KR101466835B1 - 샤워헤드 조립체 - Google Patents

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KR101466835B1
KR101466835B1 KR1020130109617A KR20130109617A KR101466835B1 KR 101466835 B1 KR101466835 B1 KR 101466835B1 KR 1020130109617 A KR1020130109617 A KR 1020130109617A KR 20130109617 A KR20130109617 A KR 20130109617A KR 101466835 B1 KR101466835 B1 KR 101466835B1
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송웅섭
여인태
이영묵
명경은
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송웅섭
여인태
이영묵
명경은
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    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
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Abstract

본 발명의 실시예에 따른 샤워헤드 조립체는 복수의 플레이트를 결합시키는 결합부로 인한 제약 없이 가스홀을 설계조건에 따라 자유롭게 형성할 수 있고, 상기 결합부로 인하여 가스의 유동이 방해되는 문제를 방지하기 위한 것으로, 제1플레이트와, 상기 제1플레이트와의 사이에 가스가 유동하는 유동공간이 형성되도록 상기 제1플레이트로부터 이격되게 설치되며, 상기 유동공간과 연통되는 복수의 가스홀이 형성되는 제2플레이트와, 상기 제1플레이트와 상기 제2플레이트 사이에 설치되어 상기 제1플레이트와 상기 제2플레이트를 결합시키는 하나 이상의 결합부를 포함하고, 상기 결합부는, 상기 제1플레이트와 상기 제2플레이트 사이에서 상기 제1플레이트 및 상기 제2플레이트에 고정되고, 내부에 상기 유동공간과 하나 이상의 가스홀을 연통시키는 연통홀이 형성되는 연결부재를 포함할 수 있다.

Description

샤워헤드 조립체{SHOWER HEAD ASSEMBLY}
본 발명은 기판처리장치에 설치되어 가스가 분사되는 샤워헤드 조립체에 관한 것이다.
일반적으로, LCD, OLED 패널용 기판을 처리하는 대면적의 플라즈마 처리장치에서는 가스가 분사되는 샤워헤드 조립체의 크기가 피처리 기판보다 크게 구성된다. 따라서, 복수의 가스홀을 가지고 있는 플레이트 형상의 샤워헤드 조립체에는 그 자중에 의한 처짐이 필연적으로 발생한다. 이러한 처짐은 플라즈마 처리 공간 내에 균일한 환경을 조성하는 데에 있어 방해 요인으로 작용하며, 이에 따라, 공정 결과에 좋지 않은 결과를 초래한다.
특히, 일반적인 종래의 기판처리장치의 샤워헤드 조립체는 필요에 따라 복수의 플레이트로 구성된다. 이러한 구성의 목적은 샤워헤드 조립체를 통해 피처리 기판이 놓여 있는 공간으로 가스를 균일하게 분사 또는 인위적으로 불균일하게 분사하기 위함이다.
복수의 플레이트로 구성되는 샤워헤드 조립체에서, 하측에 위치된 플레이트의 처짐을 방지하기 위해, 복수의 플레이트 사이에는 복수의 플레이트를 서로 결합시키기 위한 결합부가 구비된다.
그런데, 복수의 플레이트 사이에 결합부가 구비되는 경우에는, 상기 결합부로 인하여 복수의 플레이트 사이를 유동하는 가스의 유동이 방해되는 문제가 발생하게 된다.
또한, 가스가 분사되는 위치와 결합부를 설치하기 위한 공간 사이의 간섭에 의하여 결합부가 위치하는 공간에 가스가 통과하는 가스홀을 형성하기가 불가능하다는 문제가 있다.
따라서, 결합부의 설치로 인하여, 가스홀의 위치가 불균일하게 배치되면, 가스 유동의 균일도 확보에 불리한 상황이 되어, 피처리 기판의 공정 품질이 저하되는 문제가 있다.
특히, 플라즈마를 이용하는 기판처리장치, 예를 들어, 파워가 인가되는 샤워헤드의 하면과 피처리 기판 사이가 비교적 가까운 PECVD 플라즈마 처리장치에서는, 샤워헤드 조립체의 처짐을 방지하기 위하여, 볼트 결합이 가능하도록 설치되는 결합부의 설치된 부분이 기판에 전사되어 기판 처리의 불량을 야기하는 심각한 문제점이 있다.
