디스펜서(310)에 대한 마스터(M) 또는 기판(G)의 정렬작업을 위해 스테이지(210)는 필요에 따라 X축, Y축 및 θ축 방향으로 이동되어야 하므로 제1 내지 제4 스테이지 정렬부(260a~260d)들 각각의 배열 방향 역시 중요한 요소로 작용한다.However, since the stage 210 must be moved in the X-axis, Y-axis, and? -Axis directions as needed for the alignment operation of the master M or the substrate G with respect to the dispenser 310, The arrangement direction of each of the portions 260a to 260d also functions as an important element.

본 실시 예에서는, 스테이지(210)를 X축, Y축 및 θ축 방향으로 이동시킬 수 있도록, 제1 내지 제4 스테이지 정렬부(260a~260d)에 각각 형성된 제1 내지 제4 볼 스크류(262a~262d)는 스테이지 지지프레임(231)의 상면에서 대각 방향을 따라 배치된 것들끼리 실질적으로 동일한 방향으로 배치하되, 대각 방향을 따라 배치된 제1 내지 제4 스테이지 정렬부(260a~260d)에 마련된 제1 내지 제4 구동모터(261a~261d)는 서로 반대 방향에 위치하도록 하고 있다.In this embodiment, first to fourth ball screws 262a (262a, 262b) formed in the first to fourth stage arranging parts 260a to 260d, respectively, so as to move the stage 210 in the X- 262d are arranged in substantially the same direction in the upper surface of the stage support frame 231 and arranged along the diagonal direction, and are arranged in the first through fourth stage arranging parts 260a through 260d arranged along the diagonal direction The first to fourth driving motors 261a to 261d are positioned in opposite directions to each other.

이러한 구조적인 특징으로 인해 스테이지(210)는 X축, Y축 및 θ축 방향(도 8 내지 도 10 참조)으로 용이하게 이동될 수 있고, 이로 인해 디스펜서(310)에 대한 정렬작업을 보다 효율적으로 수행할 수 있게 된다.This structural feature allows the stage 210 to be easily moved in the X-axis, Y-axis, and the &thetas; axis directions (see FIGS. 8 to 10), thereby making the alignment operation for the dispenser 310 more efficient .

이하에서, 정렬 비젼부(330)에 의해 촬영된 마스터(M)의 임프린트 패턴 원형(M1) 또는 기판(G) 상의 주 얼라인 마크(P1) 및 보조 얼라인 마크(P2)를 기초로 디스펜서(310)에 대한 마스터(M) 또는 기판(G)의 정렬동작을 설명하면 다음과 같다.In the following, based on the imprint pattern circle M1 of the master M photographed by the alignment vision unit 330 or the main alignment mark P1 on the substrate G and the auxiliary alignment mark P2, 310, the alignment operation of the master M or the substrate G will be described as follows.

도 8에서 도시한 바와 같이, 스테이지(210)를 우측(X축) 방향으로 소정거리 이동시켜야 할 경우, 제어부는 제1 및 제3 구동모터(261a,261c)를 동작시켜 제1 및 제3 볼 스크류(262a,262c)를 일 방향으로 회전시킨다. 이때, 제2 및 제4 구동모터(261b,261d)는 동작되지 않는다.8, when the stage 210 is to be moved a predetermined distance in the right (X-axis) direction, the controller operates the first and third driving motors 261a and 261c to move the first and third balls The screws 262a and 262c are rotated in one direction. At this time, the second and fourth drive motors 261b and 261d are not operated.

따라서, 제1 및 제3 볼 스크류(262a,262c)에 결합된 제1 및 제3 이동블록(263a,263c)은 그 하부의 제1 내지 제3 가이드 레일(266a,266c)을 따라 도 8에서 도시한 바와 같이 우측(X축) 방향으로 이동된다.Therefore, the first and third moving blocks 263a and 263c coupled to the first and third ball screws 262a and 262c are moved along the first to third guide rails 266a and 266c under the first and third ball screws 262a and 262c, respectively, And is moved in the right (X-axis) direction as shown.

이때, 제1 및 제3 이동블록(263a,263c)과 대각 방향에 위치한 제2 및 제4 이동블록(263b,263d)은 고정되어 있지만, 제2 및 제4 이동블록(263b,263d)의 상부에 마련된 제2 및 제4 교차블록(264b,264d)은 제2 및 제4 이동블록(263b,263d) 상에서 우측으로 자유 이동하게 된다.At this time, although the first and third moving blocks 263a and 263c and the second and fourth moving blocks 263b and 263d located in the diagonal direction are fixed, the upper and the lower ends of the second and fourth moving blocks 263b and 263d The second and fourth intersection blocks 264b and 264d provided on the first and second movable blocks 263b and 263d move freely to the right.

이러한, 일련의 동작에 의해 스테이지(210)는 도 8에서 도시한 바와 같이 우측(X축)방향으로 이동된다.By such a series of operations, the stage 210 is moved in the right (X-axis) direction as shown in Fig.

또한, 도 9에서 도시한 바와 같이, 스테이지(210)를 상측(Y축) 방향으로 소정거리 이동시켜야 할 경우, 제어부는 제2 및 제4 구동모터(261b,261d)를 동작시켜 제2 및 제4 볼 스크류(262b,262d)를 일 방향으로 회전시킨다. 이때, 제1 및 제3 구동모터(261a,261c)는 동작되지 않는다.9, when it is necessary to move the stage 210 a predetermined distance in the upward direction (Y axis), the control unit operates the second and fourth drive motors 261b and 261d, 4 ball screws 262b and 262d in one direction. At this time, the first and third drive motors 261a and 261c are not operated.

따라서, 제2 및 제4 볼 스크류(262b,262d)에 결합된 제2 및 제4 이동블록(263b,263d)은 그 하부의 제2 내지 제4 가이드 레일(266b,266d)을 따라 도 9에서 도시한 바와 같이 상측(Y축) 방향으로 이동된다.Therefore, the second and fourth moving blocks 263b and 263d coupled to the second and fourth ball screws 262b and 262d are moved along the second to fourth guide rails 266b and 266d at the lower portion thereof, (Y axis) direction as shown in the figure.

이때, 제2 및 제4 이동블록(263b,263d)과 대각 방향에 위치한 제1 및 제3 이동블록(263a,263c)은 고정되어 있지만, 제1 및 제3 이동블록(263a,263c)의 상부에 마련된 제1 및 제3 교차블록(264a,264c)은 제1 및 제3 이동블록(263a,263c) 상에서 상측으로 자유 이동하게 된다.At this time, the first and third moving blocks 263a and 263c positioned in the diagonal direction from the second and fourth moving blocks 263b and 263d are fixed, but the upper and lower ends of the first and third moving blocks 263a and 263c The first and third intersection blocks 264a and 264c provided on the first and third moving blocks 263a and 263c move freely upward.

이러한, 일련의 동작에 의해 스테이지(210)는 도 9에서 도시한 바와 같이 상측(Y축) 방향으로 이동된다.By such a series of operations, the stage 210 is moved in the upward direction (Y axis) as shown in Fig.

