KR101424998B1 - Apparatus and method for fabricating glass bodies using an aerosol delivery system - Google Patents

Apparatus and method for fabricating glass bodies using an aerosol delivery system Download PDF

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로버트 에스. 윈들러
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후루카와 일렉트릭 노쓰 아메리카 인코포레이티드
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Abstract

본 발명은, 다수의 성분들을 포함하며 이들 성분 중의 하나 이상이 증기압이 낮은(LVP) 전구체를 갖는 도펀트(예: 희토류 원소)인 유리 바디(glass body)의 제조방법으로서, LVP 전구체로부터 에어로졸을 생성시키는 단계(a), 기타 성분의 증기를 별도로 생성시키는 단계(b), 에어로졸과 증기를 기재를 포함하는 증착 시스템으로 대류시키는 단계(c) 및 기재의 표면 위에 하나 이상의 도핑된 층을 형성시키는 단계(d)를 포함하는, 유리 바디의 제조방법에 관한 것이다. 한 양태에서, 당해 방법은 특정 범위의 크기를 벗어나는 에어로졸 입자를 제거하도록 에어로졸을 여과하는 단계를 포함한다. 또한, 본 발명은 희토류 도펀트의 에어로졸을 생성시키는 데 특히 유용한 독창적인 에어로졸 생성기에 관한 것이다. 본 발명은 Yb-도핑된 광섬유에 관한 특정 양태를 기술한다.The present invention is directed to a method of making a glass body comprising a plurality of components and wherein at least one of the components is a dopant (e.g., a rare earth element) having a low vapor pressure (LVP) precursor, wherein an aerosol is generated from the LVP precursor (B) heating the aerosol and the vapor to a vapor deposition system comprising a substrate; (c) forming at least one doped layer on the surface of the substrate; (d). < / RTI > In one embodiment, the method includes filtering the aerosol to remove aerosol particles outside of a particular range of sizes. The invention also relates to an inventive aerosol generator particularly useful for generating aerosols of rare earth dopants. The present invention describes certain aspects relating to Yb-doped optical fibers.

광섬유, LVP 전구체, 증착 시스템, 유리 바디, 희토류 도펀트 Optical fiber, LVP precursor, deposition system, glass body, rare earth dopant

Description

에어로졸 전달 시스템을 사용하여 유리 바디를 제조하기 위한 장치 및 방법{Apparatus and method for fabricating glass bodies using an aerosol delivery system}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to an apparatus and a method for manufacturing a glass body using an aerosol delivery system,

본 발명과 이의 다양한 특징 및 이점은 첨부된 도면을 참조로 하여 후술되는 상세한 설명으로부터 용이하게 이해될 수 있다.The present invention and its various features and advantages can be readily understood from the following detailed description with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 한 양태에 따라 희토류(RE)-도핑된 광섬유를 제조하기 위한 장치를 도시한 부분 등각 투영도이다.1 is a partial isometric view illustrating an apparatus for fabricating a rare earth (RE) -doped optical fiber in accordance with an aspect of the present invention.

도 2는 본 발명의 또 다른 양태에 따르는 에어로졸 생성기의 측면도 2개[파트(A) 및 파트(B)]와 말단도[파트(C)]를 도시한 것이다. 파트(A)는 파트(C)의 화살표 A를 따라 본 측면도인 반면, 파트(B)는 파트(C)의 화살표 B를 따라 본 측면도이다. 파트(A)의 가열기(12.4a, 12.4b)는 개략적으로 도시되어 있다.Figure 2 shows two side views (part (A) and part (B)] and an end view (part (C)) of an aerosol generator according to another aspect of the present invention. Part A is a side view along arrow A of part C while part B is a side view along arrow B of part C. [ The heaters 12.4a, 12.4b of the part (A) are shown schematically.

도 3은 본 발명의 또 다른 양태에 따라 에어로졸이 MCVD 모재 튜브에 도입되기 전에 증기화되도록 내장된 동심원 내부 튜브를 갖는 공급 튜브의 부분 등각 투영도이다.3 is a partial isometric view of a supply tube having a concentric inner tube embedded to vaporize the aerosol prior to introduction into the MCVD parent tube, in accordance with another aspect of the present invention.

도 4는 상이한 두 가지의 경우에 대해 Yb-도핑된 실리카 섬유의 투광율이 시간 경과에 따라 어떻게 열화(광흑화: photodarkening)되는지를 나타내는 그래프이다.4 is a graph showing how the transmittance of Yb-doped silica fibers is deteriorated (photodarkening) over time for two different cases.

관련 출원에 대한 상호 참조Cross-reference to related application

본 출원은 2005년 12월 16일자로 출원되어 계류 중이며 발명의 명칭이 "광섬유용 에어로졸 전달 방법 및 섬유 모재 제조방법{Aerosol delivery method for optical fiber and fiber preform fabrication}"인 미국 가특허원 제60/750,966호에 대한 우선권을 주장한다.This application is a continuation-in-part of U.S. Provisional Patent Application Serial No. 60 / 542,502, filed December 16, 2005, entitled " Aerosol Delivery Method for Optical Fiber and Fiber Preform Fabrication, " 750,966.

발명의 분야Field of invention

본 발명은 유리 바디(예: 광섬유, 평면형 도파로, 유리 수트)에 관한 것이며, 보다 특히 희토류(RE) 도핑된 광섬유를 제조하기 위한 장치 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to glass bodies (e.g., optical fibers, planar waveguides, glass soot) and more particularly to apparatus and methods for manufacturing rare earth (RE) doped optical fibers.

관련 기술의 논의Discussion of related technologies

광섬유를 제조하기 위한 표준 MCVD 기술에서, 모재는 비교적 고증기압(HVP) 전구체 유리(예: SiCl4, GeCl4 및 POCl3)와 산소를 회전 실리카 기재 튜브 아래로 유동시켜 제조한다. 외부 수소-산소 토치가 서서히 튜브 길이 방향을 횡단하여 튜브의 소구획을 국부적으로 가열한다. 토치보다 훨씬 빨리 이동하는 가스 스트림이 토칭된 구획에 접근함에 따라 가열되어, 전구체가 산소와 반응하여 산화물 에어로졸 입자들을 형성하기에 충분한 정도로 뜨거워진다. 이들 입자는 콜로이드화되어 서로 합체되어 크기가 커진다. 가스 스트림이 토칭된 구획을 떠남에 따라, 이는 튜브 벽에 비해 뜨거운 상태를 유지한다. 튜브와 가스 스트림 사이의 이러한 온도 구배로 인해, 에어로졸 입자들이 튜브 벽을 따라 이동하여 튜브 벽에 증착되어 수트 층을 형성한다. 토치가 이러한 수트 층을 통과함에 따라, 당해 수트는 소결되어 고체 유리 층으로 전환된다. 당해 공정을 반복수행하여 튜브 내벽 위에 다수의 유리 층을 증착시키며, 예를 들면, 수백 개의 층이 증착하여 통상적인 실리카 섬유의 코어가 제조될 수 있지만, 통상 다수의 보다 적은 개수의 층(예를 들면, 3 내지 15층)이 증착하여 RE-도핑된 섬유 코어가 제조된다. 층 증착이 종결된 후, 당해 튜브를 가열 붕괴시켜 모재(preform)로서 공지된 고체 막대를 형성시킨다. 표준 기술을 사용하여 당해 모재로부터 광섬유를 인출한다.In standard MCVD techniques for fabricating optical fibers, the parent material is prepared by flowing relatively high vapor pressure (HVP) precursor glasses (eg, SiCl 4 , GeCl 4, and POCl 3 ) and oxygen under a rotating silica base tube. The external hydrogen-oxygen torch slowly traverses the tube length direction to locally heat the small section of the tube. As the gas stream moving farther than the torch approaches the touched compartment, it is heated to a temperature sufficient to cause the precursor to react with oxygen to form oxide aerosol particles. These particles are colloidal and coalesce to increase in size. As the gas stream leaves the torpedo compartment, it remains hot compared to the tube wall. Due to this temperature gradient between the tube and the gas stream, aerosol particles migrate along the tube wall and are deposited on the tube wall to form a soot layer. As the torch passes through this soot layer, the soot is sintered and converted into a solid glass layer. Although the process may be repeated to deposit a plurality of glass layers on the inner wall of the tube, for example, hundreds of layers may be deposited to produce the cores of conventional silica fibers, typically a number of smaller number of layers 3 to 15 layers) are deposited to produce RE-doped fiber cores. After the layer deposition is terminated, the tube is heated to collapse to form a solid rod known as a preform. The optical fiber is drawn out from the base material using standard techniques.

적합한 HVP 전구체가 존재하지 않기 때문에 당해 표준 MCVD 방법을 사용하여 모든 바람직한 도펀트를 전달할 수 있는 것은 아니다. 적합한 전구체는 비교적 높은 증기압(실온에서 약 1torr 이상)을 가져야 하며, 증착된 유리의 특성에 악영향을 미칠 어떠한 화학 물질(예: 수소, 물)도 함유하지 않아야 한다. RE 원소[특히 에르븀(Er) 및 이테븀(Yb)]과 같은 일부 바람직한 도펀트는 증기압이 낮은(LVP) 전구체를 가지며, 표준 MCVD와 같은 편리한 증기상 접근법을 사용하여 전달될 수 없다.Not all suitable dopants can be delivered using the standard MCVD method because there is no suitable HVP precursor. Suitable precursors should have relatively high vapor pressures (at least about 1 torr at room temperature) and should not contain any chemicals (e.g., hydrogen, water) that will adversely affect the properties of the deposited glass. Some desirable dopants, such as RE elements (especially erbium (Er) and ytterbium (Yb)) have low vapor pressure (LVP) precursors and can not be delivered using a convenient vapor phase approach such as standard MCVD.

이러한 문제를 해결하기 위해, LVP RE 전구체를 사용하는 몇 가지 제조방법이 선행 기술에서 개발되었으나, 이들은 모두 현저한 한계를 갖는다. 아래에 가장 일반적인 방법과 이들 방법의 가장 현저한 한계점을 간단하게 설명하였다.To solve this problem, several manufacturing methods using LVP RE precursors have been developed in the prior art, but all have significant limitations. Below we briefly describe the most common methods and the most significant limitations of these methods.

용액 도핑법: 수트 층이 표준 도펀트를 사용하는 기재 튜브의 내벽에 증착되지만, 수트 층이 소결되지는 않는다. 수트 층이 LVP RE 전구체를 함유하는 액상 용액으로 침지된다. 당해 용액을 튜브로부터 배수시키는 경우, 당해 수트 층은 수트의 공극 속에 소정량의 용액을 보유하는 스폰지와 같이 작용한다. LVP 전구체를 함유하는 수트 층을 건조시키고, LVP 전구체를 산화시키며, 수트 층을 소결시킨다. 용액 도핑법은 다음과 같은 한계점을 갖는다: (i) LVP 도펀트 농도의 재현성이 모재에 따라 불량하다; (ii) 수트 층에 의해 보유된 액체의 양이 다공도에 의존하는데, 이를 제어하기가 매우 어렵다; (iii) 당해 공정은 표준 MCVD 유리 층의 경우 소요되는 약 10분에 비해 증착된 유리 층당 1 내지 2시간이 소요되어 매우 시간 소모적이다. Solution Doping : The soot layer is deposited on the inner wall of the substrate tube using standard dopants, but the soot layer is not sintered. The soot layer is immersed in a liquid solution containing the LVP RE precursor. When the solution is drained from the tube, the soot layer acts like a sponge holding a predetermined amount of solution in the pores of the soot. The soot layer containing the LVP precursor is dried, the LVP precursor is oxidized, and the soot layer is sintered. Solution doping has the following limitations: (i) the reproducibility of the LVP dopant concentration is poor depending on the parent material; (ii) the amount of liquid retained by the soot layer depends on the porosity, which is very difficult to control; (iii) the process is very time consuming, taking about 1-2 hours per deposited glass layer compared to about 10 minutes for a standard MCVD glass layer.

킬레이트법: 모재는 RE 원소의 킬레이트 전구체를 사용하여 제조된다. 킬레이트는 비교적 높은 증기압을 갖는 거대 유기-금속 화합물이다. 킬레이트 공정은 다음 한계점을 갖는다: 킬레이트는 수소와 같은 바람직하지 않은 원소를 함유하며, 현재까지 고품질 광섬유에 요구되는 순도를 갖는 유리를 생산한 바가 없다. Chelation method : The base material is prepared using the chelate precursor of the RE element. Chelates are large organo-metallic compounds with relatively high vapor pressures. The chelating process has the following limitations: The chelate contains undesirable elements such as hydrogen and has not produced glass with the purity required to date for high quality optical fibers.

증기 전달법: 목적하는 LVP RE 전구체를 함유하는 앰플이 MCVD 기재 튜브 내부에 배치된다. 당해 앰플을 외부 가열원(예: 화염 또는 노)을 사용하여 필요한 증기압을 얻기에 충분히 높은 온도로 가열한다. 본원 명세서에 참조로 인용되는, 1987년 5월 19일자로 맥체스니(MacChesney, J.B.) 등에게 허여된 미국 특허 제4,666,247호를 참고한다. 앰플 접근법은 다음 한계점을 갖는다: (i) 전구체 증기압(및 이의 전달량)이 온도에 매우 민감한데, 몇 개의 동심원 유리 튜브 내에 배치된 RE 공급원 물질을 외부 가열원이 가열하기 때문에 공정의 제어가 매우 어렵다; (ii) 가스 스트림을 유동시키면 튜브가 냉각되며, 이로 인해 실제 가열원 온도가 불확실해진다; (iii) 전구체와 캐리어 가스 사이에 작은 표면적만이 존재하여, 전구체가 캐리어 가스에서 포화되지 않을 것이다. 이는, 표면 크기가 변하거나 표면이, 예를 들면, RE 산화물 층에 의해 피복되는 경우 전달된 전구체의 양을 변화시킨다; (iv) 전구체가 앰플을 떠나는 경우, 전구체의 일부 또는 전부가 주변 산소와 반응하여 금속 산화물 에어로졸 입자를 형성한다. 이들 에어로졸 입자의 크기는 제어되지 않는다. 거대 입자가 형성되는 경우, 현재의 기술은 이들이 클러스터를 형성하여 RE-도핑된 모재 및 섬유에 유해할 수 있음을 제시한다. Steam transfer : An ampoule containing the desired LVP RE precursor is placed inside the MCVD substrate tube. The ampoule is heated to a temperature high enough to obtain the required vapor pressure using an external heating source (e.g., flame or furnace). See U.S. Patent No. 4,666,247, issued May 19, 1987 to MacChesney, JB et al., Which is incorporated herein by reference. The ample approach has the following limitations: (i) The precursor vapor pressure (and its transfer rate) is very sensitive to temperature, which is very difficult to control because the external source heats the RE source material placed in several concentric glass tubes ; (ii) flowing the gas stream causes the tube to cool, which makes the actual source temperature uncertain; (iii) there is only a small surface area between the precursor and the carrier gas, so that the precursor will not saturate in the carrier gas. This changes the amount of the delivered precursor when the surface size changes or when the surface is covered, for example, by a RE oxide layer; (iv) When the precursor leaves the ampoule, some or all of the precursor reacts with ambient oxygen to form metal oxide aerosol particles. The size of these aerosol particles is not controlled. Where large particles are formed, current techniques suggest that they may form clusters and be detrimental to RE-doped parent materials and fibers.

액체 에어로졸 전달법: 유기 용매에 바람직한 모든 도펀트에 대한 유기-금속 전구체를 함유하는 용액이 액상 에어로졸(액적)로 분무되어 기재 튜브 속으로 전달된다. 액상 에어로졸이 가열 영역에 접근함에 따라, 용매가 증발하며, 생성된 고체 에어로졸 입자는 산화하여 수트 층으로서 기재 튜브 위에 증착된다. 수트 층이 소결되지 않도록 주의를 기울인다. 본원 명세서에 참조로 인용된 2개의 문헌[T.F.Morse, et al., J.Non-Crystal.Solids, Vol.129, pp.93-100(1991); 및 J. Aerosol Sci., Vol.22, No.5, pp.657-666(1991)]을 참조한다. 문헌[참조: Morse et al., J. Non-crystal. Solids, supra at page 96, column 2]에 따르면, "용액은 미시적 균일성을 보장하여 유리 내의 결정질 내포물을 최소화하도록 각각의 에어로졸 입자 내에 유리 구조의 모든 성분을 함유해야 한다"(밑줄친 "각각의"와 "모든"은 문헌에는 없으나 강조를 위해 부가 기술한 것이다). "모든 성분"이라는 구절은, 예를 들면, 표준 HVP 도펀트의 전구체(예: Ge 및/또는 P) 뿐만 아니라 소정의 LVP RE 원소(예: Nd 및/또는 Er)를 포함한다. 이러한 액상 에어로졸 접근법은 다음 한계점을 갖는다: (i) 용액이 가연성이어서 폭발할 수 있다; (ii) 상이한 유리 조성물이 요구될 때마다 새로운 용액을 제조해야 한다; (iii) 당해 공정은 시간 소모적이다; 및 (iv) 당해 공정은, 반응 생성물이 H2O 및 H2와 같은 오염물 뿐만 아니라 바람직한 유리 산화물을 포함하는 한, 유리 손실이 매우 낮을 것으로 예측되지 않는다. Liquid aerosol delivery : A solution containing an organo-metal precursor for all the dopants desired for the organic solvent is sprayed into the liquid aerosol (droplet) and transferred into the substrate tube. As the liquid aerosol approaches the heating zone, the solvent evaporates and the resulting solid aerosol particles are oxidized and deposited as a soot layer onto the substrate tube. Take care not to sinter the soot layer. Two references cited herein by reference (TFMorse, et al., J. Non-Crystal. Solids, Vol. 129, pp. 93-100 (1991); And J. Aerosol Sci., Vol. 22, No. 5, pp. 657-666 (1991). Morse et al., J. Non-crystal. According to Solids, supra at page 96, column 2, "the solution must contain all of the components of the glass structure within each aerosol particle to minimize microcrystalline inclusions in the glass to ensure micro-uniformity" (underlined ""And" all "are not in the literature, but are added for emphasis). The phrase "all components" includes certain LVP RE elements such as Nd and / or Er as well as precursors of standard HVP dopants such as Ge and / or P. This liquid aerosol approach has the following limitations: (i) the solution is flammable and can explode; (ii) a new solution should be prepared whenever a different glass composition is desired; (iii) the process is time consuming; And (iv) the process is not expected to be very low, as long as the reaction product contains contaminants such as H 2 O and H 2 as well as the preferred free oxides.

