KR101441237B1 - Vanadium-based zinc oxide varistor and manufacturing method for the same - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a vanadium-based zinc oxide (ZnO-V2O5) varistor and to a new vanadium-based zinc oxide varistor and a manufacturing method thereof. The varistor obtains excellent non-linearity as well as stability during prolonged use by further adding an appropriate amount of bismuth oxide (Bi2O3) in the vanadium-based zinc oxide varistor (ZnO-V2O5-MnO2-Nb2O5) capable of co-firing with a silver (Ag) internal electrode.

Description

바나듐계 산화아연 바리스터 및 그 제조방법{Vanadium-based zinc oxide varistor and manufacturing method for the same}Technical Field The present invention relates to a vanadium-based zinc oxide varistor and a manufacturing method thereof,

본 발명은 바나듐계 산화아연(ZnO-V2O5) 바리스터에 관한 것으로서, 은(Ag) 내부전극과 동시소성이 가능한 바나듐계 산화아연 바리스터(ZnO-V2O5-MnO2-Nb2O5)에 적정량의 비스무스 산화물(Bi2O3)을 더 첨가함으로써, 우수한 비선형성을 확보하는 것은 물론 장시간 사용시에도 바리스터의 안정성을 확보할 수 있는 신규한 바나듐계 산화아연 바리스터 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a vanadium-based zinc oxide (ZnO-V 2 O 5 ) varistor, and more particularly, to a vanadium-based zinc oxide varistor (ZnO-V 2 O 5 -MnO 2 -Nb 2 O (Bi 2 O 3 ) is added to an amorphous zirconium oxide (ZnO) 5 in order to ensure excellent nonlinearity and to ensure the stability of the varistor even in prolonged use, and a method for producing the same will be.

과도 과전압(이를 테면, 서지)은 모든 전자 시스템, 특히 다이오드나 트랜지스터, 집적회로 등의 반도체 장비에 심각한 영향을 미치며, 결국에는 기능 불량이나 회로 파괴에 이르게 된다.Transient overvoltages (such as surges) can seriously affect all electronic systems, especially semiconductor devices such as diodes, transistors, and integrated circuits, resulting in malfunction or circuit breakdown.

사실상 시스템 구성에 있어서 내부적 또는 외부적인 과도 과전압을 제거한다는 것은 불가능하기 때문에, 장치와 시스템의 절연강도를 향상시키는 간단한 대체 방법으로 과도 과전압을 극복하는 것이 일반적이다.Since it is virtually impossible to eliminate internal or external transient overvoltages in a system configuration, it is common to overcome transient overvoltage as a simple alternative to improve the insulation strength of the device and system.

그렇지만, 태블릿 PC나 스마트폰, 디지털 카메라 등의 모바일 전자장치는 경박단소라는 소형화의 요구가 강하기 때문에 절연강도의 향상이라는 방법은 적절치 못하며, 따라서 시스템에 인가되는 전압에 반응하여 자동적으로 저항이 가변되는 바리스터 소자를 적용하는 다른 대안을 적용하는 것이 바람직하다. However, since mobile electronic devices such as a tablet PC, a smart phone, and a digital camera have a strong demand for miniaturization, the method of improving the insulation strength is not suitable. Therefore, the resistance is automatically changed in response to the voltage applied to the system It is desirable to apply other alternatives for applying the varistor element.

바리스터 소자는 전압에 따라 저항이 변화하는 비선형 저항체로서, 피보호기에 병렬로 결선되어 평상시에는 고임피던스를 나타내는 절연체로 동작하다가 과도 과전압의 침입시에는 저항이 급격히 감소함에 따라 마치 단락된 것과 같이 동작하여 과전압을 방전시킴으로써 피보호기를 보호하는 소자를 말한다. The varistor element is a nonlinear resistor whose resistance varies according to the voltage. The varistor element is connected in parallel with the protection device and operates as an insulator which exhibits high impedance in normal times. When the transient overvoltage is invaded, the resistance is rapidly reduced, And means for protecting the subject to be protected by discharging the overvoltage.

특히 근래에는 산화아연(ZnO)에 비선형성을 부여하고 안정성을 향상시키는 몇몇 부 첨가제를 혼합하여 소결제조되는 산화아연 바리스터가 각광받고 있으며, 현재의 거의 모든 상업화된 산화아연 바리스터는 비선형성 유발산화물의 종류에 따라 비스무스계(ZnO-Bi2O3) 바리스터 아니면 프라세오디뮴계(ZnO-Pr6O11) 바리스터라 해도 과언이 아니다. In recent years, zinc oxide varistors, which are sintered by mixing non-linearity with zinc oxide (ZnO) and enhancing stability, are in the spotlight. Almost all commercially available zinc oxide varistors have a nonlinearity- Depending on the type, it is not an exaggeration to say that it is a bismuth-based (ZnO-Bi 2 O 3 ) varistor or a praseodymium-based (ZnO-Pr 6 O 11 ) varistor.

그렇지만 이 두 종류의 산화아연 바리스터는 바리스터 소자로서의 성능 자체는 우수하지만 한 가지 단점이 있는데, 다층 칩 바리스터로 적층 구성할 때 내부전극으로 은(Ag)을 적용하여 동시소성할 수 없다는 것이다. 이는 비스무스계 바리스터와 프라세오디뮴계 바리스터는 은(Ag)의 용융점인 961℃를 초과하는 1000℃ 이상의 온도에서 소결되어야 한다는 공정상의 한계 때문이며, 이 때문에 은보다 훨씬 고가인 팔라듐(Pd)이나 백금(Pt)을 내부전극의 소재로 사용해야만 한다는 한계를 가진다.However, these two kinds of zinc oxide varistors have excellent performance as a varistor element, but they have one disadvantage. That is, when the multilayer chip varistor is laminated, silver (Ag) can not be applied to the internal electrodes. This is because of the limitations of the process that the bismuth-based varistor and the praseodymium-based varistor must be sintered at a temperature of 1000 ° C. or higher, which is higher than the melting point of the silver (Ag), which is 961 ° C. Thus, palladium (Pd) Is used as the material of the internal electrode.

근래에는 이에 대한 대안으로 바나듐계(ZnO-V2O5) 바리스터가 주목을 받고 있는데, 바나듐 산화물의 용융점은 690℃에 불과하기 때문에 900℃ 근방의 상대적으로 낮은 온도에서 액상 소결이 가능하고, 이에 따라 다층 칩 바리스터의 내부전극으로 팔라듐(Pd)이나 백금(Pt) 등의 고가의 금속보다 저렴한 은(Ag)을 사용하여 동시소성을 할 수 있기 때문이다.In recent years, a vanadium-based (ZnO-V 2 O 5 ) varistor has attracted attention as an alternative to this. Since vanadium oxide has a melting point of only 690 ° C., liquid phase sintering is possible at a relatively low temperature near 900 ° C. This is because simultaneous firing can be performed using silver (Ag), which is cheaper than expensive metals such as palladium (Pd) and platinum (Pt), as internal electrodes of multilayer chip varistors.

