KR101371102B1 - Composition for Conductive Adhesive, Adhesive Film and Circuit Board Using the Same - Google Patents

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Abstract

본 발명에서는 실리콘 점착제 100 중량부에 대하여; 실리콘 레진 5~50 중량부; 및 카본나노튜브 0.01~5중량부를 포함하는 도전성 실리콘 점착제 조성물, 이를 이용한 점착필름 및 회로기판을 제공한다.
본 발명의 탄소나노튜브를 포함하는 도전성 점착 필름은 도전성을 구현하기 위한 물질인 도전성 입자로 탄소나노튜브를 사용한 결과, 금이나 은 등의 메탈계 입자를 사용했을 때보다 도전성이 매우 우수하고, 또한 탄소나노튜브의 밀도가 작아 상대적으로 매우 소량에도 목표로 하는 도전성을 구현할 수 있다는 장점이 있다. 또한, 본 발명의 도전성 실리콘 점착제는 실리콘 수지의 우수한 점착특성으로 인해 종래의 열경화성 점착제에서 피착제와의 점착을 위해 필요로 하는 고온에서의 장기간 열압착 공정이 불필요하고 상온에서의 간단한 압착공정만으로 피착제와 우수한 점착특성을 보이기 때문에 공정시간이 단축되고, 공정비용의 감소가 가능하다.
In the present invention with respect to 100 parts by weight of the silicone adhesive; 5 to 50 parts by weight of silicone resin; And it provides a conductive silicone pressure-sensitive adhesive composition, a pressure-sensitive adhesive film and a circuit board using the carbon nanotubes 0.01 to 5 parts by weight.
The conductive adhesive film including the carbon nanotubes of the present invention has excellent conductivity compared to using metal-based particles such as gold or silver as a result of using carbon nanotubes as conductive particles which are materials for implementing conductivity. Small density of carbon nanotubes has the advantage that the target conductivity can be achieved even in a relatively small amount. In addition, the conductive silicone pressure sensitive adhesive of the present invention does not require a long-term thermocompression process at a high temperature required for adhesion with the adhesive in the conventional thermosetting adhesive due to the excellent adhesive properties of the silicone resin, and is deposited only by a simple compression process at room temperature. Because of the excellent adhesion characteristics with the agent, the process time can be shortened and the process cost can be reduced.

Description

도전성 점착제 조성물, 그를 이용한 도전성 점착필름 및 회로기판{Composition for Conductive Adhesive, Adhesive Film and Circuit Board Using the Same}Composition for Conductive Adhesive, Adhesive Film and Circuit Board Using the Same

본 발명은 도전성 점착제 조성물, 그를 이용한 도전성 점착필름 및 회로기판에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 탄소나노튜브가 실리콘 바인더 수지에 분산되어 도전성이 우수하면서도 상온에서 간단한 압착공정만으로 피착제와 우수한 점착특성을 보이는 회로기판용 도전성 점착제 조성물, 그를 이용한 도전성 점착필름 및 회로기판에 관한 것이다.The present invention relates to a conductive pressure-sensitive adhesive composition, a conductive pressure-sensitive adhesive film and a circuit board using the same, and more particularly, carbon nanotubes are dispersed in a silicone binder resin and excellent in electrical conductivity and adhesive properties and excellent adhesive properties only by a simple pressing process at room temperature It relates to a conductive pressure-sensitive adhesive composition for a circuit board, a conductive pressure-sensitive adhesive film and a circuit board using the same.

종래의 회로기판의 보강판 소재로서는 유리 에폭시(glass epoxy) 수지가 사용되어 왔지만, 소형화하기 위해 얇은 보강판이 필요하고, 이에 따라 스테인리스 (stainless) 보강판이 이를 대체하고 있다.Glass epoxy resins have been used as a reinforcing plate material of a conventional circuit board, but a thin reinforcing plate is required for miniaturization, and a stainless steel reinforcing plate is replaced by this.

이와 같은 보강판을 연성회로 기판에 점착시키기 위해 전기적 절연성을 가지는 점착 시트 (예: bonding sheet, Stiffener Adhesive Film)가 종래로부터 사용되고 있다. 그러나 스테인리스 보강판을 사용하는 경우, 보강 효과에 더하고, 스테인리스 판을 접지층에 접속시키는 방법으로 전자파 차폐(EMI shield) 효과를 발현시킬 수 있게 하기 위해 스테인리스 판과 연성회로 기판의 전극을 접속하는 것이 고안되었다.In order to adhere such a reinforcing plate to the flexible circuit board, an adhesive sheet having electrical insulation (eg, a bonding sheet, a stiffener adhesive film) is conventionally used. However, in the case of using a stainless steel reinforcing plate, in addition to the reinforcing effect, connecting the stainless plate and the electrode of the flexible circuit board in order to express the EMI shielding effect by connecting the stainless plate to the ground layer. Designed.

예를 들면 종래의 점착성 시트는 전기적으로 절연성이기 때문에 보강판으로서 금속을 사용하더라도 전기적 접속이 이루어지지 않아 보강효과는 얻어지지만, 이 금속의 보강판에 전류를 흘리는 것은 가능하지 않았고, 또한, 전자파 차폐 효과 및 그로 인한 회로 신호의 안정화를 발현시키는 것 역시 가능하지 않았다.For example, the conventional adhesive sheet is electrically insulating, so that even when a metal is used as the reinforcing plate, no electrical connection is made, and thus a reinforcing effect is obtained, but it is not possible to flow a current through the reinforcing plate of the metal. It was also not possible to express the effect and hence the stabilization of the circuit signal.

또한 기존 FPCB 공정에서는 열경화형 레진, 특히 에폭시계 레진을 주로 사용함으로써 고온에서의 장시간 열압착 공정을 필요로 함으로써, 공정시간의 장시간화, 공정비용의 상승을 초래하게 되어, 공정간소화를 위한 점착특성의 레진을 필요로 하였으나 점착 레진의 주요 물질인 아크릴계 레진은 FPCB공정상 필요로 하게 되는 열공정에 취약한 단점이 있어 주로 열경화성 점착제가 사용되어 왔다.In addition, the existing FPCB process mainly uses thermosetting resins, especially epoxy resins, and thus requires a long time thermocompression process at high temperature, resulting in a prolonged process time and an increase in process cost. Although acrylic resin, which is the main material of adhesive resin, has the disadvantage of being vulnerable to the thermal process required in the FPCB process, a thermosetting adhesive has been mainly used.

