KR101393112B1 - Cleaning device of radioactive contaminated surface - Google Patents

Cleaning device of radioactive contaminated surface Download PDF

Info

Publication number
KR101393112B1
KR101393112B1 KR1020120037601A KR20120037601A KR101393112B1 KR 101393112 B1 KR101393112 B1 KR 101393112B1 KR 1020120037601 A KR1020120037601 A KR 1020120037601A KR 20120037601 A KR20120037601 A KR 20120037601A KR 101393112 B1 KR101393112 B1 KR 101393112B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
product
water
water jet
radioactivity
abrasive
Prior art date
Application number
KR1020120037601A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20130115048A (en
Inventor
이선주
전원규
Original Assignee
전원규
이선주
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 전원규, 이선주 filed Critical 전원규
Priority to KR1020120037601A priority Critical patent/KR101393112B1/en
Publication of KR20130115048A publication Critical patent/KR20130115048A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101393112B1 publication Critical patent/KR101393112B1/en

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21F—PROTECTION AGAINST X-RADIATION, GAMMA RADIATION, CORPUSCULAR RADIATION OR PARTICLE BOMBARDMENT; TREATING RADIOACTIVELY CONTAMINATED MATERIAL; DECONTAMINATION ARRANGEMENTS THEREFOR
    • G21F9/00—Treating radioactively contaminated material; Decontamination arrangements therefor
    • G21F9/001—Decontamination of contaminated objects, apparatus, clothes, food; Preventing contamination thereof
    • G21F9/005—Decontamination of the surface of objects by ablation
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/005—Separating solid material from the gas/liquid stream
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/02—Cleaning by the force of jets or sprays

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Food Science & Technology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Measurement Of Radiation (AREA)

Abstract

본 발명은 방사능에 오염된 표면을 워터젯을 이용하여 식각시켜 빠른 처리와 높은 제염 특성을 나타내는 제염 장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 내부에 공간이 형성된 방사능 제거를 위한 제품을 수용하는 케이스; 상기 케이스 내부에 위치하며, 상기 제품을 이송하는 컨베이어; 상기 제품에 워터젯을 분사하여 제품 표면의 방사능 오염 부위를 식각하는 워터젯장치; 투입된 상기 제품의 방사능을 측정하는 방사능 측정기; 상기 방사능 측정기의 측정량에 따라 상기 워터젯장치를 제어하는 제어장치; 및 상기 식각에 의하여 배출되는 방사능 물질을 분리하고 나머지 물질을 워터젯 장치로 다시 순환시키는 처리장치를 포함한다.An object of the present invention is to provide a decontamination apparatus capable of rapid treatment and high decontamination characteristics by etching a surface contaminated with radioactivity using a water jet.
According to an aspect of the present invention, there is provided an apparatus for removing radioactivity, A conveyor located inside the case and conveying the product; A water jet device for spraying a water jet on the product to etch the radioactive contamination site on the product surface; A radioactivity measuring device for measuring radioactivity of the introduced product; A controller for controlling the water jet apparatus according to a measured amount of the radiation measuring apparatus; And a processing apparatus for separating the radioactive material discharged by the etching and circulating the remaining material back to the water jet apparatus.

Description

표면 방사능 물질의 제염 장치{Cleaning device of radioactive contaminated surface}[0001] The present invention relates to a cleaning device for radioactive contaminated surfaces,

본 발명은 표면 방사능 물질의 제염 장치에 관한 것으로 더욱 상세하게는 원자력 발전소 등에 사용되어 표면이 방사능으로 오염된 물체의 오염 표면을 제거하기 위한 표면 방사능 물질의 제염 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a decontamination apparatus for a surface radioactive material, and more particularly to a decontamination apparatus for a surface radioactive material for removing a contaminated surface of an object whose surface is contaminated with radioactivity.

일반적으로, 원자력 관련시설에서 사용하고 수명을 다하여 폐기해야 하는 원자로 장치나 장비들 중에는 방사능에 오염된 것들이 대부분이다.Generally, most of the reactor equipment and equipment that are used in nuclear facilities and that have to be disposed of at the end of their lifetime are contaminated with radioactivity.

이와 같이 방사능에 오염된 건축물, 설비, 기계장치, 구조물 등은 단순히 매립하거나 소각하지 못하고 반드시 방사능을 제거하는 제염 및 절단 등의 감용처리를 한 뒤 원자력법 및 환경법상의 규정에 따라 처리되어야 하고, 이러한 규정에 따라 종래에 많은 제염처리들이 수행되어 왔다.Such buildings, facilities, machinery, and structures contaminated with radioactivity should not be simply buried or incinerated, but must be disposed of in accordance with the provisions of the Atomic Energy Act and Environmental Law, after decontamination, such as decontamination and cutting, Many decontamination treatments have conventionally been performed in accordance with the regulations.

가장 간단하면서 많이 적용되는 방식은 수작업이다. 즉, 방사선에 오염된 장치 나 장비들의 제염을 사람이 직접 수행하는 방법이다. 그러나 이러한 수작업에 의한 제염은, 그 과정이 비효율적이고 미세한 틈새에 낀 오염물질의 제거에는 많은 시간이 소요될 뿐만 아니라, 제염과정에서 작업자의 신체오염 및 작업장 주변의 오염 확산이 발생되는 단점이 있었다.The simplest and most widely applied method is manual. That is, it is a method by which a person directly decontaminates radiation-contaminated devices or equipment. However, such manual decontamination has a disadvantage in that it takes a long time to remove the pollutants in the ineffective and fine gaps in the process, as well as the contamination of the workers in the decontamination process and contamination around the work site.

