KR101464884B1

KR101464884B1 - 균제도가 우수한 분섬용 폴리에스터 필라멘트사의 제조방법

Info

Publication number: KR101464884B1
Application number: KR20130073568A
Authority: KR
Inventors: 김대희; 김민철; 최용재
Original assignee: 도레이첨단소재 주식회사
Priority date: 2013-06-26
Filing date: 2013-06-26
Publication date: 2014-11-26

Abstract

본 발명은 균제도가 우수한 분섬용 폴리에스터 필라멘트사의 제조방법에 관한 것으로, 상기한 본 발명의 균제도가 우수한 분섬용 폴리에스터 필라멘트사의 제조방법은 고유점도 [η]가 0.640 내지 0.670인 폴리에스터 중합체를 방사구금에 일정간격으로 배치된 폴리머 토출구에서 토출된 폴리머를 단사간 일정하게 거리를 유지하면서 냉각장치에 의해 냉각하여 분섬용 폴리에스터 필라멘트사를 제조하는 방법에 있어서, 상기 냉각장치에 의한 냉각은 방사구금 직하에 아웃-인(OUT-IN) 방식의 환형냉각장치를 취부하여 토출된 폴리에스터 중합체를 냉각하여 제조함을 특징으로 한다.
상기와 같이 구성되는 본 발명의 균제도가 우수한 분섬용 폴리에스터 필라멘트사의 제조방법은 종래의 분섬사 설비의 개조 없이 통상의 설비로 생산이 가능하여 단가의 상승이 없고, 공정의 복잡성을 초래하지 않으면서도 단사간 우수한 냉각효율을 제공하여 균제도가 극히 향상되어 분섬 작업성과 생산성이 우수하고, 염색 등의 품질이 향상된 원사의 제조방법을 제공하여 설비를 효율적으로 활용할 수 있는 유용한 발명이다.

Description

균제도가 우수한 분섬용 폴리에스터 필라멘트사의 제조방법{Polyester filament yarn having an excellent indexes of evenness and the preparing method thereof}

본 발명은 균제도가 우수한 분섬용 폴리에스터 필라멘트사의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 구체적으로는 단사에 균일한 냉각 에어 공급 및 사날림 개선을 할 수 있는 특정한 방법을 적용함에 의해 분섬용 폴리에스터 필라멘트사의 균제도를 우수하게 개선시킴으로써 직물의 성능 및 외관적 품위를 향상시키고 또한 생산성의 향상을 도모할 수 있는 분섬용 폴리에스터 필라멘트사의 균제도를 향상할 수 있는 제조방법에 관한 것이다.

커튼지, 신발 소재, 한복의 안감지, 스크린 사 등에 사용되는 분섬사는 그 용도에 맞게 우수한 기계적 물성을 확보하는 방향으로 개발되어 왔다. 용도만큼 요구되는 물성도 다양하지만 분섬사는 통상적으로 100데니어에서 500데니어 수준의 제품이 생산되고 있으며, 상기 제품의 가닥 수에 따라 생성되는 그 단사 섬도는 5데니어에서 50데니어의 수준이다. FDY 방식의 필라멘트 생산공정에서는 토출되는 폴리머를 적정수준의 냉각 에어로 고화시켜줌으로써 이어지는 연신공정에서 우수한 작업성을 확보하게 해주는데, 단사에 접촉되는 냉각 에어의 균일성과 접촉되는 양에 의해 상기 제품을 모사, 분사, 정경, 가연 등의 형태로 제품화할 때 조업성, 분사성, 염색 등의 품질이 차이가 발생하게 된다.

분섬사는 높은 단사섬도로 인하여 원하는 양의 냉각 에어를 제공하기가 어렵고, 폴리머가 건물 상층에서 하층으로 이동하며 냉각시키는 제조공법 특성상, 냉각장은 건물 높이가 되므로 냉각장을 늘리는 것이 불가능하다.

