KR101467662B1 - Substrate Processing Apparatus - Google Patents

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KR101467662B1
KR101467662B1 KR1020130010336A KR20130010336A KR101467662B1 KR 101467662 B1 KR101467662 B1 KR 101467662B1 KR 1020130010336 A KR1020130010336 A KR 1020130010336A KR 20130010336 A KR20130010336 A KR 20130010336A KR 101467662 B1 KR101467662 B1 KR 101467662B1
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박성모
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엘지전자 주식회사
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Abstract

본 발명은 기판 가공장치에 관한 것이다. 바람직하게는, 본 발명을 유리 기판을 그라인딩(Grinding)하는 유리 기판의 가공장치에 관한 것이다.
본 발명에 따른 기판 가공장치는 제 1 그라인더(First Grinder), 제 1 기판이 이송되는 동안 측면이 상기 제 1 그라인더에 의해 그라인딩(Grinding)되도록 상기 제 1 기판을 제 1 방향(First Direction)으로 이송시키는 제 1 이송부(First Transportation Part) 및 제 2 기판이 이송되는 동안 측면이 상기 제 1 그라인더에 의해 그라인딩되도록 상기 제 2 기판을 상기 제 1 방향으로 이송시키는 제 2 이송부(Second Transportation Part)를 포함하고, 상기 제 1 기판이 상기 제 1 그라인더에 의해 그라인딩되는 동안 상기 제 2 이송부는 상기 제 1 기판의 하측에서 상기 제 1 방향과 반대방향인 제 2 방향(Second Direction)으로 이동하고, 상기 제 2 기판이 상기 제 1 그라인더에 의해 그라인딩되는 동안 상기 제 1 이송부는 상기 제 2 기판의 하측에서 상기 제 2 방향으로 이동할 수 있다.
The present invention relates to a substrate processing apparatus. Preferably, the present invention relates to a glass substrate processing apparatus for grinding a glass substrate.
A substrate processing apparatus according to the present invention comprises a first grinder, a first grinder, a first substrate, and a second grinder, wherein the first substrate is transported in a first direction so that a side surface thereof is grinded by the first grinder while the first substrate is being transported And a second transportation part for transporting the second substrate in the first direction so that the side surface is grinded by the first grinder while the second substrate is being transported, , While the first substrate is being grinded by the first grinder, the second transfer part moves from a lower side of the first substrate to a second direction (Second Direction) opposite to the first direction, The first transfer unit may move from the lower side of the second substrate in the second direction while the first transfer unit is being ground by the first grinder.

Description

기판 가공장치{Substrate Processing Apparatus}[0001] Substrate Processing Apparatus [0002]

본 발명은 기판 가공장치에 관한 것이다. 자세하게는, 본 발명은 유리 기판을 그라인딩(Grinding)하는 유리 기판의 가공장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate processing apparatus. More specifically, the present invention relates to a glass substrate processing apparatus for grinding a glass substrate.

디스플레이 장치 등에 사용되는 유리 기판은 유리의 특성으로 인해 크랙(Crack)이 발생할 가능성이 높다.A glass substrate used for a display device or the like is likely to cause cracks due to the characteristics of the glass.

이러한 크랙은 유리 기판의 구조적 특성을 악화시킬 수 있다.Such cracks may deteriorate the structural characteristics of the glass substrate.

본 발명은 유리 기판의 제조공정에 소요되는 시간을 줄이는 기판 가공장치를 제공하는데 그 목적이 있다.An object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus for reducing the time required for manufacturing a glass substrate.

본 발명에 따른 기판 가공장치는 제 1 그라인더(First Grinder), 제 1 기판이 이송되는 동안 측면이 상기 제 1 그라인더에 의해 그라인딩(Grinding)되도록 상기 제 1 기판을 제 1 방향(First Direction)으로 이송시키는 제 1 이송부(First Transportation Part) 및 제 2 기판이 이송되는 동안 측면이 상기 제 1 그라인더에 의해 그라인딩되도록 상기 제 2 기판을 상기 제 1 방향으로 이송시키는 제 2 이송부(Second Transportation Part)를 포함하고, 상기 제 1 기판이 상기 제 1 그라인더에 의해 그라인딩되는 동안 상기 제 2 이송부는 상기 제 1 기판의 하측에서 상기 제 1 방향과 반대방향인 제 2 방향(Second Direction)으로 이동하고, 상기 제 2 기판이 상기 제 1 그라인더에 의해 그라인딩되는 동안 상기 제 1 이송부는 상기 제 2 기판의 하측에서 상기 제 2 방향으로 이동할 수 있다.A substrate processing apparatus according to the present invention comprises a first grinder, a first grinder, a first substrate, and a second grinder, wherein the first substrate is transported in a first direction so that a side surface thereof is grinded by the first grinder while the first substrate is being transported And a second transportation part for transporting the second substrate in the first direction so that the side surface is grinded by the first grinder while the second substrate is being transported, , While the first substrate is being grinded by the first grinder, the second transfer part moves from a lower side of the first substrate to a second direction (Second Direction) opposite to the first direction, The first transfer unit may move from the lower side of the second substrate in the second direction while the first transfer unit is being ground by the first grinder.

또한, 상기 제 1 이송부는 상기 제 1 기판의 그라인딩이 종료된 이후 상기 제 1 기판의 하측으로 이동하고, 상기 제 2 기판의 하측에서 상기 제 2 방향으로 이동하는 부분을 포함하고, 상기 제 2 이송부는 상기 제 2 기판의 그라인딩이 종료된 이후 상기 제 2 기판의 하측으로 이동하고, 상기 제 1, 2 방향과 교차하는 수평방향(Horizontal Direction)으로 이동하고, 상기 제 1 기판의 하측에서 상기 제 2 방향으로 이동하는 부분을 포함할 수 있다.The first transfer portion includes a portion moving to the lower side of the first substrate after the grinding of the first substrate is completed and a portion moving in the second direction from the lower side of the second substrate, Wherein the second substrate moves to the lower side of the second substrate after the grinding of the second substrate is finished and moves in a horizontal direction crossing the first and second directions, May be included.

또한, 상기 제 1 이송부는 상기 제 1 기판에 흡착되는 제 1 흡착부(First Adsorption Part), 상기 제 1 흡착부를 지지하는 제 1 지지부(First Supporter), 상기 제 1 지지부를 상기 제 1, 2 방향 및 상기 수평방향과 교차하는 수직방향(Vertical Direction)으로 이동시키는 제 1 수직 액추에이터(First Vertical Actuator) 및 상기 제 1 지지부를 상기 제 1 방향 또는 상기 제 2 방향으로 이동시키는 제 1 모터부(First Motor Part)를 포함하고, 상기 제 2 이송부는 상기 제 2 기판에 흡착되는 제 2 흡착부(Second Adsorption Part), 상기 제 2 흡착부를 지지하는 제 2 지지부(Second Supporter), 상기 제 2 지지부를 상기 수직방향으로 이동시키는 제 2 수직 액추에이터(Second Vertical Actuator), 제 2 지지부를 상기 수평방향으로 이동시키는 제 1 수평 액추에이터(First Horizontal Actuator) 및 상기 제 2 지지부를 상기 제 1 방향 또는 상기 제 2 방향으로 이동시키는 제 2 모터부(Second Motor Part)를 포함할 수 있다.The first transfer unit may include a first adsorption unit adsorbed on the first substrate, a first supporter supporting the first adsorption unit, a second supporter supporting the first adsorption unit in the first and second directions And a first vertical actuator for moving the first support part in a first direction or a second direction that moves the first support part in a first direction or a second direction that is perpendicular to the horizontal direction, Wherein the second conveying part includes a second adsorption part adsorbed on the second substrate, a second supporter supporting the second adsorption part, a second supporter supporting the second adsorption part, A first horizontal actuator for moving the second support in the horizontal direction, and a second horizontal actuator for moving the second support in the first direction It may include a second motor unit (Motor Second Part) that moves in the second direction.

또한, 상기 제 1 기판 및 상기 제 2 기판이 그라인딩되는 동안 상기 제 1 그라인더는 고정될 수 있다.In addition, the first grinder can be fixed while the first substrate and the second substrate are being ground.

또한, 상기 제 1 그라인더에 의한 상기 제 1 기판의 그라인딩이 종료된 이후 상기 제 1 기판은 제 1 이송부로부터 이탈되고, 상기 제 1 그라인더에 의한 상기 제 2 기판의 그라인딩이 종료된 이후 상기 제 2 기판은 제 2 이송부로부터 이탈될 수 있다.After the grinding of the first substrate by the first grinder is completed, the first substrate is released from the first conveyance unit, and after the grinding of the second substrate by the first grinder is completed, Can be separated from the second conveying portion.

또한, 상기 제 1 그라인더에 의한 상기 제 1, 2 기판의 그라인딩이 종료된 이후 상기 제 1, 2 기판을 회전시키는 회전부(Rotation Part)를 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include a rotation part that rotates the first and second substrates after the grinding of the first and second substrates by the first grinder is completed.

또한, 제 2 그라인더(Second Grinder), 상기 제 1 기판이 회전된 상태에서 이송되는 동안 측면이 상기 제 2 그라인더에 의해 그라인딩되도록 상기 제 1 기판을 상기 제 1 방향으로 이송시키는 제 3 이송부(Third Transportation Part) 및 상기 제 2 기판이 회전된 상태에서 이송되는 동안 측면이 상기 제 2 그라인더에 의해 그라인딩되도록 상기 제 2 기판을 상기 제 1 방향으로 이송시키는 제 4 이송부(Fourth Transportation Part)를 포함할 수 있다.A second grinder for moving the first substrate in the first direction so that the side is grinded by the second grinder while the first substrate is being rotated; And a fourth transfer part for transferring the second substrate in the first direction so that the side surface is grinded by the second grinder while the second substrate is being transported while being rotated .

또한, 상기 제 1 기판 및 상기 제 2 기판이 그라인딩되는 동안 상기 제 2 그라인더는 고정될 수 있다.Further, the second grinder may be fixed while the first substrate and the second substrate are being ground.

또한, 상기 제 1 그라인더 및 상기 제 2 그라인더 중 어느 하나는 상기 제 1, 2 기판의 장변(Long Side)을 그라인딩하고, 나머지 하나는 상기 제 1, 2 기판의 단변(Short Side)을 그라인딩할 수 있다.One of the first grinder and the second grinder may grind the long side of the first and second substrates while the other may grind the short side of the first and second substrates. have.

