KR101448529B1 - method of manufacturing PCB by semi-additive process with primer layer - Google Patents

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Abstract

Provided is a method of manufacturing a PCB according to a specific embodiment. In the method of manufacturing a PCB, prepared is a unit laminate formed by successively stacking a primer layer, a first copper layer, and a second copper layer. A prepreg layer is prepared. To make both surfaces of the prepreg layer face the primer layer, the unit laminate is bonded to the prepreg layer to form a lamination structure. The first copper layer and the second copper layer of the unit laminate are separated with each other from the lamination structure, thereby manufacturing a base substrate where the primer layer and the first copper layer are stacked on both surfaces of the prepreg layer.

Description

프라이머층을 이용하는 세미어디티브법을 적용하는 인쇄회로기판의 제조 방법{method of manufacturing PCB by semi-additive process with primer layer}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a method of manufacturing a printed circuit board using a semi-additive method using a primer layer,

본 발명은 인쇄회로기판(PCB)에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 프라이머층을 이용하는 세미어디티브법을 적용하는 인쇄회로기판의 제조 방법에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a printed circuit board (PCB), and more particularly, to a method of manufacturing a printed circuit board using a semi-

일반적으로, 인쇄회로기판은 코어 절연층의 양쪽 표면에 구리층을 적층한 동박적층판(copper clad laminate CCL)을 베이스 기판으로 삼아, 상기 베이스 기판 상에 구리 패턴층을 적층하여 형성한다. 이때, 인쇄회로기판은 코어 절연층의 두께로 말미암아, 약 200 내지 230 ㎛의 두께를 가지도록 제조된다. 도 1a는 종래의 동박적층판을 이용하여 제조된 인쇄회로기판을 개략적으로 나타내는 도면이다. 도 1a를 참조하면, 인쇄회로기판(100a)은 코어 절연층(101)의 양 쪽면으로부터 순차적으로 적층되는 제1 회로 패턴층(120a, 120b), 제2 회로 패턴층(130a, 130b), 제3 회로 패턴층(140a, 140b)을 포함한다. 또한, 인쇄회로기판(100a)은 코어 절연층 내부의 관통 비아층(110), 제1 비아층(112a, 112b) 및 제2 비아층(114a, 114b)를 포함한다. 제3 회로 패턴층(140a, 140b)의 일부는 범프(150a) 또는 솔더볼(150b)과 같은 외부 접속 구조물과 접속하는 패드층으로 기능할 수 있다. 또한, 인쇄회로기판(100a)은 복수의 회로 패턴층 및 비아층들 사이를 절연하기 위한 층간 절연층(160a, 160b)을 포함한다.Generally, a printed circuit board is formed by laminating a copper pattern layer on the base substrate using a copper clad laminate (CCL) in which copper layers are laminated on both surfaces of a core insulating layer as a base substrate. At this time, the printed circuit board is manufactured to have a thickness of about 200 to 230 탆 due to the thickness of the core insulating layer. 1A is a schematic view of a printed circuit board manufactured using a conventional copper-clad laminate. 1A, a printed circuit board 100a includes first circuit pattern layers 120a and 120b, second circuit pattern layers 130a and 130b, first and second circuit pattern layers 130a and 130b sequentially stacked from both sides of a core insulating layer 101, Three circuit pattern layers 140a and 140b. The printed circuit board 100a also includes a via via layer 110, first via layers 112a and 112b and second via layers 114a and 114b in the core insulating layer. A portion of the third circuit pattern layers 140a and 140b may function as a pad layer connecting with an external connection structure such as the bump 150a or the solder ball 150b. In addition, the printed circuit board 100a includes interlayer insulating layers 160a and 160b for insulating a plurality of circuit pattern layers and via layers.

최근에는, 패키지 제품의 경박단소화 경향에 따라, 인쇄회로기판의 두께를 감소시키고 인쇄회로 패턴도 미세화할 수 있는 공정 기술이 요구되고 있다. 이러한, 공정 기술 중 하나가 캐리어 기판을 이용하는 적층 방법에 관한 것이다. 구체적으로 설명하자면, 캐리어 기판을 제공하고 상기 캐리어 기판 상에 복수의 회로 패턴층 및 절연층을 형성하여 적층 구조물을 형성한다. 그리고, 상기 적층 구조물 상에 칩을 실장한 후에 캐리어 기판 만을 제거함으로써, 인쇄회로기판을 제조한다. 상기 캐리어 기판은 절연 코어층을 구비할 수 있는데, 상기 절연 코어층은 상기 캐리어 기판에 의해 인쇄회로기판을 제조하는 동안에만 존재하고 인쇄회로기판이 완성되면 캐리어 기판과 함께 제거된다. 이로서, 코어 절연층을 구비하지 않는 코어리스 인쇄회로기판을 제조할 수 있다. 이와 같이, 캐리어 기판을 이용하는 기술을 적용함으로써, 최종 인쇄회로기판을 100 ㎛ 이하의 얇은 두께로 형성시킬 수 있다. 도 1b는 종래의 캐리어 기판을 이용하여 제조된 코어리스 인쇄회로기판을 개략적으로 나타내는 도면이다. 도시되는 바와 같이, 인쇄회로기판(100b)은 도 1a의 인쇄회로기판(100a)과는 달리 코어 절연층 없이 적층된 복수의 회로 패턴층(122, 132, 142, 152, 162, 172) 및 복수의 비아층(124, 134, 144, 154, 164)를 구비한다. 또한, 인쇄회로기판(100b)은 복수의 회로 패턴층(122, 132, 142, 152, 162, 172) 및 복수의 비아층(124, 134, 144, 154, 164) 사이를 절연하기 위한 층간 절연층(180)을 포함할 수 있다. 코어리스 인쇄회로기판(100b)는 코어 절연층을 통과하는 관통홀을 생략할 수 있어서, 미세 패턴 및 미세 사이즈의 비아층을 구현할 수 있다. 이에 의해, 패턴 밀집도를 향상시킬 수 있다. 또한, 두께 감소 및 패턴 밀집도 증가에 따라 열전도도 및 전기전도도가 향상되어 우수한 성능을 구현할 수 있다.In recent years, there has been a demand for a process technology capable of reducing the thickness of a printed circuit board and making a printed circuit pattern finer in accordance with the tendency of lightness and shortening of packaged products. One such process technique relates to a lamination method using a carrier substrate. Specifically, a carrier substrate is provided, and a plurality of circuit pattern layers and an insulating layer are formed on the carrier substrate to form a laminated structure. Then, a chip is mounted on the stacked structure, and then only the carrier substrate is removed to manufacture a printed circuit board. The carrier substrate may include an insulating core layer, which is present only during manufacture of the printed circuit board by the carrier substrate and is removed with the carrier substrate when the printed circuit board is completed. Thus, a coreless printed circuit board without a core insulating layer can be manufactured. As described above, by applying the technique using the carrier substrate, the final printed circuit board can be formed with a thin thickness of 100 mu m or less. 1B is a view schematically showing a coreless printed circuit board manufactured using a conventional carrier substrate. As shown in the figure, the printed circuit board 100b has a plurality of circuit pattern layers 122, 132, 142, 152, 162, 172 and a plurality of 134, 144, 154, and 164, respectively. The printed circuit board 100b is provided with an interlayer insulating film for insulating between a plurality of circuit pattern layers 122, 132, 142, 152, 162, 172 and a plurality of via layers 124, 134, 144, 154, Layer 180, as shown in FIG. The coreless printed circuit board 100b can omit the through hole passing through the core insulating layer and can realize a fine pattern and a fine size via layer. Thereby, pattern density can be improved. In addition, thermal conductivity and electrical conductivity can be improved by decreasing the thickness and increasing the pattern density, thereby realizing excellent performance.

한편, 인쇄 회로 패턴을 미세화할 수 있는 기술로는, 종래의 텐팅법과는 차별되는 세미어디티브법(semi-additive process, 이하, SAP)이 도입되었다. 텐팅법은 기판 상에 도금층을 형성한 후에, 식각법에 의해 상기 도금층을 패터닝하여, 회로 패턴을 형성하는 방법이다. 이에 반해, 상기 SAP은 기판 상에 감광성 패턴층을 형성하고, 상기 감광성 패턴층 사이를 채우도록 도금층을 형성한다. 이어서, 상기 감광성 패턴층을 제거하여 상기 도금층으로부터 회로 패턴을 형성하는 방법이다. 상기 SAP는 도금층을 직접 식각하지 않음으로써, 텐팅법에 비해 보다 정밀하고 미세한 패턴을 형성할 수 있다.On the other hand, a semi-additive process (hereinafter referred to as SAP), which is different from the conventional tenting method, has been introduced as a technique for miniaturizing a printed circuit pattern. The tenting method is a method in which a plating layer is formed on a substrate and then the plating layer is patterned by an etching method to form a circuit pattern. On the other hand, the SAP forms a photosensitive pattern layer on the substrate and forms a plating layer so as to fill the space between the photosensitive pattern layers. Then, the photosensitive pattern layer is removed to form a circuit pattern from the plating layer. By not directly etching the plating layer, the SAP can form a more precise and finer pattern than the tenting method.

이와 같이, SAP를 이용하여 미세 회로 패턴을 제조함에 있어서, 종래에는, 상기 회로 패턴층 사이에 배치되는 절연층으로서, 상용의 ABF(Ajinomoto Build-up Film) 소재를 적용하였다. 상기 ABF 소재는 화학 식각을 통해 표면에 조도를 형성하기가 용이하여, SAP를 진행할 때 상기 ABF 소재 상에 형성되는 화학도금층과의 접합력이 우수하다. 다만, ABF 소재는 강성(stiffness)가 낮고, 휨(warpage)에 취약한 단점이 있다. 종래의 인쇄회로기판의 경우에는, 상술한 강성 및 휨과 관련된 단점을 보완할 수 있을 정도로 충분이 두꺼운 두께를 가지는 ABF를 절연층으로서 채용하고 있으나, 최근에, 인쇄회로기판의 두께가 감소되는 추세에 따라 절연층의 두께도 감소하고 있어서, ABF를 절연층으로 적용할 때 인쇄회로기판의 강성의 저하 및 휨 현상이 발생할 가능성이 있다.As described above, conventionally, a commercial ABF (Ajinomoto Build-up Film) material is applied as an insulating layer disposed between the circuit pattern layers in manufacturing a microcircuit pattern using SAP. The ABF material is easy to form roughness on the surface through chemical etching, and is excellent in bonding strength with the chemical plating layer formed on the ABF material when the SAP is advanced. However, the ABF material has a low stiffness and is vulnerable to warpage. In the case of a conventional printed circuit board, ABF having a thick enough thickness to sufficiently compensate for the above-mentioned disadvantages related to stiffness and warping is employed as the insulating layer. In recent years, however, The thickness of the insulating layer is also reduced. Therefore, when the ABF is used as an insulating layer, the rigidity of the printed circuit board may be lowered and the bending phenomenon may occur.

본 발명의 실시예들은 SAP를 적용하는 인쇄회로기판의 제조 방법에 있어서, 인쇄회로기판의 강성 저하 및 휨 발생을 방지할 수 있는 인쇄회로기판의 제조 방법을 제공한다.Embodiments of the present invention provide a method of manufacturing a printed circuit board using SAP, which can prevent the rigidity of a printed circuit board and the occurrence of warpage.

일 측면에 따르는 인쇄회로기판의 제조 방법이 제공된다. 상기 인쇄회로기판의 제조 방법에 있어서, 프라이머층, 제1 구리층 및 제2 구리층이 순차적으로 적층된 단위 적층체를 준비한다. 프리프레그층을 준비한다. 상기 프리프레그층의 양쪽 표면과 상기 프라이머층이 서로 대면하도록, 상기 단위 적층체를 상기 프리프레그층에 접합하여 적층 구조물을 형성한다. 상기 적층 구조물로부터 상기 단위 적층체의 상기 제1 구리층과 상기 제2 구리층을 서로 분리함으로써, 상기 프리프레그층의 양쪽 표면에 상기 프라이머층 및 상기 제1 구리층이 적층되는 베이스 기판을 제조한다.A method of manufacturing a printed circuit board according to one aspect is provided. In the method for manufacturing a printed circuit board, a unit laminate in which a primer layer, a first copper layer and a second copper layer are sequentially laminated is prepared. Prepare a prepreg layer. The laminate structure is formed by bonding the unit laminate to the prepreg layer such that both surfaces of the prepreg layer and the primer layer face each other. The base substrate on which the primer layer and the first copper layer are laminated on both surfaces of the prepreg layer is manufactured by separating the first copper layer and the second copper layer of the unit laminate from the laminated structure .