이에, 본 발명자들은 종래 FPCB 공정용 점착제들의 상술한 단점을 극복하기 위하여 예의 노력한 결과, 감압성 실리콘 점착제에 탄소나노튜브를 분산시켜 도전성 물질로 사용하면 FPCB 등의 회로 기판 본체와 금속제의 보강판과 같은 회로 부품 등을 전기적으로 상호 접속하는 것이 가능하고, 상온에서의 간단한 롤라미네이션 공정을 통해 우수한 점착특성을 나타낼 수 있음을 확인하고 본 발명을 완성하기에 이르렀다.Accordingly, the present inventors have made diligent efforts to overcome the above-mentioned disadvantages of the conventional FPCB process adhesives, and when the carbon nanotubes are dispersed in the pressure-sensitive silicone adhesive and used as a conductive material, the circuit board body such as FPCB and the reinforcing plate made of metal It was confirmed that the same circuit components and the like can be electrically interconnected and exhibit excellent adhesion characteristics through a simple roll lamination process at room temperature.

본 발명의 목적은 탄소나노튜브가 실리콘 바인더에 분산되어, 도전성이 우수하면서도 상온에서 간단한 압착공정만으로 피착제와 우수한 점착특성을 보이는 감압성 점착제 조성물을 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a pressure-sensitive adhesive composition in which carbon nanotubes are dispersed in a silicone binder, which has excellent conductivity and exhibits excellent adhesive properties with the adherend only by a simple pressing process at room temperature.

본 발명의 다른 목적은 상기 조성물을 이용한 도전성 점착필름을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a conductive adhesive film using the composition.

본 발명의 또 다른 목적은 상기 점착제 조성물을 이용하여 제조되는 회로기판을 제공하는 것이다.Still another object of the present invention is to provide a circuit board manufactured using the pressure-sensitive adhesive composition.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 도전성 실리콘 점착제 조성물은 실리콘 점착제 100 중량부에 대하여; 실리콘 레진 5~50 중량부; 및 카본나노튜브 0.01~5중량부를 포함한다.Conductive silicone pressure-sensitive adhesive composition of the present invention for achieving the above object is based on 100 parts by weight of silicone pressure-sensitive adhesive; 5 to 50 parts by weight of silicone resin; And 0.01 to 5 parts by weight of carbon nanotubes.

상기 실리콘 점착제는 ⅰ) 분자 양 말단이 알케닐 그룹으로 캡핑된 디오가노폴리실록산(점도 5× 105 cP 이상); ⅱ) R3SiO1 /2 단위(여기서, R은 알킬, 알케닐 또는 하이드록실 그룹이다) 및 SiO4 /2 단위로 구성된 오가노폴리실록산수지; ⅲ) 한 분자 내에 둘 이상의 규소 결합된 수소 원자를 갖는 오가노폴리실록산(이는 성분 디오가노폴리실록산의 알케닐 그룹 1개당 1 내지 20개의 규소 결합된 수소 원자를 갖는다) ⅳ) 백금계 촉매; 및 ⅴ) 유기 용매;를 포함하는 감압성 점착제 조성물인 것이 바람직하다.The silicone pressure-sensitive adhesive (iii) diorganopolysiloxane capped with alkenyl groups at both ends of the molecule (viscosity of 5 × 10 5 cP or more); Ⅱ) R 3 SiO 1/2 units (wherein, R is an alkyl, alkenyl or hydroxyl group) and an organopolysiloxane resin composed of SiO 4/2 units; Iii) organopolysiloxane having at least two silicon-bonded hydrogen atoms in one molecule, which has from 1 to 20 silicon-bonded hydrogen atoms per one alkenyl group of component diorganopolysiloxane; And iii) an organic solvent. It is preferable that it is a pressure-sensitive adhesive composition containing.

상기 실리콘 레진은 다음의 화학식 1로 표시되는 구조를 갖는 폴리디알킬실록산인 것이 바람직하다:.The silicone resin is preferably a polydialkylsiloxane having a structure represented by the following formula (1):

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure 112012011067451-pat00001
Figure 112012011067451-pat00001

상기 식에서, R은 메틸 또는 페닐기이다.Wherein R is a methyl or phenyl group.

상기 카본나노튜브의 평균길이는 0.01~20㎛인 것이 바람직하다.The average length of the carbon nanotubes is preferably 0.01 ~ 20㎛.

본 발명의 도전성 점착필름은 상기 도전성 실리콘 점착제가 이형 기재 위에 도포된 것이다.In the conductive adhesive film of the present invention, the conductive silicone adhesive is coated on a release substrate.

이때, 상기 도전성 실리콘 점착제의 도포두께는 10 내지 100㎛인 것이 바람직하다.At this time, it is preferable that the coating thickness of the said conductive silicone adhesive is 10-100 micrometers.

본 발명의 회로 기판은 본체와 회로부품이, 평균직경이 0.01 내지 20㎛인 탄소나노튜브를 포함하는 도전성 점착제 층에 의하여 점착되고, 전기적으로 접속되는 것을 특징으로 한다. The circuit board of the present invention is characterized in that the main body and the circuit component are adhered and electrically connected by a conductive adhesive layer containing carbon nanotubes having an average diameter of 0.01 to 20 µm.

본 발명의 탄소나노튜브를 포함하는 도전성 점착 필름은 도전성을 구현하기 위한 물질인 도전성 입자로 탄소나노튜브를 사용한 결과, 금이나 은 등의 메탈계 입자를 사용했을 때보다 도전성이 매우 우수하고, 또한 탄소나노튜브의 밀도가 작아 상대적으로 매우 소량에도 목표로 하는 도전성을 구현할 수 있다는 장점이 있다.The conductive adhesive film including the carbon nanotubes of the present invention has excellent conductivity compared to using metal-based particles such as gold or silver as a result of using carbon nanotubes as conductive particles which are materials for implementing conductivity. Small density of carbon nanotubes has the advantage that the target conductivity can be achieved even in a relatively small amount.

또한, 본 발명의 도전성 실리콘 점착제는 실리콘 수지의 우수한 점착특성으로 인해 종래의 열경화성 점착제에서 피착제와의 점착을 위해 필요로 하는 고온에서의 장기간 열압착 공정이 불필요하고 상온에서의 간단한 압착공정만으로 피착제와 우수한 점착특성을 보이기 때문에 공정시간이 단축되고, 공정비용의 감소가 가능하다.In addition, the conductive silicone pressure sensitive adhesive of the present invention does not require a long-term thermocompression process at a high temperature required for adhesion with the adhesive in the conventional thermosetting adhesive due to the excellent adhesive properties of the silicone resin, and is deposited only by a simple compression process at room temperature. Because of the excellent adhesion characteristics with the agent, the process time can be shortened and the process cost can be reduced.