따라서, 상술한 액체 에어로졸 전달 시스템의 결함 중의 하나 이상을 갖지 않는 RE 전구체와 같은 LVP 전구체를 핸들링할 수 있는 에어로졸 전달 시스템을 제공하는 것이 바람직하다.It would therefore be desirable to provide an aerosol delivery system capable of handling LVP precursors such as RE precursors that do not have one or more of the deficiencies of the liquid aerosol delivery system described above.

또한, MCVD 시스템 뿐만 아니라 기타 광섬유 제조 시스템(예: OVD 및 VAD)에도 적용될 수 있는 전달 시스템을 제공하는 것이 바람직하다.It is also desirable to provide a delivery system that can be applied to MCVD systems as well as other optical fiber manufacturing systems (e.g., OVD and VAD).

마지막으로, 통상 광섬유 및 평면형 도파로 뿐만 아니라 유리 수트도 포함하는 유리 바디의 제조에 적용될 수 있는 전달 시스템을 제공하는 것이 바람직하다.Finally, it is desirable to provide a delivery system that can be applied to the manufacture of glass bodies, which typically include glass fibers as well as glass fibers and planar waveguides.

[발명의 간단한 요지][BRIEF SUMMARY OF THE INVENTION]

본 발명의 한 양태에 따라, 본 출원인은, 다수의 성분들을 포함하며 하나 이상의 성분이 제1 LVP 전구체를 갖는 제1 도펀트(예: RE 원소)인 유리 바디(glass body; 예를 들면, 광 도파로, 평면상 도파로 또는 유리 수트)의 제조방법을 청구한다. 당해 유리 바디의 제조방법은, According to one aspect of the present invention, Applicants have discovered that a glass body (e.g., an optical waveguide) having a plurality of components and at least one component being a first dopant (e.g., an RE element) having a first LVP precursor , Planar waveguide or glass soot). The production method of the glass body,

LVP 전구체로부터의 제1 단일 성분 에어로졸(SCA)(즉, 각각의 제1 에어로졸 입자는 제1 도펀트의 LVP 전구체만을 포함한다)을 생성시키는 단계(a),(A) generating a first single component aerosol (SCA) from the LVP precursor (i. E., Each first aerosol particle comprises only the LVP precursor of the first dopant)

기타 성분의 증기를 별도로 생성시키는 단계(b)[생성 단계(a)와 생성 단계(b)는 유리 바디를 형성하는 데 사용되는 증착 시스템으로부터 멀리 떨어진 위치에서 수행된다],(B) the production step (a) and the production step (b) are carried out at a location remote from the deposition system used to form the glass body;

단계(a)의 에어로졸과 단계(b)의 증기를 증착 시스템으로부터 멀리 떨어진 위치로부터 도관 시스템을 통해 증착 시스템으로 대류시키는 단계(c) 및(C) convection of the aerosol of step (a) and the vapor of step (b) from a location remote from the deposition system to a deposition system via a conduit system and

하나 이상의 도핑된 층을 기재의 표면 위에 형성시키는 단계(d)를 포함한다.(D) forming at least one doped layer on the surface of the substrate.

한 양태에서, 유리 바디는 제2 LVP 전구체를 갖는 제2 도펀트를 포함하고, 당해 방법은 제2 LVP 전구체로부터의 제2 단일 성분 에어로졸(SCA)(즉, 각각의 제2 에어로졸 입자는 제2 도펀트의 LVP 전구체만을 포함한다)을 생성시키는 추가 단계를 포함한다. 당해 2개의 에어로졸은 증착 시스템으로 대류되면서 서로 별개로 유지될 수 있다. 또는, 이들은 서로 및/또는 기타 성분의 증기와 혼합될 수 있으며, 이후 당해 혼합물이 증착 시스템으로 대류될 수 있다.In one embodiment, the glass body comprises a second dopant having a second LVP precursor, and the method further comprises forming a second single component aerosol (SCA) from the second LVP precursor (i. E., Each second aerosol particle comprises a second dopant Of the LVP precursor). The two aerosols can be kept separate from one another while being convected to the deposition system. Alternatively, they may be mixed with each other and / or with other component vapors, and then the mixture may be convected to the deposition system.

본 발명의 또 다른 양태에 따라, 본 출원인은,According to another aspect of the present invention,

다수의 성분들을 포함하며 하나 이상의 성분이 제1 LVP 전구체를 갖는 제1 도펀트인 유리 바디의 제조방법으로서,1. A method of making a glass body comprising a plurality of components and wherein at least one component is a first dopant having a first LVP precursor,

LVP 전구체의 증기를 제공하는 단계(a1) 및 LVP 증기를 과포화시켜 에어로졸을 형성하는 단계(a2)를 포함하여, 제1 LVP 전구체를 포함하는 제1 입자들을 포함하는 제1 에어로졸을 생성시키는 단계(a),Providing a vapor of an LVP precursor (a1) and supersaturated LVP vapor to form an aerosol (a2) to produce a first aerosol comprising first particles comprising a first LVP precursor a),

기타 성분의 증기를 별도로 생성시키는 단계(b),(B), separately producing steam of the other components,

단계(a)의 에어로졸과 단계(b)의 증기를 기재를 포함하는 증착 시스템으로 대류시키는 단계(c) 및(C) convection of the aerosol of step (a) and the vapor of step (b) to a vapor deposition system comprising a substrate, and

단계(c)에서 대류시킨 에어로졸과 증기에 함유된 도펀트를 포함하는 하나 이상의 도핑된 층을 기재의 표면 위에 형성시키는 단계(d)를 포함하는, 유리 바디의 제조방법을 청구한다.And (d) forming on the surface of the substrate at least one doped layer comprising a vaporized aerosol and a dopant contained in the vapor in step (c).

본 발명의 또 다른 양태에 따라, 에어로졸 생성기는 서로 유체 유동 전달식으로 커플링된 제1 챔버와 제2 챔버를 갖는 용기를 포함한다. 한 양태에서, 제1 챔버는 기포발생기 챔버이고, 제2 챔버는 응축기 챔버이다. 가열기가 제1 챔버를 에워싸서 이의 온도를 기본적으로 일정하게 유지시킨다. 제1 유입구를 통해 1차 캐리어 가스를 기포발생기 챔버로 공급하고, 제2 유입구를 통해 보다 저온의 2차 캐리어 가스를 응축기 챔버로 공급한다. 배출구는 응축기 챔버에 커플링된다. 작동시 당해 전구체(통상 실온에서 고체)를 기포발생기 챔버 속에 배치하고, 이를 전구체를 액화시키고 전구체의 바람직한 증기압을 수득하기에 충분한 비교적 고온으로 가열한다. 1차 캐리어 가스는 전구체 증기를 전구체 액체로부터 응축기 챔버 속으로 대류시킨다(바람직하게는, 당해 전구체 증기는 1차 캐리어 가스를 완전히 포화시킨다). 전구체 증기가 이러한 고온에서 전달될 수 없으므로(즉, 전구체 증기는 증기를 증착 시스템으로 전달하는 데 사용되는 표준 튜브의 벽 위에 응축될 것이다), 이를 제2 유입구 속으로 공급된 보다 저온의 2차 캐리어 가스에 의해 신속하게 냉각시킨다. 결과적으로, 전구체의 에어로졸은 응축시 챔버에서 형성되고 배출구를 통해 추출된다. 당해 에어로졸은 실온 또는 이보다 약간 높은 온도에서 현저한 응집이나 침착 없이 표준 튜브를 통해 전달될 수 있으며, 이로써 당해 에어로졸이 표준 증기 종과 함께 표준 증착 시스템 속으로 대류될 수 있다.According to another aspect of the present invention, an aerosol generator includes a vessel having a first chamber and a second chamber coupled to each other in fluid flow communication. In one embodiment, the first chamber is a bubbler chamber and the second chamber is a condenser chamber. A heater surrounds the first chamber and keeps its temperature essentially constant. A primary carrier gas is supplied to the bubbler chamber through a first inlet and a lower secondary carrier gas is supplied to the condenser chamber through a second inlet. The outlet is coupled to the condenser chamber. In operation, the precursor (usually solid at room temperature) is placed in a bubbler chamber, which is heated to a relatively high temperature sufficient to liquefy the precursor and obtain the desired vapor pressure of the precursor. The primary carrier gas conveys the precursor vapor from the precursor liquid into the condenser chamber (preferably, the precursor vapor completely saturates the primary carrier gas). Since the precursor vapor can not be delivered at such a high temperature (i. E., The precursor vapor will condense on the wall of a standard tube used to deliver the vapor to the deposition system), it is introduced into the second inlet Cool quickly by gas. As a result, the aerosol of the precursor is formed in the chamber at the time of condensation and is extracted through the outlet. The aerosol can be passed through a standard tube without significant aggregation or deposition at room temperature or slightly higher temperatures, whereby the aerosol can be convected into a standard vapor deposition system with standard vapor species.

또 다른 양태에서, 제1 챔버는 반응 챔버이다. 이러한 경우, 부전구체(sub-precursor)는 제1 챔버에 배치되고, 1차 가스는 부전구체와 반응하여 증기 형태로 전구체 화합물을 생성시키는 가스이다. 당해 증기는 응축기 챔버 속으로 대류하며, 보다 저온의 2차 캐리어 가스는 응축기 챔버 속으로 유동하고, 에어로졸은 상술한 방식으로 형성된다.In another embodiment, the first chamber is a reaction chamber. In this case, a sub-precursor is disposed in the first chamber, and the primary gas is a gas that reacts with the negatively charged spheres to produce a precursor compound in the form of a vapor. The vapor is convected into the condenser chamber and the cooler secondary carrier gas flows into the condenser chamber and the aerosol is formed in the manner described above.

본 발명의 전달 시스템은 MCVD, OVD 및 VAD와 같은 다양한 유리 증착 시스템과 연계해서 사용될 수 있다.The delivery system of the present invention can be used in conjunction with various glass deposition systems such as MCVD, OVD and VAD.

[발명의 상세한 설명]DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [

전달 시스템Delivery system

본 발명은 기재 상에 유리 바디를 제조하는 방법에 적용될 수 있다. 유리 바디는 가열된 기재의 표면에 증착된 후 소결되어 유리 층을 형성하는 유리 수트 층의 형태를 취할 수 있다. 이러한 유리 층은, 예를 들면, 광 섬유를 형성하는 데 사용될 수 있다. 또는, 본 발명에 의해 형성된 유리 바디는 가열된 기재에 의도적으로 증착되어 소결되지 않는 대신 적합한 수집기로 유동되는 유리 수트의 형태를 취할 수 있다(예를 들면, 당해 유리 수트는 가열되지 않은 기재로서 작용하는 진공 백의 표면 위에 수집된다). 이러한 수트는 수집기로부터 용이하게 제거된 다음, 예를 들면, 광섬유 제조용 졸-겔 공정에서 사용될 수 있다. 임의 경우에서, 당해 유리 바디는 LVP 전구체를 갖는 하나 이상의 도펀트를 포함한다. 이러한 도펀트는 RE-원소(예: Er, Yb, Nd, Tm, Ho 및 La, 또는 이들의 혼합물) 뿐만 아니라 알루미늄(Al) 및 알칼리 토금속(예: Be, Mg 및 Ca)을 포함한다.The present invention can be applied to a method of manufacturing a glass body on a substrate. The glass body may take the form of a glass soot layer which is deposited on the surface of the heated substrate and then sintered to form a glass layer. Such a glass layer can be used, for example, to form optical fibers. Alternatively, the glass body formed by the present invention may take the form of a glass soot which is not intentionally deposited and sintered on a heated substrate but instead flows into a suitable collector (for example, the glass soot acts as an unheated substrate Collected on the surface of the vacuum bag). Such a suit can be easily removed from the collector and then used, for example, in a sol-gel process for making optical fibers. In any case, the glass body comprises at least one dopant having an LVP precursor. Such dopants include aluminum (Al) and alkaline earth metals (e.g., Be, Mg and Ca) as well as RE-elements such as Er, Yb, Nd, Tm, Ho and La or mixtures thereof.

예시적으로는, 본 발명은 MCVD에 의한 광섬유의 제조에 적용될 수 있고, 이는 수트 유리 층을 가열된 기재 튜브의 내부 표면에 증착시키고, 층을 소결시키고, 튜브를 모재로 붕괴시키고, 모재로부터 광 섬유를 인출시키는 단계를 수반한다. 또한, 본 발명은 VAD 및 OVD로 제조된 광섬유의 제조에 적용될 수 있고, 이는 수트 유리 층을 회전 실린더의 외부 또는 말단 표면에 증착시키고, 수트 층을 소결시키고, 광섬유를 모재로부터 인출시킴을 필요로 한다. 반면, 본 발명은 또한 평면형 광 도파로의 제조에 적용될 수 있고, 이는 유리 층을 평면 기재의 주표면에 증착시키는 단계를 수반한다. 단지 단순화 및 예시 목적으로만, 하기 설명은 가열된 기재 튜브를 사용한 광섬유의 제조에 초점을 둔다.Illustratively, the present invention can be applied to the fabrication of optical fibers by MCVD, which involves depositing a soot glass layer on the interior surface of a heated substrate tube, sintering the layer, disrupting the tube into a parent material, Followed by withdrawing the fibers. The present invention can also be applied to the fabrication of optical fibers made of VAD and OVD, which requires deposition of a soot glass layer on the outer or distal surface of a rotating cylinder, sintering the soot layer, and withdrawing the optical fiber from the parent material do. On the other hand, the present invention can also be applied to the fabrication of planar optical waveguides, which involves depositing a glass layer on the major surface of the planar substrate. For purposes of simplification and illustration only, the following description focuses on the fabrication of optical fibers using heated substrate tubes.

본 발명의 다양한 측면은 LVP 전구체의 하나 이상의 에어로졸의 생성 및 이 의 증착 시스템으로의 전달을 포함한다. "에어로졸"은 고체 또는 액체 LVP 전구체 입자가 캐리어 가스 속에 현탁된 입자-가스 조합을 의미한다. 각각의 입자는 다수(일반적으로 수천개)의 LVP 전구체의 분자를 함유한다. 일반적으로, 에어로졸은 단일 성분 에어로졸(SCA) 또는 다성분 에어로졸(MCA)일 수 있다. SCA에서 각각의 입자는 단일 LVP 전구체로만 이루어진 분자를 함유한다. 2개 이상의 에어로졸을 혼합하더라도, 입자는 이의 별개의 독립성을 유지한다. 즉, 각각의 입자는 단일 전구체로만 이루어진 분자를 함유한다. 반면, MCA에서 각각의 입자는 도펀트 또는 호스트 물질의 전구체 및/또는 도펀트 또는 호스트 물질의 산화물을 함유하는 2개 이상의 화합물을 포함한다.Various aspects of the present invention include the generation of one or more aerosols of an LVP precursor and their delivery to a deposition system. The term "aerosol" Means a particle-gas combination in which solid or liquid LVP precursor particles are suspended in a carrier gas. Each particle contains a large number (usually thousands) of LVP precursor molecules. Generally, the aerosol may be a single component aerosol (SCA) or a multicomponent aerosol (MCA). In SCA, each particle contains a molecule consisting solely of a single LVP precursor. Even when two or more aerosols are mixed, the particles retain their distinct independence. That is, each particle contains a molecule consisting of only a single precursor. In contrast, in MCA each particle comprises two or more compounds containing a dopant or a precursor of the host material and / or an oxide of the dopant or host material.

