KR101463472B1 - Pressure control members and method for manufacturing the same, pressure control unit and vacuum deposistion apparatus containing the same - Google Patents

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Abstract

Provided in the present invention are a pressure control member which controls pressure by being installed on such a vacuum chamber, includes ceramic particles having average particle size of 1-50 μm; and an inorganic binder binding the ceramic particles, and has porosity of 25-40%, and a method for manufacturing the same. Moreover, provided in the present invention are a pressure control unit and a vacuum deposition apparatus including the pressure control member. According to the present invention, if the vacuum state is broken, generation of vortex caused by extreme pressure change is prevented or minimized to effectively prevent contamination of such a thin film.

Description

압력 조절 부재 및 그 제조방법, 그를 포함하는 압력 조절 유닛 및 진공 증착 장치{PRESSURE CONTROL MEMBERS AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, PRESSURE CONTROL UNIT AND VACUUM DEPOSISTION APPARATUS CONTAINING THE SAME} BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a pressure regulating member, a pressure regulating member, a pressure regulating unit, and a vacuum deposition apparatus including the pressure regulating member,

본 발명은 대기압 이하의 진공(vacuum)을 유지하는 장치, 예를 들어 진공 증착 챔버 등에 설치되어 압력을 조절하는 압력 조절 부재 및 그의 제조방법, 그리고 상기 압력 조절 부재를 포함하는 압력 조절 유닛 및 진공 증착 장치에 관한 것이다.
The present invention relates to an apparatus for maintaining a vacuum of atmospheric pressure or lower, for example, a pressure regulating member installed in a vacuum deposition chamber or the like to regulate pressure, a method of manufacturing the same, and a pressure regulating unit including the pressure regulating member, ≪ / RTI >

일반적으로, 전기ㆍ전자 장치(소자) 및 광학 장치 등은 전극이나 유전체를 포함하고 있으며, 이들 전극이나 유전체는 대부분 박막으로 구성된다. 또한, 상기 박막은 금속이나 금속산화물이 증착되어 형성된다. 이때, 전도성 박막(전극)의 경우에는 2성분계나 3성분계 등의 금속산화물 박막이 주로 사용된다. 상기 전도성 박막은, 구체적인 예를 들어 인듐-주석 산화물(ITO), 알루미늄-아연 산화물(AZO) 및 인듐-갈륨-아연 산화물(IGZO) 등의 투명 박막이 사용된다. 그리고 유전성 박막(유전체)으로는 ABO계 산화물이 주로 사용되며, 구체적인 예를 들어 Pb(ZrxTi1 -x)O3나 (BaxSr1 -x)TiO3 등의 산화물 박막이 사용된다. Generally, electric and electronic devices (devices) and optical devices include electrodes and dielectrics, and most of these electrodes and dielectrics are composed of thin films. The thin film is formed by depositing a metal or a metal oxide. At this time, in the case of a conductive thin film (electrode), a metal oxide thin film such as a two-component system or a three-component system is mainly used. As the conductive thin film, for example, a transparent thin film such as indium-tin oxide (ITO), aluminum-zinc oxide (AZO) and indium-gallium-zinc oxide (IGZO) is used. As the dielectric thin film (dielectric), ABO-based oxides are mainly used. Specific examples thereof include Pb (Zr x Ti 1 -x ) O 3 or (Ba x Sr 1 -x ) TiO 3 Oxide thin films are used.

위와 같은 박막을 형성함에 있어서는, 주로 물리적 기상 증착(PVD), 화학적 기상 증착(CVD) 및 이들을 복합한 증착 방법이 이용된다. 그리고 증착을 구현함에 있어서는, 진공 증착 장치가 유용하게 사용된다. 예를 들어, 대한민국 공개특허 제10-2001-0098215호, 대한민국 공개특허 제10-2013-0113302호, 대한민국 공개특허 제10-2010-0093495호 및 일본 공개특허 제2005-256112호 등에는 박막 형성을 위한 진공 증착 장치가 제시되어 있다. In forming the thin film as described above, physical vapor deposition (PVD), chemical vapor deposition (CVD), and a deposition method in which these are combined are used. In order to realize deposition, a vacuum deposition apparatus is usefully used. For example, in Korean Patent Laid-Open Nos. 10-2001-0098215, 10-2013-0113302, 10-2010-0093495, and 2005-256112, A vacuum evaporation apparatus is disclosed.

이때, 대부분의 진공 증착 장치는 대기압(760 Torr) 이하의 진공을 유지하는 진공 증착 챔버(vacuum Deposition chamber)를 포함한다. 구체적인 예를 들어, 진공 증착 장치는 진공 증착 챔버와; 상기 챔버 내부에 설치되고, 기판이 고정되는 기판 홀더(substrate holder)와; 상기 챔버 내부에 설치되고, 타겟(target)이 장착되는 스퍼터 건(sputter gun)을 포함한다. 또한, 진공 증착 장치는 위와 같은 구성 요소 이외에, 예를 들어 타겟의 오염을 방지하기 위한 셔터 조립체(shutter assembly) 등을 포함하기도 한다. At this time, most vacuum deposition apparatuses include a vacuum deposition chamber that maintains vacuum at atmospheric pressure (760 Torr) or less. Specifically, for example, a vacuum deposition apparatus includes a vacuum deposition chamber; A substrate holder installed inside the chamber and to which the substrate is fixed; And a sputter gun installed inside the chamber and on which a target is mounted. The vacuum deposition apparatus may also include, for example, a shutter assembly or the like for preventing contamination of the target, in addition to the above-described components.

상기 스퍼터 건에는 캐소드(cathode)가 장착되어 있다. 상기 타겟은 박막의 원료로 구성된다. 타겟은, 구체적으로 상기한 바와 같은 금속산화물로 구성되되, 대부분 파우더-벌크(powder-bulk) 타입으로 구성된다. 아울러, 상기 진공 증착 챔버에는 진공을 형성하기 위한 배기구와, 진공을 파기(breaking)하기 위한 가스 주입구가 형성되어 있다. 이때, 상기 배기구에는 진공 펌핑 시스템이 연결되어 챔버 내에 진공을 형성한다. 그리고 증착 후에는 상기 가스 주입구에 가스를 주입하여 진공을 파기된다. A cathode is mounted on the sputter gun. The target is composed of a thin film raw material. The target is composed of a metal oxide as specifically described above, but mostly composed of a powder-bulk type. In addition, the vacuum deposition chamber is provided with an exhaust port for forming a vacuum and a gas inlet for breaking a vacuum. At this time, a vacuum pumping system is connected to the exhaust port to form a vacuum in the chamber. After deposition, the gas is injected into the gas injection port to destroy the vacuum.

그러나 종래 기술에 따른 대부분의 진공 증착 장치는 진공 증착시 요구되는 플라즈마의 발생원으로 아르곤, 아르곤과 산소, 또는 기타 가스를 주입하여 플라즈마를 발생시킨다. 종래 기술은 플라즈마 발생용 가스의 분포가 고르지 못하며, 증착시 발생되는 가스 배출에 의해 증착 진공도가 변화하는 경우 증착되는 박막의 품질이 떨어진다. 아울러 진공의 파기 시, 극단적인 압력 변화로 인해, 박막 등에 오염이 발생되는 문제점이 있다. 구체적으로, 저압의 진공(예를 들어, 1 Torr 이하의 압력)으로 유지되고 있는 진공 증착 챔버 내에는 고온의 증착 출발 물질이 포함된 가스와 함께 증착에 의해 발생된 미세 입자(예, 금속산화물 입자)가 산재되어 있다. 이때, 상기 가스 주입구에 가스의 주입을 통해 진공을 파기하는 과정에서, 극단적인 압력 변화(예를 들어, 1 Torr --> 760 Torr)로 인하여, 챔버 내부에는 와류(eddy flow)가 발생된다. 그리고 이러한 와류에 의해, 상기 미세 입자가 박막(제품)의 표면에 부착되어 오염이 발생되는 문제점이 있다. 이와 같이 미세 입자에 의해 오염되는 경우, 박막의 품질이 떨어진다. 예를 들어, 전도성 박막의 경우, 저항이 증가될 수 있다.
However, most vacuum deposition apparatuses according to the prior art generate plasma by injecting argon, argon, oxygen, or other gas as a source of the plasma required for vacuum deposition. In the prior art, the plasma generating gas is unevenly distributed, and the quality of the deposited film deteriorates when the vacuum degree of the deposition varies due to the discharge of gas generated during deposition. Further, there is a problem that contamination occurs in a thin film or the like due to an extreme pressure change when the vacuum is destroyed. Specifically, in a vacuum deposition chamber maintained at a low pressure vacuum (for example, a pressure of 1 Torr or less), fine particles generated by deposition together with a gas containing a high temperature deposition starting material (for example, metal oxide particles ). At this time, eddy flow is generated in the chamber due to extreme pressure change (for example, 1 Torr -> 760 Torr) in the process of breaking the vacuum through the injection of gas into the gas injection port. Such a vortex causes a problem that the fine particles adhere to the surface of the thin film (product) to cause contamination. If the fine particles are contaminated with such a material, the quality of the thin film is deteriorated. For example, in the case of a conductive thin film, the resistance can be increased.

공개특허 제10-2001-0098215호Published Patent No. 10-2001-0098215 공개특허 제10-2013-0113302호Patent Publication No. 10-2013-0113302 공개특허 제10-2010-0093495호Published Patent No. 10-2010-0093495 일본 공개특허 제2005-256112호Japanese Patent Laid-Open No. 2005-256112

이에, 본 발명은 증착시 작업 진공도의 급격한 변화를 방지하고, 진공 파기시 와류의 발생을 방지 또는 최소화하여, 예를 들어 작업 진공도의 급격한 변화에 따른 박막의 품질 유지 및 박막 등의 오염을 효과적으로 방지할 수 있는 압력 조절 부재, 그리고 상기 압력 조절 부재를 포함하는 압력 조절 유닛 및 진공 증착 장치를 제공하는 데에 목적이 있다. Accordingly, it is an object of the present invention to prevent abrupt change in working vacuum during deposition and to prevent or minimize occurrence of vapors in vacuum evacuation, for example, to effectively maintain the quality of a thin film and to prevent contamination of thin films due to abrupt changes in working vacuum degree And a pressure regulating unit including the pressure regulating member and a vacuum deposition apparatus.

