KR101385460B1 - Liquid crystal display device - Google Patents

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Abstract

본 발명은 액정표시장치에 관한 발명으로, 서로 마주보는 제 1 기판 및 제 2 기판; 상기 제 1 기판 상에 서로 교차하여 화소 영역을 정의하는 게이트 라인 및 데이터 라인; 상기 게이트 라인과 데이터 라인의 교차부에 형성되는 박막 트랜지스터; 상기 게이트 라인과 평행하게 형성되는 공통 라인; 상기 박막 트랜지스터와 연결되어 화소 영역에 형성되는 복수개의 화소 전극; 상기 공통 라인으로부터 분기되어 상기 화소 전극과 교번하는 복수개의 공통 전극; 상기 게이트 라인, 데이터 라인, 박막 트랜지스터, 화소 전극 및 공통 전극에 대응하도록 상기 제 2 기판 상에만 형성되는 블랙 매트릭스; 상기 화소 영역에 대응하도록 상기 제 2 기판 상에 형성되는 컬러 필터층을 포함하며, 상기 블랙 매트릭스는 상기 화소 전극 및 공통 전극의 일부 영역에 대응되도록 형성되며, 상기 화소 전극 및 공통 전극의 폭보다 좁은 폭을 갖도록 형성되어, 상기 화소 전극 및 공통 전극의 가장자리는 상기 블랙 매트릭스에 의해 노출된다.

Figure R1020070033586

액정표시장치, 횡전계방식, IPS, 블랙매트릭스, 휘도, 콘트라스트비

The present invention relates to a liquid crystal display device, comprising: a first substrate and a second substrate facing each other; A gate line and a data line crossing each other on the first substrate to define a pixel area; A thin film transistor formed at an intersection of the gate line and the data line; A common line formed in parallel with the gate line; A plurality of pixel electrodes connected to the thin film transistors and formed in the pixel area; A plurality of common electrodes branched from the common line to alternate with the pixel electrode; A black matrix formed only on the second substrate so as to correspond to the gate line, the data line, the thin film transistor, the pixel electrode, and the common electrode; And a color filter layer formed on the second substrate so as to correspond to the pixel region, wherein the black matrix is formed to correspond to a portion of the pixel electrode and the common electrode, and has a width narrower than that of the pixel electrode and the common electrode. The edges of the pixel electrode and the common electrode are exposed by the black matrix.

Figure R1020070033586

LCD, Transverse Electric Field, IPS, Black Matrix, Luminance, Contrast Ratio

Description

액정표시장치{LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE}[0001] LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE [0002]

도 1은 종래의 액정표시장치를 나타내는 평면도1 is a plan view showing a conventional liquid crystal display device

도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 의한 액정표시장치를 나타내는 평면도2 is a plan view showing a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.

도 3은 도 2의 Ⅰ-Ⅰ'에 따른 본 발명의 제 1 실시예에 의한 액정표시장치를 나타내는 단면도3 is a cross-sectional view of an LCD according to a first exemplary embodiment of the present invention according to II ′ of FIG. 2.

도 4는 본 발명의 제 2 실시예에 의한 액정표시장치를 나타내는 평면도4 is a plan view showing a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.

도 5는 도 4의 Ⅱ-Ⅱ'에 따른 본 발명의 제 2 실시예에 의한 액정표시장치를 나타내는 단면도5 is a cross-sectional view illustrating a liquid crystal display according to a second embodiment of the present invention according to II-II ′ of FIG. 4.

도 6은 본 발명의 제 3 실시예에 의한 액정표시장치를 나타내는 평면도6 is a plan view illustrating a liquid crystal display according to a third embodiment of the present invention.

도 7은 본 발명의 제 4 실시예에 의한 액정표시장치를 나타내는 평면도7 is a plan view showing a liquid crystal display device according to a fourth embodiment of the present invention.

도 8은 도 7의 Ⅲ-Ⅲ'에 따른 본 발명의 제 4 실시예에 의한 액정표시장치를 나타내는 단면도FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating a liquid crystal display according to a fourth embodiment of the present invention according to III-III ′ of FIG. 7.

<도면의 주요 부호에 대한 설명>DESCRIPTION OF THE RELATED ART [0002]

110, 210, 410 : 제 1 기판110, 210, 410: first substrate

150, 250, 450 : 제 2 기판150, 250, 450: second substrate

12, 112, 212, 312, 412 : 게이트 라인12, 112, 212, 312, 412: gate line

18, 118, 218, 318, 418 : 데이터 라인18, 118, 218, 318, 418: data lines

30, 130, 230, 330, 430 : 공통 라인30, 130, 230, 330, 430: common line

26, 126, 226, 326, 426 : 화소 전극26, 126, 226, 326, 426: pixel electrode

34, 134, 234, 334 : 공통 전극34, 134, 234, 334: common electrode

434 : 제 1 공통 전극434: first common electrode

436 : 제 2 공통 전극436: second common electrode

52, 152, 252, 352, 452 : 블랙 매트릭스52, 152, 252, 352, 452: Black Matrix

본 발명은 액정표시장치에 관한 발명으로, 특히 블랙상태의 휘도를 낮추어 콘트라스트비를 향상시키기 위한 액정표시장치에 관한 발명이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a liquid crystal display device for improving contrast ratio by lowering luminance in a black state.

정보화 사회가 발전함에 따라 표시장치에 대한 요구도 다양한 형태로 점증하고 있으며, 이에 부응하여 근래에는 액정표시장치(Liquid Crystal Display), 플라즈마표시패널(Plasma Display Panel), 전계발광표시장치(Electro Luminescent Display), 진공형광표시장치(Vacuum Fluorescent Display) 등 여러 가지 평판 표시 장치가 연구되어 왔고, 일부는 이미 여러 장비에서 표시장치로 활용되고 있다.As the information society develops, the demand for display devices is increasing in various forms, and in recent years, liquid crystal displays, plasma display panels, and electroluminescent displays have been developed. Various flat panel display devices such as vacuum fluorescent display (Vacuum Fluorescent Display) have been studied, and some of them are already used as display devices in various devices.

