KR101434556B1 - Heat treatment device for annealing process - Google Patents

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KR101434556B1
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Abstract

코일의 내권부에 가스 투입관과 가스 투입 지관 또는 가스 투입 플레이트를 설치하여 코일의 상부와 하부의 온도 편차를 감소시킬 뿐 아니라, 코일의 내권부와 외권부의 온도 편차를 감소시킬 수 있는 소둔공정용 열처리장치를 제공하기 위한 것이다.A gas inlet tube and a gas inlet tube or a gas inlet plate are provided in the inner portion of the coil to reduce the temperature deviation between the upper and lower portions of the coil and to reduce the temperature deviation between the inner and outer portions of the coil. And to provide a heat treatment apparatus for the same.

Description

소둔공정용 열처리 장치{HEAT TREATMENT DEVICE FOR ANNEALING PROCESS}HEAT TREATMENT DEVICE FOR ANNEALING PROCESS [0002]

본 발명은 소둔공정용 열처리장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 코일의 상부뿐만 아니라 하부에도 열전달이 균일하게 이루어지도록 하여 코일내 온도 편차를 감소시킬 수 있는 소둔공정용 열처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to a heat treatment apparatus for an annealing process, and more particularly, to a heat treatment apparatus for an annealing process capable of reducing temperature variation in a coil by uniformly transferring heat to an upper portion and a lower portion of the coil.

전기강판 제조공정 중 전기강판이 방향성을 갖게 하기 위해 코일을 일정시간 동안 1200℃ 정도의 고온에서 유지한 후 냉각시키는 COF(Continuous Open frame Furnace)공정을 거친다.In order to make the electric steel sheet oriented during the electric steel sheet manufacturing process, the coil is subjected to a COF (Continuous Open Frame Furnace) process in which the coil is maintained at a high temperature of about 1200 ° C. for a certain period of time and then cooled.

도 1은 종래 COF공정에서 사용되는 열처리 장치에 관한 개략도로서, 상기 열처리 장치는 코일이 놓여지는 베이스 플레이트(10)와, 베이스 플레이트(10)의 하부에 방사형으로 배치되는 하부 연와(30)와, 코일(C), 베이스 플레이트(10) 및 하부 연와(30)를 감싸는 커버(80)로 구성된다.FIG. 1 is a schematic view of a heat treatment apparatus used in a conventional COF process, wherein the heat treatment apparatus includes a base plate 10 on which a coil is placed, a lower knife 30 radially disposed on a lower portion of the base plate 10, And a cover 80 surrounding the coil C, the base plate 10, and the lower knob 30.

도 2는 종래 COF공정에서 사용되는 다른 열처리 장치에 관한 개략도로서, 상기 열처리 장치는 베이스 플레이트(10)와, 복사 열전달이 전달되는 열전달 공간부가 형성되는 하부 서포터(20)와, 코일(C) 및 베이스 플레이트(10)를 감싸는 커버(80)로 구성된다.FIG. 2 is a schematic view of another heat treatment apparatus used in a conventional COF process, wherein the heat treatment apparatus includes a base plate 10, a lower supporter 20 in which a heat transfer space portion through which radiative heat transfer is transmitted, And a cover 80 surrounding the base plate 10.

종래 COF공정에서 사용되는 열처리 장치는 가스 공급 배관이 코일(C) 내권부 하부에 위치하고, 상기 가스 공급 배관을 통해 상온의 내부 분위기 가스가 공급되므로 코일(C) 내권부 및 하부를 냉각하여, 코일(C)의 내권부와 외권부, 코일(C)의 하부와 상부의 온도편차를 크게 하였다.In the conventional heat treatment apparatus used in the COF process, since the gas supply pipe is located below the inner portion of the coil C and the ambient atmosphere gas at room temperature is supplied through the gas supply pipe, the coil and the lower portion of the coil C are cooled, The temperature difference between the inner and outer portions of the coil C and the lower and upper portions of the coil C is increased.