다만 현재까지는 바나듐계 산화아연 바리스터에 대한 연구는 초기 단계에 머물러 있고, 보고된 바에 의하면 높은 비선형성을 얻기 위해서는 적절한 첨가제가 요구된다고 알려져 있고 그 첨가제로서 MnO2 및 Nb2O5 정도가 소개되어 있을 뿐이기 때문에 높은 비선형성과 안정성을 확보할 수 있는 조성과 소결온도 등에 대한 심층적인 연구가 아직 미흡한 수준이다.However, studies on vanadium-based zinc oxide varistors have remained at an early stage, and it is reported that appropriate additives are required to obtain high nonlinearity, and MnO 2 and Nb 2 O 5 have been introduced as additives . Therefore, in-depth study on the composition and sintering temperature that can secure high nonlinearity and stability is still insufficient.

본 발명은 현재까지 보고된 바나듐계 산화아연 바리스터과는 첨가제의 조성을 달리하는 새로운 바나듐계 산화아연 바리스터로서 비선형성과 안정성이 더욱 향상된 바나듐계 산화아연 바리스터 및 그 제조방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.The present invention aims to provide a vanadium-based zinc oxide varistor, which is a new vanadium-based zinc oxide varistor different in composition from the vanadium-based zinc oxide varistor as reported so far, and a method for producing the same.

본 발명에 따른 바나듐계 산화아연 바리스터는 산화아연(ZnO), 바나듐 산화물(V2O5)과 망간 산화물(MnO2), 니오븀 산화물(Nb2O5)을 포함하는 바나듐계 산화아연 바리스터에 비스무스 산화물(Bi2O3)을 첨가하여 이루어진 것을 특징으로 한다.The vanadium-based zinc oxide varistor according to the present invention is a vanadium-based zinc oxide varistor comprising zinc oxide (ZnO), vanadium oxide (V 2 O 5 ), manganese oxide (MnO 2 ) and niobium oxide (Nb 2 O 5 ) Oxide (Bi 2 O 3 ) is added.

본 발명의 실시예에서, 상기 비스무스 산화물은 0.1 mol% 이하의 함량으로 첨가된다.In an embodiment of the present invention, the bismuth oxide is added in an amount of 0.1 mol% or less.

더욱 바람직하게는 상기 비스무스 산화물은 0.025 mol% 이하의 함량으로 첨가될 수 있다.More preferably, the bismuth oxide may be added in an amount of 0.025 mol% or less.

다른 한편으로 상기 비스무스 산화물은 비선형 계수(α)가 52를 초과하도록 하는 함량으로 첨가될 수 있다.On the other hand, the bismuth oxide may be added in such a content that the nonlinear coefficient (?) Exceeds 52.

또한, 상기 비스무스 산화물은 0.85E1mA/85℃/24h 조건(여기서, E1mA는 전류밀도가 1.0 mA/㎠일 때의 전압)에서 수행된 DC 가속노화 스트레스 시험 이후에도 비선형 계수(α)가 20을 초과하도록 하는 함량으로 첨가될 수 있다.Further, the bismuth oxide has a nonlinear coefficient (alpha) of 20 or more after the DC accelerated aging stress test performed under the conditions of 0.85E 1mA / 85 ° C / 24h (where E 1mA is the voltage when the current density is 1.0 mA / By weight based on the total weight of the composition.

그리고, 본 발명에 따른 바나듐계 산화아연 바리스터의 제조 방법은 산화아연(ZnO), 바나듐 산화물(V2O5), 망간 산화물(MnO2), 니오븀 산화물(Nb2O5) 및 비스무스 산화물(Bi2O3)을 칭량하는 제1 단계;와, 상기 칭량된 조성물을 아세톤과 섞어 볼밀링으로 혼합하고, 이후 폴리비닐 부틸알(PVB) 바인더와 아세톤과 혼합한 후 건조하는 제2 단계;와, 상기 건조된 파우더 조성물을 원하는 모양의 성형체로 만들고 소결한 뒤, 상기의 소결체의 양면을 연마하는 제3 단계; 및 상기 연마된 소결체에 은 전극을 도포하고, 패키지 처리를 하는 제4 단계;를 포함한다.The method for producing the vanadium-based zinc oxide varistor according to the present invention is characterized in that the zinc oxide (ZnO), vanadium oxide (V 2 O 5 ), manganese oxide (MnO 2 ), niobium oxide (Nb 2 O 5 ) and bismuth oxide 2 O 3) a first step of weighing; and, after mixing the weighed compositions as ball milling to mix with acetone, and after mixing with polyvinyl butyral (PVB) binder and acetone, a second step of drying; and, A third step of making the dried powder composition into a desired shaped body and sintering and then polishing both surfaces of the sintered body; And a fourth step of applying a silver electrode to the polished sintered body and performing a package treatment.

이러한 본 발명의 바나듐계 산화아연 바리스터의 제조 방법에서, 상기 비스무스 산화물은 0.1 mol% 이하의 함량으로 첨가된다.In the method for producing the vanadium-based zinc oxide varistor of the present invention, the bismuth oxide is added in an amount of 0.1 mol% or less.

더욱 바람직하게는 상기 비스무스 산화물은 0.025 mol% 이하의 함량으로 첨가될 수 있다.More preferably, the bismuth oxide may be added in an amount of 0.025 mol% or less.

다른 한편으로 상기 비스무스 산화물은 비선형 계수(α)가 52를 초과하도록 하는 함량으로 첨가될 수 있다.On the other hand, the bismuth oxide may be added in such a content that the nonlinear coefficient (?) Exceeds 52.

또한, 상기 비스무스 산화물은 0.85E1mA/85℃/24h 조건(여기서, E1mA는 전류밀도가 1.0 mA/㎠일 때의 전압)에서 수행된 DC 가속노화 스트레스 시험 이후에도 비선형 계수(α)가 20을 초과하도록 하는 함량으로 첨가될 수 있다.Further, the bismuth oxide has a nonlinear coefficient (alpha) of 20 or more after the DC accelerated aging stress test performed under the conditions of 0.85E 1mA / 85 ° C / 24h (where E 1mA is the voltage when the current density is 1.0 mA / By weight based on the total weight of the composition.

본 발명에 따른 바나듐계 산화아연 바리스터는 비스무스 산화물(Bi2O3)의 함량을 적절히 조절함으로써, 비스무스 산화물이 첨가되지 않았을 경우와 비교해 보아도 이와 동등한 수준의 스트레스 내성을 유지하면서도 과도 과전압이 작용했을 때의 바리스터 성능의 지표라 할 수 있는 비선형 계수(α)는 더욱 향상된 매우 바람직한 성능 향상을 이룰 수 있다.The vanadium-based zinc oxide varistor according to the present invention can be obtained by appropriately adjusting the content of bismuth oxide (Bi 2 O 3 ), and when compared with the case where no bismuth oxide is added, when the transient overvoltage is applied while maintaining the same level of stress tolerance The nonlinear coefficient (?), Which is an index of the varistor performance of the nonlinear device, can achieve a further improved and highly desirable performance.