그 중에, 현재 화질이 우수하고 경량, 박형, 저소비 전력의 장점으로 인하여 이동형 화상 표시장치의 용도로 CRT(Cathode Ray Tube)를 대체하면서 액정표시장치가 가장 많이 사용되고 있으며, 노트북 컴퓨터의 모니터와 같은 이동형의 용도 이외에도 방송신호를 수신하여 디스플레이하는 텔레비전, 및 컴퓨터의 모니터 등으로 다양하게 개발되고 있다.Among them, the liquid crystal display device is the most widely used as a substitute for the CRT (Cathode Ray Tube) for the mobile image display device because of the excellent image quality, light weight, thinness, and low power consumption. In addition to the use of the present invention, a variety of applications such as a television, a computer monitor, and the like for receiving and displaying broadcast signals have been developed.

이와 같이 액정표시장치가 일반적인 화면 표시장치로서 다양한 부분에 사용되기 위해서는 경량, 박형, 저소비전력의 특징을 유지하면서도 고정세, 고휘도, 대면적 등 고품위 화상을 얼마나 구현할 수 있는가에 발전의 관건이 걸려 있다고 할 수 있다.In order for liquid crystal display devices to be used in various parts as a general screen display device, it is important to develop high-quality images such as high definition, high brightness and large area while maintaining the features of light weight, thinness and low power consumption can do.

상기 액정표시장치는 액정의 성질과 패턴의 구조에 따라서 여러 가지 다양한 모드가 있다.The liquid crystal display device has various modes depending on the nature of the liquid crystal and the structure of the pattern.

구체적으로, 액정 방향자가 90°트위스트 되도록 배열한 후 전압을 가하여 액정 방향자를 제어하는 TN 방식(Twisted Nematic Mode)과, 한 기판상에 두 개의 전극을 형성하여 액정의 방향자가 배향막의 나란한 평면에서 꼬이게 하는 횡전계방식(In-Plane Switching Mode) 등 다양하다.Specifically, the TN method (Twisted Nematic Mode) for arranging the liquid crystal directors to be twisted 90 degrees and then applying voltage to control the liquid crystal directors, and forming two electrodes on one substrate so that the directors of the liquid crystals are twisted in a parallel plane of the alignment layer. In-Plane Switching Mode.

이중, 상기 횡전계방식 액정표시장치는 통상, 서로 대향 배치되어 그 사이에 액정층을 구비한 컬러 필터 어레이 기판과 박막 트랜지스터 어레이 기판으로 구성된다. Among these, the transverse electric field type liquid crystal display device is generally composed of a color filter array substrate and a thin film transistor array substrate disposed opposite to each other and having a liquid crystal layer therebetween.

이때, 상기 컬러 필터 어레이 기판에는 빛샘을 방지하기 위한 블랙 매트릭스와, 상기 블랙 매트릭스 상에 색상을 구현하기 위한 적색(Red), 녹색(Green), 청색(Blue)의 컬러 필터층이 형성된다. In this case, a black matrix for preventing light leakage and a color filter layer of red, green, and blue for implementing colors on the black matrix are formed on the color filter array substrate.

그리고, 상기 박막 트랜지스터 어레이 기판은 화소영역를 정의하는 게이트 라인 및 데이터 라인과, 상기 게이트 라인과 데이터 라인의 교차 지점에 형성된 박막 트랜지스터와, 화소영역에 서로 교번하여 형성되며 횡전계를 발생시키는 공통전 극 및 화소전극으로 구성된다.The thin film transistor array substrate includes a gate line and a data line defining a pixel region, a thin film transistor formed at an intersection point of the gate line and a data line, and a common electrode alternately formed in the pixel region to generate a transverse electric field. And a pixel electrode.

이하에서는 종래의 액정표시장치에 대해 설명한다. 도 1은 종래 기술에 의한 액정표시장치를 나타내는 평면도이다.Hereinafter, a conventional liquid crystal display device will be described. 1 is a plan view showing a liquid crystal display device according to the prior art.

종래의 액정표시장치는 제 1 기판(도시하지 않음) 상에 화소 영역을 정의하기 위하여 일정한 간격을 갖고 일방향으로 복수개의 게이트 라인(12)이 배열되고, 게이트 라인(12)과 교차하여 일정한 간격을 갖고 복수개의 데이터 라인(18)이 배열된다.In the conventional liquid crystal display, a plurality of gate lines 12 are arranged in one direction with a predetermined interval to define a pixel region on a first substrate (not shown), and a predetermined interval intersects with the gate line 12. And a plurality of data lines 18 are arranged.

그리고 게이트 라인(12)과 데이터 라인(18)이 교차되어 정의된 각 화소 영역에는 화소 전극(26)과 공통 전극(34)이 교번하여 형성됨으로써 횡전계를 발생시키고, 이로 인해 액정이 구동된다.In addition, the pixel electrode 26 and the common electrode 34 are alternately formed in each pixel region defined by the intersection of the gate line 12 and the data line 18, thereby generating a transverse electric field, thereby driving the liquid crystal.

또한, 게이트 라인(12)에 인가되는 신호에 의해 스위칭 되어 데이터 라인(18)에 인가되는 신호를 각 화소 전극(26)에 전달하기 위하여 게이트 라인(12)과 데이터 라인(18)의 교차 부위에는 복수 개의 박막 트랜지스터가 형성된다.In addition, at the intersection of the gate line 12 and the data line 18 to be switched by a signal applied to the gate line 12 to transmit a signal applied to the data line 18 to each pixel electrode 26. A plurality of thin film transistors are formed.

