KR101438734B1

KR101438734B1 - 회전식 열처리로

Info

Publication number: KR101438734B1
Application number: KR1020130135115A
Authority: KR
Inventors: 이광래
Original assignee: 우경금속주식회사
Priority date: 2013-11-08
Filing date: 2013-11-08
Publication date: 2014-11-03

Abstract

본 발명은 회전판과 하우징 사이 공간을 여러 개의 격실로 구성하여 각 격실에서 열처리가 이뤄지게 하고, 회전판을 회전하면서 여러 개의 격실 중에서 어느 하나의 격실로만 열처리할 대상물을 집어넣거나 열처리한 대상물을 꺼낼 수 있게 함으로써, 이 하나의 격실에서만 열처리 분위기가 외부로 노출되므로 열처리를 위해서는 하나의 격실에서 열처리 분위기를 조성함에 따라 많은 에너지를 소비하지 않아 절전 효과를 얻을 수 있는 회전식 열처리로를 제공하는 데 그 목적이 있다.
특히, 본 발명은 상술한 바와 같이 각 격실을 구성하는 회전판을 통해 열처리 대상물을 각 격실에 차례로 위치하게 이송한 다음 열처리하고, 그 다음 다시 회전판을 회전하여 열처리한 대상물을 차례로 꺼낼 수 있게 구성함으로써, 이런 원형 형태가 들어갈 수 있는 좁은 공간에 본 발명에 따른 회전식 열처리를 설치할 수 있게 되어 공간활용도를 높일 수 있게 한 회전식 열처리로를 제공하는 데 다른 그 목적이 있다.
또한, 본 발명은 격실별로 열처리 분위기를 조성하는 데 필요한 구성요소, 예를 들어서 모터나 히터 그리고 냉각 라인 등을 구성하게 되는데, 이런 구성요소가 격실에 따라 구분되어 있어 고장 발생이 적을 뿐만 아니라 유지 보수가 편하고 고장 난 구성요소만을 교체하는 것으로 장치의 운용 효율을 향상할 수 있는 회전식 열처리로를 제공하는 데 또 다른 목적이 있다.

Description

회전식 열처리로{ROTARY-TYPE HEAT TREATMENT FURNACE}

본 발명은 회전식 열처리로에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 회전판과 그 위에 장착하는 하우징 사이의 공간을 여러 개의 격실 형태로 나누고 하나의 격실을 통해 열처리할 대상품을 집어넣거나 열처리한 대상품을 꺼낼 수 있게 구성함으로써, 열처리 분위기가 외부에 노출하는 것을 최소화하여 절전 효과와 함께 회전판을 회전하면서 열처리가 이루어지게 하여 공간 활용도를 높일 수 있게 한 것이다.

일반적으로 열처리로는 소형 열처리 대상물을 연속적으로 이송하면서 열처리가 이루어지는 연속형 열처리로와, 대형 열처리 대상물이나 소정의 수만큼 열처리 대상물을 한 번에 열처리하기 위한 박스형 열처리로로 구분할 수 있다.

연속형 열처리로는 양측이 열린 열처리로 프레임에 그 길이 방향으로 컨베이어 수단이 갖춰진다. 컨베이어 수단은 열처리 대상물을 일정한 시간 간격으로 이송하는데, 이때 그 이송 속도는 열처리 대상물이 열처리에 필요한 시간 동안 노출될 수 있도록 제어된다. 따라서, 연속형 열처리로는 열처리 대상물을 컨베이어 수단으로 이송하여 열처리로 프레임을 통과하는 동안 모든 열처리가 끝나게 된다.

이러한 연속형 열처리로는, 특허문헌 1 및 특허문헌 2와 같이, 컨베이어 수단으로 열처리 대상물을 연속적으로 공급하므로 연속성에서는 유리하나, 열처리로 프레임의 양측이 개방되어 있기 때문에 이를 통한 열 손실이 많이 발생한다. 이는 열처리 분위기를 조성하는데 에너지 소비량이 늘어날 뿐만 아니라 열처리 대상물이 외기에 노출될 우려가 있어 열처리하는 제품의 품질저하로 이어질 우려가 있었다.