단일 성분 에어로졸Single component aerosol

본 발명의 하나의 측면에 따라서, 도 1에 도시된 바대로, 광섬유를 제조하기 위한 장치(10)는, 광섬유의 다양한 성분(예: 실리카와 같은 호스트 물질, 상기 기재된 LVP 도펀트, 및 Ge 및 P와 같은 표준 HVP 도펀트)의 전구체를 생성시키는 다수의 전구체 공급원(12)을 함유한다. 공급원(12)은 LVP 전구체(예: RE 클로라이드)의 SCA를 제공하는 하나 이상의 에어로졸 생성기(12a)를 함유한다. (생략부호(12a')로 표시된 별개의 에어로졸 생성기는, 또 다른 LVP 전구체의 SCA를 생성시키는 데 사용할 수 있다.) 또한, 공급원(12)은 다른 섬유 성분의 증기를 제공하는 하나 이상의 종래의 증기 생성기(또는 기포발생기)(12b, 12c, 12d), 일반적으로 HVP 전구체(예: Si, Ge 및 PO의 클로라이드)를 갖는 것을 함유한다. According to one aspect of the present invention, as shown in FIG. 1, an apparatus 10 for fabricating an optical fiber includes various components of an optical fiber (e.g., a host material such as silica, the LVP dopant described above, and Ge and P Lt; RTI ID = 0.0 > HVP < / RTI > dopant). The source 12 contains one or more aerosol generators 12a that provide the SCA of the LVP precursor (e.g., RE chloride). (A separate aerosol generator indicated by an apostrophe 12a 'can be used to generate the SCA of another LVP precursor.) In addition, the source 12 can also include one or more conventional vapors (Or bubblers) 12b, 12c, 12d, generally HVP precursors (e.g., chlorides of Si, Ge and PO).

공급원(12)은 유리-층 증착 시스템(16)으로부터 멀리 위치한다. 예시적으로는, 전구체 공급원(12)은 서로 병렬의 유체-유동 전달로, 아니면 증착 시스템(16)과 직렬 유체-유동 전달로 연결되어 있다. 당해 분야의 숙련된 당업자는, 시스템(16)이 본 발명의 전구체 전달 시스템과 상용성인, 예를 들면, MCVD 시스템, OVD 시스템, VAD 시스템, 또는 임의의 다른 증착 시스템일 수 있다는 것을 인식할 것이다. 단지 예시 목적으로만, 하기 설명은 증착 시스템(16)이 표준 MCVD 시스템인 것으로 가정한다.The source 12 is located remote from the glass-bed deposition system 16. Illustratively, the precursor source 12 is connected to the fluid-flow transfer path in parallel to one another, or to the deposition system 16 in series fluid-flow transfer. Those skilled in the art will recognize that the system 16 may be compatible with the precursor delivery system of the present invention, for example a MCVD system, an OVD system, a VAD system, or any other deposition system. For illustrative purposes only, the following discussion assumes that the deposition system 16 is a standard MCVD system.

따라서, MCVD 시스템(16)은 일반적으로 서로 직렬 배열된 공급 튜브(16.1), 기재 튜브(16.2), 및 배출 튜브(16.3)를 함유한다. 공급 튜브, 기재 튜브 및 배출 튜브는 이의 공통의 종축 주위로 화살표(16.4) 방향으로 회전하고, 가열원(즉, 토치)(16.5)은 상기 종축을 따라 화살표(16.6) 방향으로 이동하여 기재 튜브를 가열시킨다. 증기 및 에어로졸 전구체는 표준 회전 결합체(도시되지 않은)를 통해 공급 튜브(16.1)로 진입한다. 상기 결합체는 전달 튜브(18)가 정지된 채로 공급 튜브가 MCVD 선반에서 회전하도록 한다. 에어로졸 전구체는 동일한 포트를 사용하여 증기 전구체로서 시스템(16)으로 전달시킬 수 있거나, 별개의 포트를 통해 전달시킬 수 있다. 본 발명자들은, 에어로졸 전구체를 전구체 자신의 포트를 사용하여 전달하는 것이 편리하다는 것을 발견했다. 또한, 본 발명자들은, 최소량의 튜브 굽힘이 필요하도록 증기 전구체를 공급 튜브와 축 상에 있는 포트를 통해 전달하는 것이 바람직하다는 것을 발견했다. 상기한 설계는 또한 도 3의 양태에서 튜브(16.7)에 도시된 바대로, 동심원 튜브가 공급 튜브(16.1) 내에 용이하게 위치하 도록 한다.Thus, the MCVD system 16 generally contains a supply tube 16.1, a substrate tube 16.2, and an exhaust tube 16.3 arranged in series with one another. The heating source (i.e., torch) 16.5 is moved in the direction of arrow 16.6 along the longitudinal axis to cause the substrate tube, substrate tube, and discharge tube to rotate in the direction of arrow 16.4 about their common longitudinal axis, And heated. The vapor and aerosol precursors enter the feed tube 16.1 through a standard rotating assembly (not shown). The assembly allows the supply tube to rotate on the MCVD lathe while the delivery tube 18 is stationary. The aerosol precursor may be delivered to the system 16 as a vapor precursor using the same port or may be delivered through a separate port. The present inventors have found that it is convenient to deliver the aerosol precursor using its own port. The inventors have also found that it is desirable to deliver the vapor precursor through the supply tube and the port on the axis so that a minimum amount of tube bending is required. The design also allows the concentric tube to be easily positioned within the supply tube 16.1, as shown in tube 16.7 in the embodiment of FIG.

"전달"은 전구체를 생성시키고 관련된 가스를 도관 시스템(예: 튜브(18))을 통해 생성기(12)로부터 증착 시스템(16)으로 이송하는 것을 의미한다."Transfer" means generating a precursor and transferring the associated gas from the generator 12 to the deposition system 16 via a conduit system (e.g., tube 18).

MCVD 공급 튜브(16.1)로 전달된 후, 에어로졸 및 증기 전구체는 기재 튜브(16.2)의 고온 영역에서 산화되고, 산화물은 기재 튜브(16.2)의 내부에 증착된 수트를 형성하고, 증착된 수트는 소결되고, 기재 튜브는 모재로 붕괴되고, 모재는 광섬유로 인출된다.After delivery to the MCVD feed tube 16.1, the aerosol and vapor precursor are oxidized in the high temperature region of the substrate tube 16.2, the oxide forms a deposited soot inside the substrate tube 16.2, and the deposited soot is sintered The substrate tube collapses into the base material, and the base material is drawn out to the optical fiber.

다수의 공급원(12)은 형성될 광섬유의 성분 각각에 대해 하나의 공급원(12)을 함유한다. 예를 들면, RE, Ge 및 P와 도핑된 실리카 광섬유를 제조하기 위해, 에어로졸 생성기(12a)는 RE 전구체(예: ErCl3 또는 YbCl3와 같은 RE-클로라이드)의 SCA를 제공하고, 증기 생성기(12b)는 실리카 전구체(예: SiCl4)의 증기를 제공하고, 증기 생성기(12c)는 Ge 전구체(예: GeCl4)의 증기를 제공하고, 증기 생성기(12d)는 P 전구체(예: POCl3)의 증기를 제공한다.A plurality of sources 12 contain one source 12 for each of the components of the optical fiber to be formed. For example, to produce a silica optical fiber doped with RE, Ge, and P, the aerosol generator 12a provides the SCA of an RE precursor (e.g., RE-chloride such as ErCl 3 or YbCl 3 ) 12b) is a silica precursor (for example, providing a vapor of SiCl 4), and a steam generator (12c) is a Ge precursor (such as GeCl 4) provide the steam and the steam generator (12d) of the P precursor (e.g., POCl 3 ) ≪ / RTI >

일반적으로, 전구체 공급원(12)에 사용되는 캐리어 가스는 불활성이어야 하고(예: He, Ar), 고품질 유리의 제조시 유리하거나(예: O2), 섬유에 해로운 영향을 주지 않는다는 다른 가공상 이유로 유용하다(예: N2, Cl2). 에어로졸 생성기(12a)에서, He은 소결 동안 거품 형성을 최소화하는 데 도움을 주므로 일반적으로 사용된다. 반면, O2는 생성기(기포발생기)(12b, 12c, 12d)에서 일반적으로 사용된다. (기포발생기가 비교적 저온(예: 100℃ 미만)에서 유지되므로, 금속 클로라이드 전구체는 기포발생기에서 산화되지 않는다.)In general, the carrier gas used for the precursor source 12 must be inert (e.g., He, Ar), advantageous in the production of high quality glass (e.g., O 2 ), or other processing reasons Useful (e.g., N 2 , Cl 2 ). In the aerosol generator 12a, He is generally used because it helps to minimize foaming during sintering. On the other hand, O 2 is commonly used in generators (bubble generators) 12b, 12c, 12d. (The metal chloride precursor is not oxidized in the bubbler since the bubbler is kept at a relatively low temperature (e.g., below 100 ° C)).

도시되지는 않았지만, 전달 시스템으로 직접적으로 커플링될 수 있는, 즉, 에어로졸 생성기(12a) 또는 기포발생기(12b, 12c, 12d)를 통해 연결되지 않는 캐리어 가스(예: He, O2)의 추가의 공급원(i) 및/또는 실온에서 증기인 도펀트 가스(예: SiF4)의 추가의 공급원이 당해 분야의 숙련된 당업자에게 널리 공지되어 있고, 따라서 기포발생기가 필수적인 증기압을 생성시킬 필요가 없다.Although not shown, the addition of a carrier gas (e.g., He, O 2 ) that can be coupled directly to the delivery system, i.e., not connected through the aerosol generator 12a or bubble generator 12b, 12c, Further sources of source (i) and / or dopant gas (e.g. SiF 4 ), which is a vapor at room temperature, are well known to those skilled in the art, and thus it is not necessary for the bubbler to produce an essential vapor pressure.

중요하게는, 에어로졸 생성기(12a, 12a')는 LVP 도펀트(예: RE 도펀트)가 저온에서 MCVD 시스템으로 전달되도록 하고 표준 증착 속력을 유지할 정도로 농도가 높다.Importantly, the aerosol generators 12a, 12a 'are so dense that the LVP dopant (e.g. RE dopant) is transferred from the low temperature to the MCVD system and maintains the standard deposition rate.

각각의 공급원(12)은 전구체 가스를 목적하는 증기압에서 생성시키기 위해 실온보다 훨씬 높은 온도로 전구체를 가열한다. 예를 들면, 실리카 및 통상의 도펀트(예: Ge 및 P와 같은 지수 상승 도펀트)에서, 전구체는 일반적으로 30 내지 50℃(예: 38℃)로 가열한다. 더욱이, LVP 전구체(예: Er 및 Yb와 같은 RE 도펀트)로부터 유도된 도펀트에서 일반적으로 800 내지 1,100℃(예: 전구체 ErCl3에 대해 900℃; YbCl3에 대해 950℃)로 가열하는 정도로 훨씬 더 심한 경우도 있다. 그러나, 생성기를 MCVD 시스템(16)에 연결시키는 튜브(18)가 일반적으로 생성기(12a)에서의 LVP 도펀트 공급원보다 훨씬 낮은 온도[예: 50 내지 100℃; 가열기(널리 공지되어 있지만, 도시되지 않음)에 의해]에서 유지되고, 고온 LVP 전구체 가스가 농축되고 튜브의 내부 벽에 증착되므로, 상기한 고온 가스는 상당히 낮은 온도의 튜브를 통해 MCVD 시스템으로 전달될 수 없다. 상기한 문제점에 대한 해결책은, LVP 섬유 성분을 실온에서 또는 실온 보다 약간 높은 온도에서 유지되는 튜브(18)를 통해 MCVD 시스템(16)으로 전달할 수 있는 에어로졸로서 생성시키는 것이다. 모든 경우에, 도 1에 도시된 바대로 에어로졸이 HVP 증기와 혼합된다면, 튜브(18)는 가장 뜨거운 기포발생기(12b, 12c, 12d)의 온도(예: 38℃)보다 높은 온도(예: 70℃)에서 유지되어야 한다. 반면, 에어로졸이 먼저 HVP 증기와 혼합되지 않고 직접적으로 증착 시스템(16)으로 전달된다면, 에어로졸 생성기(예: 12a)의 출력에 연결된 모든 튜브가 실온에서 존재할 수 있다.Each source 12 heats the precursor to a temperature much higher than room temperature to produce the precursor gas at the desired vapor pressure. For example, in silica and conventional dopants (such as exponentially-growing dopants such as Ge and P), the precursors are generally heated to 30 to 50 占 폚 (e.g., 38 占 폚). Furthermore, the dopants derived from the LVP precursors (e.g., RE dopants such as Er and Yb) are much more likely to be heated to 800 to 1100 ° C (eg, 900 ° C for precursor ErCl 3 ; 950 ° C for YbCl 3 ) There are also severe cases. However, the tube 18 connecting the generator to the MCVD system 16 is typically at a much lower temperature than the LVP dopant source in the generator 12a (e.g., 50-100 DEG C; (By a well known but not shown) heater, and the hot LVP precursor gas is concentrated and deposited on the inner wall of the tube so that the hot gases are delivered to the MCVD system through a significantly lower temperature tube I can not. The solution to this problem is to generate the LVP fiber component as an aerosol that can be delivered to the MCVD system 16 through the tube 18 maintained at room temperature or slightly above room temperature. In all cases, if the aerosol is mixed with the HVP vapor as shown in FIG. 1, the tube 18 is heated to a temperature higher than the temperature of the hottest bubblers 12b, 12c, 12d Lt; 0 > C). On the other hand, if the aerosol is delivered directly to the deposition system 16 without first being mixed with the HVP vapor, then all tubes connected to the output of the aerosol generator (e.g. 12a) may be at room temperature.

본 발명이 하기의 공정 이론에 구애되지 않더라도, 본 발명자들은 하기의 현상이 발생할 것으로 믿는다. RE 클로라이드 에어로졸이 산소가 또한 공급된 MCVD 시스템의 고온 영역으로 진입하는 경우, 대부분의 에어로졸은 RE 클로라이드 증기로 증기화된다. 이어서, 증기화된 RE 클로라이드 (가스) 분자는 형성된 RE 산화물 분자를 산화시키고, 당해 산화물 분자는 다른 산화물 분자(예: SiO2 분자)와 충돌하고 기재 튜브의 벽 내부에 수트로서 증착된다. 소결 후, 상기 공정은 매우 균질한 유리를 형성한다. 중요하게는, 본 발명은 2개의 중요한 공정(도펀트 전달 및 산화)을 독립적으로 제어하게 한다. 에어로졸 생성기에서, 소정의(예: 최적의 또는 거의 최적의) 크기 범위를 갖고, 목적하는 LVP 도펀트 농도가 적은 손실로 헤드스톡 관으로 전달되도록 하는 입자를 제조하기 위한 공정을 설정한다. 에어로졸 입자가 고온 영역에 도달함에 따라, 이들의 대부분이 각각의 분자로 증기화됨에 따 라, 입자로서 이의 이전의 크기에 대한 정보를 잃는 것으로 믿어진다. 고온 영역에서, 이들 증기화된 분자는 산화된다. 모든 도펀트가 함께 반응하여 필수적으로 균질한 유리를 형성하도록 고온 영역에서의 조건을 (예: 모든 에어로졸 생성기 조건과 무관하게 최적화하거나 거의 최적화시켜) 설정할 수 있다.Although the present invention is not limited to the following process theory, the present inventors believe that the following phenomenon will occur. When the RE chloride aerosol enters the high temperature region of the MCVD system where oxygen is also fed, most of the aerosol is vaporized with RE chloride vapor. Then, vaporized RE chloride (gas) molecules to oxidize the RE oxide molecule formed, the art oxide molecules other oxide molecules (such as: SiO 2 molecules) is in conflict with and deposited as soot on the inner wall of the substrate tube. After sintering, the process forms a very homogeneous glass. Significantly, the present invention allows independent control of two critical processes (dopant transport and oxidation). In the aerosol generator, a process is set up to produce particles that have a predetermined (e.g., optimal or near optimal) size range and the desired LVP dopant concentration is delivered to the headstock tube with low loss. It is believed that as aerosol particles reach the hot zone, most of them lose information about their previous size as particles as they are vaporized into their respective molecules. In the high temperature region, these vaporized molecules are oxidized. The conditions in the high temperature region can be set (e.g., optimized or nearly optimized independent of all the aerosol generator conditions) so that all of the dopants react together to form essentially homogeneous glass.

LVP 도펀트의 클러스터가 유리에서 바람직한 드문 경우가 있을 수 있음에 주의해야 한다. 이러한 상황에서, 에어로졸 입자는 고온 영역에 도달하기 전에 산화되어야 한다. 이어서, LVP 산화물 입자는 최적의 클러스터 크기가 유리에서 형성되도록 전달되기 전에 여과시켜야 한다. 입자가 고온 영역에서 증기화(크기 변화)되지 않으므로 클러스터 크기는 이러한 경우에 전달된 도펀트 산화물로 측정한다.It should be noted that clusters of LVP dopants may be desirable in the rare case of glass. In this situation, the aerosol particles must be oxidized before reaching the hot zone. The LVP oxide particles should then be filtered before delivery so that the optimal cluster size is formed in the glass. Since the particles do not vaporize (change in size) in the high temperature region, the cluster size is measured by the transferred dopant oxide in this case.