여기서, 박막 트랜지스터는 게이트 라인(12)으로부터 돌출되어 형성되는 게이트 전극(12a)과, 게이트 전극(12a) 상부에 형성되는 반도체층(도시하지 않음)과, 데이터 라인(18)으로부터 돌출되어 게이트 전극(12a) 상부 일측에 형성되는 소스 전극(18a)과, 상기 소스 전극(18a)과 일정한 간격을 갖고 게이트 전극(12a) 상부 타측에 형성되는 드레인 전극(20)을 포함하여 구성되어 있다.Here, the thin film transistor is formed by protruding from the gate line 12, the gate electrode 12a, the semiconductor layer (not shown) formed on the gate electrode 12a, and the data line 18. A source electrode 18a formed on one side of the upper portion and a drain electrode 20 formed on the other side of the gate electrode 12a at regular intervals from the source electrode 18a are formed.

그리고, 게이트 라인(12)과 평행하도록 공통 라인(30)이 형성되고, 상기 공통 전극(34)은 공통 라인(30)에서 분기되어 형성된다. 공통 라인(30)과 게이트 라 인(12) 사이에는 공통 라인(30)으로부터 돌출된 스토리지 전극(32)이 형성되어 있다. 스토리지 전극(32)은 드레인 전극(20) 및 화소 전극(26)과 오버랩되어 스토리지 캐패시터를 형성한다. 스토리지 캐패시터는 데이터 신호를 안정적으로 유지시키도록 하기 위해 필요한 것이다.The common line 30 is formed to be parallel to the gate line 12, and the common electrode 34 is branched from the common line 30. The storage electrode 32 protruding from the common line 30 is formed between the common line 30 and the gate line 12. The storage electrode 32 overlaps the drain electrode 20 and the pixel electrode 26 to form a storage capacitor. Storage capacitors are needed to keep data signals stable.

도시는 생략하였으나, 게이트 라인(12) 및 게이트 전극(12a)을 포함한 기판 전면에는 게이트 절연막이 형성되어 반도체층과의 사이를 절연하는 역할을 하고 있으며, 소스 전극(18a) 및 드레인 전극(20)을 포함한 기판 전면에는 보호막이 형성되어 있다. 또한, 드레인 전극(20)의 상부의 보호막에는 콘택홀(24)이 형성되어 있으며, 화소 전극(26)은 콘택홀(24)을 통해 드레인 전극(20)과 전기적으로 연결되어 있다.Although not shown, a gate insulating film is formed on the entire surface of the substrate including the gate line 12 and the gate electrode 12a to insulate the semiconductor layer from the source electrode 18a and the drain electrode 20. The protective film is formed on the entire surface of the substrate including the. In addition, a contact hole 24 is formed in the passivation layer on the drain electrode 20, and the pixel electrode 26 is electrically connected to the drain electrode 20 through the contact hole 24.

이상에서 설명한 바와 같이 박막 트랜지스터가 형성된 제 1 기판을 박막 트랜지스터 어레이 기판이라 한다.As described above, the first substrate on which the thin film transistor is formed is called a thin film transistor array substrate.

또한, 제 1 기판에 대응하는 제 2 기판에는 화소 영역을 제외한 부분의 빛을 차단하기 위한 블랙 매트릭스(52)과, 컬러 색상을 표현하기 위한 적색, 녹색, 청색 컬러 필터층(도시하지 않음)이 형성되어 있다. 이를 컬러 필터 어레이 기판이라 한다.In addition, the second substrate corresponding to the first substrate is provided with a black matrix 52 for blocking light in portions other than the pixel region, and red, green, and blue color filter layers (not shown) for expressing color colors. It is. This is called a color filter array substrate.

도면에서는 컬러 필터층은 생략하고 블랙 매트릭스(52) 만을 도시하였다. 이때 블랙 매트릭스(52)는 게이트 라인(12), 데이터 라인(18), 및 박막 트랜지스터에 대응하는 부분에 형성된다. In the drawing, only the black matrix 52 is illustrated without the color filter layer. In this case, the black matrix 52 is formed at portions corresponding to the gate line 12, the data line 18, and the thin film transistor.

한편, 화소 전극(26)은 일반적으로 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide) 등의 투명한 물질로 형성된다. 화소 전극(26) 하부에 드레인 전극(20), 공통 라인(30) 등 불투명한 물질이 형성되어 있는 곳에서는 제 1 기판 하부로부터 나오는 빛이 화소 전극(26)을 통과하지 못한다. 반면에, 화소 전극(26) 하부에 투명한 물질만 있는 위치에서는 제 1 기판 하부로부터 나오는 빛이 화소 전극(26)을 통과하게 된다. Meanwhile, the pixel electrode 26 is generally formed of a transparent material such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO). Where opaque materials such as the drain electrode 20 and the common line 30 are formed under the pixel electrode 26, light from the lower portion of the first substrate does not pass through the pixel electrode 26. On the other hand, in the position where only the transparent material is under the pixel electrode 26, light from the lower part of the first substrate passes through the pixel electrode 26.

상기와 같이 횡전계방식으로 구동되는 액정표시장치에서는 화소 전극(26)과 공통 전극(34) 사이에 발생하는 횡전계에 의해 액정이 움직이게 된다. 이때, 화소 전극(26) 및 공통 전극(34)의 상부에 위치하는 액정은 횡전계에 의해 제어되지 않는다. 따라서 화소 전극(26) 상부에서는 빛샘이 발생하게 되고, 블랙(Black)상태의 휘도가 높아서, 콘트라스트비(contrast ratio)가 낮아지는 문제점이 있다. In the liquid crystal display device driven by the transverse electric field as described above, the liquid crystal moves by the transverse electric field generated between the pixel electrode 26 and the common electrode 34. At this time, the liquid crystal positioned on the pixel electrode 26 and the common electrode 34 is not controlled by the transverse electric field. Accordingly, light leakage occurs in the upper portion of the pixel electrode 26, and the luminance of the black state is high, resulting in a low contrast ratio.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로서, 횡전계방식으로 구동되는 액정표시장치에서 화소 전극 상부의 빛샘을 방지하여 블랙 상태의 휘도를 낮추고, 이에 따라 콘트라스트비(contrast ratio)를 높일 수 있는 액정표시장치를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve the above problems, in the liquid crystal display device driven by the transverse electric field method to prevent light leakage on the upper pixel electrode to lower the brightness of the black state, thereby increasing the contrast ratio (contrast ratio) It is an object of the present invention to provide a liquid crystal display device.