박스형 열처리로는, 특허문헌 3 및 특허문헌 4와 같이, 소정의 크기를 갖는 밀폐형 박스 형상으로 이루어지고, 상부에는 개폐 가능한 도어와 같은 개폐 수단을 갖춘다. 이러한 박스형 열처리로는 노 내부에 소정의 수 또는 대형 열처리 대상물을 집어넣고 필요한 열처리 시간 동안 열처리 후 개폐 수단을 열어 열처리로에서 열처리 대상물을 꺼낸다.

하지만, 이런 종래 박스형 열처리로는 열처리가 이루어지는 동안 개폐 수단에 의해 열처리로 프레임이 밀폐되므로 열처리 대상물이 외기에의 노출 우려가 없어 열처리 품질을 향상할 수 있었다. 하지만, 종래의 박스형 열처리로는 열처리 대상물을 집어넣거나 꺼낼 개폐 수단을 개폐시켜야 하므로 열처리에 따른 연속성에 한계가 있다. 또한, 열처리한 대상물을 꺼내기 위해서는 열처리로 전체가 개방되어야 하므로 다시 열처리를 위해 분위기를 조성하는데 많은 에너지가 필요하다.

한국등록특허 제0722009호(등록일 : 2007.05.18) 한국등록특허 제0869424호(등록일 : 2008.11.12) 한국등록특허 제0599256호(등록일 : 2006.07.04) 한국등록특허 제1236451호(등록일 : 2013.02.18)

본 발명은 이러한 점을 고려하여 발명한 것으로, 회전판과 하우징 사이 공간을 여러 개의 격실로 구성하여 각 격실에서 열처리가 이뤄지게 하고, 회전판을 회전하면서 여러 개의 격실 중에서 어느 하나의 격실로만 열처리할 대상물을 집어넣거나 열처리한 대상물을 꺼낼 수 있게 함으로써, 이 하나의 격실에서만 열처리 분위기가 외부로 노출되므로 열처리를 위해서는 하나의 격실에서 열처리 분위기를 조성함에 따라 많은 에너지를 소비하지 않아 절전 효과를 얻을 수 있는 회전식 열처리로를 제공하는 데 그 목적이 있다.

특히, 본 발명은 상술한 바와 같이 각 격실을 구성하는 회전판을 통해 열처리 대상물을 각 격실에 차례로 위치하게 이송한 다음 열처리하고, 그 다음 다시 회전판을 회전하여 열처리한 대상물을 차례로 꺼낼 수 있게 구성함으로써, 이런 원형 형태가 들어갈 수 있는 좁은 공간에 본 발명에 따른 회전식 열처리를 설치할 수 있게 되어 공간활용도를 높일 수 있게 한 회전식 열처리로를 제공하는 데 다른 그 목적이 있다.

또한, 본 발명은 격실별로 열처리 분위기를 조성하는 데 필요한 구성요소, 예를 들어서 모터나 히터 그리고 냉각 라인 등을 구성하게 되는데, 이런 구성요소가 격실에 따라 구분되어 있어 고장 발생이 적을 뿐만 아니라 유지 보수가 편하고 고장 난 구성요소만을 교체하는 것으로 장치의 운용 효율을 향상할 수 있는 회전식 열처리로를 제공하는 데 또 다른 목적이 있다.

