KR101402459B1 - Vacuum coating layer formation method of shoe decoration band - Google Patents
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Abstract
Description
본발명은 신발 장식용 밴드의 진공코팅층에 관한 것으로, 보다 상세하게는 신발에서 사람들 눈에 드러나기 쉬운 아웃솔의 외관부분에 진공코팅방법에 의한 코팅층을 형성하여 미관을 강조하는 신발 장식용 밴드의 진공코팅층 형성방법에 관한 것이다.The present invention relates to a vacuum coating layer of a shoe decorating band, and more particularly, to a method of forming a vacuum coating layer of a shoe decorating band which emphasizes a beauty by forming a coating layer by a vacuum coating method on an outer portion of an outsole, .
신발에는 다양한 종류의 장식물이 부착되는데, 상기 장식물을 부착하는 방법에 있어서 종래기술들이 개발되어 왔고, 일례로서 공개특허공보 공개번호 특1998-083407호에는 진공방식 또는 반진공방식을 채택하며, 진공성형장치(A)와 밀폐성형장치(B)를 통해 가죽과 투명수지필름 또는 스폰지가 부착된 가죽 소재를 사용하여 함몰부에 가압공간이나 대기압공간이 형성된 장식물을 완성하거나, 함몰부에는 원래의 두께를 가지는 스폰지파트가 형성되며 그 가장자리에는 열압출된 스폰지파트가 형성된 장식물을 제조하는 방법을 통해 해결하는 것을 특징으로 하는 신발이나 가방등의 표면에 부착되는 장식물의 제조방법 및 이 제조방법에 의해 생산된 장식물이 공개되어 있다.Various kinds of ornaments are attached to the shoe. Conventional techniques have been developed for attaching the ornaments to the shoe. For example, as disclosed in Korean Patent Laid-Open Publication No. 1998-083407, a vacuum type or a semi-vacuum type is adopted, It is also possible to use a leather material having a leather and a transparent resin film or a sponge attached thereto through the device A and the sealing molding device B to finish a decoration in which a pressurizing space or an atmospheric pressure space is formed in the depressed portion, Wherein a sponge part of the sponge part is formed on the edge of the sponge part and a sponge part formed on the edge of the sponge part is formed. Decorations are open.
공개실용신안공보 공개번호 실2000-0018205호에는 청구항 1 구두, 슬리퍼, 샌들 및 운동화와 같은 신발에 있어서, 신발의 발등부와 장식물이 닿는 접촉부분에 착탈수단을 구비하여서 착탈시킬 수 있도록 된 것을 특징으로 하며, 또한, 장식물은 캐릭터의 인쇄물 또는 그림 모양을 고주파열융착시킨 판형이거나, 각종 동·식물 또는 완구 등의 인형인 것을 특징으로 하며, 또한, 착탈수단은 스냅단추, 단추 또는 매직테이프인 것을 특징으로 하는 장식물 착탈형 신발이 공개되어 있다.The public utility model publication No. 2000-0018205 discloses a shoe such as a shoe, a slipper, a sandal, and a sneaker which is provided with a detachment means at a contact portion where the foot portion of the shoe and the ornament come in contact with each other, , And the ornamental article is a plate of a printed matter of a character or a figure shaped by high frequency fusion welding or a doll of various kinds of animals, plants, or toys, and the detachable means is a snap button, a button or a magic tape A decorative accessory detachable shoe is disclosed.
또한, 등록실용신안공보 등록번호 20-0341093호에는 결합수단에 의해 신발 측면에 착탈가능하게 부착되는 장식물을 특징으로 하는 신발용 장식물이 공개되어 있다.In addition, a registered trademark designation No. 20-0341093 discloses a decorative article for shoes characterized by a decorative article detachably attached to the side of a shoe by a coupling means.
한편, 상기 장식물로서 합성수지재질을 밴드(띠)모양으로 사출형성하여 신발표면에 접착제로 부착하거나 봉제하여 부착하는 방법이 있었다.On the other hand, there has been a method of attaching or sewing a synthetic resin material as an ornamental material to the surface of a shoe by attaching or sewing it to the shoe surface.