상기와 같은 목적에 따른 본 발명에 의한 액정표시장치는 서로 마주보는 제 1 기판 및 제 2 기판, 상기 제 1 기판 상에 서로 교차하여 화소 영역을 정의하는 게이트 라인 및 데이터 라인, 상기 게이트 라인과 데이터 라인의 교차부에 형성되는 박막 트랜지스터, 상기 게이트 라인과 평행하게 형성되는 공통 라인, 상기 박막 트랜지스터와 연결되어 화소 영역에 형성되는 복수개의 화소 전극, 상기 공통 라인으로부터 분기되어 화소 전극과 교번하는 복수개의 공통 전극, 상기 게이트 라인, 데이터 라인, 박막 트랜지스터 및 화소 전극에 대응하도록 상기 제 2 기판 상에 형성되는 블랙 매트릭스, 상기 화소 영역에 대응하도록 상기 제 2 기판 상에 형성되는 컬러 필터층을 포함하여 구성되어 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, a liquid crystal display device includes a first substrate and a second substrate facing each other, a gate line and a data line defining a pixel region crossing each other on the first substrate, and the gate line and data. A thin film transistor formed at an intersection of the lines, a common line formed in parallel with the gate line, a plurality of pixel electrodes connected to the thin film transistor and formed in a pixel region, and a plurality of branches branched from the common line to alternate with the pixel electrode And a black matrix formed on the second substrate to correspond to the common electrode, the gate line, the data line, the thin film transistor, and the pixel electrode, and a color filter layer formed on the second substrate to correspond to the pixel region. have.

또한, 상기와 같은 액정표시장치에 있어서, 상기 공통 전극은 상기 공통 라인으로부터 분기되어 상기 화소 영역의 외곽을 둘러싸고 형성되는 제 1 공통 전극과, 상기 제 1 공통 전극과 연결되어 상기 화소 전극들 사이에 형성되는 제 2 공통 전극으로 이루어진 것을 특징으로 하고, 상기 블랙 매트릭스는 상기 제 2 공통 전극의 상부에 더 형성되는 것을 특징으로 한다.Further, in the liquid crystal display device as described above, the common electrode is branched from the common line to surround the outside of the pixel area, and is formed between the pixel electrode connected to the first common electrode. The second common electrode is formed, and the black matrix is further formed on the second common electrode.

이하, 첨부된 도면을 참고하여 본 발명의 제 1 실시예에 의한 액정표시장치를 자세히 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, a liquid crystal display according to a first embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 의한 액정표시장치를 나타내는 평면도이고, 도 3은 도 2의 Ⅰ-Ⅰ'에 따른 본 발명의 제 1 실시예에 의한 액정표시장치를 나타내는 단면도이다.2 is a plan view illustrating a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention according to II ′ of FIG. 2.

먼저, 본 발명의 제 1 실시예에 의한 액정표시장치는 서로 마주보는 제 1 기판(110) 및 제 2 기판(150)과, 제 1 기판(110) 상에 서로 교차하여 화소 영역을 정의하는 게이트 라인(112) 및 데이터 라인(118)과, 게이트 라인(112)과 데이터 라인(118)의 교차부에 형성되는 박막 트랜지스터와, 게이트 라인(112)과 평행하게 형성되는 공통 라인(130)과, 박막 트랜지스터와 연결되어 화소 영역에 형성되는 복수 개의 화소 전극(126)과, 공통 라인(130)으로부터 분기되어 화소 전극(126)과 교번하여 형성되는 복수개의 공통 전극(134)과, 게이트 라인(112), 데이터 라인(118), 박막 트랜지스터 및 화소 전극(126)에 대응하도록 제 2 기판(150)상에 형성되는 블랙 매트릭스(152)와, 화소 영역에 대응하도록 제 2 기판(150) 상에 형성되는 컬러 필터층(154)을 포함하여 구성된다.First, the liquid crystal display according to the first exemplary embodiment of the present invention includes a first substrate 110 and a second substrate 150 facing each other, and a gate crossing each other on the first substrate 110 to define a pixel region. A thin film transistor formed at an intersection of the line 112 and the data line 118, the gate line 112 and the data line 118, the common line 130 formed in parallel with the gate line 112, A plurality of pixel electrodes 126 connected to the thin film transistor and formed in the pixel region, a plurality of common electrodes 134 branched from the common line 130 and alternately formed with the pixel electrode 126, and a gate line 112. ), A black matrix 152 formed on the second substrate 150 to correspond to the data line 118, the thin film transistor, and the pixel electrode 126, and a black matrix 152 formed on the second substrate 150 to correspond to the pixel region. It is configured to include a color filter layer 154.

블랙 매트릭스(152)는 화면을 표시하는 영역인 화소 영역을 제외한 부분에서 빛이 통과하는 것을 막기 위해 형성되는 것으로서, 게이트 라인(112), 데이터 라인(118), 박막 트랜지스터에 대응하도록 형성된다. 또한, 본 발명은 화소 전극(126)과 공통 전극(134) 사이에 발생하는 횡전계에 의해 구동이 되는 것으로, ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide) 등의 투명한 금속으로 형성되는 화소 전극(126) 상부에서 액정이 움직이지 않아 빛샘이 발생하는 것을 방지하기 위해 화소 전극(126)에 대응하도록 블랙 매트릭스(152)가 형성된다.The black matrix 152 is formed to prevent light from passing through portions other than the pixel region, which is an area displaying the screen, and is formed to correspond to the gate line 112, the data line 118, and the thin film transistor. In addition, the present invention is driven by a transverse electric field generated between the pixel electrode 126 and the common electrode 134, the pixel is formed of a transparent metal such as indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO) The black matrix 152 is formed to correspond to the pixel electrode 126 in order to prevent light leakage due to the liquid crystal not moving above the electrode 126.

