KR101387613B1 - A display circuit board cleaning equipment - Google Patents

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KR101387613B1
KR101387613B1 KR1020120056138A KR20120056138A KR101387613B1 KR 101387613 B1 KR101387613 B1 KR 101387613B1 KR 1020120056138 A KR1020120056138 A KR 1020120056138A KR 20120056138 A KR20120056138 A KR 20120056138A KR 101387613 B1 KR101387613 B1 KR 101387613B1
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Abstract

본 발명은 디스플레이 기판 세정장치에 관한 것으로, 그 주된 목적은 세정을 위해 이송되는 기판이 이송용 롤러와의 접촉을 최소화하고, 세정장치 주변의 오염을 원천적으로 방지하여 보다 쾌적한 작업장 환경을 조성하며, 디스플레이 기판을 세정하되, 기판 상면 패턴의 손상을 최소화하고, 세정효율을 높이는 것이다.
이러한 목적을 이루기 위한 본 발명은,
디스플레이 기판 세정장치에 관한 것으로,
상기 세정장치는,
상기 세정수단과 상기 에어 나이프의 작동을 제어하도록 구비되는 중앙처리장치와, 상기 디스플레이 기판의 진입, 진출을 감지하여 상기 중앙처리장치에 전기적 신호를 발생시키는 제 1, 2감지수단과, 상기 제 1감지수단으로 부터 전달된 전기적 신호가 상기 중앙처리장치에서 연산된 신호에 따라 개폐되도록 상기 중앙처리장치와 전기적으로 연결된 제 1밸브와, 상기 제 2감지수단으로 부터 전달된 전기적 신호가 상기 중앙처리장치에서 연산된 신호에 따라 개폐되도록 상기 중앙처리장치와 전기적으로 연결된 제 2밸브와, 상기 에어 나이프 작동 후, 1 내지 5초 정도의 시차를 두고 상기 세정수단의 구동모터를 온/오프시키는 시차조절장치로 이루어진 콘트롤러를 포함한다.
이에 따라, 세정을 위해 이송되는 기판이 이송용 롤러와의 접촉을 최소화하고, 세정장치 주변의 오염을 원천적으로 방지하여 보다 쾌적한 작업장 환경을 조성하며, 디스플레이 기판을 세정하되, 기판 상면 패턴의 손상을 최소화하고, 거의 자동으로 세정작업이 이루어짐으로서 세정효율을 높이는 이점이 있다.The present invention relates to a display substrate cleaning device, the main object of which is to minimize the contact of the substrate is transferred to the roller for transport, and to prevent contamination around the cleaning device to create a more comfortable workplace environment, The display substrate is cleaned, but damage to the upper surface pattern of the substrate is minimized, and the cleaning efficiency is increased.
According to an aspect of the present invention,
To a display substrate cleaning device,
The cleaning device comprises:
A central processing unit provided to control the operation of the cleaning means and the air knife, first and second sensing means for detecting an entry and exit of the display substrate to generate an electrical signal to the central processing unit, and the first A first valve electrically connected to the central processing unit such that the electrical signal transmitted from the sensing unit is opened and closed according to a signal calculated by the central processing unit, and the electrical signal transmitted from the second sensing unit A second valve electrically connected to the central processing unit so as to be opened and closed according to a signal calculated by the control unit; It includes a controller consisting of.
Accordingly, the substrate to be transported for cleaning minimizes contact with the conveying roller, and prevents contamination around the cleaning device to create a more comfortable workplace environment, and cleans the display substrate, but does not damage the upper surface pattern of the substrate. There is an advantage to increase the cleaning efficiency by minimizing the cleaning operation almost automatically.

Figure R1020120056138
Figure R1020120056138

Description

디스플레이 기판 세정장치{A DISPLAY CIRCUIT BOARD CLEANING EQUIPMENT }Display Substrate Cleaning Equipment {A DISPLAY CIRCUIT BOARD CLEANING EQUIPMENT}

본 발명은 세정장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 세정할 디스플레이 기판 후면에 이송용 롤러와의 접촉을 최소화하면서, 세정용 브러쉬와 기판과의 접촉력 유지를 위해 음압발생장치를 이용하며, 콘트롤러의 의해 세정장치의 동작이 제어되는 디스플레이 기판 세정장치에 관한 것이다.The present invention relates to a cleaning apparatus, and more particularly, by using a negative pressure generating device to maintain the contact force between the cleaning brush and the substrate while minimizing the contact of the transfer roller on the back of the display substrate to be cleaned, A display substrate cleaning apparatus in which the operation of the cleaning apparatus is controlled.

일반적으로 디스플레이 기판을 세정하는 세정장치(10)(이하, "세정장치"라 칭한다)에 대해서는 여러가지가 알려져 오고 있다.Generally, the cleaning apparatus 10 which cleans a display substrate (henceforth a "washing apparatus") is known variously.

예를 들면, 도 1에 도시한 바와 같은 세정장치(10)가 그 대표적인 것으로, 그 내용은 다음과 같다.For example, the cleaning device 10 as shown in FIG. 1 is representative, and the contents thereof are as follows.

도시한 바를 참조하면, 종래의 세정장치(10)는 로딩부(1)와 세정부(2)와 건조부(3)로 구분된다.Referring to the illustration, the conventional cleaning device 10 is divided into a loading unit 1, the cleaning unit 2 and the drying unit (3).