도 1은 비스무스 산화물(Bi2O3)의 함량을 달리하는 바나듐계 산화아연 바리스터의 5가지 시편에 대한 전사주사현미경 사진.
도 2는 비스무스 산화물(Bi2O3)의 함량 변화에 따른 XRD 패턴.
도 3은 부 결정상에 대한 EDS 분석 결과를 도시한 도면.
도 4는 비스무스 산화물(Bi2O3)의 함량 변화에 따른 5개 시편에 대한 전압-전류(E-J) 특성을 도시한 도면.
도 5는 비스무스 산화물(Bi2O3)의 함량 변화에 따른 항복전계, 비선형 계수, 누설전류 밀도의 변화를 도시한 도면.
도 6은 0.85E1mA/85℃/24h 조건의 DC 가속노화 스트레스 시험을 수행하는 동안의 누설전류(IL)의 거동을 도시한 도면.
도 7은 Bi2O3의 함량을 달리하는 5종류의 시편 (a)∼(e)에 대한 DC 가속노화 스트레스 전후의 전압-전류(E-J) 특성을 도시한 도면.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a transcriptional scanning micrograph of five specimens of a vanadium-based zinc oxide varistor with different contents of bismuth oxide (Bi 2 O 3 ).
2 is an XRD pattern according to a change in the content of bismuth oxide (Bi 2 O 3 ).
Figure 3 shows the results of an EDS analysis of the crystallite phase.
4 is a graph showing voltage-current (EJ) characteristics for five specimens according to changes in the content of bismuth oxide (Bi 2 O 3 );
5 is a graph showing changes in breakdown field, nonlinear coefficient, and leakage current density with changes in the content of bismuth oxide (Bi 2 O 3 );
6 shows the behavior of the leakage current (I L ) during the DC accelerated aging stress test under the conditions of 0.85E 1mA / 85 ° C / 24h.
7 is a graph showing voltage-current (EJ) characteristics before and after DC accelerated aging stress for five kinds of specimens (a) to (e) with different contents of Bi 2 O 3 .

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

먼저, 본 발명에 따른 바나듐계 산화아연 바리스터를 준비하는 단계 및 제조된 바나듐계 산화아연 바리스터의 전기적, 구조적 특성을 평가하는 과정을 상세히 설명한다.
First, a process for preparing a vanadium-based zinc oxide varistor according to the present invention and a process for evaluating the electrical and structural characteristics of the vanadium-based zinc oxide varistor will be described in detail.

시편의 제작Production of specimen

본 발명에 따른 바나듐계 산화아연 바리스터는 ZnO-V2O5-MnO2-Nb2O5-Bi2O3의 조성을 가진 것인데, 바나듐 산화물(V2O5)과 망간 산화물(MnO2) 및 니오븀 산화물(Nb2O5)의 조성비는 고정하고 나머지 성분인 주성분의 산화아연(ZnO)과 미량 첨가되는 비스무스 산화물(Bi2O3)의 함량을 변화시키며 시편을 제작하였다.The vanadium oxide zinc oxide varistor according to the present invention has a composition of ZnO-V 2 O 5 -MnO 2 -Nb 2 O 5 -Bi 2 O 3 , and vanadium oxide (V 2 O 5 ), manganese oxide (MnO 2 ) The composition ratio of niobium oxide (Nb 2 O 5 ) was fixed and the contents of zinc oxide (ZnO) and minor amount of bismuth oxide (Bi 2 O 3 ) were changed.

가장 많이 첨가되는 망간 산화물인 MnO2는 1.0∼3.0 mol%, 바나듐 산화물인 V2O5는 0.2∼0.8 mol%, 니오븀 산화물인 Nb2O5는 0.05∼0.3 mol% 범위에서 첨가될 수 있으며, 비스무스 산화물인 Bi2O3의 함량은 0.0, 0.025. 0.05, 0.1, 0.25 mol%로 조절되었다. 시편 제작시 피할 수 없는 불순물을 제외한 나머지 성분은 모두 ZnO로 이루어진다.Manganese oxide, MnO 2 most commonly added is 1.0~3.0 mol%, the vanadium oxide is V 2 O 5 is 0.2~0.8 mol%, the niobium oxide is Nb 2 O 5 may be added in the range of 0.05~0.3 mol%, The content of Bi 2 O 3 , which is a bismuth oxide, is 0.0, 0.025. 0.05, 0.1 and 0.25 mol%, respectively. Except for impurities that can not be avoided in the preparation of specimens, all of the components are made of ZnO.

실제 시편 제작에 사용된 조성은 (97.4-X) mol%의 ZnO, 0.5 mol%의 V2O5, 2.0 mol%의 MnO2, 0.1 mol%의 Nb2O5, X mol%의 Bi2O3 (X = 0.0, 0.025. 0.05, 0.1, 0.25)로 이루어졌다.The composition used in the preparation of the actual specimen was ZnO of 97.4-X mol%, V 2 O 5 of 0.5 mol%, MnO 2 of 2.0 mol%, Nb 2 O 5 of 0.1 mol%, Bi 2 O of X mol% 3 (X = 0.0, 0.025, 0.05, 0.1, 0.25).

각 성분은 순도 99.9%를 초과하는 시약 수준의 원재료를 사용하였으며, 5가지 시편의 각 조성에 맞추어 전자저울로 10㎍의 오차범위까지 칭량하였다. 그리고, 폴리프로필렌 용기 안에 지르코니아 볼, 아세톤 및 칭량된 시료를 넣고, 24시간 동안 볼밀링으로 혼합하였다.Each ingredient was made of reagent grade raw materials with a purity of more than 99.9%, and weighed to an error range of 10 μg with electronic scales according to each composition of 5 specimens. Then, zirconia balls, acetone and weighed samples were put in a polypropylene container and mixed by ball milling for 24 hours.

혼합물 슬러리는 0.8 중량%의 폴리비닐 부틸알(PVB) 바인더와 아세톤이 담긴 비커에 함께 넣어 자성 혼합 막대(magnetic stir bar)로 혼합하였고, 이를 건조한 후 100-메쉬체로 조립하였다.The mixture slurry was mixed with a 0.8 wt% polyvinyl butyral (PVB) binder and a beaker containing acetone and mixed with a magnetic stir bar, which was dried and assembled with a 100-mesh sieve.

위의 과정으로 준비된 파우더는 100MPa 단축(uniaxial) 압력에서 직경이 10mm, 두께가 1.5mm인 디스크 형상으로 성형한 후, 공기 중에서 900℃의 온도에서 3시간 동안 소결하고, 소결이 완료되면 실온까지 노냉하였다. 가열과 냉각은 각각 4℃/min의 온도 변화율로 처리하였다.The powder prepared in the above process was molded into a disk shape having a diameter of 10 mm and a thickness of 1.5 mm under a uniaxial pressure of 100 MPa and then sintered at a temperature of 900 캜 for 3 hours in the air. Respectively. Heating and cooling were performed at a rate of 4 ° C / min.

최종적인 시편은 직경은 8mm, 두께는 1.0mm가 되도록 랩핑 및 폴리싱 가공을 하였고, 가공된 각 시편의 양면에 직경 5mm의 은 전극을 550℃에서 10분간 열처리하여 형성하였다. The final specimens were lapped and polished to a diameter of 8 mm and a thickness of 1.0 mm. Silver electrodes with a diameter of 5 mm were heat-treated at 550 ° C for 10 minutes on both sides of each specimen.