한편, 풍속으로 풍량을 보상코자 할 때는 고화가 되지 않은 점성의 폴리머들이 냉각 프레임 밖으로 날리는 현상, 사의 유동증가로 인한 물성저하 및 단사간 편차가 발생하여 필라멘트의 균제도를 불량하게 하는 주원인이 되고 있어 바람직하지 않다. 이 단사간 질량 변동의 차이는 원사로 생산된 이후에도 스트레이트 분섬, 정경분섬, 가연분섬 등의 분섬시의 절사, 염색시 줄무늬 등으로 나타나 최종제품의 생산성과 품질을 극히 저하시키는 요인이 되고 있다.

상기한 바와 같은 이유로 종래부터 분섬사의 냉각효율 향상을 통하여 우수한 균제도를 가진 분섬사를 생산코자 국내외로 활발히 연구가 이루어져 왔는데, 예를 들어 일본특허 제2004-100138호는 "제직시에 백분이 발생하지 않고 성형성과 실 이송이 우수한 폴리에스터 섬유 및 그 제조방법"이라는 명칭으로 냉각온도를 10℃ 내지 15℃로 할 때 단사섬도 5데니어 내지 55데니어의 냉각부족을 해결할 수 있다라고 제시하고 있으며, 냉각풍의 출처인 냉동물 코일에 첨가되는 냉각매체는 냉각수, 에틸렌 글리콜을 사용하는 것을 개시하고 있으나, 상기 개시된 발명에서는 냉각 에어를 냉각매체를 따로 사용하여 제조함으로써 원가상승을 야기하고, 단순히 냉각온도의 저하만으로는 데니어에 따른 고화점, 사날림 현상 등을 해결할 수가 없음에도 정확한 스펙(spec.)은 제시하지 않고 있어 생산업체에서 일괄적으로 적용하기 어려운 점이 있어 실용화에 문제점이 있으며, 또한 분섬사의 분섬 작업성을 향상시키기 위한 것으로, 대한민국 특허출원 제2004-0118057호에서, "분사성을 향상시킨 폴리에스테르 분섬사의 제조방법"이라는 명칭으로, 중합물을 용융 방사하여 분사 작업성이 5 내지 10%향상된 단사섬도가 20 내지 50데니어 정도를 지니는 폴리에스테르 분섬사와 그 제조방법을 제공하기 위한 것으로, "단사섬도가 20 내지 50데니어이고, 단사수가 5 내지 30인 폴리에스테르 분섬사의 제조방법에 있어서, 방사유제로서 섬유금속간 동마찰계수가 0.20 내지 0.25, 섬유간(F/F)정마찰계수가 0.25 내지 0.30, 휘발오일링(ROLLER OILING)을 행하여 유제를 부여하는 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 분섬사의 제조방법"을 개시하고 있으나, 상기 개시된 특허발명은 분섬 작업성을 개선하기는 하지만, 특정유제와 이를 적용하는 특정장치를 사용하므로 작업공정이 복잡해지고 단가상승을 야기함과 동시에, 근본적으로 균제도의 향상이 아닌 분섬기법의 개발로 분섬성을 향상시키는 방법으로써 분섬이후의 품질, 예를들면 염색성 등에서는 아무런 효과가 나타나지 않는 근본적인 문제는 해결되지 않은 치명적인 단점이 있다.

따라서, 본 발명자 등은 상기한 종래의 문제점을 해결하기 위하여 예의 연구한 결과, 종래의 분섬사의 생산에 제조단가 상승 없이 냉각효율을 향상시켜 우수한 균제도를 가지는 분섬사를 생산하는 방법을 안출하게 되었으며, 이들 방법에 따라 제조된 사는 분섬성과 품질 등에서도 개선이 되었음을 밝혀내어 본 발명을 완성하게 되었다.