특히, COF 공정 중 승온대, 균열대 구간에서는 커버(80) 내부의 온도가 1200℃ 이상으로 가열된 상태인 반면, 공급되는 내부 분위기 가스의 온도는 상온이어서 코일(C)의 내권부와 외권부, 코일(C)의 하부와 상부의 온도편차를 더욱 심화시키는 문제점이 있었다.Particularly, in the COF process, the temperature inside the cover 80 is heated to 1200 ° C. or higher in the heating zone and the crack zone, while the temperature of the supplied atmospheric gas is at room temperature, , The temperature difference between the lower portion and the upper portion of the coil C is further increased.

이러한 코일(C)내 온도편차는 코일(C)의 자성편차를 증가시켜 코일(C)의 자성품질의 저하를 야기하였다.This temperature variation in the coil C increases the magnetic deviation of the coil C, causing a drop in the magnetic quality of the coil C. [

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 코일의 상부와 하부의 온도 편차를 감소시킬 뿐 아니라, 코일의 내권부와 외권부의 온도 편차를 감소시킬 수 있는 소둔공정용 열처리 장치를 제공하기 위한 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been devised to solve the problems described above and it is an object of the present invention to provide a heat treatment apparatus for an annealing process capable of reducing a temperature deviation between an upper portion and a lower portion of a coil, .

본 발명은 코일이 놓여지는 베이스 플레이트와, 상기 베이스 플레이트의 하부에 방사형으로 배치되는 하부 연와와, 상기 코일, 상기 베이스 플레이트 및 상기 하부 연와를 감싸는 커버를 포함하는 소둔공정용 열처리 장치에 있어서, 상기 코일 상부에 놓여 상기 커버의 복사 열전달을 저지하는 열교환 플레이트를 포함하는 송둔공정용 열처리 장치를 개시한다.The present invention provides a heat treatment apparatus for an annealing process, which includes a base plate on which a coil is placed, a lower softener disposed radially below the base plate, and a cover surrounding the coil, the base plate and the lower softener, And a heat exchange plate placed on the coil to prevent radiation heat transfer of the cover.

바람직하게는, 상기 열교환 플레이트는 상부 원형판, 상기 상부 원형판의 중앙에 형성된 원기둥 형상의 돌출부, 상기 상부 원형판의 외주면에 연결되어, 상기 코일의 외측 상부에 놓이는 단차부를 갖는 외부 환형판, 상기 돌출부와 상기 내부 환형판이 연결되는 부분에 가스의 유동을 유도하는 개구부가 형성될 수 있다.Preferably, the heat exchange plate includes an upper circular plate, a cylindrical protrusion formed at the center of the upper circular plate, an outer annular plate connected to the outer circumferential surface of the upper circular plate and having a stepped portion located on the outer upper side of the coil, An opening for guiding the flow of the gas may be formed at a portion where the inner annular plate is connected.

이때,상기 가스 투입 지관 사이에 설치되어 상기 가스 투입 지관을 연결하는 원형 형상의 보강부를 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include a circular reinforcing portion provided between the gas charging branch pipes and connecting the gas charging branch pipes.

바람직하게는, 상기 가스 투입관 상측에 원주 방향을 따라 연결되며, 하부에 복수개의 분사공이 형성되어 상기 코일 상부에 가스를 투입하는 환형의 가스 투입 플레이트를 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include an annular gas inlet plate connected to the gas inlet tube along the circumferential direction thereof and having a plurality of spray holes formed at a lower portion thereof to inject gas into the upper portion of the coil.

또한, 본 발명은 코일이 놓여지는 베이스 플레이트와, 상기 베이스 플레이트의 하부에 방사형으로 배치되는 하부 서포터와, 상기 코일 및 상기 베이스 플레이트를 감싸는 커버를 포함하는 소둔공정용 열처리 장치에 있어서, 상기 커버에 내측으로 연결되어 상기 코일 내권부에 위치하며, 상기 커버내에 가스를 투입하는 가스 투입관 및 상기 가스 투입관에 가스를 공급하는 가스 공급부를 포함하는 소둔공정용 열처리 장치를 개시한다.The present invention also provides a heat treatment apparatus for an annealing process comprising a base plate on which a coil is placed, a lower supporter radially disposed on the lower portion of the base plate, and a cover surrounding the coil and the base plate, Disclosed is a heat treatment apparatus for an annealing process, which includes a gas inlet tube which is connected to the inside of the coil and which injects gas into the cover, and a gas supply unit which supplies gas to the gas inlet tube.