또한, 상기 제 1 기판이 상기 제 2 그라인더에 의해 그라인딩되는 동안 상기 제 3 이송부는 상기 제 1 기판의 하측에서 상기 제 2 방향으로 이동하고, 상기 제 2 기판이 상기 제 2 그라인더에 의해 그라인딩되는 동안 상기 제 4 이송부는 상기 제 2 기판의 하측에서 상기 제 2 방향으로 이동할 수 있다.Also, while the first substrate is being grinded by the second grinder, the third transfer part is moved in the second direction from below the first substrate, and while the second substrate is being grinded by the second grinder The fourth transfer unit may move in a second direction from a lower side of the second substrate.

또한, 상기 제 3 이송부는 상기 제 1 기판에 흡착되는 제 3 흡착부(Third Adsorption Part), 상기 제 3 흡착부를 지지하는 제 3 지지부(Third Supporter), 상기 제 3 지지부를 상기 수직방향으로 이동시키는 제 3 수직 액추에이터(Third Vertical Actuator) 및 상기 제 3 지지부를 상기 제 1 방향 또는 상기 제 2 방향으로 이동시키는 제 3 모터부(Third Motor Part)를 포함하고, 상기 제 4 이송부는 상기 제 2 기판에 흡착되는 제 4 흡착부(Fourth Adsorption Part), 상기 제 4 흡착부를 지지하는 제 4 지지부(Fourth Supporter), 상기 제 4 지지부를 상기 수직방향으로 이동시키는 제 4 수직 액추에이터(Fourth Vertical Actuator) 및 상기 제 4 지지부를 상기 제 1 방향 또는 상기 제 2 방향으로 이동시키는 제 4 모터부(Fourth Motor Part)를 포함할 수 있다.The third transfer unit may include a third adsorption unit to be adsorbed on the first substrate, a third supporter to support the third adsorption unit, a third supporter to move the third support unit in the vertical direction, And a third motor part (Third Motor Part) for moving the third vertical actuator and the third support part in the first direction or the second direction, and the fourth transfer part includes a third motor part A fourth supporter for supporting the fourth adsorption part, a fourth vertical actuator for moving the fourth supporter in the vertical direction, and a fourth vertical actuator for moving the fourth support part in the vertical direction, And a fourth motor part for moving the supporting part in the first direction or the second direction.

또한, 상기 제 3 이송부 및 상기 제 4 이송부 중 어느 하나는 상기 제 3 지지부 또는 상기 제 4 지지부를 상기 수평방향으로 이동시키는 제 2 수평 액추에이터(Second Horizontal Actuator)를 더 포함할 수 있다.In addition, any one of the third conveyance unit and the fourth conveyance unit may further include a second horizontal actuator for moving the third support unit or the fourth support unit in the horizontal direction.

또한, 상기 제 1 방향은 상기 제 1, 2 기판의 가공 공정의 진행방향일 수 있다.The first direction may be a direction in which the first and second substrates are processed.

본 발명에 따른 기판 가공장치는 유리 기판을 이송하는 과정에서 유리 기판의 측면을 그라인딩함으로써, 그라인딩 고정에 소용되는 시간을 줄일 수 있는 효과가 있다.The substrate processing apparatus according to the present invention has the effect of reducing the time spent for grinding and fixing by grinding the side surface of the glass substrate in the process of transferring the glass substrate.

도 1 내지 도 18은 본 발명에 따른 기판 가공장치 및 기판 가공방법에 대해 설명하기 위한 도면; 및
도 19 내지 도 23은 기판을 회전시키고, 회전된 상태의 기판을 가공하는 장치 및 방법에 대해 설명하기 위한 도면이다.
1 to 18 are views for explaining a substrate processing apparatus and a substrate processing method according to the present invention; And
19 to 23 are views for explaining an apparatus and a method for rotating a substrate and processing a substrate in a rotated state.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 유리 기판 가공장치에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, a glass substrate processing apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해될 수 있다.While the invention is susceptible to various modifications and alternative forms, specific embodiments thereof are shown by way of example in the drawings and will herein be described in detail. It is to be understood that the present invention is not intended to be limited to the specific embodiments but includes all changes, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the present invention.

본 발명을 설명함에 있어서 제 1, 제 2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되지 않을 수 있다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용될 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제 1 구성요소는 제 2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제 2 구성요소도 제 1 구성요소로 명명될 수 있다.In describing the present invention, the terms first, second, etc. may be used to describe various components, but the components may not be limited by the terms. The terms may only be used for the purpose of distinguishing one element from another. For example, without departing from the scope of the present invention, the first component may be referred to as a second component, and similarly, the second component may also be referred to as a first component.

및/또는 이라는 용어는 복수의 관련된 기재된 항목들의 조합 또는 복수의 관련된 기재된 항목들 중의 어느 항목을 포함할 수 있다.The term " and / or " may include any combination of a plurality of related listed items or any of a plurality of related listed items.

어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급되는 경우는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해될 수 있다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해될 수 있다.When an element is referred to as being "connected" or "connected" to another element, it may be directly connected or connected to the other element, but other elements may be present in between Can be understood. On the other hand, when it is mentioned that an element is "directly connected" or "directly connected" to another element, it can be understood that no other element exists in between.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함할 수 있다.The terminology used in this application is used only to describe a specific embodiment and is not intended to limit the invention. The singular expressions may include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise.

본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것으로서, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해될 수 있다.In the present application, the terms "comprises", "having", and the like are used interchangeably to designate one or more of the features, numbers, steps, operations, elements, components, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, elements, parts, or combinations thereof.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가질 수 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석될 수 있으며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않을 수 있다.Unless otherwise defined, all terms used herein, including technical or scientific terms, may have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Terms such as those defined in commonly used dictionaries can be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the relevant art and are, unless expressly defined in the present application, interpreted in an ideal or overly formal sense .

아울러, 이하의 실시예는 당 업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것으로서, 도면에서의 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있다.In addition, the following embodiments are provided to explain more fully to the average person skilled in the art. The shapes and sizes of the elements in the drawings and the like can be exaggerated for clarity.

도 1 내지 도 18은 본 발명에 따른 기판 가공장치 및 기판 가공방법에 대해 설명하기 위한 도면이다.1 to 18 are views for explaining a substrate processing apparatus and a substrate processing method according to the present invention.

도 1을 참조하여 본 발명에 따른 기판 가공방법에 대해 계략적으로 설명한다.A method of processing a substrate according to the present invention will be schematically described with reference to Fig.

먼저, 소정의 기판을 이송부(Transportation Part)에 배치(S100)할 수 있다.First, a predetermined substrate may be placed in a transportation part (S100).

이후, 기판을 이송부에 배치한 상태에서, 기판을 그라인딩(Grinding)할 수 있다(S110).Then, the substrate can be grinded (S110) with the substrate placed on the transfer section.

이후, 그라인딩한 기판을 회전(S120)시킬 수 있다.Thereafter, the ground substrate can be rotated (S120).

기판을 회전한 상태에서 기판을 다시 그라인딩할 수 있다.(S130)The substrate can be grinded again while the substrate is rotated (S130)

이하에서는 기판을 회전하기 이전에 실시하는 그라인딩을 제 1 그라인딩(First Grinding)이라하고, 기판을 회전한 이후에 실시하는 그라인딩을 제 2 그라인딩(Second Grinding)이라 한다.Hereinafter, the grinding performed before the substrate is rotated is referred to as a first grinding, and the grinding performed after the substrate is rotated is referred to as a second grinding.

도 2를 살펴보면, 제 1 그라인딩 단계를 실시하기 위해 본 발명에 따른 기판 가공장치는 제 1 그라인더(First Grinder, 200)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 2, the substrate processing apparatus according to the present invention may include a first grinder 200 to perform the first grinding step.

제 1 그라인더(200)는 복수의 그라인더 휠(201)을 포함할 수 있다. 예를 들면, 제 1 그라인더(200)는 제 1 기판(S1)의 제 1 장변(First Long Side, LS1) 측에 배치되는 적어도 하나의 그라인더 휠(201)과 제 1 기판(S1)의 제 1 장변(LS1)에 대항되는 제 2 장변(Second Long Side, LS2) 측에 배치되는 적어도 하나의 그라인더 휠(201)을 포함할 수 있다.The first grinder 200 may include a plurality of grinder wheels 201. For example, the first grinder 200 includes at least one grinder wheel 201 disposed on the first long side (LS1) side of the first substrate S1 and a first grinder wheel 201 disposed on the first long side And at least one grinder wheel 201 disposed on the second long side (LS2) side against the long side LS1.

기판이 그라인딩되는 동안 제 1 그라인더(200)는 고정될 수 있다.The first grinder 200 can be fixed while the substrate is being ground.

예를 들어, 도 3의 (A)의 경우와 같이, 제 1 그라인더(200)는 고정된 상태에서 제 1 기판(S1)이 제 1 방향(First Direction, DR1)으로 이송되면서 제 1 기판(S1)의 제 1 장변(LS1)과 제 2 장변(LS2)이 그라인딩될 수 있다.For example, as in the case of FIG. 3A, when the first substrate S1 is being transported in the first direction DR1 while the first grinder 200 is stationary, the first substrate S1 The first long side LS1 and the second long side LS2 may be ground.

여기서, 제 1 방향(DR1)은 기판의 가공 공정의 진행방향일 수 있다. 다르게 표현하면, 기판의 그라인딩 공정이 제 1 방향(DR1)으로 진행될 수 있는 것이다.Here, the first direction DR1 may be the proceeding direction of the substrate processing process. In other words, the grinding process of the substrate can proceed in the first direction DR1.

도 3의 (B)에는 본 발명과는 다르게 제 1 기판(S1)을 고정한 상태에서 제 1 그라인더(200)를 제 1 방향(DR1)으로 이동시키면서 제 1 기판(S1)을 그라인딩하는 경우가 개시되어 있다.3B illustrates a case where the first substrate S1 is grinded while the first grinder 200 is moved in the first direction DR1 while the first substrate S1 is fixed, .