이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 회전식 열처리로는, 용기 형상으로 이루어진 베이스(100); 상기 베이스(100) 내에 액추에이터(210)로 회전할 수 있게 설치되며, 윗면에는 여러 개의 회전 격벽(220)이 반지름 방향을 따라 미리 정해진 간격으로 갖춰진 회전판(200); 및 상기 회전판(200) 위로 씌워져서 회전 격벽(220)을 감싸 격실(310a~310e)을 이루도록 이 회전판(200)의 회전 중심이 되게 베이스(100)에 형성한 축 지지부(130)에 장착되고, 내면에는 상기 회전 격벽(220)과 대응하는 위치에 형성되며 이 회전 격벽(220)과 동일 유사한 형태로 절개되어 이 회전 격벽(220)과 회전 간섭이 발생하지 않게 절개된 고정 격벽(330)을 갖춘 하우징(300);을 포함하고;, 상기 하우징(300)에는 어느 하나의 격실(310a)에 개폐용 도어(340)를 갖추고, 나머지 격실(310b~310e)에는 송풍 팬(350)과 가열 히터(360)를 각각 갖춘 것을 특징으로 한다.

특히, 상기 축 지지부(130)에는 내부에 그 길이 방향으로 작동하는 액추에이터(380)를 갖추고, 상기 액추에이터(380)의 선단에는 상기 하우징(300)을 장착하여 상하로 움직일 수 있게 한 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 베이스(100)에는 바깥면에 축 지지부(130)과 나란하게 위치하도록 적어도 2개의 가이드(110)가 미리 정해진 간격으로 설치되고, 상기 가이드(110)에는 상기 하우징(300)에 갖춰진 가이드 돌기(370)가 끼워져서 안내받는 것을 특징으로 한다.

그리고, 상기 베이스(100)와 하우징(300)의 서로 마주 보는 테두리에는 서로 맞물리게 단턱(120,320)을 형성하여, 상기 회전판(200)이 회전할 수 있게 하우징(300)을 들어 올리더라도 내부 가스가 외부로 누설하는 것을 방지하도록 한 것을 특징으로 한다. 이때, 상기 단턱(120,320) 사이에는 실링(121)을 갖춘 것을 특징으로 한다.

마지막으로, 상기 회전 격벽(220)은, 회전판(200)과 접한 부분에서 위로 갈수록 그 사이의 폭이 좁아지게 형성한 것을 특징으로 한다.

본 발명의 회전식 열처리로에 따르면 다음과 같은 효과가 있다.

(1) 여러 개의 격실 중에서 하나의 격실만 여닫으면서 열처리 대상물을 집어넣거나 열처리한 대상물을 꺼내므로, 열처리 분위기를 외부에 노출하는 것을 최소화할 수 있다.

(2) 이처럼 격실 하나의 열처리 분위기만을 외부에 노출하므로 하나의 격실에서만 열처리 분위기를 조성하면 되어 적은 전력이 필요하여 절전 효과를 기대할 수 있다.

(3) 여러 개의 격실이 회전판 상에 배치하여 구성하므로 좁은 공간에 여러 격실을 집약할 수 있어 공간 활용도를 높일 수 있다.

(4) 격실별로 열처리 분위기를 만드는 데 필요한 구성요소를 장착하므로 이들 구성요소가 고장이 나더라도 유지 보수가 편리할 뿐만 아니라 고장 발생이 적어 그 수명을 연장할 수 있다.

도 1은 본 발명에 따른 회전식 열처리로의 구성을 보여주기 위한 분해 사시도.
도 2는 본 발명에 따른 회전식 열처리로의 구성을 보여주기 위해 결합한 사시도.
도 3은 본 발명에 따른 회전식 열처리로의 구성을 보여주기 위한 평면도.
도 4는 본 발명에 따른 회전식 열처리로의 열처리를 위한 회전 상태를 보여주기 위한 도 4에서의 "A-A"선 단면도.
도 5는 본 발명에 따른 회전식 열처리로에서 열처리한 대상물을 꺼내는 상태를 보여주기 위한 단면도.
도 6은 본 발명에 따른 회전식 열처리에서 하우징을 들어 올려 유지보수나 수리를 하기 위한 상태를 보여주는 단면도.
도 7은 본 발명에 따른 단턱의 연결 상태를 보여주기 위한 도 4의 (b)에서의 "B" 부분 확대도.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 더욱 상세히 설명하기로 한다. 이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 최고의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 따라 본 발명의 기술적 사상에 적합한 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.

따라서 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원 시점에서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예가 있을 수 있음을 이해하여야 한다.