1. 도전성 실리콘 점착제 조성물1.Conductive Silicone Adhesive Composition

본 발명의 도전성 실리콘 점착제 조성물은 실리콘 점착제 100 중량부에 대하여; 실리콘 레진 5~50 중량부; 및 카본나노튜브 0.01~5 중량부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이하, 본 발명의 도전성 실리콘 점착제 조성물의 각 조성을 상세히 설명한다.The conductive silicone pressure-sensitive adhesive composition of the present invention is based on 100 parts by weight of the silicone pressure-sensitive adhesive; 5 to 50 parts by weight of silicone resin; And 0.01 to 5 parts by weight of carbon nanotubes. Hereinafter, each composition of the electrically conductive silicone adhesive composition of this invention is demonstrated in detail.

1-1. 실리콘 점착제1-1. Silicone adhesive

본 발명의 도전성 실리콘 점착제 조성물에 적용되는 실리콘 점착제는 실리콘계 감압성 점착제 조성물을 말한다. 상기 실리콘계 감압성 점착제 조성물은 ⅰ) 분자 양 말단이 알케닐 그룹으로 캡핑된 디오가노폴리실록산을 주성분으로 하여 ⅱ) R3SiO1 /2 단위 및 SiO4 /2 단위로 구성된 오가노폴리실록산수지; ⅲ) 한 분자 내에 둘 이상의 규소 결합된 수소 원자를 갖는 오가노폴리실록산; ⅳ) 백금계 촉매; 및 ⅴ) 유기 용매;를 포함하는 조성이다.The silicone adhesive applied to the conductive silicone adhesive composition of the present invention refers to a silicone pressure-sensitive adhesive composition. The silicone-based pressure-sensitive adhesive composition ⅰ) organopolysiloxane resin composed mainly of a diorganopolysiloxane capped with both ends of a molecule are alkenyl groups consisting of Al ⅱ) R 3 SiO 1/2 units and SiO 4/2 units; Iii) organopolysiloxanes having at least two silicon-bonded hydrogen atoms in one molecule; Iii) platinum based catalysts; And iii) an organic solvent.

좀더 구체적으로, 상기 감압성 실리콘 점착제는 ⅰ) 분자 양 말단이 알케닐 그룹으로 캡핑된 디오가노폴리실록산(점도 5× 105 cP 이상) 100 중량부에 대하여; ⅱ) R3SiO1/2 단위(여기서, R은 알킬, 알케닐 또는 하이드록실 그룹이다) 및 SiO4 /2 단위로 구성된 오가노폴리실록산수지 25~150 중량부 ⅲ) 한 분자 내에 둘 이상의 규소 결합된 수소 원자를 갖는 오가노폴리실록산 3~30 중량부 (이는 성분 디오가노폴리실록산의 알케닐 그룹 1개당 1 내지 20개의 규소 결합된 수소 원자를 갖는다); ⅳ) 백금계 촉매 3~8 중량부; 및 ⅴ) 유기 용매 30~50 중량부;를 포함하는 감압성 점착제 조성물인 것이 바람직하다.More specifically, the pressure-sensitive silicone pressure-sensitive adhesive iii) 100 parts by weight of diorganopolysiloxane (viscosity of 5 × 10 5 cP or more) capped with alkenyl groups at both ends of the molecule; Ⅱ) R 3 SiO 1/2 units (wherein, R is alkyl, alkenyl or hydroxyl group a) and SiO 4/2 unit of organopolysiloxane resin 25 to 150 parts by weight ⅲ consisting of) two or more silicon-bonded in one molecule To 30 parts by weight of an organopolysiloxane having a hydrogen atom, which has 1 to 20 silicon-bonded hydrogen atoms per one alkenyl group of the component diorganopolysiloxane; Iii) 3 to 8 parts by weight of a platinum catalyst; And iii) 30 to 50 parts by weight of an organic solvent.

상기 실리콘계 점착제는 아크릴계 또는 고무계 점착 조성물에 비해 전기절연성, 내열성, 내한성(resistance to frost) 및 다양한 기판에 대한 점착성 측면에서 보다 우수하다.The silicone-based adhesives are superior in terms of electrical insulation, heat resistance, resistance to frost, and adhesion to various substrates compared to acrylic or rubber-based adhesive compositions.

본 발명에 사용된 실리콘 점착제는 본 발명을 통해 만들어진 감압성 점착제의 점착력을 나타내는 주요 성분으로서 실리콘 점착제의 조성비를 조절함으로써 피착제와의 점착력을 조절 가능하다는 장점이 있다.
The silicone pressure-sensitive adhesive used in the present invention has the advantage of being able to control the adhesive force with the adherend by adjusting the composition ratio of the silicone pressure-sensitive adhesive as a main component that shows the adhesive force of the pressure-sensitive adhesive made through the present invention.

1-2. 실리콘 레진1-2. Silicone resin

본 발명의 도전성 실리콘 점착제 조성물에 적용되는 실리콘 레진은 다음의 화학식 1로 표시되는 구조를 갖는 폴리디알킬실록산이다:Silicone resin applied to the conductive silicone pressure-sensitive adhesive composition of the present invention is a polydialkylsiloxane having a structure represented by the following general formula (1):

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure 112012011067451-pat00002
Figure 112012011067451-pat00002

상기 식에서, R은 메틸 또는 페닐기이다.Wherein R is a methyl or phenyl group.

상기 실리콘 레진은 실리콘 오일 및 실리콘 고무에 비해 경화하면 단단한 피막과 성형품을 형성하는 성질이 있으며, 다음과 같은 특징이 있다.The silicone resin has a property of forming a hard film and a molded article when cured in comparison with silicone oil and silicone rubber, and has the following characteristics.

(1) 내열성 : 실리콘 레진의 뛰어난 성질 중의 하나가 내열성이다. 기타 다른 수지와 비교하면 열 분해량이 매우 작으며 실리콘 함유율이 많을수록 광택의 변화가 적다.(1) Heat resistance: One of the excellent properties of silicone resin is heat resistance. Compared with other resins, the amount of thermal decomposition is very small, and the higher the silicon content, the less the change in gloss.

(2)전기적 특성 : 실리콘 레진은 전기 절연도가 우수하고 넓은 온도 범위에서 사용 가능하다. 또한 극성이 거의 없으므로 주파수 의존성이 적으며 탄화되는 성분이 적다. (2) Electrical characteristics: Silicone resin has excellent electrical insulation and can be used in a wide temperature range. In addition, there is little polarity, so frequency dependence is low and carbonization is low.