마지막으로 양면의 은 전극에 리드선을 납땜하고, 열가소성 수지 분말 안에 침지하여 패키징을 함으로써 비스무스 산화물(Bi2O3)의 함량을 달리하는 5가지 종류의 시편을 모두 완성하였다.
Lastly, lead wires were soldered on both silver electrodes, immersed in thermoplastic resin powder, and packaged to complete five different specimens with different contents of bismuth oxide (Bi 2 O 3 ).

미세구조 특성Microstructure characteristics

위의 과정으로 준비된 시편의 일면을 SiC 연마지로 래핑하고 0.3㎛ Al2O3 분말로 경면가공한 후, 25℃에서 25초간 1HClO4:1000H2O 용액에서 화학적 에칭을 하였으며, 시편 표면의 미세구조 특성은 주사전자현미경(FESEM, Quanta 200, FEI, Brno, Czech)으로 관찰하였다.The specimens prepared in the above procedure were wrapped with SiC abrasive paper, mirror-polished with 0.3 μm Al 2 O 3 powder, chemically etched in a 1 HClO 4 : 1000 H 2 O solution for 25 seconds at 25 ° C., The characteristics were observed with a scanning electron microscope (FESEM, Quanta 200, FEI, Brno, Czech).

평균 결정립 크기(d)는 선형교차기법에 의한 식인 d=1.56L/MN(여기서, L은 현미경 사진상의 임의의 테스트 라인, M은 현미경 사진의 배율, N은 테스트 라인과의 유효교차수)로부터 구하였다.The average grain size (d) is calculated from the linear crossing equation d = 1.56L / MN, where L is any test line on the microscope photograph, M is the magnification of the microscope and N is the number of effective crossings with the test line Respectively.

그리고, 부 결정상의 성분분석은 SEM에 부착된 EDS(Energy Dispersion X-ray Spectroscope)를 이용해 수행하였으며, 결정질상은 니켈로 필터링된 CuKα 방사선을 이용하는 XRD(X-ray Diffractometer, X'pert-Pro MPD, Panalytical, Almelo, the Netherland)로 확인하였다.The crystalline phase was analyzed by XDD (X-ray diffractometer, X'pert-Pro MPD, XRD) using CuKα radiation filtered with nickel, Panalytical, Almelo, the Netherland).

소결밀도(ρ)는 전자저울(AG 245, Mettler Toledo International Inc., Greifensee, Switzerland)에 부착된 밀도측정용 키트(238490)를 이용해 측정하였다.The sintered density (rho) was measured using a density measuring kit (238490) attached to an electronic balance (AG 245, Mettler Toledo International Inc., Greifensee, Switzerland).

도 1은 비스무스 산화물(Bi2O3)의 함량을 달리하는 바나듐계 산화아연 바리스터의 5가지 시편에 대한 전사주사현미경 사진인데, 모든 종류의 시편 표면에서 입자와 입계의 몰폴로지(morphology)가 뚜렷하게 나타난 것을 확인할 수 있다.FIG. 1 is a transcriptional scanning micrograph of five specimens of vanadium-based zinc oxide varistors differing in the content of bismuth oxide (Bi 2 O 3 ). The morphology of grains and grain boundaries on all types of specimen surfaces It can be seen clearly.

평균 결정립 크기(d)는 Bi2O3의 함량이 증가함에 따라 5.6㎛에서 7.2㎛로 상당히 크게 증가하였는데, 이는 Bi2O3가 입자 성장의 인핸서(enhancer)로 작용한 것이라 판단된다.The average grain size (d) increased significantly from 5.6 ㎛ to 7.2 ㎛ as Bi 2 O 3 content increased, suggesting that Bi 2 O 3 acted as an enhancer of grain growth.

소결밀도(ρ)는 Bi2O3의 함량이 0.05 mol%까지 증가함에 따라 5.51g/cm3에서 5.37g/cm3로 감소하였는데, Bi2O3의 함량을 0.25 mol%까지 더욱 증가시키면 5.40g/cm3로 미소 증가하였다(산화아연의 이론적 밀도는 5.78g/cm3). 전체적으로 본다면 Bi2O3의 첨가는 소결밀도의 감소를 가져오는데, 이는 Bi2O3와 연관된 휘발성 액상 보조제인 BiVO4의 영향에 기인하는 것으로 여겨진다. 평균 결정립 크기(d)나 소결밀도(ρ)와 같은 미세구조적 파라미터의 상세한 값은 후술할 전기적 특성의 각 파라미터와 함께 표 1에 정리하였다.Sintered density (ρ) are were decreased as the content of Bi 2 O 3 increased to 0.05 mol% at 5.51g / cm 3 to 5.37g / cm 3, even when increasing the content of Bi 2 O 3 to 0.25 mol% 5.40 g / cm < 3 > (theoretical density of zinc oxide is 5.78 g / cm < 3 >). Overall, the addition of Bi 2 O 3 leads to a reduction in sintering density, which is believed to be due to the influence of BiVO 4 , a volatile liquid adjuvant associated with Bi 2 O 3 . The detailed values of the microstructural parameters such as the average grain size (d) and the sintered density (rho) are summarized in Table 1 together with the respective parameters of the electrical characteristics to be described later.

Bi2O3의 함량에 따른 XRD 패턴은 도 2에 나타나 있다. Bi2O3가 첨가되지 않은 시편 (a)의 경우에는 육방정계 산화아연의 주 결정상과 함께 Zn3(VO4)2, ZnV2O4, V2O5의 몇몇 부 결정상 및 망간-농후상(Mn-rich phase)이 존재하고 있음을 보여주고 있다. 그리고, Bi2O3가 첨가된 시편 (b)∼(e)는 여기에 덧붙여 BiVO4와 같은 또 다른 부 결정상이 나타나 있다. The XRD pattern according to the content of Bi 2 O 3 is shown in FIG. In the case of Bi 2 O 3 is not added to the specimen (a), Zn 3 with a main crystal phase of the hexagonal zinc oxide (VO 4) 2, ZnV 2 O 4, V 2 O 5 in some portions crystal phase and a manganese-rich phase (Mn-rich phase). In addition, specimens (b) to (e) to which Bi 2 O 3 is added show another additional crystal phase such as BiVO 4 .

상기 부 결정상의 존재는 EDS 분석 결과를 도시한 도 3에 의해서도 뒷받침된다. 도 3의 EDS 분석 결과에 의하면 니오븀(Nb) 및 바나듐(V)을 포함하는 망간-농후상과, 니오븀(Nb)을 포함하는 Bi2O3가 및 BiVO4의 협동에 의해 생성되는 다른 몇몇 부 결정상의 존재가 확인된다.
The presence of the sub crystalline phase is also supported by FIG. 3 showing the results of the EDS analysis. According to the EDS analysis of Figure 3 niobium (Nb) and vanadium, manganese, including (V) - rich phase, and some other part is created by the cooperation of Bi 2 O 3 is and BiVO 4 containing niobium (Nb) The presence of a crystal phase is confirmed.

