KR101418462B1 - 3차원 측정기를 이용한 스테이지 캘리브레이션 방법 - Google Patents

3차원 측정기를 이용한 스테이지 캘리브레이션 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 3차원 측정기를 이용한 스테이지 캘리브레이션 방법에 관한 것이다. 이러한 3차원 측정기를 이용한 스테이지 캘리브레이션 방법은, X축 방향으로의 이동, 상기 X축에 수직인 Y축 방향으로의 이동, 상기 X축 및 Y축에 수직인 Z축 방향으로 이동, 상기 Z축의 회전 이동, 및 상기 X축과 Y축이 이루는 평면의 틸팅 운동이 가능한 5축 스테이지에 대하여, 틸팅 전후의 좌표값이 동일하도록 스테이지를 캘리브레이션하는 방법에 있어서, 시료안착용 테이블에 3개의 구형 기준입자를 배치하는 단계; 상기 기준입자의 3차원 중심좌표를 3차원 측정기를 이용하여 각각 측정하는 단계; 상기 기준입자의 중심좌표를 연결하여 생성되는 가상원의 중심을 기준좌표로 설정하는 단계; 상기 기준입자들의 각 중심좌표가 놓이는 기준평면을 도출하는 단계; 상기 기준평면이 소정의 각도로 틸팅된 때의 평면을 측정평면이라 하고, 상기 측정평면 위에 있는 상기 기준좌표가 틸팅전 위치에서 벗어난 정도인 상기 기준좌표의 에러량을 산출하는 단계; 상기 측정평면 위에 있는 상기 기준좌표가 틸팅 전의 원위치에 위치하도록, 상기 에러량을 적용하여 스테이지의 위치보정데이터를 산출하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

3차원 측정기를 이용한 스테이지 캘리브레이션 방법{Stage Calibration Method using 3-D coordinate measuring machine}
본 발명은 3차원 측정기를 이용한 스테이지 캘리브레이션 방법에 관한 것으로, 특히 시료가 안착되는 시료안착용 테이블이 틸팅되며 틸팅된 상태에서 2개 이상의 장비를 이용하여 시료에 대하여 가공을 해야하는 경우, 복수의 장비가 틸팅된 시료안착용 테이블에도 소정의 오차 범위 내에서 집속될 수 있도록 스테이지를 캘리브레이션 하는 방법에 관한 것이다.
최근, 반도체 산업은 반도체 장치의 집적도를 향상시키는 방향으로 발전되고 있으며, 이를 위해 반도체 제조현장에서는 정밀한 위치결정이 가능하도록 스테이지를 활용하고 있다.
스테이지는 고정밀도를 요구하는 반도체 및 FPD(Flat Pannel Display) 시료를 제작 및 테스트하기 위해서 사용되며, 구체적으로 상기 시료를 시료안착용 테이블에 올려 놓고, 상기 테이블을 X축 방향, Y축 방향, Z축 방향으로 이동시킬 뿐만 아니라, 회전 및 틸팅(기울림,tilting)하여 시료의 가공 및 테스트를 수행한다.
도1을 5축 스테이지를 개략적으로 도시한 것이다. 시료 안착용 테이블은 회전가이드(4)에 안착되며, X축 가이드(1), Y축 가이드(2), Z축 가이드(3), 및 회전가이드(4)를 통해 X축 방향이동, Y축 방향이동, Z축 방향이동, 및 회전 운동이 가능하다. 또한, X축 가이드(1), Y축 가이드(2), Z축 가이드(3), 및 회전가이드(4)는 메인테이블에 안착되고, 상기 메인테이블이 가이드레일(5)을 따라서 이동하면 메인테이블의 상면이 틸팅되어 상기 테이블이 틸팅되게 된다. 이러한, 운동이 가능한 스테이지를 5축 스테이지라 한다.
스테이지는 진공의 챔버 속에 수용되고, 시료에 복수의 장비를 이용하여 빔을 조사한다. 예컨대, 제1 장비는 전자빔 장치일 수 있고, 제2 장비는 이온빔 장치일 수 있다. 이러한 복수의 장비를 이용하여 시료를 가공하는 경우에, 복수의 장비에서 조사되는 빔은 시료의 원하는 지점에 집속되어야 한다. 스테이지가 틸팅되기 전에 상기 제1,2 장비가 시료 위의 원하는 지점에 집속되고, 스테이지가 틸팅된 후에도 상기 제1,2 장비가 상기 원하는 지점에 집속된 상태로 정렬되어 있어야 정밀하게 시료를 가공할 수 있다.
