KR101460311B1 - 입자 분급장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명에 의한 입자 분급장치는, 기둥형상의 내부전극과, 상기 내부전극과 이격되도록 상기 내부전극의 측면을 둘러싸는 외부전극과, 상기 내부전극과 상기 외부전극 사이의 이격공간으로 에어로졸과 공기를 각각 공급하는 에어로졸 공급부 및 공기 공급부를 포함하되, 상기 내부전극과 상기 외부전극 사이의 이격거리가 에어로졸 유동 상류측보다 에어로졸 유동 하류측이 좁게 형성된다. 본 발명에 의한 입자 분급장치를 이용하면, 에어로졸의 유동경로를 짧게 제작하더라도 에어로졸의 입자를 크기별로 분류하여 포집할 수 있고, 입자 배출 경로 상에 챔버를 두어 차압 발생을 방지함으로써 에어로졸 유동경로의 모든 방향으로 입자가 고르게 포집될 수 있다는 장점이 있다.

Description

입자 분급장치 {Apparatus for classifying particle}
본 발명은 입자 분급장치에 관한 것으로, 더 상세하게는 전기장이 인가되었을 때 입자의 크기에 따라 이동도가 상이해지는 현상을 이용하여 입자를 크기별로 분류할 수 있는 입자 분급장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 생산 공정의 클린룸과 같은 청정 공간 내에 존재하는 입자들의 측정은 반도체 생산 공정에서 매우 중요한 요소이며, 반도체 기술의 발달로 반도체의 선폭이 감소함에 따라서 나노 단위의 입자까지 측정할 수 있는 기술이 요청되고 있다. 또한, 최근에는 나노미터 내지 마이크로미터 크기의 구조를 가지는 입자를 사용하는 기술이 발전하면서, 초미세 입자를 측정하는 것에서 나아가 크기 별로 분류하는 기술이 연구의 기본조건이 되고 있다.
이렇듯 입자를 측정, 평가 및 분류하는 기술에 대한 요구가 여러 방면에서 증가하고 있으며, 최근 들어서는 정전기력에 의한 입자의 이동도 차이를 이용하여 입자를 분류하는 전기적 입자 분급장치(DMA, different mobility analyzer)에 대해 활발한 개발이 이루어지고 있다.
이때, 통상의 DMA는 에어로졸의 입자 크기 분포를 측정하기 위하여 전압을 스캐닝(scanning)하는 방법을 이용하도록 구성되어 있는데, 일반적으로 스캐닝 시간은 약 2분 정도 소요되므로 입자 분급에 많은 시간이 소요될 뿐만 아니라, 대기오염물질 배출에 관한 연구를 할 경우, 특히, 디젤에서 발생되는 매연의 경우 매우 빠른 시간으로 매연의 크기 및 농도가 수시로 변하므로 기존의 DMA를 이용한 매연의 배출 특성을 측정하기에는 거의 불가능하다. 이에 대한 대안으로 제시된 것이 다중 입자 분급장치(MDMA : Multi-stage Differential Mobility Analyzer) 이다. 이러한 MDMA는 에어로졸 유동방향을 따라 여러 개의 포트(stage)를 설치하여 에어로졸 유동경로 초입에서는 비교적 크기가 작은 입자가 포집되고, 에어로졸 유동경로 후단에서는 비교적 크기가 큰 입자가 포집되도록 구성되는바, 스캐닝 시간을 줄일 수 있다는 장점이 있다.
그러나 상기와 같은 MDMA는, 크기가 큰 입자까지 모두 포집하기 위해서는 에어로졸 유동경로가 매우 길게 확보되어야 하므로, 전체 시스템의 크기가 매우 커져 비효율적이라는 단점이 있다. 이와 같은 문제를 해결하기 위하여 인가되는 전압을 증대시키는 방법에 제안된 바 있으나, 인가전압이 높아지면 크기가 큰 입자도 에어로졸 유동경로의 초입에서 포집될 수 있으므로 입자의 분급 신뢰성이 낮아진다는 문제점이 있다.