전기적 특성 측정Electrical characteristic measurement

각 시편의 전기적 특성은 전압-전류(E-J) 특성을 통해 평가되는데, 고전압 소스측정 유니트(High Voltage Source-Measure Unit: Keithley 237, Keithley Instruments Inc., Cleveland, OH, USA)를 사용하여 측정하였다.The electrical properties of each specimen were evaluated using voltage-current (E-J) characteristics, which were measured using a High Voltage Source-Measure Unit (Keithley 237, Keithley Instruments Inc., Cleveland, OH, USA).

여기서, 항복전계(E1mA)는 전류밀도가 1.0 mA/㎠일 때의 전압으로, 누설전류밀도(JL)는 0.80 E1mA에서의 전류로 정의되었다.Here, the breakdown field (E 1 mA ) was defined as the voltage at a current density of 1.0 mA / cm 2 and the leakage current density (J L ) at a current of 0.80 E 1 mA .

그리고, 비선형 계수(α)는 경험식 J=K·Eα(여기서, J는 전류밀도, E는 인가전계, K는 상수)로 정의되었으며, 하기의 식(1)로 계산된다.The nonlinear coefficient α is defined by the empirical formula J = K · E α where J is the current density, E is the applied electric field, and K is a constant, and is calculated by the following equation (1).

α= (logJ2-logJ1)/(logE2-logE1) ....................... 식(1) α = (logJ 2 -logJ 1) / (logE 2 -logE 1) ....................... Eq. (1)

(여기서, J1=1.0 mA/cm2, J2=10 mA/cm2, E1 및 E2는 각각 J1과 J2에 대응하는 전계)(Where J 1 = 1.0 mA / cm 2 , J 2 = 10 mA / cm 2 , E 1 and E 2 are electric fields corresponding to J 1 and J 2 , respectively)

도 4는 Bi2O3의 함량 변화에 따른 5개 시편에 대한 전압-전류(E-J) 특성을 도시한 것이다. FIG. 4 shows voltage-current (EJ) characteristics for five specimens according to changes in the content of Bi 2 O 3 .

바리스터의 전압-전류(E-J) 특성 곡선은 2개의 명확히 구별되는 영역으로 나뉜다. 하나는 항복전계 이전의 극히 높은 임피던스의 저전류 영역(오프 상태)이고, 다른 하나는 항복전계 이후의 극히 낮은 임피던스의 확연한 고전류 영역(온 상태)인데, 두 영역 사이의 기울기의 변화(knee)가 가파를수록 바리스터의 특성이 더욱 우수한 것임을 나타낸다.The voltage-current (E-J) characteristic curve of the varistor is divided into two distinct regions. One is the extremely low impedance (low state) region of the extremely high impedance before the breakdown field, and the other is the remarkably high current region (the on state) of the extremely low impedance after the breakdown field. Sharpness indicates that the characteristics of the varistor are even better.

Bi2O3의 함량이 0.025 mol%인 시편에서 가장 우수한 바리스터 효과가 나타났으며, 각 시편의 전압-전류(E-J) 특성 파라미터fmf 아래의 표 1에 미세구조적 파라미터와 함께 정리하였다.
The best varistor effect was obtained for the specimen with a Bi 2 O 3 content of 0.025 mol% and the voltage-current (EJ) characteristic parameter fmf of each specimen was summarized together with the microstructural parameters in Table 1 below.

본 발명의 5개 시편에 대한 미세구조 및 전압-전류(E-J) 특성 파라미터Microstructure and voltage-current (E-J) characteristic parameters for the five specimens of the present invention Bi2O3 함량
(mol%)
Bi 2 O 3 content
(mol%)
d
(㎛)
d
(탆)
ρ
(g/㎤)
ρ
(g / cm3)
E1mA
(V/㎝)
E 1mA
(V / cm)
vgb
(V/gb)
v gb
(V / gb)
αalpha JL
(㎂/㎠)
J L
(㎂ / ㎠)
0     0 5.65.6 5.515.51 48744874 2.72.7 51.051.0 56.856.8 0.025     0.025 5.95.9 5.435.43 43554355 2.62.6 60.060.0 20.020.0 0.05     0.05 6.36.3 5.375.37 39173917 2.52.5 51.151.1 41.941.9 0.1     0.1 6.96.9 5.395.39 29722972 2.02.0 38.938.9 55.455.4 0.25     0.25 7.27.2 5.405.40 22052205 1.61.6 31.231.2 45.345.3

도 5(a)는 Bi2O3의 함량에 대한 항복전계(E1mA)의 함수 관계를 도시한 것이다. 항복전계(E1mA)는 Bi2O3의 함량이 증가함에 따라 4874 V/㎝에서 2205 V/㎝까지 감소하였다. 5 (a) shows the functional relationship of the breakdown field (E 1 mA ) to the Bi 2 O 3 content. The breakdown field (E 1mA ) decreased from 4874 V / ㎝ to 2205 V / ㎝ as Bi 2 O 3 content increased.

Bi2O3의 함량 증가에 따른 항복전계(E1mA)의 감소는 E1mA=vgb/d(여기서, d는 결정립의 크기, vgb는 입계당 항복전압)의 수식으로부터 설명될 수 있다. 위의 식(E1mA=vgb/d)에서 알 수 있듯이, 평균 결정립의 크기(d)는 입계의 개수 감소를 가져오기 때문에 입계당 항복전압(vgb)이 일정하더라도 항복전계(E1mA)를 떨어뜨리게 된다. 상기 표 1을 참조하면, Bi2O3의 함량 증가에 따른 항복전계(E1mA)의 감소는 평균 결정립의 크기(d)의 증가는 물론 입계당 항복전압(vgb)의 감소에 기인하는 것임을 알 수 있다.The reduction of the breakdown field (E 1mA ) with increasing Bi 2 O 3 content can be explained from the equation E 1mA = v gb / d, where d is the grain size and v gb is the breakdown voltage per grain. The above equation (E 1mA = v gb / d ) As the size (d) of the average crystal grain, even if the mouth gyedang breakdown voltage (v gb) predetermined by taking the number of decrease in the grain boundary breakdown field (E 1mA) . Referring to Table 1, the decrease in the breakdown field (E 1mA ) with increasing Bi 2 O 3 content is due to the increase in the average grain size (d) as well as the decrease in breakdown voltage (v gb ) per grain Able to know.

바리스터의 비선형성은 항복영역의 접선 기울기를 나타내는 비선형 계수(α)의 값이 클수록 우수한 것인데, Bi2O3의 함량에 대한 비선형 계수(α)의 함수 관계는 도 5(b)에 나타나 있다.The nonlinearity of the varistor is better as the value of the nonlinear coefficient (α) representing the tangential slope of the yield region is larger, and the functional relationship of the nonlinear coefficient (α) to the content of Bi 2 O 3 is shown in FIG. 5 (b).

