KR101402027B1 - 임피던스 매칭을 위한 고주파 솔리드 스테이트 스위칭 - Google Patents
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- 239000007787 solid Substances 0.000 title abstract description 4
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims abstract description 90
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 claims abstract description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 26
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 2
- 230000005669 field effect Effects 0.000 claims 1
- 238000012055 resonant mass measurement Methods 0.000 abstract 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 26
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 12
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 3
- 230000004044 response Effects 0.000 description 3
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- APTZNLHMIGJTEW-UHFFFAOYSA-N pyraflufen-ethyl Chemical compound C1=C(Cl)C(OCC(=O)OCC)=CC(C=2C(=C(OC(F)F)N(C)N=2)Cl)=C1F APTZNLHMIGJTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000002457 bidirectional effect Effects 0.000 description 1
- 230000001413 cellular effect Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 235000013599 spices Nutrition 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H7/00—Multiple-port networks comprising only passive electrical elements as network components
- H03H7/38—Impedance-matching networks
- H03H7/40—Automatic matching of load impedance to source impedance
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D8/00—Diodes
- H10D8/50—PIN diodes
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- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K17/00—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
- H03K17/51—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used
- H03K17/74—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of diodes
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
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Abstract
Description
도1은 본 발명의 1 실시예에 따른 플라즈마 처리 시스템의 회로도이다.
도2는 기술된 1 실시예에 따른 가변 용량 소자를 나타낸다.
도3은 도2에 도시된 가변 용량 소자의 전압 및 전류 특성을 나타낸다.
도4는 스위치드 커패시터 및 그의 각각의 스위칭 회로의 다른 실시예를 나타낸다.
도5는 스위치드 커패시터 및 그의 각각의 스위칭 회로의 또 다른 실시예를 나타낸다.
도6은 임피던스 매칭 회로의 튜닝 방법을 나타낸다.
도7은 예시적 형태의 컴퓨터 시스템에 있어서 머신의 1 실시예를 입체적으로 나타낸 도면이다.
도8은 예시적 RF 전압 플롯을 나타낸다.
도9는 다른 예시적 전압 플롯을 나타낸다.
도10은 또 다른 예시적 전류 플롯을 나타낸다.
도11은 또 다른 예시적 전압 플롯을 나타낸다.
Claims (27)
- 임피던스 매칭 회로의 가변 용량 소자의 회로로서,
제1 전압 라인과 제1 노드 사이에 결합된 커패시터;
제1 노드에 결합된 애노드 및 제2 노드에 결합된 캐소드를 갖는 제1 다이오드;
제2 전압 라인에 결합된 애노드 및 제1 노드에 결합된 캐소드를 갖는 제2 다이오드; 및
제1 및 제2 단자 및, 제어 단자를 갖는 트랜지스터를 구비하고,
상기 제1 단자는 제2 노드에 결합되고,
상기 제2 단자는 제2 전압 라인에 결합되고,
상기 제어 단자는 제어기에 결합되며,
상기 커패시터는, 트랜지스터가 ON되었을 때 가변 용량 소자로 스위칭되고 트랜지스터가 OFF된 후 스위치 아웃되는, 가변 용량 소자의 회로. - 제1항에 있어서, 상기 트랜지스터는 전계 효과 트랜지스터(FET) 또는 바이폴라 정션 트랜지스터(BJT)인, 회로.
- 제2항에 있어서, 상기 트랜지스터는 IGBT인, 회로.
- 제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2 다이오드는 PN 다이오드인, 회로.
- 제1항에 있어서, 상기 트랜지스터가 OFF인 동안, 트랜지스터에 걸쳐 인가되는 전압이 제1 다이오드를 역방향 바이어스시킬 때까지 제1 다이오드를 통과하는 전류에 의해 상기 트랜지스터의 보디 용량이 충전되는, 회로.
- 제1항에 있어서, 상기 트랜지스터가 OFF인 동안, 상기 트랜지스터의 보디 용량의 충전 결과로서 제2 노드로부터 제1 노드로의 전압이 제1 다이오드를 역방향 바이어스시킬 때까지 제1 다이오드를 도통시키는, 회로.
- 제6항에 있어서, 상기 트랜지스터가 OFF인 동안, 일단 상기 트랜지스터의 보디 용량이 제1 다이오드를 스위치 오프시키기에 충분하게 충전하면 상기 커패시터가 가변 용량 소자를 스위치 아웃시키는, 회로.
- 제7항에 있어서, 상기 트랜지스터가 OFF인 동안, 제1 전압 라인 상의 RF 전압 신호에 의해 제공된 충전의 결과로서 제1 다이오드가 스위치 오프되는, 회로.
- 제6항에 있어서, 상기 트랜지스터는 일단 제1 다이오드가 스위치 오프하면 제1 전압 라인 상의 RF 신호로부터 분리되는, 회로.
- 제1항에 있어서, 제1 노드에 인가되는 제1 DC 바이어스를 더 포함하는, 회로.
- 제10항에 있어서, 상기 트랜지스터가 OFF인 동안, 상기 제1 DC 바이어스는, 상기 트랜지스터의 보디 용량이 충전되는 동안 제1 다이오드가 순방향 바이어스되도록 하는, 회로.
- 제10항에 있어서, RF 신호가 상기 제1 DC 바이어스의 소스에 도달하지 않도록 하는 다이오드를 더 포함하는, 회로.
- 제10항에 있어서, RF 신호가 상기 제1 또는 제2 다이오드의 어느 것의 전압 강하의 두 배 이하의 전압일 때 상기 제1 DC 바이어스가 RF 신호의 왜곡을 감소시키는, 회로.
- 제1항에 있어서, 상기 트랜지스터가 OFF인 동안, 제2 노드에 인가되는 제2 DC 바이어스를 더 포함하는, 회로.