그러나 상기 신발 장식용 밴드의 표면은 미관을 위하여 재료에 안료를 섞어 제작하는데 이 경우 색상이 단조롭고 혼탁하며, 코팅을 하더라도 코팅상태가 양호하지 않고 미감이 떨어지는 단점이 있었다.However, the surface of the shoe ornamental band is made by mixing pigments in a material for aesthetic purposes. In this case, the color is monotonous and turbid.
따라서 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하고자 안출된 것으로서, 신발 장식용 밴드에 코팅층을 진공코팅방법에 의해 형성하여 코팅층이 광택이 나고 심미감을 향상시킬 수 있는 신발 장식용 밴드의 진공증착코팅층 형성방법을 제공하고자 하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide a method for forming a vacuum evaporation coating layer of a shoe wearing band in which a coating layer is formed on a shoe decorative band by a vacuum coating method, I would like to.
본발명은 신발 장식용 밴드의 진공코팅층 형성방법에 관한 것으로, 신발 장식용 밴드 외부면에 코팅층을 형성하되, 상기 코팅층은 진공코팅방법에 의해 형성되는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a method of forming a vacuum coating layer of a shoe ornamental band, wherein a coating layer is formed on the outer surface of a band for shoe decoration, wherein the coating layer is formed by a vacuum coating method.
따라서 본발명은 신발 장식용 밴드에 코팅층을 진공코팅방법에 의해 형성하여 코팅층이 광택이 나고 심미감을 향상시킬 수 있는 현저한 효과가 있다.Therefore, the present invention has a remarkable effect that the coating layer is formed on the shoe decorative band by the vacuum coating method, and the coating layer is improved in gloss and aesthetics.
도 1은 본발명 신발 장식용 밴드 사시도
도 2는 본발명에 사용되는 진공코팅장치 배치도
도 3은 본발명에 사용되는 Sputter module, Linear ion source 및 Thermal evaporation source가 설치된 진공코팅장치 내부개략도
도 4는 본발명에 사용되는 Sputte rmodule, Linear ion source 및 Thermal evaporation source가 설치된 진공코팅장치 절개개략도
도 5는 본발명에 사용되는 Sputter module, Linear ion source 및 Thermal evaporation source가 설치된 진공코팅장치 분해개략도
도 6은 본발명에 사용되는 Sputter module, Linear ion source 및 Thermal evaporation source가 설치된 진공코팅장치 평면개략도
도 7은 도 6의 부분확대도1 is a perspective view of a shoe ornamental band of the present invention
Fig. 2 is a schematic diagram of a vacuum coating apparatus used in the present invention
FIG. 3 is a schematic view of a vacuum coating apparatus having a sputter module, a linear ion source, and a thermal evaporation source used in the present invention
FIG. 4 is a schematic view of a vacuum coating apparatus using a sputter device, a linear ion source, and a thermal evaporation source used in the present invention.
5 is an exploded schematic view of a vacuum coating apparatus equipped with a sputter module, a linear ion source, and a thermal evaporation source used in the present invention
6 is a schematic plan view of a vacuum coating apparatus equipped with a sputter module, a linear ion source, and a thermal evaporation source used in the present invention
Fig. 7 is a partial enlarged view of Fig. 6
본발명은 신발 장식용 밴드의 진공코팅층 형성방법에 관한 것으로, 신발 장식용 밴드 외부면에 코팅층을 형성하되, 상기 코팅층은 스패터링방법 또는 이베퍼라이팅방법의 진공코팅방법에 의해 형성되는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a method for forming a vacuum coating layer of a shoe ornamental band, wherein a coating layer is formed on the outer surface of a band for shoe decoration, wherein the coating layer is formed by a vacuum coating method of a sputtering method or an iverting method.
또한, 상기 코팅층은 베이스층과 멀티레이어코팅층으로 이루어지되, 상기 베이스코팅층은 Al, Cr, Cu, Ni, Si, W, Sn중 어느 하나의 성분으로 형성된 층이며, 상기 멀티레이어코팅층은 스패터링방법의 경우에는 Ti, Zr, Ag, Au, Cu, Si, Sn중 두 개 이상의 성분을 짝수로 선택하여 형성되는 것을 특징으로 한다.The coating layer may be a base layer and a multilayer coating layer, and the base coating layer may be a layer formed of any one of Al, Cr, Cu, Ni, Si, W and Sn. Ti, Zr, Ag, Au, Cu, Si, and Sn in an even number.