관련 선행기술로는 공개특허공보 제10-2012-0011549호(발명의 명칭; 나노 입자용 분급 장치, 공개일자; 2012년 02월 08일)가 있다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로, 에어로졸의 유동경로를 짧게 제작하더라도 에어로졸의 입자를 크기별로 분류하여 포집할 수 있고, 입자 배출 경로 상에서의 차압 발생을 방지함으로써 에어로졸 유동경로의 모든 영역에서 입자 포집이 고르게 이루어질 수 있는 입자 분급장치를 제공하는데 목적이 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 입자 분급장치는, 기둥형상의 내부전극과, 상기 내부전극과 이격되도록 상기 내부전극의 측면을 둘러싸는 외부전극과, 상기 내부전극과 상기 외부전극 사이의 이격공간으로 에어로졸과 공기를 각각 공급하는 에어로졸 공급부 및 공기 공급부를 포함하되, 상기 내부전극과 상기 외부전극 사이의 이격거리가 에어로졸 유동 상류측보다 에어로졸 유동 하류측이 좁게 형성된다.
상기 내부전극은 에어로졸 유동 하류측으로 갈수록 외경이 단계적으로 증가된다.
상기 내부전극은 에어로졸 유동 하류측으로 갈수록 외경이 점진적으로 증가된다.
상기 외부전극은 에어로졸 유동 하류측으로 갈수록 내경이 감소된다.
상기 외부전극은 적층 구조로 결합되는 복수 개의 전극링으로 구성되며, 상기 에어로졸의 입자는 이웃하는 두 개의 전극링 사이를 통해 외부로 배출된다.
이웃하는 두 개의 전극링 사이 중 내경 측에는 입자가 통과되는 슬릿이 전주에 걸쳐 마련되고, 상기 전극링의 외경측에는 상기 슬릿과 연통되는 분급입자 배출홀이 어느 일측에 형성된다.
적층되는 두 개의 전극링이 상호 마주보는 면 사이에는, 내경측이 상기 슬릿과 연통되고 외경측이 상기 분급입자 배출홀과 연통되는 링 형상의 챔버가 형성된다.
상기 공기 공급부는 상기 내부전극과 외부전극 사이의 이격공간 일측을 덮는 캡구조로 결합되되, 측벽에 하나 이상의 공기 공급홀이 형성되며, 상기 에어로졸 공급부는 상기 공기 공급부를 관통하도록 결합되고, 상기 에어로졸 공급부의 에어로졸 출구측에는 에어로졸 공급방향을 따라 직경이 넓어지는 원추 형상의 에어로졸 분산블록이 추가로 구비된다.
상기 공기 공급홀의 출구측 전체를 덮는 에어필터가 추가로 구비된다.
본 발명에 의한 입자 분급장치를 이용하면, 에어로졸의 유동경로를 짧게 제작하더라도 에어로졸의 입자를 크기별로 분류하여 포집할 수 있고, 입자 배출 경로 상에 챔버를 두어 차압 발생을 방지함으로써 에어로졸 유동경로의 모든 방향으로 입자가 고르게 포집될 수 있다는 장점이 있다.
도 1은 본 발명에 의한 입자 분급장치의 사시도이다.
도 2는 본 발명에 의한 입자 분급장치의 정면도이다.
도 3은 본 발명에 의한 입자 분급장치에 포함되는 내부전극의 사시도이다.
도 4는 본 발명에 의한 입자 분급장치에 포함되는 전극링의 사시도이다.
도 5는 본 발명에 의한 입자 분급장치의 조립단면도이다.
도 6 및 도 7은 본 발명에 의한 입자 분급장치의 확대단면도이다.
도 8은 본 발명에 의한 입자 분급장치 제2 실시예의 단면도이고, 도 9는 본 발명에 의한 입자 분급장치 제2 실시예에 포함되는 내부전극의 사시도이다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 의한 입자 분급장치의 실시예를 상세히 설명한다.
도 1 및 도 2는 본 발명에 의한 입자 분급장치의 사시도 및 정면도이고, 도 3 및 도 4는 본 발명에 의한 입자 분급장치에 포함되는 내부전극 및 전극링의 사시도이며, 도 5는 본 발명에 의한 입자 분급장치의 조립단면도이다.
