KR101402373B1 - Vacuum coating layer formation method of shoe outsole - Google Patents
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Abstract
Description
본발명은 신발 아웃솔의 진공코팅층에 관한 것으로, 보다 상세하게는 신발에서 사람들 눈에 드러나기 쉬운 아웃솔의 외관부분에 진공코팅방법에 의한 코팅층을 형성하여 미관을 강조하는 신발 아웃솔의 진공코팅층 형성방법에 관한 것이다.The present invention relates to a vacuum coating layer of a shoe outsole, and more particularly, to a method of forming a vacuum coating layer of a shoe outsole in which a coating layer is formed by a vacuum coating method on an outer part of an outsole, will be.
등록특허공보 등록번호 10-0356717호에 종래기술로 기재된 바와 같이, 종래 신발용 아웃솔은 신발의 하부를 구성하는 구성부재로서, 신발을 착용시 발의 하부를 주로 보호하기 위한 수단으로서 그 두께가 통상 미드솔이나 인솔보다는 두껍게 제조되고, 이러한 아웃솔은 통상 신발의 하부를 지지하는 주요한 구성부재중 하나이다.As described in the prior art in Patent Registration No. 10-0356717, a conventional footwear outsole is a constituent member constituting a lower portion of a shoe. When the footwear is worn, Or insole, and these outsole are usually one of the main components supporting the lower portion of the shoe.
그리고 상기 등록특허공보 등록번호 10-0356717호는 그 기술적 요지로, 청구항 1에 신발용 아웃솔(1)에 있어서; 상기 아웃솔(1)에는 요입실(2)을 형성하여 이의 상부에서 쿳션커버(3)로 밀폐시켜 에어챔버(4)를 형성하되, 상기 에어챔버(4) 내에는 개폐수단(7)에 의해 착탈가능한 항균방향제(6)를 내입할 수 있도록 항균방향제내장실(5)을 내장벽(12)에 의하여 형성하고; 상기 항균방향제내장실(5)의 상부에는 공기유입공(13)을 형성하여 내장벽(12)에 의해 형성되는 공기유도홈(15)과 공기배출공(14)을 통하여 유입된 공기가 쿳션커버(3)의 전측에 형성된 하나 이상의 배출공(17)상으로 배출될 수 있도록 하며; 상기 요입실(2)에는 다수개의 보조요입실(11)이 형성되고, 쿳션커버(3)에는 다수개의 완충돌기(16)가 형성된 것을 특징으로 하는 신발용 아웃솔이 공개되어 있다.The registered patent publication No. 10-0356717 is based on the technical idea thereof, and in claim 1, in the shoe outsole (1), The air chamber 4 is formed by forming a void chamber 2 in the outsole 1 and sealing it with a
또한, 공개특허공보 공개번호 10-2011-0056806호에는 신발용 아웃솔을 전체 길이에 대하여 4:6의 길이 비율을 갖도록 연질부와 경질부로 구분 형성하고, 상기의 연질부는 아웃솔의 앞꿈치에 해당되고 상기의 경질부는 아웃솔의 뒤꿈치에 해당되어 이들 연질부와 경질부는 가압 성형에 의한 접합을 통해 일체화되게 구성하되, 상기의 연질부는, 고무원료 100 : 촉진제 2 : 활성제 5 : 스타린산 10 : 카본블랙 30 : 흑연 20 : 윤활유 1의 중량 비율로 혼합 성형되어 이루어지고, 상기의 경질부(12)는, 고무원료 100 : 촉진제 2 : 활성제 5 : 스타린산 10 : 카본블랙 50 : 윤활유 1의 중량 비율로 혼합 성형되어 이루어짐을 특징으로 하는 보행 편리성이 향상되게 한 신발용 아웃솔이 공개되어 있다.In addition, in Japanese Unexamined Patent Publication No. 10-2011-0056806, a shoe outsole is divided into a soft part and a hard part so as to have a length ratio of 4: 6 with respect to the whole length, and the soft part corresponds to the foref of the outsole, Wherein the soft part of the soft rubber is in the form of a heel of an outsole, and the soft part and the hard part are integrated through bonding by press molding. The soft part is composed of rubber material 100: promoter 2: activator 5: stearic acid 10: Wherein the hard part (12) is formed by mixing and molding at a weight ratio of rubber raw material 100: promoter 2: activator 5: stearic acid 10: carbon black 50: lubricating oil 1 weight ratio of graphite 20: lubricating oil 1 A footwear outsole is disclosed which improves walking comfort.