(3) 내습/내수성 : 실리콘 레진은 물과 친화성이 있는 극성기를 갖지 않고 또한 물에 대한 접촉각이 크기 때문에 우수한 내수성 및 내습성을 갖는다. (3) Moisture / Water Resistance: Silicone resin has excellent water resistance and moisture resistance because it does not have a polar group compatible with water and has a large contact angle with water.

(4) 내약품성 : 실리콘 바니스는 유기지수로 변성함에 따라 내약품성이 향상된다. (4) Chemical resistance: Silicone varnish improves chemical resistance as it denatures to organic index.

(5) 내후성 : 실리콘 바니스는 내후성이 매우 뛰어나다. 도로의 베이스 레진으로는 순실리콘보다 가격, 경화속도, 기계적 강도, 밀착성이 뛰어나므로 실리콘 변성 바니스를 사용하는 예가 많다. (5) Weather resistance: Silicone varnish has excellent weather resistance. As the base resin of the road, silicon modified varnishes are often used because of superior price, curing speed, mechanical strength, and adhesiveness than pure silicon.

(6) 난연성 : 실리콘 바니스 도막에 불을 접촉시키면, 약간의 불꽃이 생기고 타는 듯하지만 불꽃을 멀리하면 곧 꺼진다. 즉 연소를 위해 많은 양의 산소를 필요로 하므로 난연성이 높다.(6) Flame retardant: When the silicon varnish coating is brought into contact with fire, some sparks appear and burn, but when the flame is far away, they are soon extinguished. In other words, a large amount of oxygen is required for combustion, so the flame retardancy is high.

본 발명에서 사용된 실리콘 레진은 본 발명을 통해 만들어진 감압성 점착제의 내열성을 향상시키는 중요한 역할을 하는 것으로서, 감압성 점착제 조성물의 조성비에서 실리콘 레진의 조성비를 조절함으로써 내열성 향상시킬 수 있는 장점이 있다.The silicone resin used in the present invention plays an important role in improving the heat resistance of the pressure-sensitive adhesive made through the present invention, and has an advantage of improving heat resistance by controlling the composition ratio of the silicone resin in the composition ratio of the pressure-sensitive adhesive composition.

상기 실리콘 레진의 함량은 실리콘 점착제 100 중량부에 대하여 5~50 중량부, 바람직하게는 10~30 중량부를 사용한다. 실리콘 레진의 함량이 5 중량부 미만인 경우는 점착제 조성물의 내열성이 감소하는 문제가 발생하고 50 중량부를 초과하는 경우 점착특성이 저하되므로 바람직하지 않다.
The content of the silicone resin is 5 to 50 parts by weight, preferably 10 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the silicone adhesive. When the content of the silicone resin is less than 5 parts by weight, a problem of decreasing the heat resistance of the pressure-sensitive adhesive composition occurs, and when it exceeds 50 parts by weight, it is not preferable because the adhesive properties are lowered.

1-3. 탄소나노튜브1-3. Carbon nanotube

본 발명에서 탄소나노튜브라 함은 중공상의 실린더형 나노구조를 갖는 탄소의 동소체를 말한다. 상기 탄소나노튜브에는 단일벽 형태의 나노튜브(single-walled nanotube, SWNT)는 물론 다중벽 형태의 나노튜브(multi-walled nanotubes, MWNT)도 포함된다. 이들 중, 단일벽 탄소나노튜브는 다중벽 탄소나노튜브에 비해 전기 전도성이 월등히 우수한 장점이 있지만 가격경쟁력이 현저하게 떨어지는 단점이 있다.In the present invention, the carbon nanotube refers to an allotrope of carbon having a hollow cylindrical nanostructure. The carbon nanotubes include single-walled nanotubes (SWNTs) as well as multi-walled nanotubes (MWNTs). Among them, single-walled carbon nanotubes have an excellent electrical conductivity compared to multi-walled carbon nanotubes, but the price competitiveness is significantly lower.

본 발명에서 사용되는 탄소나노튜브는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 한 특별히 제한되지 않으며, 시판되는 제품을 구입하여 사용할 수 있다. 예컨대, 통상의 아크방전법, 레이저 삭마법(Laser ablation), 고온 필라멘트 플라즈마 화학기상증착법, 마이크로웨이브 플라즈마 화학기상증착법, 열화학 기상증착법 또는 열분해법으로 제조된 것을 사용할 수 있다. 본 발명에서는 상업적으로 시판되는 것을 그대로 사용하였으나 필요한 경우에는 추가공정으로 제조공정상 부산물로 포함되는 비정질 탄소, 플러렌 등의 탄소-함유 물질들과 튜브의 성장을 위한 촉매로 사용되는 전이금속 등이 제거된 것을 사용할 수도 있다.The carbon nanotubes used in the present invention are not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired, and commercially available products can be purchased and used. For example, those manufactured by conventional arc discharge, laser ablation, high temperature filament plasma chemical vapor deposition, microwave plasma chemical vapor deposition, thermochemical vapor deposition or pyrolysis can be used. In the present invention, a commercially available product was used as it is, but if necessary, an additional process removes carbon-containing materials such as amorphous carbon and fullerene as by-products in the manufacturing process and transition metals used as a catalyst for growth of tubes. You can also use

상업적으로 구입할 수 있는 탄소나노튜브들로서는 예를 들어, CNT사의 C-Tube_100, 한화나노텍 CM-100, 카본나노텍 CNT-M95 등이 있다. Commercially available carbon nanotubes include, for example, C-Tube_100, Hanwha Nanotech CM-100, Carbon Nanotech CNT-M95, and the like.

다만, 상기 탄소나노튜브는 평균 길이는 0.01~20㎛의 것을 사용하는 것이 바람직하다. 상기 평균 길이가 0.01㎛ 미만인 경우에는 물리적인 점에서 전기 접속의 확실성이 떨어지고, 20㎛를 초과하는 경우에는 점착필름으로서 사용하는 때에 상온압착공정에서 탄소나노튜브 입자끼리의 엉킴이 발생하게 되어 오히려 전기도전성에 악영향을 미치게 된다.However, the carbon nanotubes preferably use an average length of 0.01 ~ 20㎛. When the average length is less than 0.01 μm, the reliability of electrical connection is inferior in physical point. When the average length is more than 20 μm, the carbon nanotube particles are entangled in the normal temperature compression process when used as an adhesive film. It will adversely affect the conductivity.