로딩부(1)는 디스플레이 기판(20)(이하, "기판"이라 칭한다)을 공급하는 공정이며, 세정부(2)는 상기한 로딩부(1)에서 공급된 기판(20)을 세정하는 공정이고, 건조부(3)는 상기 세정부(2)에서 세정된 기판(20)을 건조시키는 공정이다.The loading unit 1 is a process of supplying the display substrate 20 (hereinafter referred to as a substrate), and the cleaning unit 2 is a process of cleaning the substrate 20 supplied from the loading unit 1. The drying unit 3 is a step of drying the substrate 20 cleaned by the cleaning unit 2.

이와 같은, 공정을 이루기 위한 세정장치(10)는 도시한 바와 같이, 프레임본체(11)의 길이방향으로 이송용 롤러(13)가 다수 배치되는데, 각 롤러(13)의 단부에는 더블 스프로켓(14)이 축결합되어, 하나의 모터(MT) 동작에 의해 연동하도록 하였으며, 이 이송용 롤러(13)의 구동에 따라 상부에 구비된 기판(20)이 이동하게 된다.As shown in the drawing, the cleaning apparatus 10 for achieving the process includes a plurality of transport rollers 13 arranged in the longitudinal direction of the frame body 11, and a double sprocket 14 at the end of each roller 13. ) Is axially coupled to each other by one motor (MT) operation, and the substrate 20 provided on the upper side moves according to the driving of the transfer roller 13.

이와 같이, 이동하는 기판(20)의 하측 방향, 다시 말해서 기판(20)의 후면으로 적어도 하나 이상의 세정 스프레이(30)가 구비되어 기판(20)의 하측 방향을 세정하는 것이다. In this way, at least one cleaning spray 30 is provided in the lower direction of the moving substrate 20, that is, the rear surface of the substrate 20 to clean the lower direction of the substrate 20.

이와 같이, 세정이 완료된 기판(20)은 다수열 배치된 에어 노즐(50)의 에어에 의해 건조되며 세정작업이 완료된다.As such, the cleaned substrate 20 is dried by the air of the air nozzle 50 arranged in a plurality of rows, and the cleaning operation is completed.

그러나. 상술한 바와 같은 종래의 세정장치의 경우, 하부에 접촉하는 이송용 롤러가 기판의 이송을 위해서는 불가피하게 많은 수량이 구비되어야 함으로서, 세정작업이 완료되어도 기판 하부에 롤러 자국이 남아 원활한 세정이 이루어지지 않는 문제가 있었다.But. In the case of the conventional cleaning device as described above, a large number of feed rollers in contact with the lower part is inevitably provided for the transfer of the substrate, so that even after the cleaning operation is completed, the roller marks remain on the lower part of the substrate to perform smooth cleaning. There was no problem.

또한, 세정 스프레이의 압력에 의해 분사되는 세정액이 주변으로 튀면서 세정장치 주변이 오염되는 문제가 있었다.In addition, there is a problem that the surroundings of the cleaning apparatus are contaminated while the cleaning liquid sprayed by the pressure of the cleaning spray splashes around.

또한, 상기한 세정 스프레이의 압력에 의해 세정액이 기판 상면의 패턴을 오염시켜, 패턴의 불량이 다발하는 문제가 있었다.Moreover, the cleaning liquid contaminated the pattern on the upper surface of the substrate by the pressure of the cleaning spray described above, and there was a problem that the defect of the pattern was frequent.

또한, 상기한 세정액의 압력에 의해 기판이 상방향으로 유동하며 이탈함으로서, 세정 효율이 떨어지는 문제가 있었다.In addition, there is a problem that the cleaning efficiency is lowered because the substrate flows upward due to the pressure of the cleaning liquid.

또한, 세정 스프레이는 작업자가 수동으로 작동함으로서, 세정작업이 이루어지지 않고 지나치는 경우가 잦아 세정불량이 다발하는 문제가 있었다.In addition, since the cleaning spray is operated manually by the operator, the cleaning operation is often not performed, and there is a problem in that the poor cleaning occurs.

본 발명은 상술한 바와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 세정을 위해 이송되는 기판이 이송용 롤러와의 접촉을 최소화하는데 있다.The present invention has been made to solve the conventional problems as described above, the object of the present invention is to minimize the contact of the substrate to be transported for cleaning with the transport roller.

또한, 본 발명의 다른 목적은 세정장치 주변의 오염을 원천적으로 방지하여 보다 쾌적한 작업장 환경을 조성하는데 있다. In addition, another object of the present invention is to prevent contamination around the cleaning apparatus at the source to create a more comfortable workplace environment.

또한, 본 발명의 또 다른 목적은 디스플레이 기판을 세정하되, 기판 상면 패턴의 손상을 최소화하는데 있다.In addition, another object of the present invention is to clean the display substrate, but to minimize damage to the upper surface pattern of the substrate.

또한, 본 발명의 또 다른 목적은 세정작업 중 디스플레이 기판의 유동이 생기지 않도록 하여 세정효율을 높이는데 있다.In addition, another object of the present invention is to increase the cleaning efficiency by preventing the flow of the display substrate during the cleaning operation.

또한, 본 발명의 또 다른 목적은 세정작업이 자동으로 이루어지도록 함으로서, 디스플레이 기판의 세정불량이 발생하지 않도록 하는데 있다. In addition, another object of the present invention is to perform the cleaning operation automatically, so that the cleaning failure of the display substrate does not occur.