박막 트랜지스터는 게이트 라인(112)으로부터 돌출되어 형성되는 게이트 전극(112a)과, 게이트 전극(112a) 상부에 형성되는 반도체층(116)과, 데이터 라인(118)으로부터 돌출되어 게이트 전극(112a) 상부 일측에 형성되는 소스 전극(118a)과, 상기 소스 전극(118a)과 일정한 간격을 갖고 게이트 전극(112a) 상부 타측에 형성되는 드레인 전극(120)을 포함하여 구성되어 있다.The thin film transistor protrudes from the gate line 112, the semiconductor layer 116 formed over the gate electrode 112a, and the data line 118 protrudes from the gate electrode 112a. A source electrode 118a formed on one side and a drain electrode 120 formed on the other side of the gate electrode 112a at regular intervals from the source electrode 118a are formed.

공통 라인(130)과 게이트 라인(112) 사이에는 공통 라인(130)으로부터 돌출된 스토리지 전극(132)이 형성되어 있다. 스토리지 전극(132)은 드레인 전극(120) 및 화소 전극(126)과 오버랩되어 스토리지 캐패시터를 형성한다. 스토리지 캐패시 터는 데이터 신호를 안정적으로 유지시키도록 하기 위해 필요한 것이다.The storage electrode 132 protruding from the common line 130 is formed between the common line 130 and the gate line 112. The storage electrode 132 overlaps the drain electrode 120 and the pixel electrode 126 to form a storage capacitor. Storage capacitors are needed to keep data signals stable.

게이트 라인(112) 및 게이트 전극(112a)을 포함한 제 1 기판(114) 전면에는 게이트 절연막이 형성되어 반도체층(116)과의 사이를 절연하는 역할을 하고 있으며, 소스 전극(118a) 및 드레인 전극(120)을 포함한 제 1 기판(114) 전면에는 보호막(122)이 형성되어 있다. 또한, 드레인 전극(120) 상부의 보호막(122)에는 콘택홀(124)이 형성되어 있으며, 화소 전극(126)은 콘택홀(124)을 통해 드레인 전극(120)과 전기적으로 연결되어 있다.A gate insulating film is formed on the entire surface of the first substrate 114 including the gate line 112 and the gate electrode 112a to insulate the semiconductor layer 116 from the source electrode 118a and the drain electrode. The passivation layer 122 is formed on the entire surface of the first substrate 114 including the 120. In addition, a contact hole 124 is formed in the passivation layer 122 on the drain electrode 120, and the pixel electrode 126 is electrically connected to the drain electrode 120 through the contact hole 124.

다음으로, 첨부된 도면을 참고하여 본 발명의 제 2 실시예에 의한 액정표시장치를 자세히 설명하면 다음과 같다. Next, a liquid crystal display according to a second embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 4는 본 발명의 제 2 실시예에 의한 액정표시장치를 나타내는 평면도이고, 도 5는 도 4의 Ⅱ-Ⅱ'에 따른 본 발명의 제 2 실시예에 의한 액정표시장치를 나타내는 단면도이다.4 is a plan view showing a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a cross-sectional view showing a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention according to II-II 'of FIG. 4.

본 발명의 제 2 실시예에 의한 액정표시장치는 서로 마주보는 제 1 기판(210) 및 제 2 기판(250)과, 제 1 기판(210) 상에 서로 교차하여 화소 영역을 정의하는 게이트 라인(212) 및 데이터 라인(218)과, 게이트 라인(212)과 데이터 라인(218)의 교차부에 형성되는 박막 트랜지스터와, 게이트 라인(212)과 평행하게 형성되는 공통 라인(230)과, 박막 트랜지스터와 연결되어 화소 영역에 형성되는 복수개의 화소 전극(226)과, 공통 라인(230)으로부터 분기되어 화소 전극(226)과 교번하여 형성되는 복수개의 공통 전극(234)과, 게이트 라인(212), 데이터 라인(218), 박막 트랜지스터의 전체 영역 및 화소 전극(226)의 일부 영역에 대응하도록 제 2 기판(250)상에 형성되는 블랙 매트릭스(252)와, 화소 영역에 대응하도록 제 2 기판(250) 상에 형성되는 컬러 필터층(254)을 포함하여 구성된다.The liquid crystal display according to the second exemplary embodiment of the present invention includes a first substrate 210 and a second substrate 250 facing each other, and a gate line intersecting each other on the first substrate 210 to define a pixel region. 212 and the data line 218, the thin film transistor formed at the intersection of the gate line 212 and the data line 218, the common line 230 formed in parallel with the gate line 212, and the thin film transistor. A plurality of pixel electrodes 226 connected to the plurality of pixel electrodes 226 formed in the pixel region, a plurality of common electrodes 234 branched from the common line 230, and alternately formed with the pixel electrodes 226, a gate line 212, The black matrix 252 is formed on the second substrate 250 to correspond to the data line 218, the entire region of the thin film transistor, and a part of the pixel electrode 226, and the second substrate 250 to correspond to the pixel region. It is configured to include a color filter layer 254 formed on the).

제 2 실시예에 의한 액정표시장치는 제 1 실시예의 경우와 비교하여 블랙 매트릭스가 형성되는 위치를 제외한 부분은 모두 동일한바 이에 대한 설명은 생략한다. 즉, 제 2 실시예에 의한 액정표시장치에서는 블랙 매트릭스(252)가 게이트 라인(212), 데이터 라인(218), 박막 트랜지스터의 전체 영역에 대응하도록 형성되고, 화소 전극(226)의 일부 영역에 대응하도록 형성된다는 점에 특징이 있다.In the liquid crystal display according to the second embodiment, all parts except for the position where the black matrix is formed are the same as in the case of the first embodiment, and description thereof will be omitted. That is, in the liquid crystal display according to the second embodiment, the black matrix 252 is formed to correspond to the entire region of the gate line 212, the data line 218, and the thin film transistor, and is formed in a portion of the pixel electrode 226. It is characterized in that it is formed to correspond.