또한, 본 발명은 우수한 기계적 강도 등을 갖게 하면서 적은 시간으로도 효율적인 공정으로 압력 조절 부재를 제조할 수 있는 압력 조절 부재의 제조방법을 제공하는 데에 목적이 있다.
It is another object of the present invention to provide a method of manufacturing a pressure regulating member capable of manufacturing a pressure regulating member in an efficient process even in a short time while having excellent mechanical strength and the like.

본 발명에 따른 압력 조절 부재는, 평균 입도 크기가 1 ~ 50㎛인 세라믹 입자; 및 상기 세라믹 입자를 결합시키는 무기 결합제를 포함하고, 기공율이 25% ~ 40%이다. The pressure regulating member according to the present invention comprises ceramic particles having an average particle size of 1 to 50 μm; And an inorganic binder for binding the ceramic particles, and has a porosity of 25% to 40%.

이때, 본 발명에 따른 압력 조절 부재는, 예를 들어 1.4g/㎤ ~ 1.6g/㎤의 밀도를 가지는 것이 좋다. At this time, the pressure regulating member according to the present invention preferably has a density of, for example, 1.4 g / cm3 to 1.6 g / cm3.

또한, 본 발명에 따른 압력 조절 부재의 제조방법은, 평균 입도 크기가 1 ~ 50㎛인 세라믹 입자, 상기 세라믹 입자를 결합시키는 무기 결합제, 및 기공을 형성하기 위한 유기물을 포함하는 혼합물을 얻는 제1단계; 상기 혼합물을 건조시키는 제2단계; 상기 건조된 혼합물을 압축 성형하여 성형체를 얻는 제3단계; 및 상기 성형체를 소성하는 제4단계를 포함한다. Also, a method of manufacturing a pressure regulating member according to the present invention is a method of manufacturing a pressure regulating member, comprising: a first step of obtaining a mixture containing ceramic particles having an average particle size of 1 to 50 μm, an inorganic binder for bonding the ceramic particles, step; A second step of drying the mixture; A third step of compression molding the dried mixture to obtain a molded body; And a fourth step of baking the molded body.

아울러, 본 발명에 따른 압력 조절 유닛은, 상기 압력 조절 부재; 및 상기 압력 조절 부재의 말단에 결합된 유리 또는 석영의 연결관을 포함한다.The pressure regulating unit according to the present invention may further include: the pressure regulating member; And a glass or quartz connection pipe coupled to the end of the pressure regulating member.

이에 더하여, 본 발명에 따른 진공 증착 장치는, 가스 주입구가 형성된 진공 증착 챔버; 및 상기 가스 주입구에 설치된 압력 조절 부재 또는 압력 조절 유닛을 포함한다.
In addition, a vacuum deposition apparatus according to the present invention includes: a vacuum deposition chamber in which a gas injection port is formed; And a pressure regulating member or a pressure regulating unit provided in the gas inlet.

본 발명에 따르면, 극단적인 압력 변화에 의한 와류의 발생을 방지 또는 최소화하여, 예를 들어 박막 등의 증착 제품의 오염을 효과적으로 방지할 수 있다. According to the present invention, it is possible to prevent or minimize the occurrence of eddy currents caused by extreme pressure changes, thereby effectively preventing contamination of evaporated products such as thin films.

또한, 본 발명에 따르면, 압력 조절 부재를 우수한 기계적 강도 등을 갖게 하면서 적은 시간으로도 효율적으로 제조할 수 있다.
Further, according to the present invention, it is possible to efficiently manufacture the pressure regulating member even in a short time while having excellent mechanical strength and the like.

도 1은 본 발명의 실시예에 따라 제조된 압력 조절 부재의 사진,
도 2는 본 발명의 실시예에 따라 제조된 압력 조절 부재의 표면 SEM 사진,
도 3은 본 발명의 실시예 및 비교예에 따라 제조된 압력 조절 부재의 성형 압력에 따른 밀도 측정 결과를 보인 그래프,
도 4는 본 발명에 따른 압력 조절 유닛의 일례를 보인 것으로서, 상기 도 1의 압력 조절 부재에 석영 튜브가 결합된 모습을 보인 사진, 및
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 압력 조절 부재를 사용하는 진공 증착용 챔버 개략도이다.
1 is a photograph of a pressure regulating member manufactured according to an embodiment of the present invention,
2 is a SEM photograph of the surface of the pressure regulating member manufactured according to the embodiment of the present invention,
FIG. 3 is a graph showing density measurement results according to molding pressures of pressure control members manufactured according to Examples and Comparative Examples of the present invention,
4 is a view showing an example of a pressure control unit according to the present invention, which is a photograph showing a quartz tube coupled to the pressure regulating member of FIG. 1, and FIG.
5 is a schematic view of a vacuum deposition chamber using a pressure regulating member according to an embodiment of the present invention.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다. 본 발명은 다양한 변경을 도모할 수 있고, 여러 가지 실시 예를 가질 수 있는바, 아래에서 설명되고 도면에 도시된 예시들은 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 또한, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Prior to this, terms and words used in the present specification and claims should not be construed as limited to ordinary or dictionary terms, and the inventor should appropriately interpret the concepts of the terms appropriately It should be construed in accordance with the meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention based on the principle that it can be defined. It is to be understood that both the foregoing general description and the following detailed description are exemplary and explanatory and are not intended to limit the invention to the particular embodiments, It is to be understood that the invention includes all modifications, equivalents, and alternatives falling within the scope. It should also be understood that various equivalents and modifications may be substituted for those at the time of the present application.

이하, 본 발명을 상세히 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명은 압력을 조절할 수 있는 압력 조절 부재 및 그의 바람직한 제조방법을 제공한다. 또한, 본 발명은 상기 압력 조절 부재를 포함하는 압력 조절 유닛 및 진공 증착 장치를 제공한다. The present invention provides a pressure regulating member capable of regulating pressure and a preferable method for producing the same. The present invention also provides a pressure control unit and a vacuum deposition apparatus including the pressure regulating member.

본 발명에 따른 압력 조절 부재는, 예를 들어 대기압 이하의 진공(vacuum)을 유지하는 장치, 구체적인 예를 들어 진공 챔버 등에 설치되어, 챔버 내의 압력을 조절하는 용도로 사용된다. 본 발명에서, '압력 조절'이란, 예를 들어 챔버 내의 극단적인 압력 변화를 방지하여, 와류의 발생을 최소화하거나, 바람직하게는 와류의 발생을 완전 방지할 수 있는 것이면 좋다. The pressure regulating member according to the present invention is used, for example, in an apparatus for maintaining a vacuum below atmospheric pressure, specifically in a vacuum chamber or the like, for regulating the pressure in the chamber. In the present invention, the term 'pressure control' may be used, for example, to prevent extreme pressure changes in the chamber, minimize the occurrence of vortexes, or preferably completely prevent the occurrence of vortexes.

본 발명에 따른 압력 조절 부재는, 예를 들어 760 Torr 이하, 보다 구체적인 예를 들어 0 ~ 50 Torr의 진공을 대기압(760 Torr) 이상의 압력으로 조절하는 압력 조절의 용도로 유용하게 사용될 수 있다. 즉, 본 발명에 따른 압력 조절 부재는 진공을 파기(breaking)할 수 있는 진공 파기 부재(vacuum breaking members)의 용도로 유용하게 사용될 수 있다. The pressure regulating member according to the present invention can be usefully used for pressure regulating, for example, controlling a vacuum of 760 Torr or less, more specifically, a vacuum of 0 to 50 Torr, to a pressure of atmospheric pressure (760 Torr) or more. That is, the pressure regulating member according to the present invention can be advantageously used for the purpose of vacuum breaking members capable of breaking a vacuum.

또한, 본 발명에 따른 압력 조절 부재는, 예를 들어 증착 설비의 가스 주입구에 설치되어 가스의 압력을 조절하는 용도로 사용될 수 있다. 구체적인 예를 들어, 물리적 기상 증착(PVD) 또는 화학적 기상 증착(CVD) 등의 증착 설비에서, 플라즈마 생성용 가스 노즐(Gas Nozzle)에 적용될 수 있다. 이때, 본 발명에 따른 압력 조절 부재는, 플라즈마 생성용 가스를 챔버 내에 고르게 분포시켜 내부 작업 진공도의 낮은 변화를 도모한다. 특히, 대형 챔버에 적용 시, 챔버 내부의 진공도 분포 변화율을 낮게 유지한다. Further, the pressure regulating member according to the present invention can be used, for example, in a gas injection port of a vapor deposition facility to regulate the pressure of gas. For example, it can be applied to a gas nozzle for plasma generation in a vapor deposition system such as physical vapor deposition (PVD) or chemical vapor deposition (CVD). At this time, the pressure regulating member according to the present invention distributes the plasma generating gas evenly in the chamber, thereby achieving a low change in the internal working vacuum degree. Particularly, when applied to a large chamber, the rate of change of the vacuum degree distribution inside the chamber is kept low.

본 발명에 따른 압력 조절 부재는, 일례를 들어 진공 증착 챔버의 진공 파기를 위한 가스 주입구에 설치되어, 진공 파기 시 가스 압력을 조절한다. 즉, 진공 파기를 위한 가스의 주입 시, 가스 주입에 의한 극단적인 압력 변화를 방지하여, 와류의 발생을 방지한다. 이에 따라, 와류에 의한 증착 제품(박막 등)의 오염을 방지한다. 이하, 본 발명을 설명함에 있어서, 본 발명에 따른 압력 조절 부재가 위와 같은 진공 파기의 용도로 사용되는 경우를 예로 들어 설명한다. The pressure regulating member according to the present invention is installed, for example, in a gas inlet for vacuum evacuation of a vacuum deposition chamber to regulate the gas pressure during vacuum evacuation. That is, at the time of injecting gas for vacuum evacuation, extreme pressure change due to gas injection is prevented, and vortex generation is prevented. This prevents contamination of the vapor deposition product (thin film, etc.) by the eddy current. In the following description of the present invention, the pressure regulating member according to the present invention will be described as an example of a vacuum cleaner.