(구성)

본 발명에 따른 회전식 열처리로는, 도 1 내지 도 7과 같이, 베이스(100) 위에 회전판(200)을 갖추고, 이 회전판(200) 위에 하우징(300)을 장착함으로써, 회전판(200)과 하우징(300) 사이 공간에 열처리할 대상물(O)을 탑재할 수 있는 여러 개의 격실(310a~310e)을 구성함으로써, 좁은 공간에도 설치할 수 있도록 한 것이다.

특히, 본 발명은 이런 여러 격실(310a~310e) 중에서 하나의 격실(310a)로만 열처리할 대상물(O)을 집어넣거나 열처리한 대상물(O)을 꺼낼 수 있게 구성함으로써, 이 격실(310a)만 외부에 노출되게 하고 다시 열처리할 경우에도 이 격실(310a)의 체적만큼 열처리 분위기를 조성하게 하여 최소한의 전원으로 열처리할 수 있게 하여 절전 효과를 얻을 수 있게 한 것이다.

이러한 구성에 대하여 더욱 구체적으로 설명하면 다음과 같다.

베이스(100)는, 도 1 및 도 4와 같이, 용기 형상으로 형성된다. 특히, 내부에는 후술하게 될 회전판(200)을 장착하게 되므로 원통 용기 형상으로 제작하는 것이 바람직하다.

또한, 상기 베이스(100)에는 바닥면의 중앙에 축 지지부(130)가 돌출 형성된다. 그리고, 이 축 지지부(130)에는 베어링(131)이 갖춰져서 후술하게 될 회전판(200)이 축 지지부(130)를 중심으로 회전할 수 있게 설치된다.

회전판(200)은, 도 1 및 도 4와 같이, 원판 형상으로 형성되며, 상기 축 지지부(130)에 회전할 수 있게 설치한다. 이를 위하여, 회전판(200)은 상술한 베어링(131)의 회전 지지를 받게 설치한다. 그리고, 회전판(200)은 외주면에 치(211)가 형성되고, 이 치(211)에는 베이스(100)에 장착한 액추에이터(210)가 맞물린다.

본 발명의 바람직한 실시예에서, 상기 액추에이터(210)로는 모터를 이용하는 것이 바람직하며, 정역 모터를 이용하는 것이 더욱 바람직하다.

특히, 본 발명의 바람직한 실시예에서, 이처럼 베어링(131) 지지를 받는 회전판(200)은 베이스(100)의 테두리보다 튀어나오지 않게 장착하는 것이 바람직하다. 이는 이 회전판(200) 위에 후술하게 될 하우징(300)을 장착하게 되는데, 이 하우징(300)과의 틈새를 최소화하여 열기가 누설되는 것을 방지할 수 있게 하기 위한 것이다.

또한, 상기 회전판(200)은, 도 4와 같이, 베이스(100)에 장착한 롤러(230)의 지지를 받아 회전한다. 롤러(230)는 회전판(200)과 여기에 탑재하는 대상물(O)의 전체 중량을 고려하여 하나를 구성할 수도 있고 그 이상을 구성할 수도 있다. 도면에서는 대칭으로 두 개씩 배치한 예를 보여준다. 도 4에서, 미설명 부호 "231"는 롤러(230)가 회전판(200)과 접하도록 높이를 맞춰주기 위한 지지대를 나타낸다.

마지막으로, 상기 회전판(200)에는, 도 3 및 도 4와 같이, 윗면에 미리 정해진 간격을 두고 여러 개의 회전 격벽(220)을 설치한다. 회전 격벽(220)은, 도 3과 같이 회전판(200)의 반지름 방향을 따라 5개를 갖춘 예를 보여주고 있으며, 특히 각 회전 격벽(220)은 도 5와 같이 회전판(200)에서 위로 올라갈수록 점차 그 폭이 좁아지게 형성하는 것이 바람직하다. 이는, 도 4의 (b) 및 도 6과 같이 후술하게 될 하우징(300)을 위로 들어올릴 때 회전 격벽(220)과 고정 격벽(330)이 간섭을 받지 않게 하기 위함이다.