상기 탄소나노튜브를 점착제 조성물에 첨가하는 양은 실리콘 점착제 100 중량부에 대하여 탄소나노튜브 0.01~5 중량부, 바람직하게는 0.05~2 중량부가 되도록 첨가한다. 0.01 중량부 미만일 경우 도전성 점착제 용액과 혼합 시 점착제 용액의 점도를 너무 떨어뜨리는 단점이 있고, 5 중량부를 초과하는 경우는 분산액의 점도가 매우 높아져 실리콘 조성물 내에서 탄소나노튜브의 분산성이 떨어진다는 단점이 있다.
The amount of the carbon nanotubes added to the pressure-sensitive adhesive composition is added to 0.01 to 5 parts by weight of carbon nanotubes, preferably 0.05 to 2 parts by weight, based on 100 parts by weight of the silicone pressure-sensitive adhesive. If the amount is less than 0.01 parts by weight, the viscosity of the pressure-sensitive adhesive solution is too low when mixed with the conductive pressure-sensitive adhesive solution, and if it exceeds 5 parts by weight, the viscosity of the dispersion is so high that the dispersibility of carbon nanotubes in the silicone composition is poor. There is this.

2. 도전성 점착필름의 제조2. Preparation of conductive adhesive film

2-1. 탄소나노튜브 분산액의 준비2-1. Preparation of Carbon Nanotube Dispersion

상기 탄소나노튜브는 극성이 높은 유기용매에 분산시켜 탄소나노튜브 분산액 상태에서 상술한 실리콘 점착제 및 실리콘 레진과 혼합된다. 이 목적으로 사용되는 유기용매로는, 예를 들어, 디메틸포름아미드(DMF), 에틸렌글리콜, 디메틸설폭사이드(DMSO) 등의 용제를 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 특히 바람직하게는 디메틸 포름아미드(DMF)를 사용한다.The carbon nanotubes are dispersed in an organic solvent having high polarity and mixed with the above-described silicone pressure sensitive adhesive and silicone resin in a carbon nanotube dispersion state. As an organic solvent used for this purpose, solvents, such as dimethylformamide (DMF), ethylene glycol, and dimethyl sulfoxide (DMSO), can be used individually or in mixture of 2 or more types, for example. Especially preferably dimethyl formamide (DMF) is used.

상기 탄소나노튜브의 분산액을 제조하기 위한 방법으로 두 가지가 사용될 수 있다. 첫 번째로 분산제를 이용하여 분산시키는 화학적인 방법과, 다음으로, 초음파 분산과 같은 물리적 분산법이 있으며, 상기 두 방법을 병행하여 사용하여도 무관하다.Two methods may be used to prepare the dispersion of the carbon nanotubes. First, there is a chemical method of dispersing using a dispersant, and then there is a physical dispersing method such as ultrasonic dispersion, and the two methods may be used in parallel.

상기 화학적인 분산방법은 소듐도데실설페이트(sodium dodecyl sulfate)나 또는 폴리옥시에틸렌 tert-옥틸페닐 에테르와 같이 탄소나노튜브의 도전성에는 영향을 미치지 않고 단지 탄소나노튜브의 분산을 도와주는 역할을 하는 분산제를 사용하는 방법이다.The chemical dispersing method does not affect the conductivity of the carbon nanotubes, such as sodium dodecyl sulfate or polyoxyethylene tert-octylphenyl ether, but only serves to help dispersing the carbon nanotubes. How to use

상기 물리적인 분산방법으로서는 초음파 분산법이 널리 사용되는바, 사용되는 초음파로는 장파장 또는 단파장의 초음파가 모두 사용될 수 있으나, 장파장의 경우 진폭이 너무 작아 큰 에너지를 내기가 어려운 단점이 있으므로, 단파장이면서도 진폭이 큰 프로브 타입 초음파(probe type ultrasonic)를 사용하는 것이 바람직하다. 바람직하게는, 상기 화학적 및 물리적인 분산방법을 병행하여 사용한다.
Ultrasonic dispersion method is widely used as the physical dispersion method, as the ultrasonic waves used may be both long wavelength or short wavelength ultrasonic waves, but in the case of long wavelengths, since the amplitude is too small, it is difficult to produce large energy. It is preferable to use probe type ultrasonic waves having a large amplitude. Preferably, the above chemical and physical dispersion methods are used in parallel.

2-2. 실리콘 점착제 및 실리콘 레진과의 혼련2-2. Kneading with Silicone Adhesive and Silicone Resin

다음으로, 상기 준비된 탄소나노튜브 분산액을 실리콘 점착제 및 실리콘 레진과 혼련하여 용매를 포함하는 도전성 실리콘 점착제 조성물을 얻는다. 이때, 혼련 후 점착제 조성물의 점도는 100 내지 5,000cps, 바람직하게는 500 내지 4000cps인 것이 바람직하다. 점착제 조성물의 점도가 100cps 미만이면 점착 조성물 코팅시 점착시트의 두께를 조절할 수가 없고, 이형기재 위에 코팅시 코팅면이 매우 불균일한 문제점을 초래할 수 있다. 또한, 5,000cps를 초과하면 점착제 조성물 교반시 기포가 지나치게 발생하여, 후술하는 공정에서 코팅두께 제어에 매우 어려운 점이 있어 바람직하지 않다.
Next, the prepared carbon nanotube dispersion is kneaded with a silicone pressure sensitive adhesive and a silicone resin to obtain a conductive silicone pressure sensitive adhesive composition including a solvent. At this time, the viscosity of the pressure-sensitive adhesive composition after kneading is preferably 100 to 5,000cps, preferably 500 to 4000cps. When the viscosity of the pressure-sensitive adhesive composition is less than 100 cps, the thickness of the pressure-sensitive adhesive sheet may not be adjusted when the pressure-sensitive adhesive composition is coated, and the coating surface may be very uneven when coated on a release substrate. In addition, when the pressure exceeds 5,000 cps, bubbles are excessively generated when the pressure-sensitive adhesive composition is agitated, and thus the coating thickness is very difficult to control in the process described later, which is not preferable.

2-3. 이형기재에 도포2-3. Application to release materials

본 발명의 도전성 점착필름은 상기 혼련물을 이형기재 상에 도포한 다음 건조하여 제조된다.The conductive adhesive film of the present invention is prepared by applying the kneaded material on a release substrate and then drying.