본 발명에 의한 입자 분급장치는 에어로졸이 유동되는 공간에 전기장이 인가되었을 때 에어로졸에 포함된 입자들이 전기장의 힘에 의해 일측으로 이동되는 현상을 이용하여, 상기 입자들을 크기별로 분류하기 위한 분급장치로서, 기둥형상의 내부전극(100)과, 상기 내부전극(100)과 이격된 상태를 유지하면서 내부전극(100)의 측면(외주면)을 둘러싸는 외부전극(200)과, 상기 내부전극(100)과 외부전극(200) 사이의 이격공간(이하 '이격공간'이라 약칭함)으로 에어로졸과 공기를 각각 공급하는 에어로졸 공급부(500) 및 공기 공급부(400)를 포함하도록 구성된다. 상기 에어로졸 공급부(500)와 공기 공급부(400)는 내부전극(100)과 외부전극(200) 사이의 이격공간 상류측으로 에어로졸과 공기를 공급하도록 구성되어 이격공간으로 공급된 에어로졸과 공기는 내부전극(100)의 길이방향을 따라 유동되며, 내부전극(100)과 외부전극(200)에 각각 양극과 음극이 인가되었을 때 에어로졸에 포함된 입자는 이격공간을 따라 유동되면서 외부전극(200)에 가까워지도록 유동경로가 변경된다. 상기 외부전극(200)에는 입자가 통과될 수 있도록 슬릿(220)이 형성되어 있는바, 외부전극(200) 측으로 이동된 나노전극은 외부전극(200)에 형성된 슬릿(220)을 통해 외부로 배출된다.
이때, 두 개의 원통 전극사이에 노출된 하전 입자의 운동은 하기 [식 1]로 표시될 수 있다.
[식 1]
Figure 112013022989525-pat00001
(x : 입자 이동거리, Q : 총유량, r1 : 내부전극(100) 외경, r2 : 외부전극(200) 내경, μ : 기체의 점성계수, Dp : 입자 직경, V : 인가전압, q : 입자 하전량, Cc : 커닝햄 보정계수(Cunningham slip correction factor))
상기 [식 1]에 나타난 바와 같이 입자의 이동거리는 입자의 직경과 비례하므로, 상대적으로 직경이 작은 입자는 유동경로 입구측 즉, 에어로졸 유동 상류측(본 실시예에서는 상측)에서 먼저 포집되고, 상대적으로 직영이 큰 입자는 유동경로 후단측 즉, 에어로졸 유동 하류측(본 실시예에서는 하측)에서 포집되는바, 입자가 크기별로 구분되어 포집될 수 있게 된다. 이와 같이 내부전극(100)과 외부전극(200) 사이를 지나는 입자가 자기장에 의해 외부전극(200) 측으로 이동되는 기술적 사상은 종래의 입자 분급장치에서도 동일하게 적용되고 있는바, 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.
이때, 직경이 작은 입자는 외부전극(200)을 향해 이동하는 속도가 빠르므로 이격공간의 상측에서 바로 포집되지만, 직경이 큰 입자는 외부전극(200)을 향해 이동하는 속도가 상대적으로 낮으므로 외부전극(200)으로 포집되기까지 상당한 길이의 유동거리가 요구되므로, 종래의 입자 포집장치와 같이 이격공간에 형성되는 전기장의 세기가 모든 부위에 걸쳐 일정한 경우 내부전극(100)과 외부전극(200)의 길이가 매우 길게 확보되어야 한다는 단점이 있다. 이와 같이 내부전극(100)과 외부전극(200)의 길이가 길어지면 제품의 전체 길이가 길어져 소형화에 한계가 발생될 뿐만 아니라, 입자를 분류하여 포집하는데 많은 시간이 소요된다는 문제가 발생된다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결할 수 있도록, 내부전극(100)과 상기 외부전극(200) 사이의 이격거리가 에어로졸이 흐르는 유로의 상류측(이하 '에어로졸 유동 상류측'이라 약칭함)보다 에어로졸이 흐르는 유로의 하류측(이하 '에어로졸 유동 하류측'이라 약칭함)이 좁아지도록 형성된다는 점에 가장 큰 특징이 있다. 예를 들어 상기 내부전극(100)이 도 3 및 도 5에 도시된 바와 같이 내부전극(100)과 외부전극(200)이 수직으로 세워지는 경우, 하측으로 갈수록 외경이 단계적으로 증가되는 구조로 형성되어, 하측으로 갈수록 내부전극(100)과 외부전극(200) 사이의 이격거리가 좁아지도록 구성될 수 있다.