또한, 상기 스패터링방법의 경우에는 반응성가스(reactive gas)인 C2H2 또는 O2를 진공챔버 내부에 주입하거나, 불활성가스인 N2 또는 Ar가스를 진공챔버 내부에 주입하는 것을 특징으로 한다.In the case of the above sputtering method, a reactive gas such as C 2 H 2 or O 2 is injected into the vacuum chamber, or N 2 or Ar gas, which is an inert gas, is injected into the vacuum chamber.
또한, 상기 코팅층은 베이스층과 멀티레이어코팅층으로 이루어지되, 상기 베이스코팅층은 Al, Cr, Cu, Ni, Si, W, Sn중 어느 하나의 성분으로 형성된 층이며, 상기 멀티레이어코팅층은 이베퍼라이팅방법의 경우에는 SiO2 , Nb2O3, Nb2O5, SiO, SiO2, Z2O, ZrO2, TiO, TiO2중 두 개 이상의 성분을 짝수단위로 선택하여 형성되는 것을 특징으로 한다.
The coating layer may include a base layer and a multilayer coating layer, and the base coating layer may be a layer formed of any one of Al, Cr, Cu, Ni, Si, W and Sn. The method is characterized in that at least two components of SiO 2 , Nb 2 O 3 , Nb 2 O 5 , SiO, SiO 2 , Z 2 O, ZrO 2 , TiO, and TiO 2 are selected in an even number unit .
본발명을 첨부도면에 의해 상세히 설명하면 다음과 같다. 도 1은 본발명 신발 장식용 밴드 사시도, 도 2는 본발명에 사용되는 진공코팅장치 배치도, 도 3은 본발명에 사용되는 Sputter module, Linear ion source 및 Thermal evaporation source가 설치된 진공코팅장치 내부개략도, 도 4는 본발명에 사용되는 Sputte rmodule, Linear ion source 및 Thermal evaporation source가 설치된 진공코팅장치 절개개략도, 도 5는 본발명에 사용되는 Sputter module, Linear ion source 및 Thermal evaporation source가 설치된 진공코팅장치 분해개략도, 도 6은 본발명에 사용되는 Sputter module, Linear ion source 및 Thermal evaporation source가 설치된 진공코팅장치 평면개략도, 도 7은 도 6의 부분확대도이다.
The present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a perspective view of a shoe decorative band according to the present invention, FIG. 2 is a vacuum coating apparatus layout diagram used in the present invention, FIG. 3 is a schematic view of an inside of a vacuum coating apparatus equipped with a sputter module, a linear ion source, 4 is a schematic view of a vacuum coating apparatus in which a sputter module, a linear ion source and a thermal evaporation source used in the present invention are installed, FIG. 5 is a schematic view of a vacuum coating apparatus using a sputter module, a linear ion source, And FIG. 6 is a schematic plan view of a vacuum coating apparatus equipped with a sputter module, a linear ion source, and a thermal evaporation source used in the present invention, and FIG. 7 is a partially enlarged view of FIG.
본발명은 신발 장식용 밴드 외부면에 진공코팅층을 형성하는 것이다. 상기 코팅층은 신발 장식용 밴드 외부면에 형성되므로 심미감이 뛰어나다. 상기 신발 장식용 밴드는 PP, PE등의 합성수지로 사출제작되며, 상기 사출성형된 제품 표면에 코팅층이 진공코팅방법에 의해 형성되는 것이다.The present invention is to form a vacuum coating layer on the outer surface of a shoe decorative band. Since the coating layer is formed on the outer surface of the shoe decorative band, it has a good sense of aesthetics. The shoe ornamental band is formed by injection molding with a synthetic resin such as PP or PE, and a coating layer is formed on the surface of the injection molded product by a vacuum coating method.