본 발명에 따른 압력 조절 부재는 다공성의 세라믹재로서, 세라믹 입자와, 상기 세라믹 입자를 결합시키는 무기 결합제를 포함한다. 이때, 세라믹 입자는 고온 소성을 통해 무기 결합제에 의해 서로 결합되어 있다. 그리고 세라믹 입자 간의 사이에는 다수의 기공이 형성되어 있다. 본 발명에 따른 압력 조절 부재는 25% ~ 40%의 기공율을 갖는다. 본 발명에서, 기공율은 본 발명에 따른 압력 조절 부재의 전체 체적 중에서 기공이 차지하는 체적 비율(%)을 의미한다. 기공율은, 구체적으로 다음의 수학식에 따른다. The pressure regulating member according to the present invention is a porous ceramic material comprising ceramic particles and an inorganic binder for binding the ceramic particles. At this time, the ceramic particles are bonded to each other by an inorganic binder through high-temperature firing. A plurality of pores are formed between the ceramic particles. The pressure regulating member according to the present invention has a porosity of 25% to 40%. In the present invention, the porosity means the volume percentage (%) occupied by pores in the entire volume of the pressure regulating member according to the present invention. The porosity is specifically expressed by the following equation.

기공율(%) = (Vp/V) x 100 Porosity (%) = (Vp / V) x 100

여기서, V는 압력 조절 부재의 전체 체적이고, Vp는 압력 조절 부재에 형성된 기공의 전체 체적이다.
Here, V is the total volume of the pressure regulating member, and Vp is the total volume of the pores formed in the pressure regulating member.

본 발명에서, 상기 기공율은 압력 조절에 중요한 인자로 작용한다. 이때, 기공율이 25% 미만인 경우, 극심한 압력 변화의 방지에 효과적일 수 있으나, 진공 파기의 소요 시간이 너무 길 수 있다. 그리고 기공율이 40%를 초과하는 경우, 압력 변화가 너무 심하여 챔버 내에 와류가 발생되고, 이에 따라 오염이 발생될 수 있다. 이러한 점을 고려할 때, 기공율은 30% ~ 35%인 것이 바람직하다. 기공율은, 예를 들어 세라믹 입자의 크기, 그리고 후술하는 바와 같은 수지 바인더의 함량 및/또는 성형 압력 등의 조절을 통해 제어될 수 있다. In the present invention, the porosity acts as an important factor in controlling the pressure. At this time, if the porosity is less than 25%, it may be effective to prevent extreme pressure change, but the time required for vacuum digging may be too long. If the porosity exceeds 40%, the pressure change is too severe to generate a vortex in the chamber, and thus contamination may occur. Considering this point, it is preferable that the porosity is 30% to 35%. The porosity can be controlled, for example, by controlling the size of the ceramic particles, the content of the resin binder and / or the molding pressure as described later.

또한, 상기 세라믹 입자는 1 ~ 50㎛의 평균 입자 크기를 갖는 것으로부터 선택된다. 이러한 세라믹 입자의 크기 분포는 기공율 및 기계적 강도 등에 영향을 끼친다. 구체적으로, 세라믹 입자의 평균 크기가 1㎛ 미만인 경우, 기공율이 너무 낮아져 진공 파기 시간이 길어질 수 있다. 그리고 세라믹 입자의 평균 크기가 50㎛를 초과하는 경우, 기공율이 너무 높아져 진공의 파기 시 와류가 발생될 수 있고, 이는 또한 기계적 강도 등이 떨어질 수 있다. 이러한 점을 고려할 때, 상기 세라믹 입자는 10 ~ 50㎛의 평균 입자 크기를 가지는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 10 ~ 40㎛의 평균 입자 크기를 가지는 것이 좋다. 본 발명에서, '평균 입자 크기'란 사용되는 세라믹 입자들 전체의 평균 크기를 의미한다. Further, the ceramic particles are selected from those having an average particle size of 1 to 50 mu m. The size distribution of these ceramic particles affects porosity and mechanical strength. Specifically, when the average size of the ceramic particles is less than 1 占 퐉, the porosity becomes too low and the vacuum purging time may become longer. When the average size of the ceramic particles exceeds 50 탆, the porosity becomes too high and a vortex may be generated at the time of evacuation of the vacuum, which may also reduce the mechanical strength and the like. Considering this point, it is preferable that the ceramic particles have an average particle size of 10 to 50 mu m, more preferably 10 to 40 mu m. In the present invention, 'average particle size' means the average size of the entire ceramic particles used.

본 발명에 따른 압력 조절 부재는 세라믹 입자와 무기 결합제를 주원료로 하여, 25% ~ 40%의 기공율을 갖도록 제조할 수 있는 것이라면 다양한 방법으로 제조방법으로 제조될 수 있으며, 그 제조방법은 특별히 제한되지 않는다. 바람직한 형태에 따라서, 본 발명에 따른 압력 조절 부재는 이하에서 설명되는 방법을 통해 제조될 수 있다. The pressure regulating member according to the present invention can be manufactured by various methods as long as it can be produced to have a porosity of 25% to 40% by using ceramic particles and an inorganic binder as main materials, and the manufacturing method thereof is not particularly limited Do not. According to a preferred form, the pressure regulating member according to the present invention can be manufactured through the method described below.

이하, 본 발명에 따른 압력 조절 부재의 제조방법(이하, '제조방법'으로 약칭한다)을 설명하면서, 상기 본 발명에 따른 압력 조절 부재의 구체적인 실시 형태를 함께 설명한다. Hereinafter, a method of manufacturing a pressure regulating member according to the present invention (hereinafter referred to as a "manufacturing method") will be described, and a specific embodiment of the pressure regulating member according to the present invention will be described.

본 발명에 따른 제조방법은 세라믹 입자, 무기 결합제 및 유기물을 포함하는 혼합물을 얻는 제1단계, 상기 혼합물을 건조시키는 제2단계, 상기 건조된 혼합물을 압축 성형하여 성형체를 얻는 제3단계, 및 상기 성형체를 소성하는 제4단계를 포함한다. 그리고 각 단계들은 연속적이다. 즉, 본 발명에 따른 제조방법은 원료의 혼합 단계 --> 건조 단계 --> 성형 단계 --> 소성 단계를 포함한다. The manufacturing method according to the present invention includes a first step of obtaining a mixture containing ceramic particles, an inorganic binder and an organic material, a second step of drying the mixture, a third step of compression-molding the dried mixture to obtain a molded article, And a fourth step of baking the molded body. And each step is continuous. That is, the manufacturing method according to the present invention includes a step of mixing the raw materials-> the drying step-> the molding step-> the sintering step.

상기 세라믹 입자는 전술한 바와 같이 압력 조절 부재의 기공율 및 기계적 강도 등을 고려하여, 1 ~ 50㎛의 평균 입자 크기를 갖는 것으로부터 선택된다. 바람직하게는 10 ~ 50㎛의 평균 입자 크기, 더욱 바람직하게는 10 ~ 40㎛의 평균 입자 크기를 가지는 것으로부터 선택된다. The ceramic particles are selected from those having an average particle size of 1 to 50 탆 in consideration of porosity and mechanical strength of the pressure regulating member as described above. Preferably an average particle size of 10 to 50 mu m, more preferably an average particle size of 10 to 40 mu m.

상기 세라믹 입자의 종류는 특별히 제한되지 않는다. 세라믹 입자는 분자 내에 적어도 하나 이상의 금속 원소를 함유하는 무기물로부터 선택될 수 있다. 세라믹 입자는 내열성이나 기계적 강도 등을 고려하여, 예를 들어 실리카(SiO2), 알루미나(Al2O3) 및 티타니아(TiO2)로부터 선택된 하나 이상을 포함하는 것이 좋다. 세라믹 입자는, 바람직하게는 적어도 실리카(SiO2)를 포함하면 좋다. 구체적으로, 세라믹 입자는 실리카(SiO2) 단독을 사용할 수 있다. 또한, 세라믹 입자는 실리카(SiO2)와 다른 무기물의 혼합을 사용할 수 있다. 본 발명에서, 실리카(SiO2)는 퓸드 실리카(fumed silica)를 포함한다. The kind of the ceramic particles is not particularly limited. The ceramic particles may be selected from inorganic materials containing at least one or more metal elements in the molecule. The ceramic particles preferably include at least one selected from among silica (SiO 2 ), alumina (Al 2 O 3 ), and titania (TiO 2 ) in consideration of heat resistance and mechanical strength. The ceramic particles, may be preferably comprises at least a silica (SiO 2). Specifically, silica (SiO 2 ) alone can be used as the ceramic particles. In addition, the ceramic particles may be a mixture of silica and other inorganic materials (SiO 2). In the present invention, silica (SiO 2) include fumed silica (fumed silica).

상기 무기 결합제는 소성에 의해 세라믹 입자를 결합시킬 수 있는 것이면 특별히 한정되지 않는다. 무기 결합제는, 예를 들어 소성 시 용융 접착성을 가질 수 있는 것으로부터 선택될 수 있다. 이때, 본 발명에서, 무기 결합제는 무기물만을 의미하는 것은 아니며, 무기-유기 복합물을 포함한다. The inorganic binder is not particularly limited as long as it can bond the ceramic particles by firing. The inorganic binder can be selected, for example, from those which can have melt adhesion upon firing. At this time, in the present invention, the inorganic binder does not mean only inorganic substances but includes inorganic-organic complexes.