그러나 상기 아웃솔표면은 재료에 안료를 섞어 제작할 경우 색상이 단조롭고 혼탁하며, 코팅을 하더라도 코팅상태가 양호하지 않고 미감이 떨어지는 단점이 있었다.However, the surface of the outsole is disadvantageous in that when the pigment is mixed with the material, the color is monotonous and turbid, and the coated state is not good even when the coating is applied, and the aesthetics are deteriorated.
따라서 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하고자 안출된 것으로서, 신발 아웃솔에 코팅층을 진공코팅방법에 의해 형성하여 코팅층이 광택이 나고 심미감을 향상시킬 수 있는 신발 아웃솔의 진공증착코팅층 형성방법을 제공하고자 하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide a method of forming a vacuum evaporation coating layer of a shoe outsole in which a coating layer is formed on a shoe outsole by a vacuum coating method, will be.
본발명은 신발 아웃솔의 진공코팅층 형성방법에 관한 것으로, 신발 아웃솔 외부면에 코팅층을 형성하되, 상기 코팅층은 진공코팅방법에 의해 형성되는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a method of forming a vacuum coating layer of a shoe outsole, wherein a coating layer is formed on the outer surface of a shoe outsole, wherein the coating layer is formed by a vacuum coating method.
따라서 본발명은 신발 아웃솔에 코팅층을 진공코팅방법에 의해 형성하여 코팅층이 광택이 나고 심미감을 향상시킬 수 있는 현저한 효과가 있다.Accordingly, the present invention has a remarkable effect in that the coating layer is formed on the shoe outsole by a vacuum coating method, and the coating layer is improved in gloss and aesthetics.
도 1은 종래 신발 아웃솔 사시도
도 2는 본발명에 사용되는 진공코팅장치 배치도
도 3은 본발명에 사용되는 Sputter module, Linear ion source 및 Thermal evaporation source가 설치된 진공코팅장치 내부개략도
도 4는 본발명에 사용되는 Sputte rmodule, Linear ion source 및 Thermal evaporation source가 설치된 진공코팅장치 절개개략도
도 5는 본발명에 사용되는 Sputter module, Linear ion source 및 Thermal evaporation source가 설치된 진공코팅장치 분해개략도
도 6은 본발명에 사용되는 Sputter module, Linear ion source 및 Thermal evaporation source가 설치된 진공코팅장치 평면개략도
도 7은 도 6의 부분확대도1 shows a conventional shoe outsole perspective view
Fig. 2 is a schematic diagram of a vacuum coating apparatus used in the present invention
FIG. 3 is a schematic view of a vacuum coating apparatus having a sputter module, a linear ion source, and a thermal evaporation source used in the present invention
FIG. 4 is a schematic view of a vacuum coating apparatus using a sputter device, a linear ion source, and a thermal evaporation source used in the present invention.
5 is an exploded schematic view of a vacuum coating apparatus equipped with a sputter module, a linear ion source, and a thermal evaporation source used in the present invention
6 is a schematic plan view of a vacuum coating apparatus equipped with a sputter module, a linear ion source, and a thermal evaporation source used in the present invention
Fig. 7 is a partial enlarged view of Fig. 6
본발명은 신발 아웃솔의 진공코팅층 형성방법에 관한 것으로, 신발 아웃솔 외부면에 코팅층을 형성하되, 상기 코팅층은 스패터링방법 또는 이베퍼라이팅방법의 진공코팅방법에 의해 형성되는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a method of forming a vacuum coating layer of a shoe outsole, wherein a coating layer is formed on the outer surface of a shoe outsole, wherein the coating layer is formed by a vacuum coating method of a sputtering method or an iverting method.