이와 같은 목적으로 이루어진 본 발명은;The present invention made for such a purpose;

디스플레이 기판을 공급하는 로딩부와, 상기 로딩부에서 공급된 디스플레이 기판을 세정하도록 프레임본체 길이방향 상측에 적어도 하나 이상 구비되며, 고압의 에어 호스와 연결된 원통형의 에어공급구와, 상기 에어공급구와 일체로 형성되되, 평면에서 바라볼 때, 단부로 갈 수록 넓어지고, 측면에서 바라볼 때는 단부로 갈수록 좁아지도록 형성된 에어 분출구로 이루어진 에어 나이프와, 상기 프레임본체의 중간 부분에 적어도 하나 이상 구비되며, 일측 단면상에서 바라볼 때, "└┘"자 형으로 형성된 용기와, 상기 용기의 길이방향으로 구비되며, 양단은 상기 프레임 본체에 축결합된 세정용 브러쉬와, 상기 세정용 브러쉬를 회전시키기 위해 상기 세정용 브러쉬의 일단과 축결합된 구동모터로 이루어진 세정수단을 포함하는 세정부와, 상기 세정부에서 세정이 완료된 기판을 하측에서 건조시키도록 상향하는 적어도 하나 이상의 건조용 에어나이프를 구비한 건조부로 이루어지며, 프레임 본체의 길이방향 등간격으로 다수 구비된 이송용 롤러 사이에 다수열 구비되는 일측의 에어공급구와, 상기 에어공급구의 단부에서 사선방향으로 형성되고, 평면에서 바라볼 때, 방사상으로 다수 형성된 에어 분출구로 이루어진 음압발생장치가 구비된 디스플레이 기판 세정장치에 관한 것으로, At least one loading unit for supplying a display substrate, at least one upper side of the frame body in the longitudinal direction of the frame body to clean the display substrate supplied from the loading unit, a cylindrical air supply port connected to a high pressure air hose, and integrally with the air supply port It is formed, when viewed from the plane, wider toward the end, and wider toward the end, when viewed from the side of the air knife formed to be narrowed toward the end, and provided with at least one or more in the middle portion of the frame body, one side cross section When viewed from above, the container is formed in the shape of "└┘", provided in the longitudinal direction of the container, both ends of the cleaning brush axially coupled to the frame body, and the cleaning brush for rotating the cleaning brush A cleaning part including a cleaning means including a driving motor axially coupled to one end of the brush, and the cleaning part It consists of a drying unit having at least one or more drying air knives for drying the cleaned substrate to the bottom to dry, the one side of which is provided with a plurality of rows between the plurality of transport rollers provided at equal intervals in the longitudinal direction of the frame body The present invention relates to a display substrate cleaning device including an air supply port and a negative pressure generating device formed in an oblique direction at an end of the air supply port, and formed of a plurality of radial air ejection ports when viewed in a plane.

상기 세정장치는,
상기 세정수단과 상기 에어 나이프의 작동을 제어하도록 구비되는 중앙처리장치와, 상기 디스플레이 기판의 진입, 진출을 감지하여 상기 중앙처리장치에 전기적 신호를 발생시키는 제 1, 2감지수단과, 상기 제 1감지수단으로 부터 전달된 전기적 신호가 상기 중앙처리장치에서 연산된 신호에 따라 개폐되도록 상기 중앙처리장치와 전기적으로 연결된 제 1밸브와, 상기 제 2감지수단으로 부터 전달된 전기적 신호가 상기 중앙처리장치에서 연산된 신호에 따라 개폐되도록 상기 중앙처리장치와 전기적으로 연결된 제 2밸브와, 상기 에어 나이프 작동 후, 1 내지 5초 정도의 시차를 두고 상기 세정수단의 구동모터를 온/오프시키는 시차조절장치로 이루어진 콘트롤러를 포함한다.The cleaning device comprises:
A central processing unit provided to control the operation of the cleaning means and the air knife, first and second sensing means for detecting an entry and exit of the display substrate to generate an electrical signal to the central processing unit, and the first A first valve electrically connected to the central processing unit such that the electrical signal transmitted from the sensing unit is opened and closed according to a signal calculated by the central processing unit, and the electrical signal transmitted from the second sensing unit A second valve electrically connected to the central processing unit so as to be opened and closed according to a signal calculated by the control unit; It includes a controller consisting of.

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이와 같이, 본 발명에 따른 디스플레이 기판의 세정장치에 의하면, 세정을 위해 이송되는 기판의 접촉을 최소화함으로서, 기판 전 면적에 대한 원활한 세정이 이루어지도록 하는 효과가 있다.Thus, according to the cleaning apparatus of the display substrate according to the present invention, by minimizing the contact of the substrate to be transported for cleaning, there is an effect that the smooth cleaning of the entire area of the substrate is made.

또한, 에어 나이프의 에어 작용에 의해 세정액이 주변으로 튀는 것을 원천적으로 예방함으로서, 세정장치 주변의 오염을 방지하고, 그에 따라, 보다 쾌적한 작업장 환경을 조성하는 효과가 있다. In addition, by preventing the splashing of the cleaning liquid to the surroundings by the air action of the air knife, it is possible to prevent contamination around the cleaning apparatus, thereby creating a more comfortable workplace environment.

또한, 디스플레이 기판 상측에 구비된 에어 나이프에 의해, 세정작업시 세정액이 기판 상면의 패턴에 튀는 것을 원천적으로 방지하여 패턴의 손상을 예방하는 효과가 있다.In addition, by the air knife provided on the upper side of the display substrate, there is an effect of preventing the damage of the pattern by preventing the cleaning liquid from splashing on the pattern on the upper surface of the substrate during the cleaning operation.

