KR101436721B1 - 루프 안테나 패턴 구조물 및 이의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

루프 안테나 패턴 구조물은 베이스, 상기 베이스의 일면에 배치되며 제1 도전 영역을 구비하는 제1 안테나 패턴, 상기 베이스의 타면에 상기 제1 안테나 패턴에 대향하게 배치되며, 상기 제1 안테나 패턴과 전기적으로 연결된 제2 안테나 패턴 및 상기 제2 안테나 패턴으로부터 연장되며, 상기 제1 안테나 패턴과 각각 커플링 결합하며 상기 제2 안테나 패턴으로부터 개별적으로 분리됨으로써 정전 용량을 조절할 수 있는 용량성 패턴들을 포함한다.

Description

루프 안테나 패턴 구조물 및 이의 제조 방법{STRUCTURE OF A LOOP ANTENNA AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME}
본 발명은 루프 안테나 패턴 구조물 및 이의 제조 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는 본 발명은 아이씨(Integrated circuit; IC) 칩과 전파를 이용하여 정보를 송수신할 수 있는 근거리 통신(near field communication; NFC) 기술에 적용될 수 있는 루프 안테나 패턴 구조물 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.
일반적으로 근거리 통신 기술에 적용되는 안테나 패턴 구조물은 안테나 패턴 구조물은 인식 거리를 증대시키기 위하여 루프 형태를 갖는다. 상기 루프 형태를 갖는 루프 안테나 패턴 구조물은 접점 단자와 전기적으로 연결시키기 위하여 일면에 형성된 제1 안테나 패턴, 상기 제1 안테나 패턴 상에 형성된 절연층, 상기 절연층 상에 루프 형상을 갖는 제2 안테나 패턴 및 상기 제1 및 제2 안테나 패턴들을 상호 전기적으로 연결시키기 위한 비아 콘택을 포함한다. 상기 비아 콘택을 형성하기 위하여 제1 및 제2 안테나 패턴들이 평면적으로 중첩되는 영역에 상기 절연층을 관통하는 비아 홀을 형성하고 상기 비아 홀을 도전 물질로 채움으로써 비아 콘택이 형성된다.
한편, 상기 루프 안테나 패턴 구조물을 포함하는 근거리 통신 시스템은 일정한 공진 주파수를 만족시키기 위하여, 상기 루프 안테나 패턴 구조물 내의 인덕턴스 및 커패시턴스를 조절할 필요가 있다. 특히 상기 루프 안테나 패턴 구조물의 제조시 상기 루프 안테나 패턴 구조물을 이루는 패턴들 자체에 편차가 발생할 수 있으며, 나아가, 상호 인접하는 패턴들 간의 영향으로 공진 주파수의 편차가 발생할 수 있으며 이에 따른 상기 근거리 통신 시스템의 성능 저하가 발생할 수 있다.
본 발명의 일 목적은 공진 주파수값을 조절할 수 있는 루프 안테나 패턴 구조물을 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 다른 목적은 상기 루프 안테나 패턴 구조물을 제조할 수 있는 루프 안테나 패턴 구조물의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 일 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 실시예들에 따른 루프 안테나 패턴 구조물은 베이스, 상기 베이스의 일면에 배치되며 제1 도전 영역을 구비하는 제1 안테나 패턴, 상기 베이스의 타면에 상기 제1 안테나 패턴에 대향하게 배치되며, 상기 제1 안테나 패턴과 전기적으로 연결된 제2 안테나 패턴 및 상기 제2 안테나 패턴으로부터 연장되며, 상기 제1 안테나 패턴과 각각 커플링 결합하며 상기 제2 안테나 패턴으로부터 개별적으로 분리됨으로써 정전 용량을 조절할 수 있는 용량성 패턴들을 포함한다.