이와 같이 내부전극(100)과 상기 외부전극(200) 사이의 이격거리가 좁아지면 즉, 내부전극(100)과 외부전극(200)이 가까워지면, 이격공간에 보다 강력한 전기장이 발생되므로 직경이 큰 입자도 빠르게 외부전극(200) 측으로 이동되어 포집될 수 있게 된다. 이와 같이 내부전극(100)과 외부전극(200) 사이의 이격거리에 따라 입자의 이동거리가 증가되는 것은 상기 [식 1]을 통해서도 알 수 있다.
본 발명에 의한 입자 분급장치와 같이 에어로졸 유동 하류측으로 갈수록 이격공간의 전기장 세기가 커지도록 구성되면, 이격공간의 에어로졸 유동 상류측에서 포집되지 못한 입자가 이격공간의 에어로졸 유동 하류측에서 보다 강력한 힘으로 포집될 수 있다. 즉, 본 발명에 의한 입자 분급장치는 에어로졸이 흐르는 유로를 길게 확보하지 아니하더라도 직경이 큰 입자까지 포집할 수 있으므로, 제품의 소형화가 구현될 수 있고, 제품의 제조원가가 절감될 뿐만 아니라 입자를 크기별로 분류하여 포집하는데 소요되는 시간을 단축시킬 수 있다는 장점을 갖게 된다. 크기가 상이한 입자들이 외부전극(200) 측으로 이동되어 크기별로 분류되어 포집되는 과정에 대해서는, 이하 도 6 및 도 7을 참조하여 상세히 설명한다.
이격공간을 따라 흐르던 입자는 외부전극(200)에 형성된 슬릿(220)을 통과하여 외부로 배출 및 포집되는데, 이때 상기 외부전극(200)이 하나의 부품으로 제작되면 슬릿(220) 제작을 위해 외부전극(200)을 관통 가공하는 과정이 필수적으로 요구되므로 외부전극(200) 제조에 많은 어려움이 발생된다. 특히, 상기 슬릿(220)의 폭이 얇아야 하는 경우 외부전극(200)을 관통 가공하여 슬릿(220)을 형성시키는 작업은 더욱 어려워진다. 따라서 상기 외부전극(200)은 본 실시예에 도시된 바와 같이 적층 구조로 결합되는 복수 개의 전극링(210)으로 구성됨이 바람직하다. 이웃하는 두 개의 전극링(210)은 상호 밀착되는 것이 아니라 이격공간과 연통되는 슬릿(220)이 마련되도록 일정 간격 이격된 상태로 적층되는바, 측벽을 관통 가공하는 과정 없이 슬릿(220)을 형성할 수 있게 된다. 이와 같이 외부전극(200)이 복수 개의 전극링(210)으로 구성되면, 별도의 슬릿(220) 형성을 위해 측벽을 관통 가공할 필요가 없으므로 외부전극(200) 제조과정이 간단해지고, 어느 일부가 파손 또는 손상되는 경우 해당 전극링(210)만을 교체하여 재사용할 수 있으므로 보수 및 유지비용이 절감된다는 효과를 얻을 수 있다.
한편, 이격공간을 따라 유동하는 입자들이 고르게 외부전극(200) 측으로 포집될 수 있도록 상기 슬릿(220)은 외부전극(200)의 내경 전주에 걸쳐(더 명확하게는 이웃하는 두 개의 전극링(210) 사이 중 내경측 전주에 걸쳐) 마련되는데, 포집된 입자를 외부전극(200) 외측으로 배출시키기 위한 분급입자 배출홀(240)도 외부전극(200)의 외경 전주에 걸쳐 형성되면 입자들이 사방으로 퍼져 배출된다는 문제가 발생된다. 따라서 상기 분급입자 배출홀(240)은 상기 슬릿(220)과 연통되되 전극링(210)의 외측면 어느 일측에만 형성됨이 바람직하다.