상기와 같이 수작업에 의한 제염과정은 제염 대상 장치를 제염통에 넣고 상기 제염통에 온수와 제염액을 일정한 비율로 채운다. 그리고 장치에 낀 오염 물질이 분리되도록 공기구의 오염정도에 따라 약 1~3시간 정도 유지한다.As described above, in the decontamination process by hand, the decontamination object device is placed in a denitrification tank and the denitrification tank is filled with hot water and decontamination liquid at a predetermined ratio. Keep it for about 1 ~ 3 hours depending on the degree of contamination of the air hole so that the pollutants deposited on the device are separated.

일정한 시간이 경과 후, 상기 장치를 빼내어 작업대 위에 올려놓고 제염지와 브러시 등을 사용하여 오염물질을 제염한 후 흐르는 물로 2~3차에 걸쳐 제염을 실시한다. 그러나, 상기와 같은 수작업에 의한 제염은 과다한 작업 소요시간과 제염 과정에서 발생하는 폐액 증가 및 굴곡부, 홀, 만곡부에 대한 제염은 어려운 실정이었다.After a certain period of time, the apparatus is taken out and put on a work table, and the pollutants are decontaminated using a cleansing paper and a brush, and decontamination is carried out with flowing water for 2 to 3 times. However, it has been difficult to decontaminate by bending parts, holes, and curved parts due to the excessive time required for the decontamination by manual operation, the increase of the waste liquid generated during the decontamination process, and the like.

상기와 같은 수작업에 의한 제염의 단점을 극복하기 위하여, 공개특허 제2004-50092호에는 드라이아이스 또는 중탄사나트륨을 첨가한 공기를 고압으로 분출하여 방사능으로 오염된 시설물들의 표면을 제염하는 장치가 개시되어있다.In order to overcome the disadvantages of manual decontamination as described above, Japanese Patent Laid-Open No. 2004-50092 discloses an apparatus for spraying air containing dry ice or sodium bicarbonate at a high pressure to decontaminate the surfaces of radioactive contaminated facilities .

특히 상기 특허는 이동식으로 구현하여 크기가 큰 시설물들에 필요한 위치에서 제염을 할 수 있는 효과가 있다.Particularly, the above-mentioned patent can be implemented as a portable type, and it is effective to decontaminate at a necessary position for facilities having a large size.

그러나 공기를 매개로 제염하는 기본적인 구성에서 종래 수작업에 의한 화학적 처리 방법에 비하여 처리 정도가 한계를 나타내는 단점이 있으며, 또한 수동으로 사용해야 하므로, 크기가 크지 않은 장비 등의 제염에는 처리 속도가 낮은 단점이 있다.However, in the basic construction for decontaminating air, there is a disadvantage in that the degree of processing is limited compared with the conventional chemical processing method by hand, and since it must be used manually, there is a disadvantage in that the processing speed is low for decontamination of equipment having a small size have.

한편, 공개특허 제2006-0060373호에는 고압 살수를 이용하여 공기구의 오염을 제거하는 이동형 고압 제염장치가 개시되어 있다.On the other hand, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2006-0060373 discloses a portable high pressure decontamination apparatus for removing contamination of an air port by using high-pressure spraying.

상기 특허는 비교적 작은 크기의 장비나 장치를 신속히 제염할 수 있는 장점이 있으나, 역시 높은 제염 효율을 기대하기에는 무리가 있다.The above patent has the advantage of rapidly decontaminating equipment or apparatus of relatively small size, but it is also difficult to expect high decontamination efficiency.

따라서, 이동성이 있는 장비 및 장치를 높은 제염성 및 빠른 처리 속도를 갖는 제염 처리 장치가 필요한 실정이다.
Therefore, there is a need for a decontamination apparatus having a high demineralization property and a high processing speed for equipment and apparatus having mobility.

본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 단점을 극복하기 위하여 안출된 것으로 방사능에 오염된 표면을 워터젯을 이용하여 식각시켜 빠른 처리와 높은 제염 특성을 나타내는 제염 장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
Disclosure of Invention Technical Problem [8] Accordingly, the present invention has been made keeping in mind the above problems occurring in the prior art, and an object of the present invention is to provide a decontamination apparatus having a high treatment rate and high decontamination characteristics by etching a surface contaminated with radioactivity using a water jet.

상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 내부에 공간이 형성된 방사능 제거를 위한 제품을 수용하는 케이스; 상기 케이스 내부에 위치하며, 상기 제품을 이송하는 컨베이어; 상기 제품에 워터젯을 분사하여 제품 표면의 방사능 오염 부위를 식각하는 워터젯장치; 투입된 상기 제품의 방사능을 측정하는 방사능 측정기; 상기 방사능 측정기의 측정량에 따라 상기 워터젯장치를 제어하는 제어장치; 및 상기 식각에 의하여 배출되는 방사능 물질을 분리하고 나머지 물질을 워터젯 장치로 다시 순환시키는 처리장치를 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided an apparatus for removing radioactivity, A conveyor located inside the case and conveying the product; A water jet device for spraying a water jet on the product to etch the radioactive contamination site on the product surface; A radioactivity measuring device for measuring radioactivity of the introduced product; A controller for controlling the water jet apparatus according to a measured amount of the radiation measuring apparatus; And a processing apparatus for separating the radioactive material discharged by the etching and circulating the remaining material back to the water jet apparatus.

바람직하게는, 상기 컨베이어는 상기 제품의 하부에서도 워터젯에 의한 식각이 발생할 수 있도록 롤러형인 것을 특징으로 한다.Preferably, the conveyor is a roller type so that etching by water jet may occur in the lower part of the product.

바람직하게는, 상기 워터젯장치는 노즐, 고압펌프, 수통을 포함하며, 상기 노즐의 측면에는 연마제박스에서 연마제가 공급되어 물과 연마제의 혼합 워터젯이 분사되는 것을 특징으로 한다.Preferably, the water jet apparatus includes a nozzle, a high-pressure pump, and a water bottle. An abrasive is supplied to the side surface of the nozzle in an abrasive box, and a mixed water jet of water and an abrasive is sprayed.