특허문헌 1: 일본 특허공개공보 제2004-100138호 특허문헌 2: 대한민국 특허공개공보 제2004-0118057호

따라서, 본 발명의 목적은 상기한 종래 기술에 있어서의 문제점을 감안하여 된 것으로, 본 발명의 제일 목적은 냉각효율을 향상시켜 생산성, 분섬 작업성, 염색 등의 품질이 우수한 폴리에스터 분섬사 원사의 제조 방법을 제공하기 위한 것이다.

본 발명의 다른 목적은 생산설비 및 제조방법의 최적화를 활용하여 제조 단가의 상승 없이 생산성과 분섬 작업성이 우수한 폴리에스터 분섬사를 제공하기 위한 것이다.

본 발명은 또한 상기한 명확한 목적 이외에 본 명세서의 전반적인 기술로부터 이 분야의 통상인에 의해 용이하게 도출될 수 있는 다른 목적을 달성함을 그 목적으로 할 수 있다.

통상적으로 분섬사의 질량 변동의 균일성은 단사에 접촉하는 냉각 에어의 풍량과 풍속, 풍온 등의 균일성을 행하는 것으로 달성될 수 있으나, 높은 단사섬도로 사날림, 냉각장의 한계 등이 문제가 되었는데, 본 발명자 등은 이러한 문제점을 예의 연구한 결과 단사에 균일한 냉각 에어 공급 및 사날림 개선을 할 수 있는 특정한 방법을 안출하여 제공하므로 상기 문제점을 해결할 수 있게 되어 본 발명의 목적을 달성하게 되었다.

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 균제도가 우수한 분섬용 폴리에스터 필라멘트사의 제조방법은;

고유점도 [η]가 0.640 내지 0.670인 폴리에스터 중합체를 방사구금에 일정간격으로 배치된 폴리머 토출구에서 토출된 폴리머를 단사간 일정하게 거리를 유지하면서 냉각장치에 의해 냉각하여 분섬용 폴리에스터 필라멘트사를 제조하는 방법에 있어서, 상기 냉각장치에 의한 냉각은 방사구금 직하에 아웃-인(OUT-IN) 방식의 환형냉각장치를 취부하여 토출된 폴리에스터 중합체를 냉각하여 제조함을 특징으로 한다.

본 발명의 다른 구성에 따르면, 상기 폴리에스터 중합체는 0.33 내지 0.36중량%의 이산화티탄을 함유하는 것임을 특징으로 한다.

본 발명의 또 다른 구성에 따르면, 상기한 폴리에스터 중합체는 일정한 간격의 W형 배열로 구성된 방사구금을 통해 방사하고 냉각함을 특징으로 한다.

본 발명의 또 다른 구성에 따르면, 상기 방사구금 직하에 설치된 환형냉각장치에 의한 1차 냉각 후, 종래의 설치되어있는 냉각설비로 2차 냉각시키는 2단의 냉각설비를 사용하여 제조함을 특징으로 한다.

본 발명의 또 다른 구성에 따르면, 상기한 냉각설비 중 1차 냉각을 하는 환형냉각장치는 원형으로 냉각 에어가 밖에서 안으로 휘감아 돌아나가는 방식으로 냉각시키며, 2차 냉각 냉각시키는 설비는 편면으로 한쪽 방면으로 냉각 에어를 분사하여 냉각시킴을 특징으로 한다.

본 발명의 또 다른 구성에 따르면, 상기 환형냉각장치는 150mm 내지 250mm의 길이로 기공사이즈는 25 내지 40um이고, 냉각 에어는 20m/min 내지 25m/min의 풍속으로 방출하는 것임을 특징으로 한다.