에어로졸 입자 크기Aerosol particle size

에어로졸 입자의 크기는 바람직하게는 대략 0.01㎛ 내지 1.0㎛의 범위이다. 반면, 10㎛의 입자를, 필요한 경우, 전달할 수 있되, 에어로졸 생성기와 기재 튜브 사이의 거리를 최소화시키기 위해 주의를 기울여야 한다. 입자가 1㎛보다 상당히 클 때, 당해 입자는 중량으로 인해 전달 튜브의 내벽에서 침강할 수 있다. 입자가 0.01㎛보다 상당히 작을 때, 당해 입자는 브라운 운동으로 인해 튜브 벽에 증착할 수 있다. 본 발명의 한 양태에 있어서, 전달 동안 큰 입자들이 제거되는 데, 대부분의 경우 큰 입자들이 RE-도핑된 섬유에서 클러스터를 생성시키고, 클러스터가 바람직하지 않은 공정, 예를 들면, 주파수상향변환(up-conversion)을 유발하는 것으로 알려져 있으므로, 이는 상당히 유리하다.The size of the aerosol particles is preferably in the range of approximately 0.01 탆 to 1.0 탆. On the other hand, particles of 10 [mu] m can be delivered if necessary, but care must be taken to minimize the distance between the aerosol generator and the substrate tube. When the particle is significantly larger than 1 [mu] m, the particle can settle in the inner wall of the transfer tube due to its weight. When the particles are significantly smaller than 0.01 占 퐉, the particles can be deposited on the wall of the tube due to Brownian motion. In one aspect of the invention, large particles are removed during transfer, and in most cases large particles create clusters in the RE-doped fibers, and clusters are formed in undesirable processes, such as frequency up- -conversion), which is quite advantageous.

몇몇 RE-에어로졸 입자가 본래 튜브(18) 또는 전달 시스템(예: 축합 챔버(12.1)(후술))의 다른 성분에서 제거되더라도, 이러한 형태의 입자 여과 공정은 용이하게 제어되지 않는다. 따라서, 본 발명의 하나의 양태에 따라서, 상기한 입자는 필터(14)를 통해 통과하고, 필터(14)는 에어로졸 생성기(12a, 12a')와 증착 시스템(16) 사이에 위치한다. 필터는 작은 입자(예: 0.01㎛ 이하의 입자)를 제거하기 위해 널리 공지된 확산 배터리를 함유할 수 있다. 또한, 큰 입자(예: 1.0㎛ 이상의 입자)를 제거하기 위해, 필터(14)는 사용자가 큰 입자를 얼마나 효과적으로 제거하기를 원하는지에 따라 널리 공지된 사이클론, 또는 몇몇 벤드(예: 코일)를 갖는 일련의 튜브, 또는 침강 챔버를 함유할 수 있다.Although some RE-aerosol particles are originally removed from other components of the tube 18 or delivery system (e.g., condensation chamber 12.1 (described below)), this type of particle filtration process is not readily controlled. Thus, in accordance with one aspect of the present invention, the particles pass through a filter 14, and the filter 14 is positioned between the aerosol generators 12a, 12a 'and the deposition system 16. The filter may contain a well known diffusion battery to remove small particles (e.g., particles below 0.01 탆). In addition, to remove large particles (e.g., particles greater than 1.0 microns), the filter 14 may be a well-known cyclone, or some bend (e. G., A coil), depending on how effectively the user wishes to remove the large particles. A series of tubes, or a settling chamber.

소정의 입자 크기에 대한 튜브 코일의 수집 효율은 튜브의 내부 직경, 코일에서 루프의 수, 유동 속도, 및 가스 및 입자 특성의 함수이다. 예를 들면, 내부 직경이 1.5, 2, 3 및 4mm인 4개의 튜브를 통해 유동하는 He에서 YbCl3 입자를 살펴보면, 각각의 튜브는 2개 반의 루프를 갖는다. 1.0㎛의 입자에 대해 상이한 직경 코일의 수집 효율은 각각 약 92%, 65%, 27% 및 12%이고, 1.4㎛의 입자에 대해 상응하는 효율은 각각 약 99%, 84%, 48%, 및 26%이고, 2.0㎛의 입자에 대해 상응하는 효율은 각각 약 100%, 100%, 72%, 및 42%이다. 따라서, 직경이 작은 (1.5mm 및 2mm) 튜브가 크기가 약 2㎛ 이상인 입자 거의 모두를 수집하는 반면, 입자 크기가 약 4㎛(3mm 튜브)에 도달하고 5㎛(4mm 튜브) 이상일 때까지 직경이 큰 (3mm 및 4mm) 튜브은 거의 모든 입자를 수집하지 않는다. 본원에 참조 문헌으로 인용된 문헌[참조: D. Y. H. Pui et al., Aerosol Sci. and Tech., Vol.7, pp. 301-315(1987)]을 참조한다. The collection efficiency of the tube coil for a given particle size is a function of the inner diameter of the tube, the number of loops in the coil, the flow rate, and the gas and particle properties. For example, looking at YbCl 3 particles in He flowing through four tubes with internal diameters of 1.5, 2, 3, and 4 mm, each tube has two half loops. The collection efficiencies of the different diameter coils for the 1.0 urn particles are about 92%, 65%, 27% and 12%, respectively, and the corresponding efficiencies for the 1.4 urn particles are about 99%, 84%, 48% 26%, and the corresponding efficiencies for the particles of 2.0 [mu] m are about 100%, 100%, 72%, and 42%, respectively. Thus, while small diameter (1.5 mm and 2 mm) tubes collect almost all of the particles with a size of at least about 2 microns, the diameter of the tube reaches a diameter of about 4 microns (3 mm tube) These large (3 mm and 4 mm) tubes do not collect nearly all the particles. Reference is made to DYH Pui et al., Aerosol Sci. and Tech., Vol. 7, pp. 301-315 (1987).

에어로졸 입자 크기는 통상적으로 입자 충돌 및 융합 시간으로 제어하고, 이는 도 2의 에어로졸 생성기(12a)의 설명과 관련하여 하기에 보다 자세히 기재되어 있다.The aerosol particle size is typically controlled by the particle collision and fusion time, which is described in more detail below with respect to the description of the aerosol generator 12a of FIG.

에어로졸 입자 크기가 LVP 도펀트의 효과적인 전달에 중요하므로, 증착 시스템으로 전달되는 입자의 크기 및/또는 수를 모니터링하고, 이에 대한 응답으로, 생성기(12a, 12a') 및/또는 필터(14)의 작동 매개변수를 제어하기 위해 전달 시스템에서 피드백 하부시스템(30)을 함유하는 것이 유리할 수 있다. 도 1에 도시된 바대로, 피드백 하부시스템(30)은 에어로졸 생성기(12a)에 의해 생성된 입자의 크기 및/또는 수를 탐지하는 센서(30.1)를 함유한다. 모니터(30.2)는 센서(30.1)에 의해 생성된 시그날을 가공하고 제어(예: 에러) 시그날을 제어기(30.3)로 송신시켜, 교대로 출력 버스(30.4)에서 하나 이상의 제어 시그날을 송신시킨다. 차후의 제어 시그날은 에어로졸 입자의 크기 및 수를 변경시키는 전달 시스템의 성분을 제어한다. 상기한 성분은 다양한 가스의 유동 속도를 제어하는 질량 유동 제어기 및/또는 에어로졸 생성기(12a)의 온도(들)을 제어하는 가열기를 함유한다.Since the aerosol particle size is important for effective delivery of the LVP dopant, it is desirable to monitor the size and / or number of particles delivered to the deposition system and, in response thereto, the operation of the generator 12a, 12a 'and / It may be advantageous to include the feedback subsystem 30 in the delivery system to control the parameters. As shown in Figure 1, the feedback subsystem 30 contains a sensor 30.1 that detects the size and / or number of particles produced by the aerosol generator 12a. The monitor 30.2 processes the signals generated by the sensor 30.1 and sends a control (e.g., error) signal to the controller 30.3 to alternately transmit one or more control signals on the output bus 30.4. Subsequent control signals control the components of the delivery system that change the size and number of aerosol particles. Said components contain a mass flow controller for controlling the flow rate of the various gases and / or a heater for controlling the temperature (s) of the aerosol generator 12a.

모니터(30.2)는, 예를 들면, 상업적으로 이용 가능한 입자 크기 분광계(도시되지 않음)를 함유할 수 있다.The monitor 30.2 may contain, for example, a commercially available particle size spectrometer (not shown).

에어로졸 생성기Aerosol generator

본 발명에서 사용하기에 적합한 에어로졸을 생성시키기 위한 여러 방법이 선행 기술에 교시되어 있더라도, 에어로졸 생성기(12a, 12a')의 바람직한 설계도가 도 2에 도시되어 있다. 본 발명의 상기한 측면에 따라, 에어로졸 생성기(12a, 12a')는 서로 유체-유동 전달에서 연결된 용기(12.1), 제1 챔버(12.2) 및 제2 챔버(12.3)를 포함한다. 하나의 양태에 있어서, 제1 챔버는 제1 (예: 하부) 부분에 위치한 기포발생기 챔버(12.2)이고, 제2 챔버는 제2 (예: 상부) 부분에 위치한 냉각기 챔버(12.3)이다. 전구형 구역(12.8)은 기포발생기 챔버(12.2)의 바닥에 연결된다. 제1 가열기(12.4a)는 하부 부분을, 즉, 기포발생기 챔버(12.2) 및 전구형 구역(12.8) 둘 다를 둘러 싼다. 제1 유입구(12.5)는 1차 캐리어 가스(예: He)가 튜브(22)를 통해 전구형 구역(12.8)으로 공급되도록 하고, 제2 유입구(12.6)는 보다 차가운 제2 캐리어 가스(예: 실온 He)가 튜브(24)를 통해 냉각기 챔버(12.3)로 유동하도록 한다. 바람직하게는 제2 가열기가 냉각기 챔버(12.3)의 모든 부분(또는 상당 부분)을 둘러 싼다. 제2 가열기(12.4b)는 유리 벽에서 축합을 최소화하고 목적하는 에어로졸 입자 크기(들)을 생성시키기 위해 냉각기 챔버(12.3)를 기포발생기 챔버(12.2)보다 낮은 온도에서 유지시킨다. 배출 튜브(26)은 배출구(12.7)를 통해 냉각기 챔버(12.3)에 연결시킨다. Although several methods for producing aerosols suitable for use in the present invention are taught in the prior art, a preferred scheme of the aerosol generators 12a, 12a 'is shown in FIG. According to this aspect of the invention, the aerosol generators 12a, 12a 'include a vessel 12.1, a first chamber 12.2 and a second chamber 12.3 connected in fluid-flow communication with each other. In one embodiment, the first chamber is a bubble generator chamber 12.2 located in a first (e.g., lower) portion and the second chamber is a cooler chamber 12.3 located in a second (e.g., upper) portion. The spherical section 12.8 is connected to the bottom of the bubble generator chamber 12.2. The first heater 12.4a surrounds the lower portion, i.e. both the bubble generator chamber 12.2 and the bulbous zone 12.8. The first inlet 12.5 allows a first carrier gas (e.g. He) to be fed through the tube 22 to the bulbous zone 12.8 and the second inlet 12.6 allows a cooler second carrier gas Room temperature He) through tube 24 to cooler chamber 12.3. Preferably, the second heater surrounds all (or a substantial portion) of the cooler chamber 12.3. The second heater 12.4b maintains the cooler chamber 12.3 at a temperature lower than the bubble generator chamber 12.2 to minimize condensation in the glass wall and produce the desired aerosol particle size (s). The discharge tube 26 is connected to the cooler chamber 12.3 through an outlet 12.7.

상기한 설명이 기포발생기 챔버(12.2) 및 냉각기 챔버(12.3)가 각각 생성기(12a)의 하부 및 상부에 위치하는 것으로 제안되어 있더라도, 당해 분야의 숙련된 당업자는 2개의 챔버가 다른 부분(예: 측면 대 측면으로)에 위치할 수 있다는 것을 알 수 있을 것이다.Although the above description has been proposed that the bubble generator chamber 12.2 and the cooler chamber 12.3 are respectively located at the bottom and the top of the generator 12a, one skilled in the art will appreciate that the two chambers may have different portions To side-to-side).

공정시, 전구형 구역(12.8)을 고순도 LVP 전구체 고체(12.9)(예: 상업적으로 이용 가능한 6개 내지 9개의 순수한 RE-클로라이드)로 충전하고, 당해 고체를 전구체를 액화시키고 목적하는 증기압을 수득하기에 충분한 비교적 높은 온도(예: 800 내지 1,100℃)로 가열하다. 1차 캐리어 가스는 전구체 액체(고온 영역)로부터 냉각기 챔버(12.3)(보다 찬 구역)로 전구체 증기를 반출시키면서 액화된 전구체를 통해 거품이 인다. (바람직하게는, 전구체 증기는 전구형 구역(12.8)에서 1차 캐리어 가스를 충분히 포화시킨다.) 그러나, 상당히 저온(예: 500℃)에서 유지되는 냉각기 챔버(12.3)에서, 전구체 증기는 과포화된다. 결과적으로, RE 에어로졸(12.0)이 냉각기 챔버(12.3)에서 형성되고 배출구(12.7)를 통해 용기를 빠져 나간다. 배출구는 실온에서 또는 실온 보다 약간 높은 온도에서 유지되는 배출 튜브(26) 및 전달 튜브(18)(도 1)를 통해 MCVD 시스템(16)과 유체-유동 전달로 연결된다. 보다 상세하게는, HVP 전구체가 전달 동안 튜브에서 축합되는 것을 막기 위해 튜브(18)는 HVP 기포발생기의 최고 온도(예: 도 1의 양태에서 SiCl4 기포발생기(12b)에 대한 38℃)보다 약간 높은 온도(예: 70℃)로 가열해야 한다. 상술한 바대로, 전달 시스템 설계에 따라, 에어로졸은 실온에서 또는 실온 보다 약간 높은 온도에서 전달될 수 있다. 일단 에어로졸이 기재 튜브(16.2)에서 증착이 발생하는 MCVD 시스템의 고온 영역에 도달하면, 에어로졸은 상술한 바대로 증기화되고 산화물로 전환된다. In the process, the spheroidal zone 12.8 is filled with a high purity LVP precursor solids (12.9) (e.g., 6 to 9 commercially available pure RE-chlorides), the solids are liquefied with the precursor and the desired vapor pressure is obtained To a relatively high temperature (e.g., 800-1,100 [deg.] C) sufficient for the following. The primary carrier gas bubbles through the liquefied precursor as it exits the precursor vapor from the precursor liquid (hot zone) to the cooler chamber 12.3 (colder zone). (Preferably, the precursor vapor sufficiently saturates the primary carrier gas in the spheroidal zone 12.8.) However, in the cooler chamber 12.3, which is maintained at a significantly low temperature (e.g., 500 ° C), the precursor vapor is supersaturated . As a result, the RE aerosol 12.0 is formed in the cooler chamber 12.3 and exits the vessel through outlet 12.7. The outlet is connected to the MCVD system 16 via a discharge tube 26 and a transfer tube 18 (Fig. 1) maintained at room temperature or slightly above room temperature by a fluid-flow transfer. More specifically, the tube 18 to prevent the HVP precursor is fused in the tube while passing the maximum temperature of the HVP bubble generator: slightly more (e.g., 38 ℃ for SiCl 4 bubble generator (12b) in the embodiment of Fig. 1) It should be heated to a high temperature (eg 70 ° C). As described above, depending on the delivery system design, the aerosol may be delivered at room temperature or at a temperature slightly above room temperature. Once the aerosol reaches the hot zone of the MCVD system where deposition occurs in the substrate tube 16.2, the aerosol is vaporized and converted to oxide as described above.

생성기(12a)의 또 다른 양태에 있어서, 제1 챔버(12.2)는 반응 챔버이다. 이러한 경우에, 부전구체(sub-precursor)(예: Al 금속)를 제1 챔버에 위치시키고 가열하고, 1차 가스는 부전구체와 반응하여 증기 형태로 전구체 화합물(예: Al2Cl6)을 생성시키는 가스(예: Cl2)이다. 상기한 증기를 냉각기 챔버로 대류 순환시키고, 보다 저온의 2차 캐리어 가스(예: He)를 냉각기 챔버를 통해 유동시키고, 에어로졸을 상술한 방식으로 형성한다. In another embodiment of the generator 12a, the first chamber 12.2 is a reaction chamber. In this case, a sub-precursor (eg Al metal) is placed in the first chamber and heated, and the primary gas reacts with the negatively charged spheroids to form precursor compounds (eg, Al 2 Cl 6 ) (For example, Cl 2 ). The vapor is convectively circulated to the chiller chamber, a lower temperature secondary carrier gas (e.g., He) flows through the chiller chamber, and the aerosol is formed in the manner described above.