본 발명의 예시적인 형태에 따라서, 상기 무기 결합제는 실리케이트(silicate)를 포함하는 것이 좋다. 이는, 특히 세라믹 입자가 적어도 실리카(SiO2)를 포함하는 경우에 본 발명에 유용하다. 즉, 실리케이트는 실리카(SiO2) 입자의 결합력 향상에 유리하다. 이때, 실리케이트는 에틸 실리케이트(ethyl silicate)로부터 선택되는 것이 바람직하다. 실리케이트는, 보다 바람직하게는 에틸 실리케이트 중에서 적어도 테트라에틸 오르소실리케이트(TEOS, Tetraethyl Orthosilicate)를 포함하는 것이 좋다. 이러한 테트라에틸 오르소실리케이트(TEOS)는 소성 시 실리카(SiO2) 입자의 표면에 코팅되어 실리카 입자의 소결성을 크게 증가시키며, 이에 따라 소성 후에는 실리카 입자들 간의 우수한 결합력이 도모된다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the inorganic binder preferably includes a silicate. This, in particular, are useful in the present invention in the case where the ceramic particles comprising at least a silica (SiO 2). That is, the silicate is advantageous for improving the bonding force of the silica (SiO 2 ) particles. At this time, the silicate is preferably selected from ethyl silicate. The silicate preferably contains at least tetraethyl orthosilicate (TEOS) among ethyl silicates. Such tetraethylorthosilicate (TEOS) is coated on the surface of silica (SiO 2 ) particles during sintering to greatly increase the sinterability of the silica particles, so that excellent bonding force between the silica particles is achieved after firing.

또한, 상기 무기 결합제는 특별히 한정하는 것은 아니지만, 상기 세라믹 입자 100중량부에 대하여 0.5 ~ 15중량부가 사용될 수 있다. 이때, 무기 결합제의 함량이 0.5중량부 미만인 경우, 세라믹 입자 간의 결합력이 약해질 수 있다. 그리고 무기 결합제의 함량이 15중량부를 초과하는 경우, 과잉 사용에 따른 결합력 향상 미미할 수 있고, 상대적으로 세라믹 입자와 유기물의 사용량이 낮아져 양호한 기공율을 보이기 어려울 수 있다. 이러한 점을 고려하여, 무기 결합제는 세라믹 입자 100중량부에 대하여 1.0 ~ 12중량부가 사용될 수 있다. The inorganic binder is not particularly limited, but may be used in an amount of 0.5 to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of the ceramic particles. At this time, if the content of the inorganic binder is less than 0.5 parts by weight, the bonding force between the ceramic particles may be weakened. If the content of the inorganic binder is more than 15 parts by weight, the bonding strength may be insufficient due to excessive use, and the amount of the ceramic particles and the organic material may be relatively low, so that it may be difficult to exhibit a good porosity. In consideration of this, the inorganic binder may be used in an amount of 1.0 to 12 parts by weight based on 100 parts by weight of the ceramic particles.

상기 유기물은 기공 형성을 위해 사용된다. 즉, 본 발명에 따른 압력 조절 부재는 소성 시, 상기 유기물의 소진(消盡) 제거에 의해, 다수의 기공이 형성되어 다공성을 갖는다. 또한, 상기 유기물은, 경우에 따라서 형태 유지 기능을 겸할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 유기물은 경우에 따라서, 예를 들어 사용되는 유기물이 접착성을 갖는 경우, 이는 상기 세라믹 입자와 무기 결합제를 접착시켜, 소성 전 성형체의 형태를 유지시키는 기능을 겸할 수 있다. The organic material is used for pore formation. That is, the pressure regulating member according to the present invention has a plurality of pores formed by the elimination of the organic substances at the time of firing to have porosity. The organic material may also function as a shape-retaining function depending on circumstances. More specifically, in the case where the organic material to be used has adhesiveness, for example, the organic material may have a function of bonding the ceramic particles and the inorganic binder to maintain the shape of the preform before molding.

상기 유기물은 소성에 의해 소진 제거되어 다수의 기공을 형성시킬 수 있는 것이면 좋다. 유기물은, 예를 들어 수지(resin)로부터 선택될 수 있으며, 그 종류는 특별히 제한되지 않는다. 유기물은, 구체적으로 열가소성 수지 및 열경화성 수지로부터 선택된 하나 이상을 포함한다. 유기물은, 구체적인 예를 들어 폴리비닐알코올(PVA), 폴리비닐부티랄(PVB), 폴리비닐피롤리돈(PVP), 아크릴 수지, 우레탄 수지, 에폭시 수지, 페놀 수지 및 불포화 폴리에스테르 수지 등으로부터 선택된 하나 이상을 포함할 수 있다. The organic material may be one that can be exhausted by firing to form a large number of pores. The organic material may be selected from, for example, a resin, and the kind thereof is not particularly limited. The organic material specifically includes at least one selected from a thermoplastic resin and a thermosetting resin. The organic material is selected from, for example, polyvinyl alcohol (PVA), polyvinyl butyral (PVB), polyvinyl pyrrolidone (PVP), acrylic resin, urethane resin, epoxy resin, phenol resin and unsaturated polyester resin And may include one or more.

또한, 상기 유기물은 특별히 한정하는 것은 아니지만, 세라믹 입자 100중량부에 대하여 0.8 ~ 15중량부를 사용할 수 있다. 이때, 압축 성형 시에 가해지는 성형 압력에 따라 다를 수 있지만, 유기물의 함량이 0.8중량부 미만인 경우에는 기공율이 너무 낮아질 수 있고, 이와는 반대로 15중량부를 초과하는 경우에는 기공율이 너무 높아질 수 있다. 이러한 점을 고려할 때, 유기물은 세라믹 입자 100중량부에 대하여 1.2 ~ 12중량부를 사용하는 것이 좋다. The organic material is not particularly limited, but may be used in an amount of 0.8 to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of the ceramic particles. At this time, it may vary depending on the molding pressure applied at the time of compression molding. However, when the content of the organic material is less than 0.8 part by weight, the porosity may be too low. On the other hand, when the content is more than 15 parts by weight, the porosity may be too high. Considering this point, the organic material is preferably used in an amount of 1.2 to 12 parts by weight based on 100 parts by weight of the ceramic particles.

상기 제1단계(혼합)에서는, 위와 같은 세라믹 입자, 무기 결합제 및 유기물을 포함하는 혼합물을 얻는다. 이때, 상기 혼합물에는, 필요에 따라 점도 조절 및/또는 분산을 위한 용매 등이 더 첨가될 수 있다. 상기 용매는 혼합물의 점도를 조절할 수 있거나, 및/또는 혼합물 내에서 세라믹 입자(및 무기 결합제)의 분산성을 향상시킬 수 있는 것이라면 특별히 제한되지 않는다. 용매는, 예를 들어 상기 유기물의 종류에 따라 선택될 수 있으며, 구체적인 예를 들어 물, 유기 용제 및 이들의 혼합을 포함한다. 그리고 상기 유기 용제로는 메틸알코올, 에틸알코올, 프로필알코올 및 부틸알코올 등의 알코올류; 메틸에틸케톤(MEK) 등의 케톤류; 및 벤젠, 톨루엔 등의 방향족계 등의 탄화수소계를 예로 들 수 있다. 아울러, 용매는 세라믹 입자 100중량부에 대하여, 예를 들어 5 ~ 300중량부 범위 내에서 적절히 조절하여 사용될 수 있다. In the first step (mixing), a mixture containing the ceramic particles, the inorganic binder and the organic material is obtained. At this time, a solvent or the like for viscosity control and / or dispersion may be further added to the mixture. The solvent is not particularly limited as long as it can control the viscosity of the mixture and / or improve the dispersibility of the ceramic particles (and inorganic binder) in the mixture. The solvent may be selected depending on, for example, the type of the organic material, and specific examples include water, an organic solvent, and a mixture thereof. Examples of the organic solvent include alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, propyl alcohol and butyl alcohol; Ketones such as methyl ethyl ketone (MEK); And aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene. In addition, the solvent may be appropriately adjusted within a range of 5 to 300 parts by weight based on 100 parts by weight of the ceramic particles.

또한, 본 발명의 예시적인 형태에 따라서, 상기 제1단계(혼합)는 2차의 혼합공정을 포함할 수 있다. 구체적으로, 먼저 세라믹 입자, 무기 결합제 및 용매(알코올 등)를 혼합하는 제1차 혼합 공정과, 상기 제1차 혼합을 통해 얻어진 혼합물에 유기물(열가소성 수지 및/또는 열경화성 수지)을 첨가 혼합하는 제2차 혼합 공정을 포함할 수 있다. 이와 같이, 2차의 혼합 공정으로 진행하는 경우, 예를 들어 구성 성분들의 분산성을 향상시킬 수 있다. Further, according to an exemplary aspect of the present invention, the first step (mixing) may include a secondary mixing step. Specifically, a first mixing step of mixing ceramic particles, an inorganic binder and a solvent (alcohol or the like) first, and a mixing step of adding an organic material (thermoplastic resin and / or thermosetting resin) to the mixture obtained through the first mixing And a secondary mixing process. Thus, when proceeding to the secondary mixing step, for example, the dispersibility of the constituent components can be improved.

상기 제2단계(건조)에서는 위와 같이 얻어진 혼합물을 건조시킨다. 본 발명에서, 건조는 상기 혼합물을 압축 성형이 가능할 정도의 분말상으로 건조시킬 수 있으면 좋다. 그리고 건조 방법은 제한되지 않는다. 건조는, 예를 들어 자연 건조, 열풍 건조 및 가열 건조 등을 포함한다. 또한, 건조는, 예를 들어 80℃ ~ 100℃의 온도에서 진행될 수 있다. 이러한 건조를 통해, 압축 성형에 적합한 분말상의 혼합물을 얻는다. In the second step (drying), the mixture thus obtained is dried. In the present invention, the drying may be carried out in such a manner that the mixture can be dried in a powder form capable of compression molding. The drying method is not limited. Drying includes, for example, natural drying, hot air drying and heat drying. In addition, the drying can be carried out at a temperature of, for example, 80 ° C to 100 ° C. Through this drying, a powdery mixture suitable for compression molding is obtained.

상기 제3단계(압축 성형)에서는 상기 건조된 혼합물, 즉 분말상의 혼합물을 압축 성형하여 소정 형상의 성형체를 얻는다. 보다 구체적으로, 상기 건조된 혼합물을 일축 압착 성형한다. 상기 성형체의 형상은 소성 후의 소성체, 즉 본 발명에 따른 압력 조절 부재의 형상과 거의 동일하다. 이때, 상기 성형체의 형상은 제한되지 않는다. 즉, 본 발명에 따른 압력 조절 부재의 형상은 제한되지 않는다. In the third step (compression molding), the dried mixture, that is, the powdery mixture is compression-molded to obtain a molded body having a predetermined shape. More specifically, the dried mixture is uniaxially pressed. The shape of the molded body is almost the same as that of the sintered body after firing, that is, the shape of the pressure adjusting member according to the present invention. At this time, the shape of the molded body is not limited. That is, the shape of the pressure regulating member according to the present invention is not limited.