제 1 실시예에 의한 액정표시장치에서는 화소 전극의 전체 영역에 대응하도록 블랙 매트릭스를 형성함으로써, 블랙 상태에서 휘도를 낮추는 효과는 극대화시킬 수 있는 반면에, 화이트 상태에서의 휘도 역시 낮아지므로 전체적인 휘도 저하가 우려된다.In the liquid crystal display device according to the first embodiment, the black matrix is formed to correspond to the entire region of the pixel electrode, so that the effect of lowering the luminance in the black state can be maximized, while the luminance in the white state is also lowered, so that the overall luminance is lowered. Is concerned.

이에 반해 제 2 실시예에 의한 액정표시장치의 경우에는 화소 전극(226)의 폭보다 더 좁은 폭으로 화소 전극(226)의 일부 영역에 대응하도록 블랙 매트릭스(252)를 형성함으로써 블랙 상태의 휘도를 낮추는 효과를 얻으면서도 전체적인 휘도 저하는 방지할 수 있다.In contrast, in the liquid crystal display according to the second exemplary embodiment, the black matrix 252 is formed to correspond to a partial region of the pixel electrode 226 with a width narrower than that of the pixel electrode 226 so that the luminance of the black state is increased. The lowering effect can be prevented while reducing the overall luminance.

다음으로, 첨부된 도면을 참고하여 본 발명의 제 3 실시예에 의한 액정표시장치를 자세히 설명하면 다음과 같다. Next, a liquid crystal display according to a third embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 6은 본 발명의 제 3 실시예에 의한 액정표시장치를 나타내는 평면도이다.6 is a plan view of a liquid crystal display according to a third exemplary embodiment of the present invention.

본 발명의 제 3 실시예에 의한 액정표시장치는 게이트 라인(312), 데이터 라인(318), 박막 트랜지스터, 공통 라인(330), 공통 전극(334), 및 화소 전극(326)은 제 1 실시예에 의한 액정표시장치와 동일한 구조로 형성된다.In the liquid crystal display according to the third exemplary embodiment of the present invention, the gate line 312, the data line 318, the thin film transistor, the common line 330, the common electrode 334, and the pixel electrode 326 are implemented in the first embodiment. It is formed in the same structure as the liquid crystal display according to the example.

다만, 제 2 실시예와 같이 블랙 매트릭스(352)가 게이트 라인(312), 데이터 라인(318), 박막 트랜지스터의 전체 영역에 대응하도록 형성되고, 화소 전극(326)의 일부 영역에 대응하도록 형성된다는 점에 특징이 있다. 즉, 도 6에 도시된 바와 같이, 제 1 기판(도시하지 않음)의 화소 전극(326)에 대응하는 제 2 기판(도시하지 않음) 상에 게이트 라인(312)과 평행한 방향으로 줄 무늬를 가지도록 블랙 매트릭스(352)가 형성되어 있다. However, as in the second embodiment, the black matrix 352 is formed to correspond to the entire region of the gate line 312, the data line 318, and the thin film transistor, and is formed to correspond to a partial region of the pixel electrode 326. There is a characteristic in point. That is, as shown in FIG. 6, stripes are patterned in a direction parallel to the gate line 312 on the second substrate (not shown) corresponding to the pixel electrode 326 of the first substrate (not shown). The black matrix 352 is formed to have.

상기 제 2 실시예 및 제 3 실시예에서는 블랙 매트릭스가 화소 전극의 일부 영역에 대응되도록 형성되는 것을 특징으로 한다. 본 발명은 블랙 매트릭스가 제 2 및 제 3 실시예에서 설명한 형태로 형성되는 경우에만 한정되는 것이 아니며, 블랙 매트릭스가 화소 전극의 일부 영역에 대응되도록 형성되는 모든 경우를 포함한다. 예를 들면, 제 1 기판의 한 화소 전극에 대응하도록 데이터 라인과 평행한 방향으로 복수개의 줄 무늬를 가지도록 블랙 매트릭스가 형성되는 것도 가능하다.In the second and third embodiments, the black matrix is formed to correspond to a partial region of the pixel electrode. The present invention is not limited to the case where the black matrix is formed in the form described in the second and third embodiments, and includes all cases in which the black matrix is formed to correspond to a partial region of the pixel electrode. For example, the black matrix may be formed to have a plurality of stripes in a direction parallel to the data line so as to correspond to one pixel electrode of the first substrate.

다음으로, 첨부된 도면을 참고하여 본 발명의 제 4 실시예에 의한 액정표시장치를 자세히 설명하면 다음과 같다. Next, a liquid crystal display according to a fourth embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 7은 본 발명의 제 4 실시예에 의한 액정표시장치를 나타내는 평면도이고, 도 8은 도 7의 Ⅲ-Ⅲ'에 따른 본 발명의 제 4 실시예에 의한 액정표시장치를 나타내는 단면도이다.7 is a plan view illustrating a liquid crystal display device according to a fourth embodiment of the present invention, and FIG. 8 is a cross-sectional view showing a liquid crystal display device according to a fourth embodiment of the present invention according to III-III ′ of FIG. 7.