본 발명은 상기한 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은, 복수의 플레이트를 결합시키는 결합부로 인한 제약 없이 가스홀을 설계조건에 따라 자유롭게 형성할 수 있는 샤워헤드 조립체를 제공하는 데에 있다.
또한, 본 발명의 목적은, 복수의 플레이트를 결합시키는 결합부로 인하여 가스의 유동이 방해되는 문제를 방지할 수 있는 샤워헤드 조립체를 제공하는 데에 있다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 샤워헤드 조립체는, 제1플레이트와, 상기 제1플레이트와의 사이에 가스가 유동하는 유동공간이 형성되도록 상기 제1플레이트로부터 이격되게 설치되며, 상기 유동공간과 연통되는 복수의 가스홀이 형성되는 제2플레이트와, 상기 제1플레이트와 상기 제2플레이트 사이에 설치되어 상기 제1플레이트와 상기 제2플레이트를 결합시키는 하나 이상의 결합부를 포함하고, 상기 결합부는, 상기 제1플레이트와 상기 제2플레이트 사이에서 상기 제1플레이트 및 상기 제2플레이트에 고정되고, 내부에 상기 유동공간과 하나 이상의 가스홀을 연통시키는 연통홀이 형성되는 연결부재를 포함할 수 있다.
상기 제1플레이트와 상기 연결부재를 체결시키는 체결부재를 포함할 수 있다.
상기 연결부재는 상기 제1플레이트 또는 상기 제2플레이트와 일체로 형성될 수 있다.
상기 연결부재는 절연성 재질로 이루어질 수 있다.
상기 연통홀은, 상기 연결부재를 관통하는 제1연통홀과, 상기 제1연통홀과 하나 이상의 가스홀을 연통시키는 하나 이상의 제2연통홀을 포함할 수 있다.
상기 제1연통홀은 상기 연결부재에 방사상으로 복수로 형성될 수 있다.
한편, 본 발명의 실시예에 따른 샤워헤드 조립체는, 상기 제1플레이트 및 상기 제2플레이트 사이에 개재되어 유입되는 가스를 제2플레이트 상부 영역으로 균일하게 확산시키는 확산플레이트를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 연결부재에는 측방향으로 연장되어 상기 확산플레이트의 통과홀을 통하여 유입되는 가스를 측방향으로 분산시키는 가스분산부가 형성될 수 있다.
발명의 실시예에 따른 샤워헤드 조립체는, 제2플레이트의 처짐을 방지하기 위하여, 또는 제2플레이트의 절연을 위하여, 제1플레이트와 제2플레이트 사이에 하나 이상으로 형성되는 결합부가 내부에 유동공간과 하나 이상의 가스홀을 연통시키는 연통홀이 형성되는 연결부재를 포함하므로, 결합부에 의하여 가스의 유동이 방해되는 문제를 방지할 수 있고, 복수의 가스홀의 설치 위치가 제약을 받는 문제를 방지할 수 있으며, 복수의 가스홀을 설계조건에 따라 자유롭게 형성할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 샤워헤드 조립체가 설치되는 기판처리장치가 도시된 개략적인 단면도이다.
도 2는 도 1의 샤워헤드 조립체가 일부 확대되어 도시된 개략적인 단면도이다.
도 3은 도 1의 샤워헤드 조립체의 다른 실시예가 일부 확대되어 도시된 개략적인 단면도이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 샤워헤드 조립체가 설치되는 기판처리장치가 도시된 개략적인 단면도이다.
도 5는 도 4의 샤워헤드 조립체가 일부 확대되어 도시된 개략적인 단면도이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 샤워헤드 조립체에 대하여 설명한다.
도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 샤워헤드 조립체가 설치되는 기판처리장치는, 공정챔버(110)를 포함한다.