임의의 양태에서, 제2 (냉각기) 챔버(12.3)로 대류 순환된 증기는 LVP 물질(전구체 또는 부전구체)로부터 유도된 하나 이상의 화학 원소를 함유하고, 당해 원소는 궁극적으로 형성된 유리 바디에서 도펀트가 된다. 전구체 공급원(12)과 MCVD 시스템(16) 사이의 연결은 예시적으로는 3방향 밸브(13a-d)에 의해 제어한다. 각각의 밸브는 오프 벤트 및 런 포지션을 갖는다. 도시된 바대로, 밸브는 생성기가 계속 움직이고, 필요한 경우에만, 전구체를 MCVD 시스템(16)으로 전달하도록 하는 벤트 위치에 있다. 이러한 특징은 시작시 변동을 감소시킨다. 장치(10)가 전구체 에어로졸을 MCVD 시스템(16)으로 전달할 준비가 될 때, 사전 선택된 밸브를, 상응하는 선택된 공급원(12)을 시스템(16)과 유체-유동 전달로 위치시키는 이의 런 포지션으로 회전시킨다.In an optional embodiment, the vapor that has been convectively circulated to the second (cooler) chamber 12.3 contains at least one chemical element derived from the LVP material (precursor or negatively charged), which in the ultimately formed glass body has a dopant do. The connection between the precursor source 12 and the MCVD system 16 is illustratively controlled by a three-way valve 13a-d. Each valve has an off-vent and a run position. As shown, the valve is in the vent position to cause the generator to continue to move and transfer the precursor to the MCVD system 16 only when necessary. This feature reduces variability at start-up. When the device 10 is ready to deliver the precursor aerosol to the MCVD system 16, it rotates the pre-selected valve into its running position, which positions the corresponding selected source 12 in fluid- .

상기 기재된 바대로, 에어로졸 입자 크기는 통상적으로 입자 충돌 및 융합 시간으로 측정한다. 용적 충전량(캐리어 가스 용적당 에어로졸 용적)에 따라 변하는 충돌 시간은 가열기(12.4a)의 온도(즉, RE 클로라이드(12.9)의 온도), 1차 캐리어 가스의 튜브(22)로의 유동 속도 및 희석 가스의 튜브(24)로의 유동 속도로 제어한다. 반면, 융합 시간은 가열기(12.4b)의 온도(즉, 냉각기 챔버(12.3)의 온도), 가열기(12.4b)로 둘러싸이지 않은 냉각기 챔버의 비율, 냉각기 챔버 배출구(12.7)의 형태, 희석 가스의 튜브(24)로의 유동 속도, 및 희석 가스의 온도로 제어된다.As described above, the aerosol particle size is typically measured by particle impact and fusion time. The impact time, which varies with the volume of charge (aerosol volume per carrier gas), depends on the temperature of the heater 12.4a (i.e. the temperature of the RE chloride 12.9), the flow rate of the primary carrier gas into the tube 22, To the tube 24 of the tube. On the other hand, the fusing time depends on the temperature of the heater 12.4b (i.e. the temperature of the cooler chamber 12.3), the ratio of the cooler chamber not surrounded by the heater 12.4b, the form of the cooler chamber outlet 12.7, The flow rate to the tube 24, and the temperature of the diluent gas.

본 발명의 시스템은 다수의 중요한 특징 및 이점을 갖는다. (1) 고순도 전구체, 예를 들면, 금속 클로라이드를 이용하는 능력은, 추가의 정제 단계를 필요하지 않게 한다. (2) 본 발명의 에어로졸 생성기의 크기 및 설계는 캐리어 가스가 전구체와 접촉시 기포가 발생하는 비교적 긴 시간(예: 긴 체류 시간) 동안 에어로졸 생성기가 필수적으로 동일한 중량 출력을 생성시키도록 하고 작은 기포(큰 표면-대-용적 비)를 생성시키는 능력은 전구체 증기가 캐리어 가스와 평형에 도달하도록 한다. 생성기는 용이하게는 수천 시간의 사용 후에만 재충전이 필요하도록 설계될 수 있고, 이는 HVP 도펀트로만 제조된 모재와 같이 MCVD 모재들 사이의 설정 시간을 빠르게 만든다. (3) 본 발명의 에어로졸 생성기는 시스템의 다른 부품들과 독립적이다. 이러한 특징은 임의의 수의 에어로졸 생성기(많은 잠재 도펀트)가 증착 시스템에 첨가되도록 한다. (상기 언급된 바대로, 에어로졸 생성기는 예시적으로는 병렬로, 아니면 연속으로 첨가된다.) 또한, 본 발명의 전달 시스템, 및 이에 따른 전달 시스템이 혼입된 전체 섬유 제조 시스템은 시스템 작동자 또는 장치 그 자체의 성능에 덜 의존적이다. 즉, 본 발명의 에어로졸 전구체는 캐리어 가스로 포화에 도달하고, 온도는 제어하기에 보다 용이하고 선행 기술의 접근법보다 보다 명확히 공지되어 있다. 더욱이, 3방향 스위치는 본 발명의 LVP 전구체 생성기(및 표준 기포발생기)가 항상 평형 상태에 도달하도록 한다. (전구체 증기압은 시간에 따라 상당히 변하지 않는다.)The system of the present invention has a number of important features and advantages. (1) The ability to use high purity precursors, such as metal chlorides, eliminates the need for additional purification steps. (2) The size and design of the aerosol generator of the present invention allows the aerosol generator to produce essentially the same weight output over a relatively long period of time (e.g., long residence time) when bubbles are generated upon contact of the carrier gas with the precursor, (Large surface-to-volume ratio) causes the precursor vapor to reach equilibrium with the carrier gas. The generator can be easily designed to require recharging only after thousands of hours of use, which speeds up the setup time between MCVD substrates, such as a base material made only with HVP dopants. (3) The aerosol generator of the present invention is independent of other components of the system. This feature allows any number of aerosol generators (many potential dopants) to be added to the deposition system. (As mentioned above, the aerosol generators are illustratively added in parallel or successively.) The entire fiber manufacturing system incorporating the delivery system of the present invention, and thus the delivery system, It is less dependent on its performance. That is, the aerosol precursor of the present invention reaches saturation with the carrier gas, and the temperature is easier to control and more clearly known than prior art approaches. Moreover, the three-way switch allows the LVP precursor generator (and standard bubble generator) of the present invention to always reach equilibrium. (Precursor vapor pressure does not change significantly over time.)

작동 조건Operating Conditions

본 단락은 본 발명의 하나의 양태에 따르는 Yb-도핑된 광섬유의 MCVD 제조에 대한 예시적인 작동 조건을 기재한다. 에어로졸 생성기(12a)는 전구체 YbCl3를 함유한다. YbCl3의 양 및 생성기의 형태는, 튜브(22)를 통한 1차 He 유동이 튜브(22)를 통해 유동(버블링)될 때, YbCl3가 이의 평형 증기압에 도달하도록 한다. 생성기의 표준 작동 온도는 950℃이지만, 높거나 낮은 에어로졸 용적 충전량이 바람직한 경우, 목적하는 바대로 승온시키거나 감온시킬 수 있다(예: 800℃ 내지 1,100℃). 상기 기재된 바대로, 일반적으로 2개의 He가 튜브(22, 24)를 통해 에어로졸 생성기(12a)로 유동하는 경우가 있다. 튜브(22)를 통한 1차 He 유동이 액화된 YbCl3(12.9)를 통해 버블링되는 전구형 구역(12.8)의 바닥으로 유동한다. 임의적이지만 바람직한, 튜브(24)를 통한 2차 He 유동은 실온 내지 950℃(예: 500℃)에서 일어나고 포화된 YbCl3 증기를 냉각시키고, YbCl3 증기를 과포화시키고 에어로졸을 형성하는 냉각기 챔버(12.3)로 유동한다. 또한, 2차 He 유동은 에어로졸 용적 충전물을 희석시킨다. 일반적으로 총 유동량(기포발생기양 및 희석양)은 일정하고 약 0.5 내지 2ℓ/min의 범위이다. 표준 유동량은 He 유동량 각각에 대해 약 0.5ℓ/min이다. 일반적인 범위는 약 0.2 내지 1ℓ/min이지만, 이보다 높거나 낮은 유동 속도를 사용할 수 있다. This paragraph describes exemplary operating conditions for the MCVD fabrication of Yb-doped optical fibers according to one embodiment of the present invention. The aerosol generator (12a) contains a precursor YbCl 3. The amount of YbCl 3 and the form of the generator allows YbCl 3 to reach its equilibrium vapor pressure when the primary He flow through the tube 22 is flowing (bubbling) through the tube 22. The standard operating temperature of the generator is 950 ° C., but if desired, a higher or lower aerosol volume charge can be raised or lowered as desired (eg 800 ° C. to 1,100 ° C.). As described above, there are cases where generally two He flows through the tubes 22 and 24 to the aerosol generator 12a. The primary He flow through the tube 22 flows to the bottom of the bulbous section 12.8 where it is bubbled through the liquefied YbCl 3 (12.9). An optional but preferred secondary He flow through the tube 24 occurs at room temperature to 950 캜 (e.g., 500 캜), cooling the saturated YbCl 3 vapor, cooling the YbCl 3 vapor to a cooler chamber 12.3 ). In addition, the secondary He flow dilutes the aerosol bulk filler. In general, the total flow rate (bubble generator volume and dilution volume) is constant and ranges from about 0.5 to 2 L / min. The standard flow rate is about 0.5 l / min for each He flow rate. A typical range is about 0.2 to 1 L / min, but higher or lower flow rates can be used.

시스템이 평형 조건에서 실행되도록 가열기(12.4a, 12.4b)의 온도 및 He 캐리어 가스의 유동 속도는 실행 시작 전에 설정한다. 시작 동안 또는 YbCl3 에어로졸이 MCVD 시스템(16)으로 전달되지 않을 때마다, 에어로졸을 3방향 밸브(13a)를 사용하여 시스템(16) 대신에 벤트로 보낸다.The temperature of the heaters (12.4a, 12.4b) and the flow rate of the He carrier gas are set before the start of the run so that the system is run in equilibrium conditions. During start-up or whenever the YbCl 3 aerosol is not delivered to the MCVD system 16, the aerosol is sent to the vent instead of the system 16 using the three-way valve 13a.

MCVD 시스템(16)은 표준 방식으로 설정하고 작동시킨다. 비-Yb 도핑된 유리 층이, 예를 들면, 섬유 클래딩에서 바람직하다는 것을 가정하여, 상기 층들을 폐쇄 밸브(13a)로, 달리 표준 MCVD 기술을 사용하여 제조한다. 예시적으로는, Yb 도핑은 섬유 코어에만 존재하고, Yb 분포는 필수적으로 방사상 균일하다. 마지막 클래딩 층의 말단에서, YbCl3 에어로졸이 전달 튜브로 유동하도록 밸브(13a) 스위치를 킨다. 에어로졸은 다른 선택된 증기 도펀트 모두와 함께 회전 실(seal)로 유동한다. 밸브(13b, 13c) 스위치를 키고 밸브(13d) 스위치를 끔으로써, 예를 들면, SiCl4 및 GeCl4를 선택한다. 표준 MCVD 방법 및 온도를 사용하여 기재 튜브(16.2)의 벽 내부에 수트를 형성시키고, 증착시키고, 소결시킨다. 추가의 정제 공정이 필요하지 않다. 목적하는 수의 Yb-도핑된 코어 층이 증착될 때, 모든 에어로졸 및 증기 도펀트의 유동을 각각 3방향 밸브(13a 내지 13d)를 사용하여 중지시킨다. 기재 튜브(16.2)에서의 압력은 감소하고, 튜브(16.2)는 표준 MCVD 기술을 사용하여 모재로 붕괴시킨다. 이어서, 모재를 표준 섬유 인출 기술을 다시 사용하여 적합한 길이의 광섬유로 인출시킨다. The MCVD system 16 is set and operated in a standard manner. Assuming that a non-Yb doped glass layer is desired, for example, in a fiber cladding, the layers are fabricated as a closing valve 13a, otherwise using standard MCVD techniques. Illustratively, Yb doping is only present in the fiber core, and the Yb distribution is essentially radially uniform. At the end of the last cladding layer, the valve 13a is switched so that the YbCl 3 aerosol flows into the delivery tube. The aerosol flows with the other selected vapor dopant into the rotating seal. By turn on the valves (13b, 13c) switch off the valve (13d) switch, for example, selects the SiCl 4 and GeCl 4. A soot is formed, deposited, and sintered inside the walls of the substrate tube 16.2 using standard MCVD methods and temperatures. No further purification steps are necessary. When the desired number of Yb-doped core layers are deposited, the flow of all aerosol and vapor dopants is stopped using three-way valves 13a-13d, respectively. The pressure in the substrate tube 16.2 decreases and the tube 16.2 collapses into the base material using standard MCVD techniques. Subsequently, the base material is again withdrawn using a standard fiber drawing technique to an optical fiber of suitable length.

코어 층의 증착에 대한 예시적인 조건 및 유동 속도는 다음과 같다. (1) YbCl3 에어로졸 생성기(12a): 가열기(12.4a)의 온도 = 950℃; 가열기(12.4b)의 온도 = 500℃(일반적으로 실온 내지 가열기(12.4a)의 온도); 1차 He의 유동 속도(기포발생기 유동 속도) = 0.5ℓ/min; 및 2차 He의 유동 속도(희석 유동 속도) = 0.5ℓ/min 및 (2) SiCl4 생성기(12b): 가열기의 온도 = 38℃(적합한 범위: 25 내지 60℃); 또는 증기 생성기(12b)를 통한 유동 속도 = 100sccm(적합한 범위: 50 내지 2,000sccm); 및 생성기(12b)를 통한 추가의 O2 유동 속도 = 900sccm(적합한 범위: 0 내지 2,000sccm); 토치(16.5)의 횡단 속도 = 80mm/min(적합한 범위: 40 내지 200mm/min); 및 모재 튜브(16.2)의 증착/소결 온도 = 2,000℃(적합한 범위: 1,700 내지 2500℃).Exemplary conditions for the deposition of the core layer and flow rates are as follows. (1) YbCl 3 aerosol generator 12a: temperature of heater 12.4a = 950 ° C; The temperature of the heater 12.4b = 500 占 폚 (generally from room temperature to the temperature of the heater 12.4a); Flow velocity of the primary He (bubble generator flow velocity) = 0.5 l / min; And (2) the SiCl 4 generator 12b: the temperature of the heater = 38 占 폚 (suitable range: 25 to 60 占 폚); the flow rate of the secondary He (dilution flow rate) = 0.5 l / min; Or flow rate = 100 sccm (suitable range: 50 to 2,000 sccm) through the steam generator 12b; And addition of O through the generator (12b) 2 flow rate = 900sccm (preferred range: 0 to 2,000sccm); The transverse speed of the torch 16.5 = 80 mm / min (suitable range: 40 to 200 mm / min); And the deposition / sintering temperature of the base material tube 16.2 = 2,000 占 폚 (suitable range: 1,700 to 2500 占 폚).

상응하는 5개 이상의 RE-도핑된 코어 층이 증착되도록 일반적으로 5개 이상의 코어가 통과한다(기재 튜브(16.2)를 따르는 가열원(16.6)이 전환된다). 물론 5개 이상의 또는 5개 이하의 층이 증착될 수 있다. In general, more than five cores pass (the heating source 16.6 along the substrate tube 16.2 is switched) so that a corresponding five or more RE-doped core layers are deposited. Of course, not less than five or not more than five layers may be deposited.

에어로졸 및 증기를 생성기(12)로부터 회전 실로 전달하기 위해 적합한 튜브는 외부 직경이 3/8inch인 테플론 튜브(18)를 함유한다. 큰 YbCl3 입자를 여과시키기 위한 (임의의 필터(14)로서의) 적합한 침강 챔버는 내부 직경이 3inch인 튜브를 포함하고, 당해 튜브는 큰 입자가 중력으로 인해 캐리어 가스 스트림으로부터 침강되도록 충분히 유동량을 감소시킨다.Suitable tubes for delivering aerosols and vapors from the generator 12 to the spinning chamber contain a Teflon tube 18 having an outer diameter of 3/8 inch. A suitable settling chamber (as optional filter 14) for filtering large YbCl 3 particles comprises a tube with an inner diameter of 3 inches, which is capable of reducing the flow rate sufficiently to allow large particles to settle out of the carrier gas stream due to gravity .

훨씬 또 다른 양태에 있어서, 본 발명의 방법은 임의의 유기 화합물(예: 용매 또는 전구체)을 사용하지 않고, 그 자체로 또한 선행 기술의 당해 화합물의 사용에 따른 부산물인 바람직하지 않은 오염물질(예: H2O 및 다른 수소 함유 종류)을 포함하지 않는다. 특히, LVP 에어로졸 입자 및 캐리어 가스는 유기 화합물을 포함 하지 않는다. 결과적으로, 본 발명의 공정은 상기한 오염물질을 제거하기 위한 임의의 추가의 정제 단계를 필요로 하지 않는다.In a still further embodiment, the process of the present invention can be carried out without the use of any organic compound (e.g. solvent or precursor) and with the use of undesirable contaminants which are by-products of the prior art use of the compound : H 2 O and other hydrogen-containing species). In particular, the LVP aerosol particles and the carrier gas do not contain organic compounds. As a result, the process of the present invention does not require any additional purification steps to remove such contaminants.