또한, 도 10에서 도시한 바와 같이, 스테이지(210)를 시계 방향으로 소정 각도 회전(θ축)시켜야 할 경우, 제어부는 제1 내지 제4 구동모터(261a~261d) 전부를 동작시킨다.10, when the stage 210 is rotated clockwise by a predetermined angle (theta axis), the control section operates all of the first to fourth drive motors 261a to 261d.

제1 내지 제4 구동모터(261a~261d)가 동작되면, 일 방향으로 회전하는 제1 내지 제4 볼 스크류(262a~262d)의 동작에 의해 제1 내지 제4 이동블록(263a~263d)이 이동하게 되고, 제1 내지 제4 교차블록(263a~263d)이 제1 내지 제4 이동블록(263a~263d) 상에서 해당 방향으로 자유 이동함으로써 이들의 상대적인 이동에 따라 도 10에서 도시한 바와 같이 스테이지(210)가 시계 방향으로 소정 각도 회전할 수 있게 된다. 이처럼, 도 10에서와 같은 스테이지(210) 회전동작은 도 8 및 도 9의 동작을 적절하게 조합함으로써 구현될 수 있다.When the first to fourth driving motors 261a to 261d are operated, the first to fourth moving blocks 263a to 263d are driven by the first to fourth ball screws 262a to 262d rotating in one direction And the first to fourth intersecting blocks 263a to 263d are freely moved in the corresponding directions on the first to fourth moving blocks 263a to 263d so that as shown in Figure 10, So that the rotating shaft 210 can be rotated clockwise by a predetermined angle. As such, the rotation operation of the stage 210 as in Fig. 10 can be realized by appropriately combining the operations of Figs. 8 and 9. Fig.

상기한 바와 같이, 디스펜서(310)에 대해 스테이지(210)를 상대 이동시켜 디스펜서(310)와 마스터(M) 또는 기판(G)을 정렬하고 마스터(M)의 임프린트 패턴 원형(M1) 또는 기판(G)에 임프린트 패턴용 레진을 도포한 후, 마스터(M) 또는 기판(G)은 스테이지 유닛(200)에 의해 웹 공급유닛(400) 방향으로 이동된다.As described above, the stage 210 is moved relative to the dispenser 310 to align the dispenser 310 with the master M or the substrate G, and the imprint pattern circle M1 of the master M or the substrate The master M or the substrate G is moved in the direction of the web supply unit 400 by the stage unit 200 after the application of the resin for the imprint pattern to the substrate W.

본 실시 예에서는, 마스터(M) 또는 기판(G)이 안착된 스테이지 유닛(200)이 웹(F)의 하부를 통과하는 동안, 웹 가압유닛(500)으로 웹(F)에 임프린트 패턴을 형성하거나 기판(G)의 표면에 패턴을 형성하도록 한다.In this embodiment, the web pressing unit 500 forms an imprint pattern on the web F while the stage unit 200 on which the master M or the substrate G is placed passes under the web F Or to form a pattern on the surface of the substrate (G).

이에, 웹(F)을 공급하는 웹 공급유닛(400)에 대해 먼저 살펴본 후, 웹 가압유닛(500)에 대해 설명하기로 한다.The web supply unit 400 for supplying the web F will be described first, and then the web pressing unit 500 will be described.

웹 공급유닛(400)은, 웹(F)을 임프린트 공정이 진행되는 작업라인으로 공급하거나 반대로 회수하는 역할을 한다.The web supply unit 400 serves to supply the web F to the operation line on which the imprinting process is carried out or to collect the web F in the opposite direction.

도 1을 참조하면, 웹 공급유닛(400)은 스테이지 유닛(200)에 의해 이동된 마스터(M) 또는 기판(G)의 상부에 웹(F)이 배치되도록 웹(F)을 공급 및 회수하는 롤투롤 모듈(410)을 포함한다.1, the web supply unit 400 is configured to supply and recover the web F such that the web F is disposed on the master M or the substrate G moved by the stage unit 200 Roll-to-roll module 410.

본 실시 예에서 롤투롤 모듈(410)은 마스터(M) 또는 기판(G)을 이동시키는 스테이지 유닛(200)의 상부에 배치되어, 웹(F)이 마스터(M) 또는 기판(G)의 상부에 위치되게 한다.In this embodiment, the roll-to-roll module 410 is disposed above the stage unit 200 for moving the master M or the substrate G so that the web F is conveyed to the upper side of the master M or the substrate G Lt; / RTI >

롤투롤 모듈(410)은, 웹(F)이 감겨지되 감겨진 웹(F)을 언와인딩(unwinding)하여 스테이지 유닛(200)에 의해 이동된 마스터(M) 또는 기판(G)의 상부로 공급하는 언와인더(unwinder,411)와, 언와인더(411)와 이격되게 배치되되 언와인더(411)와 연동되어 웹(F)을 리와인딩(rewinding) 또는 언와인딩하는 리와인더(rewinder,413)와, 언와인더(411)와 리와인더(413) 사이에 배치되어 웹(F)을 안내하는 적어도 하나 이상의 아이들 롤부(idle roll,415)와, 언와인더(411)와 리와인터 사이에 배치되어 웹(F)에 동력을 전달하여 웹(F)을 이송시키는 적어도 하나 이상의 드리븐 롤부(driven roll,430)와, 언와인더(411)와 리와인더(413) 사이에 배치되어 상대 이동함에 따라 언와인더(411)와 리와인더(413) 사이에서 웹(F)의 장력을 일정하게 유지하는 적어도 하나 이상의 장력조절 롤부(415)를 포함한다.The roll-to-roll module 410 unwinds the web F wound around the web F and feeds it to the upper portion of the master M or the substrate G moved by the stage unit 200 And a rewinder 413 which is disposed so as to be spaced apart from the unwinder 411 and which is interlocked with the unwinder 411 to rewind or unwind the web F, At least one idle roll 415 disposed between the unwinder 411 and the rewinder 413 for guiding the web F and at least one idle roll 415 disposed between the unwinder 411 and the rewinder 413, At least one driven roll 430 which is disposed and transfers power to the web F to convey the web F and a driven roll 430 which is disposed between the unwinder 411 and the rewinder 413, And at least one tension adjusting roll 415 for keeping the tension of the web F constant between the unwinder 411 and the rewinder 413. [

언와인더(411)는 웹(F)이 감겨지되, 웹(F)을 임프린트 공정이 진행되는 작업 라인으로 공급하기 위해 언와인딩 하거나 반대로 리와인딩하는 역할을 한다.The unwinder 411 winds the web F and unwinds or reversely winds the web F in order to supply the web F to the operation line on which the imprinting process is performed.

언와인더(411)는 스테이지 유닛(200)이 이동되는 작업라인의 상부에 배치되며, 웹(F)을 언와인딩 및 리와인딩하는 언와인딩 롤(미도시)과, 언와인딩 롤을 회전시키는 언와인딩 회전축(미도시)을 포함한다.The unwinder 411 is disposed at an upper portion of the operation line on which the stage unit 200 is moved and includes an unwinding roll (not shown) for unwinding and rewinding the web F, And a winding rotating shaft (not shown).