더욱 바람직하게는, 상기 노즐은 상기 제품의 이동 방향으로 30도 이상 60도 이하의 각도로 하나 이상이 설치되는 것을 특징으로 한다.More preferably, the at least one nozzle is installed at an angle of not less than 30 degrees and not more than 60 degrees in a moving direction of the product.

더욱 바람직하게는, 상기 노즐에 공급되는 물의 압력은 3,000bar 이상 5,000bar 이하인 것을 특징으로 한다.More preferably, the pressure of the water supplied to the nozzle is 3,000 bar to 5,000 bar.

바람직하게는, 상기 노즐 끝단의 직경은 0.08mm이상 0.12mm이하인 것을 특징으로 한다.Preferably, the nozzle end has a diameter of 0.08 mm or more and 0.12 mm or less.

바람직하게는, 상기 수통으로 외부의 보충수가 공급되는 것을 특징으로 한다.Preferably, the replenishing water supplied to the outside is supplied to the water tub.

바람직하게는, 상기 수통으로 외부의 보충수와 제염제가 공급되는 것을 특징으로 하는 표면 방사능 물질의 제염 장치.Preferably, the external water and the decontamination agent are supplied to the decontamination apparatus of the surface radioactive material.

바람직하게는, 상기 처리장치는 상기 케이스 하부에서 배출되는 방사능 폐기물을 분리하는 필터, 및 상기 필터에서 여과된 물질의 연마제 성분을 분리하여 상기 연마제박스로 공급하고 여과된 물질을 상기 수통으로 공급하는 미세필터를 포함하는 것을 특징으로 한다.Preferably, the treatment apparatus further comprises a filter for separating the radioactive waste discharged from the lower portion of the case, and a fine filter for separating the abrasive component of the substance filtered in the filter, supplying the filtered substance to the abrasive box, And a filter.

바람직하게는, 상기 처리장치는 상기 케이스 하부에서 배출되는 방사능 폐기물을 분리하는 필터, 상기 필터에서 여과된 물질의 연마제 성분을 분리하여 상기 연마제박스로 공급하고 여과된 물질을 상기 수통으로 공급하는 미세필터, 상기 미세필터에서 여과된 일부의 물질을 증류하는 증류기 및 상기 증류기에서 증류된 물질을 응축시키고 응축된 물질을 상기 수통으로 공급하는 응축기를 포함하는 것을 특징으로 한다.Preferably, the processing apparatus further comprises a filter for separating the radioactive waste discharged from the lower portion of the case, a fine filter for separating the abrasive component of the substance filtered in the filter, supplying the filtered abrasive product to the abrasive box, A distiller for distilling a part of the material filtered in the fine filter, and a condenser for condensing the distilled material in the distiller and supplying the condensed material to the water tub.

바람직하게는, 상기 방사능 측정기는 상기 컨베이어 상하위치에 하나 이상 설치되어 제품의 방사능 강도를 감지하여 상기 제어장치로 출력하고, 상기 제어장치는 제염작업이 완료된 제품의 방사능 강도가 일정 이상인 경우 상기 컨베이어를 역회전시켜 초기 투입 위치로 제품을 이송제어 하는 것을 특징으로 한다.
Preferably, the radiation measuring device is installed at one or more upper and lower positions of the conveyor so as to detect the radiation intensity of the product and output the detected radiation intensity to the control device. When the radioactivity intensity of the decontaminated product is higher than a predetermined level, And the product is transported to the initial insertion position by reverse rotation.

본 발명에 따른 표면 방사능 물질의 제염 장치는 워터젯을 이용하여 오염된 물체의 표면을 식각을 통하여 제거하는 것으로 제염 특성이 우수한 효과가 있으며, 물체의 변형, 잔류 응력, 미세 균열 및 화학적 변형이 발생하지 않아 제염이 끝난 물체의 기본적인 특성을 유지할 수 있는 효과가 있으며, 열처리 등에 의하여 기존의 방식으로 제염이 어려운 물체도 제염할 수 있는 효과가 있으며, 가스 생성물, 분진 등이 발생되지 않아 제염 환경이 우수한 효과가 있으며, 전처리가 필요치 않아 공정이 단순하며, 처리 속도가 빠른 효과가 있으며, 또한 물체의 형상에 영향을 받지 않는 특성이 있어, 제염할 수 있는 대상이 매우 넓은 효과가 있다.
The apparatus for decontaminating a surface radioactive material according to the present invention removes the surface of a contaminated object by etching using a water jet, and has an excellent decontamination property. The apparatus has deformation, residual stress, microcracking and chemical deformation It has the effect of maintaining the basic characteristics of the decontaminated object, and it has the effect of decontaminating the object which is difficult to decontaminate by the conventional method by the heat treatment, etc., and the decontamination environment is excellent because the gas product, There is no need for a pretreatment, so that the process is simple, the treatment speed is fast, and the characteristics of the object are not influenced by the shape of the object.

도 1은 본 발명에 따른 방사능 물질의 제염 장치 중 식각장치의 구성을 나타낸 설명도이며,
도 2는 도 1의 워터젯 노즐의 배치 상태를 설명하는 설명도이며,
도 3은 도 1의 워터젯 장치의 구성을 나타내는 설명도이며,
도 4는 물과 연마제를 사용하는 방사능 물질의 제염 장치 중 처리장치의 구성을 나타내는 설명도이며,
도 5는 물, 제염제 및 연마제를 사용하는 방사능 물질의 제염 장치 중 처리장치의 구성을 나타내는 설명도이다.1 is an explanatory view showing a configuration of an etching apparatus in a decontamination apparatus for a radioactive material according to the present invention,
Fig. 2 is an explanatory view for explaining an arrangement state of the water jet nozzle of Fig. 1,
Fig. 3 is an explanatory view showing a configuration of the water jet apparatus of Fig. 1,
Fig. 4 is an explanatory view showing the structure of a treatment apparatus in a decontamination apparatus for radioactive material using water and an abrasive,
Fig. 5 is an explanatory diagram showing the structure of a decontamination apparatus for decontaminating a radioactive material using water, a decontamination agent and an abrasive. Fig.