또한, 디스플레이 기판의 세정은 원활하게 하되, 음압발생장치에 의해 세정되는 기판이 상측으로 들어 올려지는 유동이 생기지 않도록 하여 세정효율을 높이는 효과가 있다. In addition, while the display substrate is smoothly cleaned, there is an effect of increasing the cleaning efficiency by preventing the flow of the substrate cleaned by the negative pressure generating device from being lifted upward.

또한, 세정작업이 콘트롤러에 의해 자동으로 이루어져 세정불량이 거의 발생하지 않도록 함으로서, 디스플레이 기판의 세정 생산성이 향상되는 효과가 있다. In addition, the cleaning operation is automatically performed by the controller so that the cleaning failure hardly occurs, thereby improving the cleaning productivity of the display substrate.

도 1은 종래 디스플레이 기판 세정장치를 일측과 평면에서 바라본 도면이고,
도 2는 본 발명에 따른 디스플레이 기판 세정장치를 일측과 평면에서 바라본 도면이고,
도 3은 도 2 "A"-"A"선에 따른 단면도로서, 본 발명에 따른 디스플레이 기판 세정장치의 구성중 음압발생장치를 보인 도면이고,
도 4는 본 발명에 따른 디스플레이 기판 세정장치의 구성중 에어 나이프를 보인 도면이고,
도 5는 본 발명에 따른 디스플레이 기판 세정장치의 콘트롤러를 보인 블럭도이다. 1 is a view of a conventional display substrate cleaning device from one side and a plan view,
2 is a view of the display substrate cleaning apparatus according to the present invention from one side and a plan view,
3 is a cross-sectional view taken along the line “A”-“A” of FIG. 2, showing a negative pressure generating device during construction of the display substrate cleaning device according to the present invention;
Figure 4 is a view showing an air knife of the configuration of the display substrate cleaning apparatus according to the present invention,
5 is a block diagram showing a controller of the display substrate cleaning apparatus according to the present invention.

도 2 내지 도 5를 참조하면, 본 발명에 따른 디스플레이 기판 세정장치(10)(이하, "세정장치"라 칭한다)는 이송용 롤러(13)가 등간격으로 구비된 프레임 본체(11)와 음압발생장치(100)와 세정수단(200)과 에어 나이프(300)와 콘트롤러(400)와 건조용 에어 나이프(500)로 이루어진다.(본 발명에서는 후술하는 음압발생장치(100)에 의해 비접촉 이송이 이루어짐으로서, 종래의 구성과는 달리 이송용 롤러(13)의 수량을 대폭적으로 줄였으며, 이 이송용 롤러(13)의 구동에 대해서는 종래와 동일함으로 상세한 설명을 생략한다) 2 to 5, the display substrate cleaning apparatus 10 according to the present invention (hereinafter referred to as "cleaning apparatus") is the frame body 11, the feed roller 13 is provided at equal intervals and the sound pressure The generator 100, the cleaning means 200, the air knife 300, the controller 400 and the drying air knife 500. (In the present invention, the non-contact transfer by the negative pressure generating device 100 to be described later) As a result, unlike the conventional configuration, the quantity of the conveying roller 13 is drastically reduced, and the detailed description of the driving of the conveying roller 13 is the same as the conventional one, and thus the detailed description is omitted.)

음압발생장치(100)는 프레임본체(11)의 길이방향 등간격으로 구비된 이송용 롤러(13) 사이에 다수열 구비된다.Negative pressure generating device 100 is provided with a plurality of rows between the transport roller 13 provided at equal intervals in the longitudinal direction of the frame body (11).

도 3을 참조하면, 음압발생장치(100)는 평면에서 바라볼 때, 환형으로 형성되고, 이 환형의 중심에 도시한 방향을 기준하여 수직방향으로 에어 공급구(110)가 형성되고, 이 에어 공급구(110)의 단부에서 단면상 사선(斜線)방향으로는 다수의 에어 분출구(130)가 형성되는데 이 에어 분출구(130)는 평면에서 바라볼 때, 방사상으로 형성된다.Referring to FIG. 3, the negative pressure generating device 100 is formed in an annular shape when viewed from a plane, and an air supply port 110 is formed in a vertical direction with respect to the direction shown at the center of the annular shape. At the end of the supply port 110, a plurality of air ejection openings 130 are formed in a cross-sectional oblique direction, and the air ejection openings 130 are radially formed when viewed in a plane.

상기한 바와 같이, 다수 구비된 음압발생장치(100)의 에어 공급구(110)는 도시하지 않은 에어 라인과 연결되어 항상 일정한 압력의 에어 압(7~10Kg/㎠)이 상기한 에어분출구(130)로 배출된다.As described above, the air supply port 110 of the negative pressure generator 100 provided with a plurality is connected to the air line (not shown), the air pressure of the constant pressure (7 ~ 10Kg / ㎠) is always the air outlet 130 To be discharged.

한편, 본 발명에 따른 세정장치(10)의 세정수단(200)은 상기한 프레임본체(1) 중간 부분에 적어도 하나 이상 구비되는데, 이 세정수단(200)은 용기(210)와 세정용 브러쉬(230)와 구동모터(250)로 이루어진다.On the other hand, at least one cleaning means 200 of the cleaning device 10 according to the present invention is provided in the middle of the frame body 1, the cleaning means 200 is a container 210 and a cleaning brush ( 230 and the driving motor 250.