바람직하게는, 상기 가스 투입관의 상부 단부가 상기 커버 내측에 일체로 연결되어, 상기 커버가 가열되면 열전달에 의해 상기 가스 투입관도 가열될 수 있다.Preferably, the upper end of the gas inlet tube is integrally connected to the inside of the cover, and when the cover is heated, the gas inlet tube can also be heated by heat transfer.

바람직하게는, 상기 가스 투입관은 상기 커버와 같은 스틸(steel)재질일 수 있다.Preferably, the gas inlet pipe may be made of a steel material such as the cover.

바람직하게는, 상기 가스 투입관 상측에 방사상으로 연결되어 코일 상부에 가스를 투입하는 복수 개의 가스 투입 지관을 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include a plurality of gas charging tubes connected to the upper side of the gas inlet tube and radially connected to the upper portion of the coil.

이때, 상기 가스 투입 지관 사이에 설치되어 상기 가스 투입 지관을 연결하는 원형 형상의 보강부를 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include a circular reinforcing portion provided between the gas charging branch pipes and connecting the gas charging branch pipes.

바람직하게는, 상기 가스 투입관 상측에 원주 방향을 따라 연결되며, 하부에 복수개의 분사공이 형성되어 상기 코일 상부에 가스를 투입하는 환형의 가스 투입 플레이트를 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include an annular gas inlet plate connected to the gas inlet tube along the circumferential direction thereof and having a plurality of spray holes formed at a lower portion thereof to inject gas into the upper portion of the coil.

본 발명에 따르면, 상온의 내부 분위기 가스가 가열된 가스 투입관을 통과하며 가열되어 공급됨으로써, 상온의 분위기 가스가 코일 하부 및 내권부에 직접 분사되어 코일 하부 및 내권부를 냉각시키는 것을 방지하여 코일 상/하부 및 내/외권부의 온도 편차를 감소시킬 수 있다.According to the present invention, since the ambient atmosphere gas at room temperature is supplied through the heated gas inlet tube and heated, the atmosphere gas at room temperature is directly sprayed to the lower portion and the inner portion of the coil to prevent the lower portion and the inner portion of the coil from being cooled, It is possible to reduce the temperature deviation of the upper / lower and inner / outer windings.

또한, 코일 상부에 가열된 내부 분위기 가스를 분사하여 코일 상부의 압력을 향상시킴으로써, 가열된 내부 분위기 가스가 하측으로 대류하여 코일 상/하부의 온도 편차를 감소시킬 수 있다.Further, by injecting the heated inner atmosphere gas to the upper portion of the coil to improve the pressure at the upper portion of the coil, the heated inner atmosphere gas can be convected downward to reduce the temperature deviation of the coil upper / lower portion.

또한, 코일 상부에 가스 투입 지관 또는 가스 투입 플레이트를 설치하여 커버로부터 복사 열전달에 의해 코일 상부가 직접 가열되는 것을 방지하고, 가스 투입 지관 또는 가스 투입 플레이트를 통한 간접적인 복사 열전달 형태로 바꾸어 코일 상부가 천천히 가열되도록 하여 코일 상/하부의 온도편차를 감소시킬 수 있다.In addition, a gas supply branch tube or a gas inlet plate is installed on the upper part of the coil to prevent the upper part of the coil from being directly heated by radiative heat transfer from the cover, and indirect heat transfer type through the gas supply branch pipe or gas inlet plate, It is possible to reduce the temperature deviation of the upper and lower portions of the coil.