- 제14항에 있어서, 상기 제2 DC 바이어스는, 상기 트랜지스터가 OFF인 동안 제1 다이오드를 역방향 바이어스시키기에 충분한 전압으로 트랜지스터의 보디 용량을 유지하는, 회로.
- 제14항에 있어서, 상기 제2 DC 바이어스는 트랜지스터의 누설 전류에 위해 야기되는 RF 신호의 왜곡을 감소시키는, 회로.
- 제14항에 있어서, 상기 제2 DC 바이어스는 또한, 제1 다이오드를 스위치 오프시키기 위한 시간을 감소시키도록 제1 노드에 대해 제2 노드의 전위를 상승시키록 인가되는, 회로.
- 제17항에 있어서, 상기 제2 DC 바이어스는 스위칭 회로의 스위칭 시간을 감소시키는, 회로.
- 삭제
- 임피던스 매칭 회로의 가변 용량 소자의 회로로서,
제1 전압 라인과 제1 노드 사이에 결합된 커패시터;
제1 노드에 결합된 애노드 및 제2 노드에 결합된 캐소드를 갖는 제1 다이오드;
제2 다이오드를 통해 제1 DC 바이어스를 제공하는 저 전력 DC 바이어스;
제1 단자, 제2 단자 및 제어 단자를 갖는 트랜지스터를 포함하고,
상기 제1 단자는 제2 노드에 결합되고,
상기 제2 단자는 제2 전압 라인에 결합되고,
상기 제어 단자는 트랜지스터의 스위칭을 제어하는 신호들을 수신하며,
상기 커패시터는, 트랜지스터가 ON되었을 때 가변 용량 소자로 스위칭되고 트랜지스터가 OFF된 후 스위치 아웃되는, 회로. - 제20항에 있어서, 상기 트랜지스터가 OFF인 동안, 트랜지스터에 걸린 전압이 제1 다이오드를 역방향 바이어스시킬 때까지 제1 다이오드를 통과하는 전류에 의해 상기 트랜지스터의 보디 용량이 충전되는, 회로.
- 제20항에 있어서, 상기 트랜지스터가 OFF이고 제1 다이오드가 스위치 오프인 인 동안, 상기 커패시터는 가변 용량 소자를 스위치 오프시키는, 회로.
- 제20항에 있어서, 상기 트랜지스터는 일단 제1 다이오드가 스위치 오프하면 제1 전압 라인 상의 RF 신호로부터 분리되는, 회로.
- 제20항에 있어서, 상기 트랜지스터가 OFF인 동안 제2 노드에 인가되는 제2 DC 바이어스를 더 포함하는, 회로.
- 삭제
- 제20항에 있어서, 제2 전압 라인에 결합된 애노드 및 제1 노드에 결합된 캐소드를 갖는 제3 다이오드를 더 포함하는, 회로.
- 임피던스 매칭 회로의 가변 용량 소자의 내외에 커패시터를 스위칭하는 방법으로서, 상기 방법은,
가변 용량 소자를 OFF 시키고;
커패시터를 통과하는 RF신호로부터의 전류를 사용하여 제1 다이오드를 통해 트랜지스터의 보디 용량을 충전하고;
충전 후 트랜지스터의 보디 용량에 의해 공급되는 전압으로 제1 다이오드를 역방향 바이어스하고;
가변 용량 소자의 임피던스를 감소시키기 위해 커패시터를 통한 RF 신호로부터의 전류를 0 암페어 부근으로 감소시키고;
가변 용량 소자의 트랜지스터를 ON시키고;
트랜지스터의 보디 용량을 방전시키고;
커패시터를 통과하는 RF 신호로부터의 전류로 제1 다이오드를 순방향 바이어스시키고;
가변 용량 소자의 임피던스를 증가시키기 위해 커패시터를 통한 RF 신호로부터의 전류를 증가시키는 것을 포함하는, 방법.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US13/288,712 | 2011-11-03 | ||
US13/288,712 US8436643B2 (en) | 2010-11-04 | 2011-11-03 | High frequency solid state switching for impedance matching |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20130049135A KR20130049135A (ko) | 2013-05-13 |
KR101402027B1 true KR101402027B1 (ko) | 2014-06-02 |
Family
ID=48699414
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020110128155A KR101402027B1 (ko) | 2011-11-03 | 2011-12-02 | 임피던스 매칭을 위한 고주파 솔리드 스테이트 스위칭 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101402027B1 (ko) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20210007976A (ko) * | 2018-05-10 | 2021-01-20 | 에이이에스 글로벌 홀딩스 피티이 리미티드 | 가변적이고 불확실한 프랙셔널 비트 기여도들의 존재 시의 정밀한 디지털 투 아날로그 변환 |
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-
2011
- 2011-12-02 KR KR1020110128155A patent/KR101402027B1/ko active IP Right Grant
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---|---|
KR20130049135A (ko) | 2013-05-13 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20111202 |
|
A201 | Request for examination | ||
PA0201 | Request for examination |
Patent event code: PA02012R01D Patent event date: 20130213 Comment text: Request for Examination of Application Patent event code: PA02011R01I Patent event date: 20111202 Comment text: Patent Application |
|
PG1501 | Laying open of application | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20140227 Patent event code: PE09021S01D |
|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20140519 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20140526 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20140527 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170504 Year of fee payment: 4 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20170504 Start annual number: 4 End annual number: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180427 Year of fee payment: 5 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20180427 Start annual number: 5 End annual number: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190429 Year of fee payment: 6 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20190429 Start annual number: 6 End annual number: 6 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20200715 Start annual number: 7 End annual number: 7 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20210428 Start annual number: 8 End annual number: 8 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20230418 Start annual number: 10 End annual number: 10 |