다른 측면에 따르는 인쇄회로기판의 제조 방법이 제공된다. 상기 인쇄회로기판의 제조 방법에 있어서, 하부로부터 제1 단위 적층체, 제1 프리프레그층, 제2 단위적층체, 제2 프리프레그층, 제3 단위적층체, 제3 프리프레그층, 및 제4 단위 적층체가 적층되는 제1 적층 구조물을 제공하되, 상기 제1 단위 적층체 내지 상기 제4 단위 적층체는 순차적으로 적층되는 프라이머층, 제1 구리층 및 제2 구리층을 각각 포함하도록 한다. 상기 제1 적층 구조물로부터 상기 제1 단위 적층체의 상기 제1 구리층 및 상기 제2 구리층, 상기 제4 단위 적층체의 상기 제1 구리층 및 상기 제2 구리층을 제거하여, 상기 제1 단위 적층체의 상기 프라이머층 및 상기 제4 단위 적층체의 상기 프라이머층을 노출시킨다. 상기 제1 단위 적층체 및 상기 제4 단위 적층체의 상기 프라이머층 상에 제1 회로 패턴층을 형성한다. 상기 제1 회로 패턴층이 형성된 상기 제1 적층 구조물의 양쪽 표면에 제4 및 제5 프리프레그층, 제5 및 제6 단위 적층체를 적층하여 제2 적층 구조물을 형성하되, 상기 제5 단위 적층체 및 상기 제6 단위 적층체는 순차적으로 적층되는 프라이머층, 제1 구리층 및 제2 구리층을 각각 포함하도록 한다. 상기 제2 적층 구조물을 분리하여, 상기 제1 회로 패턴층을 포함하는 제1 및 제2 회로기판 및 양쪽 표면에 상기 제2 구리층을 구비하는 베이스 기판을 제조한다.A method of manufacturing a printed circuit board according to another aspect is provided. The method of manufacturing a printed circuit board according to claim 1, wherein the first unit laminate, the first prepreg layer, the second unit laminate, the second prepreg layer, the third unit laminate, the third prepreg layer, The first unit laminate to the fourth unit laminate include a primer layer, a first copper layer and a second copper layer, which are sequentially laminated, respectively. Removing the first copper layer and the second copper layer of the first unit laminate, the first copper layer and the second copper layer of the fourth unit laminate from the first laminated structure, The primer layer of the unit laminate and the primer layer of the fourth unit laminate are exposed. A first circuit pattern layer is formed on the primer layer of the first unit laminate and the fourth unit laminate. The fourth and fifth prepreg layers, the fifth and the sixth unit laminate are laminated on both surfaces of the first laminate structure on which the first circuit pattern layer is formed to form a second laminate structure, And the sixth unit laminate comprise a primer layer, a first copper layer and a second copper layer, which are sequentially stacked. The second laminated structure is separated to produce first and second circuit substrates including the first circuit pattern layer and a base substrate having the second copper layer on both surfaces thereof.

또다른 측면에 따르는 인쇄회로기판의 제조 방법이 제공된다. 먼저, 하부로부터 제1 단위 적층체, 제1 프리프레그층, 제2 단위적층체, 제2 프리프레그층, 제3 단위적층체, 제3 프리프레그층, 및 제4 단위 적층체가 적층되는 제1 적층 구조물을 제공하되, 상기 제1 단위 적층체 내지 상기 제4 단위 적층체는 순차적으로 적층되는 프라이머층, 제1 구리층 및 제2 구리층을 각각 포함하도록 한다. 상기 제1 적층 구조물로부터 상기 제1 단위 적층체의 상기 제1 구리층 및 상기 제2 구리층, 상기 제4 단위 적층체의 상기 제1 구리층 및 상기 제2 구리층을 제거하여, 상기 제1 단위 적층체의 상기 프라이머층 및 상기 제4 단위 적층체의 상기 프라이머층을 노출시킨다. 상기 제1 단위 적층체 및 상기 제4 단위 적층체의 상기 프라이머층 상에 제1 회로 패턴층을 형성한다. 상기 제1 회로 패턴층이 형성된 상기 제1 적층 구조물의 양쪽 표면에 제4 및 제5 프리프레그층, 제5 및 제6 단위 적층체를 적층하여 제2 적층 구조물을 형성하되, 상기 제5 단위 적층체 및 상기 제6 단위 적층체는 순차적으로 적층되는 프라이머층, 제1 구리층 및 제2 구리층을 각각 포함하도록 한다. 상기 제2 구리층이 제거된 상기 제2 적층 구조물을 가공하여, 상기 제1 회로 패턴층을 노출시키는 비아홀을 형성한다. 상기 비아홀을 채우는 비아층 및 상기 제5 단위 적층체 및 상기 제6 단위 적층체의 상기 프라이머층 상에 배치되는 제2 회로 패턴층을 형성한다. 상기 제2 회로 패턴층이 형성된 상기 제2 적층 구조물의 양쪽 표면에 제6 및 제7 프리프레그층, 제7 및 제8 단위 적층체를 적층하여 제3 적층 구조물을 형성하되, 상기 제7 단위 적층체 및 상기 제8 단위 적층체는 순차적으로 적층되는 프라이머층, 제1 구리층 및 제2 구리층을 각각 포함하도록 한다. 상기 제3 적층 구조물을 분리하여, 상기 제1 회로 패턴층 및 상기 제2 회로 패턴층을 포함하는 제1 및 제2 회로기판 및 양쪽 표면에 상기 제2 구리층을 구비하는 베이스 기판을 형성한다.A method of manufacturing a printed circuit board according to another aspect is provided. First, a first unit laminate, a first prepreg layer, a second unit laminate, a second prepreg layer, a third unit laminate, a third prepreg layer, and a fourth unit laminate are stacked from the bottom And the first unit laminate to the fourth unit laminate include a primer layer, a first copper layer and a second copper layer, which are sequentially laminated. Removing the first copper layer and the second copper layer of the first unit laminate, the first copper layer and the second copper layer of the fourth unit laminate from the first laminated structure, The primer layer of the unit laminate and the primer layer of the fourth unit laminate are exposed. A first circuit pattern layer is formed on the primer layer of the first unit laminate and the fourth unit laminate. The fourth and fifth prepreg layers, the fifth and the sixth unit laminate are laminated on both surfaces of the first laminate structure on which the first circuit pattern layer is formed to form a second laminate structure, And the sixth unit laminate comprise a primer layer, a first copper layer and a second copper layer, which are sequentially stacked. The second laminated structure from which the second copper layer is removed is processed to form a via hole exposing the first circuit pattern layer. A via layer filling the via hole and a second circuit pattern layer disposed on the primer layer of the fifth unit laminate and the sixth unit laminate are formed. Forming a third laminated structure by laminating sixth and seventh prepreg layers, seventh and eighth unit laminated bodies on both surfaces of the second laminated structure in which the second circuit pattern layer is formed, And the eighth unit laminate include a primer layer, a first copper layer and a second copper layer, which are sequentially stacked. The third laminated structure is separated to form first and second circuit substrates including the first circuit pattern layer and the second circuit pattern layer and a base substrate having the second copper layer on both surfaces thereof.

일 실시 예에 따르면, SAP 공정을 통해 구리 패턴층을 절연층 상에 신뢰성 있게 형성할 수 있다. 구체적으로, 프라이머층을 프리프레그층과 화학도금층 사이에 개재시켜 프리프레그층과 화학도금층 사이에 결합력을 향상시킴으로써, 휨에 대한 저항 특성이 우수한 프리프레그를 인쇄회로기판의 절연층으로 용이하게 채용할 수 있다.According to one embodiment, the copper pattern layer can be reliably formed on the insulating layer through the SAP process. Specifically, a prepreg having excellent resistance to bending is easily adopted as an insulating layer of a printed circuit board by interposing a primer layer between the prepreg layer and the chemical plating layer to improve the bonding force between the prepreg layer and the chemical plating layer .

일 실시 예에 따르면, 프라이머층 및 구리층을 포함하는 복수의 단위 적층체와 복수의 프리프레그층을 접합하고, 상기 구리층을 제거 또는 분리시킴으로써, 상기 프리프레그층 상에 상기 프라이머층이 적층된 베이스 기판 및 회로 기판을 동시에 제조할 수 있다.According to one embodiment, a plurality of unit stacks including a primer layer and a copper layer are bonded to a plurality of prepreg layers, and the copper layer is removed or separated, thereby forming the primer layer on the prepreg layer The base substrate and the circuit board can be manufactured at the same time.

이와 같이, 본 발명의 실시 예에 따르면, 절연층의 두께 감소 및 회로 패턴의 미세화를 구현할 수 있어서, 미세 패턴을 구비하고 박형인 인쇄회로기판을 제조할 수 있게 된다.As described above, according to the embodiment of the present invention, it is possible to reduce the thickness of the insulating layer and to miniaturize the circuit pattern, thereby making it possible to manufacture a thin printed circuit board having a fine pattern.

도 1a 및 도 1b는 종래의 인쇄회로기판을 개략적으로 도시하는 단면도이다.
도 2a 내지 2c는 본 발명의 일 실시 예에 따르는 인쇄회로기판의 베이스 기판을 제조하는 방법을 개략적으로 나타내는 단면도이다.
도 3a 내지 도 3d는 본 발명의 일 실시 예에 따르는 베이스 기판을 이용하는 인쇄회로기판의 제조 방법을 개략적으로 나타내는 단면도이다.
도 4a 내지 도 4d는 본 발명의 다른 실시 예에 따른 베이스 기판을 이용하는 인쇄회로기판의 제조 방법을 개략적으로 나타내는 단면도이다.
도 5a 내지 도 5e는 본 발명의 다른 실시 예에 따르는 인쇄회로기판의 회로 기판 또는 베이스 기판을 제조 방법을 개략적으로 나타내는 단면도이다.
도 6a 내지 도 6d는 본 발명의 다른 실시 예에 따르는 회로기판을 이용하는 인쇄회로기판의 제조 방법을 개략적으로 나타내는 단면도이다.
도 7a 내지 도 7e는 본 발명의 또다른 실시 예에 따르는 인쇄기판 또는 베이스 기판의 제조 방법을 개략적으로 나타내는 도면이다.
1A and 1B are sectional views schematically showing a conventional printed circuit board.
2A to 2C are cross-sectional views schematically showing a method of manufacturing a base substrate of a printed circuit board according to an embodiment of the present invention.
3A to 3D are cross-sectional views schematically showing a method of manufacturing a printed circuit board using a base substrate according to an embodiment of the present invention.
4A to 4D are sectional views schematically showing a method of manufacturing a printed circuit board using a base substrate according to another embodiment of the present invention.
5A to 5E are sectional views schematically showing a method of manufacturing a circuit board or a base board of a printed circuit board according to another embodiment of the present invention.
6A to 6D are cross-sectional views schematically showing a method of manufacturing a printed circuit board using a circuit board according to another embodiment of the present invention.
7A to 7E are views schematically showing a method of manufacturing a printed substrate or a base substrate according to still another embodiment of the present invention.

이하, 첨부한 도면들을 참조하여, 본 개시의 실시 예들을 보다 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 본 개시에 개시된 기술은 여기서 설명되는 실시 예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 단지, 여기서 소개되는 실시 예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 개시의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다. 도면에서 각 장치의 구성요소를 명확하게 표현하기 위하여 상기 구성요소의 폭이나 두께 등의 크기를 다소 확대하여 나타내었다. 전체적으로 도면 설명시 관찰자 시점에서 설명하였고, 일 요소가 다른 요소 위에 위치하는 것으로 언급되는 경우, 이는 상기 일 요소가 다른 요소 위에 바로 위치하거나 또는 그들 요소들 사이에 추가적인 요소가 개재될 수 있다는 의미를 모두 포함한다. Embodiments of the present disclosure will now be described in more detail with reference to the accompanying drawings. However, the techniques disclosed in this disclosure are not limited to the embodiments described herein but may be embodied in other forms. It should be understood, however, that the embodiments disclosed herein are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the concept of this disclosure to those skilled in the art. In the drawings, the width, thickness, and the like of the components are enlarged in order to clearly illustrate the components of each device. It is to be understood that when an element is described as being located on another element, it is meant that the element is directly on top of the other element or that additional elements can be interposed between the elements .

복수의 도면들 상에서 동일 부호는 실질적으로 서로 동일한 요소를 지칭한다. 또, 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한 복수의 표현을 포함하는 것으로 이해되어야 하고, '포함하다' 또는 '가지다' 등의 용어는 기술되는 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다. Like numbers refer to like elements throughout the several views. It is to be understood that the singular forms "a", "an", and "the" include plural referents unless the context clearly dictates otherwise, and the terms "comprise" Or combinations thereof, and does not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, elements, components, or combinations thereof.

또한, 방법 또는 제조 방법을 수행함에 있어서, 상기 방법을 이루는 각 과정들은 문맥상 명백하게 특정 순서를 기재하지 않은 이상 명기된 순서와 다르게 일어날 수 있다. 즉, 각 과정들은 명기된 순서와 동일하게 일어날 수도 있고 실질적으로 동시에 수행될 수도 있으며 경우에 따라 반대의 순서대로 수행되는 경우를 배제하지 않는다.Further, in carrying out the method or the manufacturing method, the respective steps of the method may take place differently from the stated order unless clearly specified in the context. That is, each process may occur in the same order as described, may be performed substantially concurrently, and may not be excluded in some cases in the reverse order.