도 5(b)를 참조하면, Bi2O3의 함량이 0.025 mol%로 증가하면 비선형 계수(α)는 51.0에서 60.0까지 증가하지만, Bi2O3의 함량이 더욱 늘어나 0.25 mol%에 이르게 되면 비선형 계수(α)는 31.2까지 떨어지고 있다. 이와 같이, Bi2O3의 함량이 0.025 mol%를 초과하였을 때 비선형 계수(α)가 떨어지는 것은 입계에서의 전자상태의 급격한 변화에 기인하는 포텐셜 장벽 높이(potential barrier height)의 감소 때문인 것으로 여겨진다.5 (b), when the content of Bi 2 O 3 is increased to 0.025 mol%, the nonlinear coefficient increases from 51.0 to 60.0, but when the content of Bi 2 O 3 is further increased to 0.25 mol% The nonlinear coefficient (α) is decreasing to 31.2. It is considered that the reason why the nonlinear coefficient (?) Decreases when the Bi 2 O 3 content exceeds 0.025 mol% is due to the decrease of the potential barrier height due to the abrupt change of the electron state at the grain boundaries.

그리고, Bi2O3의 함량과 누설전류 밀도(JL)의 관계는 도 5(c)에 도시되어 있다. 누설전류 밀도는 Bi2O3의 함량 변화에 따라 진폭을 나타내는데, 0.025 mol%의 Bi2O3가 첨가된 시편은 이제까지 보고된 바나듐계 산화아연 바리스터 중에서도 매우 낮은 누설전류 밀도(JL) 수준인 20 ㎂/㎠의 값을 가진다. 또한, 이런 낮은 누설전류 밀도(JL)는 종래의 비스무스계 산화아연 바리스터와 프라세오디뮴계 산하아연 바리스터에 필적하는 수준이다.The relationship between the content of Bi 2 O 3 and the leakage current density (J L ) is shown in FIG. 5 (c). The leakage current density is the represent the amplitude, 0.025 mol% of Bi 2 O 3 is the specimen (J L) is very low leakage current density, among ever reported vanadium zinc oxide varistor addition levels depending on the contents in the Bi 2 O 3 20 [micro] A / cm < 2 >. In addition, such low leakage current density (J L ) is comparable to conventional bismuth-based zinc oxide varistors and praseodymium-based zinc varistors.

따라서, 본 발명의 바나듐계 산화아연 바리스터는 비스무스 산화물(Bi2O3)의 함량을 적절히 조절함으로써 낮은 누설전류 밀도는 물론 높은 비선형성까지도 구현할 수 있음을 알 수 있다.
Therefore, it can be seen that the vanadium oxide zinc oxide varistor of the present invention can realize low leakage current density as well as high nonlinearity by appropriately controlling the content of bismuth oxide (Bi 2 O 3 ).

DCDC 가속노화 스트레스 측정 Accelerated aging stress measurement

바리스터의 비선형성 및 전기적 특성의 안정성을 평가하기 위해 스트레스 인가전 전압-전류(E-J) 특성을 각 시편에 대해 측정한 후, 0.85E1mA/85℃/24h 조건에서 DC 가속노화 스트레스 시험을 수행한 후의 전압-전류(E-J) 특성을 상온에서 측정하여 상호 비교하였다.In order to evaluate the stability of the nonlinearity and electrical characteristics of the varistor, the voltage-current (EJ) characteristics before stress application were measured for each specimen and DC accelerated aging stress test was performed at 0.85E 1mA / 85 ° C / 24h (EJ) characteristics were measured at room temperature and compared with each other.

누설전류 밀도(JL)는 고전압 소스측정 유니트(Keithley 237, Keithley Instruments Inc., Cleveland, OH, USA)를 이용하여 스트레스를 부여하는 동안 1분 간격으로 측정되었다.The leakage current density (J L ) was measured at 1 minute intervals during stress application using a high voltage source measurement unit (Keithley 237, Keithley Instruments Inc., Cleveland, OH, USA).

스트레스를 인가하는 동안 스트레스 시간에 따른 누설전류 밀도(JL)의 변화인 열화율 계수(degradation rate coefficient)(KT)는 IL = IL0 + KT·t1 /2(여기서, IL은 시간 t에서의 누설전류, IL0는 t=0에서의 누설전류)로 정의되는 식을 이용하여 계산하였다.The degradation rate coefficient changes in the leakage current density (J L) of the stress time while applying a stress (degradation rate coefficient) (K T ) is I L = I L0 + K T · t 1/2 ( Here, I L Is the leakage current at time t, and I L0 is the leakage current at t = 0).

도 6은 0.85E1mA/85℃/24h 조건의 DC 가속노화 스트레스 시험을 수행하는 동안의 누설전류(IL)의 거동을 도시한 도면이다. 도 6에 따르면, Bi2O3의 함량에 대응하여 각 시편은 스트레스 인가 시간에 따라 각기 다른 누설전류(IL) 거동을 나타내고 있다.6 is a graph showing the behavior of the leakage current (I L ) during the DC accelerated aging stress test under the condition of 0.85E 1mA / 85 ° C / 24h. According to FIG. 6, corresponding to the content of Bi 2 O 3 , each specimen shows different leakage current (I L ) behavior depending on stress application time.

Bi2O3가 첨가되지 않은 시편 (a)는 스트레스 인가 시간에 따라 점차 누설전류가 어느 값으로 포화되는 거동을 나타낸다. 이에 반하여, Bi2O3가 첨가된 시편 (b)∼(e)는 스트레스 인가 시간이 늘어남에 따라 누설전류가 점점 증가하는 거동을 나타내고 있다. 이러한 양상은 누설전류의 정 크리프(positive creep)라고 칭해진다.The specimen (a) without Bi 2 O 3 shows a behavior in which the leakage current gradually saturates to a certain value according to the stress application time. On the other hand, the specimens (b) to (e) to which Bi 2 O 3 was added show a behavior in which the leakage current gradually increases as the stress application time increases. This aspect is referred to as a positive creep of the leakage current.

누설전류의 정 크리프 정도는 Bi2O3의 첨가량이 증가할수록 점점 더 가파르게 변하고 있으며, 따라서 Bi2O3의 함량 증가는 점차적으로 바리스터의 안정성을 약화시킨다고 할 수 있다.As the amount of Bi 2 O 3 added increases, the amount of positive creep of the leakage current gradually changes. Therefore, the increase of the Bi 2 O 3 content gradually weakens the stability of the varistor.

분명히 스트레스에 대한 안정성은 소결밀도, 부 결정상 및 누설전류에 영향을 받는 것이며, 일반적으로 낮은 소결밀도와 더 많은 부 결정상, 그리고 높은 누설전류는 스트레스에 대한 저항력을 약화시킨다. 이는 낮은 소결밀도와 더 많은 부 결정상은 전도경로(conduction path)의 개수를 줄여 종국에는 입계당 전류밀도를 증가시키게 되고, 높은 누설전류는 주울(Joule) 발열과 누설전류 사이의 반복 사이클에 기인하는 캐리어 생성 증가를 가져옴으로써 안정성을 떨어뜨리게 된다.Obviously, the stability to stress is affected by the sintering density, the crystallite phase and the leakage current, and generally the low sintered density, the more crystalline phase, and the high leakage current weaken the resistance to stress. This is because the low sintered density and the more crystalline phases reduce the number of conduction paths and eventually increase the current density per grain and the high leakage current is due to the repetitive cycle between Joule heating and leakage current Leading to an increase in carrier generation, thereby degrading stability.