본 발명의 실시예에 따른 루프 안테나 패턴 구조물은 상기 제1 및 제2 안테나 패턴들을 상호 연결하며, 상기 베이스를 관통하며 도전성 물질로 이루어진 비아 콘택을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따른 루프 안테나 패턴 구조물은 상기 제1 안테나 패턴의 단부로부터 연장되고 상호 병렬적으로 연결되며 상기 제1 안테나로부터 개별적으로 분리됨으로써 유도 용량을 조절할 수 있는 유도성 패턴들을 더 포함할 수 있다.
여기서, 상기 제1 및 제2 안테나 패턴들은 구리, 은이 코팅된 구리, 알루미늄 및 전도성 탄소 중 적어도 하나의 도전성 물질로 이루어질 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따른 루프 안테나 패턴 구조물은 13.56MHz에서 구동될 수 있다.
본 발명의 다른 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 실시예들에 따른 루프 안테나 패턴 구조물의 제조 방법에 있어서, 베이스의 일면 상에 제1 안테나 패턴을 형성하고, 상기 베이스의 타면 상에 상기 제1 안테나 패턴에 대향하게 배치되며, 상기 제1 안테나 패턴과 전기적으로 연결된 제2 안테나 패턴을 형성하며, 상기 제2 안테나 패턴과 연결되며, 상기 베이스 및 상기 제1 안테나 패턴과의 각각 커플링 결합하며 상기 제2 안테나 패턴으로부터 개별적으로 분리됨으로써 정전 용량을 조절할 수 있는 용량성 패턴들을 형성한다.
여기서, 상기 제1 및 제2 안테나 패턴들 및 상기 용량성 패턴들은 에칭 공정, 전주 도금 공정, 스퍼터링 공정, 도전성 잉크 프린팅 공정 또는 스탬핑 공정을 통하여 형성될 수 있다.
여기서, 상기 제1 안테나 패턴을 형성할 경우, 상기 제1 안테나 패턴의 단부로부터 연장되고 상호 병렬적으로 연결되며 상기 제1 안테나로부터 개별적으로 분리됨으로써 유도 용량을 조절할 수 있는 유도성 패턴들을 형성할 수 있다.
본 발명에 의하여, 제2 안테나 패턴으로부터 연장되며 제1 안테나 패턴과 용량성 결합하며 개별적으로 상기 제2 안테나 패턴으로부터 분리되어 정전 용량을 조절할 수 있는 용량성 패턴들이 구비된다. 따라서 상기 안테나 패턴 구조물을 포함하는 근거리 통신 시스템 조립 후 공진 주파수의 변경이 발생하더라도 상기 제2 안테나 패턴으로부터 개별적으로 상기 용량성 패턴들을 분리시킴으로써 등가 커패시턴스(Ceq) 값을 감소시킬 수 있다. 결과적으로 상기 등가 커패시턴스(Ceq) 값의 감소에 따른 공진 주파수를 증가시켜 원하는 공진 주파수 값으로 조절될 수 있다.
나아가 루프 안테나 패턴 구조물을 포함하는 근거리 통신 시스템의 공진 주파수가 요구되는 값보다 높을 경우, 상기 유도성 패턴들 중 일부를 상기 제1 안테나 패턴으로부터 분리시켜, 상기 등가 인덕턴스(Leq)를 증가시킴으로써 상기 공진 주파수(fres)를 감소시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 루프 안테나 패턴 구조물을 설명하기 위한 평면도이다.
도 2는 도 1의 A 부분을 설명하기 위한 평면도이다.
도 3은 도 1의 A 부분을 설명하기 위한 회로도이다.
도 4는 도 1의 B 부분을 설명하기 위한 평면도이다.
도 5는 도 1의 B 부분을 설명하기 위한 회로도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 루프 안테나 패턴 구조물의 제조 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
이하, 본 발명은 본 발명의 실시예들을 보여주는 첨부 도면들을 참조하여 더욱 상세하게 설명된다. 그러나, 본 발명은 하기에서 설명되는 실시예들에 한정된 바와 같이 구성되어야만 하는 것은 아니며 이와 다른 여러 가지 형태로 구체화될 수 있을 것이다. 하기의 실시예들은 본 발명이 온전히 완성될 수 있도록 하기 위하여 제공된다기보다는 본 발명의 기술 분야에서 숙련된 당업자들에게 본 발명의 범위를 충분히 전달하기 위하여 제공된다.