도 1은 종래기술에 관한 개략도이다.
도 2는 종래기술에 관한 개략도이다.
도 3a는 본 발명의 제 1실시예에 따른 개략도이다.
도 3b는 본 발명의 제 2실시예에 따른 개략도이다.
도 4a는 본 발명의 제 3실시예에 따른 개략도이다.
도 4b는 본 발명의 제 4실시예에 따른 개략도이다.
도 5는 본 발명의 가스 투입 지관의 단면도 및 사시도이다.
도 6은 본 발명의 가스 투입 지관과 보강부의 연결 관계를 도시한 개략도이다.
도 7는 본 발명의 가스 투입 플레이트의 단면도 및 사시도이다.1 is a schematic view of the prior art.
2 is a schematic view of the prior art.
3A is a schematic view according to the first embodiment of the present invention.
3B is a schematic view according to a second embodiment of the present invention.
4A is a schematic diagram according to a third embodiment of the present invention.
4B is a schematic view according to a fourth embodiment of the present invention.
5 is a cross-sectional view and a perspective view of the gas charging branch of the present invention.
6 is a schematic view showing the connection relationship between the gas charging branch and the reinforcing portion of the present invention.
7 is a cross-sectional view and a perspective view of the gas inlet plate of the present invention.

이하, 본 발명과 관련된 소둔공정용 열처리 장치에 관한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 보다 상세히 설명한다.BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of a heat treatment apparatus for annealing process according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

장치 또는 요소 방향(예를들어 "전", "후", "위", "아래", "상", "하". "좌", "우", "횡") 등과 같은 용어들에 관하여 본원에 사용된 표현 및 술어는 단지 본 발명의 설명을 단순화하기 위해 사용되고, 관련된 장치 또는 요소가 단순히 특정 방향을 가져야 함을 나타내거나 의미하지 않는다.For a term such as device or element orientation (for example, "front", "after", "above", "below", "above", "lower", "left", "right", " The expressions and predicates used herein are used merely to simplify the description of the present invention and do not indicate or imply that the associated device or element should have a particular orientation.

도 3a는 본 발명에 따른 소둔공정용 열처리 장치의 제 1실시예에 따른 개략도이다.3A is a schematic view of a first embodiment of a heat treatment apparatus for an annealing process according to the present invention.

도 3a를 참조하면, 본 발명의 제 1실시예에 따른 소둔공정용 열처리 장치는 가스 투입관(400) 및 가스 공급부(700)를 포함한다.Referring to FIG. 3A, a heat treatment apparatus for an annealing process according to the first embodiment of the present invention includes a gas inlet pipe 400 and a gas supply unit 700.

가스 투입관(400)은 베이스 플레이트(100)상에 놓여진 코일(C)의 내경에 형성된 공간인 내권부에 위치한다.The gas inlet pipe 400 is located in the inner circumference which is a space formed in the inner diameter of the coil C placed on the base plate 100.

구체적으로, 베이스 플레이트(100)는 소정의 두께를 가지고 원반 형상이고, 베이스 플레이트(100)상에 코일(C)이 안착된다.Specifically, the base plate 100 has a predetermined thickness and is disk-shaped, and the coil C is seated on the base plate 100.

베이스 플레이트(100)의 중심부에는 소정의 직경을 갖는 원형의 개구부가 형성되어 베이스 플레이트(100)의 내주면을 이루고, 베이스 플레이트(100)의 개구부 내부에 가스 투입관(400)이 위치한다.A circular opening having a predetermined diameter is formed in the center of the base plate 100 to form an inner circumferential surface of the base plate 100 and a gas inlet pipe 400 is positioned inside the opening of the base plate 100.

베이스 플레이트(100) 하부에는 복수개의 하부 연와(300)가 방사상으로 배치된다.Below the base plate 100, a plurality of lower knees 300 are arranged radially.

하부 연와(300)는 베이스 플레이트(100) 하부에 베이스 플레이트(100)의 원형 개구부에 대응하는 공간이 형성되도록 소정의 간격을 두고 배치되고, 상기 공간에 가스 투입관(400)이 위치한다.The lower knob 300 is disposed at a predetermined distance below the base plate 100 to form a space corresponding to the circular opening of the base plate 100 and a gas inlet pipe 400 is disposed in the space.

커버(800)는 하부 연와(300), 베이스 플레이트(100), 코일(C)을 감싸도록 덮어 바닥(600)의 모래 등의 실링 부재(610)에 고정되어 외부의 버너연소가스와 내부 분위기 가스간의 직접적인 접촉을 차단한다.The cover 800 is fixed to the sealing member 610 such as sand of the bottom 600 by covering the lower flame 300, the base plate 100 and the coil C so as to cover the outer burner combustion gas and the inner atmosphere gas Thereby preventing direct contact between the two.