상기한 다른 목적을 달성하기 위한 본 발명의 균제도가 우수한 분섬용 폴리에스터 필라멘트사는;

고유점도 [η]가 0.640 내지 0.670인 폴리에스터 중합체를 방사구금에 일정간격으로 배치된 폴리머 토출구에서 토출된 폴리머를 단사간 일정하게 거리를 유지하면서 냉각장치에 의해 냉각하여 제조된 분섬용 폴리에스터 필라멘트사로서, 상기 냉각장치에 의한 냉각은 방사구금 직하에 아웃-인(OUT-IN) 방식의 환형냉각장치를 취부하여 토출된 폴리에스터 중합체를 냉각하여 제조된 분섬사의 균제도 U%의 값이 0을 초과하고 0.60% 이하로 되는 것임을 특징으로 한다.

본 발명의 다른 구성에 따르면, 상기 분섬사의 단사섬도는 5데니어 이상이고 50데니어 이하임을 특징으로 한다.

상기와 같이 구성되는 본 발명의 균제도가 우수한 분섬용 폴리에스터 필라멘트사의 제조방법은 종래의 분섬사 설비의 개조 없이 통상의 설비로 생산이 가능하여 단가의 상승이 없고, 공정의 복잡성을 초래하지 않으면서도 단사간 우수한 냉각효율을 제공하여 균제도가 극히 향상되어 분섬 작업성과 생산성이 우수하고, 염색 등의 품질이 향상된 원사의 제조방법을 제공하여 설비를 효율적으로 활용할 수 있는 유용한 발명이다.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시형태에 따른 냉각설비의 개략도이고,
도 2는 본 발명의 바람직한 실시형태에 따른 냉각설비의 냉각 에어와 사의 주행방향을 단면으로 나타낸 개략도이고,
도 3은 본 발명의 바람직한 실시형태에 따른 냉각설비가 이용된 본 발명의 제조공정에 대한 개략도이다.

이하, 본 발명을 바람직한 실시형태에 의해 보다 자세하게 설명하지만, 이들 실시형태는 오로지 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위해 예시적으로 제시한 것일 뿐, 본 발명의 범위가 이들 실시형태에 의해 제한되지 않는다는 것은 당업계에서 통상의 지식을 가지는 자에 있어서 자명할 것이다.

도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 균제도가 우수한 분섬용 폴리에스터 필라멘트사의 제조방법은 우선 폴리머 중합체가 일정한 간격을 띄고 있는 방사구금(1)을 통해 토출되고, 방사된 폴리머는 토출과 동시에 구금 직하에 부착되어있는 환형냉각장치(3)를 통해 냉각이 되고, 다시 1차 냉각된 폴리머는 편면 냉각장치(2)에 의해 재냉각이 되고, 냉각된 폴리머는 급유롤러(6)를 통과하여 고뎃롤러(7)와 세퍼레이트 롤러를 거쳐 연신되고, 이후에는 최종적으로 권취설비(8)에 권취된다.

본 발명의 바람직한 실시형태에 따르면, 본 발명의 제조방법에서 사용되는 방사구금의 형태는 토출코자 하는 가닥의 수만큼의 홀 수가 일정한 간격을 띄고 있으며, "W" 형태로 배열되어 있는 것을 사용하는 것이 바람직하며, "一" 또는 "O" 형태는 단사간의 거리 차로 인해 사날림이 심해지고 냉각 불균일이 일어나기 쉬우므로 바람직하지 않다.

본 발명의 다른 바람직한 실시형태에 따르면, 상기 형태를 갖는 방사구금을 통해 토출된 고유점도 0.640 내지 0.670 사이인 폴리에스터 폴리머를 방사온도 250℃ 내지 350℃로, 더욱 자세하게는 280℃ 내지 300℃로 방사하고 방사직후 15℃ 내지 25℃의 온도를 가지는 에어로, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같은 구조의 환형냉각장치를 통해 냉각을 시킨다.