상술한 바와 같이, ABF를 절연층으로 적용하게 되면, ABF의 두께가 감소될 때, 휨 현상이 발생할 가능성이 있다. 이런 어려움을 극복하기 위해, 내부에 유리 섬유를 구비하여 ABF보다 강성이 큰 프리프레그(prepreg) 소재를 절연층으로 적용하려는 시도가 있다. 하지만, 이러한, 프리프레그층은 표면에 조도 형성이 힘들어서 SAP 공정시 화학도금층과의 접착력이 양호하지 않을 수 있다. 따라서, 프리프레그층 상에서는 SAP 공정에 의한 구리 패턴층 형성을 신뢰성 있게 수행할 수 없는 어려점이 있다. 이에, 발명자는 프리프레그층 상에서 진행하는 SAP 공정의 신뢰성 확보를 위해 상기 프리프레그층 상에 프라이머층을 배치시키는 방법을 다음과 같이 제안한다.As described above, when ABF is used as an insulating layer, there is a possibility that a bending phenomenon occurs when the thickness of ABF is reduced. In order to overcome this difficulty, attempts have been made to apply a prepreg material having a stiffness higher than that of ABF as an insulating layer by providing glass fibers therein. However, since such a prepreg layer is difficult to form roughness on the surface, the adhesion to the chemical plating layer may not be good during the SAP process. Therefore, there is a difficulty in forming the copper pattern layer by the SAP process reliably on the prepreg layer. Accordingly, the inventors propose a method of arranging a primer layer on the prepreg layer in order to ensure the reliability of the SAP process proceeding on the prepreg layer as follows.

도 2a 내지 2c는 본 발명의 일 실시 예에 따르는 인쇄회로기판의 베이스 기판을 제조하는 방법을 개략적으로 나타내는 단면도이다. 도 2a를 참조하면, 프라이머층(222a, 222b, 222c, 222d), 제1 구리층(224a, 224b, 224c, 224d) 및 제2 구리층(226a, 226b, 226c, 226d)가 순차적으로 적층된 단위 적층체(220a, 220b, 220c, 220d)를 준비한다. 2A to 2C are cross-sectional views schematically showing a method of manufacturing a base substrate of a printed circuit board according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 2A, the primer layers 222a, 222b, 222c and 222d, the first copper layers 224a, 224b, 224c and 224d and the second copper layers 226a, 226b, 226c and 226d are sequentially stacked Unit stacks 220a, 220b, 220c and 220d are prepared.

프라이머층(222a, 222b, 222c, 222d)은 후술하는 프리프레그층(210a, 210b, 210c, 210d) 상에서, SAP 공정에 의해 구리 도금층을 형성할 때, 프리프레그층(210a, 210b, 210c, 210d)과 상기 구리도금층 사이의 접합력을 강화시키는 역할을 수행한다. 프라이머층(222a, 222b, 222c, 222d)은 일 예로서, 폴리우레탄계 수지, 아크릴계 수지, 실리콘계 수지 등을 포함할 수 있다. 프라이머층(222a, 222b, 222c, 222d)은 일 예로서, 증착법, 코팅법 또는 인쇄법에 의해 형성될 수 있다. The primer layers 222a, 222b, 222c and 222d are formed on the prepreg layers 210a, 210b, 210c and 210d to be described later by the prepreg layers 210a, 210b, 210c and 210d ) And the copper plating layer. The primer layers 222a, 222b, 222c, and 222d may include, for example, a polyurethane resin, an acrylic resin, a silicone resin, or the like. The primer layers 222a, 222b, 222c, and 222d may be formed by, for example, a vapor deposition method, a coating method, or a printing method.

제1 구리층(224a, 224b, 224c, 224d) 및 제2 구리층(226a, 226b, 226c, 226d)은 서로 다른 두께를 가질 수 있다. 일 실시 예로서, 제1 구리층(224a, 224b, 224c, 224d)이 제2 구리층(226a, 226b, 226c, 226d)보다 얇은 두께를 가질 수 있다. 일 예로서, 제1 구리층(224a, 224b, 224c, 224d)이 약 1 내지 5 um의 두께를 가질 수 있고, 제2 구리층(226a, 226b, 226c, 226d)이 약 10 내지 25 um의 두계를 가질 수 있다. 하지만, 반드시 이에 한정되는 것은 아니고, 제1 구리층(224a, 224b, 224c, 224d) 및 제2 구리층(226a, 226b, 226c, 226d)의 두께는 다양하게 선택될 수 있다. 도시되지는 않았지만, 제1 구리층(224a, 224b, 224c, 224d) 및 제2 구리층(226a, 226b, 226c, 226d) 사이에는 이형층이 배치될 수 있다. 이형층은 후속공정에서 제1 구리층(224a, 224b, 224c, 224d) 및 제2 구리층(226a, 226b, 226c, 226d)을 서로 분리시키는 기능을 수행할 수 있다.The first copper layers 224a, 224b, 224c, 224d and the second copper layers 226a, 226b, 226c, 226d may have different thicknesses. In one embodiment, the first copper layers 224a, 224b, 224c, and 224d may have a thickness that is thinner than the second copper layers 226a, 226b, 226c, and 226d. In one example, the first copper layers 224a, 224b, 224c, 224d may have a thickness of about 1 to 5 um and the second copper layers 226a, 226b, 226c, 226d may have a thickness of about 10 to 25 um You can have two systems. However, the thicknesses of the first copper layers 224a, 224b, 224c, and 224d and the second copper layers 226a, 226b, 226c, and 226d may be variously selected. Although not shown, a release layer may be disposed between the first copper layers 224a, 224b, 224c, 224d and the second copper layers 226a, 226b, 226c, 226d. The release layer may function to separate the first copper layers 224a, 224b, 224c, and 224d and the second copper layers 226a, 226b, 226c, and 226d from each other in a subsequent process.

도면을 참조하면, 프리프레그층(210a, 210b, 210c)를 준비한다. 프리프레그층(210a, 210b, 210c)은 에폭시 수지 및 유리 섬유를 포함할 수 있다. 상기 유리 섬유로 인하여, 프리프레그층(210a, 210b, 210c)은 상기 ABF 소재의 절연층보다 강성 및 휨저항 특성이 우수할 수 있다.Referring to the drawing, prepreg layers 210a, 210b, and 210c are prepared. The prepreg layers 210a, 210b, and 210c may include epoxy resin and glass fiber. Due to the glass fiber, the prepreg layers 210a, 210b, and 210c may have greater rigidity and flexural resistance than the insulating layer of the ABF material.

도면을 다시 참조하면, 프리프레그층(210a, 210b, 210c)이 단위 적층체(220a, 220b, 220c, 220d) 사이에 위치하도록 프리프레그층(210a, 210b, 210c)과 단위 적층체(220a, 220b, 220c, 220d)를 배치한다. 도시된 바와 같이, 상기 배치는 하부로부터 제1 단위 적층체(220a), 제1 프리프레그층(210a), 제2 단위적층체(220b), 제2 프리프레그층(210b), 제3 단위적층체(220c), 제3 프리프레그층(210c), 및 제4 단위 적층체(220d) 순으로 이루어질 수 있다. 도면에서는 3개의 프리프레그층과 4개의 단위 적층체를 도시하고 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 다른 예로서, 1개의 프리프레그층과 2개의 단위 적층체 사이에 위치하도록 배치될 수도 있다.Referring again to the drawings, the prepreg layers 210a, 210b and 210c and the unit stacks 220a, 220b and 220c are stacked so that the prepreg layers 210a, 210b and 210c are positioned between the unit stacks 220a, 220b, 220c and 220d. 220b, 220c, and 220d. As shown in the figure, the arrangement includes a first unit laminate 220a, a first prepreg layer 210a, a second unit laminate body 220b, a second prepreg layer 210b, The second prepreg layer 220c, the third prepreg layer 210c, and the fourth unit laminate 220d. Although three prepreg layers and four unit laminated bodies are shown in the drawing, the present invention is not limited thereto. As another example, it may be arranged so as to be located between one prepreg layer and two unit laminate bodies.

도 2b를 참조하면, 프리프레그층(210a, 210b, 210c)의 양쪽 표면과 프라이머층(222a, 222b, 222c, 222d)이 서로 대면하도록, 단위 적층체(220a, 220b, 220c, 220d)를 프리프레그층(210a, 210b, 210c)에 접합하여 적층 구조물(200)을 형성한다. 구체적인 실시 예에 있어서, 하부로부터 제1 단위 적층체(220a), 제1 프리프레그층(210a), 제2 단위적층체(220b), 제2 프리프레그층(210b), 제3 단위적층체(220c), 제3 프리프레그층(210c), 및 제4 단위 적층체(220d)가 적층됨으로써, 3개의 프리프레그층을 구비하는 적층 구조물(200)을 형성할 수 있다. Referring to FIG. 2B, the unit stacks 220a, 220b, 220c, and 220d are connected to prepregs 220a, 220b, 220c, and 220d so that both surfaces of the prepreg layers 210a, 210b, and 210c and the primer layers 222a, The laminated structure 200 is formed by bonding to the leg layers 210a, 210b, and 210c. In a specific embodiment, the first unit laminate 220a, the first prepreg layer 210a, the second unit laminate body 220b, the second prepreg layer 210b, the third unit laminate body 220b The second prepreg layer 220c, the third prepreg layer 210c, and the fourth unit laminate 220d are stacked to form a laminated structure 200 having three prepreg layers.

도시되지는 않았지만, 다른 실시 예로서, 하나의 프리프레그층의 양쪽 표면에 한쌍의 단위 적층체를 각각 접합함으로써, 하나의 프리프레그층을 구비하는 적층 구조물을 형성할 수도 있다. 이와 같이, 적층 구조물(200)이 구비하는 프리프레그층의 개수는 한정되지 않고 다양한 개수로 구성될 수 있다.Although not shown, as another embodiment, a laminated structure having one prepreg layer may be formed by joining a pair of unit laminate bodies to both surfaces of one prepreg layer. As such, the number of the prepreg layers included in the laminated structure 200 is not limited and may be composed of various numbers.

도 2c를 참조하면, 적층 구조물(200)로부터 각 단위 적층체(220a, 220b, 220c, 220d)의 제1 구리층(224a, 224b, 224c, 224d)과 제2 구리층(226a, 226b, 226c, 226d)을 서로 분리함으로써, 프리프레그층(210a, 210c)의 양쪽 표면에 프라이머층(222a, 222b, 222c, 222d) 및 제1 구리층(224a, 224b, 224c, 224d)이 적층되는 제1 베이스 기판(20, 22)을 제조할 수 있다. 또한, 프리프레그층(210b)의 양쪽 표면에 제2 구리층(226b, 226c)이 적층되는 제2 베이스 기판(24)를 제조할 수 있다.Referring to FIG. 2C, the first copper layers 224a, 224b, 224c and 224d of the unit stacks 220a, 220b, 220c and 220d and the second copper layers 226a, 226b and 226c 222b, 222c, and 222d and the first copper layers 224a, 224b, 224c, and 224d are stacked on both surfaces of the prepreg layers 210a and 210c by separating the first copper layers 222a, 222b, 222c, The base substrates 20 and 22 can be manufactured. In addition, the second base substrate 24 in which the second copper layers 226b and 226c are laminated on both surfaces of the prepreg layer 210b can be manufactured.

구체적으로, 제1 베이스 기판(20, 22) 및 제2 베이스 기판(24)을 제조하는 방법에 있어서, 제1 단위 적층체(220a)에서 외부로 노출되는 제2 구리층(226a)을 제거하고, 제4 단위 적층체(220d)에서 외부로 노출된 제2 구리층(226d)를 제거한다. 동시에, 제2 단위 적층체(220b)의 제1 구리층(224b) 및 제2 구리층(226b)를 서로 분리시키고, 제3 단위 적층체(220c)의 제1 구리층(224c) 및 제2 구리층(226c)을 서로 분리시킨다.Specifically, in the method of manufacturing the first base substrate 20, 22 and the second base substrate 24, the second copper layer 226a exposed to the outside from the first unit laminate body 220a is removed , And the second copper layer 226d exposed to the outside from the fourth unit laminate 220d is removed. At the same time, the first copper layer 224b and the second copper layer 226b of the second unit laminate body 220b are separated from each other, and the first copper layer 224c and the second copper layer 224b of the third unit laminate body 220c Copper layer 226c are separated from each other.

상술한 공정을 통해, 인쇄회로기판을 제조하기 위한 제1 베이스 기판(20, 22) 및 제2 베이스 기판(24)를 제조할 수 있다.Through the above-described processes, the first base substrate 20, 22 and the second base substrate 24 for manufacturing a printed circuit board can be manufactured.

몇몇 다른 실시 예에 있어서는, 제1 베이스 기판(20, 22)으로부터 제1 구리층(224a, 224b, 224c, 224d)를 추가로 제거할 수 있다. 이에 따르면, 제1 베이스 기판(20, 22)의 표면에 프라이머층(222a, 222b, 222c, 222d)이 노출될 수 있다.In some other embodiments, the first copper layers 224a, 224b, 224c, 224d may be further removed from the first base substrate 20, 22. According to this, the primer layers 222a, 222b, 222c, 222d can be exposed on the surfaces of the first base substrates 20, 22.