본 발명에서의 Bi2O3가 첨가된 시편 (b)∼(e)는 Bi2O3가 첨가되지 않은 시편 (a)에 비해 누설전류 밀도(JL)가 낮음에도(표 1 참조) 누설전류의 정 크리프 현상이 나타나는 것은 상대적은 낮은 소결밀도와 더 많은 부 결정상(BiVO4)에 영향을 받았기 때문이다. 특히, Bi2O3가 0.1 mol% 첨가된 시편 (d)는 가장 낮은 소결밀도와 가장 높은 누설전류 밀도로 인해 가장 안정성이 악화된 결과를 보여준다.To Bi 2 O 3 doped sample (b) ~ (e) of the present invention, Bi 2 O 3 is not added to the specimen (a) the leakage current density (J L) compared to the low (see Table 1) Leakage The positive creep phenomenon of the current is due to the relatively low sintered density and the effect of the more crystalline phase (BiVO 4 ). In particular, the specimen (d) with 0.1 mol% of Bi 2 O 3 showed the worst stability with the lowest sintered density and the highest leakage current density.

바리스터(시편)의 안정성은 노후 정도를 나타내는 열화율 계수(KT)로 근사적으로 평가될 수 있다. 상대적으로 낮은 열화율 계수는, 비록 그 값이 절대적인 안정도를 나타내는 것은 아닐지라도, 일반적으로 더 낮은 열화율 계수가 더 우수한 안정성을 의미하는 것으로 취급할 수 있다. 열화율 계수(KT)는 스트레스 인가 시간 동안의 누설전류의 기울기를 의미하며, 각 시편의 열화율 계수(KT)는 DC 가속노화 스트레스 시험 결과를 정리한 이래의 표 2에 포함되어 있다.
The stability of the varistor (specimen) can be approximated by the deterioration factor coefficient (K T ), which indicates the degree of aging. A relatively low degradation factor can generally be considered to mean better stability, even though the value does not indicate absolute stability. The deterioration rate coefficient (K T ) is the slope of the leakage current during the stress application time, and the deterioration rate coefficient (K T ) of each specimen is included in Table 2 since the results of the DC accelerated aging stress test are summarized.

본 발명의 5개 시편에 대한 DC 가속노화 스트레스 전후의 전압-전류(E-J) 특성Voltage-current (E-J) characteristics before and after DC accelerated aging stress on the five specimens of the present invention Bi2O3 함량
(mol%)
Bi 2 O 3 content
(mol%)
스트레스
조건
stress
Condition
KT
(㎂.h-1/2)
K T
(PA.h -1/2 )
E1mA
(V/㎝)
E 1mA
(V / cm)
%△E1mA % △ E 1mA αalpha %△α% △ α
0.0   0.0 초기Early -- 48744874 -- 51.051.0 -- 스트레스 후After stress 8.18.1 45934593 -5.8-5.8 22.622.6 -55.7-55.7 0.025   0.025 초기Early -- 43554355 -- 60.060.0 -- 스트레스 후After stress 13.413.4 40134013 -7.8-7.8 22.522.5 -62.5-62.5 0.05   0.05 초기Early -- 39173917 -- 51.151.1 -- 스트레스 후After stress 16.916.9 33263326 -15.1-15.1 12.212.2 -76.1-76.1 0.1   0.1 초기Early -- 29722972 -- 38.938.9 -- 스트레스 후After stress 56.356.3 16171617 -45.6-45.6 3.83.8 -90.2-90.2 0.25   0.25 초기Early -- 22052205 -- 31.231.2 -- 스트레스 후After stress 30.730.7 15501550 -29.7-29.7 5.95.9 -81.1-81.1

도 7은 Bi2O3의 함량을 달리하는 5종류의 시편 (a)∼(e)에 대한 DC 가속노화 스트레스 전후의 전압-전류(E-J) 특성을 도시한 것인데, Bi2O3의 함량이 스트레스 인가 후의 전압-전류(E-J) 특성 변화에 매우 큰 영향을 미친다는 것을 확인할 수 있다.7 is five types of samples (a) ~ (e) DC accelerated aging stress before and after the voltage for which otherwise the content of Bi 2 O 3 - content of geotinde showing a current (EJ) characteristics, Bi 2 O 3 (EJ) characteristics after the application of the stress.

Bi2O3가 첨가되지 않은 시편 (a)는 스트레스 인가 전후에 걸쳐 전압-전류(E-J) 특성의 변화가 작은데 비해, Bi2O3가 0.1 mol% 첨가된 시편 (d)는 가장 큰 스트레스 인가 전후의 전압-전류(E-J) 특성 변화를 나타낸다. 이는 도 6의 Bi2O3 함량에 따른 스트레스 인가 전후의 누설전류(IL)의 변화 양상과도 일치하는 거동이다.The specimen (a) without Bi 2 O 3 showed a small change in the voltage-current (EJ) characteristics before and after stress application, while the specimen (d) with Bi 2 O 3 added with 0.1 mol% (EJ) characteristics before and after the operation. This is consistent with the change in the leakage current (I L ) before and after stress application according to the Bi 2 O 3 content in FIG.

표 2에는 스트레스 인가 전후에 걸친 항복전계의 변화율(%ΔE1mA)과 비선형 계수의 변화율(%Δα)이 함께 정리되어 있다.Table 2 summarizes the rate of change of yielding field (% ΔE 1mA ) and the rate of change of nonlinear coefficient (% Δα) before and after stress application.

항복전계의 변화율(%ΔE1mA)을 살펴보면, Bi2O3가 첨가되지 않은 시편이 가장 작은 변화율(-5.8%)을 보이며, Bi2O3가 첨가된 시편 중에서는 Bi2O3가 0.025 mol% 첨가된 시편이 가장 작은 변화율(-7.8%)을 보여주고 있다. 그렇지만, Bi2O3가 0.025 mol% 첨가된 시편의 변화율이 -10%를 초과(-15.1%)하고 있는 결과를 본다면, Bi2O3가 0.025 mol% 이하로 첨가되면 항복전계의 변화율(%ΔE1mA)은 Bi2O3가 첨가되지 않았을 때와 거의 동등한 수준을 유지할 수 있음을 알 수 있다.Looking at the rate of change of the breakdown electric field (% ΔE 1mA), Bi 2 O 3 is not added, the specimens showed the lowest rate of change (-5.8%), Bi 2 O 3 is added in the specimen is Bi 2 O 3 is 0.025 mol % Added specimen showed the smallest change rate (-7.8%). However, if the rate of change of the specimen to which 0.025 mol% of Bi 2 O 3 is added is more than -10% (-15.1%), the rate of change of the breakdown field when the Bi 2 O 3 content is less than 0.025 mol% ΔE 1 mA ) can be maintained at almost the same level as when Bi 2 O 3 is not added.