본발명의 상기 신발 장식용 밴드는 길이 4∼6cm이며, 폭은 1cm 정도인 밴드이며, PP, PE등의 합성수지로 사출제작되어 유연성이 있다. 그리고 상기 밴드의 좌우측면은 경사가 지게 하여 심미감을 형성한다. 그리고 상기 신발 장식용 밴드의 상하에는 삼각톱니를 다수개 길이방향으로 형성하여 심미감을 더욱 갖게 한다. 한편 좌측면은 네모진 돌기를 측면방향으로 돌출형성하되 끝단이 측면과 수직방향으로 형성하고, 우측에도 네모진 돌기를 측면방향으로 돌출형성하되 끝단이 측면과 경사진 방향으로 형성한다.The shoe ornamental band of the present invention is a band having a length of 4 to 6 cm and a width of about 1 cm and is made by injection molding with a synthetic resin such as PP or PE and has flexibility. The left and right sides of the band are inclined to form a sense of beauty. A plurality of triangular teeth are formed on the upper and lower sides of the shoe decorating band in the longitudinal direction to further provide aesthetic feeling. On the other hand, the left side surface is formed by projecting the square projections in the lateral direction, the end is formed in the direction perpendicular to the side surface, and the square projections are formed in the right side in the side direction while the ends are formed in the inclined direction with respect to the side surface.
상기와 같이 제조되는 밴드의 표면에 진공코팅층을 형성한 후, 봉제나 접착제를 이용하여 신발 갑피 표면 좌우측이나 전방 발등부에 부착한다.After the vacuum coating layer is formed on the surface of the band to be manufactured as described above, it is attached to the left and right side of the shoe upper surface or the front shoe sole using sewing or adhesive.
상기 진공코팅방법은 스패터링방법 또는 이베퍼라이팅방법을 사용하여 신발 장식용 밴드 합성수지재질위에 용이하게 진공코팅층을 형성하는 것이다.In the vacuum coating method, a vacuum coating layer is easily formed on a band synthetic resin material by using a sputtering method or an iverting method.
상기 코팅층은 베이스층과 멀티레이어코팅층으로 이루어지되, 상기 베이스코팅층은 Al, Cr, Cu, Ni, Si, W, Sn중 어느 하나의 성분으로 형성된 층이며, 상기 멀티레이어코팅층은 스패터링방법의 경우에는 Ti, Zr, Ag, Au, Cu, Si, Sn중 두 개 성분을 선택하여 형성되는 것이다. 멀티레이어코팅층의 성분이 3개이상 되면 광택이 혼탁하고 어둡게되므로 2개 성분으로 한다. 그리고 두 개 성분을 선택하여 순차적으로 베이스층위에 코팅층을 형성하되, 멀티레이어코팅층 작업을 반복하여 보다 많은 코팅층을 형성할 수 있다. 곧, 일례로서 베이스층 성분을 Al으로 형성하고 멀티레이어코팅층을 Ti, Zr을 선택하여 형성할 수 있다. 그리고 멀티레이어코팅층 형성작업을 반복할 수 있는 것으로, 예를 들어 베이스층 성분을 Al으로 형성하고 멀티레이어코팅층을 Ti, Zr, Ti, Zr로 순차적으로 형성할 수 있다. The coating layer is composed of a base layer and a multilayer coating layer, and the base coating layer is formed of any one of Al, Cr, Cu, Ni, Si, W, and Sn. In the case of the sputtering method Is formed by selecting two components of Ti, Zr, Ag, Au, Cu, Si, and Sn. When the composition of the multilayer coating layer is more than 3, the gloss becomes turbid and becomes dark, so it is made of two components. Then, the coating layer is sequentially formed on the base layer by selecting two components, and the multi-layer coating layer operation can be repeated to form more coating layers. As an example, the base layer component may be formed of Al and the multilayer coating layer may be formed of Ti and Zr. For example, the base layer component may be formed of Al and the multilayer coating layer may be sequentially formed of Ti, Zr, Ti, and Zr.
또한, 상기 스패터링방법의 경우에는 반응성가스(reactive gas)인C2H2 또는 O2 가스를 진공챔버내부에 주입하거나, 불활성가스인 N2 또는 Ar 가스를 진공챔버내부에 주입하게 된다.In the case of the sputtering method, C 2 H 2 or O 2 gas, which is a reactive gas, is injected into the vacuum chamber, or N 2 or Ar gas, which is an inert gas, is injected into the vacuum chamber.
상기와 같이 형성되는 코팅층중 베이스층은 빛을 반사하게 되고, 멀티레이어코팅층은 빛을 굴절하게 되어, 코팅층이 전체적으로 심미감 있는 광택이 나는 것이다.