도 3a 내지 도 3d는 본 발명의 일 실시 예에 따르는 베이스 기판을 이용하는 인쇄회로기판의 제조 방법을 개략적으로 나타내는 단면도이다. 도 3a를 참조하면, 도 2a 내지 도 2c의 공정을 통해 제조한 제1 베이스 기판(20, 22)을 준비한다. 도면에서는 설명의 편의상 한 쌍의 제1 베이스 기판(20, 24) 중 어느 하나를 예시하고 있으나, 다른 하나에 대해서도 동일한 공정이 진행될 수 있음은 자명하다.3A to 3D are cross-sectional views schematically showing a method of manufacturing a printed circuit board using a base substrate according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 3A, first base substrates 20 and 22 manufactured through the processes of FIGS. 2A to 2C are prepared. In the drawings, any one of the pair of first base substrates 20 and 24 is illustrated for convenience of explanation, but it is obvious that the same process can be performed for the other base substrates 20 and 24 as well.

도 3b를 참조하면, 제1 베이스 기판(20)의 양쪽 표면을 관통하는 홀(310)을 형성한다. 홀(310)을 형성하는 방법은 일 예로서, 기계적 드릴링법 또는 레이저 드릴링법을 적용할 수 있다. 상기 레이저 드릴링법은 일 예로서, 이산화탄소(CO2) 레이저, 자외선(UV) 레이저, 엑시머 레이저 등을 이용하여 진행할 수 있다. 이어서, 제1 구리층(224c, 224d)를 제1 베이스 기판(20)으로부터 제거하여, 프라이머층(222c, 222d)을 노출시킬 수 있다.Referring to FIG. 3B, holes 310 are formed through both surfaces of the first base substrate 20. As a method of forming the hole 310, a mechanical drilling method or a laser drilling method can be applied. The laser drilling may be performed using a carbon dioxide (CO2) laser, an ultraviolet (UV) laser, an excimer laser, or the like. The first copper layers 224c and 224d may then be removed from the first base substrate 20 to expose the primer layers 222c and 222d.

다르게는, 제1 구리층(224c, 224d)를 제1 베이스 기판(20)으로부터 제거한 후에, 제1 베이스 기판(20)을 관통하는 홀(310)을 형성할 수도 있다.Alternatively, after removing the first copper layers 224c and 224d from the first base substrate 20, holes 310 may be formed through the first base substrate 20. [

도 3c를 참조하면, 상기 홀의 내부 및 프라이머층(222c, 222d) 상에 세미디티브법을 수행하여 구리 패턴층(320a, 320b, 320c)을 형성한다. 구체적인 공정에 있어서, 먼저, 도금 시드층으로서 화학도금층을 상기 홀의 내부 및 프라이머층(222c, 222d) 상에 형성한다. 이어서, 프라이머층(222c, 222d) 상에 감광성 패턴층(미도시)을 형성한다. 그리고, 상기 감광성 패턴층을 이용하는 전해도금법을 수행하여 상기 화학도금층 상에 구리 도금층을 형성한다. 이어서, 상기 감광성 패턴층을 제거함으로써, 상기 구리 도금층으로부터 구리 패턴층(320a, 320b, 320c)을 형성할 수 있다. 구리 패턴층(320a, 320b, 320c)은 회로패턴층(320a, 320b) 및 비아층(320c)을 구성할 수 있다. 프라이머층(222c, 222d)은 프리프레그층(210c)과 상기 화학도금층 사이의 결합력을 향상시킴으로써, 회로 패턴층(320a, 320b)이 프레프레그층(210c)의 상부 또는 하부에서 안정적으로 형성되도록 할 수 있다.Referring to FIG. 3C, a semimetric process is performed on the inside of the hole and the primer layers 222c and 222d to form copper pattern layers 320a, 320b and 320c. In the concrete process, first, a chemical plating layer is formed as a plating seed layer on the inside of the hole and on the primer layers 222c and 222d. Next, a photosensitive pattern layer (not shown) is formed on the primer layers 222c and 222d. Then, an electroplating method using the photosensitive pattern layer is performed to form a copper plating layer on the chemical plating layer. Subsequently, the copper pattern layers 320a, 320b and 320c may be formed from the copper plating layer by removing the photosensitive pattern layer. The copper pattern layers 320a, 320b, and 320c may form the circuit pattern layers 320a and 320b and the via layer 320c. The primer layers 222c and 222d improve the bonding force between the prepreg layer 210c and the chemical plating layer so that the circuit pattern layers 320a and 320b are stably formed in the upper portion or the lower portion of the prepreg layer 210c .

도 3d를 참조하면, 회로 패턴층(320a, 320b)가 형성된 베이스 기판(20) 상에 솔더마스크패턴(330a, 330b)을 형성한다. 솔더마스크패턴(330a, 330b)은 회로 패턴층(320a, 320b)의 일부를 노출시킬 수 있다. 노출된 회로 패턴층(320a, 320b) 상에 표면처리층(340a, 340b)을 형성한다. 표면처리층(340a, 340b)는 노출된 회로패턴층(320a, 320b)을 산화분위기의 외부환경으로부터 보호하는 기능을 수행할 수 있다. 표면처리층(340a, 340b)이 형성된 회로 패턴층(320a, 320b)은 솔더볼 또는 범프와 같은 접속구조물과 연결되는 접속 패드로서 기능할 수 있다. 표면처리층(340a, 340b)은 일 예로서, NiAu, NiPdAu, Au, Ag, Sn, OSP(Organic Solderability Preservative), ENEPIG(Electroless Nickel Electroless Palladium Immersion Gold), ENEP(Electroless Nickel Electroless Palladium) 등을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 3D, solder mask patterns 330a and 330b are formed on a base substrate 20 on which circuit pattern layers 320a and 320b are formed. The solder mask patterns 330a and 330b may expose portions of the circuit pattern layers 320a and 320b. The surface treatment layers 340a and 340b are formed on the exposed circuit pattern layers 320a and 320b. The surface treatment layers 340a and 340b can function to protect the exposed circuit pattern layers 320a and 320b from the external environment of the oxidizing atmosphere. The circuit pattern layers 320a and 320b on which the surface treatment layers 340a and 340b are formed can function as connection pads connected to connection structures such as solder balls or bumps. Examples of the surface treatment layers 340a and 340b include NiAu, NiPdAu, Au, Ag, Sn, Organic Solderability Preservative (OSP), Electrolytic Nickel Electroless Palladium Immersion Gold (ENEPIG), and Electroless Nickel Electroless Palladium can do.

상술한 바와 같이, 프라이머층이 프리프레그층 상에 배치되는 베이스 기판을 적용함으로써, 구리 도금층을 프리프레그층의 상부 또는 하부에 안정적으로 형성할 수 있다. 이와 같이, 도 2a 내지 도 2c의 공정을 통해 제조되는 제1 베이스 기판(20, 22)을 SAP를 적용하는 인쇄회로기판의 제조에 적용할 수 있다.As described above, by applying the base substrate on which the primer layer is disposed on the prepreg layer, the copper plating layer can be stably formed on the upper or lower portion of the prepreg layer. Thus, the first base substrates 20 and 22 manufactured through the processes of FIGS. 2A to 2C can be applied to the manufacture of printed circuit boards to which SAP is applied.

도 4a 내지 도 4d는 본 발명의 다른 실시 예에 따른 베이스 기판을 이용하는 인쇄회로기판의 제조 방법을 개략적으로 나타내는 단면도이다. 도 4a를 참조하면, 도 2a 내지 도 2c의 공정을 통해 제조한 제2 베이스 기판(24)을 준비한다. 제2 베이스 기판(24)은 프리프레그층(210b)의 양쪽 표면에 제2 구리층(226b, 226c)이 적층된 구조를 가진다.4A to 4D are sectional views schematically showing a method of manufacturing a printed circuit board using a base substrate according to another embodiment of the present invention. Referring to FIG. 4A, a second base substrate 24 manufactured through the processes of FIGS. 2A to 2C is prepared. The second base substrate 24 has a structure in which the second copper layers 226b and 226c are laminated on both surfaces of the prepreg layer 210b.

도 4b를 참조하면, 제2 구리층(226b, 226c)을 하프-에칭하여 소정의 두께를 가지도록 두께를 감소시킨다. 상기 하프-에칭이라는 의미는 건식 또는 습식 식각을 통해, 구리층의 일부분을 제거하여 두께를 감소시키는 식각 방법을 의미할 수 있다. 상기 하프-식각에 의하여 감소된 두께의 제2 구리층(227b, 227c)이 형성될 수 있다. 이어서, 제2 베이스 기판(24)의 양쪽 표면을 관통하는 홀(400)을 형성한다. 상기 홀(400)을 형성하는 방법은 일 예로서, 기계적 드릴링법 또는 레이저 드릴링법을 적용할 수 있다. 상기 레이저 드릴링법은 일 예로서, 이산화탄소(CO2) 레이저, 자외선(UV) 레이저, 엑시머 레이저 등을 이용하여 진행할 수 있다. Referring to FIG. 4B, the second copper layers 226b and 226c are half-etched to reduce the thickness to a predetermined thickness. The half-etching may mean an etching process that removes a portion of the copper layer through dry or wet etching to reduce the thickness. A second copper layer 227b, 227c of reduced thickness may be formed by the half-etching. Subsequently, holes (400) penetrating both surfaces of the second base substrate (24) are formed. As a method of forming the holes 400, a mechanical drilling method or a laser drilling method can be applied. The laser drilling may be performed using a carbon dioxide (CO2) laser, an ultraviolet (UV) laser, an excimer laser, or the like.

도 4c를 참조하면, 감소된 두께의 제2 구리층(227b, 227c) 및 홀(400) 내부에 구리 도금층을 형성한다. 이어서, 상기 구리 도금층을 텐팅법에 의하여 패터닝함으로써, 회로패턴층(410b, 410c) 및 비아층(410a)를 형성할 수 있다. 구체적인 공정에 있어서, 상기 구리 도금층 상에 감광성 패턴을 형성하고, 상기 감광성 패턴을 이용하여 상기 구리 도금층을 식각함으로써 회로 패턴층(410b, 410c)을 형성할 수 있다.Referring to FIG. 4C, a copper plating layer is formed in the second copper layers 227b and 227c and the holes 400 having a reduced thickness. Then, the circuit pattern layers 410b and 410c and the via layer 410a can be formed by patterning the copper plating layer by a tenting method. In the concrete process, the circuit pattern layers 410b and 410c can be formed by forming a photosensitive pattern on the copper plating layer and etching the copper plating layer using the photosensitive pattern.

도 4d를 참조하면, 회로패턴층(410b, 410c) 및 비아층(410a)가 형성된 제2 베이스 기판(24) 상에 솔더 마스크 패턴(420)을 형성한다. 솔더 마스크 패턴(420)에 의해 노출되는 회로패턴층(410b, 410c) 상에는 표면처리층이 형성되고, 상기 표면처리층이 형성된 회로패턴층(410b, 410c)은 외부와의 접속을 위한 접속 패드로서 기능할 수 있다.4D, a solder mask pattern 420 is formed on the second base substrate 24 on which the circuit pattern layers 410b and 410c and the via layer 410a are formed. A surface treatment layer is formed on the circuit pattern layers 410b and 410c exposed by the solder mask pattern 420. The circuit pattern layers 410b and 410c on which the surface treatment layer is formed are connection pads for connection to the outside Function.

상술한 제2 베이스 기판(24)의 경우, 프리프레그층(210b) 상에 제2 구리층(226b, 226c)이 접합된 상태로 제공되므로, 전해도금 또는 전기도금 공정은 제2 구리층(226b, 226c) 상에서 진행된다. 즉, 홀(400) 내부를 제외하고는 도금공정이 프리프레그층(210b) 상에서 직접 진행되지는 않는다. 따라서, 회로패턴층(410b, 410c)이 제2 베이스 기판(24) 상에서 안정적으로 형성할 수 있다. 이와 같이, 도 2a 내지 도 2c의 공정을 통해 제조되는 제2 베이스 기판(24)은 텐팅법을 적용하는 인쇄회로기판의 제조에 적용될 수 있다. In the case of the second base substrate 24 described above, since the second copper layers 226b and 226c are provided on the prepreg layer 210b in a joined state, the electroplating or electroplating process is performed by the second copper layer 226b , 226c. That is, the plating process does not proceed directly on the prepreg layer 210b except inside the hole 400. [ Therefore, the circuit pattern layers 410b and 410c can be stably formed on the second base substrate 24. [ Thus, the second base substrate 24 manufactured through the processes of FIGS. 2A to 2C can be applied to the manufacture of a printed circuit board to which the tenting method is applied.

도 5a 내지 도 5e는 본 발명의 다른 실시 예에 따르는 인쇄회로기판의 회로 기판 또는 베이스 기판을 제조하는 방법을 개략적으로 나타내는 단면도이다. 도 5a를 참조하면, 도 2a 내지 도 2c의 공정을 통해 제조한 적층 구조물(200)을 준비한다. 이하에서는 설명의 편의를 위해, 적층 구조물(200)을 제1 적층 구조물(200)으로 지칭한다.5A to 5E are cross-sectional views schematically showing a method of manufacturing a circuit board or a base board of a printed circuit board according to another embodiment of the present invention. Referring to FIG. 5A, a stacked structure 200 manufactured through the processes of FIGS. 2A to 2C is prepared. Hereinafter, the laminated structure 200 will be referred to as a first laminated structure 200 for convenience of explanation.