하나의 요소가 다른 하나의 요소 또는 층 상에 배치되는 또는 연결되는 것으로서 설명되는 경우 상기 요소는 상기 다른 하나의 요소 상에 직접적으로 배치되거나 연결될 수도 있으며, 다른 요소들 또는 층들이 이들 사이에 게재될 수도 있다. 이와 다르게, 하나의 요소가 다른 하나의 요소 상에 직접적으로 배치되거나 연결되는 것으로서 설명되는 경우, 그들 사이에는 또 다른 요소가 있을 수 없다. 다양한 요소들, 조성들, 영역들, 층들 및/또는 부분들과 같은 다양한 항목들을 설명하기 위하여 제1, 제2, 제3 등의 용어들이 사용될 수 있으나, 상기 항목들은 이들 용어들에 의하여 한정되지는 않을 것이다.
하기에서 사용된 전문 용어는 단지 특정 실시예들을 설명하기 위한 목적으로 사용되는 것이며, 본 발명을 한정하기 위한 것은 아니다. 또한, 달리 한정되지 않는 이상, 기술 및 과학 용어들을 포함하는 모든 용어들은 본 발명의 기술 분야에서 통상적인 지식을 갖는 당업자에게 이해될 수 있는 동일한 의미를 갖는다. 통상적인 사전들에서 한정되는 것들과 같은 상기 용어들은 관련 기술과 본 발명의 설명의 문맥에서 그들의 의미와 일치하는 의미를 갖는 것으로 해석될 것이며, 명확히 한정되지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 외형적인 직감으로 해석되지는 않을 것이다.
본 발명의 실시예들은 본 발명의 이상적인 실시예들의 개략적인 도해들인 단면 도해들을 참조하여 설명된다. 이에 따라, 상기 도해들의 형상들로부터의 변화들, 예를 들면, 제조 방법들 및/또는 허용 오차들의 변화들은 예상될 수 있는 것들이다. 따라서, 본 발명의 실시예들은 도해로서 설명된 영역들의 특정 형상들에 한정된 바대로 설명되어지는 것은 아니라 형상들에서의 편차들을 포함하는 것이며, 도면들에 설명된 영역들은 전적으로 개략적인 것이며 이들의 형상들은 영역의 정확한 형상을 설명하기 위한 것이 아니며 또한 본 발명의 범위를 한정하고자 하는 것도 아니다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 루프 안테나 패턴 구조물을 설명하기 위한 평면도이다. 도 2는 도 1의 A 부분을 설명하기 위한 평면도이다. 도 3은 도 1의 A 부분을 설명하기 위한 회로도이다. 도 4는 도 1의 B 부분을 설명하기 위한 평면도이다. 도 5는 도 1의 B 부분을 설명하기 위한 회로도이다.
도 1 내지 도 5를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 루프 안테나 패턴 구조물은 베이스(105), 제1 안테나 패턴(110), 제2 안테나 패턴(120) 및 용량성 패턴들(130)을 포함한다.
상기 베이스(105)는 내열성 고분자 수지를 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 베이스(105)는 폴리이미드계 수지, 폴리에틸렌계 수지 또는 폴리카보네이트계 수지를 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 베이스(105)는 폴리이미드, 폴리에틸렌테레프탈레이트(polyethylene terephthalate; PET) 또는 폴리카보네이트로 이루어질 수 있다.
상기 제1 안테나 패턴(110)은 상기 베이스(105) 일면, 예를 들면 하면에 배치된다. 상기 제1 안테나 패턴(110)은 예를 들면 루프 형상을 가질 수 있다. 상기 제1 안테나 패턴(110)은 상기 루프들이 상호 연결된 나선 형상을 가질 수 있다.