또한, 상기 코팅층은 베이스층과 멀티레이어코팅층으로 이루어지되, 상기 베이스코팅층은 Al, Cr, Cu, Ni, Si, W, Sn중 어느 하나의 성분으로 형성된 층이며, 상기 멀티레이어코팅층은 스패터링방법의 경우에는 Ti, Zr, Ag, Au, Cu, Si, Sn중 두 개 이상의 성분을 짝수로 선택하여 형성되는 것을 특징으로 한다.The coating layer may be a base layer and a multilayer coating layer, and the base coating layer may be a layer formed of any one of Al, Cr, Cu, Ni, Si, W and Sn. Ti, Zr, Ag, Au, Cu, Si, and Sn in an even number.
또한, 상기 스패터링방법의 경우에는 반응성가스(reactive gas)인 C2H2 또는 O2를 진공챔버 내부에 주입하거나, 불활성가스인 N2 또는 Ar가스를 진공챔버 내부에 주입하는 것을 특징으로 한다.In the case of the above sputtering method, a reactive gas such as C 2 H 2 or O 2 is injected into the vacuum chamber, or N 2 or Ar gas, which is an inert gas, is injected into the vacuum chamber.
또한, 상기 코팅층은 베이스층과 멀티레이어코팅층으로 이루어지되, 상기 베이스코팅층은 Al, Cr, Cu, Ni, Si, W, Sn중 어느 하나의 성분으로 형성된 층이며, 상기 멀티레이어코팅층은 이베퍼라이팅방법의 경우에는 SiO2 , Nb2O3, Nb2O5, SiO, SiO2, Z2O, ZrO2, TiO, TiO2중 두 개 이상의 성분을 짝수단위로 선택하여 형성되는 것을 특징으로 한다.
The coating layer may include a base layer and a multilayer coating layer, and the base coating layer may be a layer formed of any one of Al, Cr, Cu, Ni, Si, W and Sn. The method is characterized in that at least two components of SiO 2 , Nb 2 O 3 , Nb 2 O 5 , SiO, SiO 2 , Z 2 O, ZrO 2 , TiO, and TiO 2 are selected in an even number unit .
본발명을 첨부도면에 의해 상세히 설명하면 다음과 같다. 도 1은 종래 신발 아웃솔 사시도, 도 2는 본발명에 사용되는 진공코팅장치 배치도, 도 3은 본발명에 사용되는 Sputter module, Linear ion source 및 Thermal evaporation source가 설치된 진공코팅장치 내부개략도, 도 4는 본발명에 사용되는 Sputte rmodule, Linear ion source 및 Thermal evaporation source가 설치된 진공코팅장치 절개개략도, 도 5는 본발명에 사용되는 Sputter module, Linear ion source 및 Thermal evaporation source가 설치된 진공코팅장치 분해개략도, 도 6은 본발명에 사용되는 Sputter module, Linear ion source 및 Thermal evaporation source가 설치된 진공코팅장치 평면개략도, 도 7은 도 6의 부분확대도이다.
The present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a perspective view of a conventional shoe outsole, FIG. 2 is a plan view of a vacuum coating apparatus used in the present invention, FIG. 3 is a schematic internal view of a vacuum coating apparatus equipped with a sputter module, a linear ion source, A linear ion source and a thermal evaporation source used in the present invention; FIG. 5 is an exploded schematic view of a vacuum coating apparatus equipped with a sputter module, a linear ion source, and a thermal evaporation source used in the present invention; 6 is a schematic plan view of a vacuum coating apparatus equipped with a sputter module, a linear ion source, and a thermal evaporation source used in the present invention, and FIG. 7 is a partially enlarged view of FIG.