이하 본 발명을 첨부한 도면을 참조하여 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명에 따른 표면 방사능 물질의 제염 장치(300)는 제염 대상 물체(1)의 표면을 식각하는 식각장치(100)와 식각에 의하여 발생하는 방사성 폐기물을 처리하는 처리장치(200)를 포함하여 구성된다.An apparatus 300 for decontaminating a surface radioactive material according to the present invention includes an etching apparatus 100 for etching a surface of an object 1 to be decontaminated and a processing apparatus 200 for processing radioactive waste generated by etching do.

먼저, 식각장치(100)는 고압의 워터젯을 이용하여 물체(1)의 표면을 식각하는 기능을 하는 것으로 도 1에 도시된 바와 같이, 케이스(10), 컨베이어(20), 방사성 측정기(30), 워터젯장치(40) 및 제어장치(60)를 포함하여 구성된다.First, the etching apparatus 100 functions to etch the surface of the object 1 using a high-pressure water jet. As shown in FIG. 1, the case 10, the conveyor 20, the radiometer 30, A water jet apparatus 40, and a control apparatus 60. [0033]

상기 케이스(10)는 내부에 다수의 장치들을 수용할 수 있는 공간이 형성되며, 좌우측에는 물체(1)의 이송을 위하여 개방형태로 구성되나, 필요한 경우 내부 물의 유출을 방지하기 위하여 입구도어(11) 및 출구도어(12)가 형성될 수 있다. 상기 도어(11, 12)는 수동으로 작동되나, 역시 필요한 경우 상기 제어장치(60)의 제어에 의하여 자동으로 작동될 수 있도록 구현될 수 있다.In the case 10, a space for accommodating a plurality of devices is formed therein. In the left and right sides of the case 10, an opening is provided for transporting the object 1. However, if necessary, an inlet door 11 And an outlet door 12 may be formed. The doors 11 and 12 may be manually operated, but may also be implemented to be automatically activated by control of the controller 60 if necessary.

한편, 상기 케이스(10) 내부에는 길이 방향으로 컨베이어(20)가 위치한다. 상기 컨베이어(20)는 상기 물체(1)를 이동시키는 것으로 특히 이동 중 오염된 표면이 식각되므로 컨베이어(20) 사이가 노출이 되는 롤러형이 적합하다. 롤러형은 도 1에 도시된 바와 같이 다수의 롤러(21)를 포함하며, 상기 롤러(21)들의 회전에 의하여 물체(1)가 이동한다. 상기 컨베이어(20) 역시 상기 제어장치(60)에 의하여 그 동작이 제어된다.On the other hand, a conveyor 20 is disposed in the case 10 in the longitudinal direction. The conveyor 20 is preferably a roller type in which the object 1 is moved, and in particular, the contaminated surface is etched during transportation, so that the conveyor 20 is exposed. The roller type includes a plurality of rollers 21 as shown in Fig. 1, and the object 1 moves by the rotation of the rollers 21. Fig. The operation of the conveyor 20 is also controlled by the control device 60. [

상기 컨베이어(20) 시작점 상단 및 하단에는 방사능 측정기(30)가 위치한다. 또한 필요한 경우 상기 컨베이어(20)의 종료점에도 방사능 측정기(30)가 위치할 수 있다. 이때, 상기 컨베이어(20) 시작점 상단 및 하단에 위치하는 방사능 측정기(30)는 초기 제품(1)이 투입될 경우 제품(1)의 방사능 정도를 측정하고, 종료점 상단 및 하단 방사능 측정기(30)는 제염이 완료된 제품(1)의 방사능을 측정하여 젬염의 정도를 판정할 수 있다.At the upper and lower ends of the starting point of the conveyor 20, a radiation measuring device 30 is located. Also, if necessary, the radiation measuring device 30 may be positioned at the end point of the conveyor 20. At this time, the radiation measuring device 30 located at the upper and lower ends of the starting point of the conveyor 20 measures the radiation level of the product 1 when the initial product 1 is inserted, and the end point upper and lower radiation measuring devices 30 The degree of the gem salt can be determined by measuring the radioactivity of the decontaminated product (1).

상기 방사능 측정기(30)에서 측정된 값은 상기 제어장치(60)에 출력되어 상기 제어장치(60)는 제품(1)의 방사능 오염 정도를 판정할 수 있다.The value measured by the radiation measuring device 30 is output to the control device 60 so that the control device 60 can determine the degree of radioactive contamination of the product 1. [

또한, 상기 컨베이어(20)의 상단 및 하단에는 워터젯장치(40)의 노즐(41)이 위치한다. 상기 노즐(41)은 고압의 물을 분사하는 장치로 분사된 물이 물체(1)의 표면에 부딪혀 물체(1)의 표면이 식각된다.The nozzles 41 of the water jet apparatus 40 are positioned at the upper and lower ends of the conveyor 20. The nozzle (41) collides with the surface of the object (1) with water sprayed by a device for spraying high-pressure water to etch the surface of the object (1).