실시예Example

당해 실시예들은 Yb-도핑된 실리카 광섬유의 제조에 대해 기술한다. 다양한 물질, 면적 및 작동 조건이 예시로서만 제공되고, 달리 기재되어 있지 않는 한, 본 발명의 범위를 제한하는 것으로 해석되지 않는다. 당해 실시예들에서, YbCl3은 Yb의 LVP 전구체이고, Yb는 실리카 섬유에서 도펀트로서 사용된다. (Yb는 실제로 산화물로서 섬유로 혼입되지만, 당해 분야에 널리 공지된 바대로, 도핑된 실리카의 입자 특성을 변경하는 것은 Yb 원소이다.) 침강 챔버는 필터(14)로서 사용된다. These examples describe the preparation of Yb-doped silica optical fibers. The various materials, areas and operating conditions are provided by way of example only and are not to be construed as limiting the scope of the invention unless otherwise indicated. In these examples, YbCl 3 is the LVP precursor of Yb and Yb is used as the dopant in the silica fiber. (Yb is actually incorporated into the fiber as an oxide, but it is the Yb element that alters the particle characteristics of the doped silica, as is well known in the art.) The settling chamber is used as the filter 14.

실시예Example 1:  One:

실시예 1은 본 발명에 따라 제조된 Yb-Al-도핑된 실리카 모재에 대해 기술한다. YbCl3 에어로졸 생성기(12a)는 Yb의 고농도를 성취하기 위해 975℃에서 유지시킨다. 용융된 YbCl3를 통해 버블링된 1차 He 유동을 0.5ℓ/min으로 설정하고, 냉각기 챔버(12.1)에서 포화된 YbCl3 증기를 냉각시키는 2차 He 유동을 0.3ℓ/min으로 설정한다. 시스템이 평형에 도달하도록 하는 전달 전 1시간 동안 에어로졸 생성기를 위한 상기한 조건을 유지시킨다. Example 1 describes a Yb-Al-doped silica matrix material prepared according to the present invention. The YbCl 3 aerosol generator 12a is maintained at 975 ° C to achieve a high concentration of Yb. The primary He flow bubbled through the molten YbCl 3 is set to 0.5 l / min and the secondary He flow to cool the saturated YbCl 3 vapor in the cooler chamber 12.1 is set to 0.3 l / min. The above conditions for the aerosol generator are maintained for 1 hour before delivery to allow the system to reach equilibrium.

MCVD 시스템(16)을 일반적인 방식으로 설정하고, Yb-Al-도핑된 실리카 수트 층의 증착 전의 모든 단계를 벤트로 설정된 에어로졸 3방향 밸브(13a)로 표준 MCVD 기술을 사용하여 수행한다. Yb-Al-도핑된 층의 증착을 위해, 에어로졸이 전달 관으로 진입하고 다른 전구체 및 공정 가스(예: He, O2)와 혼합되도록 밸브(13a) 스위치를 킨다. SiCl4 기포발생기(12b)를 38℃에서 유지시킨다. O2 100sccm을 SiCl4 전구체를 통해 버블링시킨다. Al2Cl6 증기를 Al(실리카 속의 산화물로서 혼입됨)을 위한 전구체로서 사용하고, 6.7sccm의 속도에서 기재 튜브(16.2)로 직접 유동한다. 전구체 이외에, O2 900sccm 및 He 400sccm을 산화 및 소결을 각각 돕기 위해 유동한다. 전구체를 H2/O2 토치(16.5)를 기재 튜브(16.2)를 통해 횡단시켜 튜브의 외부 표면을 2,100℃로 가열함으로써 산화시킨다. The MCVD system 16 is set up in a general manner and all steps prior to deposition of the Yb-Al-doped silica soot layer are performed using a standard MCVD technique with an aerosol three-way valve 13a set as a vent. For deposition of the Yb-Al-doped layer, the valve 13a is switched so that the aerosol enters the transfer tube and is mixed with other precursors and process gases (e.g., He, O 2 ). SiCl 4 maintains the bubble generator (12b) in 38 ℃. O 2 100 sccm is bubbled through the SiCl 4 precursor. Al 2 Cl 6 vapor is used as a precursor for Al (incorporated as oxide of silica) and flows directly into the substrate tube 16.2 at a rate of 6.7 sccm. In addition to the precursor, 900 sccm of O 2 and 400 sccm of He flow to assist oxidation and sintering, respectively. The precursor is oxidized by heating the outer surface of the tube to 2,100 ° C by traversing the H 2 / O 2 torch (16.5) through the substrate tube (16.2).

적합한 수의 클래딩 층을 먼저 증착시킨다. 이어서, 8개의 Yb-Al-도핑된 코어 층이 증착된 후, 밸브(13a)를 벤트 위치로 돌려 보내고, 기재 튜브에서의 압력을 감소시키고, 증착된 층을 함유하는 기재 튜브를 일반적인 방식으로 봉으로 붕괴시킨다. 상기 모재의 Yb-Al-도핑된 구역과 도핑되지 않은 구역과의 상대 지수 차이는 0.007이고, Yb 농도는 대략 1.6중량%이다. 8개의 층은 7mm2의 횡단 면적을 생성시킨다. A suitable number of cladding layers are deposited first. Subsequently, after the eight Yb-Al-doped core layers are deposited, the valve 13a is returned to the vent position, the pressure in the substrate tube is reduced, and the substrate tube containing the deposited layer is sealed . The relative index difference between the Yb-Al-doped region and the undoped region of the base material is 0.007 and the Yb concentration is approximately 1.6% by weight. Eight layers produce a cross-sectional area of 7 mm 2 .

실시예Example 2:  2:

실시예 2는 또 다른 Yb-Al-도핑된 실리카 모재, 및 이로부터 인출된 섬유의 제조에 대해 기술한다. 에어로졸 생성기(12a)는 950℃에서 유지시킨다. 용융된 YbCl3를 통해 버블링된 1차 He 유동을 0.38ℓ/min으로 설정하고, 냉각기 챔버(12.1)에서 포화된 YbCl3 증기를 냉각시키는 2차 He 유동을 0.5ℓ/min으로 설정한다. 시스템이 평형에 도달하도록 하는 전달 전 1시간 동안 에어로졸 생성기를 위한 상기한 조건을 유지시킨다. Example 2 describes the preparation of another Yb-Al-doped silica base material, and fibers drawn therefrom. The aerosol generator 12a is maintained at 950 占 폚. The primary He flow bubbled through the molten YbCl 3 is set to 0.38 l / min and the secondary He flow to cool the saturated YbCl 3 vapor in the cooler chamber 12.1 is set to 0.5 l / min. The above conditions for the aerosol generator are maintained for 1 hour before delivery to allow the system to reach equilibrium.

MCVD 시스템(16)을 일반적인 방식으로 설정하고, Yb-Al-도핑된 실리카의 증착 전의 모든 단계를 벤트로 설정된 에어로졸 3방향 밸브(13a)로 표준 MCVD 기술을 사용하여 수행한다. Yb-Al-도핑된 층의 증착을 위해, 에어로졸이 전달 튜브로 진입하고 다른 전구체 및 공정 가스와 혼합되도록 밸브(13a) 스위치를 킨다. SiCl4 기포발생기(12b)를 38℃에서 유지시킨다. O2 100sccm을 SiCl4 전구체를 통해 버블링시킨다. 실시예 1에서와 같이, Al2Cl6 증기를 Al를 위한 전구체로서 사용하고, 5sccm의 속도에서 기재 튜브(16.2)로 직접 유동한다. 전구체 이외에, O2 900sccm 및 He 200sccm을 산화 및 소결을 각각 돕기 위해 유동한다. 전구체를 H2/O2 토치를 기재 튜브(16.2)를 통해 횡단시켜 튜브의 외부 표면을 2,000℃로 가열함으로써 산화시킨다. The MCVD system 16 is set up in a general manner and all steps before the deposition of the Yb-Al-doped silica are carried out using standard MCVD techniques with an aerosol three-way valve 13a set as a vent. For deposition of the Yb-Al-doped layer, the valve 13a is switched so that the aerosol enters the transfer tube and is mixed with the other precursor and process gas. SiCl 4 maintains the bubble generator (12b) in 38 ℃. O 2 100 sccm is bubbled through the SiCl 4 precursor. As in Example 1, Al 2 Cl 6 vapor is used as a precursor for Al and flows directly to the substrate tube 16.2 at a rate of 5 sccm. In addition to the precursor, 900 sccm of O 2 and 200 sccm of He flow to assist oxidation and sintering, respectively. The precursor H 2 / O 2 torch described by crossing through the tube (16.2) is oxidized by heating the outer surface of the tube to 2,000 ℃.

적합한 수의 클래딩 층을 먼저 증착시킨다. 이어서, 8개의 Yb-Al-도핑된 코어 층이 증착된 후, 밸브(13a)를 벤트 위치로 돌려 보내고, 기재 튜브에서의 압력을 감소시키고, 증착된 층을 함유하는 기재 튜브를 일반적인 방식으로 봉으로 붕괴시킨다. 상기 모재의 Yb-Al-도핑된 구역과 도핑되지 않은 구역과의 상대 지수 차이는 0.006이고, Yb 농도는 대략 0.8중량%이다. 8개의 층은 7mm2의 횡단 면적을 생성시킨다. A suitable number of cladding layers are deposited first. Subsequently, after the eight Yb-Al-doped core layers are deposited, the valve 13a is returned to the vent position, the pressure in the substrate tube is reduced, and the substrate tube containing the deposited layer is sealed . The relative index difference between the Yb-Al-doped and undoped regions of the base material is 0.006 and the Yb concentration is approximately 0.8% by weight. Eight layers produce a cross-sectional area of 7 mm 2 .

이어서, 상기 모재를 실리카 튜브로 자켓팅하고 섬유로 인출하여 975nm의 펌프 파장에서 단일-횡단-모드 작동을 유지하도록 정확한 코어/클래드 기하학을 수득한다.The precursor core / clad geometry is then obtained to jacket the base material into a silica tube and draw it into the fiber to maintain single-transverse-mode operation at a pump wavelength of 975 nm.

상기 기재된 바대로 제조된, Yb-Al-도핑된 코어 구역을 갖는 광섬유는 공지된 상업적으로 이용 가능한 최상의 섬유보다 상당히 낮은 감소된 광흑화를 나타낸다. 보다 자세하게는, 도 3은 2가지 경우를 비교한다. 곡선 I - 낮은 광흑화 섬유로서 판촉되고 판매되는 상업적으로 이용 가능한 Yb-도핑된 섬유, 및 곡선 II - YbCl3-전구체가 본 발명의 하나의 양태에 따라 SCA로서 전달되는 표준 MCVD 시스템을 사용하여 제조된 Yb-도핑된 섬유. An optical fiber with a Yb-Al-doped core zone prepared as described above exhibits significantly reduced photo-blackening than the best known commercially available fibers. More specifically, FIG. 3 compares two cases. Curves I - commercially available Yb-doped fibers promoted and sold as low photo-induced black fibers, and Curve II - YbCl 3 - precursors were prepared using a standard MCVD system delivered as SCA in accordance with one embodiment of the present invention Yb-doped fibers.

상업적으로 이용 가능한 섬유(곡선 I)는 1,000초 후 이의 본래 전력의 약 8%가 손실되지만, 본 발명의 섬유는 동일한 시간 간격에서 이의 본래 전력의 약 2%만이 손실되면서 상기 섬유보다 우수하게 4회 수행된다. 본 발명자들이 아는 한, 본 발명의 섬유는 임의의 고농도 Yb-도핑된 실리카 섬유의 최상의 광흑화 특성을 나타낸다. Commercially available fibers (Curve I) lose about 8% of their original power after 1,000 seconds, but the fibers of the present invention exhibit four times better performance than the fibers, with only about 2% of their original power being lost at the same time intervals . As far as the present inventors are aware, the fibers of the present invention exhibit the best optical blackness characteristics of any high density Yb-doped silica fibers.

대안적인 양태Alternative mode

상기 기재된 배열은 많은 가능한 특정한 양태의 단지 일례이고, 이를 가정하에 본 발명의 원칙을 응용할 수 있는 것으로 이해된다. 당해 분야의 숙련된 당업자는 본 발명의 원리 및 범위를 벗어남이 없이 수많은 그리고 다양한 다른 배열을 본 발명의 원칙에 따라 가정할 수 있다. It is to be understood that the arrangement described above is merely one example of many possible specific embodiments, and that the principles of the present invention may be applied based on this assumption. Numerous and varied other arrangements may be devised in accordance with the principles of the present invention without departing from the spirit and scope of the present invention by those skilled in the art.

특히, SCA를 형성하는 많은 방법이 있다. 전구체 증기로 포화되는 캐리어 가스 스트림을 빨리 냉각시켜, 과포화를 유발하고, 교대로 전구체를 균질한 뉴클리에이트(nucleate)로 발생시켜 에어로졸 입자를 형성하는 것이 바람직하다. 냉각은 전도 냉각, 방사 냉각, 혼합, 또는 단열 팽창으로 발생할 수 있다[참조: S.K. Friedlander, Smoke Dust and Haze, John Wiley & Sons, New York, NY, 1977(참조 문헌으로서 본원에 인용되어 있다)]. 그러나, 또한 화학반응을 사용하여 에어로졸을 형성할 수 있다. 예를 들면, 상술된 바대로, RE 클로라이드가 증기인 온도(예: 950℃)에서 RE 클로라이드를 산소와 반응시킨다. 이러한 고온에서 산화물은 RE 산화물 에어로졸을 형성할 수 있다. 반면, 부전구체, 예를 들면, 알루미늄(Al)은 Cl2와 반응하여 Al2Cl6 증기(예: 350℃에서)를 생성시키고, 이어서 당해 증기는 냉각되어 에어로졸을 형성할 수 있다(참조: 제1 챔버(12.2)가 반응 챔버인 생성기(12a)의 상기 설명).In particular, there are many ways to form SCAs. It is desirable to rapidly cool the carrier gas stream saturated with the precursor vapor to cause supersaturation and alternately generate the precursor as homogeneous nucleate to form aerosol particles. Cooling may occur by conduction cooling, spin cooling, mixing, or adiabatic expansion (SK Friedlander, Smoke Dust and Haze, John Wiley & Sons, New York, NY, 1977 . However, chemical reactions can also be used to form aerosols. For example, RE chloride is reacted with oxygen at a temperature (e.g., 950 ° C) where RE chloride is vapor, as described above. At these high temperatures, oxides can form RE oxide aerosols. On the other hand, the negatively charged sphere, for example aluminum (Al), reacts with Cl 2 to produce Al 2 Cl 6 vapor (for example at 350 ° C), which can then be cooled to form an aerosol The above description of the generator 12a in which the first chamber 12.2 is the reaction chamber).

또한, 에어로졸 입자가 수행 튜브(16.2)로 유동하기 전에 이를 증기화시키는 것이 유리할 수 있다. 도 3에 도시된 바대로, 에어로졸(12.0)은 공급 튜브(16.1) 내부에 동심원으로 위치하는 튜브(16.7)로 유동한다. 이의 말단 근처에 내부 튜브(16.7)을 외부 가열원(16.9)으로 가열한다. 에어로졸(12.0)은 증기화된 후, 증기로서 모재 튜브(16.2)로 유동한다(도 1). 산소는 공급 튜브(16.1)으로 유동하여 도 1의 전달 시스템으로 전달되는 에어로졸 및 증기를 산화시킨다. 또는, 산소는 내부 튜브(16.7)로 유동할 수 있고 에어로졸은 공급 튜브(16.1)으로 유동할 수 있다. (내부 튜브의 1차 목적은 에어로졸이 사전에 산화되지 않도록, 즉 에어로졸이 증기화되기 전에, 에어로졸 및 산소를 각각 유지시키는 것이다.) It may also be advantageous to vaporize the aerosol particles before flowing into the working tube 16.2. As shown in Figure 3, the aerosol 12.0 flows into the tube 16.7 concentrically located within the supply tube 16.1. And the inner tube 16.7 is heated to an external heating source 16.9 near its end. The aerosol 12.0 is vaporized and then flows to the base material tube 16.2 as vapor (Fig. 1). Oxygen flows to the feed tube 16.1 to oxidize aerosols and vapors delivered to the delivery system of FIG. Alternatively, the oxygen can flow into the inner tube 16.7 and the aerosol can flow into the feed tube 16.1. (The primary purpose of the inner tube is to maintain the aerosol and oxygen, respectively, before the aerosol is pre-oxidized, ie, before the aerosol is vaporized.)

고중량 충전량에 대해 에어로졸 입자가 보다 커진다면, 또는 에어로졸 입자가 긴 전달 체류 시간으로 인해 (여과에도 불구하고) 너무 많이 응집되고 섬유가 바람직하지 않은 희토류 클러스터링의 신호를 나타내기 시작한다면, 당해 방법은 바람직할 수 있다. 가열된 튜브(16.7)를 사용하지 않을 때, 입자가 이상적인 (HVP 증기와 혼합된 LVP 증기)를 형성하는 MCVD 시스템의 고온 영역에 접근하거나 증기화되기 전에 산화됨으로써 입자는 증기화된다. 입자가 산화되기 전에 완전히 증기화된다면, 전달된 입자의 크기는 전달 효율면에서 중요하지만, 섬유의 광학 특성면에서는 그렇지 않다. YbCl3과 어떠한 현상이 발생하는지에 대한 몇몇 표시가 있다. 그러나, 다른 RE 도펀트로 RE-클로라이드 입자가 우선 산화될 수 있고, 이러한 경우에 입자의 크기는 산화물 입자의 크기에 영향을 미칠 수 있어, 이의 크기는 중요하고 가능한 크기가 작을 필요가 있다. If the aerosol particles become larger for a higher charge mass, or if the aerosol particles aggregate too much (despite filtration) due to the longer transfer residence time and the fibers begin to exhibit undesirable signals of rare earth clustering, can do. When the heated tube 16.7 is not used, the particles are vaporized by oxidizing the particles prior to approaching or vaporizing the hot zone of the MCVD system forming the ideal (LVP vapor mixed with HVP vapor). If the particles are completely vaporized before being oxidized, the size of the delivered particles is important in terms of transport efficiency, but not in terms of optical properties of the fibers. There are some indications of what is happening with YbCl 3 . However, RE-chloride particles can be first oxidized with other RE dopants, in which case the size of the particles can affect the size of the oxide particles, the size of which is important and needs to be as small as possible.