이러한 경우에는, 제 1 기판(S1)을 고정시킨 상태에서 그라인딩 공정이 완료된 이후에 제 1 기판(S1)을 공정의 진행방향으로 이송해야 한다. 이에 따라, 그라인딩 공정이 실시되는 동안 제 1 기판(S1)이 정지되어 있기 때문에 그라인딩 공정에 소요되는 시간이 증가할 수 있다.In this case, after the first substrate S1 is fixed and the grinding process is completed, the first substrate S1 must be transferred in the process direction. Accordingly, since the first substrate S1 is stopped during the grinding process, the time required for the grinding process may be increased.

반면에, 도 3의 (A)의 경우와 같이, 제 1 그라인더(200)를 고정한 상태에서 제 1 기판(S1)을 이동시키면서 그라인딩하는 경우에는, 그라인딩 과정에서도, 제 1 기판(S1)이 정지하지 않고 계속해서 공정 흐름에 따라 진행할 수 있다. 이에 따라, 그라인딩 고정에 소요되는 시간이 절약될 수 있는 것이다.On the other hand, in the case of grinding while moving the first substrate S1 while the first grinder 200 is fixed, as in the case of FIG. 3A, in the grinding process, the first substrate S1 is stopped It is possible to proceed with the process flow continuously. Thus, the time required for grinding and fixing can be saved.

한편, 제 1 그라인딩 공정에서는 공정의 속도를 더욱 향상시키기 위해 소정의 제 1 기판을 이송하는 제 1 이송부와 소정의 제 2 기판을 이송하는 제 2 이송부를 함께 사용할 수 있다. 이에 대해 보다 상세히 살펴보면 아래와 같다.Meanwhile, in the first grinding step, a first transfer part for transferring a predetermined first substrate and a second transfer part for transferring a predetermined second substrate may be used together to further improve the speed of the process. This will be described in more detail below.

이하에서 언급되는 제 1 기판(S1)은 제 1 이송부(100)에 의해 이송되는 기판을 통칭하는 것이고, 제 2 기판(S2)은 제 2 이송부(110)에 의해 이송되는 기판을 통칭하는 것이다.The first substrate S1 referred to below collectively refers to a substrate conveyed by the first conveyance unit 100 and the second substrate S2 collectively refers to a substrate conveyed by the second conveyance unit 110. [

도 4 내지 도 6을 살펴보면, 제 1 그라인딩 공정(S110)에서는 제 1 이송부(First Transportation Part, 100)에 제 1 기판(S1)을 배치할 수 있다(S400).4 to 6, in the first grinding step S110, the first substrate S1 may be disposed on the first transportation part 100 (S400).

이후, 제 1 이송부(100)에 제 1 기판(S1)이 배치된 상태에서 제 1 기판(S1)의 측면에 제 1 그라인더(200)에 의해 그라인딩되도록 제 1 이송부(100)를 제 1 방향(DR1)으로 이동시킬 수 있다. 이에 따라, 제 1 기판(S1)이 제 1 이송부(100)에 의해 제 1 방향(DR1)으로 이송되면서 그라인딩될 수 있다(S410).Thereafter, the first transfer unit 100 is moved in the first direction S1 to be grinded by the first grinder 200 on the side of the first substrate S1 in a state where the first substrate S1 is disposed in the first transfer unit 100, DR1. Accordingly, the first substrate S1 can be grinded while being transferred in the first direction DR1 by the first transfer unit 100 (S410).

이후, 그라인딩 처리된 제 1 기판(S1)은 제 1 이송부(100)에서 이탈될 수 있다(S420).Thereafter, the first substrate S1 subjected to the grinding process may be separated from the first transfer unit 100 (S420).

또한, 제 1 이송부(100)와 다른 제 2 이송부(Second Transportation Part, 110)에는 제 1 기판(S1)과 다른 제 2 기판(S2)이 배치될 수 있다(S450).In addition, the second substrate S2 different from the first substrate S1 may be disposed in the second transportation part 110 that is different from the first transfer part 100 (S450).

제 2 이송부(110)에 제 2 기판(S2)이 배치되는 공정은 그라인딩 처리된 제 1 기판(S1)이 제 1 이송부(100)에서 이탈되는 동안 실시될 수 있고, 또는 그라인딩 처리된 제 1 기판(S1)이 제 1 이송부(100)에서 이탈된 이후에 실시될 수도 있다.The process of disposing the second substrate S2 on the second transfer unit 110 may be performed while the first substrate S1 subjected to the grinding process is separated from the first transfer unit 100, (S1) is released from the first transfer unit 100. [

제 2 이송부(110)에 제 2 기판(S2)이 배치된 상태에서 제 2 기판(S2)의 측면에 제 1 그라인더(200)에 의해 그라인딩되도록 제 2 이송부(110)를 제 1 방향(DR1)으로 이동시킬 수 있다. 이에 따라, 제 2 기판(S2)이 제 2 이송부(110)에 의해 제 1 방향(DR1)으로 이송되면서 그라인딩될 수 있다(S460). 제 2 기판(S2)의 측면을 그라인딩하는 방법은 제 1 기판(S1)의 측면을 그라인딩하는 방법과 동일할 수 있다.The second transfer unit 110 is moved in the first direction DR1 so as to be grinded by the first grinder 200 on the side of the second substrate S2 in a state where the second substrate S2 is disposed on the second transfer unit 110. [ . Accordingly, the second substrate S2 can be grinded while being transferred in the first direction DR1 by the second transfer unit 110 (S460). The method of grinding the side surface of the second substrate S2 may be the same as the method of grinding the side surface of the first substrate S1.

이후, 그라인딩 처리된 제 2 기판(S2)은 제 2 이송부(110)에서 이탈될 수 있다(S470).Thereafter, the second substrate S2 subjected to the grinding process may be separated from the second transfer unit 110 (S470).

한편, 제 2 기판(S2)이 그라인딩되는 과정에서, 제 1 기판(S1)이 이탈된 제 1 이송부(100)는 다시 또 다른 제 1 기판(S1)을 그라인딩하기 위해 후방으로 이동할 수 있다(S430).Meanwhile, in the process of grinding the second substrate S2, the first transfer unit 100 in which the first substrate S1 is separated may be moved backward to grind another first substrate S1 (S430 ).

후방으로 이동된 제 1 이송부(100)에는 또 다른 제 1 기판(S1)이 배치될 수 있다(S440).Another first substrate S1 may be disposed in the first transport unit 100 moved backward (S440).

도 5에 개시된 바와 같이, 제 1 이송부(100)에 제 1 기판(S1)이 배치된 상태에서 제 1 이송부(100)가 제 1 방향(DR1)으로 진행하는 경우에는, 제 2 이송부(110)는 제 2 기판(S2)이 이탈된 상태에서 제 1 기판(S1)의 하측에서 제 1 방향(DR1)과 역방향인 제 2 방향(Second Direction, DR2)으로 이동할 수 있다.5, when the first transfer unit 100 is moved in the first direction DR1 while the first substrate S1 is disposed in the first transfer unit 100, the second transfer unit 110, Can move from the lower side of the first substrate S1 to the second direction (DR2) which is opposite to the first direction DR1 in a state in which the second substrate S2 is detached.

이와는 반대로, 제 2 이송부(110)에 제 2 기판(S2)이 배치된 상태에서 제 2 이송부(110)가 제 1 방향(DR1)으로 진행하는 경우에는, 제 1 이송부(100)는 제 1 기판(S1)이 이탈된 상태에서 제 2 기판(S2)의 하측에서 제 1 방향(DR1)과 역방향인 제 2 방향(DR2)으로 이동할 수 있는 것이다.On the contrary, when the second transfer unit 110 moves in the first direction DR1 while the second substrate S2 is disposed in the second transfer unit 110, the first transfer unit 100 is moved in the first direction DR1, The second substrate S2 can move in a second direction DR2 which is a direction opposite to the first direction DR1 from the lower side of the second substrate S2.

이처럼, 제 1 이송부(100)와 제 2 이송부(110)가 교대로 기판을 이송하면서 그라인딩 공정을 실시하게 되면, 그라인딩 공정에 소요되는 시간을 더욱 감소시킬 수 있다.If the grinding process is performed while the first transfer unit 100 and the second transfer unit 110 transfer substrates alternately, the time required for the grinding process can be further reduced.

도 6의 (A)를 살펴보면, 제 1 기판(100)이 제 1 그라인더(200)에 의해 그라인딩되기 위해 제 1 이송부(100)에 제 1 기판(S1)이 배치되는 시점에서는, 그라인딩 처리된 제 2 기판(S2)이 제 2 이송부(110)에서 이탈될 수 있다. 이러한 경우, 제 2 이송부(110)는 수직방향(Vertical Direction, DRV), 예컨대 하측방향으로 이동할 수 있다.6A, when the first substrate S1 is disposed on the first transfer unit 100 so that the first substrate 100 is grinded by the first grinder 200, 2 substrate S2 can be separated from the second transfer unit 110. [ In this case, the second transfer unit 110 can move in the vertical direction (DRV), for example, the downward direction.

이후, 제 2 기판(S2)은 또 다른 공정을 위해 제 1 방향(DR1)으로 진행할 수 있다.The second substrate S2 may then proceed in a first direction DR1 for another process.

도 6의 (B)를 살펴보면, 제 1 기판(S1)이 제 1 이송부(100)에 배치된 상태에서 제 1 그라인더(200)에 의해 그라인딩이 완료된 시점에서는, 제 2 기판(S2)이 이탈된 상태로 제 1 기판(S1)의 하측에서 제 2 방향(DR2)으로 이동한 제 2 이송부(110)가 또 다른 제 2 기판(S2)을 이송하기 위해 수직방향(DRV), 예컨대 상측방향으로 이동할 수 있다.6B, when grinding is completed by the first grinder 200 in a state where the first substrate S1 is disposed in the first transfer unit 100, the second substrate S2 is detached The second transfer unit 110 moved in the second direction DR2 from the lower side of the first substrate S1 moves in the vertical direction DRV such as the upward direction to transfer another second substrate S2 .

한편, 제 1 이송부(100) 및 제 2 이송부(110) 중 어느 하나는 상/하 이동 및 전/후 이동이 가능하고, 나머지 하나는 상/하 이동, 전/후 이동 및 좌/우 이동이 가능할 수 있다.One of the first transfer unit 100 and the second transfer unit 110 is capable of moving up and down and moving forward and backward while the other is moving up and down, It can be possible.