이때 사용되는 이형기재로서는 PET, PP 소재의 필름이 사용되며, 특히, 상기 필름위에 실리콘 혹은 불소계 코팅이 되어있는 것이 이형력이 우수하여 바람직하다.At this time, as the release substrate used, a film of PET or PP material is used, and in particular, a silicone or fluorine-based coating on the film is preferable because of its excellent release force.

한편, 상기 도포 방법으로서는 통상의 점착제 도포에 사용될 수 있는 것이면 어느 것이나 사용이 가능하며, 예를 들어, 그라비아 코트(gravure coat)법, 블레이드 코트(blade coat)법, 와이어 바 코트(wire bar coat)법, 리버스 코트(reverse coat)법, 콤마 코트(comma coat)법 등이 사용될 수 있다. 이들 중, 콤마 코트법이 콤마코터와 기재 표면과의 거리로서 도포두께를 용이하게 조절할 수 있어 바람직하다.On the other hand, the coating method may be used as long as it can be used for the application of a conventional pressure-sensitive adhesive, for example, a gravure coat method (blade coat method), blade coat (blade coat method), wire bar coat (wire bar coat) Method, reverse coat method, comma coat method and the like can be used. Among these, the comma coating method is preferable because the coating thickness can be easily adjusted as the distance between the comma coater and the substrate surface.

상기 도포 후에는 상기 도포물을 건조하여 유기용제를 제거한다. 이때, 상기 건조는 100 내지 160℃에서 2 내지 10 분간에 걸쳐 수행되며, 그에 의하여 유기 용제가 제거되어 반경화 상태의 조성물이 이형 기재상에 도포된 도전성 필름이 제조된다.After the coating, the coating is dried to remove the organic solvent. At this time, the drying is carried out for 2 to 10 minutes at 100 to 160 ℃, whereby the organic solvent is removed to prepare a conductive film coated with a semi-cured composition on the release substrate.

상기 제조된 도전성 필름상의 점착제 조성물은 건조 후 그 도포 두께가 10 내지 100㎛인 것이 바람직하다. 상기 도포두께가 10㎛ 미만이면 FPCB 제품에 점착제로 적용시 점착력이 낮거나 제품의 단차를 충분히 메우기 어렵다는 문제가 있고, 100㎛를 초과하면 FPCB제품의 전체적인 두께관리가 어려운 단점이 있어 바람직하지 않다.
It is preferable that the thickness of the application | coating thickness after drying of the produced conductive film-form adhesive composition is 10-100 micrometers. If the coating thickness is less than 10㎛ there is a problem that the adhesive strength when applied to the FPCB product as a pressure-sensitive adhesive or difficult to sufficiently fill the step of the product, if it exceeds 100㎛ there is a disadvantage that it is difficult to control the overall thickness of the FPCB product.

본 발명 점착제를 이용한 도전성 점착필름을 이용하여, 표면에 전극이 있는 회로기판 본체와 회로부품이 점착되고 회로 기판이 형성되는 경우, 전극 사이를 탄소나노튜브를 통하여 확실하게 전기적으로 접속하는 것이 가능하다. By using the conductive adhesive film using the adhesive of the present invention, when the circuit board main body and the circuit parts having the electrodes are adhered to the surface and the circuit board is formed, it is possible to reliably electrically connect the electrodes through the carbon nanotubes. .

특히, 도전성 물질로서 탄소나노튜브를 사용하는 경우 금속계 입자에 비해 전극의 표면에 물리적으로 영향을 덜 미친다는 장점이 있다. 즉, 금속입자의 경우 가공 시에 금속입자에 의한 압력의 평형이 모으기 어려워지고, 또한 회로기판 본체에 있어서 절연층에 의한 입자 관통이 발생하기 쉬워지는 관점에서 전기접속의 확실성이 뒤떨어지게 된다. 하지만 탄소나노튜브는 크기도 매우 작고 섬유(fiber) 형태로 이루어져 있어 상기와 같은 문제점에서 자유롭다는 장점이 있다.In particular, in the case of using carbon nanotubes as the conductive material, there is an advantage that the surface of the electrode physically less than the metal particles. That is, in the case of metal particles, it is difficult to balance the pressure due to the metal particles at the time of processing, and the reliability of the electrical connection is inferior from the viewpoint of particle penetration by the insulating layer in the circuit board main body. However, carbon nanotubes are also very small in size and are made of fiber (fiber) form, which has the advantage of being free from the above problems.

또한 본 발명의 도전성 실리콘 점착제는 금속입자를 사용하지 않고 탄소나노튜브를 사용하기 때문에 점착제 중에 환원성 첨가물을 포함시키지 않는다. 일반적으로 금속입자를 통해 도전성을 얻는 도전성 점착 필름은 점착제 내에 투입된 금속입자의 금속 결합을 더욱 용이하게 형성시키기 위해 플럭스(Flux)와 같은 환원성 첨가물을 넣지만 이 플럭스는 활성이기 때문에 점착제와 겔화를 일으킬 수 있다는 치명적인 단점이 있다.In addition, since the conductive silicone pressure-sensitive adhesive of the present invention uses carbon nanotubes without using metal particles, it does not contain a reducing additive in the pressure-sensitive adhesive. In general, a conductive adhesive film that obtains conductivity through metal particles contains a reducing additive such as flux to more easily form metal bonds of the metal particles introduced into the adhesive, but since the flux is active, it may cause adhesive and gelation. There is a fatal drawback that it can.

본 발명의 탄소나노튜브를 포함하는 도전성 실리콘 점착제 층에 의해서 회로기판 본체가 보강되고 회로 신호의 안정화를 도모할 수 있을 뿐만 아니라, 회로 기판 본체와 회로 부품과의 사이의 전기적 도전 신뢰성을 높일 수 있다. 또한, 표면에 홈부 바닥을 가지는 회로 기판 본체와, 상기 홈부 바닥의 바닥부에 형성되어 있는 전극이, 높은 신뢰도로 전기적으로 접속되는 회로 기판을 제공할 수 있다. 또한, 회로부품이 금속제 보강판인 경우에는, 금속제 보강판에 전자 실드(shield) 효과를 발현시킬 수 있다.
The conductive silicon adhesive layer containing the carbon nanotubes of the present invention not only reinforces the circuit board main body and stabilizes the circuit signal, but also improves the electrical conductivity reliability between the circuit board main body and the circuit components. . Moreover, the circuit board main body which has a groove bottom on the surface, and the electrode formed in the bottom part of the said groove bottom can provide the circuit board which is electrically connected with high reliability. Moreover, when a circuit component is a metal reinforcement board, an electron shielding effect can be exhibited in a metal reinforcement board.