이때 상기 노즐(41)의 분사 방향은 도 2에 도시된 바와 같이 제품(1)의 이동 방향과 일정한 각 a를 가지며, 특히 제품(1)의 측면 식각을 위하여 상기 각은 30에서 60도 정도가 바람직하다.At this time, the spraying direction of the nozzle 41 has a constant angle a with respect to the moving direction of the product 1, as shown in FIG. 2. Especially, for the side etching of the product 1, the angle is about 30 to 60 degrees desirable.

또한 상기 노즐(41)은 도 2에 도시된 바와 같이 A위치에 상하로 설치될 수 있고, B위치에서 상하로 설치될 수 있다. 필요한 경우 A, B 모든 위치에 4개가 설치될 수 있으며, 4개가 설치되는 경우 제품(1)의 측면 식각에서도 탁월한 효과를 나타낼 수 있다.2, the nozzle 41 may be installed vertically at the A position, and vertically installed at the B position. If necessary, four pieces can be installed at all positions A and B, and when four pieces are provided, excellent effects can be obtained even in the side etching of the product (1).

또한, 필요한 경우 상기 노즐(41)은 별도의 이송장치에 의하여 케이스(10) 내부에서 상하 좌우로 이동할 수 있게 구현될 수 있으며, 또한 노즐(41)의 각도도 조절하게 설치될 수 있다. 이런 구성의 경우에는 상기 이송장치가 제어장치(60)에 의하여 제어되면, 가장 높은 식각 효율을 나타낼 수 있다.In addition, if necessary, the nozzle 41 can be moved vertically and horizontally in the case 10 by a separate transfer device, and the angle of the nozzle 41 can also be adjusted. In the case of such a configuration, if the transfer device is controlled by the control device 60, the highest etching efficiency can be exhibited.

한편, 상기 각 a가 30도 이하가 되는 경우 제품(1)의 평면 식각이 불충분할 수 있으며, 60도 이상인 경우에는 제품(1) 측면의 식각이 불충분할 수 있다.On the other hand, when the angle a is less than 30 degrees, the plane etching of the product 1 may be insufficient, and if the angle a is more than 60 degrees, the etching of the side of the product 1 may be insufficient.

한편, 상기 워터젯장치(40)는 도 3에 도시된 바와 같은 구성을 포함한다. On the other hand, the water jet apparatus 40 includes a configuration as shown in FIG.

수통(42)이 구비되고, 상기 수통(42)은 내부에 물을 포함하고 있다.A water can 42 is provided, and the water can 42 contains water.

상기 수통(42)의 물은 고압펌프(43)에 의하여 가압되어 고압라인(44)을 통하여 상기 노즐(41)에 공급된다. The water in the water tub 42 is pressurized by the high-pressure pump 43 and supplied to the nozzle 41 through the high-pressure line 44.

이때, 상기 물은 필요한 경우 제염제가 추가될 수도 있다.At this time, the water may be added with a decontamination agent if necessary.

또한, 상기 노즐(41)의 측면에는 별도의 공급라인(45)이 연결되어 있으며, 상기 공급라인(45)은 연마제박스(46)에 의하여 연마제가 추가로 공급되며, 상기 노즐(41)은 고압수의 진행 방향에 따라 단면적이 점진적으로 감소하므로 고압수의 유속이 급격히 빨라지며, 이러한 유속에 의하여 상기 공급라인(45)을 통하여 공급되는 연마제와 혼합된 워터젯이 제품(1)에 분사되어 식각 능력을 향상시키게 된다.A separate supply line 45 is connected to the side surface of the nozzle 41. The supply line 45 is further supplied with an abrasive product by the abrasive box 46. The nozzle 41 is a high- The flow rate of the high-pressure water is rapidly increased, and the water jet mixed with the abrasive supplied through the supply line 45 is jetted onto the product 1 due to the flow velocity, .

한편, 상기 노즐(41)에 공급되는 물의 압력은 3,000bar에서 5,000bar로 공급한다. 압력이 3,000bar 미만인 경우에는 워터젯의 속도가 충분하지 않아, 제염이 제대로 수행되지 않는 단점이 있으며, 5,000bar를 초과하는 경우 워터젯의 속도가 너무 빨라 워터젯의 제어가 어려우며, 또한 제품(1)이 손실될 우려가 있어 부적합하다.On the other hand, the pressure of the water supplied to the nozzle 41 is 3,000 to 5,000 bar. If the pressure is less than 3,000 bar, the water jet speed is not sufficient and the decontamination is not performed properly. If the pressure exceeds 5,000 bar, the water jet is too fast to control the water jet, There is a possibility of becoming unsuitable.

또한, 상기 노즐(41) 끝단의 직경은 0.08mm에서 0.12mm가 적절하다.The diameter of the end of the nozzle 41 is preferably 0.08 mm to 0.12 mm.

상기 워터젯은 상기 노즐(41)에서 적어도 1000m/s의 속도를 가지는 것이 식각에 적합하고, 상기 노즐(41)의 직경이 0.08mm미만인 경우에는 너무 높은 속도가 나오고, 또한 노즐(41)의 막힘이 자주 발생하여 유지보수에 어려움이 있고, 0.12mm를 초과하는 경우 워터젯의 속도가 제대로 나오지 않아 부적합하다.If the diameter of the nozzle 41 is less than 0.08 mm, the water jet is too high in speed and the nozzle 41 is clogged. It is frequent and difficult to maintain. If it exceeds 0.12mm, it is not suitable because the speed of water jet does not come out properly.