이하에서는 제 1 이송부(100) 및 제 2 이송부(110) 중에서 제 2 이송부(110)가 상/하 이동, 전/후 이동 및 좌/우 이동이 가능한 경우를 예로 들어 설명하지만, 제 1 이송부(100)가 상/하 이동, 전/후 이동 및 좌/우 이동이 가능한 경우도 가능하다.Hereinafter, the case where the second transfer unit 110 is allowed to move up and down, forward and backward, and leftward / rightward movement among the first transfer unit 100 and the second transfer unit 110 will be described as an example, 100) can be moved up / down, before / after, and left / right.

도 7을 살펴보면, 제 1 이송부(100)는 제 1 기판(S1)에 흡착되는 제 1 흡착부(First Adsorption Part, 101), 제 1 흡착부(101)를 지지하는 제 1 지지부(First Supporter, 102), 제 1 지지부(102)를 제 1, 2 방향(DR1, DR2) 및 수평방향(DRH)과 교차하는 수직방향(DRV)으로 이동시키는 제 1 수직 액추에이터(First Vertical Actuator, 103) 및 제 1 지지부(102)를 제 1 방향(DR1) 또는 제 2 방향(DR2)으로 이동시키는 제 1 모터부(First Motor Part, 104)를 포함할 수 있다.7, the first transfer part 100 includes a first adsorption part 101 adsorbed on a first substrate S1, a first supporter supporting a first adsorption part 101, A first vertical actuator 103 for moving the first support part 102 in the first and second directions DR1 and DR2 and a vertical direction DRV intersecting the horizontal direction DRH, And a first motor part 104 for moving the first support part 102 in the first direction DR1 or the second direction DR2.

아울러, 제 1 이송부(100)는 제 1 수직 엑추에이터(103) 및/또는 제 1 모터부(104)를 설치/고정하기 위한 제 1 베이스부(105)를 포함할 수 있다.The first transfer part 100 may include a first base part 105 for mounting / fixing the first vertical actuator 103 and / or the first motor part 104. [

제 1 모터부(104)는 제 1 이송부(100) 전체를 제 1 방향(DR1) 또는 제 2 방향(DR2)으로 이동시킬 수 있다.The first motor unit 104 can move the entire first transfer unit 100 in the first direction DR1 or the second direction DR2.

이러한 구성의 제 1 이송부(100)는 적어도 제 1 기판(S1)의 양쪽을 지지하기 위해 제 1-1 이송부(100A)와 제 1-2 이송부(100B)를 포함할 수 있다. 여기서, 제 1-1 이송부(100A)와 제 1-2 이송부(100B)의 구성은 동일하며 Y축(세로측) 대칭일 수 있다. 여기서는, 제 1 이송부(100)가 제 1-1 이송부(100A)와 제 1-2 이송부(100B)로 구성되는 경우를 예로 들었지만, 제 1 이송부(100)에 포함되는 서브 이송부의 개수는 다양하게 변경될 수 있다.The first transfer unit 100 having such a configuration may include a first transfer unit 100A and a first transfer unit 100B to support at least the first substrate S1. Here, the configurations of the first-first transfer unit 100A and the first-second transfer unit 100B are the same and may be symmetrical with respect to the Y-axis (longitudinal direction). Although the first conveyance unit 100 includes the first conveyance unit 100A and the first conveyance unit 100B, the number of the second conveyance units included in the first conveyance unit 100 may vary can be changed.

제 1 흡착부(101)는, 도 8의 (A)의 경우와 같이, 원 또는 타원 형태를 갖는 것이 가능하다.As in the case of Fig. 8A, the first adsorption unit 101 may have a circular or elliptic shape.

이러한 제 1 흡착부(101)는, 도 8의 (B)의 경우와 같이, 공기를 빨아들이는 힘으로 제 1 기판(S1)에 흡착될 수 있다.Such a first adsorption unit 101 can be adsorbed to the first substrate S1 by the suction force of air as in the case of FIG. 8 (B).

제 1 흡착부(101)는 제 1 지지부(102)의 끝단에 배치될 수 있다.The first adsorption unit 101 may be disposed at an end of the first support unit 102.

제 1 지지부(102)는 제 1 수직 엑추에이터(103)에 이동가능도록 연결될 수 있다. 이러한 제 1 지지부(102)는 제 1 베이스부(105)에 설치된 제 1 수직 엑추에이터(103)의 수직방향(DRV)으로의 이동에 연동하여 수직방향(DRV)으로 이동할 수 있다.The first support part 102 may be movably connected to the first vertical actuator 103. The first support portion 102 can move in the vertical direction DRV in conjunction with the movement of the first vertical actuator 103 installed in the first base portion 105 in the vertical direction DRV.

예를 들면, 도 9의 (A)의 경우와 같이, 제 1 수직 엑추에이터(103)가 수직방향(DRV)의 상측방향으로 제 1 지지부(102)를 이동시킬 수 있다. 이러한 경우, 앞선 도 8의 (B)의 경우와 같이 제 1 흡착부(101)가 제 1 기판(S1)에 흡착될 수 있다.For example, as in the case of FIG. 9A, the first vertical actuator 103 can move the first support portion 102 in the upward direction of the vertical direction DRV. In this case, as in the case of FIG. 8B, the first adsorption unit 101 can be adsorbed on the first substrate S1.

반면에, 도 9의 (B)의 경우와 같이, 제 1 수직 엑추에이터(103)가 수직방향(DRV)의 하측방향으로 제 1 지지부(102)를 이동시킬 수 있다. 이러한 경우, 제 1 흡착부(101)가 제 1 기판(S1)으로부터 이탈됨으로써, 제 1 이송부(100)가 제 1 기판(S1)으로부터 이탈될 수 있다.9 (B), the first vertical actuator 103 can move the first support portion 102 in the downward direction of the vertical direction DRV. In this case, the first suction portion 101 is separated from the first substrate S1 so that the first transfer portion 100 can be separated from the first substrate S1.

도 10의 (A)를 살펴보면, 제 1-1 이송부(100A), 제 1-2 이송부(100B), 제 1-3 이송부(100C) 및 제 1-4 이송부(100D)를 포함하는 제 1 이송부(100)가 제 1 기판(S1)을 제 1 방향(DR1)으로 이송할 수 있다. 이러한 이송과정에서 제 1 기판(S1)이 그라인딩될 수 있다. 제 1 이송부(100)의 제 1-1 이송부(100A), 제 1-2 이송부(100B), 제 1-3 이송부(100C) 및 제 1-4 이송부(100D)는 각각 제 1 기판(S1)의 모서리(Corner) 부분을 지지할 수 있다.Referring to FIG. 10A, the first conveying unit 100A includes a first conveying unit 100A, a first conveying unit 100B, a first conveying unit 100C, and a first conveying unit 100D. The first substrate 100 can transfer the first substrate S1 in the first direction DR1. In this transfer process, the first substrate S1 can be ground. The first to third transfer units 100A to 100B of the first transfer unit 100 are connected to the first substrate S1, And can support a corner portion of the light emitting diode.

이후, 도 10의 (B)의 경우와 같이, 제 1 이송부(100)가 수직방향(DRV)의 하측방향으로 이동하여 제 1 기판(S1)이 제 1 이송부(100)로부터 이탈할 수 있다.Thereafter, as in the case of FIG. 10B, the first transfer unit 100 may move in the downward direction of the vertical direction DRV so that the first substrate S1 may be separated from the first transfer unit 100.

이후, 도 10의 (C)의 경우와 같이, 그라인딩처리된 제 1 기판(S1)은 제 1 방향(DR1)으로 이동하고, 제 1 이송부(100)는 또 다른 제 1 기판(S1)의 이송을 위해 제 2 방향(DR2)으로 이동할 수 있다. 이처럼, 제 1 이송부(100)가 제 2 방향(DR2)으로 이동하는 동안 제 2 기판(S2)은 제 1 이송부(100)의 상부에서 제 1 방향(DR1)으로 진행할 수 있다.Thereafter, as in the case of FIG. 10C, the first substrate S1 subjected to the grinding process moves in the first direction DR1, and the first transfer section 100 is moved by the transfer of another first substrate S1 In the second direction DR2. As such, while the first transfer unit 100 moves in the second direction DR2, the second substrate S2 can move in the first direction DR1 from above the first transfer unit 100. [

한편, 도시하지는 않았지만, 제 1, 2 기판(S1, S2)을 이동시키는 롤러(Roller)가 더 배치될 수 있다. 이러한 경우, 제 1, 2 기판(S1, S2)은 제 1, 2 이송부(100, 110)의 안내에 따라 롤러 상부를 이동할 수 있다. 이러한 구성에서는, 제 1, 2 이송부(100, 110)는 제 1, 2 기판(S1, S2)의 균형을 유지하고, 제 1, 2 기판(S1, S2)의 정렬(Align)을 맞출 수 있다.On the other hand, although not shown, rollers for moving the first and second substrates S1 and S2 may be further disposed. In this case, the first and second substrates S1 and S2 can move above the rollers according to the guidance of the first and second transfer units 100 and 110. [ In such a configuration, the first and second transfer units 100 and 110 can balance the first and second substrates S1 and S2 and align the alignment of the first and second substrates S1 and S2 .

도 11을 살펴보면, 제 2 이송부(110)는 제 2 기판(S2)에 흡착되는 제 2 흡착부(Second Adsorption Part, 111), 제 2 흡착부(111)를 지지하는 제 2 지지부(Second Supporter, 112), 제 2 지지부(112)를 수직방향(DRV)으로 이동시키는 제 2 수직 액추에이터(Second Vertical Actuator, 113), 제 2 지지부(112)를 수평방향(DRH)으로 이동시키는 제 1 수평 액추에이터(First Horizontal Actuator, 117) 및 제 2 지지부(112)를 제 1 방향(DR1) 또는 제 2 방향(DR2)으로 이동시키는 제 2 모터부(Second Motor Part, 114)를 포함할 수 있다.11, the second transfer part 110 includes a second adsorption part 111 to be adsorbed on the second substrate S2, a second supporter to support the second adsorption part 111, A second vertical actuator 113 for moving the second support part 112 in the vertical direction DRV and a first horizontal actuator 112 for moving the second support part 112 in the horizontal direction DRH, And a second motor part 114 for moving the first horizontal actuator 117 and the second support part 112 in a first direction DR1 or a second direction DR2.

제 2 이송부(110)는 제 2 수직 엑추에이터(113)를 설치/고정하기 위한 제 2 베이스부(115)를 더 포함할 수 있다.The second transfer unit 110 may further include a second base unit 115 for mounting / fixing the second vertical actuator 113.