용기(210)는 "└┘"자 형으로 상부만 개구된 육면체 형태로서, 그 내부에 세정액(211)이 구비된다.The container 210 has a hexahedron shape in which only an upper portion thereof is opened in a “└┘” shape, and a cleaning liquid 211 is provided therein.

상기한 용기(210)의 개구된 상단은 후술하는 작용에서 세정용 브러쉬(230)에 의해 세정액이 튀는 것을 최소화하기 위해 디스플레이 기판(20)(이하, "기판"이라 칭한다)의 하면에 근접하게 설치하는 것이 바람직하다.The opened upper end of the container 210 is installed close to the lower surface of the display substrate 20 (hereinafter referred to as "substrate") in order to minimize the splashing of the cleaning liquid by the cleaning brush 230 in the operation described later. It is desirable to.

한편, 용기(210)의 길이방향으로 세정용 브러쉬(230)가 구비되는데, 이 세정용 브러쉬(230)의 양단은 상기 프레임 본체(11)에 축결합되며, 일단에는 스프로켓(231)이 구비되어, 프레임 본체(11)의 하측에 구비된 구동모터(250)와 연동할 수 있도록 하였다.On the other hand, the cleaning brush 230 is provided in the longitudinal direction of the container 210, both ends of the cleaning brush 230 is axially coupled to the frame body 11, one end is provided with a sprocket 231 , So as to be interlocked with the drive motor 250 provided on the lower side of the frame body (11).

이와 같은, 세정수단(200)의 상측으로 에어 나이프(300)가 구비된다.As such, the air knife 300 is provided above the cleaning means 200.

도 4를 참조하면, 에어 나이프(300)는 상기한 세정수단(200)의 길이방향 상측에 적어도 하나 이상 구비된 것으로서, 일단의 원통형 에어 공급구(310)는 고압(7~10Kg/㎠)의 에어가 토출되는 에어 호스(HS)와 연결되고, 이 에어 공급구(310)와 일체로 에어 분출구(330)가 형성되어 있다.Referring to Figure 4, the air knife 300 is provided with at least one above the longitudinal direction of the cleaning means 200, one end of the cylindrical air supply port 310 of the high pressure (7 ~ 10Kg / ㎠) It is connected with the air hose HS which discharges air, and the air blower outlet 330 is formed integrally with this air supply port 310. As shown in FIG.

이 에어 분출구(330)는 평면에서 바라볼 때, 상기한 에어 공급구(310)와 대향하는 단부로 갈 수록 넓어지고, 측면에서 바라볼 때는 좁아지도록 형성되어, 이 좁아진 틈새로 빠져 나오는 고압의 에어가 일직선상으로 에어 커튼(Air Curtain)막을 형성함으로서, 상기한 세정수단(200)에서 분출되는 세정액(211)이 기판(20)의 패턴을 오염시키는 것을 방지한다.The air jet port 330 is wider toward the end portion facing the air supply port 310 when viewed from the plane, and narrower when viewed from the side, so that the high-pressure air exits through the narrowed gap. By forming an air curtain film in a straight line, the cleaning liquid 211 ejected from the cleaning means 200 is prevented from contaminating the pattern of the substrate 20.

상기한 바와 같은 세정수단(200)과 에어 나이프(300)의 동작은 콘트롤러(400)에 의해 제어된다.The operation of the cleaning means 200 and the air knife 300 as described above is controlled by the controller 400.

콘트롤러(400)는 중앙처리장치(401)와 제1, 2감지수단(410)(420)과 제 1, 2밸브(430)(440)와 시차조절장치(450)로 이루어진다.The controller 400 includes a central processing unit 401, first and second sensing means 410 and 420, first and second valves 430 and 440, and a time difference adjusting device 450.

중앙처리장치(401)는 C.P.U(Central Processing Unit)로서, 후술하는 작용에서의 동작을 수행할 수 있도록 명령을 해독하고, 산술, 논리연산이나 데이터 처리를 실행하는 장치로서, 후술하는 장치들의 동작을 감지하여 이미 입력된 데이터에 의해 동작을 수행한다.The central processing unit 401 is a CPU (Central Processing Unit), which decodes instructions and performs arithmetic, logical operations, or data processing to perform operations in the operations described below. Detect and perform operation by data already input.

제 1, 2감지수단(410)(420)은 상기한 기판(20)의 진입, 출을 감지하도록 상기 프레임본체(11) 선단과 세정수단(200) 인근에 설치되며, 기판(20)의 진입, 출이 감지가 되면 이 신호를 상기한 중앙처리장치(401)에 전달하여 후속동작이 이루어지도록 하는 것이다.The first and second sensing means 410 and 420 are installed near the front end of the frame body 11 and the cleaning means 200 to detect the entry and exit of the substrate 20 and the entry of the substrate 20. When the output is detected, the signal is transmitted to the central processing unit 401 to perform a subsequent operation.

상기한 제 1, 2감지수단(410)(420)은 센서나 리미트 스위치중 어느 하나를 선택적으로 사용해도 무방하다.The first and second sensing means 410 and 420 may selectively use any one of a sensor and a limit switch.