가스 투입관(400)은 파이프 형상이며,가스 공급부(700)에 의해 공급된 상온의 내부 분위기 가스가 코일(C) 하부 및 내권부에 직접 분사되어 코일(C) 하부 및 내권부를 냉각시키는 것을 방지하여, 코일(C) 하부와 코일(C) 상부의 온도 편차를 감소시킬 수 있다.The gas inlet pipe 400 is in the shape of a pipe and the inner atmosphere gas at room temperature supplied by the gas supply unit 700 is directly sprayed to the lower portion and the inner portion of the coil C to cool the lower portion and the inner portion of the coil So that the temperature deviation between the lower portion of the coil C and the upper portion of the coil C can be reduced.

가스 투입관(400) 상부에 분사공을 통해 가스 투입관(400)을 통과하면서 가열된 내부 분위기 가스를 코일(C) 상부에 분사함으로써 코일(C) 상부와 코일(C) 하부의 온도 편차를 감소시킬 수 있다.The temperature difference between the upper portion of the coil C and the lower portion of the coil C is obtained by injecting the heated inner atmosphere gas onto the upper portion of the coil C through the injection pipe 400 through the injection pipe 400 .

도 3b는 본 발명에 따른 소둔공정용 열처리 장치의 제 2실시예에 따른 개략도이다.3B is a schematic view of a second embodiment of a heat treatment apparatus for an annealing process according to the present invention.

본 발명의 제 2실시예에 따른 소둔공정용 열처리 장치는 하부 서포터(200)의 구성과 커버(800) 및 가스 투입관(400)의 배치를 제외하고 앞선 제 1실시예와 동일한 구성을 가지며, 동일한 구성에 대한 설명은 앞선 설명에 갈음한다.The heat treatment apparatus for the annealing process according to the second embodiment of the present invention has the same configuration as that of the first embodiment except for the configuration of the lower supporter 200 and the arrangement of the cover 800 and the gas inlet pipe 400, The description of the same configuration is omitted from the above description.

베이스 플레이트(100) 하부에는 복수개의 하부 서포터(200)가 방사상으로 배치된다.A plurality of lower supporters (200) are arranged radially below the base plate (100).

하부 서포터(200)는 베이스 플레이트(100)를 지지한다.The lower supporter 200 supports the base plate 100.

하부 서포터(200)는 베이스 플레이트(100) 하부에 베이스 플레이트(100)의 원형 개구부에 대응하는 공간이 형성되도록 배치되고, 상기 공간에 가스 투입관(400)이 위치한다.The lower supporter 200 is disposed below the base plate 100 to define a space corresponding to the circular opening of the base plate 100 and a gas inlet pipe 400 is disposed in the space.

커버(800)는 베이스 플레이트(100), 코일(C)을 감싸도록 덮어 베이스 플레이트(100)의 모래 등의 실링 부재(110)에 고정되어 외부의 버너연소가스와 내부 분위기 가스간의 직접적인 접촉을 차단한다.The cover 800 covers the base plate 100 and the coil C and is fixed to the sealing member 110 such as sand of the base plate 100 to prevent direct contact between the burner combustion gas and the inner atmosphere gas do.

가스 투입관(400)은 베이스 플레이트(100)의 개구부 내부와 코일(C) 내권부에 위치한다.The gas inlet pipe 400 is located in the opening of the base plate 100 and in the coil C.

도 4a는 본 발명의 제 3실시예에 따른 개략도이다.4A is a schematic diagram according to a third embodiment of the present invention.

본 발명의 제 3실시예에 따른 소둔공정용 열처리 장치는 가스 투입관(400)의 구성을 제외하고 앞선 제 1실시예와 동일한 구성을 가지며, 동일한 구성에 대한 설명은 앞선 설명에 갈음한다.The heat treatment apparatus for annealing process according to the third embodiment of the present invention has the same configuration as that of the first embodiment except for the configuration of the gas inlet pipe 400, and the description of the same configuration is omitted from the above description.