본발명은 신발 아웃솔 외부면에 진공코팅층을 형성하는 것이다. 상기 코팅층은 신발 아웃솔 외부면에 형성되므로 심미감이 뛰어나다. 상기 신발 아웃솔은 고무나 PVC등의 합성수지로 제작되며, 상기 재질위에 코팅층이 진공코팅방법에 의해 형성되는 것이다.The present invention forms a vacuum coating layer on the outer surface of a shoe outsole. Since the coating layer is formed on the outer surface of the shoe outsole, it is excellent in aesthetic sense. The shoe outsole is made of synthetic resin such as rubber or PVC, and a coating layer is formed on the material by a vacuum coating method.
상기 진공코팅방법은 스패터링방법 또는 이베퍼라이팅방법을 사용하여 신발 아웃솔 합성수지재질위에 용이하게 진공코팅층을 형성하는 것이다.In the vacuum coating method, a vacuum coating layer is easily formed on a shoe outsole synthetic resin material by using a sputtering method or an iverting method.
상기 코팅층은 베이스층과 멀티레이어코팅층으로 이루어지되, 상기 베이스코팅층은 Al, Cr, Cu, Ni, Si, W, Sn중 어느 하나의 성분으로 형성된 층이며, 상기 멀티레이어코팅층은 스패터링방법의 경우에는 Ti, Zr, Ag, Au, Cu, Si, Sn중 두 개 성분을 선택하여 형성되는 것이다. 멀티레이어코팅층의 성분이 3개이상 되면 광택이 혼탁하고 어둡게되므로 2개 성분으로 한다. 그리고 두 개 성분을 선택하여 순차적으로 베이스층위에 코팅층을 형성하되, 멀티레이어코팅층 작업을 반복하여 보다 많은 코팅층을 형성할 수 있다. 곧, 일례로서 베이스층 성분을 Al으로 형성하고 멀티레이어코팅층을 Ti, Zr을 선택하여 형성할 수 있다. 그리고 멀티레이어코팅층 형성작업을 반복할 수 있는 것으로, 예를 들어 베이스층 성분을 Al으로 형성하고 멀티레이어코팅층을 Ti, Zr, Ti, Zr로 순차적으로 형성할 수 있다. The coating layer is composed of a base layer and a multilayer coating layer, and the base coating layer is formed of any one of Al, Cr, Cu, Ni, Si, W, and Sn. In the case of the sputtering method Is formed by selecting two components of Ti, Zr, Ag, Au, Cu, Si, and Sn. When the composition of the multilayer coating layer is more than 3, the gloss becomes turbid and becomes dark, so it is made of two components. Then, the coating layer is sequentially formed on the base layer by selecting two components, and the multi-layer coating layer operation can be repeated to form more coating layers. As an example, the base layer component may be formed of Al and the multilayer coating layer may be formed of Ti and Zr. For example, the base layer component may be formed of Al and the multilayer coating layer may be sequentially formed of Ti, Zr, Ti, and Zr.
또한, 상기 스패터링방법의 경우에는 반응성가스(reactive gas)인C2H2 또는 O2 가스를 진공챔버내부에 주입하거나, 불활성가스인 N2 또는 Ar 가스를 진공챔버내부에 주입하게 된다.In the case of the sputtering method, C 2 H 2 or O 2 gas, which is a reactive gas, is injected into the vacuum chamber, or N 2 or Ar gas, which is an inert gas, is injected into the vacuum chamber.
상기와 같이 형성되는 코팅층중 베이스층은 빛을 반사하게 되고, 멀티레이어코팅층은 빛을 굴절하게 되어, 코팅층이 전체적으로 심미감 있는 광택이 나는 것이다.