제 1, 2밸브(430)(440)는 솔레노이드 밸브(Solenoid Valve)로서, 솔레노이드 밸브는 전기자석밸브의 일종으로서, 코어(미도시)로 구성된 양단의 솔레노이드 코일(밸브 양단의 전기 인가부분 뭉치)에 전기를 통전시키면 상기한 코어(미도시)에 끼워져 있던 봉부분의 내부가 전자석으로 바뀌게 되고, 이로 인해 밸브의 유로 부분을 막고 있던 다이아프램(미도시)과 연결되어있는 플런져(코일 중심봉안에 들어있는 쇠봉)가 자력(磁力)으로 인해 움직이게 됨으로서, 이 플런져와 연결되어있는 다이아프램이 길이방향 일측 또는 타측으로 이동하며 밸브의 유로가 개폐된다.The first and second valves 430 and 440 are solenoid valves, and the solenoid valves are a kind of electric magnetic valves. Solenoid coils at both ends composed of cores (not shown) are provided. When electricity is supplied, the inside of the rod portion inserted into the core (not shown) is changed to an electromagnet, which causes the plunger (coil center rod) connected to the diaphragm (not shown) blocking the flow path portion of the valve. As the iron rod in the body moves due to magnetic force, the diaphragm connected to the plunger moves to one side or the other side in the longitudinal direction, and the flow path of the valve is opened and closed.

따라서, 상기한 제 1, 2감지수단(410)(420)으로 부터 전달된 전기신호를 중앙처리장치(401)가 연산하여 상기한 제 1, 2밸브(430)(440)가 개폐되도록 제어한다. 즉, 상기한 제 1감지수단(410)에 의해 작동되는 제 1밸브(430)는 음압발생장치(100)에 에어를 공급하고, 제 2감지수단(420)에 의해 작동되는 제 2밸브(440)는 에어 나이프(300)에 에어를 공급하도록 개폐된다.Therefore, the central processing unit 401 calculates the electrical signals transmitted from the first and second sensing means 410 and 420 to control the first and second valves 430 and 440 to be opened and closed. . That is, the first valve 430 operated by the first sensing means 410 supplies air to the negative pressure generating device 100, and the second valve 440 operated by the second sensing means 420. ) Is opened and closed to supply air to the air knife 300.

한편, 시차조절장치(450)는 타이머로서, 상기한 중앙처리장치(401)에서 상기 제 2밸브(440)를 작동하도록 전기적 신호를 보내어 상기 제 2밸브(430)가 온/오프된 후, 1 내지 5초 정도의 시차(설정에 따라 다름)를 두고 상기 세정수단(200)의 구동모터(250)를 작동시킴으로서, 상기한 에어 나이프(300)보다는 다소 늦은 시간에 세정용 브러쉬(230)가 작동하도록 하는 것이다.On the other hand, the time difference adjusting device 450 is a timer, the central processing unit 401 by sending an electrical signal to operate the second valve 440, after the second valve 430 is turned on / off, 1 By operating the driving motor 250 of the cleaning means 200 with a time difference (depending on the setting) of about 5 seconds, the cleaning brush 230 is operated at a later time than the air knife 300 described above. To do that.

한편, 본 발명에 따른 세정장치(10)는, 상기 건조부(3)의 하측에 상향하게 구비된 적어도 하나 이상의 건조용 에어 나이프(500)를 더 포함한다.On the other hand, the cleaning device 10 according to the present invention further includes at least one or more drying air knife 500 provided on the lower side of the drying unit (3).

이 건조용 에어 나이프(500)는 설치된 방향이 상향하도록 설치된 것 이외에는 상기한 에어 나이프(300)의 구성과 동일하고, 상기한 콘트롤러(400)에 의해서도 동시에 작동함으로 상세한 설명은 생략한다.The drying air knife 500 is the same as the above-described configuration of the air knife 300 except that the installed direction is installed upward, and the detailed description is omitted because the same operation is performed by the controller 400 as well.

계속해서, 도 2 내지 도 5를 참조로 하여, 본 발명에 따른 세정장치(10)의 작용 효과를 설명한다.Next, with reference to FIGS. 2-5, the effect of the washing | cleaning apparatus 10 which concerns on this invention is demonstrated.

우선, 본 발명에 따른 세정장치(10)의 프레임 본체(11)에 다수 배치된 이송용 롤러(13)의 회전에 의해 기판(20)이 일측으로 이송된다.First, the substrate 20 is conveyed to one side by the rotation of the conveying roller 13 arranged in the frame main body 11 of the cleaning apparatus 10 according to the present invention.

이 때, 프레임본체(11) 선단에 구비된 제 1감지수단(410)의 감지에 의해 중장처리장치(401)를 통해 연산된 신호에 따라 제 1밸브(430)가 작동하며 세정장치(10)에 다수 구비된 음압발생장치(100)에 에어가 공급된다.At this time, the first valve 430 operates in accordance with a signal calculated by the heavy-duty processing apparatus 401 by the detection of the first sensing means 410 provided at the tip of the frame body 11, and the cleaning apparatus 10. Air is supplied to the negative pressure generating device 100 provided in a plurality.

이와 같이, 세정장치(10)의 각 이송용 롤러(13) 사이에 다수 구비된 음압발생장치(100)에 고압의 에어가 에어공급구(110)로 공급되고, 이 에어는 평면에서 바라볼 때, 방사상으로 다수 형성된 에어 분출구(130)를 통해 배출되는데, 이 음압발생장치(100)의 상면과 기판(20) 사이에는 음압(陰壓), 다시 말해서 압력 차이가 발생하게 된다.In this way, high-pressure air is supplied to the air supply port 110 to the negative pressure generating device 100 provided between the transfer rollers 13 of the cleaning device 10, and this air is viewed from the plane. A plurality of radially discharged air is discharged through the air outlet 130, and a negative pressure, that is, a pressure difference occurs between the upper surface of the negative pressure generating device 100 and the substrate 20.