가스 투입관(400)의 상부 단부가 커버(800) 내측에 일체로 연결된다.The upper end of the gas inlet pipe 400 is integrally connected to the inside of the cover 800. [

커버(800)가 외부 가열원(미도시)에 의한 복사 열전달로 가열되면 전도에 의한 열전달에 의해 커버(800)에 일체로 연결된 가스 투입관(400)도 가열된다.When the cover 800 is heated by radiative heat transfer by an external heating source (not shown), the gas inlet tube 400 integrally connected to the cover 800 is also heated by conduction by conduction.

이때, 열전도도를 높이기 위해 가스 투입관(400)은 커버(800)와 같은 스틸(steel)재질인 것이 바람직하다.At this time, in order to increase the thermal conductivity, the gas inlet pipe 400 is preferably made of a steel material such as the cover 800.

코일(C) 내권부에 위치한 가열된 가스 투입관(400)은 코일(C) 내권부에 복사에 의한 열전달을 하여 코일(C) 외권부에 비해 상대적으로 가열 효율이 낮은 코일 내권부의 가열 효율을 향상시키고, 이로써 코일(C) 내권부와 코일(C) 외권부의 온도 편차를 감소시킬 수 있다.The heated gas inlet tube 400 located in the inner circumference of the coil C radiates heat to the inner circumference of the coil C and is heated by the heating efficiency of the inner circumference coil having a relatively low heating efficiency as compared with the outer circumference of the coil C. [ Thereby reducing the temperature deviation between the inner coil portion of the coil C and the outer coil portion of the coil C. [

도 4b는 본 발명의 제 4실시예에 따른 개략도이다.4B is a schematic view according to a fourth embodiment of the present invention.

본 발명의 제 4실시예에 따른 소둔공정용 열처리 장치는 가스 투입관(400)의 구성을 제외하고 앞선 제 2실시예와 동일한 구성을 가지며, 동일한 구성에 대한 설명은 앞선 설명에 갈음한다.The heat treatment apparatus for annealing process according to the fourth embodiment of the present invention has the same configuration as that of the second embodiment except for the configuration of the gas inlet tube 400, and the description of the same configuration is omitted from the above description.

가스 투입관(400)의 상부 단부가 커버(800) 내측에 일체로 연결된다.The upper end of the gas inlet pipe 400 is integrally connected to the inside of the cover 800. [

이때, 열전도도를 높이기 위해 가스 투입관(400)은 커버(800)와 같은 스틸(steel)재질인 것이 바람직하다.At this time, in order to increase the thermal conductivity, the gas inlet pipe 400 is preferably made of a steel material such as the cover 800.

커버(800) 내측에 가스 투입관(400)이 연결되는 구성에 의해 발생하는 효과는 제 3실시예의 효과와 동일하므로, 이에 따라 발생하는 효과는 앞선 제 3실시예의 설명에 갈음한다.The effect produced by the structure in which the gas inlet pipe 400 is connected to the inside of the cover 800 is the same as the effect of the third embodiment, and the effect produced thereby is replaced with the description of the third embodiment.

도 5는 본 발명의 가스 투입 지관(430)에 관한 개략도이다.5 is a schematic view of the gas charging branch pipe 430 of the present invention.

가스 투입 지관(430)은 복수개가 설치될 수 있으며, 가스 투입관(400) 상측에 원주 방향을 따라 방사상으로 연결된다.A plurality of gas supply branch pipes 430 may be installed and radially connected to the gas supply pipe 400 along the circumferential direction.

상기 가스 투입 지관은 파이프 형상일 수 있다.The gas supply branch pipe may be in the form of a pipe.

가스 투입 지관(430) 하부에 복수개의 분사공(미도시)이 형성되어, 분사공(미도시)을 통하여 코일(800) 상부에 내부 분위기 가스를 분사한다.A plurality of spray holes (not shown) are formed in the lower part of the gas supply branch pipe 430 to spray the inner atmosphere gas to the upper portion of the coil 800 through a spray hole (not shown).

가스 투입 지관(430)을 통해 코일(C) 상부에 분사된 내부 분위기 가스는 코일(S) 상부를 하부에 비하여 고압으로 형성하여, 가열된 분위기 가스가 하측으로 대류함으로써 코일(S)내 상,하부 열전달 효율을 향상시켜 코일(S) 하부와 코일(S) 상부의 온도 편차를 감소시킬 수 있다.The inner atmosphere gas injected to the upper portion of the coil C through the gas feeding branch pipe 430 forms the upper portion of the coil S at a higher pressure than the lower portion of the coil S and the heated atmospheric gas conveys downward, The lower heat transfer efficiency can be improved and the temperature deviation between the lower portion of the coil S and the upper portion of the coil S can be reduced.