도 2에 도시된 바와 같이, 환형냉각장치는 원통형 모양의 다공성 여과제(12)로 구성되어 있고, 외부에서 공급되는 냉각 에어를 냉각 에어 유입구(11)를 통하여 내부로 분사한다. 냉각장치의 중심부는 폴리머 사가 지나가고 냉각 에어는 밖에서 안쪽의 폴리머를 냉각시켜주는 아웃-인(OUT-IN) 방식의 냉각장치이며, 통상적으로 어닐링히터에 의해 보온되는 영역이 상쇄되고 방사직후 냉각됨으로 인해 냉각장이 길어지고, 고화점이 단축되면서 사날림이 현저하게 감소되어 단사간 균일한 방사유동을 확인할 수 있다.

만약, 아웃-인 방식이 아닌 인-아웃(IN-OUT)의 일반 환형냉각장치, 또는 편면 냉각장치를 사용하였을 시는 데니어에 비례하여 증가하는 사날림으로 구금에 심각한 피해를 입을 수 있다. 상기 냉각장치는 다공성 여과제에 의해 상기 환형 냉각장치의 외부 통체가 충진되어 진다. 이렇게 구성되므로 냉각장치의 외부에서 발생된 냉각 풍은 아웃-인 방식으로 환형 냉각장치의 내부로 통과되게 된다. 이때, 다공성 여과제를 통과하여 냉각장치 내부로 유입되므로, 냉각풍은 여과되면서 냉각장치의 내부로 유입되고, 또한 그 진행 방향은 환형 냉각장치의 구조와 상기 다공성 여과제에 의해 일정한 방향으로 굴절되면서 냉각 장치 내부로 유입된 후 사의 진행 방향과 같은 방향으로 진행하면서 효과적으로 사를 냉각하여 균제도 균일한 사를 제조할 수 있게 한다.

또한 다른 본 발명의 바람직한 실시형태에 따르면, 상기한 환형냉각 장치의 다공성 여과제는 150mm 내지 250mm 이하의 길이가 바람직하며, 150mm 미만일 경우는 아웃-인으로 인한 냉각효과가 미미하고, 250mm를 초과할 경우에는 제조비용이 상승하는 단점이 있으며, 단사섬도가 5데니어를 넘는 필라멘트의 경우 방사 냉각시 "C" 형태를 그리며 고화가 되는데, 상기 환형냉각장치의 특성상 여과제 안으로 필라멘트가 지나가는 형태로, 냉각장치를 사도에 맞추어 C 형으로 제작하는 것은 사실상 무리가 있으므로 바람직하지 않다. 또한, 기공 기공사이즈는 25~40um이며 기공을 통과하여 공급되는 냉각에어의 속도는 20m/min 내지 25m/min으로 하면 가장 안정한 냉각율을 얻을 수 있어 바람직하게 된다.

본 발명으로 100de/10f, 150de/10f, 200de/10f, 240de/12f, 280de/14f, 300de/10f 및 500de/10f를 생산할 수 있었으며, 단사섬도가 50데니어를 초과하게 되면, 고화점이 상승하여 냉각장치 안에서 융착이 발생하여 작업성에 심각한 피해를 초래하므로 바람직하지 않다.

상기한 환형냉각장치를 통해 1차 고화된 폴리머들은 이하 종래의 편면 냉각장치에 의해 냉각이 되며, 냉각길이는 1500mm에서 2500mm, 냉각 에어의 속도는 40m/min 내지 60m/min가 바람직하다. 종래에는 편면장치만으로 냉각이 되었으며 이때 구금홀 간의 거리, 홀간 방사섬도 편차, 토출되는 냉각 에어 양의 편차, 에어 속도의 편차, 에어 온도의 편차 등에 의하여 고화점의 차이가 발생하고 이로 인해 사날림이 발생하였는데 냉각 프레임 밖으로까지 사가 날리게 되면 균제도의 급불균일을 초래하며, 단사간 편차 등은 정경분섬, 스트레이트분섬, 가연분섬 등에서 단사 절사를 야기하였다. 하지만, 상기한 환형냉각 장치를 통해 1차 냉각된 폴리머들은 편면냉각장치에서 사날림과 사유동의 편차가 없이 일정하게 냉각되고 있음을 확인할 수 있으며 이를 통해 모사를 기준으로 300데니어가 넘는 높은 섬도에서도 0.60% 이하의 우수한 균제도를 가진 분섬사를 제조할 수 있게 되었다.