공정챔버(110)는 서로 분리 가능하게 결합되는 상부챔버(111) 및 하부챔버(112)를 포함할 수 있다. 하부챔버(112)에는 공정챔버(110) 내로 기판(S)을 반입시키고 공정챔버(110)로부터 기판(S)을 반출시키기 위한 게이트밸브(113)가 구비될 수 있다.
공정챔버(110)의 내부에는 피처리 기판(S)이 탑재되는 기판탑재부(120)가 설치된다.
기판탑재부(120)는 승강장치(130)와 연결될 수 있다. 이에 따라, 기판(S)이 반입 및 반출되는 과정에서 기판탑재부(120)가 상하로 승강될 수 있다.
기판탑재부(120)에 대향하는 공정챔버(110) 내부의 상측에는 공정챔버(110)의 내부로 처리가스가 유입되는 샤워헤드 조립체(210)가 설치된다.
샤워헤드 조립체(210)는 상부챔버(110)에 고정되는 제1플레이트(210)와, 제1플레이트(210)와의 사이에 가스가 유동하는 유동공간(250)이 형성되도록 제1플레이트(210)로부터 이격되게 설치되는 제2플레이트(220)를 포함한다. 제2플레이트(220)는 제1플레이트(210)와 함께 상부챔버(110)에 고정될 수 있다.
제1플레이트(210)와 제2플레이트(220) 사이의 유동공간(250)은 공정챔버(110)의 외부로 연장되는 도관(230)과 연통될 수 있다. 도관(230)은 가스공급장치(260)와 연결되며, 이에 따라, 가스공급장치(260)로부터 공급된 가스는 도관(230)을 통하여 유동공간(250)으로 유입될 수 있다.
제2플레이트(220)에는 유동공간(250)과 공정챔버(110)의 내부의 공간을 연통시키는 복수의 가스홀(221)이 형성된다. 따라서, 유동공간(250) 내로 공급된 가스는 복수의 가스홀(221)을 통과하여 공정챔버(110)의 내부로 유입될 수 있다.
복수의 가스홀(221)은 일정한 간격으로 형성될 수 있다. 이와 같은 경우, 가스는 일정한 간격으로 형성된 복수의 가스홀(221)을 통과하면서 공정챔버(110)의 내부로 균일하게 유입될 수 있다. 다만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 공정챔버(110)의 내부로 가스가 불균일하게 유입될 수 있도록, 복수의 가스홀(221) 사이의 간격, 복수의 가스홀(221)의 형상 등이 그 형성 위치에 따라 다르게 설정될 수 있다.
공정챔버(110)의 내부로 유입되는 가스의 균일도는, 제2플레이트(220)의 형상, 복수의 가스홀(221)의 형상, 개수, 간격 등에 의하여 결정될 수 있다. 이와 같은 가스의 균일도는 필연적으로 발생되는 제2플레이트(220)의 처짐에 영향을 받게 된다.
따라서, 이러한 제2플레이트(220)의 처짐을 방지하기 위해 제1플레이트(210)와 제2플레이트(220)의 사이에는 제1플레이트(210)와 제2플레이트(220)를 서로 결합시키는 하나 이상의 결합부(240)가 설치되는 것이 바람직하다.
이와 같이 제1플레이트(210)와 제2플레이트(220)의 사이에 하나 이상의 결합부(240)가 설치되는 경우에는, 유동공간(250)으로부터 복수의 가스홀(221)로 유입되는 가스의 유동이 결합부(240)에 의하여 방해될 수 있으며, 결합부(240)의 설치 위치로 인하여 복수의 가스홀(221)의 설치 위치가 제약을 받는 문제가 발생할 수 있다.
본 발명의 실시예에서는 이러한 문제를 해소할 수 있는 구성에 대하여 제시한다.
도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 샤워헤드 조립체(200)에서, 결합부(240)는, 제1플레이트(210)와 제2플레이트(220) 사이에서 제1플레이트(210) 및 제2플레이트(220)에 고정되고 내부에 유동공간(250)과 하나 이상의 가스홀(221)을 연통시키는 연통홀(244)이 형성되는 연결부재(241)를 포함할 수 있다.