도 6은 본 발명의 가스 투입 지관(430)과 보강부(470)의 연결 관계를 도시한 개략도이다.6 is a schematic view showing the connection relationship between the gas charging branch pipe 430 and the reinforcing portion 470 of the present invention.

보강부(470)는 일정한 면을 갖고 가스 투입관(400) 주위에 반경 방향으로 설치되며, 가스 투입 지관(430) 사이에 설치되어 원형 형상으로 설치되어 가스 투입 지관(430)을 연결한다.The reinforcing portion 470 has a predetermined surface and is installed in a radial direction around the gas introducing pipe 400. The reinforcing portion 470 is installed between the gas charging branch pipes 430 and has a circular shape to connect the gas charging branch pipe 430. [

보강부(470)에 의해 가스 투입 지관(430)이 보다 안정적으로 고정될 수 있으며, 커버(800)에 의해 코일(C) 상부에 직접적으로 전달되는 복사열을 차단함으로써 코일(C) 상부의 과열을 방지한다.The gas supply branch pipe 430 can be more stably fixed by the reinforcement portion 470 and the overheat of the upper portion of the coil C can be prevented by blocking the radiant heat directly transmitted to the upper portion of the coil C by the cover 800 prevent.

도 7은 본 발명의 가스 투입 플레이트(450)에 관한 개략도이다.7 is a schematic view of the gas inlet plate 450 of the present invention.

가스 투입 플레이트(450)는 일정한 반경으로 가스 투입관(400) 상측에 원주 방향을 따라 연결된다.The gas inlet plate 450 is connected to the gas inlet tube 400 in the circumferential direction at a constant radius.

가스 투입 플레이트(450) 하부에 복수개의 분사공(미도시)이 형성되며, 가열된 가스 투입관(400)을 통과하며 가열된 내부 분위기 가스가 분사공(미도시)을 통해 코일(C) 상부에 분사된다. 이로써, 코일(C) 상부가 하부에 비하여 고압으로 형성되며, 가열된 분위기 가스가 하측으로 대류함으로써 코일(C)내 상,하부 열전달 효율을 향상시킬 수 있다.A plurality of spray holes (not shown) are formed in the lower portion of the gas inlet plate 450. The heated inner gas passes through the heated gas inlet pipe 400 and is supplied to the upper portion of the coil C through a spray hole . As a result, the upper portion of the coil C is formed at a higher pressure than the lower portion, and the heated atmospheric gas convects downward to improve the heat transfer efficiency in the coil C.

또한, 코일(C) 상부에 위치하는 가스 투입 플레이트(450)는 커버(800)로부터 복사 열전달에 의해 코일(C) 상부가 직접 가열되는 것을 방지하여 하여 코일(C) 상부와 하부의 온도편차를 감소시킬 수 있다.The gas inlet plate 450 located above the coil C prevents the upper portion of the coil C from being directly heated by radiative heat transfer from the cover 800 so that the temperature difference between the upper portion and the lower portion of the coil C .

이상에서는 본 발명에 따른 소둔공정용 열처리 장치를 첨부한 도면들을 참조하여 설명하였으나, 본 발명은 본 명세서에 개시된 실시예와 도면에 의해 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 기술사상의 범위 내에서 당업자에 의해 다양한 변형이 이루어질 수 있다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, Various modifications can be made.