도 6 및 도 7은 본 발명에 의한 입자 분급장치의 확대단면도이다.
이격공간으로 유입된 에어로졸과 공기가 외부 영향을 받지 아니하고 정상 유동될 수 있도록, 상기 공기 공급부(400)는 이격공간 상측을 덮는 캡구조로 결합되고, 상기 이격공간 하측은 베이스(300)에 의해 밀폐되도록 구성된다. 이때 공기 공급부(400)의 측벽에는 하나 이상의 공기 공급홀(410)이 형성되고, 에어로졸 공급부(500)는 공기 공급부(400)를 관통하도록 결합되므로, 이격공간의 상부측으로 에어로졸 및 공기 공급이 가능해진다. 이때, 에어로졸과 공기는 이격공간 전체에 걸쳐 고르게 공급되어야 하는데, 공기를 고르게 공급하는 것은 공기 공급홀(410)을 공기 공급부(400)의 측벽 사방에 형성함으로써 쉽게 달성될 수 있지만, 에어로졸의 고른 공급을 위해 에어로졸 공급부(500)를 여러 개 구비시키는 경우 제품 구조가 복잡해질 뿐만 아니라 부품 수 증가로 인해 제조원가 상승 등 여러 가지 문제가 발생될 수 있다.
따라서 본 발명에 의한 입자 분급장치는 하나의 에어로졸 공급부(500)만을 이용하더라도 에어로졸을 이격공간 사방으로 고르게 공급시킬 수 있도록, 상기 에어로졸 공급부(500)의 에어로졸 출구측, 본 실시예에서는 에어로졸 공급홀(510)의 하측단에 아래로 갈수록 직경이 넓어지는 원추 형상의 에어로졸 분산블록(700)이 추가로 구비될 수 있다. 에어로졸 공급부(500)의 출구를 지난 에어로졸은 에어로졸 분산블록(700)의 경사진 상면을 타고 사방으로 분산되므로, 평면 형상이 링 형상을 이루는 이격공간의 각 부위로 고르게 전달될 수 있게 된다. 이때, 상기 에어로졸 분산블록(700)은 안정적으로 고정된 상태를 유지할 수 있도록, 본 실시예에 도시된 바와 같이 내부전극(100)의 상단에 결합됨이 바람직하다.
한편, 공급홀의 출구측에 에어필터(600)가 추가로 구비될 수 있다. 이와 같이 에어필터(600)가 추가로 구비되면, 공기 공급부(400)를 통해 공급된 공기가 에어필터(600)에 의해 여과된 후 이격공간으로 공급되므로, 입자의 유동 및 포집이 먼지나 이물질 등에 의해 방해를 받는 현상을 방지할 수 있게 된다. 또한, 공기 공급부(400)의 측벽에 공기 공급홀(410)을 다수 개 마련한다 하더라도 공기 공급홀(410)과 인접한 부위로는 보다 많은 공기가 공급되고, 이웃하는 두 개의 공기 공급홀(410) 사이에 위치하는 부위로는 상대적으로 적은양의 공기가 공급될 수밖에 없는데, 상기 언급한 바와 같이 에어필터(600)가 추가로 구비되면 공급된 공기가 에어필터(600)에 걸러지는 과정에서 일차적으로 압력이 하강되어 에어필터(600) 전체에 걸쳐 고르게 퍼져 통과되므로 이격공간으로의 공기공급이 보다 균일하게 이루어지게 된다.