도 5b를 참조하면, 제1 적층 구조물(200)로부터 제1 단위 적층체(220a)의 제1 구리층(224a) 및 제2 구리층(226a)를 제거한다. 그리고, 제1 적층 구조물(200)로부터 제4 단위 적층체(220d)의 제1 구리층(224d) 및 제2 구리층(226d)를 제거한다. 이로써, 제1 단위 적층체(220a)의 프라이머층(222a) 및 제4 단위 적층체(220d)의 프라이머층(222d)가 외부로 노출된다.Referring to FIG. 5B, the first copper layer 224a and the second copper layer 226a of the first unit laminate body 220a are removed from the first laminate structure 200. Referring to FIG. Then, the first copper layer 224d and the second copper layer 226d of the fourth unit laminate body 220d are removed from the first laminate structure 200. Then, As a result, the primer layer 222a of the first unit laminate 220a and the primer layer 222d of the fourth unit laminate 220d are exposed to the outside.

도 5c를 참조하면, 제1 단위 적층체(220a) 및 제4 단위 적층체(220d)의 프라이머층(222a, 222d) 상에 제1 회로 패턴층(510a, 510b)을 형성한다. 제1 회로 패턴층(510a, 510b)을 형성하는 방법은 상술한 SAP에 의하여 수행할 수 있다. 이 경우, 제1 프리프레그층(210a) 및 제3 프리프레그층(210c) 상에 프라이머층(222a, 222d)을 배치함으로써, 제1 회로 패턴층(510a, 510b)을 안정적으로 형성할 수 있다.Referring to FIG. 5C, the first circuit pattern layers 510a and 510b are formed on the primer layers 222a and 222d of the first unit laminate 220a and the fourth unit laminate 220d. The method of forming the first circuit pattern layers 510a and 510b can be performed by the SAP described above. In this case, the first circuit pattern layers 510a and 510b can be stably formed by disposing the primer layers 222a and 222d on the first prepreg layer 210a and the third prepreg layer 210c .

도 5d를 참조하면, 제1 회로 패턴층(510a, 510b)이 형성된 제1 적층 구조물(200)의 양쪽 표면에 제4 프리프레그층(530a) 및 제5 프리프레그층(530b), 제5 단위 적층체(540a) 및 제6 단위 적층체(540b)를 적층하여 제2 적층 구조물(500)을 형성한다. 이때, 제5 단위 적층체(540a) 및 제6 단위 적층체(540b)는 프라이머층(542a, 542b), 제1 구리층(544a, 544b) 및 제2 구리층(546a, 546b)을 구비할 수 있다. 프라이머층(542a, 542b), 제1 구리층(544a, 544b) 및 제2 구리층(546a, 546b)은 도 2a와 관련하여 설명한 프라이머층(222a, 222b, 222c, 222d), 제1 구리층(224a, 224b, 224c, 224d) 및 제2 구리층(226a, 226b, 226c, 226d)과 실질적으로 동일한다.5D, a fourth prepreg layer 530a and a fifth prepreg layer 530b are formed on both surfaces of the first laminated structure 200 in which the first circuit pattern layers 510a and 510b are formed, The laminate body 540a and the sixth unit laminate body 540b are laminated to form a second laminate structure 500. [ At this time, the fifth unit stack body 540a and the sixth unit stack body 540b include primer layers 542a and 542b, first copper layers 544a and 544b, and second copper layers 546a and 546b . The primer layers 542a and 542b, the first copper layers 544a and 544b and the second copper layers 546a and 546b may be formed of the primer layers 222a, 222b, 222c, and 222d, 224b, 224c, 224d and the second copper layers 226a, 226b, 226c, 226d.

도 5e를 참조하면, 제2 적층 구조물(500)을 분리하여, 제1 회로 패턴층(510a, 510b)을 각각 포함하는 제1 및 제2 회로기판(50, 52) 및 양쪽 표면에 제2 구리층(226b, 226c)을 구비하는 베이스 기판(54)를 제조한다. 구체적으로, 제2 적층 구조물(500)을 분리하는 공정은, 먼저, 각각 외부로 노출된 제5 및 제6 단위 적층체(540a, 540b)의 제2 구리층(546a, 546b)을 제거한다. 제2 단위 적층체(220b)의 제1 구리층(224b) 및 제2 구리층(226b)을 서로 분리시키고, 제3 단위 적층체(220c)의 제1 구리층(224c) 및 제2 구리층(226c)을 서로 분리시키는 순서로 진행될 수 있다. 5E, the second stacked structure 500 is separated to form first and second circuit boards 50 and 52 each including first circuit pattern layers 510a and 510b, A base substrate 54 having layers 226b and 226c is fabricated. Specifically, in the process of separating the second laminated structure 500, first, the second copper layers 546a and 546b of the fifth and sixth unit laminate bodies 540a and 540b exposed to the outside are removed. The first copper layer 224b and the second copper layer 226b of the second unit laminate 220b are separated from each other and the first copper layer 224c and the second copper layer 226b of the third unit laminate 220c are separated, (226c) are separated from each other.

이로서, 제1 회로 기판(50)은, 제3 프리프레그층(210c)과 제1 회로 패턴층(510a) 사이에 배치되는 제4 단위 적층체(220d)의 프라이머층(222d)을 구비하고 제5 프리프레그층(530a) 상에 배치되는 제6 단위 적층체(540b)의 프라이머층(542b)을 구비할 수 있다. 제2 회로 기판(52)은, 제1 프리프레그층(210a)과 제1 회로 패턴층(510b) 사이에 배치되는 제1 단위 적층체(220a)의 프라이머층(222a)을 구비하고 제4 프리프레그층(530b) 상에 배치되는 제5 단위 적층체(540b)의 프라이머층(210b)을 구비할 수 있다.The first circuit substrate 50 includes the primer layer 222d of the fourth unit laminate body 220d disposed between the third prepreg layer 210c and the first circuit pattern layer 510a, And a primer layer 542b of the sixth unit laminate body 540b disposed on the first prepreg layer 530a. The second circuit substrate 52 includes a primer layer 222a of the first unit laminate body 220a disposed between the first prepreg layer 210a and the first circuit pattern layer 510b, And a primer layer 210b of the fifth unit laminate body 540b disposed on the leg layer 530b.

상술한 바와 같이, 제1 및 제2 회로기판(50, 52)의 제1 회로 패턴층(510a, 510b)은 프라이머층(222a, 222d)를 사이에 두고 프리프레그층(210a, 210c) 상에서 SAP에 의해 안정적으로 형성될 수 있다. The first circuit pattern layers 510a and 510b of the first and second circuit boards 50 and 52 are formed on the prepreg layers 210a and 210c via the primer layers 222a and 222d, As shown in FIG.

도 6a 내지 도 6d는 본 발명의 다른 실시 예에 따르는 회로기판을 이용하는 인쇄회로기판의 제조 방법을 개략적으로 나타내는 단면도이다. 도 6a를 참조하면, 도 5a 내지 도 5e의 공정을 통해 제조한 제1 회로 기판(50) 또는 제2 회로기판(52)을 준비한다. 제1 및 제2 회로기판(50, 52)은 구성이 서로 동일하므로, 설명의 편의상 이하에서는 제1 회로기판(50)을 이용하여 설명하도록 한다. 6A to 6D are cross-sectional views schematically showing a method of manufacturing a printed circuit board using a circuit board according to another embodiment of the present invention. Referring to FIG. 6A, a first circuit board 50 or a second circuit board 52 manufactured through the processes of FIGS. 5A to 5E is prepared. Since the first and second circuit boards 50 and 52 have the same configuration, the first circuit board 50 will be described below for convenience of explanation.

다시, 도 6a를 참조하면, 제1 회로기판(50)을 가공하여, 제1 회로 패턴층(510a)를 노출시키는 비아홀(610a, 610b)을 형성할 수 있다. 도면에서는 제1 회로기판(50)의 양쪽 표면으로부터 비아홀(610a, 610b)을 형성하고 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니고, 제1 회로기판(50)의 어느 한쪽의 표면으로부터 비아홀이 형성될 수도 있다.Referring again to FIG. 6A, the first circuit substrate 50 is processed to form via holes 610a and 610b for exposing the first circuit pattern layer 510a. Although the via holes 610a and 610b are formed from both surfaces of the first circuit substrate 50 in the drawing, the present invention is not limited to this, and a via hole may be formed from one surface of the first circuit substrate 50 .

도 6b를 참조하면, 제1 회로기판(50)의 제1 구리층(544a, 544b)를 제거한다. 도 6c를 참조하면, 비아홀(610a, 610b)를 채우는 비아층(620c), 제1 회로기판(50)의 프라이머층 (542a, 542b) 상에 배치되는 제2 회로 패턴층(620a, 620b)을 SAP에 의해 형성할 수 있다. 상기 SAP는 도 3c와 관련하여 상술한 실시 예에서의 SAP와 실질적으로 동일한 방법으로 수행될 수 있다.Referring to FIG. 6B, the first copper layers 544a and 544b of the first circuit board 50 are removed. 6C, a via layer 620c filling the via holes 610a and 610b, and second circuit pattern layers 620a and 620b disposed on the primer layers 542a and 542b of the first circuit substrate 50 It can be formed by SAP. The SAP may be performed in substantially the same manner as the SAP in the above-described embodiment with reference to FIG. 3C.

도 6d를 참조하면, 제1 회로 패턴층(510a) 및 제2 회로 패턴층(620a, 620b)가 형성된 제1 회로기판(50) 상에 솔더마스크패턴(630a, 630b)을 형성한다. 솔더마스크패턴(630a, 630b)에 의해 노출되는 제2 회로 패턴층(620a, 620b) 상에 표면처리층(640a, 640b)를 형성한다. 표면처리층(640a, 640b)이 형성된 제2 회로 패턴층(620a, 620b)은 외부 접속을 위한 접속 패드로서 기능할 수 있다.6D, solder mask patterns 630a and 630b are formed on the first circuit substrate 50 on which the first circuit pattern layer 510a and the second circuit pattern layers 620a and 620b are formed. The surface treatment layers 640a and 640b are formed on the second circuit pattern layers 620a and 620b exposed by the solder mask patterns 630a and 630b. The second circuit pattern layers 620a and 620b on which the surface treatment layers 640a and 640b are formed can function as connection pads for external connection.

도시되지는 않았지만, 다른 실시 예들에 있어서는 제2 회로 패턴층(620a, 620b)가 형성된 후에, 추가로 절연층 및 회로 패턴층이 적층될 수도 있다. 상기 절연층 및 상기 회로 패턴층을 추가로 형성하는 방법은 일 예로서, 절연성 층간 기판을 준비하여 상기 제2 회로 패턴층(620a, 620b) 상에 적층하고, 도 6b 및 도 6c와 관련되어 설명한 공정을 수행함으로써, 달성할 수 있다. 추가로 적층되는 절연층 및 회로 패턴층의 개수는 제한이 없다.Although not shown, in other embodiments, after the second circuit pattern layers 620a and 620b are formed, a further insulating layer and a circuit pattern layer may be laminated. As an example of a method of further forming the insulating layer and the circuit pattern layer, an insulating interlayer substrate is prepared and laminated on the second circuit pattern layers 620a and 620b, By carrying out the process, it can be achieved. The number of the insulating layers and circuit pattern layers to be laminated is not limited.

도시되지는 않았지만, 도 5a 내지 도 5e의 공정을 통해 제조되는 베이스 기판(54) 상에는 도 4a 내지 도 4d와 관련하여 상술한 텐팅법을 통해 회로패턴층을 형성할 수 있다. 이로서, 베이스 기판(54)을 이용하여 인쇄회로기판을 용이하게 제조할 수 있다.Although not shown, a circuit pattern layer can be formed on the base substrate 54 manufactured through the processes of FIGS. 5A to 5E through the tantalum method described above with reference to FIGS. 4A to 4D. As a result, the printed circuit board can be easily manufactured using the base substrate 54.

도 7a 내지 도 7e는 본 발명의 또다른 실시 예에 따르는 인쇄기판 또는 베이스 기판의 제조 방법을 개략적으로 나타내는 도면이다. 도 7a를 참조하면, 도 5a 내지 도 5d의 공정을 통해 제조한 제2 적층 구조물(500)을 준비한다. 7A to 7E are views schematically showing a method of manufacturing a printed substrate or a base substrate according to still another embodiment of the present invention. Referring to FIG. 7A, a second stacked structure 500 manufactured through the processes of FIGS. 5A to 5D is prepared.

도 7b를 참조하면, 제2 적층 구조물(500)로부터 제5 및 제6 단위 적층체(540a, 540b)의 제2 구리층(546a, 546b)를 제거한다. 이어서, 제2 적층 구조물(500)을 가공하여 제1 회로 패턴층(510a)를 노출시키는 비아홀(710a, 710b)을 형성한다. 그리고, 제1 구리층(544a, 544b)를 제거한다. Referring to FIG. 7B, the second copper layers 546a and 546b of the fifth and sixth unit stacks 540a and 540b are removed from the second stacked structure 500. Next, the second stacked structure 500 is processed to form via holes 710a and 710b for exposing the first circuit pattern layer 510a. Then, the first copper layers 544a and 544b are removed.