그러나, 틸팅이 수반되는 스테이지에서 상술한 바와 같이, 틸팅 전후에 모두 복수의 장비의 집속이 가능하도록 스테이지를 캘리브레이션하는 방법에 관하여 실용적인 방법이 제시되지 못하고 있다.
본 발명은 상술한 바와 같은 문제를 해결하기 위하여 안출된 것으로, 시료가 안착되는 시료안착용 테이블이 틸팅되며 틸팅된 상태에서 2개 이상의 장비를 이용하여 시료에 대하여 가공을 해야하는 경우, 복수의 장비가 틸팅된 시료안착용 테이블에도 소정의 오차 범위 내에서 집속될 수 있도록 스테이지를 정확하고 용이하게 캘리브레이션 하는 방법을 제공함을 그 목적으로 한다.
본 발명에 따른 3차원 측정기를 이용한 스테이지 캘리브레이션 방법은, X축 방향으로의 이동, 상기 X축에 수직인 Y축 방향으로의 이동, 상기 X축 및 Y축에 수직인 Z축 방향으로 이동, 상기 Z축의 회전 이동, 및 상기 X축과 Y축이 이루는 평면의 틸팅 운동이 가능한 5축 스테이지에 대하여, 틸팅 전후의 좌표값이 동일하도록 스테이지를 캘리브레이션하는 방법에 있어서, 시료안착용 테이블에 3개의 구형 기준입자를 배치하는 단계; 상기 기준입자의 3차원 중심좌표를 3차원 측정기를 이용하여 각각 측정하는 단계; 상기 기준입자의 중심좌표를 연결하여 생성되는 가상원의 중심을 기준좌표로 설정하는 단계; 상기 기준입자들의 각 중심좌표가 놓이는 기준평면을 도출하는 단계; 상기 기준평면이 소정의 각도로 틸팅된 때의 평면을 측정평면이라 하고, 상기 측정평면 위에 있는 상기 기준좌표가 틸팅전 위치에서 벗어난 정도인 상기 기준좌표의 에러량을 산출하는 단계; 상기 측정평면 위에 있는 상기 기준좌표가 틸팅 전의 원위치에 위치하도록, 상기 에러량을 적용하여 스테이지의 위치보정데이터를 산출하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 틸팅된 상기 측정평면 위의 상기 기준좌표가 틸팅 전의 위치에 위치하도록, 상기 위치보정데이터를 이용하여 상기 테이블을 이동시키는 단계를 포함하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 구형입자는 상기 테이블에 결합되는 지지대의 상단에 결합되는 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 3차원 측정기를 이용한 스테이지 캘리브레이션 방법은, 시료가 안착되는 시료안착용 테이블이 틸팅시 틸팅시 발생되는 에러값을 보정하여 원하는 위치로 상기 테이블을 위치시킬 수 있는 스테이지 캘리브레이션 방법을 제공한다.
이와 같은 본 발명에 따른 스테이지 캘리브레이션 방법은 기준평면과 기준평면 상에서 기준좌표를 생성하고, 상기 기준평면을 틸팅시킨 측면평면 상의 상기 기준좌표가 원하는 위치에 위치하도록 보정되는 데이터를 산출함으로써 틸팅에 수반된 스테이지의 오차를 용이하게 수정할 수 있는 효과를 제공한다.
도1은 5축 스테이지의 개략적인 사시도,
도2는 유센트릭 헤이트(Eucentric Height)의 개념을 설명하는 도면,
도3은 본 발명 실시예에 따른 스테이지 캘리브레이션 방법의 순서도,
도4 및 도5는 기준평면 및 기준좌표를 도출하는 방법을 설명한 도면,
도6은 기준평면의 틸팅시 캘리브레이션되는 과정을 개념적으로 도시한 도면이다.
이하, 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도2는 유센트릭 헤이트(Eucentric Height)의 개념을 설명하는 도면이고, 도3은 본 발명 실시예에 따른 스테이지 캘리브레이션 방법의 순서도이다. 도4 및 도5는 기준평면 및 기준좌표를 도출하는 방법을 설명한 도면이고, 도6은 기준평면의 틸팅시 캘리브레이션되는 과정을 개념적으로 도시한 도면이다.