Among the coating layers formed as described above, the base layer reflects light, and the multilayer coating layer refracts light, so that the coating layer is entirely esthetically glossy.
한편, 본발명은 이베퍼라이팅방법의 경우에는 상기 베이스코팅층은 Al, Cr, Cu, Ni, Si, W, Sn중 어느 하나의 성분으로 형성된 층이며, 상기 멀티레이어코팅층은 SiO2 , Nb2O3, Nb2O5, SiO, SiO2, Z2O, ZrO2, TiO, TiO2중 두 개 성분을 선택하여 형성되는 것이다. 멀티레이어코팅층의 성분이 3개이상 되면 광택이 혼탁하고 어둡게되므로 2개 성분으로 한다. 그리고 스패터링방법과 마찬가지로 하나의 베이스코팅층 위에 두 개 성분을 가진 멀티레이어코팅층을 반복적으로 형성할 수 있다. 곧, 일례로서베이스층 성분을 Al으로 형성하고 멀티레이어코팅층을 SiO2, Nb2O3을 선택하여 형성할 수 있다. 그리고 멀티레이어코팅층 형성작업을 반복할 수 있는 것으로, 예를 들어 베이스층 성분을 Al으로 형성하고 멀티레이어코팅층을 SiO2, Nb2O3 , SiO2 , Nb2O3로 순차적으로 형성할 수 있는 것이다.
In the case of the ebbering method, the base coating layer is formed of any one of Al, Cr, Cu, Ni, Si, W and Sn, and the multilayer coating layer is made of SiO 2 , Nb 2 O 3 , Nb 2 O 5 , SiO, SiO 2 , Z 2 O, ZrO 2 , TiO, and TiO 2 . When the composition of the multilayer coating layer is more than 3, the gloss becomes turbid and becomes dark, so it is made of two components. Similar to the sputtering method, a multilayer coating layer having two components can be repeatedly formed on one base coating layer. As an example, the base layer component may be formed of Al and the multilayer coating layer may be formed of SiO 2 or Nb 2 O 3 . For example, the base layer component may be formed of Al and the multilayer coating layer may be sequentially formed of SiO 2, Nb 2 O 3 , SiO 2 , and Nb 2 O 3 , will be.
한편, 본 발명에서 사용되는 진공코팅장치는 기존의 sputter 진공코팅 방식에 chamber 중앙에 저항가열식 증발원(thermal evaporation source)을 장착함으로써 증착을 효율적으로 구현 할 수 있다.Meanwhile, the vacuum coating apparatus used in the present invention can deposit deposition efficiently by mounting a resistive heating evaporation source at the center of the chamber in the conventional sputter vacuum coating system.
Linear ion source는 chamber 벽면에 설치하여 Ar을 이용한 sample의 전처리 (pre - treatment) 공정과 클리닝 공정을 수행한다. Linear ion source is installed on the wall of the chamber and performs pre - treatment and cleaning process of sample using Ar.
그리고 본 발명에서 사용되는 스퍼터링 방법은 관용의 스퍼터링(sputtering) 기술을 말하는 것으로, 구체적으로 설명하면 스퍼터링(sputtering)이란 plasma 상태에서 형성된 Ar 양이온(positive ion)이 sputter module에 장착된 cathode에 인가된 전기장에 의해 cathode 위에 놓여있는 target 쪽으로 가속되어 target과 충돌함으로써 target을 구성하고 있는 원자가 튀어나오는 현상이다. The sputtering method used in the present invention refers to a conventional sputtering technique. Specifically, sputtering is a technique in which a positive ion formed in a plasma state is applied to an electric field applied to a cathode mounted on a sputter module The target is accelerated to the target located on the cathode and collides with the target, so that the atoms constituting the target protrude.