도 7에 도시된 바와 같이 이격공간으로는 직경이 상이한 입자들이 유입되는데, 이때, 직경이 작은 입자는 외부전극(200) 내경방향 이동거리가 상대적으로 크므로 이격공간의 상부에서 외부전극(200)으로 포집되며, 나머지 입자들은 더 유동하여 내부전극(100)과 외부전극(200) 간격이 좁아지는 지점으로 유입된다. 내부전극(100)과 외부전극(200) 간격이 좁아지는 지점은 보다 큰 자기장이 형성되므로, 비교적 직경이 큰 입자도 외부전극(200) 측으로 용이하게 포집된다. 물론, 직경이 매우 큰 입자의 경우 외부전극(200)으로 포집되지 아니하고 끝까지 유동될 수 있는데, 이와 같이 끝까지 유동된 입자는 도 5에 도시된 잔여입자 배출홀(250)을 통해 배출된다.
한편, 상기 슬릿(220)은 평면 형상이 원형을 이루도록 형성되는데, 단면적이 매우 좁으므로 어느 일측에 낮은 압력이 인가될 때 슬릿(220) 전체에 고르게 압력 저하가 발생되지 아니하고, 낮은 압력이 인가된 부위에만 압력 저하가 집중된다. 따라서 상기 언급한 바와 같이 분급입자 배출홀(240)이 슬릿(220)의 어느 일측에 직접 연통되도록 구성되면 상기 슬릿(220)의 각 부위별로 차압이 발생되어 입자의 원활한 배출이 어려워진다는 문제가 발생된다. 즉, 상기 슬릿(220) 중 분급입자 배출홀(240)과 가까운 부위로 유입된 입자는 효과적으로 분급입자 배출홀(240)을 통해 외부로 배출될 수 있으나, 상기 슬릿(220) 중 분급입자 배출홀(240)과 먼 부위로 유입된 입자는 분급입자 배출홀(240) 측으로 원활하게 이동되지 못하게 된다는 문제가 발생된다.
본 발명에 의한 입자 분급장치는 슬릿(220)의 부위에 따라 차압이 발생되지 아니하도록, 슬릿(220)과 분급입자 배출홀(240) 사이에는 챔버(230)가 마련될 수 있다. 상기 챔버(230)는 적층방향으로 이웃하는 두 개의 전극링(210)이 상호 마주보는 면 사이에 마련되되, 내경측이 상기 슬릿(220)과 연통되도록 링 형상을 이루며, 외경측이 상기 분급입자 배출홀(240)과 연통되도록 구성된다. 따라서 분급입자 배출홀(240)의 압력이 낮게 형성되는 경우, 챔버(230) 전체에 걸쳐 압력 저하가 고르게 발생되므로, 입자는 슬릿(220)의 어느 방향으로 유입되더라도 고르게 포집 및 배출될 수 있게 된다.
도 8은 본 발명에 의한 입자 분급장치 제2 실시예의 단면도이고, 도 9는 본 발명에 의한 입자 분급장치 제2 실시예에 포함되는 내부전극(100)의 사시도이다.
본 발명에 의한 입자 분급장치에 적용되는 내부전극(100)은, 도 3 및 도 5에 도시된 바와 같이 외경이 단계적으로 증가되도록 형성될 수도 있고, 도 8 및 도 9에 도시된 바와 같이 에어로졸 유동 하류측으로 갈수록 외경이 점진적으로 증가되도록 형성될 수도 있다. 이와 같이 내부전극(100)의 외경이 점진적으로 증가되도록 형성되면, 이격공간에 발생되는 자기장이 하측으로 갈수록 점진적으로 증가되므로, 입자를 보다 세밀하게 크기별로 분류할 수 있다는 효과를 얻을 수 있다.
한편, 본 실시예에서는 외부전극(200)의 내경은 상하 방향으로 동일하게 유지되고 내부전극(100)이 에어로졸 유동 하류측으로 갈수록 외경이 증가됨으로써 내부전극(100)과 외부전극(200) 간격이 좁아지는 경우만을 도시하고 있으나, 내부전극(100)의 외경이 상하 방향으로 동일하게 유지되고 상기 외부전극(200)의 내경이 에어로졸 유동 하류측으로 갈수록 감소됨으로써 내부전극(100)과 외부전극(200) 간격이 좁아지도록 구성될 수도 있다. 이와 같이 외부전극(200)의 내경이 하측으로 갈수록 감소되어 내부전극(100)과 외부전극(200) 간격이 좁아지는 경우에 있어서도, 직경이 큰 입자가 보다 쉽게 포집될 수 있다는 효과는 동일하게 구현될 수 있으므로, 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.