아울러, 제 2 이송부(110)는 제 2 베이스부(115)에 연결되는 제 3 베이스부(116)를 더 포함하고, 제 1 수평 엑추에이터(117)는 제 2 베이스부(115)에 이동가능하도록 연결될 수 있다.The second conveyance unit 110 may further include a third base unit 116 connected to the second base unit 115 and the first horizontal actuator 117 may be movable to the second base unit 115 Can be connected.

아울러, 제 2 이송부(110)는 제 1 수평 엑추에이터(117) 및/또는 제 2 모터부(114)를 설치/고정하기 위한 제 4 베이스부(118)를 더 포함할 수 있다.The second transfer unit 110 may further include a fourth base unit 118 for mounting / fixing the first horizontal actuator 117 and / or the second motor unit 114.

제 2 모터부(114)는 제 2 이송부(110) 전체를 제 1 방향(DR1) 또는 제 2 방향(DR2)으로 이동시킬 수 있다.The second motor unit 114 can move the entire second transfer unit 110 in the first direction DR1 or the second direction DR2.

이러한 구성의 제 2 이송부(110)는 적어도 제 2 기판(S2)의 양쪽을 지지하기 위해 제 2-1 이송부(110A)와 제 2-2 이송부(110B)를 포함할 수 있다. 여기서, 제 2-1 이송부(110A)와 제 2-2 이송부(110B)의 구성은 동일하며 Y축(세로측) 대칭일 수 있다. 여기서는, 제 2 이송부(110)가 제 2-1 이송부(110A)와 제 2-2 이송부(110B)로 구성되는 경우를 예로 들었지만, 제 2 이송부(110)에 포함되는 서브 이송부의 개수는 다양하게 변경될 수 있다.The second transfer unit 110 having such a configuration may include a second-first transfer unit 110A and a second-second transfer unit 110B to support at least both sides of the second substrate S2. Here, the configurations of the second-first transfer unit 110A and the second-second transfer unit 110B are the same and may be symmetrical with respect to the Y-axis (longitudinal side). Although the second conveying unit 110 includes the second conveying unit 110A and the second conveying unit 110B, the number of the second conveying units included in the second conveying unit 110 may vary can be changed.

제 2 흡착부(111)는, 앞선 도 8에서 설명한 바와 같이, 공기를 빨아들이는 힘으로 제 2 기판(S2)에 흡착될 수 있다.The second adsorption unit 111 can be adsorbed to the second substrate S2 by the force of sucking air, as described above with reference to FIG.

제 2 흡착부(111)는 제 2 지지부(112)의 끝단에 배치될 수 있다.The second adsorption part 111 may be disposed at the end of the second support part 112.

제 2 지지부(112)는 제 2 수직 엑추에이터(113)에 이동가능하도록 연결될 수 있다. 이러한 제 2 지지부(112)는 제 2 수직 엑추에이터(113)의 수직방향(DRV)으로의 이동에 연동하여 수직방향(DRV)으로 이동할 수 있다.The second support 112 may be movably connected to the second vertical actuator 113. The second support portion 112 can move in the vertical direction DRV in conjunction with the movement of the second vertical actuator 113 in the vertical direction DRV.

이에 대해서는 앞선, 도 9의 (A), (B)의 설명으로부터 충분히 유추될 수 있으므로, 더 이상의 설명은 생략한다.This can be sufficiently inferred from the description of FIGS. 9 (A) and 9 (B), so that further explanation is omitted.

제 1 수평 엑추에이터(117)는 제 3 베이스부(116)에 이동가능하도록 연결되고, 이에 따라 제 1 수평 엑추에이터(117)가 설치/고정된 제 4 베이스부(118)는 제 1 수평 엑추에이터(117)의 수평방향(DRH)으로의 움직임에 연동하여 수평방향(DRH)으로 이동할 수 있다.The first horizontal actuator 117 is movably connected to the third base portion 116 so that the fourth base portion 118 to which the first horizontal actuator 117 is installed / fixed is connected to the first horizontal actuator 117 In the horizontal direction DRH in conjunction with the movement in the horizontal direction DRH.

예를 들면, 도 12의 (A)의 경우와 같이, 제 1 수평 엑추에이터(117)가 수평방향(DRH)의 우측방향으로 제 3 베이스부(116)를 이동시킬 수 있다. 이러한 경우, 제 2 베이스부(115)가 제 3 베이스부(116)의 움직임에 연동하여 우측방향으로 이동할 수 있다.For example, as in the case of FIG. 12A, the first horizontal actuator 117 can move the third base portion 116 in the right direction of the horizontal direction DRH. In this case, the second base portion 115 can move in the right direction in association with the movement of the third base portion 116. [

반면에, 도 12의 (B)의 경우와 같이, 제 1 수평 엑추에이터(117)가 수평방향(DRH)의 좌측방향으로 제 3 베이스부(116)를 이동시킬 수 있다. 이러한 경우, 제 2 베이스부(115)가 제 3 베이스부(116)의 움직임에 연동하여 좌측방향으로 이동할 수 있다.On the other hand, as in the case of FIG. 12B, the first horizontal actuator 117 can move the third base portion 116 in the left direction of the horizontal direction DRH. In this case, the second base portion 115 can move in the left direction in association with the movement of the third base portion 116.

상기와 같이, 제 1 이송부(100)는 제 1 기판(S1)의 그라인딩이 종료된 이후 제 1 기판(S1)의 하측으로 이동하고, 이후 제 2 기판(S2)의 하측에서 제 2 방향(DR2)으로 이동하는 부분을 포함할 수 있다.As described above, the first transfer unit 100 moves to the lower side of the first substrate S1 after the grinding of the first substrate S1 is completed, and then moves downward from the second substrate S2 in the second direction DR2 ). ≪ / RTI >

반면에, 제 2 이송부(110)는 제 2 기판(S2)의 그라인딩이 종료된 이후 제 2 기판(S2)의 하측으로 이동하고, 제 1, 2 방향(DR1, DR2)과 교차하는 수평방향(DRH)으로 이동하고, 이후 제 1 기판(S1)의 하측에서 제 2 방향(DR2)으로 이동하는 부분을 포함할 수 있다.On the other hand, the second transfer part 110 moves to the lower side of the second substrate S2 after the grinding of the second substrate S2 is finished, and the second transfer part 110 moves in the horizontal direction crossing the first and second directions DR1 and DR2 DRH), and then moves from the lower side of the first substrate S1 to the second direction DR2.

도 13의 (A)를 살펴보면, 제 2-1 이송부(110A), 제 2-2 이송부(110B), 제 2-3 이송부(110C) 및 제 2-4 이송부(110D)를 포함하는 제 2 이송부(110)가 제 2 기판(S2)을 제 1 방향(DR1)으로 이송할 수 있다. 이러한 이송과정에서 제 2 기판(S2)이 그라인딩될 수 있다.Referring to FIG. 13A, the second conveying unit 110A includes a second conveying unit 110A, a second conveying unit 110B, a second conveying unit 110C, and a second conveying unit 110D. The first substrate 110 can transfer the second substrate S2 in the first direction DR1. In this transfer process, the second substrate S2 can be ground.

제 2 이송부(110)의 제 2-1 이송부(110A), 제 2-2 이송부(110B), 제 2-3 이송부(110C) 및 제 2-4 이송부(110D)는 각각 제 2 기판(S2)의 모서리(Corner) 부분을 지지할 수 있다.The second-first transfer unit 110A, the second-second transfer unit 110B, the second-third transfer unit 110C, and the second-fourth transfer unit 110D of the second transfer unit 110 are connected to the second substrate S2, And can support a corner portion of the light emitting diode.

이후, 도 13의 (B)의 경우와 같이, 제 2 이송부(110)가 수직방향(DRV)의 하측방향으로 이동하면, 제 2 기판(S2)이 제 2 이송부(110)로부터 이탈할 수 있다. 아울러, 제 2 이송부(110)로부터 이탈되며 그라인딩처리된 제 2 기판(S2)은 제 1 방향(D1)으로 이동할 수 있다.13 (B), when the second conveying unit 110 moves downward in the vertical direction DRV, the second substrate S2 can be separated from the second conveying unit 110 . In addition, the second substrate S2 separated from the second transfer unit 110 and subjected to the grinding process can move in the first direction D1.

이후, 제 2 이송부(110)는 또 다른 제 2 기판(S2)의 이송을 위해 제 2 방향(DR2)으로 이동할 수 있다. 이처럼, 제 2 이송부(110)가 제 2 방향(DR2)으로 이동하는 동안 제 1 기판(S1)은 제 2 이송부(110)의 상부에서 제 1 방향(DR1)으로 진행할 수 있다.Then, the second transfer unit 110 can move in the second direction DR2 for transferring another second substrate S2. The first substrate S1 can move in the first direction DR1 from above the second transfer unit 110 while the second transfer unit 110 moves in the second direction DR2.

한편, 제 2 기판(S2)이 제 2 이송부(110)로부터 이탈된 이후부터 제 2 이송부(110)가 제 2 방향(DR2)으로 이동하기 이전까지의 기간동안, 도 13의 (C)의 경우와 같이, 제 1 이송부(100)와 제 2 이송부(110)간의 원활한 자리교대를 위해 제 2 이송부(110)의 제 2 지지부(115)가 수평방향(DRH)으로 이동할 수 있다.During the period from when the second substrate S2 is released from the second transfer unit 110 to before the second transfer unit 110 moves in the second direction DR2, The second support part 115 of the second conveyance part 110 can be moved in the horizontal direction DRH to smoothly shift the position between the first conveyance part 100 and the second conveyance part 110. [

이러한 경우, 제 1 이송부(100)가 제 1 방향(DR1)으로 이동하고 제 2 이송부(110)가 제 2 방향(DR2)으로 이동하는 경우에, 제 2 이송부(110)의 수직방향(DRV)으로의 움직임 정도가 상대적으로 작은 경우에도 제 1 이송부(100)와 제 2 이송부(110)가 충돌하거나 접촉하는 것을 방지할 수 있다.In this case, when the first conveying unit 100 moves in the first direction DR1 and the second conveying unit 110 moves in the second direction DR2, the vertical direction DRV of the second conveying unit 110, The first conveyance unit 100 and the second conveyance unit 110 can be prevented from colliding or contacting with each other even when the movement of the first conveyance unit 100 to the second conveyance unit 110 is relatively small.