본 발명의 제 4 실시예에 의한 액정표시장치는 서로 마주보는 제 1 기판(410) 및 제 2 기판(450)과, 제 1 기판(410) 상에 서로 교차하여 화소 영역을 정 의하는 게이트 라인(412) 및 데이터 라인(418)과, 게이트 라인(412)과 데이터 라인(418)의 교차부에 형성되는 박막 트랜지스터와, 게이트 라인(412)과 평행하게 형성되는 공통 라인(430)과, 박막 트랜지스터와 연결되어 화소 영역에 형성되는 복수개의 화소 전극(426)과, 공통 라인(430)으로부터 분기되어 화소 영역의 외곽을 둘러싸고 형성되는 제 1 공통 전극(434)과, 제 1 공통 전극(434)과 연결되어 복수 개의 화소 전극(426)들 사이에 형성되는 제 2 공통 전극(436)과, 게이트 라인(412), 데이터 라인(418), 박막 트랜지스터, 화소 전극(426) 및 제 2 공통 전극(434)에 대응하도록 제 2 기판(450)상에 형성되는 블랙 매트릭스(452)와, 화소 영역에 대응하도록 제 2 기판(450) 상에 형성되는 컬러 필터층(454)을 포함하여 구성된다.In the liquid crystal display according to the fourth exemplary embodiment of the present invention, the first substrate 410 and the second substrate 450 facing each other, and the gate line crossing the first substrate 410 and defining pixel regions intersecting with each other. 412 and the data line 418, the thin film transistor formed at the intersection of the gate line 412 and the data line 418, the common line 430 formed in parallel with the gate line 412, and the thin film A plurality of pixel electrodes 426 connected to the transistor and formed in the pixel region, a first common electrode 434 formed from a common line 430 to surround the pixel region, and a first common electrode 434. A second common electrode 436 connected to the plurality of pixel electrodes 426, a gate line 412, a data line 418, a thin film transistor, a pixel electrode 426, and a second common electrode ( A black matrix 452 formed on the second substrate 450 to correspond to 434, and a pixel And a color filter layer 454 formed on the second substrate 450 to correspond to the region.

제 4 실시예에 의한 액정표시장치에서 제 1 및 제 2 공통 전극(434, 436), 블랙 매트릭스(452)를 제외한 부분은 제 1 실시예의 경우와 동일한바 이에 대한 자세한 설명은 생략한다. 즉, 제 4 실시예에 의한 액정표시장치에서는 공통 전극이 공통 라인(430)으로부터 분기되어 화소 영역의 외곽을 둘러싸고 형성되는 제 1 공통 전극(434)과, 제 1 공통 전극(434)과 연결되어 복수 개의 화소 전극(426)들 사이에 형성되는 제 2 공통 전극(436)으로 이루어져 있다는 점과 블랙 매트릭스(452)가 제 2 공통 전극(452)에 대응하도록 제 2 기판(450) 상에 더 형성된다는 점에 특징이 있다.In the liquid crystal display according to the fourth exemplary embodiment, parts except for the first and second common electrodes 434 and 436 and the black matrix 452 are the same as in the first exemplary embodiment, and thus a detailed description thereof will be omitted. That is, in the liquid crystal display according to the fourth exemplary embodiment, the common electrode is branched from the common line 430 and connected to the first common electrode 434 and the first common electrode 434 formed to surround the outside of the pixel area. The second common electrode 436 is formed between the plurality of pixel electrodes 426 and the black matrix 452 is further formed on the second substrate 450 to correspond to the second common electrode 452. It is characteristic in that it becomes.

블랙 매트릭스(452)는 도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이, 게이트 라인(412), 데이터 라인(418) 및 박막 트랜지스터의 전체 영역에 대응되도록 형성되고, 제 2 공통 전극(436) 및 화소 전극(426)에 대응되어 더 좁은 폭으로 형성된다. 그러나 본 발명은 이 경우에 한정되는 것이 아니며, 제 2 공통 전극(436) 및 화소 전극(426)의 전체 영역에 대응되도록 형성되는 것도 가능하다. 또한, 제 2 공통 전극(436) 및 화소 전극(426)에 대응되어 게이트 라인(412)과 평행하게 또는 데이터 라인(418)과 평행하게 줄무늬를 가지도록 형성되는 것도 가능하다.As illustrated in FIGS. 7 and 8, the black matrix 452 is formed to correspond to the entire region of the gate line 412, the data line 418, and the thin film transistor, and the second common electrode 436 and the pixel electrode are formed. Corresponding to 426 is formed in a narrower width. However, the present invention is not limited to this case, and may be formed to correspond to the entire areas of the second common electrode 436 and the pixel electrode 426. In addition, the second common electrode 436 and the pixel electrode 426 may be formed to have stripes in parallel with the gate line 412 or in parallel with the data line 418.

상기에서 화소 전극(426)과 제 2 공통 전극(436)은 동일한 층에 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide) 등의 투명한 금속으로 형성된다. 제 2 공통 전극은 제 1 공통 전극(434)과 콘택홀(438)을 통하여 전기적으로 연결되어 있다.The pixel electrode 426 and the second common electrode 436 are formed of a transparent metal such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO) in the same layer. The second common electrode is electrically connected to the first common electrode 434 through the contact hole 438.

제 1 내지 제 4 실시예에서는 화소 전극이 데이터 라인과 평행하게 형성되어 있으나, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니며, 화소 전극이 한 화소 영역 내에서 한 번 꺾이는 모양으로 형성되고, 이에 따라 공통 전극도 동일한 방향으로 한 번 꺾이는 모양으로 형성될 수 있다. 또한, 한 화소 영역 내에서 화소 전극 및 공통 전극이 여러번 꺾이는 모양으로 형성되는 것도 가능하다.In the first to fourth embodiments, the pixel electrode is formed in parallel with the data line. However, the present invention is not limited thereto, and the pixel electrode is formed to be bent once in one pixel area. It may be formed in the shape of bending once in the same direction. In addition, the pixel electrode and the common electrode may be formed to be bent several times in one pixel area.

한편, 이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be taken by way of limitation, Will be apparent to those of ordinary skill in the art.

상기한 바와 같은 본 발명에 의한 액정표시장치는 다음과 같은 효과가 있다.The liquid crystal display device according to the present invention as described above has the following effects.

첫째, 제 1 기판에 투명한 물질로 형성된 화소 전극 또는 공통 전극에 대응하도록 제 2 기판에 블랙 매트릭스를 형성함으로써, 화소 전극 또는 공통 전극의 상부로의 빛샘이 발생하는 것을 방지할 수 있다.First, by forming a black matrix on the second substrate so as to correspond to the pixel electrode or the common electrode formed of a transparent material on the first substrate, light leakage to the upper portion of the pixel electrode or the common electrode may be prevented.