연결부재(245)는 용접 등에 의하여 제1플레이트(210)에 견고하게 고정될 수 있다.
연결부재(245)에 형성되는 연통홀(244)은, 연결부재(245)에 대략적으로 수평으로 관통되는 제1연통홀(242)과, 제1연통홀(242) 및 하나 이상의 가스홀(221)을 연통시키는 하나 이상의 제2연통홀(243)을 포함할 수 있다.
제1연통홀(242)은 유동공간(250) 내의 가스를 제2연통홀(243)로 유도하는 역할을 수행한다. 여기에서, 유동공간(250) 내의 가스가 제1연통홀(242)을 통하여 제2연통홀(243)로 유입될 수 있다면, 제1연통홀(242)의 형상, 관통방향, 및 개수는 제한되지 않는다.
또한, 제1연통홀(242)은 제2연통홀(243)로 유입되는 유량을 확보하기 위해, 연결부재(245)에 방사상으로 복수로 형성될 수 있다. 또한, 가스의 균일한 유동을 위해, 복수의 제1연통홀(242)은 서로에 대하여 균일한 간격으로 형성될 수 있다.
제2연통홀(243)의 개수 및 위치는 그와 연결되는 가스홀(221)의 개수 및 위치와 대응될 수 있다.
이와 같은 구성에 따르면, 유동공간(250) 내의 가스가 제1연통홀(242) 및 제2연통홀(243)을 통과한 후 제2플레이트(220)에 형성된 복수의 가스홀(221)로 유입될 수 있다.
따라서, 제2플레이트(220)의 처짐을 방지하기 위해 제1플레이트(210)와 제2플레이트(220) 사이에 하나 이상의 결합부(240)가 설치되는 경우에도, 유동공간(250)으로부터 복수의 가스홀(221)로 이어지는 가스의 유동이 방해되지 않는다.
또한, 제1플레이트(210)와 제2플레이트(220) 사이에 하나 이상의 결합부(240)가 설치되는 경우에도, 복수의 가스홀(221)로 가스를 충분히 분배할 수 있으므로, 결합부(240)의 설치 위치로 인하여 복수의 가스홀(221)의 설치 위치가 제약을 받는 문제를 해소할 수 있으며, 이에 따라, 공정챔버(110) 내부로의 바람직한 가스의 유동을 형성할 수 있도록 복수의 가스홀(221)을 설계조건에 따라 자유롭게 형성할 수 있다.
한편, 연결부재(241)를 제1플레이트(210)에 고정시키기 위한 체결부재(245)가 구비될 수 있다. 체결부재(245)는 제1플레이트(210)를 관통한 후 연결부재(241)의 상부 일부에 삽입되면서 연결부재(241)를 제1플레이트(210)에 고정시킬 수 있다. 체결부재(245)는 나사가 될 수 있으며, 이와 같은 경우, 체결부재(245)가 관통하는 제1플레이트(210)의 관통홀(211)의 내면 및 체결부재(245)의 단부가 삽입되는 연결부재(241)의 수용홈(246)의 내면에는 각각 나사산이 형성될 수 있다.
한편, 연결부재(241)는 용접 등에 의하여 제1플레이트(210)에 직접적으로 결합될 수 있다. 또한, 연결부재(241)는, 제1플레이트(210)에 일체로 형성되고 제2플레이트(220)에 용접 등에 의하여 고정될 수 있거나, 제2플레이트(220)에 일체로 형성되고 제1플레이트(210)에 용접 등에 의하여 고정될 수 있다. 이와 같이 연결부재(241)가 제1플레이트(210) 및 제2플레이트(220)에 직접적으로 결합되는 경우에는 연결부재(210)의 높이에 의하여 제1플레이트(210) 및 제2플레이트(220) 사이의 간격이 결정될 수 있다.
또한, 다른 실시예로서, 도 3에 도시된 바와 같이, 제1플레이트(210)와 연결부재(241) 사이에는 연결부재(241)를 제1플레이트(210)에 고정시키기 위한 중간부재(247)가 개재될 수 있다.