에어로졸을 금속 클로라이드로서 증착 시스템에 전달하는 것 대신에, 에어로졸을 산화물로서 전달할 수도 있다. 예를 들면, 임의의 산화제를 각각의 에어로졸 생성기(12a, 12a')와 증착 시스템(16) 사이에 위치시킬 수 있다. 산화제는 도 1에 도시된 바대로 산화 챔버(20)를 분리시킬 수 있거나 단순히 (O2가 튜브(24)로 유동하고 He가 튜브(22)로 유동하는) 생성기(12a)의 상부 챔버(12.3)일 수 있다. 그러나, 산화물은 극히 낮은 증기압을 가질 수 있고, 이는 산화물 입자가 기재 튜브의 고온 영역에서 증기화되지 않아서, 증착된 유리 층에서 덜 균질화될 수 있다는 것을 의미한다. 그럼에도 불구하고, 당해 분야의 숙련된 당업자는, 예를 들면, 산화물의 사용이 에어로졸 입자의 전달을 개선시키거나, 산화물의 사용이 특정 도펀트의 에어로졸을 형성시키기 위한 오직 1가지 방법만을 가질 때, 다른 이유로 에어로졸을 산화물로서 전달시키는 것이 유리하다는 것을 알 수 있을 것이다. Instead of delivering the aerosol as a metal chloride to the deposition system, the aerosol may be delivered as an oxide. For example, any oxidant may be placed between each of the aerosol generators 12a, 12a 'and the deposition system 16. The upper chamber of the oxidizing agent is a bar to isolate the oxidation chamber 20, or simply as generator (12a) (O 2 flows into the tube 24, and He is flowing into the tube 22) shown in Figure 1 (12.3 ). However, the oxides can have extremely low vapor pressures, which means that the oxide particles are not vaporized in the high temperature region of the substrate tube, and can be less homogenized in the deposited glass layer. Nevertheless, those skilled in the art will appreciate that, for example, when the use of an oxide improves the delivery of aerosol particles, or when the use of the oxides has only one method for forming an aerosol of a particular dopant, It will be appreciated that it is advantageous to deliver the aerosol as an oxide.

마지막으로, 본 발명의 에어로졸 공정의 특정 양태는 광 도파로를 제조하기 위한 방법/장치로서 기재 및 청구되어 있고, 광섬유를 제조하는 경우에, 우선 모재를 제조하고 이로부터 섬유를 후속적으로 인출시키는 세부 공정을 함유하도록 의도된다. Finally, certain aspects of the aerosol process of the present invention are described and claimed as a method / apparatus for manufacturing an optical waveguide, and in the case of manufacturing an optical fiber, first of all the details of fabricating the base material and subsequently drawing the fiber therefrom Process. ≪ / RTI >

다성분Multi-component 에어로졸 Aerosol

상기 기재된 바대로, 본 발명에서 사용되는 에어로졸은 SCA 또는 MCA일 수 있다. MCA의 경우에, 각각의 에어로졸 입자는 도펀트 또는 호스트 물질의 전구체(예: 클로라이드) 및/또는 도펀트 또는 호스트 물질의 산화물을 함유하는 2개 이상의 화합물을 포함한다. 예를 들면, MCA는 각각의 입자가 2개(또는 2개 이상)의 RE 도펀트 전구체, 예를 들면, YbCl3 및 ErCl3의 복합재인 입자를 포함한다. 또는, MCA는 각각의 입자가 각각 RE 도펀트 전구체 및 비-RE LVP 도펀트, 예를 들면, YbCl3 및 Al2O3(알루미나)의 복합재인 입자를 포함한다. 반면, MCA는 각각의 입자가 RE 도펀트 전구체(예: YbCl3) 및 HVP 도펀트(예: Ge2O3)의 산화물 및/또는 호스트 물질(예: SiO2)의 산화물의 복합재인 입자를 포함한다.As described above, the aerosol used in the present invention may be SCA or MCA. In the case of MCA, each aerosol particle comprises two or more compounds containing a dopant or a precursor (e.g., chloride) of a host material and / or an oxide of a dopant or host material. For example, MCA includes particles wherein each particle is a composite of two (or more) RE dopant precursors, such as YbCl 3 and ErCl 3 . Alternatively, the MCA comprises particles wherein each particle is a composite of a RE dopant precursor and a non-RE LVP dopant, such as YbCl 3 and Al 2 O 3 (alumina), respectively. MCA, on the other hand, includes particles in which each particle is a composite of an oxide of a RE dopant precursor (e.g. YbCl 3 ) and an oxide of an HVP dopant (e.g. Ge 2 O 3 ) and / or an oxide of a host material (e.g. SiO 2 ) .

MCA 에어로졸은, 예를 들면, 도 2의 생성기(12a)를 사용하여 생성시킬 수 있다. 따라서, 생성기(12a)의 보다 저온의 2차 캐리어 가스는 RE 증기의 축합을 개시시키기 위해 적합한 시드 입자를 함유할 수 있다. 또는, 시드 입자는 그 자체로 또 다른 별개의 생성기에 의해 생성될 수 있다. 일반적으로, 시드 입자는 LVP 전구체 또는 산화물, 예를 들면, RE 클로라이드, 또는 알루미나일 수 있거나, 시드 입자는 HVP 산화물, 예를 들면, SiO2 또는 Ge2O3, 또는 이들의 배합물, 즉, 다성분 시드 에어로졸일 수 있다.The MCA aerosol may be generated using, for example, the generator 12a of FIG. Thus, the cooler secondary carrier gas of the generator 12a may contain seed particles suitable for initiating the condensation of the RE vapor. Alternatively, the seed particles may themselves be generated by another separate generator. In general, the seed particles are LVP precursor or oxide, for example, RE chloride, or may be alumina or, seed particles HVP oxide, e.g., SiO 2 or Ge 2 O 3, or a combination thereof, that is, Component seed aerosol.

후자의 경우에, 시드 입자는 바람직하게는 각각의 에어로졸 성분의 균질한 배합물이고, 이는 균질한 유리 바디, 특히 광섬유의 제조시 유리하다. In the latter case, the seed particles are preferably homogeneous blends of the respective aerosol components, which are advantageous in the production of homogeneous glass bodies, especially optical fibers.

따라서, 본 발명의 또 다른 측면에 따라, 본 발명은 다수의 성분을 포함하며 이들 성분 중의 하나 이상의 성분이 제1 LVP 전구체를 갖는 제1 도펀트인 유리 바디를 제조하는 방법으로서, LVP 전구체의 증기를 제공하는 단계(al) 및 LVP 증기를 과포화시켜 에어로졸을 형성하는 단계(a2)를 포함하는, 제1 LVP 전구체를 함유하는 제1 입자를 포함하는 제1 에어로졸을 생성시키는 단계(a); 다른 성분들의 증기를 별개로 생성시키는 단계(b); 단계(a)의 에어로졸 및 단계(b)의 증기를, 기재를 함유하는 증착 시스템으로 대류 순환시키는 단계(c); 및 단계(c)에서 대류 순환된 에어로졸 및 증기가 함유된 도펀트를 포함하는 하나 이상의 도핑된 층을 기재의 표면에 형성시키는 단계(d)를 포함하는, 유리 바디의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 이러한 측면에서, 에어로졸은 MCA 또는 SCA일 수 있다. Thus, in accordance with another aspect of the present invention, the present invention provides a method of making a glass body comprising a plurality of components, wherein at least one of the components is a first dopant having a first LVP precursor, wherein the vapor of the LVP precursor Providing a first aerosol comprising a first particle containing a first LVP precursor, comprising: (a) providing a first LVP precursor; and (a2) superposing the LVP vapor to form an aerosol; (B) generating the vapors of the other components separately; (C) convectively circulating the aerosol of step (a) and the vapor of step (b) to a vapor deposition system containing the substrate; And (d) forming on the surface of the substrate at least one doped layer comprising a vapor-containing dopant and a convectively circulated aerosol in step (c). In this aspect of the invention, the aerosol may be MCA or SCA.

당해 방법은 도 1 내지 도 2와 관련하여 상기 기재된 장치를 사용하여 수행할 수 있다. The method can be carried out using the apparatus described above with reference to Figures 1-2.

본 발명에 따르는 에어로졸 전달 시스템은 RE 전구체와 같은 LVP 전구체를 용이하게 단시간 내에 핸들링할 수 있으며, MCVD, OVD 및 VAD와 같은 다양한 유리 증착 시스템과 연계해서 사용될 수 있고, 광섬유 및 평면형 도파로 뿐만 아니라 유리 수트도 포함하는 유리 바디의 제조에도 적용될 수 있다.The aerosol delivery system according to the present invention can easily handle LVP precursors such as RE precursors in a short period of time and can be used in conjunction with various glass deposition systems such as MCVD, OVD and VAD and can be used in conjunction with optical fibers and planar waveguides, The present invention can be applied to the manufacture of a glass body which also includes

Claims (52)