도 10의 (C)에서는, 제 2 이송부(110)의 제 2 지지부(115)들이 서로 근접하는 방향으로 이동하는 경우를 예로 들었지만, 제 2 이송부(110)의 제 2 지지부(115)들이 서로 멀어지는 방향으로 이동하는 경우도 가능할 수 있다.10C, the second supporting portions 115 of the second conveying portion 110 are moved in directions close to each other. However, the second supporting portions 115 of the second conveying portion 110 may be spaced apart from each other It is also possible to move in the direction of the arrow.

또한, 도 10의 (C)의 경우와 같이, 제 2 이송부(110)의 제 2 지지부(115)가 수평방향(DRH)으로 이동한 상태에서 제 2 방향(DR2)으로 이동한 이후에, 제 2 이송부(110)에 또 다른 제 2 기판(S2)을 배치하기 위해 제 2 이송부(110)의 제 2 지지부(115)들의 위치가 이전 위치로 환원될 수 있다.10 (C), after the second support portion 115 of the second conveyance portion 110 moves in the second direction DR2 while being moved in the horizontal direction DRH, The position of the second support portions 115 of the second transfer portion 110 may be reduced to the previous position to dispose another second substrate S2 on the second transfer portion 110. [

이러한 경우, 제 1 이송부(100)의 제 1 흡착부(101)가 제 1 기판(S1)에 흡착되는 위치와 제 2 이송부(110)의 제 2 흡착부(111)가 제 2 기판(S2)에 흡착되는 위치는 대략 동일할 수 있다.The first suction unit 101 of the first transfer unit 100 is sucked to the first substrate S1 and the second suction unit 111 of the second transfer unit 110 is sucked to the second substrate S2, May be approximately the same.

자세하게는, 도 14의 (A)의 경우와 같이, 제 1 이송부(100)의 제 1 흡착부(101)가 제 1 기판(S1)에 흡착된 상태에서, 제 1 흡착부(101)와 제 1 기판(S1)의 끝단 사이의 간격(W1)을 제 1 간격이라 가정하자. 아울러, 도 14의 (B)의 경우와 같이, 제 2 이송부(110)의 제 2 흡착부(111)가 제 2 기판(S2)에 흡착된 상태에서, 제 2 흡착부(111)와 제 2 기판(S2)의 끝단 사이의 간격(W2)을 제 2 간격이라 가정하자.Specifically, as in the case of Fig. 14A, the first adsorption portion 101 of the first transfer portion 100 is adsorbed on the first substrate S1, Assume that the interval W1 between the ends of one substrate S1 is the first interval. 14 (B), the second suction portion 111 of the second transfer portion 110 is attracted to the second substrate S2, and the second suction portion 111 and the second suction portion 111 And the interval W2 between the ends of the substrate S2 is a second interval.

이러한 경우, 제 1 간격(W1)과 제 2 간격(W2)의 차이는 미리 설정된 임계범위 내에 포함될 수 있다. 또는, 제 1 간격(W1)과 제 2 간격(W2)은 대략 동일할 수 있다.In this case, the difference between the first interval W1 and the second interval W2 may be included within a predetermined threshold range. Alternatively, the first interval W1 and the second interval W2 may be substantially the same.

한편, 도 15 내지 도 16을 살펴보면, 제 1 이송부(100)와 제 2 이송부(110)의 자리 교대 시에 서로 간의 간섭을 줄이기 위해, 제 2 이송부(110)의 제 2 지지부(112)의 형상은 다양하게 변경될 수 있다.15 to 16, in order to reduce interference between the first transfer unit 100 and the second transfer unit 110, the shape of the second support unit 112 of the second transfer unit 110 Can be variously changed.

자세하게는, 도 16의 경우와 같이, 제 2 지지부(112)는 수직방향(DRV)으로 연장되는 베이스 지지부(112a), 베이스 지지부(112a)로부터 수평방향(DRH)으로 연장되는 수평 지지부(112b), 수평 지지부(112b)로부터 수직방향(DRV)으로 연장되는 수직 지지부(112c)를 포함할 수 있다.16, the second support portion 112 includes a base support portion 112a extending in the vertical direction DRV, a horizontal support portion 112b extending in the horizontal direction DRH from the base support portion 112a, And a vertical support portion 112c extending in the vertical direction DRV from the horizontal support portion 112b.

수직 지지부(112c)에 제 2 흡착부(111)가 배치될 수 있다.And the second adsorption part 111 may be disposed on the vertical support part 112c.

아울러, 수직 지지부(112c)는 베이스 지지부(112a)보다 제 1 패널(S1)의 끝단에 더 근접하게 위치할 수 있다.In addition, the vertical support portion 112c may be located closer to the end of the first panel S1 than the base support portion 112a.

이러한 구성에서, 도 17의 경우와 같이, 제 1 이송부(100)가 제 1 기판(S1)을 이송하고 제 2 이송부(110)가 제 2 방향(DR2)으로 이동하는 경우에, 수직방향(DRV)으로 제 2 흡착부(111)와 제 1 기판(S1)은 소정거리(d1) 이격되고, 수평방향(DRH)으로 제 1 지지부(102)와 제 2 지지부(112)의 수직 지지부(112c)도 소정거리(d2) 이격될 수 있다.17, when the first transfer unit 100 transfers the first substrate S1 and the second transfer unit 110 moves in the second direction DR2, the vertical direction DRV The second adsorption unit 111 and the first substrate S1 are separated from each other by a predetermined distance d1 and the first support unit 102 and the vertical support unit 112c of the second support unit 112 in the horizontal direction DRH, Can also be spaced apart by a predetermined distance d2.

이는, 앞선 도 12 내지 도 13에서 설명한 바와 같이, 제 2 지지부(112)가 수평방향(DRH)으로 이동하였기 때문이다.This is because the second support portion 112 has moved in the horizontal direction (DRH) as described in Figs. 12 to 13 above.

한편, 제 2 이송부(110)가 제 2 기판(S2)을 이송하고 제 1 이송부(100)가 제 2 방향(DR2)으로 이동하는 경우에는, 도 18의 경우와 같이, 수직방향(DRV)으로 제 1 흡착부(101)와 제 2 기판(S2)은 소정거리(d5) 이격되고, 수평방향(DRH)으로 제 1 지지부(102)와 제 2 지지부(112)의 베이스 지지부(112a)도 소정거리(d4) 이격될 수 있다.On the other hand, when the second transfer unit 110 transfers the second substrate S2 and the first transfer unit 100 moves in the second direction DR2, The first adsorption unit 101 and the second substrate S2 are separated by a predetermined distance d5 and the first support unit 102 and the base support unit 112a of the second support unit 112 are also rotated in the horizontal direction DRH, Distance d4.

자세하게는, 제 1 이송부(100)가 수직방향(DRV)의 하측방향으로 이동함으로써, 수직방향(DRV)으로 제 1 흡착부(101)는 제 2 지지부(112)의 수직 지지부(112c)의 하부에 위치할 수 있다. 아울러, 수직방향(DRV)으로 제 1 흡착부(101)는 제 2 지지부(112)의 수직 지지부(112c)와 소정거리(d3) 이격될 수 있다.More specifically, the first transfer part 100 moves in the downward direction of the vertical direction DRV, so that the first suction part 101 moves in the vertical direction DRV to the lower part of the vertical support part 112c of the second support part 112 Lt; / RTI > The first adsorption unit 101 may be separated from the vertical support unit 112c of the second support unit 112 by a predetermined distance d3 in the vertical direction DRV.

이처럼, 제 1 이송부(100)는 수직방향(DRV), 제 1 방향(DR1) 및 제 2 방향(DR2)으로 움직이고, 수평방향(DRH)으로는 움직이지 않더라도, 제 1 이송부(100)와 제 2 이송부(110) 간의 간섭을 억제할 수 있다.The first conveying unit 100 moves in the first direction DR1 and the second direction DR2 while the first conveying unit 100 moves in the vertical direction DRV, 2 transferring unit 110 can be suppressed.

도 19 내지 도 23은 기판을 회전시키고, 회전된 상태의 기판을 가공하는 장치 및 방법에 대해 설명하기 위한 도면이다. 이하에서는 이상에서 상세히 설명한 부분의 설명은 생략한다.19 to 23 are views for explaining an apparatus and a method for rotating a substrate and processing a substrate in a rotated state. Hereinafter, the description of the parts described in detail above will be omitted.

도 19를 살펴보면, 제 1 그라인딩 단계에서 제 1, 2 기판(S1, S2)을 그라인딩 처리한 이후에, 제 1, 2 기판(S1, S2)을 회전시킬 수 있다.19, after the first and second substrates S1 and S2 are grinded in the first grinding step, the first and second substrates S1 and S2 may be rotated.

예를 들면, 도 19의 (A)의 경우와 같이, 제 1 그라인딩 단계에서 제 1 기판(S1)의 제 1 장변(LS1)과 제 2 장변(LS2)을 제 1 그라인더(200)로 그라인딩 처리한 경우에는, 제 1 기판(S1)의 제 1 단변(First Short Side, SS1)과 제 2 단변(Second Short Side, SS2)을 그라인딩처리하기 위해 제 1 기판(S1)을 90도(90°) 회전시킬 수 있다.19A, the first long side LS1 and the second long side LS2 of the first substrate S1 are grinded by the first grinder 200 in the first grinding step The first substrate S1 is rotated 90 degrees to grind the first short side SS1 and the second short side SS2 of the first substrate S1, .

이처럼, 제 1, 2 기판(S1, S2)을 회전시키기 위해, 본 발명에 따른 기판 가공장치는 도 19의 (B)의 경우와 같이, 제 1 그라인더(200)에 의한 제 1, 2 기판(S1, S2)의 그라인딩이 종료된 이후 제 1, 2 기판(S1, S2)을 회전시키는 회전부(Rotation Part, 300)를 더 포함할 수 있다.19 (B), the substrate processing apparatus according to the present invention for rotating the first and second substrates S1 and S2 has a structure in which the first and second substrates S1 and S2 are rotated by the first grinder 200, S1 and S2 after the grinding of the first and second substrates S1 and S2 is completed.

도 20을 살펴보면, 제 2 그라인딩 단계를 실시하기 위해 본 발명에 따른 기판 가공장치는 제 2 그라인더(Second Grinder, 400)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 20, in order to perform the second grinding step, the substrate processing apparatus according to the present invention may include a second grinder (400).