한편, 상기 방사능 측정기(30), 워터젯장치(40), 컨베이어(20)는 제어장치(60)를 통하여 제어된다. 제품(1)이 투입되면, 먼저 방사능 측정기(30)에 의하여 방사능을 측정하고, 해당 값을 제어장치(60)로 출력한다. 상기 제어장치(60)는 상기 방사능 값을 기초로 워터젯장치(40)의 압력을 설정한다. 물론 방사능 값이 높을 경우에는 높은 압력을 방사능 값이 낮을 경우에는 낮은 압력으로 고압펌프(43)를 작동시켜 상기 노즐(41)의 통하여 분사되는 워터젯의 속도를 조절한다.The radiation measuring device 30, the water jet device 40, and the conveyor 20 are controlled through a control device 60. When the product 1 is charged, the radioactivity measuring device 30 first measures the radioactivity, and outputs the measured value to the control device 60. The controller (60) sets the pressure of the water jet apparatus (40) based on the radiation value. Of course, when the radioactivity value is high, the high pressure pump 43 is operated at a high pressure and at a low pressure when the radiation value is low, the speed of the water jet injected through the nozzle 41 is adjusted.

또한, 상기 방사능 측정기(30)는 필요한 경우 컨베이어(20) 후단부에도 추가하여 작업이 완료된 제품(1)의 방사능 값을 감지하여 제어장치(60)에 출력하면, 상기 제어장치(60)는 상기 방사능 값이 일정 이상인 경우에 상기 컨베이어(20)를 역회전시켜 제품(1)을 초기위치로 이송하고, 다시 작업을 수행할 수 있도록 제어될 수도 있다.The radioactivity measuring device 30 senses the radioactivity value of the finished product 1 in addition to the rear end of the conveyor 20 if necessary and outputs the radioactivity value to the control device 60, The conveyor 20 may be rotated in the reverse direction to transfer the product 1 to the initial position when the radioactivity value is equal to or more than a predetermined value, and to perform the operation again.

또한, 필요한 경우 입구도어(11) 및 출구도어(12)의 개폐를 제어할 수 있다.Further, it is possible to control opening and closing of the inlet door 11 and the outlet door 12, if necessary.

또한, 노즐(41)이 이송장치와 결합되어 케이스(10) 내부에서 이동 가능한 형태로 구현되는 경우 상기 노즐(41)의 분사 위치를 적절히 제어할 수 있다.In addition, when the nozzle 41 is combined with the conveying device to be movable in the case 10, the injection position of the nozzle 41 can be appropriately controlled.

다음은 본 발명에 따른 표면 방사능 물질의 제염 장치(300)의 식각장치(100)에 의하여 발생하는 방사성 폐기물을 처리하는 처리장치(200)에 대하여 구체적으로 설명한다.Next, the treatment apparatus 200 for treating radioactive waste generated by the etching apparatus 100 of the apparatus 300 for decontaminating surface radioactive materials according to the present invention will be described in detail.

먼저, 물과 연마제만을 이용하여 식각하는 장치에서 폐기물을 처리하는 처리장치(200)의 구성은 도 4에 도시되어 있다.First, the construction of a processing apparatus 200 for treating waste in an apparatus for etching using only water and abrasive is shown in FIG.

상기 도 4에 도시된 바와 같이, 식각장치(100)를 통하여 제품(1)을 식각하는 경우 케이스(10)의 하단에서 수폐기물과 제품(1)에서 탈락된 방사능 폐기물이 혼합되어 배출된다.4, when the product 1 is etched through the etching apparatus 100, the water waste and the radioactive waste dropped from the product 1 are mixed and discharged from the lower end of the case 10.

상기 폐기물은 필터(210)에 의하여 여과되고, 상기 필터(210)를 통과하지 않은 잔여물은 분리되어 폐기된다.The wastes are filtered by a filter 210, and residues that have not passed through the filter 210 are separated and discarded.

상기 필터(210)를 통과한 폐기물은 미세필터(220)에 의하여 다시 여과되며, 상기 미세필터(220)에 의하여 여과되지 않은 고체성분은 연마제박스(46)에 공급하여 연마제로 재활용된다.The waste that has passed through the filter 210 is filtered again by the fine filter 220 and the solid component that has not been filtered by the fine filter 220 is supplied to the abrasive box 46 and recycled as an abrasive.

상기 미세필터(220)을 통하여 여과된 성분은 대부분 물이므로 상기 수통에 유입되어 재활용된다.Since the components filtered through the fine filter 220 are mostly water, they are introduced into the water tub and recycled.

여기서, 상기 필터(210)와 상기 미세필터(220)는 단위 필터들이 조합된 복수의 필터 시스템이며, 필터 시스템의 구조 및 방식은 폐기물의 특성에 따라 적절히 선택될 수 있으며, 필요한 경우 에너지를 공급하는 능동형으로 구현할 수 있다.Here, the filter 210 and the fine filter 220 are a plurality of filter systems in which unit filters are combined, and the structure and the method of the filter system can be appropriately selected according to the characteristics of the waste, It can be implemented as an active type.

한편, 물, 연마제 및 제염제가 혼합된 워터젯을 이용한 식각장치(100)에서 발생되는 폐기물을 처리하는 처리장치(200)의 구성은 도 5에 도시되어 있다.On the other hand, the configuration of the processing apparatus 200 for treating the waste generated in the etching apparatus 100 using the water jet mixed with water, abrasive and decontamination is shown in Fig.

상기 도 5에 도시된 바와 같이, 기본적인 처리 절차는 도 4의 구성과 동일하나, 메세필터(220)에서 여과된 물질의 처리에서 차이가 난다.As shown in FIG. 5, the basic processing procedure is the same as that of FIG. 4, but differs in the processing of the material filtered in the mesh filter 220.

도 4에서는 미세필터(220)에서 여과된 물질이 모두 수통(42)으로 공급되나, 제염제가 추가된 경우에는 일부의 물질을 바이패스시켜, 증류기(230)에서 증류시키며, 증류기의 부산물은 제염제 등의 성분이므로 분리하여 폐기시킨다.In FIG. 4, all of the filtered material in the fine filter 220 is supplied to the receptacle 42, but when a decontamination agent is added, some materials are bypassed and distilled in the still 230, And so on.