그리고, 리와인더(413)는 언와인더(411)에서 언와인딩된 웹(F)을 리와인딩하거나, 언와인더(411)에서 리와인딩되는 웹(F)을 언와인딩하는 역할을 한다.The rewinder 413 rewinds the unwound web F at the unwinder 411 or unwinds the web F rewound at the unwinder 411. [

리와인더(413)는 스테이지 유닛(200)이 이동되는 작업라인의 상부에 배치되며, 웹(F)을 리와인딩 및 언와인딩하는 리와인딩 롤(미도시)과, 리와인딩 롤을 회전시키는 리와인딩 회전축(미도시)을 포함한다.The rewinder 413 is disposed at an upper portion of the operation line on which the stage unit 200 is moved and includes a rewinding roll (not shown) for rewinding and unwinding the web F, (Not shown).

그리고, 언와인더(411)와 리와인더(413) 사이에는 적어도 하나 이상의 아이들 롤부(415)가 마련되며, 아이들 롤부(415)는 웹(F)의 이송경로를 안내하는 역할을 한다.At least one idle roll portion 415 is provided between the unwinder 411 and the rewinder 413 and the idle roll portion 415 serves to guide the conveyance path of the web F. [

도 1에서 도시한 바와 같이, 아이들 롤부(415)는 웹(F)의 이송경로에 복수 개 배치되어 웹(F)의 이송을 안내하며, 웹(F)의 상면에 형성된 임프린트 패턴이 오염 및 훼손되지 않도록 웹(F)의 하면을 지지한다.As shown in Fig. 1, a plurality of idle rolls 415 are arranged in a conveying path of the web F to guide the conveyance of the web F, and the imprint patterns formed on the upper surface of the web F are contaminated and damaged The lower surface of the web F is supported.

그리고, 언와인더(411)와 리와인더(413) 사이에서 이송되는 웹(F)이 쳐지는 것을 방지하기 위해 장력조절 롤부(415)가 적어도 하나 이상 마련된다.At least one tension adjusting roll 415 is provided to prevent the web F fed between the unwinder 411 and the rewinder 413 from striking.

특히, 본 실시 예에서 장력조절 롤부(415)는 웹(F)에 접촉되어 웹(F)의 장력을 측정한 후, 웹(F)이 일정한 장력을 유지되도록 한다.Particularly, in this embodiment, the tension adjusting roll 415 contacts the web F to measure the tension of the web F, and then maintains the tension of the web F constant.

도 1에서 도시한 바와 같이, 장력조절 롤부(415)는 언와인더(411)와 리와인더(413) 사이에서 상하로 상대 이동 가능하게 마련되어 웹(F)의 장력을 일정하게 유지하도록 한다. 1, the tension adjusting roll 415 is provided so as to be movable up and down between the unwinder 411 and the rewinder 413 to maintain the tension of the web F constant.

즉, 웹(F)에 작용하는 장력이 작아 웹(F)이 쳐지는 경우에는 장력조절 롤부(415)를 하강시키고, 웹(F)에 작용하는 장력이 큰 경우에는 장력조절 롤부(415)를 상승시켜 웹(F)에 작용하는 장력을 감소시킨다.That is, when the tension applied to the web F is small and the web F is struck, the tension adjusting roll 415 is lowered. When the tension acting on the web F is large, the tension adjusting roll 415 Thereby reducing the tension acting on the web F.

한편, 언와인더(411)에서 언와인딩된 웹(F)이 정해진 이송경로를 벗어나거나 이송경로를 벗어나지 않더라도 비스듬히 경사지게 이송되는 사행피딩 현상이 발생하거나, 웹(F)이 이송되는 동안 복수의 아이들 롤부(415) 등에서 슬립(slip)현상이 발생하는 경우에, 인쇄 품질에 악영향을 미칠 수 있다.On the other hand, in the unwinder 411, the unfolded web F is shifted out of a predetermined transport path or does not deviate from the transport path, In the case where a slip phenomenon occurs in the roll section 415 or the like, the printing quality may be adversely affected.

따라서, 본 실시 예에서는 웹(F)의 사행피딩 및 슬립현상을 방지하기 위해 적어도 하나 이상의 드리븐 롤부(430)가 마련된다.Therefore, in this embodiment, at least one or more driven rollers 430 are provided to prevent the web F from slipping and slipping.

드리븐 롤부(430)는 언와인더(411)와 리와인더(413) 사이에 배치되어 웹(F)에 동력을 전달하며 외주면에 웹(F)을 밀착하여 이송시킨다.The driven roll portion 430 is disposed between the unwinder 411 and the rewinder 413 to transmit power to the web F and closely feed the web F to the outer circumferential surface.

드리븐 롤부(430)는 웹(F)이 외주면에 흡착되어 이송되도록 외주면에 복수의 흡착공(433)이 형성된 진공흡입형 피딩롤(430)로 구성된다.The driven roll part 430 is composed of a vacuum suction type feeding roll 430 in which a plurality of suction holes 433 are formed on the outer circumferential surface so that the web F is sucked and conveyed on the outer circumferential surface.

도 11을 참조하면, 진공흡입형 피딩롤(430)은, 이너 롤(inner roller,431)과, 이너 롤(431)이 내부에 고정되되, 이너 롤(431)과 함께 회전되며 웹(F)이 밀착되도록 외주면에 복수의 흡착공(433)이 형성된 아우터 롤(outer roll,432)과, 이너 롤(431)과 아우터 롤(432) 사이에 마련되되, 복수의 흡착공(433)과 연통되어 웹(F)을 아우터 롤(432)의 외주면에 진공흡착시키는 흡입챔버(434)와, 이너 롤(431)과 아우터 롤(432) 사이에 마련되어 흡입챔버(434)를 구획하는 복수의 격벽(435)을 포함한다.11, the vacuum suction type feeding roll 430 includes an inner roller 431 and an inner roll 431 which are internally fixed and rotated together with the inner roll 431, An outer roll 432 having a plurality of suction holes 433 formed on its outer circumferential surface so as to be closely contacted with the inner roll 431 and an outer roll 432 and being communicated with the plurality of suction holes 433 A suction chamber 434 for vacuum adsorbing the web F to the outer peripheral surface of the outer roll 432 and a plurality of partition walls 435 provided between the inner roll 431 and the outer roll 432 for partitioning the suction chamber 434 ).

흡입챔버(434)는 외부의 진공펌프(미도시)에 연결되며, 흡입챔버(434) 내부의 공기를 흡입하게 되면 흡입챔버(434) 내부가 진공상태가 되고, 공기가 외부로 흡입됨에 의해 아우터 롤(432)의 외주면에 형성된 복수의 흡착공(433)을 통해서 흡입챔버(434)내로 공기가 유입된다. 따라서, 공기를 흡입하는 흡착공(433)에 의해 아우터 롤(432)의 외주면에 접촉되는 웹(F)이 아우터 롤(432)의 외주면에 흡착되고 아우터 롤(432)의 회전에 의해 이송된다.The suction chamber 434 is connected to an external vacuum pump (not shown). When the air in the suction chamber 434 is sucked in, the suction chamber 434 is evacuated. As the air is sucked to the outside, Air is introduced into the suction chamber 434 through a plurality of suction holes 433 formed on the outer peripheral surface of the roll 432. The web F that is in contact with the outer circumferential surface of the outer roll 432 is attracted to the outer circumferential surface of the outer roll 432 by the suction hole 433 for sucking air and is transported by the rotation of the outer roll 432. [

이처럼, 진공흡입형 피딩롤(430)을 이용하여 웹(F)을 이송하는 경우, 웹(F)의 사행피딩 현상 및 슬립 현상을 방지할 수 있으므로, 웹(F)의 정밀이송이 가능하다.In this way, when feeding the web F using the vacuum suction type feeding roll 430, the feeding of the web F and the slip phenomenon can be prevented, so that the web F can be precisely conveyed.