하우징(300)은, 도 1 내지 도 4와 같이, 베이스(100)와 동일 유사한 용기 형태로 구성한다. 특히, 이 하우징(300)에는 내면의 중심을 기준으로 고정 격벽(330)을 형성한다. 이때, 하우징(300)은 개구된 면이 회전판(200)과 마주 보도록 축 지지부(130)에 설치하게 되는데, 회전판(200)이 회전할 때 회전 격벽(220)이 고정 격벽(330)과 간섭이 생기지 않도록 이 고정 격벽(330)에 도 4와 같이 회전 격벽(220)과 동일 유사한 형태로 절개하여 형성한다.

이에, 도 4의 (a)에서 축 지지부(130)을 중심으로 왼쪽과 같이, 회전 격벽(220)과 고정 격벽(330)이 만나게 되면 하나의 벽체와 같이 격벽을 구성하므로, 회전판(200)과 하우징(300) 사이에 형성된 공간은 이들 격벽에 의해 도 3과 같이 여러 개의 격실(310a~310e)로 구성한다. 도 3에서는 5개의 격실(310a~310e)로 구분한 예를 보여준다.

여기서, 여러 개 중에서 어느 하나의 격실(310a)에는, 도 1 내지 도 4와 같이, 하우징(300) 외부로 연통할 수 있도록 도어(340)를 갖춘다. 도어(340)는, 도 5와 같이, 열처리할 대상물(O)을 격실(310a) 안으로 집어넣거나 열처리한 대상물(O)을 격실(310a) 밖으로 꺼낼 수 있게 함으로써, 이 격실(310a) 내의 열처리 분위기만 외부에 노출되게 하여 열처리 분위기를 이 격실(310a)로 최소화할 수 있게 하기 위한 것이다.

또한, 나머지 격실(310b~310e)에는 안쪽 면에 가열 히터(360)가 갖춰진다. 가열 히터(360)는 각 격실(310b~310e) 내면에 골고루 위치하게 하여 격실(310b~310e)에 놓인 대상물(O)에 균일한 열처리 분위기를 조성할 수 있게 하는 것이 바람직하다. 이러한 가열 히터(360)는 열처리로 분야에서 사용하는 통상의 기술로 제작한 것을 이용한다.

그리고, 상기 격실(310b~310e)에는 각각 송풍 팬(350)이 갖춰진다. 송풍 팬(350)은 가열 히터(360)에서 발생한 열기가 해당 격실에 골고루 퍼지게 하여 열처리 효과를 높일 수 있게 하는 것이다. 이런 송풍 팬(350)의 구성 및 장착 위치는 이 분야에서 통상의 기술로서 널리 알려졌으므로 여기서는 그 상세한 설명을 생략한다. 도면에서는 송풍 팬(350)이 하우징(300)에 설치한 것으로 도시되어 있으나, 각 격실(310b~310e) 내에 설치하여 격실 내에서 열풍이 골고루 퍼질 수 있게 하는 것이 바람직하다.

이처럼 이루어진 하우징(300)은 회전판(200)이 회전할 때 서로 간섭이 생기지 않도록 구성하는 것이 바람직하다. 이를 위하여, 도 4와 같이, 축 지지부(130)를 중공으로 형성하고, 그 내부에 실린더와 같은 액추에이터(380)를 갖춘다. 그리고, 액추에이터(380)의 상단에 하우징(300)을 장착하여 도 4의 (b)와 같이 하우징(300)이 상하로 움직일 수 있게 한다.

한편, 본 발명의 바람직한 실시예에서, 상기 하우징(300)은 회전판(200)이 회전할 때 서로 회전 간섭이 발생할 수 있는데, 이런 회전 간섭을 피할 수 있도록 구성하는 것이 바람직하다.