C : 코일 100 : 베이스 플레이트 110 , 610 : 실링 부재
200 : 하부 서포터 300 : 하부 연와 400 : 가스 투입관
430 : 가스 투입 지관 450 : 가스 투입 플레이트
470 : 보강부 600 : 바닥
700 : 가스 공급부 800 : 커버C: coil 100: base plate 110, 610: sealing member
200: Lower supporter 300: Lower duct 400: Gas inlet pipe
430: gas inlet tube 450: gas inlet plate
470: reinforcement part 600: bottom
700: gas supply part 800: cover

Claims (7)

코일이 놓여지는 베이스 플레이트와, 상기 베이스 플레이트의 하부에 방사형으로 배치되는 하부 연와와, 상기 코일, 상기 베이스 플레이트 및 상기 하부 연와를 감싸는 커버를 포함하는 소둔공정용 열처리 장치에 있어서,
상기 코일 내권부에 위치하며, 상기 커버내에 가스를 투입하는 가스 투입관; 및
상기 가스 투입관에 가스를 공급하는 가스 공급부를 포함하되,
상기 가스 투입관의 상부 단부가 상기 커버 내측에 일체로 연결되어 상기 커버가 가열되면 열전달에 의해 상기 가스 투입관도 가열되는 것을 특징으로 하는 소둔공정용 열처리 장치.A heat treatment apparatus for an annealing process, comprising: a base plate on which a coil is placed; a lower softener disposed radially below the base plate; and a cover surrounding the coil, the base plate and the lower softener,
A gas inlet tube which is located in the inside of the coil and into which gas is injected; And
And a gas supply unit for supplying gas to the gas inlet pipe,
Wherein the upper end of the gas inlet tube is integrally connected to the inside of the cover, and when the cover is heated, the gas inlet tube is also heated by heat transfer. 코일이 놓여지는 베이스 플레이트와, 상기 베이스 플레이트의 하부에 방사형으로 배치되는 하부 서포터와, 상기 코일 및 상기 베이스 플레이트를 감싸는 커버를 포함하는 소둔공정용 열처리 장치에 있어서,
상기 코일 내권부에 위치하며, 상기 커버내에 가스를 투입하는 가스 투입관; 및
상기 가스 투입관에 가스를 공급하는 가스 공급부를 포함하되,
상기 가스 투입관의 상부 단부가 상기 커버 내측에 일체로 연결되어 상기 커버가 가열되면 열전달에 의해 상기 가스 투입관도 가열되는 것을 특징으로 하는 소둔공정용 열처리 장치.A heat treatment apparatus for an annealing process comprising a base plate on which a coil is placed, a lower supporter radially disposed on a lower portion of the base plate, and a cover surrounding the coil and the base plate,
A gas inlet tube which is located in the inside of the coil and into which gas is injected; And
And a gas supply unit for supplying gas to the gas inlet pipe,
Wherein the upper end of the gas inlet tube is integrally connected to the inside of the cover, and when the cover is heated, the gas inlet tube is also heated by heat transfer. 삭제delete 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 가스 투입관은 상기 커버와 같은 스틸(steel)재질인 것을 특징으로 하는 소둔공정용 열처리 장치.The method according to claim 1 or 2,
Wherein the gas inlet pipe is made of a steel material such as the cover. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 가스 투입관 상측에 방사상으로 연결되어 코일 상부에 가스를 투입하는 복수 개의 가스 투입 지관을 더 포함하는 소둔공정용 열처리 장치.The method according to claim 1 or 2,
Further comprising a plurality of gas inlet tubes connected radially to the upper side of the gas inlet tube for introducing gas into the upper portion of the coil. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 가스 투입관 상측에 원주 방향을 따라 연결되며, 하부에 복수개의 분사공이 형성되어 상기 코일 상부에 가스를 투입하는 환형의 가스 투입 플레이트를 더 포함하는 소둔공정용 열처리 장치.The method according to claim 1 or 2,
Further comprising an annular gas inlet plate connected to the gas inlet tube along a circumferential direction and having a plurality of spray holes formed at a lower portion thereof to inject gas into the upper portion of the coil. 청구항 5에 있어서,
상기 가스 투입 지관 사이에 설치되어 상기 가스 투입 지관을 연결하는 원형 형상의 보강부를 더 포함하는 소둔공정용 열처리 장치.The method of claim 5,
And a circular reinforcing portion provided between the gas charging branch pipes and connecting the gas charging branch pipe.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR0116094Y1 (en) * 1994-11-22 1998-06-15 김만제 Center guide of coil multiplex stock with heat treatment furnace
KR20120073676A (en) * 2010-12-27 2012-07-05 주식회사 포스코 Heat-treatment apparatus in continuous annealing line

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