Among the coating layers formed as described above, the base layer reflects light, and the multilayer coating layer refracts light, so that the coating layer is entirely esthetically glossy.
한편, 본발명은 이베퍼라이팅방법의 경우에는 상기 베이스코팅층은 Al, Cr, Cu, Ni, Si, W, Sn중 어느 하나의 성분으로 형성된 층이며, 상기 멀티레이어코팅층은 SiO2 , Nb2O3, Nb2O5, SiO, SiO2, Z2O, ZrO2, TiO, TiO2중 두 개 성분을 선택하여 형성되는 것이다. 멀티레이어코팅층의 성분이 3개이상 되면 광택이 혼탁하고 어둡게되므로 2개 성분으로 한다. 그리고 스패터링방법과 마찬가지로 하나의 베이스코팅층 위에 두 개 성분을 가진 멀티레이어코팅층을 반복적으로 형성할 수 있다. 곧, 일례로서베이스층 성분을 Al으로 형성하고 멀티레이어코팅층을 SiO2, Nb2O3을 선택하여 형성할 수 있다. 그리고 멀티레이어코팅층 형성작업을 반복할 수 있는 것으로, 예를 들어 베이스층 성분을 Al으로 형성하고 멀티레이어코팅층을 SiO2 , Nb2O3 , SiO2 , Nb2O3로 순차적으로 형성할 수 있는 것이다.
In the case of the ebbering method, the base coating layer is formed of any one of Al, Cr, Cu, Ni, Si, W and Sn, and the multilayer coating layer is made of SiO 2 , Nb 2 O 3 , Nb 2 O 5 , SiO, SiO 2 , Z 2 O, ZrO 2 , TiO, and TiO 2 . When the composition of the multilayer coating layer is more than 3, the gloss becomes turbid and becomes dark, so it is made of two components. Similar to the sputtering method, a multilayer coating layer having two components can be repeatedly formed on one base coating layer. As an example, the base layer component may be formed of Al and the multilayer coating layer may be formed of SiO 2 or Nb 2 O 3 . For example, the base layer component may be formed of Al and the multilayer coating layer may be sequentially formed of SiO 2 , Nb 2 O 3 , SiO 2 , and Nb 2 O 3 , will be.
한편, 본 발명에서 사용되는 진공코팅장치는 기존의 sputter 진공코팅 방식에 chamber 중앙에 저항가열식 증발원(thermal evaporation source)을 장착함으로써 증착을 효율적으로 구현 할 수 있다.Meanwhile, the vacuum coating apparatus used in the present invention can deposit deposition efficiently by mounting a resistive heating evaporation source at the center of the chamber in the conventional sputter vacuum coating system.
Linear ion source는 chamber 벽면에 설치하여 Ar을 이용한 sample의 전처리 (pre - treatment) 공정과 클리닝 공정을 수행한다. Linear ion source is installed on the wall of the chamber and performs pre - treatment and cleaning process of sample using Ar.
그리고 본 발명에서 사용되는 스퍼터링 방법은 관용의 스퍼터링(sputtering) 기술을 말하는 것으로, 구체적으로 설명하면 스퍼터링(sputtering)이란 plasma 상태에서 형성된 Ar 양이온(positive ion)이 sputter module에 장착된 cathode에 인가된 전기장에 의해 cathode 위에 놓여있는 target 쪽으로 가속되어 target과 충돌함으로써 target을 구성하고 있는 원자가 튀어나오는 현상이다. The sputtering method used in the present invention refers to a conventional sputtering technique. Specifically, sputtering is a technique in which a positive ion formed in a plasma state is applied to an electric field applied to a cathode mounted on a sputter module The target is accelerated to the target located on the cathode and collides with the target, so that the atoms constituting the target protrude.
이 스퍼터링은 가열과정이 없기 때문에 텅스텐과 같은 고용점 금속이라도 증착이 가능하다. 일반적인 진공증착에서는 금속을 고온으로 가열하여 증발시키기 때문에 합금인 경우 그 성분 금속 각각의 증기압이 서로 달라 문제가 생긴다. 그러나 스퍼터링은 금속뿐만 아니라 석영 등 무기물이라도 박막을 용이하게 만들 수 있다. This sputtering can be deposited even with a solid-state metal such as tungsten because there is no heating process. In general vacuum deposition, since the metal is heated to a high temperature and evaporated, the vapor pressure of each of the constituent metals differs in the case of an alloy, thereby causing a problem. However, sputtering can easily make a thin film even if it is an inorganic substance such as quartz as well as a metal.