먼저, 도2를 참조하여 유센트릭 헤이트(Eucentric Height)의 개념에 관하여 설명한다.
반도체 제조 등과 같은 정밀공정에 있어서, 틸팅이 수반되는 스테이지에서 복수의 장비를 사용하여 시료(100)의 가공 또는 테스트를 수행할 때, 틸팅 전에 복수의 장비의 집속이 완료되고 틸팅이 수행된 후에 상기 복수의 장비의 빔이 소정의 에러량 범위 내에 존재할 것이 요구된다.
예컨대, 복수의 장비로서, 제1 장비(80)는 전자빔 장치이고 제2 장비(90)는 이온빔 장치일 수 있다. 이렇게 제1,2 장비(80,90)의 빔이 시료(100)의 임의의 지점에 동시에 집속되어 시료(100)를 가공하는 것이 요구되고, 스테이지의 틸팅이 수반되어 작업이 이루어지는 경우 틸팅된 후에도 제1,2 장비(80,90)의 빔의 오차는 소정의 범위 내 존재하여야 한다.
이렇게, 틸팅이 된 스테이지에 복수의 장비의 빔의 집속이 소정의 범위 내에 존재하여야 하고, 이러한 소정의 범위 값이 곧 유센트릭 헤이트(Eucentric Height)이다. 유센트릭 헤이트를 만족한다는 것은 틸팅 후에 다중 장비의 집속이 허용되는 오차 범위 내인 것을 의미한다.
도2는 이러한 개념을 개략적으로 도시한 것이다. 도2에 도시된 제1,2 장비(80,90)는 스테이지가 수용되는 챔버 내에 고정된다. 즉, 제1,2 장비(80,90)의 위치는 변하지 않는다. 도2의 상단에 도시된 것처럼, 최초 시료(100)는 시료안착용 테이블(70)에 안착되고, 상기 시료(100)의 임의의 지점(P)에 상기 제1,2 장비(80,90)의 집속이 완료되어 있다.
이어서, 도2의 하단에 도시된 바와 같이, 시료안착용 테이블(70)이 틸팅된다. 이론적으로 시료안착용 테이블(70)에 틸팅만이 수행되어 상기 임의의 지점(P)는 틸팅에 불구하고 동일한 지점에 위치하여야 할 것이나, 스테이지의 특성 상 오차가 발생되기 마련이고, 도2 하단에 표기된 것처럼 최초 지점과는 상이한 지점으로 테이블(70)이 이동됨을 나타낸다.
즉, 도2의 상단 및 하단에서 점선으로 표기된 원은 허용되는 소정의 범위, 유센트릭 헤이트를 표기한 것이고, 틸팅에 의해 임의의 지점이 소정의 범위 밖에 위치된 상태를 도시한 것이다. 따라서, 스테이지의 틸팅시, 상기 임의의 지점(P)가 원래의 상태 그대로 유지될 수 있도록 스테이지의 위치보정(캘리브레이션)을 수행할 필요가 있다.
본 발명은 X축 방향으로의 이동, 상기 X축에 수직인 Y축 방향으로의 이동, 상기 X축 및 Y축에 수직인 Z축 방향으로 이동, 상기 Z축의 회전 이동, 및 상기 X축과 Y축이 이루는 평면의 틸팅 운동이 가능한 5축 스테이지에 대하여 틸팅 전후의 좌표값이 동일하도록 스테이지를 캘리브레이션하는 방법에 관한 것이다. 즉, 소정의 유센트릭 헤이트(eucentric height)를 만족하도록 스테이지를 캘리브레이션하는 방법에 관한 것이다.
먼저, 5축 스테이지에 관하여 개략적으로 설명한다. 이미 도1을 참조하여 설명한 바와 같이, 시료 안착용 테이블(70)은 회전가이드(4)에 안착되며, X축 가이드(1), Y축 가이드(2), Z축 가이드(3), 및 회전가이드(4)를 통해 X축 방향이동, Y축 방향이동, Z축 방향이동, 및 회전 운동이 가능하다.
또한, X축 가이드(1), Y축 가이드(2), Z축 가이드(3), 및 회전가이드(4)는 메인테이블(6)에 안착되고, 상기 메인테이블(6)이 가이드레일(5)을 따라서 이동하면 메인테이블(6)의 상면이 틸팅되어 상기 테이블(70)이 틸팅되게 된다.