이러한 중간부재(247)는 제1플레이트(210)와 제2플레이트(220) 사이의 간격을 일정하게 유지시키는 역할을 함께 수행할 수 있다. 중간부재(247)는 제1플레이트(210)에 용접 등에 의하여 고정될 수 있다. 또한, 중간부재(247)와 연결부재(241)는 나사와 같은 하나 이상의 체결부재(248)에 의하여 결합될 수 있다. 또한, 중간부재(247)와 연결부재(241)는 서로 일체로 형성될 수 있다.
상기한 바와 같은 본 발명의 실시예에 따른 샤워헤드 조립체의 구성에 따르면, 가스공급장치(260)로부터 공급된 가스는 도관(230)을 통하여 제1플레이트(210)와 제2플레이트(220) 사이의 유동공간(250)으로 유입되고 유동공간(250) 내에서 유동하면서 제1플레이트(210)와 제2플레이트(220) 사이에서 균일하게 분포된다.
그리고, 복수의 가스홀(221)이 유동공간(250)으로 직접적으로 노출된 위치에서는, 유동공간(250) 내에서 유동하는 가스가 복수의 가스홀(221)을 통하여 공정챔버(110)의 내부로 유입된다.
그리고, 제2플레이트(220)의 처짐을 방지하기 위하여 제1플레이트(210)와 제2플레이트(220) 사이에 하나 이상의 결합부(240)가 설치된 위치에서는, 유동공간(250) 내에서 유동하는 가스가 연결부재(241)의 연통홀(244)을 통하여 하나 이상의 가스홀(221)로 유입된 후 하나 이상의 가스홀(221)을 통하여 공정챔버(110)의 내부로 유입된다.
한편, 결합부(240)는 제2플레이트(220)의 처짐을 방지하는 역할을 수행할 뿐만 아니라, 제1플레이트(210)에 RF 파워가 인가되는 구성에서 제2플레이트(220)를 제1플레이트(210)로부터 절연시키는 역할을 수행할 수 있다. 이러한 경우에는, 결합부(240)의 연결부재(241)은 절연성 재질로 이루어지는 것이 바람직하다.
상기한 바와 같은 본 발명의 실시예에 따른 샤워헤드 조립체는, 제2플레이트(220)의 처짐을 방지하기 위하여, 또는 제2플레이트(220)의 절연을 위하여, 제1플레이트(210)와 제2플레이트(220) 사이에 하나 이상으로 형성되는 결합부(240)가 내부에 유동공간(250)과 하나 이상의 가스홀(221)을 연통시키는 연통홀(244)이 형성되는 연결부재(241)를 포함하므로, 결합부(240)에 의하여 가스의 유동이 방해되거나 복수의 가스홀(221)의 설치 위치가 제약을 받는 문제를 방지할 수 있고, 복수의 가스홀(221)을 설계조건에 따라 자유롭게 형성할 수 있다.
이하, 도 4 및 도 5를 참조하여 본 발명의 다른 실시예에 따른 샤워헤드 조립체에 대하여 설명한다. 전술한 실시예에서 설명한 부분과 동일한 부분에 대해서는 동일한 부호를 부여하고 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.
도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 샤워헤드 조립체는, 제1플레이트(210) 및 제2플레이트(220) 사이에 개재되어 도관(230)으로부터 유입되는 가스를 제2플레이트(220) 상부의 전체의 영역으로 균일하게 확산시키는 확산플레이트(300)를 더 포함할 수 있다.
확산플레이트(300)의 설치로 인하여, 유동공간(250)은, 제1플레이트(210) 및 확산플레이트(300) 사이의 제1유동공간(251)과, 확산플레이트(300) 및 제2플레이트(220) 사이의 제2유동공간(252)으로 구획된다.
확산플레이트(300)에는 제1유동공간(251)과 제2유동공간(252)를 서로 연통시키는 복수의 통과홀(301)이 형성된다.