제 2 그라인더(400)는 복수의 그라인더 휠(401)을 포함할 수 있다. 예를 들면, 제 2 그라인더(400)는 제 1 기판(S1)의 제 1 단변(SS1) 측에 배치되는 적어도 하나의 그라인더 휠(401)과 제 1 기판(S1)의 제 1 단변(SS1)에 대항되는 제 2 단변(SS2) 측에 배치되는 적어도 하나의 그라인더 휠(401)을 포함할 수 있다.The second grinder 400 may include a plurality of grinder wheels 401. For example, the second grinder 400 includes at least one grinder wheel 401 disposed on the first short side SS1 side of the first substrate S1 and a first short side SS1 of the first substrate S1, And at least one grinder wheel 401 disposed on the second short side SS2 side opposite to the second short side SS2.

기판이 그라인딩되는 동안 제 2 그라인더(400)는 고정될 수 있다. 즉, 제 2 그라인더(400)가 고정된 상태에서 제 1 기판(S1) 혹은 제 2 기판(S2)이 이동하면서 그라인딩될 수 있는 것이다. 이에 대해서는 앞선 도 3으로부터 충분히 유추될 수 있다.The second grinder 400 may be fixed while the substrate is being ground. That is, the first substrate S1 or the second substrate S2 can be grinded while the second grinder 400 is fixed. This can be sufficiently inferred from FIG.

한편, 제 2 그라인딩 공정에서도 제 1 그라인딩 공정과 유사하게 공정의 속도를 더욱 향상시키기 위해 제 1 기판을 이송하는 제 3 이송부와 제 2 기판을 이송하는 제 4 이송부를 함께 사용할 수 있다. 이에 대해 보다 상세히 살펴보면 아래와 같다.Also, in the second grinding step, a third transfer part for transferring the first substrate and a fourth transfer part for transferring the second substrate may be used together to improve the speed of the process, similar to the first grinding step. This will be described in more detail below.

이하에서는 제 1 기판(S1)은 제 3 이송부(500)에 의해 이송되고, 제 2 기판(S2)은 제 4 이송부(510)에 의해 이송되는 경우를 예로 들어 설명하지만, 제 1 기판(S1)은 제 4 이송부(510)에 의해 이송되고, 제 2 기판(S2)은 제 3 이송부(500)에 의해 이송되는 경우도 가능할 수 있다.Although the first substrate S1 is transferred by the third transfer unit 500 and the second substrate S2 is transferred by the fourth transfer unit 510, And the second substrate S2 may be conveyed by the third conveyance unit 500. The second substrate S2 may be conveyed by the third conveyance unit 500,

도 21을 살펴보면, 제 2 그라인딩 공정(S130)에서는 제 3 이송부(Third Transportation Part, 500)에 제 1 기판(S1)을 배치할 수 있다(S500).Referring to FIG. 21, in the second grinding process (S130), the first substrate S1 may be disposed on the third transportation part 500 (S500).

이후, 제 3 이송부(500)에 제 1 기판(S1)이 배치된 상태에서 제 1 기판(S1)의 제 1, 2 단변(SS1, SS2)이 제 2 그라인더(400)에 의해 그라인딩되도록 제 3 이송부(500)를 제 1 방향(DR1)으로 이동시킬 수 있다. 이에 따라, 제 1 기판(S1)이 제 3 이송부(500)에 의해 제 1 방향(DR1)으로 이송되면서 그라인딩될 수 있다(S510).The first and second short sides SS1 and SS2 of the first substrate S1 are grinded by the second grinder 400 in a state where the first substrate S1 is disposed in the third transfer unit 500, The transfer unit 500 can be moved in the first direction DR1. Accordingly, the first substrate S1 can be grinded while being transferred in the first direction DR1 by the third transfer unit 500 (S510).

이후, 그라인딩 처리된 제 1 기판(S1)은 제 3 이송부(500)에서 이탈될 수 있다(S520).Thereafter, the first substrate S1 subjected to the grinding process may be separated from the third transfer unit 500 (S520).

또한, 제 4 이송부(Fourth Transportation Part, 510)에는 제 2 기판(S2)이 배치될 수 있다(S550).In addition, the second substrate S2 may be disposed on the fourth transportation part 510 (S550).

제 4 이송부(510)에 제 2 기판(S2)이 배치된 상태에서 제 2 기판(S2)의 제 1, 2 단변(SS1, SS2)이 제 2 그라인더(400)에 의해 그라인딩되도록 제 4 이송부(510)를 제 1 방향(DR1)으로 이동시킬 수 있다. 이에 따라, 제 2 기판(S2)이 제 4 이송부(510)에 의해 제 1 방향(DR1)으로 이송되면서 그라인딩될 수 있다(S560).The first and second short sides SS1 and SS2 of the second substrate S2 are grinded by the second grinder 400 in a state where the second substrate S2 is disposed on the fourth transfer unit 510, 510 in the first direction DR1. Accordingly, the second substrate S2 can be grinded while being transferred in the first direction DR1 by the fourth transfer unit 510 (S560).

이후, 그라인딩 처리된 제 2 기판(S2)은 제 4 이송부(510)에서 이탈될 수 있다(S570).Thereafter, the second substrate S2 subjected to the grinding process may be separated from the fourth transfer unit 510 (S570).

한편, 제 2 기판(S2)이 그라인딩되는 과정에서, 제 1 기판(S1)이 이탈된 제 3 이송부(500)는 다시 또 다른 제 1 기판(S1)을 그라인딩하기 위해 후방으로 이동할 수 있다(S530).Meanwhile, in the process of grinding the second substrate S2, the third transfer part 500 in which the first substrate S1 is separated may be moved backward to grind another first substrate S1 (S530 ).

후방으로 이동된 제 3 이송부(500)에는 또 다른 제 1 기판(S1)이 배치될 수 있다(S540).Another first substrate S1 may be disposed in the third transfer part 500 moved backward (S540).

이러한 제 3 이송부(500)와 제 4 이송부(510)의 동작 및 구성은 앞선 제 1 이송부(100) 및 제 2 이송부(110)의 동작 및 구성으로부터 충분히 유추될 수 있다.The operation and configuration of the third transfer unit 500 and the fourth transfer unit 510 can be sufficiently inferred from the operation and configuration of the first transfer unit 100 and the second transfer unit 110.

이하에서 제 3 이송부(500)는 제 1 이송부(100)에 대응되고, 제 4 이송부(510)는 제 2 이송부(110)에 대응될 수 있다.Hereinafter, the third transfer unit 500 corresponds to the first transfer unit 100, and the fourth transfer unit 510 corresponds to the second transfer unit 110.

도 22를 살펴보면, 제 3 이송부(500)와 제 4 이송부(510)는 앞서 설명한 제 1 이송부(100)와 제 2 이송부(110)와 비교할 때, 제 1 그라인딩된 제 1, 2 기판(S1, S2)을 회전시킨 이후에 제 2 그라인딩하는데 사용되는 것이 다르고, 나머지는 실질적으로 동일할 수 있다. 따라서, 도 22에 대한 상세한 설명은 생략한다.22, the third transfer part 500 and the fourth transfer part 510 have the same structure as the first transfer part 100 and the second transfer part 110 described above and the first and second substrates S1, S2), and the remainder may be substantially the same. Therefore, a detailed description of FIG. 22 is omitted.

예를 들어, 제 1 이송부(100)와 제 2 이송부(110)가 제 1, 2 기판(S1, S2)의 장변(LS1, LS2)을 그라인딩하기 위해 제 1, 2 기판(S1, S2)을 이송하는 것이고, 제 3 이송부(500)와 제 4 이송부(510)는 제 1, 2 기판(S1, S2)의 단변(SS1, SS2)을 그라인딩하기 위해 제 1, 2 기판(S1, S2)을 이송하는 것이다.For example, the first and second transfer units 100 and 110 may include first and second substrates S1 and S2 for grinding long sides LS1 and LS2 of the first and second substrates S1 and S2, The third transfer unit 500 and the fourth transfer unit 510 transfer the first and second substrates S1 and S2 to grind the short sides SS1 and SS2 of the first and second substrates S1 and S2 To be transferred.

도 23의 (A)를 살펴보면, 제 1 이송부(100)의 제 1-1 이송부(100A)와 제 1-2 이송부(100B)의 제 1 지지부(102) 사이의 거리는 제 1 거리(L1)일 수 있다.23A, the distance between the first transfer unit 100A of the first transfer unit 100 and the first support unit 102 of the first transfer unit 100B is a first distance L1 .

도 23의 (B)를 살펴보면, 제 3 이송부(500)의 제 3-1 이송부(500A)와 제 3-2 이송부(500B)의 제 1 지지부(502) 사이의 거리는 제 2 거리(L2)일 수 있다.Referring to FIG. 23B, the distance between the third-first transfer unit 500A of the third transfer unit 500 and the first support unit 502 of the third-second transfer unit 500B is a second distance L2 .

여기서, 제 2 거리(L2)는 제 1 거리(L1)보다 더 클 수 있다. 그 이유는, 제 3 이송부(500)는 기판(S1, S2)의 단변(SS1, SS2)을 그라인딩하기 위해 기판(S1, S2)을 제 1 방향(DR1)으로 이송하기 때문에, 제 1 지지부(502) 사이의 거리(L2)가 제 1 이송부(100)에 비해 더 큰 것이 바람직할 수 있는 것이다.Here, the second distance L2 may be larger than the first distance L1. The reason is that the third transfer part 500 transfers the substrates S1 and S2 in the first direction DR1 to grind the short sides SS1 and SS2 of the substrates S1 and S2, 502 may be larger than the distance L2 between the first transfer part 100 and the first transfer part 100. [

이와 같이, 상술한 본 발명의 기술적 구성은 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자가 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.As described above, it is to be understood that the technical structure of the present invention can be embodied in other specific forms without departing from the spirit and essential characteristics of the present invention.

그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 하고, 본 발명의 범위는 전술한 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.It should be understood, therefore, that the embodiments described above are to be considered in all respects as illustrative and not restrictive, the scope of the invention being indicated by the appended claims rather than the foregoing description, And all changes or modifications derived from equivalents thereof should be construed as being included within the scope of the present invention.