이하, 본 발명을 실시예로 보다 자세히 설명하지만 본 발명의 범위가 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.

실시예 1

이산화티탄 함량이 0.3중량%인 극한점도(η)=0.652 수준의 폴리에스터를 방사온도 285℃, W 형태의 5홀 구금으로 방사한 후, 구리의 미립자로 구성된 소결형 다공질의 필터이며 기공사이즈는 30um, 길이는 200mm의 환형냉각장치를 구금직하에 설치하여 20℃의 온도로 냉각하고, 이때 풍속은 25m/min으로 설정하였다. 이어 같은 온도로 풍속 48m/min이며 냉각장은 1500mm의 편면냉각장치를 통해 상기의 폴리에스터를 2차 냉각하고 급유, 연신하여 200데니어의 원사를 제조한 후, 이렇게 얻어진 원사의 균제도 및 분섬성, 염색성을 측정하여 그 결과를 다음 표 1에 나타내었다.

실시예 2

상기 실시예 1에서 환형냉각장치의 길이를 250mm로 변경하는 것 외에는 동일하게 하여 원사를 제조하였다.

실시예 3

상기 실시예 1에서 생산되는 원사의 데니어를 300데니어로 하여 300de/10f 품종을 생산하는 것 외에는 동일한 방법으로 하여 원사를 제조하였다.

실시예 4

상기 실시예 1에서 환형냉각장치의 냉각 에어 온도를 18℃로 변경하는 것 외에는 동일하게 하여 원사를 제조하였다.

실시예 5

상기 실시예 1에서 편면 냉각장치의 길이를 2000mm로 변경하는 것 외에는 동일하게 하여 원사를 제조하였다.

비교예 1

상기 실시예 1에서 환형냉각장치를 사용하지 않는 것을 제외하고는 동일하게 하여 원사를 제조하였다.

비교예 2

상기 실시예 1에서 환형냉각 장치의 길이를 70mm로 변경하는 것 외에는 동일하게 하여 원사를 제조하였다.

비교예 3

상기 실시예 1에서 환형냉각 장치의 에어 온도를 30℃로 변경하는 것 외에는 동일하게 하여 원사를 제조하였다.

비교예 4

상기 실시예 1에서 편면냉각 장치의 길이를 1000mm로 변경하는 것 외에는 동일하게 하여 원사를 제조하였다.

비교예 5

상기 실시예 1에서 방사구금의 홀 배열을 W형에서 一형으로 변경하는 것 외에는 동일하게 하여 원사를 제조하였다.

구분	균제도 (%)	사날림편차 (mm)	사유동 (mm)	생산절사 (회/ton)	분섬절사 (회/kg)	염색성
실시예1	0.48	2	2	0.1	0.0	◎
실시예2	0.43	3	2	0.1	0.0	◎
실시예3	0.60	5	4	0.3	0.0	◎
실시예4	0.54	2	3	0.1	0.0	◎
실시예5	0.45	4	2	0.1	0.0	◎
비교예1	0.84	12	5	0.4	0.0	○
비교예2	0.75	8	4	0.3	0.0	○
비교예3	0.66	7	6	0.4	0.0	○
비교예4	1.05	14	7	0.8	0.2	X
비교예5	0.86	17	6	0.7	0.1	X

상기 표 1에 나타난 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따라 제조되는 폴리에스터 필라멘트사는 제조시 원사의 사날림, 사유동이 감소하여 균제도의 개선 및 생산시와 분섬시 절사, 염색성에서 종래의 방법인 비교예에 의한 것에 비하여 월등히 우수하게 됨을 알 수 있다.