이러한 압력차에 의해 기판(20)에는 상기한 음압발생장치(100)의 상면으로 인력(引力)이 작용하게 되고, 기판(20)에는 국부적으로 미세하게 휘는 현상(도 3의 "H"표시부위)이 생기게 됨에 따라 기판(20)은 후술하는 세정용 브러쉬(230)의 세정작업시에도 유동하지 않고 밀착된 상태로 이동한다.Due to such a pressure difference, a attraction force acts on the upper surface of the negative pressure generating device 100 on the substrate 20, and locally bends slightly on the substrate 20 ("H" in FIG. 3). The substrate 20 moves in a state of being in close contact with the substrate 20 without flowing even when the cleaning brush 230 is described later.

그러다가, 상기한 기판(20)이 더 진행하여 세정수단(200)이 마련된 중간부분에 다다르면, 제 2감지수단(420)이 이를 감지하여 제 2밸브(440)를 작동함으로서, 에어 나이프(300)를 통해 에어 차단막이 형성된다.Then, when the substrate 20 proceeds further to reach the middle portion where the cleaning means 200 is provided, the second sensing means 420 detects this and operates the second valve 440, thereby providing an air knife 300. Through the air barrier film is formed.

이와 동시에, 타이머로 이루어진 시차조절장치(450)에 의해 세정수단(200)의 구동모터(250)가 작동함에 따라 세정용 브러쉬(230)가 회전하고, 이 회전에 의해 용기(210)에 구비된 세정액(211)이 기판(20)에 접촉하면, 이 세정액(211)을 세정용 브러쉬(230)가 닦아 내며 세정 작업이 이루어진다.At the same time, the cleaning brush 230 is rotated as the driving motor 250 of the cleaning means 200 is operated by the parallax adjustment device 450 made of a timer, and the rotation is provided in the container 210. When the cleaning liquid 211 comes into contact with the substrate 20, the cleaning brush 230 wipes the cleaning liquid 211, and a cleaning operation is performed.

상기한 바와 같이, 본 발명에 따른 세정수단(200)의 세정용 브러쉬(230)가 회전하며 세정작업이 이루어지는 동안, 그 상측에 마련된 에어 나이프(300)는 에어 분출구(330)를 통해 고압의 에어를 분출함으로서, 기판(20)의 하면을 세정한 세정액(211)이 상면으로 튀는 것을 원천적으로 방지한다.As described above, while the cleaning brush 230 of the cleaning means 200 according to the present invention is rotated and the cleaning operation is performed, the air knife 300 provided on the upper side of the cleaning device 230 has a high-pressure air through the air jet port 330. By spraying off, the cleaning liquid 211 which cleaned the lower surface of the board | substrate 20 prevents splashing to an upper surface.

이와 같이, 세정작업이 완료되면, 기판(20)은 프레임 본체(11) 하측에 상향하는 적어도 하나 이상의 건조용 에어 나이프(500)의 에어 분출구(530)를 통해 고압의 에어가 분출되며 건조가 완료됨으로서, 디스플레이 기판(20)의 세정 작업은 완료된다.As such, when the cleaning operation is completed, the substrate 20 ejects the high pressure air through the air ejection port 530 of the at least one drying air knife 500 upwardly below the frame body 11, and drying is completed. As a result, the cleaning operation of the display substrate 20 is completed.

이 건조용 에어 나이프(500)도 콘트롤러(400)의 동작에 의해 상기한 에어 나이프(300)와 동시에 작동한다. The drying air knife 500 also operates simultaneously with the air knife 300 described above by the operation of the controller 400.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 디스플레이 기판 세정장치(10)에 의하면, 세정을 위해 이송되는 기판(20)이 이송용 롤러(130)와의 접촉을 최소화함으로서, 기판 전 면적에 대한 원활한 세정이 이루어지도록 하였으며, 에어 나이프(300)의 에어 작용에 의해 세정액(211)이 주변으로 튀는 것을 원천적으로 예방함으로서, 세정장치(10) 주변의 오염을 방지하고, 그에 따라, 보다 쾌적한 작업장 환경을 조성하였다.As described above, according to the display substrate cleaning apparatus 10 according to the present invention, since the substrate 20 to be cleaned for cleaning minimizes contact with the transfer roller 130, smooth cleaning of the entire area of the substrate is achieved. By preventing the splashing of the cleaning liquid 211 to the surroundings by the air action of the air knife 300, by preventing the contamination around the cleaning device 10, thereby creating a more comfortable workplace environment.

또한, 디스플레이 기판(20) 상측에 구비된 에어 나이프(300)에 의해 세정시 세정액(211)이 기판(20) 상면의 패턴에 튀는 것을 원천적으로 방지하여 패턴의 손상을 예방하였다.In addition, the cleaning solution 211 is prevented from splashing on the pattern on the upper surface of the substrate 20 when the cleaning is performed by the air knife 300 provided on the upper side of the display substrate 20 to prevent damage to the pattern.

본 발명은 상술한 특정 바람직한 실시 예에 한정되지 아니하고, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진자라면 누구든지 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 그와 같은 변형실시는 본 발명의 청구범위 기재 범위 내에 있게 된다.It is to be understood that the present invention is not limited to the specific exemplary embodiments described above and that various modifications may be made by those skilled in the art without departing from the spirit and scope of the invention as defined in the appended claims. And such modified embodiments are within the scope of the claims of the present invention.