다수의 성분들을 포함하며 하나 이상의 성분이 제1 LVP 전구체를 갖는 제1 도펀트인 유리 바디(glass body)의 제조방법으로서,1. A method of making a glass body comprising a plurality of components and at least one component being a first dopant having a first LVP precursor, 제1 LVP 전구체의 제1 입자들을 포함하며 이들 각각의 제1 입자가 제1 도펀트의 제1 LVP 전구체만을 포함하는 제1 에어로졸을 생성시키는 단계(a),(A) generating a first aerosol comprising first particles of a first LVP precursor, each of the first particles comprising only a first LVP precursor of a first dopant, 기타 성분의 증기를 별도로 생성시키는 단계(b)[생성 단계(a)와 생성 단계(b)는 유리 바디를 형성하는 데 사용되는 증착 시스템으로부터 멀리 떨어진 위치에서 수행된다],(B) the production step (a) and the production step (b) are carried out at a location remote from the deposition system used to form the glass body; 단계(a)의 에어로졸과 단계(b)의 증기를 증착 시스템으로부터 멀리 떨어진 위치로부터 기재를 포함하는 증착 시스템으로 대류시키는 단계(c) 및(C) convection of the aerosol of step (a) and the vapor of step (b) from a location remote from the deposition system to a deposition system comprising the substrate, and 단계(c)에서 대류시킨 에어로졸과 증기에 함유된 도펀트를 포함하는 하나 이상의 도핑된 층을 기재의 표면 위에 형성시키는 단계(d)를 포함하는, 유리 바디의 제조방법.(D) forming at least one doped layer on the surface of the substrate, the doped layer comprising a vaporized aerosol and vapor in step (c). 제1항에 있어서, 특정 범위의 크기를 벗어나는 에어로졸 입자를 제거하고 동일한 크기 범위에 속하는 에어로졸 입자들만 투과하도록 제1 에어로졸을 여과하는 단계를 추가로 포함하며, 당해 여과 단계가 에어로졸 생성 단계(a)에서 사용된 생성기 또는 대류 단계(c)에서 사용된 튜브를 전혀 포함하지 않는 하나 이상의 부품에 의해 수행됨을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.2. The method of claim 1 further comprising filtering the first aerosol to remove aerosol particles outside the specified range of sizes and to transmit only aerosol particles within the same size range, Characterized in that it is carried out by means of at least one part which does not contain any of the tubes used in the step (c) or the generator used in step (c). 제2항에 있어서, 여과 단계가, 크기 범위가 0.01 내지 10㎛를 벗어나는 입자들을 제거하고 동일한 범위에 속하는 에어로졸 입자들만 투과시킴을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.3. The method of claim 2, wherein the filtering step removes particles outside the size range of 0.01 to 10 micrometers and allows only aerosol particles within the same range to permeate. 제1항에 있어서, 생성 단계(a)가 실온보다 높은 제1 온도에서 LVP 전구체를 가열하는 단계를 포함하고, 대류 단계(c)가 제1 온도보다 낮은 온도에서 유지되는 튜브를 통해 에어로졸을 대류시키는 단계를 포함함을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.2. The method of claim 1, wherein the producing step (a) comprises heating the LVP precursor at a first temperature above room temperature, wherein the convection step (c) is conducted by passing the aerosol through a tube maintained at a temperature lower than the first temperature ≪ / RTI > comprising the steps of: 제1항에 있어서, 생성 단계(a)가,The method of claim 1, wherein the generating step (a) 용기의 제1 챔버에 LVP 전구체를 제공하는 단계(a1), (A1) providing an LVP precursor to a first chamber of the vessel, LVP 전구체를 가열하여 이의 증기를 제공하는 단계(a2), (A2) heating the LVP precursor to provide its vapor, 캐리어 가스를 제1 챔버 속으로 유동시켜 용기의 제2 챔버에서 당해 전구체를 함유하는 가스 혼합물을 생성시키는 단계(a3),(A3) flowing a carrier gas into the first chamber to produce a gas mixture containing the precursor in a second chamber of the vessel, 보다 저온의 캐리어 가스를 제2 챔버 속으로 유동시켜 증기를 응축시키고 전구체의 에어로졸을 형성시키는 단계(a4) 및Flowing a lower-temperature carrier gas into the second chamber to condense the vapor and form an aerosol of the precursor (a4); and 에어로졸을 용기로부터 추출하는 단계(a5)를 포함함을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.≪ / RTI > comprising the step of (a5) extracting the aerosol from the vessel. 제5항에 있어서, 캐리어 기체가 전구체로 포화됨을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.6. The method of claim 5, wherein the carrier gas is saturated with the precursor. 제1항에 있어서, 유리 바디가 평면형 도파로서 제조됨을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.The method of claim 1, wherein the glass body is made of a planar waveguide. 제1항에 있어서, 도파로가 실리카 광섬유로서 제조됨을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.The method of claim 1, wherein the waveguide is fabricated as a silica optical fiber. 제8항에 있어서, 9. The method of claim 8, 증착 시스템이 MCVD 시스템을 포함하고, 기재가 기재 튜브를 포함하며, MCVD 시스템이 기재 튜브에 축 방향으로 커플링된 공급 튜브와 당해 공급 튜브 내부에 배치된 동심원 내부 튜브를 포함하고, Wherein the deposition system comprises a MCVD system, the substrate comprises a substrate tube, the MCVD system comprises a supply tube axially coupled to the substrate tube and a concentric inner tube disposed within the supply tube, 대류 단계(c)가 내부 튜브와 공급 튜브 중의 하나 속으로 에어로졸을 대류시키는 단계와 당해 에어로졸을 기재 튜브에 유입되기 전에 가열하여 증기 상태로 전환시키는 단계를 포함함을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.Characterized in that the convection step (c) comprises convection of the aerosol into one of the inner tube and the feed tube, and heating the aerosol before entering the substrate tube to convert it to a vapor state. Way. 제1항에 있어서, The method according to claim 1, 또 다른 성분이 제2 LVP 전구체를 갖는 제2 도펀트이고, Another component is a second dopant having a second LVP precursor, 제2 LVP 전구체의 제2 입자들을 포함하며 이들 각각의 제2 입자가 제2 도펀 트의 제2 LVP 전구체만을 포함하는 제2 에어로졸을 별도로 생성시키는 추가의 단계를 추가로 포함함을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.Further comprising the additional step of separately producing a second aerosol comprising second particles of a second LVP precursor and each of the second particles comprising only a second LVP precursor of a second dopant. A method of manufacturing a glass body. 제10항에 있어서, 제1 에어로졸과 제2 에어로졸이 서로에 대해 병렬 유체 유동 전달 상태를 유지하도록 하는 단계를 추가로 포함함을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.11. The method of claim 10, further comprising the step of causing the first aerosol and the second aerosol to maintain parallel fluid flow delivery to each other. 제10항에 있어서, 단계(a)의 에어로졸들을 증착 시스템으로 대류시키기 전에 서로 혼합시키는 단계를 추가로 포함함을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.11. The method of claim 10, further comprising mixing the aerosols of step (a) with each other before convection to the deposition system. 제1항에 있어서, 단계(a)의 에어로졸들을 증착 시스템으로 대류시키기 전에 단계(b)의 증기와 혼합시키는 단계를 추가로 포함함을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.2. The method of claim 1, further comprising mixing the aerosols of step (a) with the vapor of step (b) prior to convection to the deposition system. 제8항에 있어서, 하나 이상의 도핑된 층을 포함하는 모재를 형성시키고 당해 모재로부터 광섬유를 인출하는 추가의 단계를 추가로 포함함을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.9. The method of claim 8, further comprising the additional step of forming a base material comprising at least one doped layer and withdrawing optical fibers from the base material. 제1항에 있어서, 제1 LVP 입자와 캐리어 가스가 어떠한 유기 화합물도 함유하지 않음을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.The method of claim 1, wherein the first LVP particles and the carrier gas are free of any organic compounds. 제1항에 있어서, 제1 LVP 전구체가 클로라이드임을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.The method of claim 1, wherein the first LVP precursor is chloride. 제16항에 있어서, 제1 입자가 He의 캐리어 가스 속에 현탁됨을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.17. The method of claim 16, wherein the first particles are suspended in a carrier gas of He. 제16항에 있어서, 유리 바디가 Yb-도핑된 광섬유임을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.17. The method of claim 16, wherein the glass body is a Yb-doped optical fiber. 제18항에 있어서, 광섬유가 Yb-도핑된 영역을 포함하고, 광선이 적어도 Yb-도핑된 영역을 따라 전개되는 경우, 당해 광섬유의 광흑화(photodarkening)가 감소됨을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.19. The method of claim 18, wherein the optical fiber comprises a Yb-doped region and the photodarkening of the optical fiber is reduced when the light beam is developed along at least the Yb-doped region. Way. 제1항에 있어서, 제1 도펀트가 Er, Yb, Nd, Tm, Ho 및 La로 이루어진 그룹으로부터 선택됨을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.The method of claim 1, wherein the first dopant is selected from the group consisting of Er, Yb, Nd, Tm, Ho and La. 제1항에 있어서, 증착 시스템이 당해 시스템으로 전달되는 전구체를 산화 및 증기화시키고, LVP 전구체가 산화되기 전에 증착 시스템에서 증기화됨을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.2. The method of claim 1, wherein the deposition system oxidizes and vaporizes the precursor delivered to the system and is vaporized in the deposition system before the LVP precursor is oxidized. 제1항에 있어서, 에어로졸 입자가 증착 시스템으로 전달되기 전에 산화됨을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.The method of claim 1, wherein the aerosol particles are oxidized prior to delivery to the deposition system. 제1항에 있어서, 생성 단계(a) 및 생성 단계(b)가 모재 형성 대류 단계(c) 전에 평형에 도달됨을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.The method of claim 1, wherein the producing step (a) and the producing step (b) are equilibrated before the base material forming convection step (c). 제1항에 있어서, 단계(a)에서 생성된 제1 입자의 크기, 개수 또는 이들 둘 다를 모니터하는 단계와 당해 모니터 단계에 대응해서 단계(a)의 작동 파라미터를 제어하는 단계를 추가로 포함함을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.2. The method of claim 1, further comprising the step of monitoring the size, number or both of the first particles generated in step (a) and controlling the operating parameters of step (a) corresponding to the monitoring step ≪ / RTI > 제1항에 있어서, 유리 바디가 유리 수트로 제조됨을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.The method of claim 1, wherein the glass body is made of a glass soot. 다수의 성분들을 포함하며 하나 이상의 성분이 제1 LVP 전구체를 갖는 제1 희토류 도펀트인 실리카 광섬유의 MCVD 제조방법으로서,1. A method for producing MCVD of a silica optical fiber comprising a plurality of components and wherein at least one component is a first rare earth dopant having a first LVP precursor, 용기의 제1 챔버에 제1 LVP 전구체를 제공하는 단계(a1), 제1 LVP 전구체를 실온보다 높은 온도로 가열하여 이의 증기를 제공하는 단계(a2), 캐리어 가스를 제1 챔버 속으로 유동시켜 용기의 제2 챔버에서 당해 제1 전구체를 함유하는 캐리어 가스의 증기를 생성시키는 단계(a3), 보다 저온의 캐리어 가스를 제2 챔버 속으로 유동시켜 증기를 응축시키고 제1 LVP 전구체의 제1 에어로졸을 형성시키는 단계(a4) 및 제1 에어로졸을 용기로부터 추출하는 단계(a5)를 포함하여, 제1 LVP 전구체의 제1 입자들을 포함하며 이들 각각의 제1 입자가 제1 도펀트의 제1 LVP 전구체만을 포함하는 제1 에어로졸을 생성시키는 단계(a),(A1) providing a first LVP precursor in a first chamber of the vessel, heating the first LVP precursor to a temperature above room temperature to provide its vapor (a2), flowing the carrier gas into the first chamber (A3) generating a vapor of a carrier gas containing the first precursor in a second chamber of the vessel, flowing a lower temperature carrier gas into the second chamber to condense the vapor and to condense the first aerosol (A4) and a step (a5) of extracting a first aerosol from the vessel, wherein each first particle comprises a first LVP precursor of a first dopant, (A), < / RTI > 실리카 전구체의 증기를 별도로 생성시키는 단계(b)[생성 단계(a)와 생성 단계(b)는 광섬유를 형성하는 데 사용되는 증착 시스템으로부터 멀리 떨어진 위치에서 수행된다],(B) [producing step (a) and producing step (b) are carried out at a location remote from the deposition system used to form the optical fiber] 제1 에어로졸과 실리카 증기를 증착 시스템으로부터 멀리 떨어진 위치로부터, 실온 또는 이보다 약간 높은 온도로 유지되는 튜브를 통해, 기재 튜브를 포함하는 MCVD 시스템으로 대류시키는 단계(c),(C) convection of the first aerosol and silica vapor from a location remote from the deposition system, through a tube maintained at room temperature or slightly higher temperature, to a MCVD system comprising a substrate tube, 단계(c)에서 대류시킨 에어로졸 입자들과 증기로부터 도핑된 실리카 층을 기재 튜브의 내벽 위에 형성시키는 단계(d) 및(D) forming a layer of silica doped from the vaporized aerosol particles and vapor in step (c) on the inner wall of the substrate tube; and 기재 튜브를 붕해시켜 섬유 모재를 형성하는 단계(e)를 포함하는, 실리카 광섬유의 MCVD 제조방법.And (e) disintegrating the substrate tube to form a fiber preform. 제26항에 있어서, 소정 범위의 크기를 벗어나는 에어로졸 입자를 제거하고 동일한 크기 범위에 속하는 에어로졸 입자들만 투과하도록 제1 에어로졸을 여과하는 단계를 추가로 포함하며, 당해 여과 단계가 에어로졸 생성 단계(a)에서 사용된 생성기 또는 대류 단계(c)에서 사용된 튜브를 전혀 포함하지 않는 하나 이상의 부품에 의해 수행됨을 특징으로 하는, 실리카 광섬유의 MCVD 제조방법.27. The method of claim 26 further comprising filtering the first aerosol to remove aerosol particles outside the predetermined range of sizes and to transmit only aerosol particles within the same size range, Characterized in that it is carried out by at least one part which does not contain any of the tubes used in the generator or convection step (c) used in the MCVD. 제26항에 있어서, MCVD 시스템이 기재 튜브에 축 방향으로 커플링된 공급 튜브와 당해 공급 튜브 내부에 배치된 동심원 내부 튜브를 포함하고, 27. The method of claim 26 wherein the MCVD system comprises a supply tube axially coupled to a substrate tube and a concentric inner tube disposed within the supply tube, 대류 단계(c)가 내부 튜브 속으로 제1 에어로졸을 대류시키는 단계와 당해 에어로졸을 기재 튜브에 유입되기 전에 가열하여 증기 상태로 전환시키는 단계를 포함함을 특징으로 하는, 실리카 광섬유의 MCVD 제조방법.Wherein the convection step (c) comprises convection of the first aerosol into the inner tube and heating of the aerosol before entering the substrate tube to convert it to a vapor state. 제26항에 있어서, 제1 LVP 전구체가 클로라이드임을 특징으로 하는, 실리카 광섬유의 MCVD 제조방법.27. The method of claim 26, wherein the first LVP precursor is chloride. 제29항에 있어서, 제1 입자가 He의 캐리어 가스 속에 현탁됨을 특징으로 하는, 실리카 광섬유의 MCVD 제조방법.30. The method of claim 29, wherein the first particles are suspended in a carrier gas of He. 제29항에 있어서, 광섬유가 Yb-도핑된 광섬유임을 특징으로 하는, 실리카 광섬유의 MCVD 제조방법.30. The method of claim 29, wherein the optical fiber is a Yb-doped optical fiber. 제31항에 있어서, 광섬유가 Yb-도핑된 영역을 포함하고, 광선이 Yb-도핑된 영역을 따라 전개되는 경우, 당해 광섬유의 광흑화가 감소됨을 특징으로 하는, 실리카 광섬유의 MCVD 제조방법.32. The method of claim 31, wherein the optical fiber comprises a Yb-doped region, and the optical blackening of the optical fiber is reduced when the light is developed along the Yb-doped region. 제26항에 있어서, 제1 LVP 입자와 캐리어 가스가 어떠한 유기 화합물도 함유하지 않음을 특징으로 하는, 실리카 광섬유의 MCVD 제조방법.27. The method of claim 26, wherein the first LVP particles and the carrier gas are free of any organic compounds. 다수의 성분들을 포함하며 하나 이상의 성분이 제1 LVP 전구체를 갖는 제1 도펀트인 유리 바디의 제조방법으로서,1. A method of making a glass body comprising a plurality of components and wherein at least one component is a first dopant having a first LVP precursor, LVP 전구체의 증기를 제공하는 단계(a1) 및 LVP 증기를 과포화시켜 에어로졸을 형성하는 단계(a2)를 포함하여, 제1 LVP 전구체를 포함하는 제1 입자들을 포함하는 제1 에어로졸을 생성시키는 단계(a),Providing a vapor of an LVP precursor (a1) and supersaturated LVP vapor to form an aerosol (a2) to produce a first aerosol comprising first particles comprising a first LVP precursor a), 기타 성분의 증기를 별도로 생성시키는 단계(b),(B), separately producing steam of the other components, 단계(a)의 에어로졸과 단계(b)의 증기를 기재를 포함하는 증착 시스템으로 대류시키는 단계(c) 및(C) convection of the aerosol of step (a) and the vapor of step (b) to a vapor deposition system comprising a substrate, and 단계(c)에서 대류시킨 에어로졸과 증기에 함유된 도펀트로부터의 하나 이상의 도핑된 층을 기재의 표면 위에 형성시키는 단계(d)를 포함하는, 유리 바디의 제조방법.And (d) forming at least one doped layer from a dopant contained in the vapor and an aerosol convected in step (c) on the surface of the substrate. 제34항에 있어서, 단계(a2)가 LVP 증기를 동반하도록 LVP 증기를 통해 1차 캐리어 가스를 유동시키는 단계와 동반된 증기를 응축시켜 에어로졸을 형성하는 단계를 포함함을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.35. The method of claim 34, wherein step (a2) comprises flowing a primary carrier gas through the LVP vapor to accompany the LVP vapor, and condensing the accompanying vapor to form an aerosol. ≪ / RTI > 제35항에 있어서, 응축 단계가 동반된 증기를 통해 보다 저온의 2차 캐리어 가스를 유동시킴을 포함함을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.36. The method of claim 35, comprising flowing a lower temperature secondary carrier gas through the vapor accompanied by the condensation step. 제34항에 있어서, 단계(a1)이 LVP 전구체의 부전구체 상으로 반응성 가스를 유동시켜, LVP 전구체 증기를 생성시키는 화학반응을 일으킴을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.35. The method of claim 34, wherein step (a1) causes a reactive gas to flow onto the negatively charged phase of the LVP precursor causing a chemical reaction to produce the LVP precursor vapor. 제37항에 있어서, 부전구체가 금속 바디를 포함하고, 당해 금속이 제1 도펀트를 포함함을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.38. The method of claim 37, wherein the negatively charged spherical body comprises a metal body, wherein the metal comprises a first dopant. 제34항에 있어서, 단계(a2)가 LVP 증기를 급속하게 냉각시키는 단계를 포함함을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.35. The method of claim 34, wherein step (a2) comprises rapidly cooling the LVP vapor. 제34항에 있어서, 단계(a2)가 1차 캐리어 가스와 LVP 증기를 단열적으로 팽창시켜 LVP 증기를 응축시킴을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.35. The method of claim 34, wherein step (a2) adiabatically expands the primary carrier gas and the LVP vapor to condense the LVP vapor. 제34항에 있어서, 제1 LVP 입자와 캐리어 가스가 어떠한 유기 화합물도 함유하지 않음을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.35. The method of claim 34, wherein the first LVP particles and the carrier gas are free of any organic compounds. 제34항에 있어서, 단계(a2)에서 제1 LVP 전구체가 시드 에어로졸 상에 응축됨을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.35. The method of claim 34, wherein in step (a2) the first LVP precursor is condensed onto the seed aerosol. 제42항에 있어서, 시드 에어로졸이 LVP 물질을 포함함을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.43. The method of claim 42, wherein the seed aerosol comprises an LVP material. 제43항에 있어서, 시드 에어로졸이 RE 전구체 에어로졸 및 알루미나 에어로졸로 이루어진 그룹으로부터 선택됨을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.44. The method of claim 43, wherein the seed aerosol is selected from the group consisting of an RE precursor aerosol and an alumina aerosol. 제42항에 있어서, 시드 에어로졸이 산화 HVP 화합물의 에어로졸을 포함함을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.43. The method of claim 42, wherein the seed aerosol comprises an aerosol of an oxidized HVP compound. 제45항에 있어서, HVP 화합물이 도펀트와 호스트 물질로 이루어진 그룹으로부터 선택됨을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.46. The method of claim 45, wherein the HVP compound is selected from the group consisting of a dopant and a host material. 제46항에 있어서, 시드 에어로졸이 2개 이상의 HVP 화합물을 포함하는 균질 다성분 산화물을 포함함을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.47. The method of claim 46, wherein the seed aerosol comprises a homogeneous multicomponent oxide comprising at least two HVP compounds. 제34항에 있어서, 생성 단계(a)와 생성 단계(b)가 유리 바디를 형성하는 데 사용되는 증착 시스템으로부터 멀리 떨어진 위치에서 수행되고, 대류 단계(c)가 생성 단계(a)의 에어로졸과 생성 단계(b)의 증기를 증착 시스템으로부터 멀리 떨어진 위치로부터 증착 시스템으로 이송함을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.35. The method of claim 34, wherein the producing step (a) and the producing step (b) are performed at a location remote from the deposition system used to form the glass body, and the convection step (c) Wherein the vapor of the production step (b) is transferred to a deposition system from a location remote from the deposition system. 제34항에 있어서, 특정 범위의 크기를 벗어나는 에어로졸 입자를 제거하고 동일한 크기 범위에 속하는 에어로졸 입자들만 투과하도록 제1 에어로졸을 여과하는 추가의 단계를 추가로 포함하며, 당해 여과 단계가 에어로졸 생성 단계(a)에서 사용된 생성기 또는 대류 단계(c)에서 사용된 튜브를 전혀 포함하지 않는 하나 이상의 부품에 의해 수행됨을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.35. The method of claim 34, further comprising the additional step of filtering the first aerosol to remove aerosol particles outside the specified range of sizes and to transmit only aerosol particles belonging to the same size range, characterized in that it is carried out by at least one part which does not contain any of the tubes used in step (c) or the generator used in step a) or convection step (c). 제46항에 있어서, 여과 단계가, 크기 범위가 0.01 내지 10㎛를 벗어나는 입자들을 제거하고 동일한 범위에 속하는 에어로졸 입자들만 투과시킴을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.47. The method of claim 46, wherein the filtering step removes particles outside the size range of 0.01 to 10 占 퐉 and allows only aerosol particles within the same range to permeate. 제34항에 있어서, 단계(a)에서 생성된 제1 입자의 크기, 개수 또는 이들 둘 다를 모니터하는 단계와 당해 모니터 단계에 대응해서 단계(a)의 작동 파라미터를 제어하는 단계를 추가로 포함함을 특징으로 하는, 유리 바디의 제조방법.35. The method of claim 34, further comprising the step of monitoring the size, number or both of the first particles generated in step (a) and controlling the operating parameters of step (a) corresponding to the monitoring step ≪ / RTI > 서로 유체 유동 전달되는 제1 챔버와 제2 챔버를 갖는 용기(제1 챔버가 LVP 물질을 포함하도록 설계된다),A container having a first chamber and a second chamber fluidly fluidly transferred to each other (the first chamber is designed to contain LVP material) LVP 물질을 가열하도록 설계된 가열기,A heater designed to heat the LVP material, 제1 챔버 속으로 1차 가스를 유동시켜 LVP 물질의 하나 이상의 원소를 포함하는 증기 화합물을 제2 챔버 내에 생성시키도록 설계된 제1 유입구,A first inlet designed to flow a primary gas into the first chamber to produce a vapor compound in the second chamber comprising at least one element of the LVP material, 보다 저온의 캐리어 가스를 제2 챔버 속으로 유동시켜 증기를 응축시키고 이로부터 에어로졸을 형성시키도록 설계된 제2 유입구 및A second inlet designed to flow a cooler carrier gas into the second chamber to condense the vapor and form an aerosol therefrom; and 용기로부터 에어로졸을 추출하도록 설계된 배출구를 포함하는 에어로졸 생성기.An aerosol generator comprising an outlet designed to extract an aerosol from a vessel.
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