한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄장치는, 마스터(M) 또는 기판(G)이 안착된 스테이지 유닛(200)이 웹(F)의 하부를 통과하는 동안, 웹 가압유닛(500)은 마스터(M)에 웹(F)을 가압하여 접촉시켜 웹(F)에 임프린트 패턴을 형성하거나, 기판(G)에 임프린트 패턴이 형성된 웹(F)을 가압하여 접촉시켜 기판(G)에 패턴을 형성한다.Meanwhile, the printing apparatus according to an embodiment of the present invention may be configured such that the web pressing unit 500 is rotated while the stage unit 200 on which the master M or the substrate G is placed passes under the web F The web F is pressed against the master M to form an imprint pattern on the web F or the web F on which the imprinted pattern is formed is pressed against the substrate G to contact the substrate G, .

즉, 웹 가압유닛(500)은 웹(F)에 임프린트 패턴을 형성하고 또한 기판(G)의 표면에 패턴을 형성하는 역할을 한다.That is, the web pressing unit 500 forms an imprint pattern on the web F and forms a pattern on the surface of the substrate G. [

도 1을 참조하면, 웹 가압유닛(500)은, 웹(F)의 상부에 마련되되 웹(F)의 하부로 이동되는 마스터(M) 또는 기판(G)에 웹(F)을 가압하여 접촉시키는 웹 가압부(510)와, 웹 가압부(510)에 연결되되 웹(F)이 마스터(M) 또는 기판(G)에 접촉 및 접촉해제되도록 웹 가압부(510)를 상하방향으로 이동시키는 가압부 구동부(미도시)를 포함한다.1, the web pressurizing unit 500 presses the web F onto the master M or the substrate G which is provided on the upper side of the web F and moves to the lower portion of the web F, And the web pressing unit 510 is moved up and down so that the web F is in contact with and released from the master M or the substrate G And a pressing part driving part (not shown).

웹 가압부(510)는 임프린트 패턴 원형(M1)이 형성된 마스터(M)에 웹(F)을 가압하여 접촉시켜 웹(F)에 임프린트 패턴을 형성하거나, 기판(G)에 임프린트 패턴이 형성된 웹(F)을 가압하여 접촉시켜 기판(G)의 표면에 패턴을 형성하는 역할을 한다.The web pressing unit 510 forms an imprint pattern on the web F by pressing the web F against the master M having the imprint pattern prototype M1 formed thereon to form an imprint pattern on the web F, (F) to contact with each other to form a pattern on the surface of the substrate (G).

웹 가압부(510)는, 웹(F)의 상부에 상하방향으로 이동가능하게 마련되되 웹(F)의 하부로 이동되는 마스터(M) 또는 기판(G)에 웹(F)을 연속적으로 가압하여 접촉 및 접촉해제되게 하는 가압 롤러(511)와, 가압 롤러(511)를 회전시키는 가압 롤러 회전축(미도시)을 포함한다.The web pressing unit 510 continuously presses the web F on the master M or the substrate G which is provided on the top of the web F so as to be movable up and down and moves to the lower portion of the web F A pressure roller 511 for causing the pressure roller 511 to contact and release the contact, and a pressure roller rotation shaft (not shown) for rotating the pressure roller 511.

본 실시 예에서 가압 롤러(511)는 웹(F)의 너비 방향으로 배치된다.In this embodiment, the pressure roller 511 is disposed in the width direction of the web F.

그리고, 가압부 구동부는 웹 가압부(510), 특히 가압 롤러(511)를 상하 방향으로 선형이동시켜 가압 롤러(511)가 웹(F)이 마스터(M) 또는 기판(G)에 접촉 및 접촉 해제되도록 한다.The pressurizing portion driving portion linearly moves the web pressing portion 510 and particularly the pressing roller 511 in the vertical direction so that the pressing roller 511 contacts the web M with the web F or the substrate G, To be released.

도시되진 않았으나 가압부 구동부는 가압 롤러(511)를 상하방향으로 선형이동시킬 수 있는 선형 구동장치로 구성되며, 선형 구동장치는 리니어 모터를 포함할 수 있다.Although not shown, the pressurizing portion driving portion is constituted by a linear driving device capable of linearly moving the pressing roller 511 in the vertical direction, and the linear driving device may include a linear motor.

상기한 가압부 구동부에 의해 가압 롤러(511)는 하방으로 이동되어 웹(F)을 마스터(M)에 도포된 임프린트 패턴용 레진에 가압 접촉시켜 웹(F)에 임프린트 패턴을 형성하거나, 웹(F)을 기판(G)에 도포된 임프린트 패턴용 레진에 가압 접촉시켜 기판(G)의 표면에 패턴을 형성한다.The pressing roller 511 is moved downward by the pressing unit driving unit to form an imprint pattern on the web F by pressing the web F against the resin for imprinting pattern coated on the master M, F are pressed against the resin for the imprint pattern coated on the substrate G to form a pattern on the surface of the substrate G. [

그리고, 웹(F)에 임프린트 패턴이 형성되거나 기판(G)의 표면에 패턴이 형성된 후, 가압부 구동부에 의해 가압 롤러(511)는 상방으로 이동되어 복귀된다.After the imprint pattern is formed on the web F or a pattern is formed on the surface of the substrate G, the pressing roller 511 is moved upward by the pressing portion driving portion and returned.

한편, 기판(G)에 웹(F)을 가압하여 패턴을 형성함에 있어서, 기판(G)과 웹(F)을 정렬하여야 한다.On the other hand, in forming the pattern by pressing the web F on the substrate G, the substrate G and the web F must be aligned.

이에 도 1에서 도시한 바와 같이 본 발명의 일 실시 예에 따른 인쇄장치는, 웹 가압유닛(500) 및 웹 공급유닛(400)에 인접하게, 특히 스테이지 유닛(200)의 이동 방향에 대한 가압 롤러(511)의 전방에 마련된 웹 비젼유닛(600)을 더 포함한다.1, a printing apparatus according to an embodiment of the present invention includes a web pressing unit 500 and a web feeding unit 400. The web pressing unit 500 is disposed adjacent to the web pressing unit 500 and the web feeding unit 400, And a web vision unit 600 provided in front of the web vision unit 511.

참고로, 웹(F)의 임프린트 패턴은 마스크의 임프린트 패턴 원형(M1)이 그대로 투영되므로, 웹(F)의 임프린트 패턴에는 도 3에서 도시한 마스터(M)의 임프린트 패턴 원형(M1)에 형성된 주 얼라인 마크(P1) 및 보조 얼라인 마크(P2)에 대응되는 복수의 얼라인 마크가 형성된다.For reference, the imprint pattern M1 of the mask is projected as it is, so that the imprint pattern of the web F is formed in the imprint pattern M1 of the master M shown in Fig. A plurality of alignment marks corresponding to the primary alignment marks P1 and the secondary alignment marks P2 are formed.