둘째, 빛샘을 감소시킴으로써 블랙 상태에서의 휘도가 감소하고, 이에 따라 콘트라스트비가 증가하는 효과가 있다.Second, the brightness in the black state is reduced by reducing the light leakage, thereby increasing the contrast ratio.

셋째, 화소 전극 및 공통 전극을 불투명 금속으로 형성하여 빛샘을 방지하는 경우와 비교하였을 때, 비용 절감의 효과가 있다. 즉, 화소 전극 및 공통 전극을 불투명 금속으로 형성하고자 하는 경우에는 투명 금속에 비해 비용이 많이 드는 반면에, 본 발명의 경우에는 블랙 매트릭스를 추가적으로 형성함으로써 저렴한 비용으로 본 발명의 목적을 달성할 수 있다.Third, compared with the case where the pixel electrode and the common electrode are formed of an opaque metal to prevent light leakage, there is an effect of reducing the cost. That is, in the case of forming the pixel electrode and the common electrode as an opaque metal, it is more expensive than the transparent metal, but in the case of the present invention, the object of the present invention can be achieved at a low cost by additionally forming a black matrix. .

Claims (12)

서로 마주보는 제 1 기판 및 제 2 기판;A first substrate and a second substrate facing each other; 상기 제 1 기판 상에 서로 교차하여 화소 영역을 정의하는 게이트 라인 및 데이터 라인;A gate line and a data line crossing each other on the first substrate to define a pixel region; 상기 게이트 라인과 데이터 라인의 교차부에 형성되는 박막 트랜지스터;A thin film transistor formed at an intersection of the gate line and the data line; 상기 게이트 라인과 평행하게 형성되는 공통 라인;A common line formed in parallel with the gate line; 상기 박막 트랜지스터와 연결되어 화소 영역에 형성되는 복수개의 화소 전극;A plurality of pixel electrodes connected to the thin film transistors and formed in the pixel area; 상기 공통 라인으로부터 분기되어 상기 화소 전극과 교번하는 복수개의 공통 전극;A plurality of common electrodes branched from the common line to alternate with the pixel electrode; 상기 게이트 라인, 데이터 라인, 박막 트랜지스터, 화소 전극 및 공통 전극에 대응하도록 상기 제 2 기판 상에만 형성되는 블랙 매트릭스;A black matrix formed only on the second substrate so as to correspond to the gate line, the data line, the thin film transistor, the pixel electrode, and the common electrode; 상기 화소 영역에 대응하도록 상기 제 2 기판 상에 형성되는 컬러 필터층을 포함하며,A color filter layer formed on the second substrate to correspond to the pixel region; 상기 블랙 매트릭스는 상기 화소 전극 및 공통 전극의 일부 영역에 대응되도록 형성되며, 상기 화소 전극 및 공통 전극의 폭보다 좁은 폭을 갖도록 형성되어, 상기 화소 전극 및 공통 전극의 가장자리는 상기 블랙 매트릭스에 의해 노출되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.The black matrix is formed to correspond to a portion of the pixel electrode and the common electrode, and is formed to have a width narrower than that of the pixel electrode and the common electrode, and edges of the pixel electrode and the common electrode are exposed by the black matrix. Liquid crystal display device characterized in that. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 화소 전극은 투명한 금속으로 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.The pixel electrode is formed of a transparent metal. 삭제delete 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 블랙 매트릭스는 상기 게이트 라인, 데이터 라인, 및 박막 트랜지스터의 전체 영역에 대응하도록 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.And the black matrix is formed to correspond to an entire area of the gate line, the data line, and the thin film transistor. 삭제delete 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 화소 전극의 일부 영역에 대응하도록 형성되는 상기 블랙 매트릭스는,The black matrix formed to correspond to a partial region of the pixel electrode, 상기 게이트 라인과 평행한 방향으로 또는 상기 데이터 라인과 평행한 방향으로 줄 무늬를 가지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.And a stripe pattern in a direction parallel to the gate line or in a direction parallel to the data line. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 공통 전극은 상기 공통 라인으로부터 분기되어 상기 화소 영역의 외곽을 둘러싸고 형성되는 제 1 공통 전극과, 상기 제 1 공통 전극과 연결되어 상기 화소 전극들 사이에 형성되는 제 2 공통 전극으로 이루어진 것을 특징으로 하고, The common electrode may include a first common electrode branched from the common line to surround the pixel area, and a second common electrode connected to the first common electrode and formed between the pixel electrodes. and, 상기 블랙 매트릭스는 상기 제 2 공통 전극의 일부 영역에 대응되도록 형성되며, 상기 제 2 공통 전극의 폭보다 좁은 폭을 갖도록 형성되어, 상기 제 2 공통 전극의 가장자리는 상기 블랙 매트릭스에 의해 노출되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.The black matrix is formed to correspond to a portion of the second common electrode, and is formed to have a width narrower than that of the second common electrode, and an edge of the second common electrode is exposed by the black matrix. A liquid crystal display device. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 화소 전극 및 제 2 공통 전극은 투명한 금속으로 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.The pixel electrode and the second common electrode are formed of a transparent metal. 삭제delete 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 블랙 매트릭스는 상기 게이트 라인, 데이터 라인, 및 박막 트랜지스터의 전체 영역에 대응하도록 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.And the black matrix is formed to correspond to an entire area of the gate line, the data line, and the thin film transistor. 삭제delete 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 제 2 공통 전극의 일부 영역에 대응하도록 형성되는 상기 블랙 매트릭스는,The black matrix formed to correspond to a partial region of the second common electrode, 상기 게이트 라인과 평행한 방향으로 또는 상기 데이터 라인과 평행한 방향으로 줄 무늬를 가지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.And a stripe pattern in a direction parallel to the gate line or in a direction parallel to the data line.
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