상기 증류기(230)를 통과한 물질은 응축기(240)에서 응축시킨다. 상기 응축기(240)에서 응축되는 물질은 대부분 순수이므로 상기 순수는 수통(42)으로 공급한다. 그리고 수통(42)에 공급되는 보충수는 제염제를 혼합하여 공급한다. 상기 제염제의 양은 상기 증류기(240)의 부산물의 양과 연동하여 조절하면 된다.The material passing through the still 230 is condensed in the condenser 240. Since most of the condensed material in the condenser 240 is pure water, the purified water is supplied to the water can 42. The makeup water supplied to the water can 42 is mixed with a decontamination agent and supplied. The amount of the decontamination agent may be adjusted by interlocking with the amount of the by-product of the distiller 240.

본 발명에 따른 처리장치(200)는 케이스(10)를 밀봉하는 경우 높은 폐기물 회수율을 나타내고, 별도의 전처리 및 후처리 과정이 필요없이 단일 시스템으로 방사능 물질을 처리할 수 있는 특징이 있다.
The processing apparatus 200 according to the present invention exhibits a high waste recovery rate when the case 10 is sealed and is characterized in that the radioactive material can be treated with a single system without any separate pretreatment and post-treatment steps.

이상에서는 본 발명을 특정의 바람직한 실시예에 대하여 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 이러한 실시예에 한정되지 않으며, 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 실시할 수 있는 다양한 형태의 실시예들을 모두 포함한다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, And all of the various forms of embodiments that can be practiced without departing from the technical spirit.

1: 제품 10: 케이스
11: 입구도어 12: 출구도어
20: 컨베이어 21: 롤러
30: 방사능 측정기 40: 워터젯장치
41: 노즐 42: 수통
43: 고압펌프 44: 고압라인
45: 공급라인 46: 연마제박스
60: 제어장치 100: 식각장치
200: 처리장치 210: 필터
220: 미세필터 230: 증류기
240: 응축기 300: 제염 장치1: Product 10: Case
11: entrance door 12: exit door
20: Conveyor 21: Roller
30: Radiometer 40: Water jet device
41: nozzle 42:
43: high pressure pump 44: high pressure line
45: supply line 46: abrasive box
60: control device 100: etching device
200: processing device 210: filter
220: fine filter 230: distiller
240: condenser 300: decontamination device

Claims (11)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 내부에 공간이 형성된 방사능 제거를 위한 제품을 수용하는 케이스;
상기 케이스 내부에 위치하며, 상기 제품을 이송하는 컨베이어;
상기 제품에 워터젯을 분사하여 제품 표면의 방사능 오염 부위를 식각하는 워터젯장치;
투입된 상기 제품의 방사능을 측정하는 방사능 측정기;
상기 방사능 측정기의 측정량에 따라 상기 워터젯장치를 제어하는 제어장치; 및 상기 식각에 의하여 배출되는 방사능 물질을 분리하고 나머지 물질을 워터젯 장치로 다시 순환시키는 처리장치를 포함하며,
상기 컨베이어는 상기 제품의 하부에서도 워터젯에 의한 식각이 발생할 수 있도록 롤러형이며,
상기 워터젯장치는 노즐, 고압펌프, 수통을 포함하며, 상기 노즐의 측면에는 연마제박스에서 연마제가 공급되어 물과 연마제의 혼합 워터젯이 분사되며,
상기 노즐은 상기 제품의 이동 방향으로 30도 이상 60도 이하의 각도로 하나 이상이 설치되며,
상기 노즐에 공급되는 물의 압력은 3,000bar 이상 5,000bar 이하인 것을 특징으로 하는 표면 방사능 물질의 제염 장치.
A case for accommodating a product for removing radioactivity with a space formed therein;
A conveyor located inside the case and conveying the product;
A water jet device for spraying a water jet on the product to etch the radioactive contamination site on the product surface;
A radioactivity measuring device for measuring radioactivity of the introduced product;
A controller for controlling the water jet apparatus according to a measured amount of the radiation measuring apparatus; And a processing apparatus for separating the radioactive material discharged by the etching and circulating the remaining material back to the water jet apparatus,
The conveyor is roller-shaped so that etching by waterjet may occur in the lower part of the product,
The water jet apparatus includes a nozzle, a high-pressure pump, and a water bottle. An abrasive is supplied to the side of the nozzle from an abrasive box, and a mixed water jet of water and an abrasive is sprayed.
Wherein at least one nozzle is installed at an angle of not less than 30 degrees and not more than 60 degrees in a moving direction of the product,
Wherein the pressure of the water supplied to the nozzle is 3,000 bar or more and 5,000 bar or less.
청구항 5에 있어서, 상기 노즐 끝단의 직경은 0.08mm이상 0.12mm이하인 것을 특징으로 하는 표면 방사능 물질의 제염 장치.
The apparatus for decontaminating a surface radioactive material according to claim 5, wherein the diameter of the nozzle tip is 0.08 mm or more and 0.12 mm or less.
청구항 5에 있어서, 상기 수통으로 외부의 보충수가 공급되는 것을 특징으로 하는 표면 방사능 물질의 제염 장치.
The decontamination apparatus for a surface radioactive material according to claim 5, wherein supplement water is supplied to the outside from the water tub.
청구항 5에 있어서, 상기 수통으로 외부의 보충수와 제염제가 공급되는 것을 특징으로 하는 표면 방사능 물질의 제염 장치.
The apparatus for decontaminating a surface radioactive material according to claim 5, wherein the external water and the decontamination agent are supplied to the water tank.
청구항 7에 있어서, 상기 처리장치는 상기 케이스 하부에서 배출되는 방사능 폐기물을 분리하는 필터, 및 상기 필터에서 여과된 물질의 연마제 성분을 분리하여 상기 연마제박스로 공급하고 여과된 물질을 상기 수통으로 공급하는 미세필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면 방사능 물질의 제염 장치.
8. The apparatus of claim 7, wherein the processing apparatus further comprises a filter for separating radioactive waste discharged from the lower portion of the case, and a separator for separating the abrasive component of the substance filtered in the filter and supplying the filtered substance to the abrasive box, Characterized in that it comprises a fine filter.
청구항 8에 있어서, 상기 처리장치는 상기 케이스 하부에서 배출되는 방사능 폐기물을 분리하는 필터, 상기 필터에서 여과된 물질의 연마제 성분을 분리하여 상기 연마제박스로 공급하고 여과된 물질을 상기 수통으로 공급하는 미세필터, 상기 미세필터에서 여과된 일부의 물질을 증류하는 증류기 및 상기 증류기에서 증류된 물질을 응축시키고 응축된 물질을 상기 수통으로 공급하는 응축기를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면 방사능 물질의 제염 장치.
[Claim 9] The apparatus of claim 8, wherein the processing apparatus further comprises: a filter for separating radioactive waste discharged from the lower portion of the case; a fine filter for separating the abrasive component of the filtered material from the filter and supplying the filtrate to the abrasive box, And a condenser for condensing the distilled material from the distiller and supplying the condensed material to the water tub. The apparatus for decontaminating a surface radioactive material according to claim 1,
청구항 5에 있어서, 상기 방사능 측정기는 상기 컨베이어 상하위치에 하나 이상 설치되어 제품의 방사능 강도를 감지하여 상기 제어장치로 출력하고, 상기 제어장치는 제염작업이 완료된 제품의 방사능 강도가 일정 이상인 경우 상기 컨베이어를 역회전시켜 초기 투입 위치로 제품을 이송제어 하는 것을 특징으로 하는 표면 방사능 물질의 제염 장치.
[6] The apparatus according to claim 5, wherein the radiation measuring device is installed at one or more upper and lower positions of the conveyor to detect the radiation intensity of the product and output the detected radiation intensity to the control device. When the radioactivity intensity of the product, To control the transfer of the product to the initial insertion position.
KR1020120037601A 2012-04-10 2012-04-10 Cleaning device of radioactive contaminated surface KR101393112B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120037601A KR101393112B1 (en) 2012-04-10 2012-04-10 Cleaning device of radioactive contaminated surface