예를 들어, 도 13에서 도시한 바와 같이, 웹(F)의 임프린트 패턴에는 주 얼라인 마크(P1) 및 보조 얼라인 마크(P2)가 형성된다.For example, as shown in Fig. 13, the main alignment mark P1 and the auxiliary alignment mark P2 are formed in the imprint pattern of the web F.

따라서, 웹 비젼유닛(600)은 웹(F)의 임프린트 패턴에 형성된 주 얼라인 마크(P1) 및 보조 얼라인 마크(P2)를 촬영한다.Therefore, the web vision unit 600 photographs the primary alignment marks P1 and secondary alignment marks P2 formed in the imprint pattern of the web F.

여기서, 주 얼라인 마크(P1)와 보조 얼라인 마크(P2)의 간격(D)은 가압 롤러(511)가 90도 회전되는 경우에 대응되는 원주길이로 할 수 있다.Here, the interval D between the primary alignment marks P1 and the secondary alignment marks P2 can be a circumferential length corresponding to the case where the pressure roller 511 is rotated 90 degrees.

웹 비젼유닛(600)을 이용한 기판(G)과 웹(F)의 정렬작업을 살펴보면 다음과 같다.The alignment operation between the substrate G and the web F using the web vision unit 600 will now be described.

웹 비젼유닛(600)을 이용하여 촬영한 웹(F)에 형성된 주 얼라인 마크(P1)를 기초로 웹(F)과 스테이지 유닛(200)에 의해 이송되는 기판(G)과의 거리를 연산한 후, 스테이지 유닛(200)을 이동시켜 웹(F)의 하부로 기판(G)을 이동시킨다. 이때, 스테이지 유닛(200)의 이동거리는 웹(F)에 형성된 주 얼라인 마크(P1)와 보조 얼라인 마크(P2)의 간격에 해당되는 거리(D)에 해당된다.The distance between the web F and the substrate G transported by the stage unit 200 is calculated based on the main alignment mark P1 formed on the web F photographed using the web vision unit 600 The stage unit 200 is moved to move the substrate G to the lower portion of the web F. At this time, the movement distance of the stage unit 200 corresponds to the distance D corresponding to the interval between the primary alignment marks P1 and secondary alignment marks P2 formed on the web F.

그리고, 도 14에서 도시한 바와 같이, 가압부 구동부를 이용하여 가압 롤러(511)를 하강시켜 웹(F)이 기판(G)의 상면에 인접되게 한다. 이때, 가압 롤러(511)를 회전시켜 웹(F) 상의 주 얼라인 마크(P1)가 기판(G) 상의 주 얼라인 마크(P1)에 대향되는 위치가 되도록 가압 롤러(511)를 회전시켜 웹(F)이 가압 롤러(511)의 외주면을 따라 이송되도록 한다.14, the pressing roller 511 is lowered by using the pressing portion driving portion so that the web F is adjacent to the upper surface of the substrate G. [ At this time, the pressure roller 511 is rotated to rotate the pressure roller 511 so that the main alignment mark P1 on the web F is positioned opposite to the main alignment marks P1 on the substrate G, (F) is conveyed along the outer circumferential surface of the pressure roller 511.

그리고, 웹 비젼유닛(600)을 이용하여 웹(F)에 형성된 보조 얼라인 마크(P2)를 촬영하고 이를 기초로 웹(F)의 이송거리가 기판(G)의 이동거리와 일치되는 지를 판단한다.The auxiliary vision mark P2 formed on the web F is photographed using the web vision unit 600 and it is determined whether or not the travel distance of the web F coincides with the moving distance of the substrate G do.

웹(F)의 이송거리와 기판(G)의 이동거리가 일치되지 않는 경우에, 전술한 스테이지 정렬모듈(250)을 이용하여 웹(F)에 대해 스테이지(210)를 상대 이동시켜 웹(F)과 기판(G)을 정렬한다.The stage 210 is relatively moved with respect to the web F by using the stage alignment module 250 described above and the web F is moved relative to the web F when the moving distance of the web F does not match the moving distance of the substrate G. [ ) And the substrate (G).

스테이지 정렬모듈(250)을 이용한 웹(F)과 기판(G)의 정렬은, 전술한 바와 같이 디스펜서(310)에 대해 스테이지(210)를 상대 이동시켜 디스펜서(310)와 마스터(M) 또는 기판(G)을 정렬하는 방법과 동일하므로 이에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.Alignment of the web F and the substrate G using the stage alignment module 250 is performed by moving the stage 210 relative to the dispenser 310 relative to the dispenser 310 and the master M or the substrate G, (G), and therefore, a detailed description thereof will be omitted.

한편, 도 1에서 도시한 바와 같이, 롤투롤 모듈(410)은, 가압 롤러(511)가 마스터(M) 또는 기판(G)에 웹(F)을 접촉 가압한 상태에서 스테이지 유닛(200)이 이동되는 경우에, 웹(F)이 마스터(M) 또는 기판(G)과 접촉상태를 유지하도록 가압 롤러(511)에 평행되게 배치된 보조 가압 롤러(419)를 더 포함한다.1, the roll-to-roll module 410 is configured such that when the pressure roller 511 presses the web F against the master M or the substrate G, Further comprises an auxiliary pressure roller 419 disposed parallel to the pressure roller 511 so that the web F remains in contact with the master M or the substrate G when the web F is moved.

보조 가압 롤러(419)는 가압 롤러(511)에 연동되어 상하방향으로 선형이동되도록 마련될 수 있다.The auxiliary pressure roller 419 may be provided to move linearly in the up-and-down direction in association with the pressure roller 511. [

또한, 보조 가압 롤러(419)는 웹(F)에 임프린트 패턴이 형성된 경우에 웹(F)에 형성된 임프린트 패턴과 마스터(M)에 형성된 임프린트 패턴 원형(M1)을 상호 박리하는 역할을 하며, 또한 기판(G)의 표면에 패턴이 형성된 경우에 기판(G)과 웹(F)에 형성된 임프린트 패턴을 상호 박리하는 역할을 한다.The auxiliary pressure roller 419 serves to peel off the imprint pattern formed on the web F and the imprint pattern prototype M1 formed on the master M when the imprint pattern is formed on the web F, And separates the imprint patterns formed on the substrate (G) and the web (F) when the pattern is formed on the surface of the substrate (G).

따라서, 마스터(M)의 임프린트 패턴 원형(M1)의 길이 또는 웹(F)에 형성된 임프린트 패턴의 길이만큼 보조 가압 롤러(419)는 가압 롤러(511)에서 이격된 위치에 배치된다.The auxiliary pressure roller 419 is disposed at a position spaced apart from the pressure roller 511 by the length of the imprint pattern M1 of the master M or the length of the imprint pattern formed on the web F. [

그리고, 도 1에서 도시한 바와 같이, 웹(F)에 형성된 임프린트 패턴 또는 기판(G)의 표면에 형성된 패턴을 이루는 레진을 경화시키는 레진 경화유닛(700)이 가압 롤러(511)의 후단에 마련된다. 본 실시 예에서 레진 경화유닛(700)은 UV 램프를 포함한다.1, a resin curing unit 700 for curing a resin constituting an imprint pattern formed on the web F or a pattern formed on the surface of the substrate G is provided at the rear end of the pressure roller 511 do. In this embodiment, the resin curing unit 700 includes a UV lamp.