스퍼터링 장치는 간단한 2극 전극으로 구성되어 있으며 아르곤(Ar) 가스를 흘리면서 글로우(glow) 방전을 시킨다. 증착하고자하는 물질을 원형 또는 직사각형의 타겟(target)으로 만들어 여기에 음의 고전압을 인가하면 Ar+ ion의 충돌에 의해 튀어나온 타겟 원자가 마주 보고 있는 기판에 쌓여 박막이 형성된다. The sputtering system consists of a simple bipolar electrode, which discharges argon (Ar) gas while glowing. When the material to be deposited is a circular or rectangular target and a negative high voltage is applied to the substrate, the target atoms protruding due to the collision of Ar + ions are deposited on the facing substrate to form a thin film.
스퍼터링은 진공증착방법인 이베퍼레이션(Evaporation) 과 비교하면 날아가는 타깃 원자의 속도가 100배 정도 빠르기 때문에 박막과 기판의 부착강도가 크다. 2극 스퍼터링 이외에 기판과 타깃 사이에서 음극과 양극으로 플라즈마를 발생시키는 4극 스퍼터링 방식, 그리고 고주파를 이용하는 RF 방식, 최근에는 전기장 이외에 자기장을 이용한 마그네트론 스퍼터링 방식 등이 있다. Sputtering has a higher adhesion strength between a thin film and a substrate because the velocity of the target atom flying is about 100 times faster than that of evaporation, which is a vacuum deposition method. In addition to bipolar sputtering, a quadrupole sputtering method in which a plasma is generated between a substrate and a target as a cathode and an anode, an RF method using a high frequency, and a magnetron sputtering method using a magnetic field in addition to an electric field.
그리고 상기 스퍼터링방식과 저항가열방식에 대한 기본원리는 본출원인인 기 출원하여 등록받은 등록번호 20-0185068에는 스퍼터링방식과 저항가열방식의 기본 원리에 대하여 기재되어 있다. 그 구성을 인용하면, 스퍼터링되는 타겟은 sputter module의 cathode에 clamp로 장착되어 있다. The basic principle of the sputtering method and the resistance heating method is disclosed in the registration number 20-0185068 filed by the applicant of the present application and describes the basic principle of the sputtering method and the resistance heating method. In reference to its configuration, the target to be sputtered is clamped to the cathode of the sputter module.
여기서 상기 이베퍼레이터는 저항가열식 또는 전자빔 방식으로 코팅물질을 용융증발시켜 코팅하고, 상기 스퍼터링 타겟은 코팅물질을 스퍼터하여 비산시켜 피증착물을 증착하게 된다. Here, the evaporator is coated by melting and evaporating a coating material by a resistance heating type or an electron beam method, and the sputtering target is sputtered and scattered to deposit a deposited material.
상기 저항 가열방식은 저항체에 전류를 흘려 주울열을 발생하는것을 이용한 가열방식을 사용한다. 여기서는 물체에 직접 전류를 흘려서 가열하는 직접식과 발열체의 열을 복사 대류 전도 등으로 피가열물에 전달하는 간접식의 양자 방식을 모두 채택할 수 있다. In the resistance heating method, a heating method using a current which flows in a resistor to generate heat is used. In this case, both the direct type heating method in which current is directly supplied to an object and the indirect type method in which the heat of the heating element is transferred to the object to be heated by radiation convection conduction or the like can be adopted.
플라즈마 또는 글로우 방전은 상기한 방전 수단 사이에서 상기한 불활성 주입가스와 전원 공급장치으로부터 공급된 고압 전압의 스파크에 의해서 플라즈마 또는 글로우 방전대가 형성된다. 이러한 상태에서 상기 내통이 회전하면서 치구에 안착되어 있는 피코팅체의 코팅부위에 상기한 방전대를 거치면서 에칭이 이루어지고, 이와 동시에 스퍼터링 타겟 및 이베퍼레이터에 의해서 용융된 코팅물질이 비산 또는 스퍼터되어 상기한 피증착물에 다층의 박막이 형성되게 된다. A plasma or glow discharge is formed between the above-mentioned discharge means by the spark of the above-mentioned inert injection gas and the high voltage voltage supplied from the power supply device. In this state, the coating is applied to the coating portion of the coating body, which is seated on the jig while rotating the inner cylinder, while passing through the discharge bar. Simultaneously, the coating material melted by the sputtering target and the evaporator is scattered or sputtered. So that a multilayer thin film is formed on the above-mentioned deposited material.