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120037601A KR101393112B1 (en) 2012-04-10 2012-04-10 Cleaning device of radioactive contaminated surface

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20130115048A KR20130115048A (en) 2013-10-21
KR101393112B1 true KR101393112B1 (en) 2014-05-09

Family

ID=49634816

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020120037601A KR101393112B1 (en) 2012-04-10 2012-04-10 Cleaning device of radioactive contaminated surface

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101393112B1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101986094B1 (en) * 2017-08-11 2019-06-05 주식회사 오리온이엔씨 System for decontaminating radioactive polluted water

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100307040B1 (en) * 1998-09-01 2001-11-30 이종훈 Ultra High Pressure Salt Salt Plant
KR100720860B1 (en) * 2005-09-15 2007-05-21 정희우 system of washing shoes contaminated by radioactivity

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100307040B1 (en) * 1998-09-01 2001-11-30 이종훈 Ultra High Pressure Salt Salt Plant
KR100720860B1 (en) * 2005-09-15 2007-05-21 정희우 system of washing shoes contaminated by radioactivity

Also Published As

Publication number Publication date
KR20130115048A (en) 2013-10-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2292340B1 (en) Method for cleaning containers and cleaning machine
DE2107479C3 (en) Process for the decontamination of the surfaces of nuclear reactor components
JP2008026023A (en) Moving-type decontamination device
KR101924094B1 (en) Appartus for decontaminating the surface of a nuclear reactor structure
KR101393112B1 (en) Cleaning device of radioactive contaminated surface
KR101407706B1 (en) Decontamination Apparatus for Radioactive Waste Using High Pressure Water Jet
KR200453211Y1 (en) Shield plate decontamination device
JP2008221135A (en) Washing method of dry type electrostatic dust precipitator
JP2007051842A (en) Plant washing method, asbestos removing method, demolition treatment method and mist generator
KR830002114B1 (en) How to remove contaminants
KR101590982B1 (en) Movable automatic radioactive decontamination apparatus and radioactive decontamination system using the same
JP2007155544A (en) Decontaminating apparatus and method
KR100925481B1 (en) An automatic decontamination equipment for lead blanket of nuclear power plant
KR101639651B1 (en) Automatic radioactive decontamination apparatus
JP2002311191A (en) Decontamination facility of radioactivity decontamination object
KR101360358B1 (en) Decontamination system for safety shoes
KR101143857B1 (en) Acid pickling apparatus to prevent noxious gas leakage
JP2022073835A (en) Radioactive incineration ash decontamination apparatus
KR100485973B1 (en) A preliminary acid cleansing device of a high radioactive contamination metal
US6907891B2 (en) Radioactive substance decontamination method and apparatus
JP2002116295A (en) Decontamination method and decontamination device
JP6419167B2 (en) Apparatus for treating at least one gaseous exhaust stream and corresponding treatment method
JPH06331795A (en) Method and equipment for decontaminating radioactive contaminated machine
JP2014219237A (en) Method for decontaminating radioactive material
DE102008060776A1 (en) Industrial plant for treating e.g. motor vehicle part, in treatment chamber, has treatment chamber arranged downstream to radiation chamber, where after-treatment of workpiece is associated with radiation of workpiece in treatment chamber

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170425

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180413

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190709

Year of fee payment: 6