이하, 실시예를 통하여 본 발명을 보다 상세히 설명하고자 한다. 이는 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것으로서, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples. This is for explaining the present invention more specifically, but the scope of the present invention is not limited to these Examples.

<실시예 1~6><Examples 1-6>

탄소나노튜브 분산액의 경우 분산액의 고형분(solid contents)은 0.01~2wt%로 설정하고 DMF 용매에 탄소나노튜브를 첨가하여 분산제(소듐도데실설페이트)를 고형분 대비 0.3량%가 되게 첨가 후, 초음파(probe type ultrasonic)를 30~60분 동안 가하여 준비하였다. 단일벽 탄소나노튜브는 한화나노텍社製, HANOS ASA-100F(직경 : 1.3~1.5nm, Purity : 20wt% (30vol%),을 사용하고, 다중벽 탄소나노튜브는 CNT社製 C-Tube_100(bulk density: 0.03-0.06g/cm3, specific surface area:150-250m2/g)을 사용하였다.In the case of the carbon nanotube dispersion, the solid contents of the dispersion are set to 0.01 to 2 wt%, and carbon nanotubes are added to the DMF solvent to add a dispersant (sodium dodecyl sulfate) to 0.3% by weight relative to the solids, and then ultrasonic wave ( probe type ultrasonic) was added for 30 to 60 minutes to prepare. Single-walled carbon nanotubes are used by Hanwha Nanotech Co., Ltd., HANOS ASA-100F (diameter: 1.3 ~ 1.5nm, Purity: 20wt% (30vol%)), and multi-walled carbon nanotubes are manufactured by CNT Co., Ltd. C-Tube_100 (bulk) density: 0.03-0.06 g / cm 3 and specific surface area: 150-250 m 2 / g).

상기 탄소나노튜브 분산액을 이용하여 도전성 실리콘 점착제 조성물은 다음과 같이 제조하였다. 실리콘 점착제(DowCorning,Q2-7735) 100 중량부, 실리콘 레진(DowCorning. 7466) 20 중량부를 균일하게 교반한 후 상기 준비된 탄소나노튜브 분산액을 첨가하여 단일벽 탄소나노튜브가 0.01wt%~1wt% 포함된 도전성 실리콘 점착제를 준비하였다.The conductive silicone pressure-sensitive adhesive composition was prepared as follows using the carbon nanotube dispersion. 100 parts by weight of the silicone adhesive (DowCorning, Q2-7735) and 20 parts by weight of the silicone resin (DowCorning. 7466) were uniformly stirred, followed by adding the prepared carbon nanotube dispersion to contain 0.01 wt% to 1 wt% of the single wall carbon nanotubes. The prepared conductive silicone adhesive was prepared.

같은 방법으로, 0.1중량%의 다중벽 탄소나노튜브 분산액을 준비하여 0.06중량부~2.4중량부를 실리콘 점착제 조성물에 첨가후 고속 교반하여 다중벽 탄소나노튜브가 0.05wt%~2wt% 포함된 도전성 실리콘 점착제 조성물을 준비하였다.In the same manner, 0.1 wt% of the multi-walled carbon nanotube dispersion was prepared, and 0.06 parts by weight to 2.4 parts by weight of the silicone pressure-sensitive adhesive composition, followed by high-speed stirring, containing the conductive silicone pressure-sensitive adhesive containing 0.05wt% to 2wt% of the multiwall carbon nanotubes. The composition was prepared.

이들을 펌프로 이송하여 액팬(액 fan)에서 연속 주행을 하는 불소코팅된 이형필름(실리콘계 불소이형 필름, ESD코리아, HFK-500)에 코팅두께 100㎛로 도포하였다. 실리콘 점착제 조성물이 도포된 기재를 인라인 드라이어에 통과시켜, 50 내지 100℃에서 2 내지 10 분간에 걸쳐 건조하여 유기 용제를 제거함으로써 건조후 코팅두께 40㎛로 도전성 점착필름을 만들고, 이를 그대로 리와인딩 (rewinding) 하거나, 롤 라미네이터를 이용하여 별도의 불소 이형필름과 압착 후 리와인딩 하여 도전성 실리콘 점착필름을 제조하였다.
They were transferred to a pump and coated on a fluorine coated release film (silicon-based fluorine release film, ESD Korea, HFK-500) having a continuous coating thickness of 100 μm. The substrate coated with the silicone pressure sensitive adhesive composition was passed through an in-line dryer, dried at 50 to 100 ° C. for 2 to 10 minutes to remove the organic solvent, and dried to form a conductive adhesive film with a coating thickness of 40 μm, and then rewound as it is ( Rewinding) or by using a roll laminator and a separate fluorine release film by crimping and then rewinding to prepare a conductive silicone adhesive film.

<비교예 1~5><Comparative Example 1-5>

상기 실시예들에서, 탄소나노튜브를 대신하여 은입자(Automize社, TSC-20D18)를 0.05~8wt% 첨가하여 은입자 분산액을 제조한 다음 이를 실리콘 점착제 및 실리콘 수지 혼합물과 혼합하여 도전성 실리콘 점착제를 준비한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하여 도전성 실리콘 점착필름을 제조하였다.
In the above embodiments, silver particles (Automize, TSC-20D18) is added in place of carbon nanotubes to prepare a silver particle dispersion by mixing with a silicone pressure-sensitive adhesive and silicone resin mixture to prepare a conductive silicone pressure-sensitive adhesive Except for preparing the same as in Example 1 to prepare a conductive silicone adhesive film.

<비교예 6~8><Comparative Example 6-8>

상기 실시예들에서, 상기 탄소나노튜브 분산액액에 실리콘 조성물을 대신하여 에폭시 조성물, 우레탄 조성물, 아크릴 수지 조성물에 을 각각 제조하여 첨가한 것을 제외하고는 실시예들과 동일하게 도전성 실리콘 점착필름을 제조하였다.In the above embodiments, the conductive silicone pressure-sensitive adhesive film was prepared in the same manner as in the embodiments except that the carbon nanotube dispersion liquid was added to the epoxy composition, the urethane composition, and the acrylic resin composition in place of the silicone composition. It was.