특히, 레진 경화유닛(700)인 UV 램프가 가압 롤러(511)와 보조 가압 롤러(419) 사이에 배치되어, 웹(F)에 형성된 임프린트 패턴을 이루는 레진을 경화시킨 후 보조 가압 롤러(419)에서 웹(F)과 마스터(M)가 상호 박리되거나, 기판(G)의 표면에 형성된 패턴을 이루는 레진을 경화시킨 후 보조 가압 롤러(419)에서 기판(G)과 웹(F)이 상호 박리된다.Particularly, a UV lamp, which is a resin hardening unit 700, is disposed between the pressure roller 511 and the auxiliary pressure roller 419 to harden the resin constituting the imprint pattern formed on the web F, The web F and the master M are separated from each other or the resin constituting the pattern formed on the surface of the substrate G is cured and then the substrate G and the web F are separated from each other by the auxiliary pressing roller 419, do.

그리고, 상기한 웹(F)에 임프린트 패턴을 형성하는 공정 및 기판(G)의 표면에 패턴을 형성하는 공정을 완료한 경우, 마스터(M) 또는 기판(G)을 스테이지 유닛(200)에서 언로딩한다. When the step of forming the imprint pattern on the web F and the step of forming the pattern on the surface of the substrate G are completed, the master M or the substrate G is unconfined from the stage unit 200 Loading.

도 1을 참조하면, 언로딩유닛(800)에 웹(F)에 임프린트 패턴을 형성한 마스터(M) 또는 웹(F)에 형성된 임프린트 패턴에 가압 접촉되어 표면에 패턴이 형성된 기판(G)이 언로딩된다.1, a substrate G on which a pattern is formed on an imprint pattern formed on a master (M) or web (F) having an imprint pattern formed on a web (F) Unloaded.

이때, 웹(F)에 임프린트 패턴을 형성한 마스터(M) 또는 표면에 패턴이 형성된 기판(G)은 스테이지 유닛(200)에 의해 언로딩유닛(800)으로 이동된 후, 별도의 로봇 등에 의해 언로딩유닛(800)으로 이송된다.At this time, the master (M) having the imprinted pattern formed on the web (F) or the substrate (G) having the pattern formed on the surface thereof is moved to the unloading unit (800) by the stage unit (200) Unloading unit 800 as shown in FIG.

상기와 같이 구성되는 본 발명의 일 실시 예에 따른 인쇄장치를 이용한 임프린트 공정을 설명하면 다음과 같다.The imprinting process using the printing apparatus according to an embodiment of the present invention will now be described.

본 발명의 일 실시 예에 따른 인쇄장치를 이용한 임프린트 공정은 웹(F)에 임프린트 패턴을 형성하는 공정과, 기판(G)에 패턴을 형성하는 공정으로 나눠진다.The imprint process using the printing apparatus according to the embodiment of the present invention is divided into a process of forming an imprint pattern on the web F and a process of forming a pattern on the substrate G. [

먼저, 웹(F)에 임프린트 패턴을 형성하는 공정을 살펴보면 다음과 같다.First, a process of forming an imprint pattern on the web F will be described.

로딩유닛(100)으로부터 임프린트 패턴 원형(M1)이 형성된 마스터(M)가 스테이지 유닛(200)에 안착된 후, 스테이지 유닛(200)은 웹 공급유닛(400) 방향으로 이동된다.The stage unit 200 is moved in the direction of the web feed unit 400 after the master M on which the imprint pattern circle M1 is formed from the loading unit 100 is placed on the stage unit 200. [

스테이지 유닛(200)이 웹 공급유닛(400) 방향으로 이동되는 과정에서, 마스터(M)의 임프린트 패턴 원형(M1)에 임프린트 패턴용 레진이 도포되는데, 마스터(M)의 임프린트 패턴 원형(M1)에 대한 임프린트 패턴용 레진의 도포는 도포유닛(300)에 의해 수행된다.The imprint pattern prototype M1 of the master M is coated with the resin for the imprint pattern in the course of the movement of the stage unit 200 toward the web supply unit 400. The imprint pattern prototype M1 of the master M, The application of the resin for the imprint pattern to the coating unit 300 is performed by the application unit 300.

임프린트 패턴용 레진이 도포된 마스터(M)는 웹(F)의 미리 정해진 영역의 하부로 이동되며, 웹(F)의 미리 정해진 영역은 웹 가압유닛(500)의 가압 롤러(511)에 의해 마스터(M) 측으로 가압되고 레진 경화유닛(700)에 의해 레진에 대한 경화가 진행되어 웹(F)에 임프린트 패턴이 형성된다.The master M coated with the resin for the imprint pattern is moved to a lower portion of the predetermined area of the web F and the predetermined area of the web F is moved by the pressure roller 511 of the web pressing unit 500 to the master (M) side and hardened with respect to the resin by the resin hardening unit (700) to form an imprint pattern on the web (F).

웹(F)에 대한 임프린트 패턴 형성은 웹(F)과 마스터(M)가 가압 롤러(511)에 의해 가압 접촉된 상태에서 스테이지 유닛(200)이 언로딩유닛(800) 방향으로 이동되면서 이뤄지며, 웹(F)에 대한 임프린트 패턴 형성이 완료된 경우 웹(F)과 마스터(M)가 상호 박리 또는 분리된다.The imprint pattern formation for the web F is performed while the stage unit 200 is moved in the direction of the unloading unit 800 in a state in which the web F and the master M are in pressure contact with the pressure roller 511, When the imprint pattern formation for the web F is completed, the web F and the master M are peeled or separated from each other.

만약, 웹(F)에 형성된 임프린트 패턴과 이격된 위치에 다른 새로운 임프린트 패턴을 연속적으로 형성하고자 하는 경우에 스테이지 유닛(200)을 도포유닛(300) 방향으로 이동시킨 후 전술한 동작을 반복하여 웹(F)의 새로운 표면에 새로운 임프린트 패턴을 형성할 수 있다.If the impression pattern formed on the web F is to be continuously formed with a new imprint pattern different from the imprint pattern formed on the web F, the stage unit 200 is moved in the direction of the coating unit 300, A new imprint pattern can be formed on the new surface of the substrate F.

그리고, 웹(F)에 임프린트 패턴을 형성한 마스터(M)는 스테이지 유닛(200)에 의해 언로딩유닛(800) 방향으로 이동된다.Then, the master (M) having the imprinted pattern formed on the web F is moved in the direction of the unloading unit 800 by the stage unit 200.

다음으로, 기판(G)의 표면에 패턴을 형성하는 공정을 살펴보면 다음과 같다.Next, a step of forming a pattern on the surface of the substrate G will be described.

로딩유닛(100)으로부터 표면에 패턴을 형성하고자 하는 기판(G)이 스테이지 유닛(200)에 안착된 후, 스테이지 유닛(200)은 웹 공급유닛(400) 방향으로 이동된다.After the substrate G for which a pattern is to be formed on the surface from the loading unit 100 is placed on the stage unit 200, the stage unit 200 is moved toward the web supply unit 400.