상기 제1 안테나 패턴(110)은 구리, 은이 코팅된 구리, 알루미늄 및 전도성 탄소이 속하는 전도성 물질 중 적어도 하나로 이루어질 수 있다.
상기 제2 안테나 패턴(120)은 상기 베이스(105)의 타면, 예를 들면 상면에 배치된다. 도시된 바와 같이 상기 제2 안테나 패턴(120)은 두 개의 안테나 접점으로부터 연장된 패턴들을 포함할 수 있다. 상기 제2 안테나 패턴(120)은 구리, 은이 코팅된 구리, 알루미늄 및 전도성 탄소가 속하는 전도성 물질 중 적어도 하나로 이루어질 수 있다.
상기 제1 및 제2 안테나 패턴들(110, 120)은 상호 전기적으로 연결된다. 예를 들면 상기 제1 및 제2 안테나 패턴들(110, 120)은 상기 베이스(105)를 관통하도록 형성된 비아 내를 도전성 물질로 충진되어 형성된 비아 콘택(150)을 통하여 상호 전기적으로 연결될 수 있다. 이와 다르게, 상기 제1 및 제2 안테나 패턴들(110, 120)은 상기 베이스(105)를 사이에 두고 용량성 결합을 통하여 상호 전기적으로 연결될 수 있다. 즉, 상기 제1 및 제2 안테나 패턴들(110, 120)은 평면적으로 상호 중첩되는 영역을 갖고 상기 중첩 영역이 상기 제1 및 제2 안테나 패턴들(110, 120) 간의 용량성 결합을 가능하게 할 수 있다. 이때, 상기 중첩 영역의 면적을 조절함으로써 상기 루프 안테나 패턴 구조물(100)의 송수신 능력이 용이하게 변경될 수 있다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 상기 용량성 패턴들(130)은 상기 제2 안테나 패턴(120)으로부터 연장된다. 상기 용량성 패턴들(130)은 상기 제1 안테나 패턴(110)과 각각 중첩되는 영역(도2의 해칭된 영역에 해당)을 갖고 상기 중첩되는 영역에 의하여 상기 제1 안테나 패턴(110)과 커플링 결합을 한다. 즉, 상기 용량성 패턴들(130) 및 상기 제1 안테나 패턴(110)이 상호 커플링 결합함에 따라 복수의 커패시터들(C1, C2, C3, C4)이 상호 병렬적으로 연결될 수 있다.
한편, 상기 용량성 패턴들(130)은 상기 제2 안테나 패턴(120)으로부터 개별적으로 분리될 수 있다. 따라서, 상기 용량성 패턴들(130) 및 상기 제1 안테나 패턴(110)이 상호 중첩되는 영역의 면적에 따라 상기 정전 용량을 조절할 수 있다. 즉, 상기 용량성 패턴들(130) 중 제4 용랑성 패턴(134)이 상기 제2 안테나 패턴(120)으로부터 분리될 경우, 상기 제2 안테나 패턴(120)과 연결된 나머지 제1 내지 제3 용량성 패턴들(131, 132, 133) 및 상기 제1 안테나 패턴(110) 간의 각각의 커패시터들(C1, C2, C3)이 상호 병렬적으로 연결된다. 이로써 병렬 연결된 복수의 커패시터들(C1, C2, C3)이 상호 병렬 연결됨에 따라 등가 커패시턴스(Ceq)는 아래 수학식 1과 같다.
Figure 112013011866752-pat00001
한편, 루프 안테나 패턴 구조물의 공진 주파수(fres)는 아래의 수학식 2와 같다.
Figure 112013011866752-pat00002
따라서, 상기 용량성 패턴들(130) 중 제4 용량성 패턴(134)을 제거할 경우, 등가 커패시턴스(Ceq)는 감소한다. 따라서, 상기 공진 주파수(fres)는 증가할 수 있다. 이로써 상기 용량성 패턴들(120) 중 상기 제2 안테나 패턴(120)으로부터 분리되는 절단 위치에 따라 상기 등가 커패시턴스(Ceq)의 감소량이 조절할 수 있으므로써 상기 공진 주파수(fres)의 증가량을 조절할 수 있다.