본 발명에 따른 3차원 측정기를 이용한 스테이지 캘리브레이션 방법은, 시료안착용 테이블(70)에 3개의 구형 기준입자(10,20,30)를 배치하는 단계(S1)와, 상기 기준입자(10,20,30)의 3차원 중심좌표(11,21,31)를 3차원 측정기를 이용하여 각각 측정하는 단계(S2)와, 상기 기준입자(10,20,30)의 중심좌표(11,21,31)를 연결하여 생성되는 가상원의 중심을 기준좌표(50)로 설정하는 단계(S3)와, 상기 기준입자(10,20,30)들의 각 중심좌표(11,21,31)가 놓이는 기준평면(40)을 도출하는 단계(S4)와, 상기 기준평면(40)이 소정의 각도로 틸팅된 때의 평면을 측정평면(60)이라 하고, 상기 측정평면(60) 위에 있는 상기 기준좌표(50)가 틸팅 전의 위치에서 벗어난 정도인 상기 기준좌표(50)의 에러량(E)을 산출하는 단계(S5)와, 상기 측정평면(60) 위에 있는 상기 기준좌표(50)가 틸팅 전의 원위치에 위치하도록, 상기 에러량(E)을 적용하여 스테이지의 위치보정데이터를 산출하는 단계(S6)를 포함한다.
도4 및 도5를 참조하여, 상기 S1 단계 내지 S4 단계를 설명한다.
도4에 도시된 바와 같이, 시료 안착용 테이블(70)에 3개의 구형 기준입자(10,20,30)를 배치한다(S1 단계). 상기 구형 기준입자(10,20,30)는 서로 이격되어 배치된다. 본 실시예에 따르면, 상기 기준입자(10,20,30)는 테이블(70)에 결합되는 지지대(12,22,32)의 상단에 각각 결합된다.
이어서, 기준입자(10,20,30)의 3차원 중심좌표(11,21,31)를 3차원 측정기를 이용하여 각각 측정한다(S2 단계). 3차원 측정기(three demension coordinate measuring machine)는 3차원 형상의 치수, 기하편차 및 형상 정밀도를 측정할 수 있는 장치로서, 본 실시예에서 상기 3차원 측정기로는 이미 공지된 것을 사용하며 3차원 측정기 자체가 본 발명의 기술의 핵심 사항은 아니므로 3차원 측정기에 관하여는 설명을 생략한다.
상기 3차원 측정기에 의해 상기 기준입자(10,20,30)의 표면에 관한 좌표를 도출하고, 상기 3차원 측정기가 측정한 기준입자(10,20,30)의 표면 좌표를 이용하여 구의 중심의 좌표를 도출함으로써, 상기 각 기준입자(10,20,30)의 중심에 관한 중심좌표(11,21,31)를 측정해 낸다.
이어서, 기준입자(10,20,30)의 중심좌표(11,21,31)를 연결하여 생성되는 가상원의 중심을 기준좌표(50)로 설정한다(S3 단계). 도5에 도시된 바와 같이, 기준입자(10,20,30)의 중심좌표(11,21,31)가 결정되어 3점을 잇는 가상원을 도출할 수 있으며, 상기 가상원의 중심을 기준좌표(50)로 설정한다.
이어서, 상기 기준입자(10,20,30)들의 각 중심좌표(11,21,31)가 놓이는 기준평면(40)을 도출한다(S4 단계). 기준입자(10,20,30)에 관한 각 중심좌표(11,21,31)가 결정되었으므로, 3점을 잇는 평면이 결정될 수 있으며, 이를 기준평면(40)으로 정의한다. 상기 S3 단계와 S4 단계는 서로 순서가 바뀐 상태로 구현될 수 있다.
이어서, 기준평면(40)의 틸팅을 수행한다. 틸팅은 5축 스테이지에서 가이드레일(5)을 따라 수행된다. 구체적으로, 기준평면(40)이 틸팅될 때, X,Y,Z,θ(회전량)은 그대로 유지되며, 단지 기울기만 바뀌는 상태이다.
따라서, 실제적으로 스테이지는 가이드레일(5)을 따라 이동되고, 한편 X축, Y축, Z축으로도 이동되어 X,Y,Z,θ 값은 그대로 유지하고 다만 기울기만 변경되는 과정을 거친다. 따라서, 틸팅에 의해 상기 기준좌표(50)는 이론적으로는 틸팅 전의 위치에 그대로 위치하여야 하나, 실제적으로 스테이지가 이동하는 과정에서 다소 오차가 발생되는 것이다.