상기 성형체의 형상(즉, 압력 조절 부재의 형상)은, 예를 들어 원형, 타원, 또는 다각형(예를 들어, 사각형, 육각형, 팔각형) 등의 다양한 단면 형상을 가질 수 있다. 상기 성형체의 형상(즉, 압력 조절 부재의 형상)은, 구체적인 예를 들어 원형의 단면 형상을 가질 수 있다. 본 발명에서, 원형은 완전한 원형만을 의미하는 것은 아니다. 상기 성형체의 형상(즉, 압력 조절 부재의 형상)은, 예시적인 형태에 따라서 원통형의 바(bar) 형상을 가질 수 있다. 그리고 성형체(즉, 압력 조절 부재)는, 예를 들어 중앙에 길이 방향을 따라 중공(hollow)이 형성될 수 있다. The shape of the molded body (i.e., the shape of the pressure regulating member) may have various cross sectional shapes such as circular, elliptical, or polygonal (e.g., rectangular, hexagonal, octagonal). The shape of the molded body (i.e., the shape of the pressure regulating member) may have a circular cross-sectional shape, for example. In the present invention, a prototype does not mean a complete prototype. The shape of the molded body (i.e., the shape of the pressure regulating member) may have a cylindrical bar shape according to an exemplary embodiment. The molded body (i.e., the pressure regulating member) may be hollow, for example, along the longitudinal direction at the center.

첨부된 도 1은 본 발명의 예시적인 실시예에 따라 제조된 압력 조절 부재의 사진을 보인 것이다. 도 1에 보인 바와 같이, 본 발명에 따른 압력 조절 부재는, 일례를 들어 길이 방향을 따라 중공이 형성된 원통형의 형상을 가질 수 있다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Figure 1 is a photograph of a pressure regulating member manufactured in accordance with an exemplary embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the pressure regulating member according to the present invention may have a cylindrical shape, for example, with a hollow formed along its longitudinal direction.

또한, 상기 압축 성형은, 예를 들어 금형 프레스나 압출기 등을 통해 구현될 수 있다. 이때, 압축 시에 가해지는 압력은 압력 조절 부재의 기공율 및 밀도 등에 중요한 인자로 작용한다. 바람직한 실시 형태에 따라서, 상기 건조된 혼합물을 1.5MPa ~ 20MPa의 압력으로 압축 성형하는 것이 좋다. 이때, 성형 압력이 1.5MPa 미만인 경우, 기공율이 너무 커질 수 있고, 이와 함께 밀도가 낮아져 기계적 강도가 약해질 수 있다. 그리고 성형 압력이 20MPa를 초과하는 경우, 기공율이 너무 낮아질 수 있다. The compression molding can be implemented by, for example, a die press or an extruder. At this time, the pressure applied during compression acts as an important factor in the porosity and density of the pressure regulating member. According to a preferred embodiment, it is preferable that the dried mixture is compression molded at a pressure of 1.5 MPa to 20 MPa. At this time, when the molding pressure is less than 1.5 MPa, the porosity may become too large, and the density may be lowered and the mechanical strength may be weakened. If the molding pressure exceeds 20 MPa, the porosity may be too low.

상기 제4단계(소성)에서는 위와 같이 압축 성형된 성형체를 소성(열처리)한다. 이러한 소성에 의해, 유기물이 소진 제거되어 기공이 형성되면서 세라믹 입자들 간이 무기 결합제를 매개로 하여 소결, 결합된다. 이때, 소성 온도는 제한되지 않는다. 소성 온도는, 유기물을 소진시킬 수 있으면서 세라믹 입자를 소결시킬 수 있는 온도이면 좋다. In the fourth step (firing), the compression-molded body is fired (heat-treated). By this firing, the organic particles are exhausted and pores are formed, and the ceramic particles are sintered and bonded via the inorganic binder. At this time, the firing temperature is not limited. The firing temperature may be a temperature capable of sintering the ceramic particles while exhausting the organic matter.

상기 소성 온도는 세라믹 입자 및 유기물 등의 종류에 따라 다를 수 있지만, 양호한 소결성을 위해, 예를 들어 1,000℃ 이상, 구체적인 예를 들어 1,000℃ ~ 1,500℃의 온도가 될 수 있다. 이때, 소성 온도가 1,000℃ 미만인 경우, 소결성이 다소 미미할 수 있다. 그리고 소성 온도가 1,500℃를 초과하는 경우, 예를 들어 소결체의 치밀화로 인한 기공율 저하가 발생할 수 있다. 이러한 점을 고려할 때, 소성 온도는 1,200 ~ 1,300℃의 온도가 바람직할 수 있다. The firing temperature may vary depending on the kind of the ceramic particles and the organic material, but may be 1,000 ° C or higher, for example, 1,000 ° C to 1,500 ° C for good sinterability. At this time, if the firing temperature is less than 1,000 ° C, the sintering property may be slightly small. If the firing temperature exceeds 1,500 ° C, for example, the porosity may be lowered due to the densification of the sintered body. Considering this point, the firing temperature may be preferably from 1,200 to 1,300 ° C.

또한, 소성 시간은 특별히 한정하는 것은 아니지만, 예를 들어 2시간 이상, 구체적인 예를 들어 2시간 내지 24시간이 될 수 있다. 소성 시간은, 보다 구체적인 예를 들어 5시간 내지 15시간이 될 수 있으나, 이는 소성 온도 등에 따라 달라질 수 있다. The firing time is not particularly limited, but may be, for example, 2 hours or more, and for example, 2 hours to 24 hours. The firing time may be more specifically, for example, 5 hours to 15 hours, but it may vary depending on the firing temperature and the like.

이상에서 설명한 본 발명에 따른 제조방법은, 상기 본 발명에 따른 압력 조절 부재의 제조를 용이하게 구현한다. 구체적으로, 다공성의 세라믹재로서, 25% ~ 40%의 기공율을 가지면서 기계적 강도가 우수한 본 발명에 따른 압력 조절 부재를 용이하게 제조할 수 있다. The manufacturing method according to the present invention described above facilitates the manufacture of the pressure regulating member according to the present invention. Specifically, as the porous ceramic material, the pressure adjusting member according to the present invention having a porosity of 25% to 40% and excellent mechanical strength can be easily manufactured.

본 발명에 따른 압력 조절 부재를 제조함에 있어서, 예를 들어 습식 겔법이나 캐스팅법을 통해 제조하는 방법이 고려될 수 있다. 그러나 이러한 방법은 시간이 오래 걸리고, 소성 후 기계적 강도가 떨어진다. 그리고 기공율의 제어가 어렵다. 이에 반하여, 전술한 바와 같은 본 발명의 제조방법, 즉 혼합과 건조 후에 압축을 통해 성형한 다음, 소성하는 경우, 공정 시간을 현저히 단축시킬 수 있음은 물론, 소성 후에는 우수한 기계적 강도를 갖는다. 또한, 상기한 바와 같이, 성형 압력의 조절을 통해 기공율을 용이하게 제어할 수 있다. 아울러, 압력 조절 부재는 압축 성형에 의해 양호한 표면 상태를 갖는다. In the production of the pressure regulating member according to the present invention, for example, a method of producing by a wet gel method or a casting method may be considered. However, this method takes a long time and the mechanical strength after firing is low. And it is difficult to control the porosity. On the other hand, when the above-mentioned production method of the present invention, that is, molding by compression after mixing and drying, and then firing, the process time can be remarkably shortened, and also excellent mechanical strength is obtained after firing. Further, as described above, the porosity can be easily controlled by controlling the molding pressure. In addition, the pressure regulating member has a good surface state by compression molding.

본 발명에서, 기공율은 위와 같이 성형 압력의 조절을 통해 제어될 수 있으며, 또한 상기 언급한 바와 같이 세라믹 입자의 크기 및 유기물의 함량 등의 인자에 따라서도 제어될 수 있다. 또한, 본 발명의 예시적인 형태에 따라서, 상기와 같은 여러 인자들의 조절을 통해 적절한 밀도를 갖게 하는 것이 좋다. In the present invention, the porosity can be controlled by controlling the molding pressure as described above, and can also be controlled depending on factors such as the size of the ceramic particles and the content of the organic matter, as mentioned above. Also, in accordance with an exemplary form of the invention, it may be desirable to have an appropriate density through adjustment of such factors as described above.

이때, 본 발명에 따른 압력 조절 부재는 성형 압력, 세라믹 입자의 크기 및 유기물의 함량 등의 조절을 통해, 예를 들어 1.4g/㎤ ~ 1.6g/㎤의 밀도를 가지는 것이 바람직하다. 이러한 밀도 범위에서 우수한 기계적 강도를 가지면서 적절한 기공율을 확보할 수 있다. 구체적으로, 밀도가 1.4g/㎤ 미만인 경우에는 우수한 기계적 강도를 갖기 어려울 수 있으며, 1.6g/㎤를 초과하는 경우에는 기공율이 다소 낮아질 수 있다. At this time, it is preferable that the pressure regulating member according to the present invention has a density of, for example, 1.4 g / cm 3 to 1.6 g / cm 3 through controlling the molding pressure, the size of the ceramic particles and the content of the organic matter. In this density range, excellent porosity can be secured while having excellent mechanical strength. Specifically, when the density is less than 1.4 g / cm 3, it may be difficult to have excellent mechanical strength, and when the density is more than 1.6 g / cm 3, the porosity may be somewhat low.