이와 같은 구성에 따르면, 도관(230)을 통하여 유입된 가스는 제1유동공간(251) 내에서 일차적으로 균일하게 분산되고, 복수의 통과홀(301)을 통하여 제2유동공간(252)으로 유입된 후, 제2유공공간(252) 내에서 이차적으로 균일하게 분산된다. 따라서, 이러한 확산플레이트(300)를 설치함으로써, 공정챔버(110) 내로 가스를 보다 균일하게 유입시킬 수 있다.
한편, 연결부재(241)에는 방사상으로 연장되는 가스분산부(249)가 형성될 수 있다. 가스분산부(249)는 측방향으로 연장되는 형상으로 형성될 수 있다.
이와 같은 구성에 따르면, 확산플레이트(300)의 통과홀(301)을 통하여 제2유동공간(252)으로 유입되는 가스가 가스분산부(249)에 충돌되면서 측방향으로 분산되며, 이에 따라, 제2유동공간(252) 내에서 가스가 균일하게 분산될 수 있다.
이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 예시적으로 설명하였으나, 본 발명의 범위는 이와 같은 특정 실시예에만 한정되는 것이 아니며, 특허청구범위에 기재된 범주 내에서 적절하게 변경될 수 있다.
110: 공정챔버 200: 샤워헤드 조립체
210: 제1플레이트 220: 제2플레이트
240: 결합부 241: 연결부재
244: 연통홀 250: 유동공간

Claims (9)

  1. 공정챔버와, 상기 공정챔버 내부에 설치되어 피처리 기판이 탑재되는 기판탑재부와, 상기 기판탑재부에 대향되며 상기 공정챔버 내부의 상측에 설치되어 상기 공정챔버 내부로 처리가스를 분사하는 샤워헤드조립체를 포함하는 기판처리장치의 샤워헤드조립체로서,
    제1플레이트;
    상기 제1플레이트와의 사이에 가스가 유동하는 유동공간이 형성되도록 상기 제1플레이트로부터 이격되게 설치되며, 상기 유동공간과 연통되는 복수의 가스홀이 형성되는 제2플레이트; 및
    상기 제1플레이트와 상기 제2플레이트 사이에 설치되어 상기 제1플레이트와 상기 제2플레이트를 결합시키는 하나 이상의 결합부를 포함하고,
    상기 결합부는,
    상기 제1플레이트와 상기 제2플레이트 사이에서 상기 제2플레이트에 용접되어 고정결합되고, 내부에 상기 유동공간과 상기 복수의 가스홀들 중 일부의 가스홀들 각각과 연통시키는 복수의 연통홀들이 형성되는 연결부재와;
    상기 연결부재를 나사 결합에 의하여 상기 제1플레이트에 고정시켜 상기 제1플레이트와 상기 제2플레이트를 결합시키는 체결부재를 포함하며,
    상기 연통홀은,
    상기 유동공간과 연통되며 상기 연결부재를 관통하는 하나 이상의 제1연통홀; 및
    상기 제1연통홀과 연통되며 상기 복수의 가스홀들 중 일부의 가스홀들 각각에 대응되어 연통되는 복수의 제2연통홀들을 포함하며,
    상기 제1연통홀은 상기 연결부재에 상기 체결부재를 중심으로 방사상으로 복수로 형성된 것을 특징으로 하는 샤워헤드 조립체.
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  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 제1플레이트와 상기 연결부재 사이에는, 상기 제2플레이트와 나사에 의하여 결합되거나 용접에 의하여 고정되는 중간부재가 설치되며,
    상기 체결부재는 상기 중간부재와 나사결합되어 상기 연결부재를 상기 제1플레이트에 결합시키는 것을 특징으로 하는 샤워헤드 조립체.
  8. 청구항 1 또는 청구항 7에 있어서,
    상기 제1플레이트 및 상기 제2플레이트 사이에 개재되어 유입되는 가스를 제2플레이트 상부 영역으로 균일하게 확산시키는 확산플레이트를 더 포함하는 샤워헤드 조립체.
  9. 청구항 8에 있어서,
    상기 연결부재에는 측방향으로 연장되어 상기 확산플레이트의 통과홀을 통하여 유입되는 가스를 측방향으로 분산시키는 가스분산부가 형성되는 것을 특징으로 하는 샤워헤드 조립체.
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