반면 비선형 계수의 변화율(%Δα)은 Bi2O3가 첨가 여부와 관련 없이 모든 시편에서 50%를 초과하여 떨어지는 결과를 보여준다. 그 중에서 Bi2O3가 0.025 mol% 이하로 첨가된 경우에는 스트레스 인가 후에도 최소 20을 초과하는 비선형 계수(α)를 유지하고 있으므로, 가장 양호한 결과를 보여주는 것이라 할 수 있다.On the other hand, the rate of change of the nonlinear coefficient (% Δα) shows that the Bi 2 O 3 is dropped by more than 50% in all specimens irrespective of the addition of Bi 2 O 3 . In the case where Bi 2 O 3 is added in an amount of 0.025 mol% or less, the nonlinear coefficient (α) of at least 20 is maintained even after the stress is applied. Therefore, it can be said that the most favorable result is obtained.

위와 같은 결과를 종합하면, Bi2O3가 0.025 mol% 이하로 첨가된 본 발명의 바나듐계 산화아연 바리스터가 가장 우수한 성능을 나타낸다고 결론지을 수 있으며, 특히 Bi2O3가 첨가되지 않았을 경우와 비교해 보아도 이와 동등한 수준의 스트레스 내성을 유지하면서도 과도 과전압이 작용했을 때의 바리스터 성능의 지표라 할 수 있는 비선형 계수(α)는 더욱 향상된 매우 바람직한 성능 특성을 가진 것이라 할 것이다.
In conclusion, it can be concluded that the vanadium-based zinc oxide varistor according to the present invention, to which Bi 2 O 3 is added in an amount of 0.025 mol% or less, exhibits the best performance, and in comparison with the case where Bi 2 O 3 is not added The nonlinear coefficient (α), which is an index of the varistor performance when the transient overvoltage is applied while maintaining the same level of stress tolerance, is considered to have improved and highly desirable performance characteristics.

이상 바람직한 실시예를 참고로 하여 본 발명이 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 특허청구범위에 의해서 정해져야 할 것이다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it will be understood by those of ordinary skill in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the scope of the present invention . Therefore, the true scope of protection of the present invention should be determined by the claims.

Claims (10)

산화아연(ZnO), 바나듐 산화물(V2O5)과 망간 산화물(MnO2), 니오븀 산화물(Nb2O5)을 포함하는 바나듐계 산화아연 바리스터에 0.1 mol% 이하의 함량의 비스무스 산화물(Bi2O3)을 첨가하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 바나듐계 산화아연 바리스터.A vanadium oxide zinc oxide varistor containing zinc oxide (ZnO), vanadium oxide (V 2 O 5 ), manganese oxide (MnO 2 ) and niobium oxide (Nb 2 O 5 ) is added to a bismuth oxide (Bi 2 O 3 ) is added to the vanadium-based zinc oxide varistor. 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 비스무스 산화물은 0.025 mol% 이하의 함량으로 첨가되는 것을 특징으로 하는 바나듐계 산화아연 바리스터.
The method according to claim 1,
Wherein the bismuth oxide is added in an amount of 0.025 mol% or less.
제1항에 있어서,
상기 비스무스 산화물은 비선형 계수(α)가 52를 초과하도록 하는 함량으로 첨가되는 것을 특징으로 하는 바나듐계 산화아연 바리스터.
The method according to claim 1,
Wherein the bismuth oxide is added in such an amount that the nonlinear coefficient (?) Is greater than 52.
제1항에 있어서,
상기 비스무스 산화물은 0.85E1mA/85℃/24h 조건(여기서, E1mA는 전류밀도가 1.0 mA/㎠일 때의 전압)에서 수행된 DC 가속노화 스트레스 시험 이후에도 비선형 계수(α)가 20을 초과하도록 하는 함량으로 첨가되는 것을 특징으로 하는 바나듐계 산화아연 바리스터.
The method according to claim 1,
The bismuth oxide has a nonlinear coefficient (α) exceeding 20 even after the DC accelerated aging stress test performed under the condition of 0.85E 1 mA / 85 ° C./24 h (where E 1 mA is the voltage when the current density is 1.0 mA / cm 2) By weight based on the total weight of the vanadium oxide zinc varistor.
산화아연(ZnO), 바나듐 산화물(V2O5), 망간 산화물(MnO2), 니오븀 산화물(Nb2O5) 및 0.1 mol% 이하의 함량으로 첨가되는 비스무스 산화물(Bi2O3)을 칭량하는 제1 단계;
상기 칭량된 조성물을 아세톤과 섞어 볼밀링으로 혼합하고, 이후 폴리비닐 부틸알(PVB) 바인더와 아세톤과 혼합한 후 건조하는 제2 단계;
건조된 파우더 조성물을 원하는 모양의 성형체로 만들고 소결한 뒤, 상기의 소결체의 양면을 연마하는 제3 단계; 및
상기 연마된 소결체에 은 전극을 도포하고, 패키지 처리를 하는 제4 단계;
를 포함하는 바나듐계 산화아연 바리스터의 제조 방법.
(Bi 2 O 3 ) added in an amount of not more than 0.1 mol% and zinc oxide (ZnO), vanadium oxide (V 2 O 5 ), manganese oxide (MnO 2 ), niobium oxide (Nb 2 O 5 ) ;
A second step of mixing the weighed composition with acetone, ball milling, mixing with a polyvinyl butyral (PVB) binder and acetone, and drying;
A third step of making the dried powder composition into a desired shaped body and sintering and then polishing both surfaces of the sintered body; And
A fourth step of applying a silver electrode to the polished sintered body and performing a package treatment;
Based vanadium oxide varistor.
삭제delete 제6항에 있어서,
상기 비스무스 산화물은 0.025 mol% 이하의 함량으로 첨가되는 것을 특징으로 하는 바나듐계 산화아연 바리스터의 제조 방법.
The method according to claim 6,
Wherein the bismuth oxide is added in an amount of 0.025 mol% or less.
제6항에 있어서,
상기 비스무스 산화물은 비선형 계수(α)가 52를 초과하도록 하는 함량으로 첨가되는 것을 특징으로 하는 바나듐계 산화아연 바리스터의 제조 방법.
The method according to claim 6,
Wherein the bismuth oxide is added in such an amount that the nonlinear coefficient (?) Is greater than 52. A method for producing a vanadium-based zinc oxide varistor,
제6항에 있어서,
상기 비스무스 산화물은 0.85E1mA/85℃/24h 조건(여기서, E1mA는 전류밀도가 1.0 mA/㎠일 때의 전압)에서 수행된 DC 가속노화 스트레스 시험 이후에도 비선형 계수(α)가 20을 초과하도록 하는 함량으로 첨가되는 것을 특징으로 하는 바나듐계 산화아연 바리스터의 제조 방법.
The method according to claim 6,
The bismuth oxide has a nonlinear coefficient (α) exceeding 20 even after the DC accelerated aging stress test performed under the condition of 0.85E 1 mA / 85 ° C./24 h (where E 1 mA is the voltage when the current density is 1.0 mA / cm 2) By weight based on the total weight of the vanadium-based zinc oxide varistor.
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