피증착물의 증착 공정을 요약하면, 증착하고자 하는 기판(피증착물)을 내통의 치구에 장착한 후, 진공배기 장치를 통하여 진공증착 챔버를 진공배기하고, 챔버 내부가 일정한 진공상태에 도달하면 치구가 장착된 내통을 회전시켜 피증착물의 증착할 부분이 상기 스퍼터링 타겟 또는 이베퍼레이터로부터 용융 비산 또는 스퍼터되는 증착물질이 피증착물 표면에 균일하게 증착이 이루어지는 것이 일반적인 방법이다.
To summarize the deposition process of the deposited material, the substrate (deposition material) to be deposited is attached to the jig of the inner tube, and then the vacuum deposition chamber is evacuated through the vacuum evacuation apparatus. When the inside of the chamber reaches a predetermined vacuum state, It is a general method that the deposited inner wall is rotated to deposit the deposition material on the surface of the deposit to be deposited by melting or sputtering from the sputtering target or the evaporator uniformly on the surface of the deposit.
따라서, 본발명은 신발 장식용 밴드에 금속재질의 코팅층을 진공코팅방법에 의해 형성하여 빛의 굴절 및 반사에 의해 코팅층이 광택이 나고 심미감을 향상시킬 수 있는 현저한 효과가 있다.Accordingly, the present invention has a remarkable effect that a coating layer of a metal material is formed on a shoe decorative band by a vacuum coating method, and the coating layer is improved in gloss and aesthetics by refraction and reflection of light.
400 : 챔버
500 : 선형 이온 소스(Linear ion source)
100 : 스퍼터 110 : 저항가열식 증발원400: chamber
500: Linear ion source
100: Sputter 110: Resistance-heated evaporation source
Claims (4)
상기 코팅층은 베이스층과 멀티레이어코팅층으로 이루어지되, 상기 베이스코팅층은 Al, Cr, Cu, Ni, Si, W, Sn중 어느 하나의 성분으로 형성된 층이며, 상기 멀티레이어코팅층은 스패터링방법의 경우에는 Ti, Zr, Ag, Au, Cu, Si, Sn중 두 개 성분을 선택하여 형성되는 것을 특징으로 하는 신발 장식용 밴드의 진공코팅층 형성방법A method of forming a vacuum coating layer of a shoe ornamental band, wherein a coating layer is formed on a shoe decorative band, the coating layer being formed by a sputtering method or a vacuum coating method of an iverting method,
The coating layer is composed of a base layer and a multilayer coating layer, and the base coating layer is formed of any one of Al, Cr, Cu, Ni, Si, W, and Sn. In the case of the sputtering method Is formed by selecting two components of Ti, Zr, Ag, Au, Cu, Si, and Sn.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020130070723A KR101402459B1 (en) | 2013-06-20 | 2013-06-20 | Vacuum coating layer formation method of shoe decoration band |
| PCT/KR2014/005341 WO2014204196A1 (en) | 2013-06-20 | 2014-06-18 | Method of manufacturing decoration for shoe |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020130070723A KR101402459B1 (en) | 2013-06-20 | 2013-06-20 | Vacuum coating layer formation method of shoe decoration band |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR101402459B1 true KR101402459B1 (en) | 2014-06-03 |
Family
ID=51131508
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020130070723A KR101402459B1 (en) | 2013-06-20 | 2013-06-20 | Vacuum coating layer formation method of shoe decoration band |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR101402459B1 (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2016047838A1 (en) * | 2014-09-26 | 2016-03-31 | 유흥상 | Method for forming vacuum coating layer of plastic zipper rail |
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2013
- 2013-06-20 KR KR1020130070723A patent/KR101402459B1/en not_active IP Right Cessation
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