몇몇 다른 실시예들에 있어서, 상술한 비아홀(710a, 710b)을 형성하는 공정은 다른 순서로 진행될 수 있다. 즉, 제2 적층 구조물(500)을 가공하여 비아홀(710a, 710b)을 먼저 형성하고, 제2 구리층(546a, 546b) 및 제1 구리층(544a, 544b)을 순차적으로 제거할 수도 있다. 또다르게는, 제2 구리층(546a, 546b) 및 제1 구리층(544a, 544b)을 제거한 후에, 제2 적층 구조물(500)을 가공하여 비아홀(710a, 710b)을 형성할 수도 있다.In some other embodiments, the process of forming the above-described via holes 710a and 710b may be performed in a different order. That is, the second stacked structure 500 may be processed to form the via holes 710a and 710b first, and the second copper layers 546a and 546b and the first copper layers 544a and 544b may be sequentially removed. Alternatively, after removing the second copper layers 546a and 546b and the first copper layers 544a and 544b, the second stacked structure 500 may be processed to form the via holes 710a and 710b.

도 7c를 참조하면, 비아홀(710a, 710b)을 채우는 비아층(720c, 720d) 및 제5 및 제6 단위 적층체(540a, 540b)의 프라이머층(542a, 542b) 상에 배치되는 제2 회로 패턴층(720a, 720b)을 형성한다. 제2 회로 패턴층(720a, 720b)을 형성하는 방법은 SAP에 의하여 진행될 수 있다. 상기 SAP는 도 3c와 관련하여 상술한 실시 예에서의 SAP와 실질적으로 동일한 방법으로 수행될 수 있다.7C, a via layer 720c, 720d filling the via holes 710a, 710b and a second circuit (not shown) disposed on the primer layers 542a, 542b of the fifth and sixth unit stack 540a, Pattern layers 720a and 720b are formed. The method of forming the second circuit pattern layers 720a and 720b may be performed by the SAP. The SAP may be performed in substantially the same manner as the SAP in the above-described embodiment with reference to FIG. 3C.

도 7d를 참조하면, 제2 회로 패턴층(720a, 720b)이 형성된 제2 적층 구조물(500)의 양쪽 표면에 제6 및 제7 프리프레그층(730a, 730b), 제7 및 제8 단위 적층체(740a, 740b)를 적층하여 제3 적층 구조물(700)을 형성한다. 이때, 제7 및 제8 단위 적층체(740a, 740b)는 순차적으로 적층되는 프라이머층(742a, 742b), 제1 구리층(744a, 744b) 및 제2 구리층(746a, 746b)을 각각 포함할 수 있다.7D, sixth and seventh prepreg layers 730a and 730b are formed on both surfaces of the second stacked structure 500 in which the second circuit pattern layers 720a and 720b are formed, 740a and 740b are laminated to form a third laminated structure 700. [ The seventh and eighth unit laminates 740a and 740b respectively include primer layers 742a and 742b, first copper layers 744a and 744b and second copper layers 746a and 746b that are sequentially stacked can do.

도 7e를 참조하면, 제3 적층 구조물(700)을 분리하여, 제1 회로 패턴층(510a, 510b) 및 제2 회로 패턴층(710a, 710b)을 포함하는 제1 및 제2 회로기판(70, 72) 및 양쪽 표면에 제2 구리층(226b, 226c)을 구비하는 베이스 기판(74)을 형성할 수 있다. 구체적으로, 제3 적층 구조물(700)을 분리하는 공정은, 먼저, 각각 외부로 노출된 제7 및 제8 단위 적층체(740a, 740b)의 제2 구리층(746a, 746b)을 제거한다. 제2 단위 적층체(220b)의 제1 구리층(224b) 및 제2 구리층(226b)을 서로 분리시키고, 제3 단위 적층체(220c)의 제1 구리층(224c) 및 제2 구리층(226c)을 서로 분리시키는 순서로 진행될 수 있다. 7E, the third stacked structure 700 is separated and the first and second circuit boards 70a and 70b including the first circuit pattern layers 510a and 510b and the second circuit pattern layers 710a and 710b , 72 and a second copper layer 226b, 226c on both surfaces. Specifically, in the process of separating the third stacked structure 700, first, the second copper layers 746a and 746b of the seventh and eighth unit stack bodies 740a and 740b exposed to the outside are removed. The first copper layer 224b and the second copper layer 226b of the second unit laminate 220b are separated from each other and the first copper layer 224c and the second copper layer 226b of the third unit laminate 220c are separated, (226c) are separated from each other.

이로서, 제1 회로 기판(70)은, 제3 프리프레그층(210c)과 제1 회로 패턴층(510a) 사이에 배치되는 제4 단위 적층체(220d)의 프라이머층(222d)을 구비하고 제5 프리프레그층(530a)과 제2 회로 패턴층(720a) 사이에 배치되는 제6 단위 적층체(540a)의 프라이머층(542a)을 구비한다. 제2 회로 기판(72)은, 제1 프리프레그층(210a)과 제1 회로 패턴층(510b) 사이에 배치되는 제1 단위 적층체(220a)의 프라이머층(222a)을 구비하고 제4 프리프레그층(530b)과 제2 회로 패턴층(720b) 사이에 배치되는 제5 단위 적층체(540b)의 프라이머층(542b)을 구비할 수 있다. 베이스 기판(74)는 제2 프리프레그층(210b)의 양쪽 표면에 적층된 제2 구리층(226b, 226c)을 구비할 수 있다.The first circuit board 70 thus has the primer layer 222d of the fourth unit laminate body 220d disposed between the third prepreg layer 210c and the first circuit pattern layer 510a, And a primer layer 542a of a sixth unit laminate body 540a disposed between the prepreg layer 530a and the second circuit pattern layer 720a. The second circuit board 72 includes a primer layer 222a of the first unit laminate body 220a disposed between the first prepreg layer 210a and the first circuit pattern layer 510b, And a primer layer 542b of the fifth unit laminate body 540b disposed between the leg layer 530b and the second circuit pattern layer 720b. The base substrate 74 may have second copper layers 226b and 226c stacked on both surfaces of the second prepreg layer 210b.

상술한 바와 같이, 제1 및 제2 회로기판(70, 72)의 제1 회로 패턴층(510a, 510b) 및 제2 회로 패턴층(710a, 710b)은 프라이머층(222a, 222d, 542a, 542b)을 사이에 두고 프리프레그층(210a, 210c, 530a, 530b) 상에서 SAP에 의해 안정적으로 형성될 수 있다. The first circuit pattern layers 510a and 510b and the second circuit pattern layers 710a and 710b of the first and second circuit boards 70 and 72 are electrically connected to the primer layers 222a, 222d, 542a, and 542b And can be stably formed on the prepreg layers 210a, 210c, 530a, and 530b by the SAP.

제1 및 제2 회로기판(70, 72)의 경우, 도 6a 내지 도 6d와 관련되어 상술한 실시예에서의 SAP에 의한 회로 패턴층, 솔더마스크패턴, 표면처리층 형성 공정을 진행할 수 있다. 이때, SAP에 의해 형성되는 회로 패턴층의 개수에는 제한이 없다. 즉, 상술한 절연성 층간 기판의 적층 공정과 SAP에 의한 회로 패턴층 형성 공정을 반복함으로써, 의도하는 개수의 회로 패턴층을 형성할 수 있다.In the case of the first and second circuit boards 70 and 72, the circuit pattern layer, the solder mask pattern, and the surface treatment layer formation process by the SAP in the embodiment described above with reference to FIGS. 6A to 6D can be performed. At this time, the number of circuit pattern layers formed by the SAP is not limited. That is, by repeating the above-described step of laminating the insulating interlayer substrate and the step of forming the circuit pattern layer by SAP, an intended number of circuit pattern layers can be formed.

베이스 기판(74)의 경우, 도 4a 내지 도 4d와 관련되어 상술한 실시 예에서의 텐팅법에 의한 회로 패턴층 형성 공정을 진행할 수 있다.
In the case of the base substrate 74, the circuit pattern layer forming process by the tenting method in the embodiment described above with reference to Figs. 4A to 4D can be performed.

상기에서 설명한 바와 같이, 본 실시예들에 따르면, 강성이 커서 두께가 감소됨에도 불구하고 휨 발생을 방지할 수 있는 프리프레그를 절연층으로 용이하게 채용할 수 있다. 즉, 프라이머층을 프리프레그층과 화학도금층 사이에 개재시킴으로써, 프리프레그층과 화학도금층 사이에 결합력을 향상시킬 수 있다. 이로서, SAP 공정을 통한 구리 패턴층을 절연층 상에 신뢰성 있게 형성할 수 있다.As described above, according to the embodiments, the prepreg can be easily adopted as the insulating layer, which can prevent the occurrence of warpage even though the thickness is reduced due to the large rigidity. That is, the bonding force between the prepreg layer and the chemical plating layer can be improved by interposing the primer layer between the prepreg layer and the chemical plating layer. Thereby, the copper pattern layer through the SAP process can be reliably formed on the insulating layer.

일 실시 예에 따르면, 프라이머층 및 구리층을 포함하는 복수의 단위 적층체와 복수의 프리프레그층을 접합하고, 상기 구리층을 제거 또는 분리시킴으로써, 상기 프리프레그층 상에 상기 프라이머층이 적층된 베이스 기판 및 회로 기판을 동시에 제조할 수 있다.According to one embodiment, a plurality of unit laminate layers including a primer layer and a copper layer are bonded to a plurality of prepreg layers, and the copper layer is removed or separated, thereby forming the primer layer on the prepreg layer The base substrate and the circuit board can be manufactured at the same time.

이와 같이, 본 발명의 실시 예에 따르면, 절연층의 두께 감소 및 회로 패턴의 미세화를 구현할 수 있어서, 미세 패턴을 구비하고 박형인 인쇄회로기판을 제조할 수 있게 된다. As described above, according to the embodiment of the present invention, it is possible to reduce the thickness of the insulating layer and to miniaturize the circuit pattern, thereby making it possible to manufacture a thin printed circuit board having a fine pattern.

이상에서는 도면 및 실시 예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허청구범위에 기재된 본 출원의 기술적 사상으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 출원에 개시된 실시예들을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it will be understood by those of ordinary skill in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims. It can be understood that

100a, 100b: 인쇄회로기판, 110: 관통 비아층, 112a 112b: 제1 비아층
114a 114b: 제2 비아층, 120a 120b: 제1 회로패턴층,
122 132 142 152 162 172: 회로패턴층, 124 134 144 154 164: 비아층
130a 130b: 제2 회로 패턴층, 140a 140b: 제3 회로 패턴층,
150a: 범프, 150b: 솔더볼, 160a 160b: 층간 절연층, 180: 층간 절연층
170a 170b: 제3 절연층, 200: 적층 구조물,
20 22: 제1 베이스 기판, 24: 제2 베이스 기판,
210a 210b 210c: 제1 내지 제3 프리프레그층,
220a 220b 220c 220d: 제1 내지 제4 단위 적층체,
222a 222b 222c 222d: 프라이머층,
224a 224b 224c 224d: 제1 구리층,
226a 226b 226c 226d: 제2 구리층,
227b 227c: 감소된 두께의 제2 구리층,
310: 홀, 320a 320b 320c: 구리 패턴층,
330a, 330b: 솔더마스크패턴, 340a 340b: 표면처리층,
400: 홀, 410a: 비아층, 410b 410c: 회로패턴층,
420: 솔더마스크패턴,
50 52: 제1 및 제2 회로 기판, 54: 베이스 기판, 500: 제2 적층 구조물,
510a 510b: 제1 회로 패턴층,
540a 540b: 제5 및 제6 단위 적층체,
542a 542b: 프라이머층, 544a 544b: 제1 구리층,
546a 546b: 제2 구리층,
610a 610b: 비아홀, 620a 620b: 제2 회로 패턴층, 620c: 비아층,
630a 630b: 솔더마스크패턴, 640a 640b: 표면처리층,
700: 제3 적층 구조물, 70 72: 제1 및 제2 회로기판, 74: 베이스 기판,
710a 710b: 비아홀, 720a 720b: 제2 회로 패턴층,
720c 720d: 비아층,
730a 730b: 프리프레그층,
740a 740b: 제7 및 제8 단위 적층체,
742a 742b: 프라이머층,
744a 744b: 제1 구리층, 746a 746b: 제2 구리층.
100a, 100b: printed circuit board, 110: through via layer, 112a 112b: first via layer
114a 114b: second via layer, 120a 120b: first circuit pattern layer,
122 132 142 152 162 172: circuit pattern layer, 124 134 144 154 164: via layer
130a 130b: second circuit pattern layer, 140a 140b: third circuit pattern layer,
150a: bump, 150b: solder ball, 160a 160b: interlayer insulating layer, 180: interlayer insulating layer
170a 170b: third insulating layer, 200: laminated structure,
20 22: a first base substrate, 24: a second base substrate,
210a 210b 210c: first to third prepreg layers,
220a 220b 220c 220d: first to fourth unit laminations,
222a 222b 222c 222d: primer layer,
224a 224b 224c 224d: a first copper layer,
226a 226b 226c 226d: a second copper layer,
227b 227c: a second copper layer of reduced thickness,
310: hole, 320a 320b 320c: copper pattern layer,
330a, 330b: solder mask pattern, 340a 340b: surface treatment layer,
400: hole, 410a: via layer, 410b 410c: circuit pattern layer,
420: solder mask pattern,
50 52: first and second circuit substrates, 54: base substrate, 500: second stacked structure,
510a 510b: a first circuit pattern layer,
540a 540b: fifth and sixth unit laminate,
542a 542b: primer layer, 544a 544b: primary copper layer,
546a 546b: secondary copper layer,
610a 610b: via hole, 620a 620b: second circuit pattern layer, 620c: via layer,
630a 630b: solder mask pattern, 640a 640b: surface treatment layer,
700: third stack structure, 70 72: first and second circuit substrates, 74: base substrate,
710a 710b: via hole, 720a 720b: second circuit pattern layer,
720c 720d: via layer,
730a 730b: prepreg layer,
740a 740b: seventh and eighth unit laminate,
742a 742b: primer layer,
744a 744b: primary copper layer, 746a 746b: secondary copper layer.