이 스퍼터링은 가열과정이 없기 때문에 텅스텐과 같은 고용점 금속이라도 증착이 가능하다. 일반적인 진공증착에서는 금속을 고온으로 가열하여 증발시키기 때문에 합금인 경우 그 성분 금속 각각의 증기압이 서로 달라 문제가 생긴다. 그러나 스퍼터링은 금속뿐만 아니라 석영 등 무기물이라도 박막을 용이하게 만들 수 있다. This sputtering can be deposited even with a solid-state metal such as tungsten because there is no heating process. In general vacuum deposition, since the metal is heated to a high temperature and evaporated, the vapor pressure of each of the constituent metals differs in the case of an alloy, thereby causing a problem. However, sputtering can easily make a thin film even if it is an inorganic substance such as quartz as well as a metal.
스퍼터링 장치는 간단한 2극 전극으로 구성되어 있으며 아르곤(Ar) 가스를 흘리면서 글로우(glow) 방전을 시킨다. 증착하고자하는 물질을 원형 또는 직사각형의 타겟(target)으로 만들어 여기에 음의 고전압을 인가하면 Ar+ ion의 충돌에 의해 튀어나온 타겟 원자가 마주 보고 있는 기판에 쌓여 박막이 형성된다. The sputtering system consists of a simple bipolar electrode, which discharges argon (Ar) gas while glowing. When the material to be deposited is a circular or rectangular target and a negative high voltage is applied to the substrate, the target atoms protruding due to the collision of Ar + ions are deposited on the facing substrate to form a thin film.
스퍼터링은 진공증착방법인 이베퍼레이션(Evaporation) 과 비교하면 날아가는 타깃 원자의 속도가 100배 정도 빠르기 때문에 박막과 기판의 부착강도가 크다. 2극 스퍼터링 이외에 기판과 타깃 사이에서 음극과 양극으로 플라즈마를 발생시키는 4극 스퍼터링 방식, 그리고 고주파를 이용하는 RF 방식, 최근에는 전기장 이외에 자기장을 이용한 마그네트론 스퍼터링 방식 등이 있다. Sputtering has a higher adhesion strength between a thin film and a substrate because the velocity of the target atom flying is about 100 times faster than that of evaporation, which is a vacuum deposition method. In addition to bipolar sputtering, a quadrupole sputtering method in which a plasma is generated between a substrate and a target as a cathode and an anode, an RF method using a high frequency, and a magnetron sputtering method using a magnetic field in addition to an electric field.
그리고 상기 스퍼터링방식과 저항가열방식에 대한 기본원리는 본출원인인 기 출원하여 등록받은 등록번호 20-0185068에는 스퍼터링방식과 저항가열방식의 기본 원리에 대하여 기재되어 있다. 그 구성을 인용하면, 스퍼터링되는 타겟은 sputter module의 cathode에 clamp로 장착되어 있다. The basic principle of the sputtering method and the resistance heating method is disclosed in the registration number 20-0185068 filed by the applicant of the present application and describes the basic principle of the sputtering method and the resistance heating method. In reference to its configuration, the target to be sputtered is clamped to the cathode of the sputter module.
여기서 상기 이베퍼레이터는 저항가열식 또는 전자빔 방식으로 코팅물질을 용융증발시켜 코팅하고, 상기 스퍼터링 타겟은 코팅물질을 스퍼터하여 비산시켜 피증착물을 증착하게 된다. Here, the evaporator is coated by melting and evaporating a coating material by a resistance heating type or an electron beam method, and the sputtering target is sputtered and scattered to deposit a deposited material.
상기 저항 가열방식은 저항체에 전류를 흘려 주울열을 발생하는것을 이용한 가열방식을 사용한다. 여기서는 물체에 직접 전류를 흘려서 가열하는 직접식과 발열체의 열을 복사 대류 전도 등으로 피가열물에 전달하는 간접식의 양자 방식을 모두 채택할 수 있다. In the resistance heating method, a heating method using a current which flows in a resistor to generate heat is used. In this case, both the direct type heating method in which current is directly supplied to an object and the indirect type method in which the heat of the heating element is transferred to the object to be heated by radiation convection conduction or the like can be adopted.