본 발명에 따른 루프 안테나 패턴 구조물(100)을 포함하는 근거리 통신 시스템의 공진 주파수가 요구되는 값보다 작을 경우, 상기 용량성 패턴들(130) 중 일부를 상기 제2 안테나 패턴(120)으로부터 분리시켜, 상기 등가 커패시턴스(Ceq)를 감소시킴으로써 상기 공진 주파수(fres)를 증가시킬 수 있다.
도 4 및 도 5를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 루프 안테나 패턴 구조물(100)은 유도성 패턴들(140)을 더 포함할 수 있다.
상기 유도성 패턴들(140)은 상기 제1 안테나 패턴(110)의 단부로부터 연장된다. 상기 유도성 패턴들(140)은 상호 병렬적으로 연결된다. 상기 유도성 패턴들(140)은 상기 제1 안테나 패턴(110)으로부터 개별적으로 분리됨으로써 유도 용량을 조절할 수 있다.
즉, 상기 유도성 패턴들(140) 중 일부인 제5 및 제6 유도성 패턴들(145, 146)이 상기 제1 안테나 패턴(110)으로부터 분리될 경우, 상기 제1 안테나 패턴(110)과 연결된 나머지 제1 내지 제4 유도성 패턴들(141, 142, 143, 144) 만이 상호 병렬적으로 연결된다. 이로써 병렬 연결된 복수의 인덕터들이 이루는 등가 인덕턴스(Leq)는 아래 수학식 3과 같다.
Figure 112013011866752-pat00003
따라서, 상기 유도성 패턴들(140) 중 제5 및 제6 유도성 패턴들(145, 146)을 제거할 경우, 등가 인덕턴스(Leq)는 증가한다. 따라서, 상기 공진 주파수(fres)는 수학식 2에 따라 감소할 수 있다. 이로써 상기 유도성 패턴들(140) 중 상기 제1 안테나 패턴(110)으로부터 분리되는 절단 위치에 따라 상기 등가 인덕턴스(Leq)의 증가량이 조절할 수 있으며 따라서 상기 공진 주파수(fres)의 감소량을 조절할 수 있다.
본 발명에 따른 루프 안테나 패턴 구조물(100)을 포함하는 근거리 통신 시스템의 공진 주파수가 요구되는 값보다 높을 경우, 상기 유도성 패턴들(140) 중 일부를 상기 제1 안테나 패턴(110)으로부터 분리시켜, 상기 등가 인덕턴스(Leq)를 증가시킴으로써 상기 공진 주파수(fres)를 감소시킬 수 있다.
반면에, 실제 루프 안테나 패턴 구조물을 포함하는 근거리 통신 시스템을 구현할 경우 공진 주파수 값이 요구되는 공진 주파수보다 낮은 경우 상기 용랑성 패턴을 상기 제2 안테나 패턴으로부터 개별적으로 분리함으로써 공진 주파수를 증가시킬 수 있음으로써 원하는 공진 주파수를 확보할 수 있다.
이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 루프 안테나 패턴 구조물을 제조하기 위한 공정을 설명하기로 한다.
먼저 베이스(105)를 준비한다. 상기 베이스(105)는 내열성 고분자 수지로 형성될 수 있다. 상기 베이스(105)는 폴리이미드계 수지, 폴리에틸렌계 수지 또는 폴리카보네이트계 수지를 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 베이스(110)는 폴리이미드, 폴리에틸렌테레프탈레이트(polyethylene terephthalate; PET) 또는 폴리카보네이트로 이루어질 수 있다.
이어서, 상기 베이스(105)의 일 면에 상기 제1 도전 물질로 이루어진 제1 안테나 패턴(110)을 형성한다. 상기 제1 안테나 패턴은 제1 도전 영역을 포함한다.