본 발명에 따른 압력 조절 부재는 성형 압력, 세라믹 입자의 크기 및 유기물의 함량 등의 조절을 통해, 예를 들어 0.5 ~ 2kg/㎠의 기체 통과 압력을 가질 수 있다. 이러한 범위의 기체 통과 압력을 가지는 경우, 진공을 효과적으로 파기할 수 있으면서 와류의 발생을 방지할 수 있다. 바람직하게는, 0.9 ~ 1.5kg/㎠의 기체 통과 압력을 가질 수 있다. The pressure regulating member according to the present invention may have a gas passing pressure of 0.5 to 2 kg / cm 2, for example, by controlling the molding pressure, the size of the ceramic particles and the content of the organic matter. When the gas passing pressure is within this range, it is possible to effectively break the vacuum and prevent the occurrence of vortex. Preferably, it may have a gas passage pressure of 0.9 to 1.5 kg / cm 2.

바람직한 구현예에 따라서, 본 발명에 따른 압력 조절 부재는, 기공율이 30% ~ 35%이고, 밀도가 1.4g/㎤ ~ 1.6g/㎤이며, 기체 통과 압력이 0.9 ~ 1.5kg/㎠인 것이 좋다. 이러한 3가지 조건을 모두 만족하는 경우, 와류 발생 방지 및 기계적 강도 등에서 매우 우수한 특성을 가지면서, 진공 파기를 효과적으로 도모할 수 있다. According to a preferred embodiment, the pressure regulating member according to the present invention preferably has a porosity of 30% to 35%, a density of 1.4 g / cm3 to 1.6 g / cm3, and a gas passing pressure of 0.9 to 1.5 kg / . When all of these three conditions are satisfied, the vacuum evacuation can be effectively achieved while having excellent characteristics in preventing vortex generation and mechanical strength.

한편, 본 발명에 따른 압력 조절 유닛은, 상기한 바와 같은 본 발명의 압력 조절 부재와, 적어도 하나 이상의 연결관을 포함한다. 이때, 연결관은 압력 조절 부재의 적어도 일측 말단에는 결합된다. 즉, 연결관은 압력 조절 부재의 어느 한쪽 말단에 결합되거나, 또는 양쪽 말단 모두에 결합될 수 있다. Meanwhile, the pressure control unit according to the present invention includes the pressure control member of the present invention and at least one connection pipe as described above. At this time, the connection pipe is coupled to at least one end of the pressure regulating member. That is, the connector can be coupled to either end of the pressure regulating member, or to both ends.

상기 압력 조절 부재와 연결관의 결합은 다양한 방법이 고려될 수 있다. 상기 압력 조절 부재와 연결관의 결합은, 예를 들어 용융 접합, 무기 접착제에 의한 접착, 및/또는 별도의 체결구를 통한 체결 결합 등으로부터 선택될 수 있으나, 이들에 의해 한정되는 것은 아니다. Various methods may be considered for coupling the pressure regulating member and the coupling pipe. The connection between the pressure regulating member and the connection pipe may be selected from, for example, fusion bonding, adhesion by an inorganic adhesive, and / or fastening by a separate fastener, but is not limited thereto.

첨부된 도 4는 본 발명에 따른 압력 조절 유닛의 일례를 보여준다. 구체적으로, 첨부된 도 4는 본 발명의 실시예에 따라 제조된 압력 조절 부재에 연결관이 결합되어 있는 모습을 보인 사진이다. 도 4에서, 투명한 튜브(tube)가 연결관이다. FIG. 4 shows an example of a pressure control unit according to the present invention. 4 is a photograph showing a connection pipe connected to a pressure regulating member manufactured according to an embodiment of the present invention. In Figure 4, the transparent tube is a connector.

상기 연결관은 진공 증착 챔버 등의 가스 주입구에 연결되거나, 상기 압력 조절 부재를 외부의 다른 장치로 연결하기 위해 사용될 수 있다. 이러한 연결관은, 유체 흐름이 가능한 것이면 좋다. 연결관은 투명 또는 불투명일 수 있으며, 이는 또한 예를 들어 압력 조절 부재와 동일한 단면 형상을 가질 수 있다. 아울러, 상기 연결관은, 경우에 따라 흐름 유로의 변경을 위해, 도 4에 보인 같이 예를 들어 "ㄱ"자 등의 굴곡 형상을 가질 수 있다. 이러한 연결관은 예를 들어 유리 또는 석영 소재로부터 선택될 수 있다. The connection pipe may be connected to a gas inlet such as a vacuum deposition chamber, or may be used to connect the pressure regulating member to another external device. Such a connection pipe may be any one capable of fluid flow. The connector may be transparent or opaque, which may also have the same cross-sectional shape as, for example, the pressure regulating member. In addition, the connection pipe may have a curved shape such as an "a" shape, for example, as shown in Fig. 4, in order to change the flow channel as occasion demands. Such connectors can be selected, for example, from glass or quartz materials.

상기 본 발명에 따른 압력 조절 유닛은, 그 사용 용도에 있어서 전술한 바와 같은 본 발명의 압력 조절 부재와 동일하다. 예를 들어, 대기압 이하의 진공을 유지하는 장치, 예를 들어 진공 챔버 등에 설치되어, 진공을 파기하는 용도로 사용될 수 있다. 아울러, 본 발명에 따른 압력 조절 유닛은, 다른 예를 들어 물리적 기상 증착(PVD) 또는 화학적 기상 증착(CVD) 등의 증착 설비에서, 플라즈마 생성용 가스 노즐(Gas Nozzle) 등에 적용될 수 있다.
The pressure regulating unit according to the present invention is the same as the pressure regulating member of the present invention as described above in its use. For example, it may be installed in an apparatus for maintaining a vacuum of atmospheric pressure or lower, for example, in a vacuum chamber, and used for purifying vacuum. In addition, the pressure regulating unit according to the present invention can be applied to a gas nozzle for plasma generation, for example, in a vapor deposition apparatus such as physical vapor deposition (PVD) or chemical vapor deposition (CVD).

또한, 본 발명에 따른 진공 증착 장치는 진공 증착 챔버를 포함하되, 전술한 바와 같은 본 발명에 따른 압력 조절 부재 또는 압력 조절 유닛을 하나 이상 포함한다. 상기 진공 증착 챔버는, 하나 이상의 가스 주입구가 형성된 것으로서, 이는 통상적인 것으로부터 선택될 수 있다. 이때, 본 발명에서, 상기 가스 주입구는 진공 파기용 가스 주입구 및 플라즈마 생성용 가스 주입구로부터 선택된 하나 이상일 수 있다. 이러한 가스 주입구에 본 발명에 따른 압력 조절 부재 또는 압력 조절 유닛이 설치되어 진공을 파기하거나, 플라즈마 생성용 가스를 저속으로 주입한다. In addition, the vacuum deposition apparatus according to the present invention includes at least one pressure control member or pressure control unit according to the present invention including a vacuum deposition chamber as described above. The vacuum deposition chamber is formed with at least one gas inlet, which can be selected from conventional ones. At this time, in the present invention, the gas injection port may be at least one selected from a gas injection port for vacuum evacuation and a gas injection port for plasma generation. A pressure regulating member or a pressure regulating unit according to the present invention is installed in the gas inlet so as to break the vacuum or to inject the plasma generating gas at low speed.

본 발명에 따른 진공 증착 장치는, 위와 같은 진공 증착 챔버와, 압력 조절 부재 또는 압력 조절 유닛을 포함하는 것이면 좋다. 그리고 통상과 같이, 상기 진공 증착 챔버 내에 설치된 것으로서, 기판을 고정하기 위한 기판 홀더, 타겟을 장착하여 증착시키는 증착기, 및 타겟의 오염을 방지하기 위한 셔터 조립체 등의 구성 요소를 포함할 수 있다. 이러한 구성 요소의 구조 및 형태 등은 제한되지 않으며, 이는 통상과 같을 수 있다. The vacuum deposition apparatus according to the present invention may include any one of the above-described vacuum deposition chamber, the pressure regulating member, or the pressure regulating unit. And may include components such as a substrate holder for holding the substrate, a deposition device for depositing and depositing the target, and a shutter assembly for preventing contamination of the target, which are usually provided in the vacuum deposition chamber. The structure and the shape of such components are not limited, and this can be the same as usual.

본 발명에서, 상기 증착기는 물리적 기상 증착(PVD), 화학적 기상 증착(CVD) 및 이들을 복합한 증착을 구현할 수 있는 증착 요소를 포함할 수 있다. 증착기는, 예를 들어 DC 스퍼터링, RF 스퍼터링, 마그네트론 스퍼터링, 반응 스퍼터링 및 전자-빔 증착 등의 방법으로 증착할 수 있는 구조 및 형태 등을 가질 수 있다. 상기 증착기는, 구체적인 일례를 들어 캐소드가 장착된 스퍼터 건을 포함할 수 있다. In the present invention, the evaporator may comprise a deposition element capable of implementing physical vapor deposition (PVD), chemical vapor deposition (CVD), and a combination thereof. The deposition apparatus may have a structure and a shape that can be deposited by a method such as DC sputtering, RF sputtering, magnetron sputtering, reactive sputtering, and electron-beam vapor deposition. The evaporator may include a sputter gun with a cathode, for example.

이상에서 설명한 본 발명에 따르면, 극단적인 압력 변화에 의한 와류의 발생을 방지하거나 최소화할 수 있다. 이에 따라, 예를 들어 진공의 파기 시, 챔버 내부의 증착 제품, 예를 들어 박막의 오염을 방지하여, 제품의 품질을 개선할 수 있다. According to the present invention described above, occurrence of vortex due to extreme pressure changes can be prevented or minimized. This can, for example, prevent contamination of deposited products, such as thin films, in the interior of the chamber during vacuum evacuation, thereby improving the quality of the product.

또한, 본 발명에 따른 제조방법의 경우, 전술한 바와 같이 압력 조절 부재의 제조 공정 시간을 단축시킬 수 있고, 우수한 기계적 강도를 도모한다. 아울러, 기공율을 용이하게 제어할 수 있으며, 압력 조절 부재의 표면성을 개선한다.
Further, in the case of the production method according to the present invention, the time for producing the pressure regulating member can be shortened and excellent mechanical strength can be achieved as described above. In addition, the porosity can be easily controlled and the surface property of the pressure regulating member is improved.

이하, 본 발명의 실시예 및 비교예를 예시한다. 하기의 실시예들은 본 발명의 이해를 돕도록 하기 위해 제공되는 것일 뿐, 이에 의해 본 발명의 기술적 범위가 한정되는 것은 아니다.
Hereinafter, examples and comparative examples of the present invention will be exemplified. The following embodiments are provided to facilitate understanding of the present invention, and thus the technical scope of the present invention is not limited thereto.