상기 기준평면(40)이 소정의 각도로 틸팅된 때의 평면을 측정평면(60)이라 하고, 상기 측정평면(60) 위에 있는 상기 기준좌표(50)가 틸팅 전의 위취에서 벗어난 정도인 에러량을 산출한다(S5 단계). 즉, 도6에 도시된 바와 같이, 상기 기준좌표(50)가 원위치에서 벗어나서, 측정평면(60) 위의 기준자표(50)는 틸팅 전 기준평면(40)에서의 원래 위치와의 에러량이 발생되며, 상기 에러량을 산출하는 것이다.
이어서, 상기 에러량을 적용하여 스테이지의 위치보정데이터를 산출한다(S6). 상기 스테이지의 위치보정데이터는 상기 기준좌표(50)가 틸팅 전 기준평면(40)에서의 원래 위치로 되돌아가기 위해서 시료안착용 테이블(70)을 이동시켜야 하는 데이터값을 의미한다. 상기 보정데이터는 x,y,z축에 해당하는 3차원 값뿐만 아니라, 필요에 따라 회전량에 고려되는 경우 θ(회전량)값에 해당하는 값이 도출될 수 있다.
상기 위치보정테이터를 이용하여 상기 테이블(70)을 이동시키면 틸팅된 상기 측정평면(60) 위에서의 기준좌표(50)가 원래의 위치로 되돌아오게 되며, 상기 소정의 범위 내를 만족하게 된다(S7 단계).
본 발명 실시예에 있어서, 기준평면(40) 상에 위치한 기준좌표(50)가 소정의 각도로 틸팅되더라도, 상기 위치보정데이터를 이용하여 측정평면(60)이 이동하여 기준좌표(50)의 위치가 틸팅 전후가 동일하게 유지된다. 따라서, 틸팅 전 다중 장비를 이용하여 작업할 때 유센트릭 헤이트를 소정의 범위로 설정한 경우, 틸팅 후에도 다중 장비의 유센트릭 헤이트는 만족되는 결과를 제공한다.
예컨대, 상기 유센트릭 헤이트가 소정의 범위인 10㎛ 이내로 설정된다고 하더라도, 기준좌표(50)의 위치가 틸팅 전후에 동일하게 유지되므로, 유센트릭 헤이트를 만족하면서 고정밀도로 시료(100)를 가공할 수 있게 되는 것이다.
이처럼, 본 발명에 따른 3차원 측정기를 이용한 스테이지 캘리브레이션 방법은, 시료안착용 테이블(70)이 틸팅되는 경우 틸팅에 따른 스테이지의 위치를 간편하고 정확하게 보정할 수 있는 방법을 제안한다.
기준평면(40)과 기준좌표(50)를 도출하고, 기준평면(40)을 틸팅시켜 측정평면(60)과 측정평면(60) 위에서 기준좌표(50)가 최초 기준평면(40)에서 벗어난 정도를 파악함으로써, 틸팅에 따른 에러량을 용이하게 파악할 수 있다.
이렇게 산출되는 에러량을 근거로, 스테이지의 위치보정데이터를 산출함으로서, 틸팅이 수반되는 경우라하더라도 기준좌표(50)의 위치를 그대로 유지할 수 있게 한다. 실제 시료의 가공시, 상기 시료의 평면을 상기 기준평면(40)에 정렬시키고, 상기 시료의 평면이 틸팅될 때, 본 발명에 따라 산출된 위치보정데이터를 적용하여 테이블(70)을 이동시키면 상기 시료의 평면 상의 원하는 지점은 틸팅 전후의 위치가 동일하게 구현될 수 있다.
이처럼, 본 발명에 따른 3차원 측정기를 이용한 스테이지 캘리브레이션 방법은, 3차원 측정기와 3개의 구형 기준입자(10,20,30)를 이용하여 기준평면(40)을 용이하게 도출할 수 있다. 즉, 기준이 되는 평면을 정확하고 신속하게 설정할 수 있으므로, 스테이지 캘리브레이션을 수행할 때 상당한 시간을 단축할 수 있다.
기준평면(40) 상의 기준좌표(50)와, 기준평면(40)이 틸팅된 측정평면(60) 상의 기준좌표(50)의 상호 관계를 이용하여 위치보정데이터를 산출하므로 위치보정데이터를 신속하게 산출하여 캘리브레이션을 수행할 수 있게 한다.