상기 제1 안테나 패턴(110)은 은(Ag), 구리(Cu), 은 코팅된 구리, 알루미늄 또는 도전성 탄소로 형성될 수 있다. 상기 제1 안테나 패턴(120)이 구리로 이루어질 경우, 구리가 상대적으로 그 표면에 산화막이 형성되는 경향으로 인하여 추가적으로 산화막을 제거하는 공정이 수행될 수 있다. 상기 산화막을 제거하는 공정에는 황산, 질산, 염산과 같은 강산을 순수에 희석한 희석된 강산 용액을 이용될 수 있다.
한편, 상기 제1 안테나 패턴(110)을 형성하기 위한 공정은 에칭 공정, 전주 도금 공정, 스퍼터링 공정, 도전성 잉크 프린팅 공정 또는 스탬핑 공정을 포함할 수 있다. 특히, 도전성 잉크 프린팅 공정의 예로는, 스크린 인쇄, 프렉소 인쇄, 로터리 인쇄, 그라비어 인쇄, 옵셋 인쇄 등을 들 수 있다. 상기 도전성 잉크 프린팅 공정에 이용되는 도전성 페이스트는 유기물을 포함하므로 상기 유기물을 제거하기 위한 열처리 공정이 후속하여 수행될 수 있다.
상기 베이스의 타 면에 도전 물질로 이루어진 제2 안테나 패턴(120)을 형성한다. 상기 제2 안테나 패턴은 제2 도전 영역을 포함한다. 상기 제1 및 제2 도전 영역들은 평면적으로 상호 중첩되도록 위치한다.
상기 제2 안테나 패턴(120)은 은(Ag), 구리(Cu), 은 코팅된 구리, 알루미늄 또는 도전성 탄소로 형성될 수 있다. 상기 제2 안테나 패턴(120)이 구리로 이루어질 경우, 구리가 상대적으로 그 표면에 산화막이 형성되는 경향으로 인하여 추가적으로 산화막을 제거하는 공정이 수행될 수 있다. 상기 산화막을 제거하는 공정에는 황산, 질산, 염산과 같은 강산을 순수에 희석한 희석된 강산 용액을 이용될 수 있다.
한편, 상기 제2 안테나 패턴(120)을 형성하기 위한 공정은 에칭 공정, 전주 도금 공정, 스퍼터링 공정, 도전성 잉크 프린팅 공정 또는 스탬핑 공정을 포함할 수 있다. 특히, 도전성 잉크 프린팅 공정의 예로는, 스크린 인쇄, 프렉소 인쇄, 로터리 인쇄, 그라비어 인쇄, 옵셋 인쇄 등을 들 수 있다. 상기 도전성 잉크 프린팅 공정에 이용되는 도전성 페이스트는 유기물을 포함하므로 상기 유기물을 제거하기 위한 열처리 공정이 후속하여 수행될 수 있다.
상기 용량성 패턴들(130)이 상기 베이스(105)의 타 면에 형성된다. 상기 용량성 패턴들은 상기 제2 안테나 패턴으로부터 연장되도록 형성한다. 상기 용량성 패턴들은 상기 제2 안테나 패턴과 동시에 형성될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 유도성 패턴들(140)이 상기 베이스(105)의 일 면에 형성될 수 있다. 상기 유도성 패턴들은 상기 제1 안테나 패턴의 단부로부터 연장된다. 상기 유도성 패턴들은 상호 병렬적으로 연결된다. 상기 유도성 패턴들은 상기 제1 안테나 패턴으로부터 개별적으로 분리됨으로써 유도 용량을 조절할 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따른 루프 안테나 패턴 구조물 및 이의 제조 방법은 근거리 통신 장치에 적용될 수 있다. 예를 들면, 모바일 기기, 컴퓨터 기기의 안테나 장치에 적용될 수 있다.