이를 위하여, 상술한 액추에이터(380)를 이용하여 회전판(200)이 회전할 때에, 도 4의 (b) 및 도 7과 같이 베이스(100)에서 하우징(300)을 약간 들어올릴 수 있게 한다. 이때, 하우징(300)은 미리 정해진 위치에서 움직이지 않게 하는 구성이 필요하다.

이에, 본 발명에서는 상기 베이스(100)의 바깥면에 축 지지부(130)와 나란하게 적어도 2개의 가이드(110)를 형성하고, 상기 하우징(300)에 이 가이드(110)의 안내를 받을 수 있도록 가이드 돌기(370)를 더 구성한 것이다. 이때의 가이드(110)는 도 6과 같이 하우징(300)이 회전 격벽(220) 위로 올라갈 수 있는 길이로 제작하는 것이 바람직하다. 도면에서는 4개의 가이드(110)가 서로 대칭이 되게 설치된 예를 보여준다.

따라서, 하우징(300)은, 도 4의 (a)와 같이 가열할 때에는 회전판(200)과 맞닿은 상태로 있게 되고, 가열한 대상물을 다른 격실로 옮기거나 열처리를 끝낸 대상물을 꺼내기 위해서 이동시킬 때에는 도 4의 (b) 및 도 7과 같이 회전판(200)의 윗면에서 약간 이격(G)하여 회전 간섭을 피한다. 또한, 본 발명에 따른 열처리로의 내부 수리나 구성요소를 교체할 필요가 있는 경우, 도 6과 같이 하우징(300)을 최대한 위로 들어 올려 회전판(200)과 하우징(300) 사이에 최대 공간을 확보하는 것이다.

또한, 상술한 바와 같이 열처리하기 위해 하우징(300)을 위로 들어올리는 경우, 베이스(100)와 하우징(300) 사이로 열처리하기 위한 분위기(열기)가 누설될 우려가 있다. 이에 본 발명에서는, 도 4의 (b) 및 도 7과 같이, 베이스(100)와 하우징(300)이 서로 마주 보는 테두리에 서로 맞물리는 단턱(120,320)을 형성하는 것이 좋다.

이들 단턱(120,320)은, 도 7과 같이, 열처리하기 위해 하우징(300)이 위로 올라가더라도 서로 맞물린 상태가 될 수 있는 크기로 형성하는 것이 바람직하다. 특히, 이들 단턱(120,320) 중에서 어느 하나에는 실링(121)을 더 구성함으로써, 단턱(120,320) 사이로 가스 등이 외부로 누설하는 것을 차단할 수 있게 하는 것이 바람직하다.

이같이 이루어진 본 발명에 따른 회전식 열처리로는, 도 4의 (a)와 같은 상태에서 도어(340)를 개방한 다음 격실(310a)에 대상물(O)을 집어넣고 도어(340)를 닫음 다음 하우징(300)을 도 4의 (b)와 같이 들어 올린다.

그리고, 회전판(200)을 회전하여 그 다음 격실(310b)이 도어(340) 하부에 위치하게 한 다음 하우징(300)을 도 4의 (a)와 같이 내려놓는다. 이어 대상물(O)를 집어넣고 회전하는 과정을 반복하여 각 격실(310c~310d)에 대상물(O)을 집어넣는다. 이때, 첫 번째 격실(310a)에는 대상물(O)을 집어넣더라도 열처리는 이루어지지 않으나 다음 대상물(O)을 공급하는데 신속하게 공급할 수 있게 된다.

이때 격실(310a)를 제외한 격실(310b~310e)에 각각의 대상물이 들어갈 때는 송풍 팬(35)과 가열 히터(360)를 가동하여 열처리 분위기를 조성한다. 예를 들어 반시계 방향으로 열처리가 진행된다고 했을 경우 첫 번째 격실(310b)은 예열실이 되고, 두 번째 격실(310c)은 열처리하는 필요한 최종 가열온도로 가열하는 본열실이며, 나머지 격실(310d~310e)은 대상물의 제품 내부까지 열 전달이 이루어질 수 있도록 일정 온도와 일정 시간을 유지하기 위한 고온 유지실이 된다.