[실시예 1] [Example 1]

10 ~ 50㎛의 입도 분포를 가지는 퓸드 실리카(SiO2)를 준비하였다. 상기 실리카(SiO2) 100중량부에 대하여 알코올 수용액(30wt%의 이소프로필알코올 수용액) 50중량부와 테트라에틸 오르또실리케이트(TEOS) 5중량부를 혼합 교반하였다. 이후, 폴리비닐알코올(PVA) 10중량부를 더 첨가하여 혼합 교반한 다음, 약 90℃의 온도에서 건조시켜 분말 상의 혼합물을 얻었다. Fumed silica (SiO 2 ) having a particle size distribution of 10 to 50 μm was prepared. The silica (SiO 2) (isopropyl alcohol aqueous solution of 30wt%) aqueous solution of alcohol relative to 100 parts by weight was stirred and mixed 50 parts by weight of tetraethyl silicate addition (TEOS) 5 parts by weight. Thereafter, 10 parts by weight of polyvinyl alcohol (PVA) was further added, mixed and stirred, and then dried at a temperature of about 90 캜 to obtain a powdery mixture.

다음으로, 상기 건조된 분말 상의 혼합물을 금형에 투입하여, 1.5MPa의 압력으로 압착 성형하여, 중공의 원통형 성형체를 얻었다. 이후, 상기 성형체를 소결로에 투입한 다음, 1250℃의 온도에서 10시간 동안 소성(열처리)하여, 본 실시예에 따른 다공성 세라믹재의 압력 조절 부재를 제조하였다.
Next, the dried powdery mixture was put into a metal mold and subjected to compression molding at a pressure of 1.5 MPa to obtain a hollow cylindrical shaped article. Thereafter, the formed body was put in a sintering furnace and then fired (heat-treated) at a temperature of 1250 ° C. for 10 hours to manufacture a pressure regulating member of the porous ceramic material according to the present embodiment.

[실시예 2 ~ 5] [Examples 2 to 5]

상기 실시예 1과 동일하게 실시하되, 압착 성형 시, 각 실시예에 따라 성형 압력을 달리하였다. 구체적으로, 건조된 분말 상의 혼합물을 금형에 투입하여 압착하되, 각 실시예에 따라 2MPa(실시예 2), 2.5MPa(실시예 3), 5MPa(실시예 4), 및 20MPa(실시예 5)로서 압력을 달리하였다. 이후, 실시예 1과 동일한 조건으로 소성하였다. In the same manner as in Example 1, molding pressure was varied according to each example during compression molding. (Example 2), 2.5 MPa (Example 3), 5 MPa (Example 4), and 20 MPa (Example 5) according to each of the Examples, . Thereafter, firing was carried out under the same conditions as in Example 1.

첨부된 도 1은 상기 실시예 3(성형 압력 2.5MPa)에 따라 제조된 압력 조절 부재의 사진이다. 그리고 첨부된 도 2는 상기 실시예 3(성형 압력 2.5MPa)에 따라 제조된 압력 조절 부재의 표면 SEM 사진이다.FIG. 1 is a photograph of a pressure regulating member manufactured according to Example 3 (molding pressure: 2.5 MPa). 2 is a SEM photograph of the surface of the pressure regulating member manufactured according to Example 3 (molding pressure: 2.5 MPa).

[비교예 1] [Comparative Example 1]

상기 실시예 1과 비교하여, 압착 성형 시 압력을 크게 증가시켰다. 구체적으로, 건조된 분말 상의 혼합물을 금형에 투입하여 압착하되, 성형 압력을 50MPa로서 크게 증가시켰다. 이후, 소성 조건은 실시예 1과 동일하다.
Compared with Example 1, the pressure was greatly increased during the compression molding. Specifically, the dried powdery mixture was poured into a mold and pressed, but the molding pressure was increased to 50 MPa. Hereinafter, the firing conditions are the same as in the first embodiment.

상기 실시예 1 ~ 5 및 비교예 1에 따른 압력 조절 부재에 대하여, 밀도(g/㎤) 및 기공율(%)을 측정하고, 그 결과를 하기 [표 1]에 나타내었다. 또한, 첨부된 도 3은 성형 압력에 따른 밀도 및 기공률 측정 결과를 보인 그래프이다.
The density (g / cm 3) and porosity (%) of the pressure regulating member according to Examples 1 to 5 and Comparative Example 1 were measured, and the results are shown in Table 1 below. 3 is a graph showing density and porosity measurement results according to molding pressure.

비 고Remarks 성형 압력[MPa]Molding pressure [MPa] 밀도[g/㎤]Density [g / cm3] 기공율[%]Porosity [%] 실시예 1Example 1 1.51.5 1.371.37 3838 실시예 2Example 2 22 1.521.52 3131 실시예 3Example 3 2.52.5 1.531.53 3030 실시예 4Example 4 55 1.571.57 2929 실시예 5Example 5 2020 1.661.66 2525 비교예 1Comparative Example 1 5050 1.841.84 1616

[표 1] 및 첨부된 도 3에 보인 바와 같이, 성형 압력에 따라 밀도와 기공률이 변화됨을 알 수 있다. 즉, 압착 성형 시, 성형 압력의 조절을 통해 밀도와 기공율을 제어할 수 있음을 알 수 있다.
As shown in Table 1 and attached FIG. 3, it can be seen that the density and the porosity are changed according to the molding pressure. In other words, it can be seen that the density and the porosity can be controlled by controlling the molding pressure in the compression molding.

[실시예 6 ~ 8] [Examples 6 to 8]

실시예 3과 동일하게 실시하되, 실리카(SiO2) 입자의 크기를 달리하였다. 구체적으로, 입도 분포 30㎛ 미만(실시예 6), 입도 분포 30 ~ 40㎛(실시예 7), 및 입도 분포 40 ~ 50㎛(실시예 8)인 것으로서, 각 실시예에 따라 실리카(SiO2)의 입도 분포가 다른 것을 사용하였다. 그리고 성형 압력 및 소성 조건은 실시예 3과 동일하게 실시하였다.
The same procedure as in Example 3 was carried out except that silica (SiO 2 ) particles were different in size. Specifically, the particle size distribution less than 30㎛ (Example 6), particle size distribution 30 ~ 40㎛ (Example 7), and particle size distribution as being 40 ~ 50㎛ (Example 8), silica (SiO 2 for each Example ) Having different particle size distributions were used. The molding pressure and the sintering conditions were the same as in Example 3.

[비교예 2 ~ 3] [Comparative Examples 2 to 3]

실시예 3과 비교하여, 실리카(SiO2)의 입도 분포가 큰 것을 사용하였다. 구체적으로, 비교예 2의 경우에는 실리카(SiO2)의 입도 분포가 50 ~ 60㎛인 것을 사용하였으며, 비교예 3의 경우에는 실리카(SiO2)의 입자 크기가 60㎛를 초과한 것을 사용하였다. 그리고 성형 압력 및 소성 조건은 실시예 3과 동일하게 실시하였다.
As compared with Example 3, silica (SiO 2 ) having a large particle size distribution was used. Specifically, in the case of Comparative Example 2, silica (SiO 2 ) having a particle size distribution of 50 to 60 μm was used, and in Comparative Example 3, silica (SiO 2 ) having a particle size exceeding 60 μm was used . The molding pressure and the sintering conditions were the same as in Example 3.

실시예 6 ~ 8 및 비교예 2 ~ 3에 따른 압력 조절 부재에 대하여, 밀도(g/㎤), 기공율(%) 및 기체 통과 압력(kg/㎠)을 측정하고, 그 결과를 [표 2]에 나타내었다. 이때, [표 2]에는 실시예 3에 따른 압력 조절 부재의 측정 결과를 함께 나타내었다.
The density (g / cm 3), the porosity (%) and the gas passing pressure (kg / cm 2) were measured for the pressure regulating members according to Examples 6 to 8 and Comparative Examples 2 to 3, Respectively. In this case, the measurement results of the pressure regulating member according to the third embodiment are also shown in [Table 2].

< SiO2 입자 크기에 따른 물성 측정 결과 > <Measurement results of physical properties according to the particle size of SiO 2 > 비 고Remarks SiO2 입자 크기[㎛]SiO 2 Particle Size [탆] 밀도[g/㎤]Density [g / cm3] 기공율[%]Porosity [%] 기체 통과 압력[kg/㎠]Gas passing pressure [kg / ㎠] 실시예 3Example 3 10 ~ 5010 to 50 1.531.53 3030 1.51.5 실시예 6Example 6 < 30<30 1.531.53 3131 1.31.3 실시예 7Example 7 30 ~ 4030 to 40 1.491.49 3333 1.11.1 실시예 8Example 8 40 ~ 5040 to 50 1.461.46 3434 1.01.0 비교예 2Comparative Example 2 50 ~ 6050 to 60 1.421.42 3535 0.80.8 비교예 3Comparative Example 3 > 60> 60 1.431.43 3636 0.70.7

[표 2]에 보인 바와 같이, 실리카(SiO2)의 입자 크기에 따라 밀도, 기공율 및 기체 통과 압력이 변화됨을 알 수 있다. 즉, 실리카(SiO2) 입자 크기의 조절을 통해, 밀도와 기공율은 물론, 기체 통과 압력을 제어할 수 있음을 알 수 있다.
As shown in Table 2, the density, porosity and gas permeation pressure are changed depending on the particle size of silica (SiO 2 ). In other words, it can be seen that, by controlling the particle size of the silica (SiO 2 ), the density and the porosity as well as the gas passage pressure can be controlled.

또한, 상기 실시예들 및 비교예들에 따른 압력 조절 부재에 대하여, 진공 파기 소요 시간과, 챔버 내부 와류 발생 시 박막 표면의 오염 정도를 다음과 같이 평가하였다. For the pressure regulating member according to the above embodiments and comparative examples, the time required for vacuum digging and the degree of contamination of the thin film surface when vapors in the chamber were generated were evaluated as follows.