스테이지 유닛(200)이 웹 공급유닛(400) 방향으로 이동되는 과정에서, 기판(G)의 표면에 임프린트 패턴용 레진이 도포되는데, 기판(G)에 대한 임프린트 패턴용 레진의 도포는 도포유닛(300)에 의해 수행된다.The resin for the imprint pattern is applied to the surface of the substrate G in the process of moving the stage unit 200 toward the web supply unit 400. The application of the resin for the imprint pattern to the substrate G is performed by the application unit 300).

임프린트 패턴용 레진이 도포된 기판(G)은 임프린트 패턴이 형성된 웹(F)의 미리 정해진 영역의 하부로 이동되며, 웹(F)의 임프린트 패턴이 형성된 영역은 가압 롤러(511)에 기판(G) 측으로 가압되고, 레진 경화유닛(700)에 의해 레진에 대한 경화가 진행되어 기판(G)의 표면에 패턴이 형성된다.The substrate G coated with the resin for the imprint pattern is moved to a lower portion of a predetermined region of the web F on which the imprinted pattern is formed and the region where the imprinted pattern of the web F is formed is transferred to the pressing roller 511 by the substrate G , And the resin is hardened by the resin hardening unit 700 to form a pattern on the surface of the substrate G. [

기판(G)의 표면에 대한 패턴 형성은 웹(F)과 기판(G)이 가압 롤러(511)에 의해 가압 접촉된 상태에서 스테이지 유닛(200)이 언로딩유닛(800) 방향으로 이동되면서 이뤄지며, 기판(G)에 대한 패턴 형성이 완료된 경우 웹(F)과 기판(G)이 상호 박리 또는 분리된다.The pattern formation on the surface of the substrate G is performed while the stage unit 200 is moved toward the unloading unit 800 in a state in which the web F and the substrate G are in pressure contact with the pressure roller 511 , When the pattern formation on the substrate G is completed, the web F and the substrate G are peeled or separated from each other.

그리고, 패턴이 형성된 기판(G)은 스테이지 유닛(200)에 의해 언로딩유닛(800) 방향으로 이동된다.Then, the substrate G on which the pattern is formed is moved in the direction of the unloading unit 800 by the stage unit 200.

만약, 기판(G)에 대한 패턴을 형성하는 공정을 반복적으로 진행하다가, 웹(F)에 형성된 임프린트 패턴을 교체하여야 하는 경우, 언와인더(411)와 리와인더(413)를 구동시켜 웹(F)을 리와인더(413) 측으로 감아 임프린트 패턴이 없는 영역의 웹(F)이 가압 롤러(511)의 하부에 위치하게 한다.If the imprint pattern formed on the web F needs to be replaced while repeating the process of forming the pattern for the substrate G, the unwinder 411 and the rewinder 413 are driven to move the web F Is wound on the side of the rewinder 413 so that the web F in the region without the imprint pattern is positioned below the pressure roller 511. [

그리고, 임프린트 패턴 원형(M1)이 형성된 마스터(M)를 임프린트 패턴이 없는 영역의 웹(F)의 하부로 이동시켜 웹(F)에 새로운 임프린트 패턴을 형성하고, 웹(F)의 새로운 임프린트 패턴을 이용하여 기판(G)에 패턴을 형성하는 공정을 수행한다.A new imprint pattern is formed on the web F by moving the master M on which the imprint pattern original M1 is formed to the lower portion of the web F in the region without the imprint pattern, To form a pattern on the substrate (G).

이와 같이 본 발명은 기재된 실시 예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명하다. 따라서 그러한 수정 예 또는 변형 예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention. Accordingly, such modifications or variations are intended to fall within the scope of the appended claims.

100: 로딩유닛 200: 스테이지 유닛
210: 스테이지 230: 스테이지 이동부
250: 스테이지 정렬모듈 260a,260b,260c,260d: 스테이지 정렬부
300: 도포유닛 310: 디스펜서(잉크젯)
330: 정렬 비젼부 400: 웹 공급유닛
410: 롤투롤 모듈 411: 언와인더
413: 리와인더 415: 아이들 롤부
417: 장력조절 롤부 419: 보조 가압 롤러
430: 드리븐 롤부 500: 웹 가압유닛
510: 웹 가압부 600: 웹 비젼유닛
700: 레진 경화유닛 800: 언로딩유닛
100: loading unit 200: stage unit
210: stage 230: stage moving part
250: stage alignment module 260a, 260b, 260c, 260d:
300: dispensing unit 310: dispenser (inkjet)
330: alignment vision unit 400: web supply unit
410: roll to roll module 411: unwinder
413: Rewinder 415: Idle roll part
417: tension adjusting roll part 419: auxiliary pressure roller
430: Driven roll part 500: Web pressurizing unit
510: Web pressure unit 600: Web vision unit
700: Resin hardening unit 800: Unloading unit

Claims (16)