Claims (8)

  1. 베이스;
    상기 베이스의 일면에 배치되며 제1 도전 영역을 구비하는 제1 안테나 패턴;
    상기 베이스의 타면에 상기 제1 안테나 패턴에 대향하게 배치되며, 상기 제1 안테나 패턴과 전기적으로 연결된 제2 안테나 패턴; 및
    상기 제2 안테나 패턴으로부터 연장되며, 상기 제1 안테나 패턴과 각각 커플링 결합하며 상기 제2 안테나 패턴으로부터 개별적으로 분리됨으로써 정전 용량을 조절할 수 있는 용량성 패턴들을 포함하고,
    상기 용량성 패턴들은 전체적으로 상호 연결되며, 상기 용량성 패턴들은 절단 위치들을 가지며, 상기 용량성 패턴들 중 적어도 하나가 상기 절단 위치들중 어느 하나에서 상기 제2 안테나 패턴으로부터 분리되어 상기 정전 용량이 조절될 수 있도록 구비된 것을 특징으로 하는 루프 안테나 패턴 구조물.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2 안테나 패턴들을 상호 연결하며, 상기 베이스를 관통하며 도전성 물질로 이루어진 비아 콘택을 포함하는 것을 특징으로 하는 루프 안테나 패턴 구조물.
  3. 제1항에 있어서, 상기 제1 안테나 패턴의 단부로부터 연장되고 상호 병렬적으로 연결되며 상기 제1 안테나로부터 개별적으로 분리됨으로써 유도 용량을 조절할 수 있는 유도성 패턴들을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 루프 안테나 패턴 구조물.
  4. 제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2 안테나 패턴들은 구리, 은이 코팅된 구리, 알루미늄 및 전도성 탄소가 이루는 도전성 물질이 이루는 군에서 선택된 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 루프 안테나 패턴 구조물.
  5. 제1항에 있어서, 13.56MHz에서 구동되는 것을 특징으로 하는 루프 안테나 패턴 구조물.
  6. 베이스의 일면 상에 제1 안테나 패턴을 형성하는 단계;
    상기 베이스의 타면 상에 상기 제1 안테나 패턴에 대향하게 배치되며, 상기 제1 안테나 패턴과 전기적으로 연결된 제2 안테나 패턴을 형성하는 단계; 및
    상기 제2 안테나 패턴과 연결되며, 상기 베이스 및 상기 제1 안테나 패턴과의 각각 커플링 결합하며 상기 제2 안테나 패턴으로부터 개별적으로 분리됨으로써 정전 용량을 조절할 수 있는 용량성 패턴들을 형성하는 단계를 포함하고,
    상기 용량성 패턴들은 전체적으로 상호 연결되며, 상기 용량성 패턴들은 절단 위치들을 가지며, 상기 용량성 패턴들 중 적어도 하나가 상기 절단 위치들중 어느 하나에서 상기 제2 안테나 패턴으로부터 분리되어 상기 정전 용량이 조절될 수 있도록 구비된 것을 특징으로 하는 루프 안테나 패턴 구조물의 제조 방법.
  7. 제6항에 있어서, 상기 제1 및 제2 안테나 패턴들 및 상기 용량성 패턴들은 에칭 공정, 전주 도금 공정, 스퍼터링 공정, 도전성 잉크 프린팅 공정 또는 스탬핑 공정을 통하여 형성되는 것을 특징으로 하는 루프 안테나 패턴 구조물의 제조 방법.
  8. 제6항에 있어서, 상기 제1 안테나 패턴을 형성하는 단계는 상기 제1 안테나 패턴의 단부로부터 연장되고 상호 병렬적으로 연결되며 상기 제1 안테나로부터 개별적으로 분리됨으로써 유도 용량을 조절할 수 있는 유도성 패턴들을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 루프 안테나 패턴 구조물의 제조 방법.
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KR20080096930A (ko) * 2007-04-30 2008-11-04 (주)케이디에스기술연구소 알에프아이디 안테나의 제조방법

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