이때, 전도성 산화물 투명 박막(전극)의 증착용으로 많이 사용되는 진공 증착 장치에 적용하되, 각 실시예 및 비교예들에 따른 압력 조절 부재의 말단에 석영 튜브를 결합(도 4 참조)시킨 다음, 이를 내용적 0.2㎥의 진공 증착 챔버의 진공 파기용 가스 주입구에 패킹 결합시켰다. 그리고 초기 1 Torr에서 진공 파기 760 Torr까지 도달하는 시간(초)을 측정하였다. 또한, 진공 파기 후, 박막을 관찰하여 미세 입자에 의한 오염 정도를 평가하였다. 이때, 오염은, 그 정도에 따라 총 10점으로 하여, 오염이 전혀 없으면 0점, 오염이 높을수록 점수를 크게 하여 매우 심한 경우를 10점으로 하여 평가하였다.[오염 정도 : 10(높음) -> 0(없음)] 이상의 결과를 [표 3]에 나타내었다. 이때, [표 3]의 결과에서, 비교예 4는 진공 증착 챔버에 압력 조절 부재를 설치하지 않은 시편의 결과이다.
In this case, the quartz tube is bonded to the end of the pressure control member according to each of the embodiments and the comparative examples (see FIG. 4), and then the vacuum evaporation apparatus is used for vapor deposition of the transparent conductive oxide thin film (electrode) And this was packed into a gas inlet for vacuum evacuation of a vacuum deposition chamber having a volume of 0.2 m 3. Then, the time (seconds) at which the vacuum reached 760 Torr from the initial 1 Torr was measured. After vacuum evacuation, the thin film was observed to evaluate the degree of contamination by the fine particles. At this time, the pollution was evaluated as 10 points, 10 points according to the degree of pollution, 0 point if there was no pollution, 10 points when the pollution was higher, > 0 (none)] The above results are shown in [Table 3]. At this time, in the results of [Table 3], Comparative Example 4 is a result of the specimen in which the pressure regulating member is not provided in the vacuum deposition chamber.

< 진공 파기 소요 시간 및 오염 정도 평가 결과 >      &Lt; Evaluation results of vacuum breakage time and pollution degree > 비 고Remarks 압력 조절 부재
설치 유/무
The pressure-
Installation Yes / No
SiO2 입자 크기
[㎛]
SiO 2 Particle Size
[Mu m]
기공율
[%]
Porosity
[%]
진공 파기 소요 시간
(1 Torr -> 760 Torr)
[sec]
Vacuum destruction time
(1 Torr -> 760 Torr)
[sec]
오염 정도Degree of pollution
실시예 3Example 3 U 10 ~ 5010 to 50 3030 300 ~ 320300-320 00 실시예 6Example 6 U < 30<30 3131 290 ~ 310290-310 00 실시예 7Example 7 U 30 ~ 4030 to 40 3333 260 ~ 280260-280 00 실시예 8Example 8 U 40 ~ 5040 to 50 3434 220 ~ 240220 ~ 240 00 비교예 1Comparative Example 1 U 10 ~ 5010 to 50 1616 460 ~ 480460-480 1One 비교예 2Comparative Example 2 U 50 ~ 6050 to 60 3535 180 ~ 200180 ~ 200 22 비교예 3Comparative Example 3 U > 60> 60 3636 140 ~ 160140-160 33 비교예 4Comparative Example 4 radish -- -- 50 ~ 6050 to 60 1010

[표 3]에 보인 바와 같이, 실리카(SiO2) 입자나 기공율에 따라 진공 파기 소요 시간 및 오염 정도가 달라짐을 알 수 있다. 즉, 본 발명의 실시예에 따라서 적절한 범위의 실리카(SiO2) 입자 크기와 기공율을 가지는 경우, 오염이 없음은 물론, 진공 파기에 소요되는 시간이 짧음을 알 수 있다. 또한, 비교예 4에서와 같이 압력조절 부재를 설치하지 않은 경우, 오염 정도가 매우 심함을 알 수 있다.
As shown in [Table 3], it can be seen that the time required for vacuum digging and the degree of contamination vary depending on the silica (SiO 2 ) particle or the porosity. That is, according to the embodiment of the present invention, when the silica (SiO 2 ) particle size and the porosity are in a suitable range, it is understood that not only the contamination but also the time required for vacuum digging is short. In addition, when the pressure regulating member is not provided as in Comparative Example 4, the degree of contamination is extremely high.

도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 압력 조절 부재를 사용하는 진공 증착용 챔버 개략도로서, 진공 증착용 챔버에는 주로 액상으로 이루어진 소스를 직류 또는 고주파로 증발시키는 DC/RF 소스(510), DC/RF 소스의 직상부에 배치된 증착대상물인 기판(520), DC/RF 소스 주위에 배치되고 DC/RF 소스 주변과 챔버 외부를 연통하여 플라즈마 발생용 압력 조절 부재(530), 챔버 내부의 압력을 조절하는 진공 펌프(540), 및 기판과 소정 거리 이격되어 배치되고, 챔버 내부와 외부를 연통하여 챔버 내부의 진공 상태를 파기하는 진공 파기용 압력 조절 부재(550)를 포함한다. FIG. 5 is a schematic view of a vacuum deposition chamber using a pressure regulating member according to an embodiment of the present invention. In the vacuum deposition chamber, a DC / RF source 510 for DC / A substrate 520 which is an evaporation object disposed directly above the RF source, a pressure regulating member 530 disposed around the DC / RF source and communicating with the periphery of the DC / RF source and the outside of the chamber, a pressure regulating member 530 for generating plasma, And a pressure regulating member 550 disposed at a predetermined distance from the substrate and communicating with the inside and the outside of the chamber to evacuate the vacuum state inside the chamber.

Claims (16)

평균 입도 크기가 1 ~ 50㎛인 실리카(SiO2) 입자; 및
상기 실리카 입자를 결합시키는 테트라에틸 오르소실리케이트(TEOS, Tetraethyl Orthosilicate)를 포함하고,
기공율이 25% ~ 40%인 것을 특징으로 하는 압력 조절 부재.
Silica (SiO 2 ) particles having an average particle size of 1 to 50 μm; And
And tetraethyl orthosilicate (TEOS) for bonding the silica particles,
And a porosity of 25% to 40%.
제1항에 있어서,
상기 압력 조절 부재는 1.4g/㎤ ~ 1.6g/㎤의 밀도를 가지는 것을 특징으로 하는 압력 조절 부재.
The method according to claim 1,
Wherein the pressure regulating member has a density of 1.4 g / cm &lt; 3 &gt; to 1.6 g / cm &lt; 3 &gt;.
제1항에 있어서,
상기 압력 조절 부재는 실리카 입자 100중량부에 대하여 테트라에틸 오르소실리케이트 0.5 ~ 15중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는 압력 조절 부재.
The method according to claim 1,
Wherein the pressure regulating member comprises 0.5 to 15 parts by weight of tetraethyl orthosilicate per 100 parts by weight of the silica particles.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 평균 입도 크기가 1 ~ 50㎛인 실리카 입자, 상기 실리카 입자를 결합시키는 테트라에틸 오르소실리케이트, 및 기공을 형성하기 위한 폴리비닐알콜을 포함하는 혼합물을 얻는 제1단계;
상기 혼합물을 건조시키는 제2단계;
상기 건조된 혼합물을 압축 성형하여 성형체를 얻는 제3단계; 및
상기 성형체를 소성하는 제4단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 압력 조절 부재의 제조방법.
A first step of obtaining a mixture comprising silica particles having an average particle size of 1 to 50 占 퐉, tetraethyl orthosilicate for bonding the silica particles, and polyvinyl alcohol for forming pores;
A second step of drying the mixture;
A third step of compression molding the dried mixture to obtain a molded body; And
And a fourth step of baking the molded body.
삭제delete 삭제delete 제7항에 있어서,
상기 제2단계는 혼합물을 80℃ ~ 100℃에서 건조시키는 것을 특징으로 하는 압력 조절 부재의 제조방법.
8. The method of claim 7,
Wherein the second step comprises drying the mixture at 80 ° C to 100 ° C.
제7항에 있어서,
상기 제3단계는 건조된 혼합물을 1.5MPa ~ 20MPa의 압력으로 압축 성형하는 것을 특징으로 하는 압력 조절 부재의 제조방법.
8. The method of claim 7,
Wherein the third step comprises compression molding the dried mixture at a pressure of 1.5 MPa to 20 MPa.
제7항에 있어서,
상기 제4단계는 성형체를 1,000℃ ~ 1,500℃의 온도에서 소성하는 것을 특징으로 하는 압력 조절 부재의 제조방법.
8. The method of claim 7,
Wherein the fourth step is a step of firing the formed body at a temperature of 1,000 ° C to 1,500 ° C.
제1항 내지 제3항 중 어느 하나의 항에 따른 압력 조절 부재; 및
상기 압력 조절 부재의 말단에 결합된 연결관을 포함하는 것을 특징으로 하는 압력 조절 유닛.
A pressure regulating member according to any one of claims 1 to 3; And
And a connection pipe connected to an end of the pressure regulating member.
제13항에 있어서,
상기 연결관은 석영 소재인 것을 특징으로 하는 압력 조절 유닛.
14. The method of claim 13,
Wherein the connecting tube is made of a quartz material.
가스 주입구가 형성된 진공 증착 챔버; 및
상기 가스 주입구에 설치되고, 제1항 내지 제3항 중 어느 하나의 항에 따른 압력 조절 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 진공 증착 장치.
A vacuum deposition chamber in which a gas inlet is formed; And
The vacuum vapor deposition apparatus according to any one of claims 1 to 3, further comprising a pressure regulating member provided at the gas inlet.
가스 주입구가 형성된 진공 증착 챔버; 및
상기 가스 주입구에 설치되고, 제13항에 따른 압력 조절 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 진공 증착 장치.
A vacuum deposition chamber in which a gas inlet is formed; And
The vacuum evaporation apparatus according to claim 13, further comprising a pressure regulating unit provided at the gas inlet.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR900700415A (en) * 1988-02-26 1990-08-13 Breathable porous body, its manufacturing method and pressure casting molding frame
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