웹(web)에 임프린트 패턴을 형성하기 위한 임프린트 패턴 원형이 형성된 마스터 또는 임프린트 패턴이 형성된 상기 웹에 접촉되어 표면에 패턴이 형성되는 기판이 안착되되, 상기 웹 방향으로 이동가능하게 마련되는 스테이지 유닛;
상기 웹을 연속적으로 공급하는 웹 공급유닛;
상기 웹 공급유닛에 인접하게 마련되되, 상기 스테이지 유닛이 상기 웹 방향으로 이동됨에 따라, 상기 웹을 상기 마스터에 가압 접촉시켜 상기 웹에 교체가능한 적어도 하나의 임프린트 패턴을 형성하고 임프린트 패턴이 형성된 상기 웹을 상기 기판에 가압 접촉시켜 상기 기판에 패턴을 형성하는 웹 가압유닛을 포함하며,
상기 웹 가압유닛은,
상기 웹의 상부에 상하방향으로 이동가능하게 마련되며 상기 웹의 하부로 이동되는 상기 마스터 또는 상기 기판에 상기 웹을 연속적으로 가압하는 가압 롤러를 구비한 웹 가압부를 포함하며,
상기 웹 공급유닛은,
상기 가압 롤러가 상기 마스터 또는 상기 기판에 상기 웹을 접촉 가압한 상태에서 상기 스테이지 유닛이 이동되는 경우에 상기 웹이 상기 마스터 또는 상기 기판과 접촉상태를 유지하도록 상기 가압 롤러에 연동되어 상하방향으로 이동가능하게 마련되되, 상기 가압 롤러로부터 임프린트 패턴의 길이만큼 이격되어 상기 웹을 지지하는 보조 가압 롤러를 포함하는 인쇄장치.
A stage unit on which a substrate on which a pattern is formed by contacting the web on which a master or imprint pattern having an imprint pattern pattern formed for forming an imprint pattern on the web is formed, the stage unit being movable in the web direction;
A web supply unit for continuously supplying the web;
Wherein the at least one imprint pattern is formed at a position adjacent to the web supply unit so that as the stage unit is moved in the web direction, the web is brought into pressure contact with the master, And a web pressing unit for pressing the substrate against the substrate to form a pattern on the substrate,
The web pressurizing unit includes:
And a web pressing portion provided on the web to move up and down and having a pressing roller that presses the web continuously onto the master or the substrate moved to a lower portion of the web,
The web supply unit includes:
When the stage unit is moved in a state in which the pressing roller presses the web against the master or the substrate, the web is moved in the vertical direction interlocked with the pressing roller so as to maintain the state of contact with the master or the substrate Wherein the pressing roller is spaced apart from the pressing roller by a length of the imprint pattern to support the web.
제1항에 있어서,
상기 스테이지 유닛은,
상기 마스터 또는 상기 기판이 안착되는 스테이지; 및
상기 스테이지의 하부에 연결되어 상기 스테이지를 지지하되, 상기 스테이지를 상기 웹 방향으로 이동시키는 스테이지 이동부를 포함하는 인쇄장치.
The method according to claim 1,
The stage unit includes:
A stage on which the master or the substrate is mounted; And
And a stage moving unit connected to a lower portion of the stage and supporting the stage, the stage moving unit moving the stage in the web direction.
제2항에 있어서,
상기 스테이지 이동부는,
상기 스테이지의 하부에 이격되게 배치되어 상기 스테이지를 지지하는 스테이지 지지프레임;
상기 웹 방향으로 길게 배치된 이동 레일; 및
상기 스테이지 지지프레임에 연결되어 상기 스테이지 지지프레임을 상기 이동 레일을 따라 이동시키는 이동 구동부를 포함하는 인쇄장치.
3. The method of claim 2,
Wherein the stage moving unit comprises:
A stage support frame disposed at a lower portion of the stage to support the stage;
A moving rail disposed long in the web direction; And
And a movement driving unit connected to the stage support frame to move the stage support frame along the movement rail.
제3항에 있어서,
상기 이동 구동부는,
상기 이동 레일을 따라 배치되되, 상기 스테이지 지지프레임에 결합된 볼 스크류; 및
상기 볼 스크류에 결합되며 상기 볼 스크류를 정방향 및 역방향 회전시켜 상기 스테이지 지지프레임을 상기 웹 방향으로 왕복운동 가능하게 하는 구동모터를 포함하는 인쇄장치.
The method of claim 3,
The movement drive unit may include:
A ball screw disposed along the moving rail, the ball screw coupled to the stage support frame; And
And a driving motor coupled to the ball screw and rotating the ball screw in forward and reverse directions to reciprocate the stage support frame in the web direction.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 웹 가압유닛은,
상기 웹 가압부에 연결되되, 상기 웹이 상기 마스터 또는 상기 기판에 접촉 및 접촉해제되도록 상기 웹 가압부를 상하방향으로 이동시키는 가압부 구동부를 더 포함하는 인쇄장치.
The method according to claim 1,
The web pressurizing unit includes:
Further comprising a pressing part driving part connected to the web pressing part and moving the web pressing part up and down so that the web comes into contact with and is released from the master or the substrate.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 웹 공급유닛은,
상기 스테이지 유닛에 의해 이동된 상기 마스터 또는 상기 기판의 상부에 상기 웹이 배치되도록 상기 웹을 연속적으로 공급 또는 회수하는 롤투롤 모듈을 포함하는 인쇄장치.
The method according to claim 1,
The web supply unit includes:
And a roll-to-roll module that continuously feeds or retrieves the web so that the web is disposed on the master or the substrate moved by the stage unit.
제8항에 있어서,
상기 롤투롤 모듈은,
상기 웹이 감겨지되, 감겨진 상기 웹을 언와인딩(unwinding)하여 상기 스테이지 유닛에 의해 이동된 상기 마스터 또는 상기 기판의 상부로 공급하는 언와인더(unwinder);
상기 언와인더와 이격되게 배치되되, 상기 언와인더와 연동되어 상기 웹을 리와인딩(rewinding) 또는 언와인딩하는 리와인더(rewinder); 및
상기 언와인더와 상기 리와인더 사이에 배치되어, 상기 웹을 안내하는 적어도 하나 이상의 아이들 롤부(idle roll)를 포함하는 인쇄장치.
9. The method of claim 8,
The roll-
An unwinder for unwinding the wound web and feeding the wound web to an upper portion of the master or the substrate moved by the stage unit;
A rewinder arranged to be spaced apart from the unwinder and interworking with the unwinder to rewind or unwind the web; And
And at least one idle roll disposed between the unwinder and the rewinder for guiding the web.
제9항에 있어서,
상기 롤투롤 모듈은,
상기 언와인더와 상기 리와인더 사이에 배치되어 상대 이동함에 따라, 상기 언와인더와 상기 리와인더 사이에서 상기 웹의 장력을 일정하게 유지하는 적어도 하나 이상의 장력조절 롤부를 더 포함하는 인쇄장치.
10. The method of claim 9,
The roll-
Further comprising at least one tension control roll portion which is disposed between the unwinder and the rewinder and keeps the tension of the web constant between the unwinder and the rewinder as the relative movement is performed.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 가압 롤러에 인접하게 마련되되, 상기 가압 롤러에 의해 가압되어 상기 웹에 형성된 임프린트 패턴을 이루는 레진 또는 상기 기판에 형성된 패턴을 이루는 레진을 경화하는 레진 경화유닛을 더 포함하는 인쇄장치.
The method according to claim 1,
And a resin curing unit which is provided adjacent to the pressure roller and which is pressed by the pressure roller to form an imprint pattern formed on the web or a resin constituting a pattern formed on the substrate.
제12항에 있어서,
상기 레진 경화유닛은,
상기 가압 롤러와 상기 보조 가압 롤러 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 인쇄장치.
13. The method of claim 12,
The resin curing unit includes:
And the second pressure roller is disposed between the pressure roller and the auxiliary pressure roller.
제1항에 있어서,
상기 웹 방향으로 이동되는 상기 스테이지 유닛과 인라인되게 마련되되, 상기 웹 방향으로 이동되는 상기 스테이지 유닛 상의 상기 마스터의 임프린트 패턴 원형 또는 상기 기판에 임프린트 패턴용 레진을 도포하는 도포유닛을 더 포함하는 인쇄장치.
The method according to claim 1,
Further comprising a coating unit which is arranged to be inline with the stage unit moved in the web direction and which applies the resin for the imprint pattern to the substrate of the imprint pattern circle of the master on the stage unit moved in the web direction, .
제14항에 있어서,
상기 도포유닛은,
상기 마스터 또는 상기 기판에 임프린트 패턴용 레진을 도포하는 디스펜서를 포함하는 포함하는 인쇄장치.
15. The method of claim 14,
The coating unit includes:
And a dispenser for applying the resin for the imprint pattern to the master or the substrate.
제1항에 있어서,
상기 웹에 임프린트 패턴을 형성하기 위한 임프린트 패턴 원형이 형성된 마스터 또는 상기 임프린트 패턴이 형성된 상기 웹에 접촉되어 표면에 패턴을 형성하기 위한 기판을 로딩하는 로딩유닛(loading unit); 및
상기 웹에 임프린트 패턴을 형성한 마스터 또는 상기 웹에 접촉되어 표면에 패턴이 형성된 기판을 언로딩하는 언로딩유닛(unloading unit)을 더 포함하는 인쇄장치.
The method according to claim 1,
A loading unit for loading a master having an imprinted pattern circle for forming an imprinted pattern on the web or a substrate for contacting a web on which the imprinted pattern is formed to form a pattern on the surface; And
Further comprising an unloading unit for unloading a master having an imprinted pattern formed on the web or a substrate having a pattern formed on its surface in contact with the web.
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