이어, 송풍 팬(350)과 가열 히터(360)로 열처리 분위기를 조성하여 각 격실(310b~310e)에 놓인 대상물(O)에 대해 열처리 공정이 끝나면, 각 격실(310b~310e)에 있는 대상물(O)이 도어(340)가 있는 격실(310a)에 오도록 회전판(200)을 회전하면서 열처리한 대상물(O)을 꺼낸다.

이상과 같이 본 발명은 여러 개의 격실로 나눠서 하나의 격실을 통해 열처리하고자 하는 대상물을 집어넣거나 열처리한 대상물을 꺼낼 수 있게 함으로써, 열처리를 위한 분위기의 외부 노출을 최소화(하나의 격벽만큼)하게 된다. 이에 최소한의 전원 공급을 통해 열처리할 수 있을 뿐만 아니라 회전식으로 구성하여 열처리로의 장착 공간에 대한 공간 활용도를 높일 수 있게 되는 것이다.

100 : 베이스
110 : 가이드
120, 320 : 단턱
130 : 축 지지부
131 : 베어링
200 : 회전판
210 : 액추에이터
211 : 베어링
220 : 회전 격벽
230 : 롤러
300 : 하우징
310a~310e : 격실
330 : 고정 격벽
340 : 도어
350 : 송풍 팬
360 : 가열 히터
370 : 가이드 돌기
380 : 액추에이터

Claims

용기 형상으로 이루어진 베이스(100);
상기 베이스(100) 내에 액추에이터(210)로 회전할 수 있게 설치되며, 윗면에는 여러 개의 회전 격벽(220)이 반지름 방향을 따라 미리 정해진 간격으로 갖춰진 회전판(200); 및
상기 회전판(200) 위로 씌워져서 회전 격벽(220)을 감싸 격실(310a~310e)을 이루도록 이 회전판(200)의 회전 중심이 되게 베이스(100)에 형성된 축 지지부(130)에 장착되고, 내면에는 상기 회전 격벽(220)과 대응하는 위치에 형성되며 이 회전 격벽(220)과 동일 유사한 형태로 절개되어 이 회전 격벽(220)과 회전 간섭이 발생하지 않게 절개된 고정 격벽(330)을 갖춘 하우징(300);을 포함하고,
상기 하우징(300)에는 어느 하나의 격실(310a)에 개폐용 도어(340)를 갖추고, 나머지 격실(310b~310e)에는 송풍 팬(350)과 가열 히터(360)를 각각 갖춘 것을 특징으로 하는 회전식 열처리로.
제1항에 있어서,
상기 축 지지부(130)에는 내부에 그 길이 방향으로 작동하는 액추에이터(380)를 갖추고,
상기 액추에이터(380)의 선단에는 상기 하우징(300)을 장착하여 상하로 움직일 수 있게 한 것을 특징으로 하는 회전식 열처리로.
제2항에 있어서,
상기 베이스(100)에는 바깥면에 축 지지부(130)과 나란하게 위치하도록 적어도 2개의 가이드(110)가 미리 정해진 간격으로 설치되고,
상기 가이드(110)에는 상기 하우징(300)에 갖춰진 가이드 돌기(370)가 끼워져서 안내받는 것을 특징으로 하는 회전식 열처리로.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 베이스(100)와 하우징(300)의 서로 마주 보는 테두리에는 서로 맞물리게 단턱(120,320)을 형성하여, 상기 회전판(200)이 회전할 수 있게 하우징(300)을 들어 올리더라도 내부 가스가 외부로 누설하는 것을 방지하도록 한 것을 특징으로 하는 회전식 열처리로.
제4항에 있어서,
상기 단턱(120,320) 사이에는 실링(121)을 갖춘 것을 특징으로 하는 회전식 열처리로.
제1항에 있어서,
상기 회전 격벽(220)은,
회전판(200)과 접한 부분에서 위로 갈수록 그 사이의 폭이 좁아지게 형성한 것을 특징으로 하는 회전식 열처리로.