Claims (18)

(a) 프라이머층, 제1 구리층 및 제2 구리층이 순차적으로 적층된 단위 적층체를 준비하는 단계;
(b) 프리프레그층을 준비하는 단계;
(c) 상기 프리프레그층의 양쪽 표면과 상기 프라이머층이 서로 대면하도록, 상기 단위 적층체를 상기 프리프레그층에 접합하여 적층 구조물을 형성하는 단계; 및
(d) 상기 적층 구조물로부터 상기 단위 적층체의 상기 제1 구리층과 상기 제2 구리층을 서로 분리함으로써, 상기 프리프레그층의 양쪽 표면에 상기 프라이머층 및 상기 제1 구리층이 적층되는 베이스 기판을 제조하는 단계를 포함하는
인쇄회로기판의 제조 방법.
(a) preparing a unit laminate in which a primer layer, a first copper layer and a second copper layer are sequentially laminated;
(b) preparing a prepreg layer;
(c) forming a laminated structure by bonding the unit laminate to the prepreg layer such that both surfaces of the prepreg layer and the primer layer face each other; And
(d) separating the first copper layer and the second copper layer of the unit laminate from the laminated structure so that the primer layer and the first copper layer are laminated on both surfaces of the prepreg layer, Lt; RTI ID = 0.0 >
A method of manufacturing a printed circuit board.
제1 항에 있어서,
(d) 단계에서 상기 단위 적층체의 상기 제1 구리층을 추가로 제거하여 상기 프라이머층을 노출시키는 단계를 더 포함하는
인쇄회로기판의 제조 방법.
The method according to claim 1,
(d) further removing the first copper layer of the unit laminate to expose the primer layer
A method of manufacturing a printed circuit board.
(a) 각각 프라이머층, 제1 구리층 및 제2 구리층이 순차적으로 적층된 제1 내지 제4 단위 적층체를 준비하는 단계;
(b) 제1 내지 제3 프리프레그층을 준비하는 단계;
(c) 하부로부터 상기 제1 단위 적층체, 상기 제1 프리프레그층, 상기 제2 단위 적층체, 상기 제2 프리프레그층, 상기 제3 단위 적층체, 상기 제3 프리프레그층, 및 상기 제4 단위 적층체가 순차적으로 접합되어 적층되는 적층 구조물을 형성하되, 상기 제1 단위 적층체 및 상기 제2 단위 적층체의 상기 프라이머층이 상기 제1 프리프레그층의 양쪽 표면과 각각 접하도록 배치시키고, 상기 제3 단위 적층체 및 상기 제4 단위 적층체의 상기 프라이머층이 상기 제3 프리프레그층의 양쪽 표면과 각각 접하도록 배치시키는 단계; 및
(d) 상기 적층 구조물로부터, 상기 제1 내지 제4 단위 적층체의 상기 제1 구리층과 상기 제2 구리층을 서로 분리시켜 베이스 기판을 제조하는 단계를 포함하는
인쇄회로기판의 제조 방법.
(a) preparing first to fourth unit stacks in which a primer layer, a first copper layer and a second copper layer are sequentially laminated;
(b) preparing first to third prepreg layers;
(c) a step of stacking the first unit laminate, the first prepreg layer, the second unit laminate, the second prepreg layer, the third unit laminate, the third prepreg layer, The first unit laminate and the second unit laminate are arranged such that the primer layers of the first unit laminate and the second unit laminate are in contact with both surfaces of the first prepreg layer, Placing the primer layers of the third unit laminate and the fourth unit laminate in contact with both surfaces of the third prepreg layer; And
(d) separating the first copper layer and the second copper layer of the first through fourth unit stacks from each other to produce a base substrate,
A method of manufacturing a printed circuit board.
제3 항에 있어서,
(d) 단계는
상기 제1 단위 적층체에서 외부로 노출된 제2 구리층을 제거하는 단계;
상기 제2 단위 적층체의 제1 구리층 및 제2 구리층을 서로 분리시키는 단계;
상기 제3 단위 적층체의 제1 구리층 및 제2 구리층을 서로 분리시키는 단계; 및
상기 제4 단위 적층체에서 외부로 노출된 제2 구리층을 제거하는 단계를 포함하는
인쇄회로기판의 제조 방법.
The method of claim 3,
(d)
Removing the exposed second copper layer from the first unit stack;
Separating the first copper layer and the second copper layer of the second unit laminate from each other;
Separating the first copper layer and the second copper layer of the third unit laminate from each other; And
Removing the second copper layer exposed outward from the fourth unit laminate
A method of manufacturing a printed circuit board.
제3 항에 있어서,
상기 베이스 기판은
상기 제1 및 제3 프리프레그층의 양쪽 표면에 상기 프라이머층 및 상기 제1 구리층이 순차적으로 적층되는 한 쌍의 제1 베이스 기판; 및
상기 제2 프리프레그층의 양쪽 표면에 상기 제2 구리층이 적층되는 제2 베이스 기판을 포함하는
인쇄회로기판의 제조 방법.
The method of claim 3,
The base substrate
A pair of first base substrates on which the primer layer and the first copper layer are sequentially laminated on both surfaces of the first and third prepreg layers; And
And a second base substrate on which the second copper layer is laminated on both surfaces of the second prepreg layer
A method of manufacturing a printed circuit board.
제5 항에 있어서,
상기 제1 베이스 기판으로부터 상기 제1 구리층을 제거하는 단계;
상기 제1 베이스 기판의 상기 프라이머층 상에 회로 패턴층을 형성하는 단계를 더 포함하는
인쇄회로기판의 제조 방법.
6. The method of claim 5,
Removing the first copper layer from the first base substrate;
Further comprising forming a circuit pattern layer on the primer layer of the first base substrate
A method of manufacturing a printed circuit board.
제6 항에 있어서,
상기 회로 패턴층을 형성하는 단계는
상기 제1 베이스 기판을 관통하는 홀을 형성하는 단계;
상기 제1 베이스 기판으로부터 상기 제1 구리층을 제거하는 단계; 및
상기 홀의 내부 및 상기 제1 구리층이 제거된 상기 프라이머층 상에 세미어디티브법(semi-additive process, SAP)을 수행하여 도금 패턴층을 형성하는 단계를 포함하는
인쇄회로기판의 제조 방법.
The method according to claim 6,
The step of forming the circuit pattern layer
Forming a hole through the first base substrate;
Removing the first copper layer from the first base substrate; And
Forming a plating pattern layer by performing a semi-additive process (SAP) on the inside of the hole and on the primer layer from which the first copper layer has been removed
A method of manufacturing a printed circuit board.
제5 항에 있어서,
상기 제2 베이스 기판 상에 회로 패턴층을 형성하는 단계를 더 포함하는
인쇄회로기판의 제조 방법.
6. The method of claim 5,
And forming a circuit pattern layer on the second base substrate
A method of manufacturing a printed circuit board.
제8 항에 있어서,
상기 회로 패턴층을 형성하는 단계는
상기 제2 베이스 기판을 관통하는 홀을 형성하는 단계;
상기 제2 구리층을 하프-에칭하는 단계;
상기 홀의 내부 및 상기 하프-에칭된 상기 제2 구리층 상에 구리 도금층을 형성하는 단계; 및
상기 구리 도금층을 텐팅법(tenting)에 의해 패터닝하는 단계를 포함하는
인쇄회로기판의 제조 방법.
9. The method of claim 8,
The step of forming the circuit pattern layer
Forming a hole through the second base substrate;
Half-etching the second copper layer;
Forming a copper plating layer on the inside of the hole and on the half-etched second copper layer; And
And patterning the copper plating layer by tenting.
A method of manufacturing a printed circuit board.
(a) 각각 프라이머층, 제1 구리층 및 제2 구리층이 순차적으로 적층된 제1 내지 제4 단위 적층체를 준비하는 단계;
(b) 제1 내지 제3 프리프레그층을 준비하는 단계;
(c) 하부로부터 상기 제1 단위 적층체, 상기 제1 프리프레그층, 상기 제2 단위 적층체, 상기 제2 프리프레그층, 상기 제3 단위 적층체, 상기 제3 프리프레그층, 및 상기 제4 단위 적층체가 순차적으로 접합되어 적층되는 제1 적층 구조물을 형성하되, 상기 제1 단위 적층체 및 상기 제2 단위 적층체의 상기 프라이머층이 상기 제1 프리프레그층의 양쪽 표면과 각각 접하도록 배치시키고, 상기 제3 단위 적층체 및 상기 제4 단위 적층체의 상기 프라이머층이 상기 제3 프리프레그층의 양쪽 표면과 각각 접하도록 배치시키는 단계;
(d) 상기 제1 적층 구조물로부터, 상기 제1 단위 적층체의 상기 제1 구리층 및 상기 제2 구리층, 상기 제4 단위 적층체의 상기 제1 구리층 및 상기 제2 구리층을 제거하여, 상기 제1 단위 적층체의 상기 프라이머층 및 상기 제4 단위 적층체의 상기 프라이머층을 노출시키는 단계;
(e) 상기 제1 단위 적층체 및 상기 제4 단위 적층체의 상기 프라이머층 상에 제1 회로 패턴층을 형성하는 단계;
(f) 상기 제1 회로 패턴층이 형성된 상기 제1 적층 구조물의 일 표면에 제4 프리프레그층 및 제5 단위 적층체를 순차적으로 적층하고 상기 제1 적층 구조물의 다른 표면에 제5 프리프레그층 및 제6 단위 적층체를 순차적으로 적층하여, 제2 적층 구조물을 형성하되, 상기 제5 단위 적층체 및 상기 제6 단위 적층체는 순차적으로 적층되는 프라이머층, 제1 구리층 및 제2 구리층을 각각 포함하며, 상기 제5 단위 적층체 및 상기 제6 단위 적층체의 상기 프라이머층이 상기 제1 적층 구조물의 상기 양 표면에 각각 접하도록 하는 단계; 및
(g) 상기 제2 적층 구조물로부터, 상기 제2 단위 적층체, 상기 제3 단위 적층체, 상기 제5 단위 적층체 및 상기 제6 단위 적층체의 상기 제1 구리층 및 상기 제2 구리층을 서로 분리시켜, 상기 제1 회로 패턴층을 포함하는 제1 및 제2 회로기판 및 양쪽 표면에 상기 제2 구리층을 구비하는 베이스 기판을 제조하는 단계를 포함하는
인쇄회로기판의 제조 방법.
(a) preparing first to fourth unit stacks in which a primer layer, a first copper layer and a second copper layer are sequentially laminated;
(b) preparing first to third prepreg layers;
(c) a step of stacking the first unit laminate, the first prepreg layer, the second unit laminate, the second prepreg layer, the third unit laminate, the third prepreg layer, The first unit laminate and the second unit laminate are arranged so that the primer layers of the first unit laminate and the second unit laminate are in contact with both surfaces of the first prepreg layer, Placing the primer layers of the third unit laminate and the fourth unit laminate in contact with both surfaces of the third prepreg layer;
(d) removing the first copper layer and the second copper layer of the first unit laminate, the first copper layer and the second copper layer of the fourth unit laminate from the first laminate structure Exposing the primer layer of the first unit laminate and the primer layer of the fourth unit laminate;
(e) forming a first circuit pattern layer on the primer layer of the first unit laminate and the fourth unit laminate;
(f) a fourth prepreg layer and a fifth unit laminate are sequentially laminated on one surface of the first laminate structure on which the first circuit pattern layer is formed, and on the other surface of the first laminate structure, a fifth prepreg layer And the sixth unit laminate are sequentially laminated to form a second laminated structure, wherein the fifth unit laminate and the sixth unit laminate are formed by sequentially laminating a primer layer, a first copper layer, and a second copper layer, And allowing the primer layer of the fifth unit laminate and the sixth unit laminate to contact the both surfaces of the first laminate structure, respectively; And
(g) removing the first copper layer and the second copper layer of the second unit laminate, the third unit laminate, the fifth unit laminate and the sixth unit laminate from the second laminate structure, And separating the first circuit pattern layer and the second circuit pattern layer from each other to manufacture a base substrate having first and second circuit boards including the first circuit pattern layer and the second copper layer on both surfaces
A method of manufacturing a printed circuit board.
제10 항에 있어서,
상기 제1 단위 적층체 및 상기 제4 단위 적층체의 상기 프라이머층 상에 제1 회로 패턴층을 형성하는 단계는
상기 프라이머층 상에 세미어디티브법을 수행하여 도금 패턴층을 형성하는 단계를 포함하는
인쇄회로기판의 제조 방법.
11. The method of claim 10,
The step of forming the first circuit pattern layer on the primer layer of the first unit laminate and the fourth unit laminate includes