또한, 본 실시예에서는 내부전극(100)과 외부전극(200)이 수직으로 세워지는 구조만을 도시하고 있으나, 본 발명에 의한 입자 분급장치는 수평으로 눕혀지거나 대각선 방향으로 기울어지도록 구성될 수도 있다.
이상, 본 발명을 바람직한 실시 예를 사용하여 상세히 설명하였으나, 본 발명의 범위는 특정 실시 예에 한정되는 것은 아니며, 첨부된 특허청구범위에 의하여 해석되어야 할 것이다. 또한, 이 기술분야에서 통상의 지식을 습득한 자라면, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않으면서도 많은 수정과 변형이 가능함을 이해하여야 할 것이다.
100 : 내부전극 200 : 외부전극
210 : 전극링 220 : 슬릿
230 : 챔버 240 : 분급입자 배출홀
250 : 잔여입자 배출홀 300 : 베이스
400 : 공기 공급부 410 : 공기 공급홀
500 : 에어로졸 공급부 510 : 에어로졸 공급홀
600 : 에어필터 700 : 에어로졸 분산블록

Claims (9)

  1. 기둥형상의 내부전극;
    상기 내부전극과 이격되도록 상기 내부전극의 측면을 둘러싸는 외부전극;
    상기 내부전극과 상기 외부전극 사이의 이격공간으로 에어로졸과 공기를 각각 공급하는 에어로졸 공급부 및 공기 공급부;
    를 포함하되,
    상기 내부전극과 상기 외부전극 사이의 이격거리가 에어로졸 유동 상류측보다 에어로졸 유동 하류측이 좁게 형성되는 것을 특징으로 하는 입자 분급장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 내부전극은 에어로졸 유동 하류측으로 갈수록 외경이 단계적으로 증가되는 것을 특징으로 하는 입자 분급장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 내부전극은 에어로졸 유동 하류측으로 갈수록 외경이 점진적으로 증가되는 것을 특징으로 하는 입자 분급장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 외부전극은 에어로졸 유동 하류측으로 갈수록 내경이 감소되는 것을 특징으로 하는 입자 분급장치.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 외부전극은 적층 구조로 결합되는 복수 개의 전극링으로 구성되며,
    상기 에어로졸의 입자는 이웃하는 두 개의 전극링 사이를 통해 외부로 배출되는 것을 특징으로 하는 입자 분급장치.
  6. 제5항에 있어서,
    이웃하는 두 개의 전극링 사이 중 내경 측에는 입자가 통과되는 슬릿이 전주에 걸쳐 마련되고, 상기 전극링의 외경측에는 상기 슬릿과 연통되는 분급입자 배출홀이 어느 일측에 형성되는 것을 특징으로 하는 입자 분급장치.
  7. 제6항에 있어서,
    적층되는 두 개의 전극링이 상호 마주보는 면 사이에는, 내경측이 상기 슬릿과 연통되고 외경측이 상기 분급입자 배출홀과 연통되는 링 형상의 챔버가 형성되는 것을 특징으로 하는 입자 분급장치.
  8. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 공기 공급부는, 상기 내부전극과 외부전극 사이의 이격공간 일측을 덮는 캡구조로 결합되되, 상기 공기 공급부의 측벽에 하나 이상의 공기 공급홀이 형성되며,
    상기 에어로졸 공급부는 상기 공기 공급부를 관통하도록 결합되고,
    상기 에어로졸 공급부의 에어로졸 출구측에는 에어로졸 공급방향을 따라 직경이 넓어지는 원추 형상의 에어로졸 분산블록이 추가로 구비되는 것을 특징으로 하는 입자 분급장치.
  9. 제8에 있어서,
    상기 공기 공급홀의 출구측 전체를 덮는 에어필터가 추가로 구비되는 것을 특징으로 하는 입자 분급장치.
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