플라즈마 또는 글로우 방전은 상기한 방전 수단 사이에서 상기한 불활성 주입가스와 전원 공급장치으로부터 공급된 고압 전압의 스파크에 의해서 플라즈마 또는 글로우 방전대가 형성된다. 이러한 상태에서 상기 내통이 회전하면서 치구에 안착되어 있는 피코팅체의 코팅부위에 상기한 방전대를 거치면서 에칭이 이루어지고, 이와 동시에 스퍼터링 타겟 및 이베퍼레이터에 의해서 용융된 코팅물질이 비산 또는 스퍼터되어 상기한 피증착물에 다층의 박막이 형성되게 된다. A plasma or glow discharge is formed between the above-mentioned discharge means by the spark of the above-mentioned inert injection gas and the high voltage voltage supplied from the power supply device. In this state, the coating is applied to the coating portion of the coating body, which is seated on the jig while rotating the inner cylinder, while passing through the discharge bar. Simultaneously, the coating material melted by the sputtering target and the evaporator is scattered or sputtered. So that a multilayer thin film is formed on the above-mentioned deposited material.
피증착물의 증착 공정을 요약하면, 증착하고자 하는 기판(피증착물)을 내통의 치구에 장착한 후, 진공배기 장치를 통하여 진공증착 챔버를 진공배기하고, 챔버 내부가 일정한 진공상태에 도달하면 치구가 장착된 내통을 회전시켜 피증착물의 증착할 부분이 상기 스퍼터링 타겟 또는 이베퍼레이터로부터 용융 비산 또는 스퍼터되는 증착물질이 피증착물 표면에 균일하게 증착이 이루어지는 것이 일반적인 방법이다.
To summarize the deposition process of the deposited material, the substrate (deposition material) to be deposited is attached to the jig of the inner tube, and then the vacuum deposition chamber is evacuated through the vacuum evacuation apparatus. When the inside of the chamber reaches a predetermined vacuum state, It is a general method that the deposited inner wall is rotated to deposit the deposition material on the surface of the deposit to be deposited by melting or sputtering from the sputtering target or the evaporator uniformly on the surface of the deposit.
따라서, 본발명은 신발 아웃솔에 금속재질의 코팅층을 진공코팅방법에 의해 형성하여 빛의 굴절 및 반사에 의해 코팅층이 광택이 나고 심미감을 향상시킬 수 있는 현저한 효과가 있다.Accordingly, the present invention has a remarkable effect that a coating layer of a metal material is formed on a shoe outsole by a vacuum coating method, and the coating layer is improved in gloss and aesthetics by refraction and reflection of light.
400 : 챔버
500 : 선형 이온 소스(Linear ion source)
100 : 스퍼터 110 : 저항가열식 증발원400: chamber
500: Linear ion source
100: Sputter 110: Resistance-heated evaporation source
Claims (4)
상기 코팅층은 베이스층과 멀티레이어코팅층으로 이루어지되, 상기 베이스코팅층은 Al, Cr, Cu, Ni, Si, W, Sn중 어느 하나의 성분으로 형성된 층이며, 상기 멀티레이어코팅층은 스패터링방법의 경우에는 Ti, Zr, Ag, Au, Cu, Si, Sn중 두 개 성분을 선택하여 형성되는 것을 특징으로 하는 신발 아웃솔의 진공코팅층 형성방법A method of forming a vacuum coating layer of a shoe outsole, wherein a coating layer is formed on an outer surface of a shoe outsole, the coating layer being formed by a sputtering method or a vacuum coating method of an iverting method,
The coating layer is composed of a base layer and a multilayer coating layer, and the base coating layer is formed of any one of Al, Cr, Cu, Ni, Si, W, and Sn. In the case of the sputtering method Is formed by selecting two components of Ti, Zr, Ag, Au, Cu, Si, and Sn.
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