And a step of forming a plating pattern layer by performing a semi-specific method on the primer layer
A method of manufacturing a printed circuit board.
제10 항에 있어서,
상기 제2 적층 구조물을 분리하는 단계는
각각 외부로 노출된 상기 제5 및 제6 단위 적층체의 상기 제2 구리층을 제거하는 단계;
상기 제2 단위 적층체의 상기 제1 구리층 및 상기 제2 구리층을 서로 분리시키는 단계;및
상기 제3 단위 적층체의 상기 제1 구리층 및 상기 제2 구리층을 서로 분리시키는 단계를 포함하는
인쇄회로기판의 제조 방법.
11. The method of claim 10,
The step of separating the second stacked structure
Removing the second copper layer of the fifth and sixth unit stacks exposed to the outside;
Separating the first copper layer and the second copper layer of the second unit laminate from each other;
And separating the first copper layer and the second copper layer of the third unit stack from each other
A method of manufacturing a printed circuit board.
제10 항에 있어서,
상기 제1 회로 기판은,
상기 제3 프리프레그층과 상기 제1 회로 패턴층 사이에 배치되는 상기 제4 단위 적층체의 상기 프라이머층을 구비하고 상기 제4 프리프레그층 상에 배치되는 상기 제5 단위 적층체의 상기 프라이머층을 구비하며,
상기 제2 회로 기판은,
상기 제1 프리프레그층과 상기 제1 회로 패턴층 사이에 배치되는 상기 제1 단위 적층체의 상기 프라이머층을 구비하고 상기 제5 프리프레그층 상에 배치되는 상기 제6 단위 적층체의 상기 프라이머층을 구비하는
인쇄회로기판의 제조 방법.
11. The method of claim 10,
Wherein the first circuit board includes:
And the primer layer of the fourth unit laminate disposed between the third prepreg layer and the first circuit pattern layer, and the primer layer of the fifth unit laminate disposed on the fourth prepreg layer, And,
Wherein the second circuit board comprises:
The primer layer of the first unit laminate disposed between the first prepreg layer and the first circuit pattern layer, and the primer layer of the sixth unit laminate disposed on the fifth prepreg layer, having a
A method of manufacturing a printed circuit board.
제10 항에 있어서,
상기 제1 또는 제2 회로기판을 가공하여, 상기 제1 회로 패턴층을 노출시키는 비아홀을 형성하는 단계;
상기 제1 또는 제2 회로기판으로부터 상기 제1 구리층을 제거하는 단계; 및
상기 비아홀 내부를 채우는 비아층 및 상기 제1 또는 제2 회로기판의 상기 프라이머층 상에 배치되는 제2 회로 패턴층을 세미어디티브법에 의해 형성하는 단계를 더 포함하는
인쇄회로기판의 제조 방법.
11. The method of claim 10,
Forming a via hole for exposing the first circuit pattern layer by processing the first or second circuit board;
Removing the first copper layer from the first or second circuit board; And
Further comprising the step of forming a via layer filling the via hole and a second circuit pattern layer disposed on the primer layer of the first or second circuit board by semi-
A method of manufacturing a printed circuit board.
(a) 각각 프라이머층, 제1 구리층 및 제2 구리층이 순차적으로 적층된 제1 내지 제4 단위 적층체를 준비하는 단계;
(b) 제1 내지 제3 프리프레그층을 준비하는 단계;
(c) 하부로부터 상기 제1 단위 적층체, 상기 제1 프리프레그층, 상기 제2 단위 적층체, 상기 제2 프리프레그층, 상기 제3 단위 적층체, 상기 제3 프리프레그층, 및 상기 제4 단위 적층체가 순차적으로 접합되어 적층되는 제1 적층 구조물을 형성하되, 상기 제1 단위 적층체 및 상기 제2 단위 적층체의 상기 프라이머층이 상기 제1 프리프레그층의 양쪽 표면과 각각 접하도록 배치시키고, 상기 제3 단위 적층체 및 상기 제4 단위 적층체의 상기 프라이머층이 상기 제3 프리프레그층의 양쪽 표면과 각각 접하도록 배치시키는 단계;
(d) 상기 제1 적층 구조물로부터, 상기 제1 단위 적층체의 상기 제1 구리층 및 상기 제2 구리층, 상기 제4 단위 적층체의 상기 제1 구리층 및 상기 제2 구리층을 제거하여, 상기 제1 단위 적층체의 상기 프라이머층 및 상기 제4 단위 적층체의 상기 프라이머층을 노출시키는 단계;
(e) 상기 제1 단위 적층체 및 상기 제4 단위 적층체의 상기 프라이머층 상에 제1 회로 패턴층을 형성하는 단계;
(f) 상기 제1 회로 패턴층이 형성된 상기 제1 적층 구조물의 일 표면에 제4 프리프레그층 및 제5 단위 적층체를 순차적으로 적층하고 상기 제1 적층 구조물의 다른 표면에 제5 프리프레그층 및 제6 단위 적층체를 순차적으로 적층하여, 제2 적층 구조물을 형성하되, 상기 제5 단위 적층체 및 상기 제6 단위 적층체는 순차적으로 적층되는 프라이머층, 제1 구리층 및 제2 구리층을 각각 포함하며, 상기 제5 단위 적층체 및 상기 제6 단위 적층체의 상기 프라이머층이 상기 제1 적층 구조물의 상기 양 표면에 각각 접하도록 하는 단계;
(g) 상기 제2 적층 구조물에서, 상기 제5 단위 적층체의 상기 제2 구리층과 상기 제6 단위 적층체의 상기 제2 구리층을 제거한 후에, 상기 제2 적층 구조물을 가공하여 상기 제1 회로 패턴층을 노출시키는 비아홀을 형성하고 상기 제1 구리층을 제거하는 단계;
(h) 상기 비아홀을 채우는 비아층, 및 상기 제5 단위 적층체 및 상기 제6 단위 적층체의 상기 프라이머층 상에 배치되는 제2 회로 패턴층을 형성하는 단계;
(i) 상기 제2 회로 패터층이 형성된 상기 제2 적층 구조물의 일 표면에 제6 프리프레그층 및 제7 단위 적층체를 적층하고 상기 제2 적층 구조물의 다른 표면에 제7 프리프레그층 및 제8 단위 적층체를 적층하여, 제3 적층 구조물을 형성하되, 상기 제7 단위 적층체 및 상기 제8 단위 적층체는 순차적으로 적층되는 프라이머층, 제1 구리층 및 제2 구리층을 각각 포함하도록 하는 단계;
(j) 상기 제3 적층 구조물로부터, 상기 제2 단위 적층체, 상기 제3 단위 적층체, 상기 제7 단위 적층체, 및 상기 제8 단위 적층체의 상기 제1 구리층 및 상기 제2 구리층을 서로 분리시켜, 상기 제1 회로 패턴층 및 상기 제2 회로 패턴층을 포함하는 제1 및 제2 회로기판 및 양쪽 표면에 상기 제2 구리층을 구비하는 베이스 기판을 형성하는 단계를 포함하는
인쇄회로기판의 제조 방법.
(a) preparing first to fourth unit stacks in which a primer layer, a first copper layer and a second copper layer are sequentially laminated;
(b) preparing first to third prepreg layers;
(c) a step of stacking the first unit laminate, the first prepreg layer, the second unit laminate, the second prepreg layer, the third unit laminate, the third prepreg layer, The first unit laminate and the second unit laminate are arranged so that the primer layers of the first unit laminate and the second unit laminate are in contact with both surfaces of the first prepreg layer, Placing the primer layers of the third unit laminate and the fourth unit laminate in contact with both surfaces of the third prepreg layer;
(d) removing the first copper layer and the second copper layer of the first unit laminate, the first copper layer and the second copper layer of the fourth unit laminate from the first laminate structure Exposing the primer layer of the first unit laminate and the primer layer of the fourth unit laminate;
(e) forming a first circuit pattern layer on the primer layer of the first unit laminate and the fourth unit laminate;
(f) a fourth prepreg layer and a fifth unit laminate are sequentially laminated on one surface of the first laminate structure on which the first circuit pattern layer is formed, and on the other surface of the first laminate structure, a fifth prepreg layer And the sixth unit laminate are sequentially laminated to form a second laminated structure, wherein the fifth unit laminate and the sixth unit laminate are formed by sequentially laminating a primer layer, a first copper layer, and a second copper layer, And allowing the primer layer of the fifth unit laminate and the sixth unit laminate to contact the both surfaces of the first laminate structure, respectively;
(g) In the second laminated structure, after removing the second copper layer of the fifth unit laminate and the second copper layer of the sixth unit laminate, the second laminate structure is processed to form the first Forming a via hole for exposing the circuit pattern layer and removing the first copper layer;
(h) forming a via layer filling the via hole, and a second circuit pattern layer disposed on the primer layer of the fifth unit laminate and the sixth unit laminate;
(i) a sixth prepreg layer and a seventh unit laminate are laminated on one surface of the second laminate structure on which the second circuit patter layer is formed, and a seventh prepreg layer and a sixth prepreg layer are laminated on the other surface of the second laminate structure, 8 unit laminate are laminated to form a third laminate structure, wherein the seventh unit laminate and the eighth unit laminate include a primer layer, a first copper layer and a second copper layer which are sequentially laminated ;
(j) removing the first copper layer and the second copper layer of the eighth unit laminate from the third laminate structure, wherein the second unit laminate, the third unit laminate, the seventh unit laminate, Forming first and second circuit boards including the first circuit pattern layer and the second circuit pattern layer and a base substrate having the second copper layer on both surfaces thereof,
A method of manufacturing a printed circuit board.
제15 항에 있어서,
상기 제1 회로 패턴층 및 상기 제2 회로 패턴층을 형성하는 단계는
세미어디티브법을 수행하여 도금 패턴층을 형성하는 단계를 포함하는
인쇄회로기판의 제조 방법.
16. The method of claim 15,
Wherein forming the first circuit pattern layer and the second circuit pattern layer comprises:
A step of forming a plating pattern layer by performing a semi-
A method of manufacturing a printed circuit board.
제15 항에 있어서,
상기 제3 적층 구조물을 분리하는 단계는
각각 외부로 노출된 상기 제7 및 제8 단위 적층체의 상기 제2 구리층을 제거하는 단계;
상기 제2 단위 적층체의 상기 제1 구리층 및 상기 제2 구리층을 서로 분리시키는 단계;및
상기 제3 단위 적층체의 상기 제1 구리층 및 상기 제2 구리층을 서로 분리시키는 단계를 포함하는
인쇄회로기판의 제조 방법.
16. The method of claim 15,
The step of separating the third stack structure
Removing the second copper layer of the seventh and eighth unit laminate exposed to the outside;
Separating the first copper layer and the second copper layer of the second unit laminate from each other;
And separating the first copper layer and the second copper layer of the third unit stack from each other
A method of manufacturing a printed circuit board.
제15 항에 있어서,
상기 제1 회로 기판은,
상기 제3 프리프레그층과 상기 제1 회로 패턴층 사이에 배치되는 상기 제4 단위 적층체의 상기 프라이머층을 구비하고 상기 제4 프리프레그층과 상기 제2 회로 패턴층 사이에 배치되는 상기 제5 단위 적층체의 상기 프라이머층을 구비하고,
상기 제2 회로 기판은,
상기 제1 프리프레그층과 상기 제1 회로 패턴층 사이에 배치되는 상기 제1 단위 적층체의 상기 프라이머층을 구비하고 상기 제5 프리프레그층과 상기 제2 회로 패턴층 사이에 배치되는 상기 제6 단위 적층체의 상기 프라이머층을 구비하는
인쇄회로기판의 제조 방법.
16. The method of claim 15,
Wherein the first circuit board includes:
And the primer layer of the fourth unit laminate disposed between the third prepreg layer and the first circuit pattern layer, and the fifth prepreg layer and the second circuit pattern layer, And the primer layer of the unit laminate,
Wherein the second circuit board comprises:
And the primer layer of the first unit laminate disposed between the first prepreg layer and the first circuit pattern layer, and the primer layer of the sixth prepreg layer and the second circuit pattern layer, And the primer layer of the unit laminate
A method of manufacturing a printed circuit board.
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