10 : 디스플레이 기판 세정장치 100 : 음압발생장치
110 : 에어 공급구 130 : 에어 분출구
200 : 세정수단 210 : 용기(容器)
230 : 세정용 브러쉬 250 : 구동모터
300 : 에어 나이프 310, 410 : 에어 공급구
330, 430 : 에어 분출구 400 : 콘트롤러
500 : 건조용 에어 나이프10: display substrate cleaning device 100: negative pressure generating device
110: air supply port 130: air blowing port
200: cleaning means 210: container
230: cleaning brush 250: drive motor
300: air knife 310, 410: air supply port
330, 430: air outlet 400: controller
500: Drying Air Knife

Claims (7)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 디스플레이 기판을 공급하는 로딩부와, 상기 로딩부에서 공급된 디스플레이 기판을 세정하도록 프레임본체 길이방향 상측에 적어도 하나 이상 구비되며, 고압의 에어 호스와 연결된 원통형의 에어공급구와, 상기 에어공급구와 일체로 형성되되, 평면에서 바라볼 때, 단부로 갈 수록 넓어지고, 측면에서 바라볼 때는 단부로 갈수록 좁아지도록 형성된 에어 분출구로 이루어진 에어 나이프와, 상기 프레임본체의 중간 부분에 적어도 하나 이상 구비되며, 일측 단면상에서 바라볼 때, "└┘"자 형으로 형성된 용기와, 상기 용기의 길이방향으로 구비되며, 양단은 상기 프레임 본체에 축결합된 세정용 브러쉬와, 상기 세정용 브러쉬를 회전시키기 위해 상기 세정용 브러쉬의 일단과 축결합된 구동모터로 이루어진 세정수단을 포함하는 세정부와, 상기 세정부에서 세정이 완료된 기판을 하측에서 건조시키도록 상향하는 적어도 하나 이상의 건조용 에어나이프를 구비한 건조부로 이루어지며, 프레임 본체의 길이방향 등간격으로 다수 구비된 이송용 롤러 사이에 다수열 구비되는 일측의 에어공급구와, 상기 에어공급구의 단부에서 사선방향으로 형성되고, 평면에서 바라볼 때, 방사상으로 다수 형성된 에어 분출구로 이루어진 음압발생장치가 구비된 디스플레이 기판의 세정장치에 있어서,
상기 세정장치는,
상기 세정수단과 상기 에어 나이프의 작동을 제어하도록 구비되는 중앙처리장치와, 상기 디스플레이 기판의 진입, 진출을 감지하여 상기 중앙처리장치에 전기적 신호를 발생시키는 제 1, 2감지수단과, 상기 제 1감지수단으로 부터 전달된 전기적 신호가 상기 중앙처리장치에서 연산된 신호에 따라 개폐되도록 상기 중앙처리장치와 전기적으로 연결된 제 1밸브와, 상기 제 2감지수단으로 부터 전달된 전기적 신호가 상기 중앙처리장치에서 연산된 신호에 따라 개폐되도록 상기 중앙처리장치와 전기적으로 연결된 제 2밸브와, 상기 에어 나이프 작동 후, 1 내지 5초 정도의 시차를 두고 상기 세정수단의 구동모터를 온/오프시키는 시차조절장치로 이루어진 콘트롤러를 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 기판 세정장치.At least one loading unit for supplying a display substrate, at least one upper side of the frame body in the longitudinal direction of the frame body to clean the display substrate supplied from the loading unit, a cylindrical air supply port connected to a high pressure air hose, and integrally with the air supply port It is formed, when viewed from the plane, wider toward the end, and wider toward the end, when viewed from the side of the air knife formed to be narrowed toward the end, and provided with at least one or more in the middle portion of the frame body, one side cross section When viewed from above, the container is formed in the shape of "└┘", provided in the longitudinal direction of the container, both ends of the cleaning brush axially coupled to the frame body, and the cleaning brush for rotating the cleaning brush A cleaning part including a cleaning means including a driving motor axially coupled to one end of the brush, and the cleaning part It consists of a drying unit having at least one or more drying air knives for drying the cleaned substrate to the bottom to dry, the one side of which is provided with a plurality of rows between the plurality of transport rollers provided at equal intervals in the longitudinal direction of the frame body In the cleaning apparatus for a display substrate provided with an air supply port and a negative pressure generating device formed in an oblique direction at the end of the air supply port, the air ejection port formed in a plurality of radially when viewed in a plane,
The cleaning device comprises:
A central processing unit provided to control the operation of the cleaning means and the air knife, first and second sensing means for detecting an entry and exit of the display substrate to generate an electrical signal to the central processing unit, and the first A first valve electrically connected to the central processing unit such that the electrical signal transmitted from the sensing unit is opened and closed according to a signal calculated by the central processing unit, and the electrical signal transmitted from the second sensing unit A second valve electrically connected to the central processing unit so as to be opened and closed according to a signal calculated by the control unit; Display substrate cleaning apparatus comprising a controller consisting of. 제 5항에 있어서,
상기 감지수단은 센서 또는 리미트 스위치중 어느 하나이고;
상기 제 1, 2밸브는 솔레노이드 밸브이며;
상기 시차조절장치는 타이머인 것을 특징으로 하는 하는 디스플레이 기판 세정장치.6. The method of claim 5,
The sensing means is either a sensor or a limit switch;
The first and second valves are solenoid valves;
The disparity adjusting device is a display substrate cleaning device, characterized in that the timer. 삭제delete
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