이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 등에 의하여 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능함은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어서 명백할 것이다.

1: 방사구금 2: 편면 냉각설비
3: 환형 냉각설비 4: 편면 냉각에어
5: 폴리머 중합체 6: 급유장치
7: 고뎃트 롤러 8: 권취 설비
11: 냉각에어 유입구 12 : 다공성 여과제
13: 냉각에어 흐름 14: 냉각 영역(zone)
15: 폴리머 중합체

Claims

고유점도 [η]가 0.640 내지 0.670인 폴리에스터 중합체를 방사구금에 일정간격으로 배치된 폴리머 토출구에서 토출된 폴리머를 단사간 일정하게 거리를 유지하면서 냉각장치에 의해 냉각하여 분섬용 폴리에스터 필라멘트사를 제조하는 방법에 있어서,
상기 냉각장치에 의한 냉각은 방사구금 직하에 아웃-인(OUT-IN) 방식의 환형냉각장치를 취부하여 토출된 폴리에스터 중합체를 냉각하여 제조하고, 여기서 상기 환형냉각장치는 150mm 내지 250mm의 길이로 기공사이즈는 25 내지 40um이고, 냉각 에어는 20m/min 내지 25m/min의 풍속으로 방출하는 것임을 특징으로 하는 균제도가 우수한 분섬용 폴리에스터 필라멘트사의 제조방법.
제 1항에 있어서, 상기 폴리에스터 중합체는 0.33 내지 0.36중량%의 이산화티탄을 함유하는 것임을 특징으로 하는 균제도가 우수한 분섬용 폴리에스터 필라멘트사의 제조방법.
제 1항에 있어서, 상기한 폴리에스터 중합체는 일정한 간격의 W형 배열로 구성된 방사구금을 통해 방사하고 냉각함을 특징으로 하는 균제도가 우수한 분섬용 폴리에스터 필라멘트사의 제조방법.
제 1항에 있어서, 상기 방사구금 직하에 설치된 환형냉각장치에 의한 1차 냉각 후, 종래의 설치되어있는 냉각설비로 2차 냉각시키는 2단의 냉각설비를 사용하여 제조함을 특징으로 하는 균제도가 우수한 분섬용 폴리에스터 필라멘트사의 제조방법.
제 4항에 있어서, 상기한 냉각설비 중 1차 냉각을 하는 환형냉각장치는 원형으로 냉각 에어가 밖에서 안으로 휘감아 돌아나가는 방식으로 냉각시키며, 2차 냉각 냉각시키는 설비는 편면으로 한쪽 방면으로 냉각 에어를 분사하여 냉각시킴을 특징으로 하는 균제도가 우수한 분섬용 폴리에스터 필라멘트사의 제조방법.
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고유점도 [η]가 0.640 내지 0.670인 폴리에스터 중합체를 방사구금에 일정간격으로 배치된 폴리머 토출구에서 토출된 폴리머를 단사간 일정하게 거리를 유지하면서 냉각장치에 의해 냉각하여 제조된 분섬용 폴리에스터 필라멘트사로서, 상기 냉각장치에 의한 냉각은 방사구금 직하에, 150mm 내지 250mm의 길이로 기공사이즈는 25 내지 40um이고 냉각 에어는 20m/min 내지 25m/min의 풍속으로 방출하는 아웃-인(OUT-IN) 방식의 환형냉각장치를 취부하여 토출된 폴리에스터 중합체를 냉각하여 제조된 분섬사의 균제도 U%의 값이 0을 초과하고 0.60% 이하로 되는 것임을 특징으로 하는 균제도가 우수한 분섬용 폴리에스터 필라멘트사.
제 7항에 있어서, 상기 분섬사의 단사섬도는 5데니어 이상이고 50데니어 이하임을 특징으로 하는 균제도가 우수한 분섬용 폴리에스터 필라멘트사.