Claims (13)

제 1 그라인더(First Grinder);
제 1 기판이 이송되는 동안 측면이 상기 제 1 그라인더에 의해 그라인딩(Grinding)되도록 상기 제 1 기판을 제 1 방향(First Direction)으로 이송시키는 제 1 이송부(First Transportation Part); 및
제 2 기판이 이송되는 동안 측면이 상기 제 1 그라인더에 의해 그라인딩되도록 상기 제 2 기판을 상기 제 1 방향으로 이송시키는 제 2 이송부(Second Transportation Part);
를 포함하고,
상기 제 1 기판이 상기 제 1 그라인더에 의해 그라인딩되는 동안 상기 제 2 이송부는 상기 제 1 기판의 하측에서 상기 제 1 방향과 반대방향인 제 2 방향(Second Direction)으로 이동하고,
상기 제 2 기판이 상기 제 1 그라인더에 의해 그라인딩되는 동안 상기 제 1 이송부는 상기 제 2 기판의 하측에서 상기 제 2 방향으로 이동하며,
상기 제 1 이송부는 상기 제 1 기판의 그라인딩이 종료된 이후 상기 제 1 기판의 하측으로 이동하여 상기 제 2 기판의 하측에서 상기 제 2 방향으로 이동하는 부분을 포함하고,
상기 제 2 이송부는 상기 제 2 기판의 그라인딩이 종료된 이후 상기 제 2 기판의 하측으로 이동하고, 상기 제 1, 2 방향과 교차하는 수평방향(Horizontal Direction)으로 이동하여, 상기 제 1 기판의 하측에서 상기 제 2 방향으로 이동하는 부분을 포함하는 기판 가공장치.
A first grinder;
A first transfer part for transferring the first substrate in a first direction so that a side surface of the first substrate is grinded by the first grinder while the first substrate is being transferred; And
A second transfer part for transferring the second substrate in the first direction so that the side surface is grinded by the first grinder while the second substrate is being transferred;
Lt; / RTI >
The second transfer part is moved from a lower side of the first substrate in a second direction opposite to the first direction while the first substrate is being grinded by the first grinder,
The first transfer part moves in the second direction from the lower side of the second substrate while the second substrate is ground by the first grinder,
Wherein the first transfer portion includes a portion that moves to the lower side of the first substrate after the grinding of the first substrate is finished and moves in the second direction from the lower side of the second substrate,
Wherein the second transfer part moves to a lower side of the second substrate after the grinding of the second substrate is completed and moves in a horizontal direction crossing the first and second directions, And moving in the second direction.
제 1 항에 있어서,
상기 제 1 이송부는
상기 제 1 기판에 흡착되는 제 1 흡착부(First Adsorption Part);
상기 제 1 흡착부를 지지하는 제 1 지지부(First Supporter);
상기 제 1 지지부를 상기 제 1, 2 방향 및 상기 수평방향과 교차하는 수직방향(Vertical Direction)으로 이동시키는 제 1 수직 액추에이터(First Vertical Actuator); 및
상기 제 1 지지부를 상기 제 1 방향 또는 상기 제 2 방향으로 이동시키는 제 1 모터부(First Motor Part);
를 포함하고,
상기 제 2 이송부는
상기 제 2 기판에 흡착되는 제 2 흡착부(Second Adsorption Part);
상기 제 2 흡착부를 지지하는 제 2 지지부(Second Supporter);
상기 제 2 지지부를 상기 수직방향으로 이동시키는 제 2 수직 액추에이터(Second Vertical Actuator);
상기 제 2 지지부를 상기 수평방향으로 이동시키는 제 1 수평 액추에이터(First Horizontal Actuator); 및
상기 제 2 지지부를 상기 제 1 방향 또는 상기 제 2 방향으로 이동시키는 제 2 모터부(Second Motor Part);
를 포함하는 기판 가공장치.
The method according to claim 1,
The first conveying portion
A first adsorption unit adsorbed on the first substrate;
A first supporter for supporting the first adsorption unit;
A first vertical actuator for moving the first supporting portion in a first direction, a second direction and a vertical direction intersecting the horizontal direction; And
A first motor part for moving the first support part in the first direction or the second direction;
Lt; / RTI >
The second conveying portion
A second adsorption part adsorbed on the second substrate;
A second supporter for supporting the second adsorption part;
A second vertical actuator for moving the second support in the vertical direction;
A first horizontal actuator for moving the second support in the horizontal direction; And
A second motor part for moving the second support part in the first direction or the second direction;
And the substrate processing apparatus.
제 1 항에 있어서,
상기 제 1 기판 및 상기 제 2 기판이 그라인딩되는 동안 상기 제 1 그라인더는 고정되는 기판 가공장치.
The method according to claim 1,
Wherein the first grinder is fixed while the first substrate and the second substrate are grinded.
제 1 항에 있어서,
상기 제 1 그라인더에 의한 상기 제 1 기판의 그라인딩이 종료된 이후 상기 제 1 기판은 제 1 이송부로부터 이탈되고,
상기 제 1 그라인더에 의한 상기 제 2 기판의 그라인딩이 종료된 이후 상기 제 2 기판은 제 2 이송부로부터 이탈되는 기판 가공장치.
The method according to claim 1,
After the grinding of the first substrate by the first grinder is completed, the first substrate is separated from the first conveyance unit,
And the second substrate is separated from the second transfer unit after the grinding of the second substrate by the first grinder is completed.
제 2 항에 있어서,
상기 제 1 그라인더에 의한 상기 제 1, 2 기판의 그라인딩이 종료된 이후 상기 제 1, 2 기판을 회전시키는 회전부(Rotation Part)를 더 포함하는 기판 가공장치.
3. The method of claim 2,
Further comprising a rotation part for rotating the first and second substrates after the grinding of the first and second substrates by the first grinder is completed.
제 5 항에 있어서,
제 2 그라인더(Second Grinder);
상기 제 1 기판이 회전된 상태에서 이송되는 동안 측면이 상기 제 2 그라인더에 의해 그라인딩되도록 상기 제 1 기판을 상기 제 1 방향으로 이송시키는 제 3 이송부(Third Transportation Part); 및
상기 제 2 기판이 회전된 상태에서 이송되는 동안 측면이 상기 제 2 그라인더에 의해 그라인딩되도록 상기 제 2 기판을 상기 제 1 방향으로 이송시키는 제 4 이송부(Fourth Transportation Part);
를 포함하는 기판 가공장치.
6. The method of claim 5,
A second grinder;
A third transfer part for transferring the first substrate in the first direction so that the side surface is grinded by the second grinder while the first substrate is being transported while being rotated; And
A fourth transfer part for transferring the second substrate in the first direction so that the side surface is grinded by the second grinder while the second substrate is being transported while being rotated;
And the substrate processing apparatus.
제 6 항에 있어서,
상기 제 1 기판 및 상기 제 2 기판이 그라인딩되는 동안 상기 제 2 그라인더는 고정되는 기판 가공장치.
The method according to claim 6,
Wherein the second grinder is fixed while the first substrate and the second substrate are grinded.
제 6 항에 있어서,
상기 제 1 그라인더 및 상기 제 2 그라인더 중 어느 하나는 상기 제 1, 2 기판의 장변(Long Side)을 그라인딩하고, 나머지 하나는 상기 제 1, 2 기판의 단변(Short Side)을 그라인딩하는 기판 가공장치.
The method according to claim 6,
Wherein one of the first grinder and the second grinder grinds the long side of the first and second substrates and the other grinds the short side of the first and second substrates, .
제 6 항에 있어서,
상기 제 1 기판이 상기 제 2 그라인더에 의해 그라인딩되는 동안 상기 제 3 이송부는 상기 제 1 기판의 하측에서 상기 제 2 방향으로 이동하고,
상기 제 2 기판이 상기 제 2 그라인더에 의해 그라인딩되는 동안 상기 제 4 이송부는 상기 제 2 기판의 하측에서 상기 제 2 방향으로 이동하는 기판 가공장치.
The method according to claim 6,
While the first substrate is being grinded by the second grinder, the third transfer part moves in the second direction from the lower side of the first substrate,
And the fourth transfer section moves in the second direction from the lower side of the second substrate while the second substrate is grinded by the second grinder.
제 6 항에 있어서,
상기 제 3 이송부는
상기 제 1 기판에 흡착되는 제 3 흡착부(Third Adsorption Part);
상기 제 3 흡착부를 지지하는 제 3 지지부(Third Supporter);
상기 제 3 지지부를 상기 수직방향으로 이동시키는 제 3 수직 액추에이터(Third Vertical Actuator); 및
상기 제 3 지지부를 상기 제 1 방향 또는 상기 제 2 방향으로 이동시키는 제 3 모터부(Third Motor Part);
를 포함하고,
상기 제 4 이송부는
상기 제 2 기판에 흡착되는 제 4 흡착부(Fourth Adsorption Part);
상기 제 4 흡착부를 지지하는 제 4 지지부(Fourth Supporter);
상기 제 4 지지부를 상기 수직방향으로 이동시키는 제 4 수직 액추에이터(Fourth Vertical Actuator); 및
상기 제 4 지지부를 상기 제 1 방향 또는 상기 제 2 방향으로 이동시키는 제 4 모터부(Fourth Motor Part);
를 포함하는 기판 가공장치.
The method according to claim 6,
The third conveying portion
A third adsorption part adsorbed on the first substrate;
A third supporter for supporting the third adsorption unit;
A third vertical actuator for moving the third support in the vertical direction; And
A third motor part for moving the third support part in the first direction or the second direction;
Lt; / RTI >
The fourth conveying portion
A fourth adsorption part adsorbed on the second substrate;
A fourth supporter for supporting the fourth adsorption unit;
A fourth vertical actuator for moving the fourth support in the vertical direction; And
A fourth motor part for moving the fourth support part in the first direction or the second direction;
And the substrate processing apparatus.
제 10 항에 있어서,
상기 제 3 이송부 및 상기 제 4 이송부 중 어느 하나는 상기 제 3 지지부 또는 상기 제 4 지지부를 상기 수평방향으로 이동시키는 제 2 수평 액추에이터(Second Horizontal Actuator)를 더 포함하는 기판 가공장치.
11. The method of claim 10,
Wherein one of the third transferring portion and the fourth transferring portion further comprises a second horizontal actuator for moving the third supporting portion or the fourth supporting portion in the horizontal direction.
제 1 항에 있어서,
상기 제 1 방향은 상기 제 1, 2 기판의 가공 공정의 진행방향인 기판 가공장치.
The method according to claim 1,
Wherein the first direction is a progressing direction of a processing step of the first and second substrates.
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