스테이지의 캘리브레이션은 반복되는 작업으로 상당한 시간을 요하는 작업인데, 본 발명에 따르면 정확하고 신속하게 캘리브레이션을 수행하는 효과를 제공한다.
이상, 본 발명을 바람직한 실시예를 들어 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않으며, 본 발명의 범주를 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 많은 변형이 제공될 수 있다.
10, 20, 30... 기준입자 11,21,31... 중심좌표
12,22,32... 지지대 40... 기준평면
50... 기준좌표 60... 측정평면
70... 시료안착용 테이블 80... 제1 장비
90... 제2 장비 100... 시료

Claims (3)

  1. X축 방향으로의 이동, 상기 X축에 수직인 Y축 방향으로의 이동, 상기 X축 및 Y축에 수직인 Z축 방향으로 이동, 상기 Z축의 회전 이동, 및 상기 X축과 Y축이 이루는 평면의 틸팅 운동이 가능한 5축 스테이지에 대하여, 틸팅 전후의 좌표값이 동일하도록 스테이지를 캘리브레이션하는 방법에 있어서,
    시료안착용 테이블(70)에 3개의 구형 기준입자(10,20,30)를 배치하는 단계;
    상기 기준입자(10,20,30)의 3차원 중심좌표(11,21,31)를 3차원 측정기를 이용하여 각각 측정하는 단계;
    상기 기준입자(10,20,30)의 중심좌표(11,21,31)를 연결하여 생성되는 가상원의 중심을 기준좌표(50)로 설정하는 단계;
    상기 기준입자(10,20,30)들의 각 중심좌표(11,21,31)가 놓이는 기준평면(40)을 도출하는 단계;
    상기 기준평면(40)이 틸팅된 때의 평면을 측정평면(60)이라 하고, 상기 측정평면(60) 위에 있는 상기 기준좌표(50)가 틸팅전 위치에서 벗어난 상기 기준좌표(50)의 에러량을 산출하는 단계;
    상기 측정평면(60) 위에 있는 상기 기준좌표(50)가 틸팅 전의 원위치에 위치하도록, 상기 에러량을 적용하여 스테이지의 위치보정데이터를 산출하는 단계; 및
    틸팅된 상기 측정평면(60) 위의 상기 기준좌표(50)가 틸팅 전의 위치에 위치하도록, 상기 위치보정데이터를 이용하여 상기 테이블(70)을 이동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 측정기를 이용한 스테이지 캘리브레이션 방법.
  2. 삭제
  3. X축 방향으로의 이동, 상기 X축에 수직인 Y축 방향으로의 이동, 상기 X축 및 Y축에 수직인 Z축 방향으로 이동, 상기 Z축의 회전 이동, 및 상기 X축과 Y축이 이루는 평면의 틸팅 운동이 가능한 5축 스테이지에 대하여, 틸팅 전후의 좌표값이 동일하도록 스테이지를 캘리브레이션하는 방법에 있어서,
    시료안착용 테이블(70)에 3개의 구형 기준입자(10,20,30)를 배치하는 단계;
    상기 기준입자(10,20,30)의 3차원 중심좌표(11,21,31)를 3차원 측정기를 이용하여 각각 측정하는 단계;
    상기 기준입자(10,20,30)의 중심좌표(11,21,31)를 연결하여 생성되는 가상원의 중심을 기준좌표(50)로 설정하는 단계;
    상기 기준입자(10,20,30)들의 각 중심좌표(11,21,31)가 놓이는 기준평면(40)을 도출하는 단계;
    상기 기준평면(40)이 틸팅된 때의 평면을 측정평면(60)이라 하고, 상기 측정평면(60) 위에 있는 상기 기준좌표(50)가 틸팅전 위치에서 벗어난 상기 기준좌표(50)의 에러량을 산출하는 단계;
    상기 측정평면(60) 위에 있는 상기 기준좌표(50)가 틸팅 전의 원위치에 위치하도록, 상기 에러량을 적용하여 스테이지의 위치보정데이터를 산출하는 단계;를 포함하고,
    상기 기준입자(10,20,30)는 상기 테이블(70)에 결합되는 지지대(12,22,32)의 상단에 결합되는 것을 특징으로 하는 3차원 측정기를 이용한 스테이지 캘리브레이션 방법.
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