에폭시 수지 조성물은 비할로겐 에폭시로서 비스페놀A형 100중량부에 대하여, 카르복실기 함유 아크릴로니트릴부타디엔 고무(JER社, PNR-1H 제품, -COOH : 8중량%) 80중량부, 에폭시 경화제로서 4개의 반응기를 가진 4,4`-디아미노디페닐설폰(이하 “4,4`-DDS”라 한다) 20중량부,경화 촉진제로서 2-에틸-4-메틸-이미다졸(이하 “2E4MZ”라 한다)을 혼합하여 접착제 조성물을 제조하고 이를 메틸이소부틸케톤(MIBK)에 녹이는 방법으로 준비하였다.Epoxy resin composition is a non-halogen epoxy, 80 parts by weight of carboxyl group-containing acrylonitrile butadiene rubber (JER, PNR-1H product, -COOH: 8% by weight) based on 100 parts by weight of bisphenol A type, and four reactors as epoxy curing agent. 20 parts by weight of 4,4`-diaminodiphenylsulfone (hereinafter referred to as "4,4`-DDS"), 2-ethyl-4-methyl-imidazole as a curing accelerator (hereinafter referred to as "2E4MZ") To prepare an adhesive composition by mixing it was prepared by dissolving it in methyl isobutyl ketone (MIBK).

우레탄 수지 조성물은 폴리우레탄 우레아 수지 (국도화학, KPU-300)100중량부 MEK 용매에 70% 녹아 있는 실란 변성 비스페놀 A형 에폭시 (국도화학, KSR-276) 용액 30중량부 및 페놀수지(메이와社, MEH-7500) 10중량부 및 카르복실기 함유 아크릴로니트릴부타디엔 고무(JER社, PNR-1H 제품, -COOH : 8중량%) 10중량부를 혼합하여 우레탄 수지 조성물을 제조하였다The urethane resin composition comprises 30 parts by weight of a solution of silane-modified bisphenol A epoxy (Kukdo Chemical, KSR-276) dissolved in 100% by weight of a polyurethane urea resin (Kukdo Chemical, KPU-300) MEK solvent and a phenolic resin (Meiwa). A urethane resin composition was prepared by mixing 10 parts by weight of MEH-7500) and 10 parts by weight of a carboxyl group-containing acrylonitrile butadiene rubber (JER, PNR-1H product, -COOH: 8% by weight).

아크릴 수지 조성물은 에폭시기 함유 아크릴 수지(SG-P3, Nagase Chemtex, 분자량 85만, 에폭시기 0.21 eq/kg, 고형분 15%) 100중량부 및 MEK 용매에 70% 녹아 있는 비스페놀 A형 에폭시(국도화학, KSR-276) 용액 20중량부 및 디시안디아미드 (Aldrich社, DICY7) 혼합하여 접착 조성물을 제조하였다.
The acrylic resin composition comprises 100 parts by weight of an epoxy group-containing acrylic resin (SG-P3, Nagase Chemtex, molecular weight 850,000, epoxy group 0.21 eq / kg, solid content 15%) and 70% dissolved in MEK solvent (Kukdo Chemical, KSR). -276) 20 parts by weight of the solution and dicyandiamide (Aldrich, DICY7) was mixed to prepare an adhesive composition.

<평가><Evaluation>

1. 체적 저항 측정1. Volume resistivity measurement

탄소나노튜브가 포함된 도전성 점착 필름을 3x3cm로 절단 후, 메탈계 보강재(SUS)와 상온(25℃)에서 4mpm의 속도로 롤라미네이션(roll lamination)을 실시하였다. 이후 도전성 점착제 반대면의 이형기재를 제거하고, 동박라미네이트 필름과 타발된 커버레이 필름을 적층하여 다시 상온에서 4mpm으로 롤라미네이션 실시후 메탈계 보강재와 동박라미네이트 필름과의 저항을 측정하였다.After cutting the conductive adhesive film containing carbon nanotubes to 3x3cm, roll lamination was performed at a rate of 4 mpm at a metal-based reinforcement (SUS) and at room temperature (25 ° C). Thereafter, the release substrate on the opposite side of the conductive adhesive was removed, and the copper foil laminate film and the punched coverlay film were laminated and subjected to roll lamination at 4 mpm at room temperature, and then the resistance between the metal-based reinforcing material and the copper foil laminate film was measured.

2. 점착력 측정2. Adhesion measurement

탄소나노튜브가 포함된 도전성 실리콘점착 필름을 10cm x 10cm로 절단 후, 메탈계 보강재(SUS)와 상온(25℃)에서 4mpm의 속도로 롤라미네이션을 실시하였다. 이후 도전성 실리콘 점착제 반대면의 이형기재를 제거하고, 동박라미네이트 필름과 타발된 커버레이 필름을 적층하여 다시 상온(25℃)에서 4mpm의 속도로 롤라미네이션 실시 후 동박라미네이트 필름과 커버레이면을 1cm 폭으로 절단하여 커버레이면과 메탈계 보강재 사이의 점착력을 측정하였다.After cutting the conductive silicon adhesive film containing carbon nanotubes to 10cm x 10cm, the lamination was carried out at a speed of 4mpm at a metal-based reinforcement (SUS) and room temperature (25 ℃). After removing the release substrate on the opposite side of the conductive silicone pressure-sensitive adhesive, and laminated the copper foil laminate film and the punched coverlay film and roll-lamination at a speed of 4mpm at room temperature (25 ℃) after the copper foil laminate film and coverlay surface 1cm wide Cutting was carried out to measure the adhesive force between the coverlay surface and the metal-based reinforcement.

3. 납땜내열성(Solder Resistance) 측정3. Measurement of solder resistance

탄소나노튜브가 포함된 도전성 실리콘 점착 필름을 5cm x 5cm로 절단 후, 메탈계 보강재(SUS)와 상온(25℃)에서 4mpm의 속도로 롤라미네이션을 실시하였다. 이후 도전성 점착제 반대면의 이형기재를 제거하고, 동박라미네이트 필름과 타발된 커버레이 필름을 적층하여 상온에서 4mpm의 속도로 롤라미네이션을 실시한 후 만들어진 시편을 각 온도에 해당하는 납땜조 위에 띄워 10초 경과 후 커버레이면과 메탈계 보강재 사이에 박리 혹은 기포가 발생하였는지 확인하여 발생하지 않은 온도를 기록하였다. 평가 조건으로는 각 샘플을 핫프레스 후 10분 이내에 평가하거나, 85℃/85%/24hr 항온·항습 처리 후 평가하여 각각 납땜 내열성을 측정하였다.After cutting the conductive silicon adhesive film containing carbon nanotubes to 5cm x 5cm, the lamination was carried out at a speed of 4mpm at a metal-based reinforcement (SUS) and room temperature (25 ℃). After removing the release material on the opposite side of the conductive adhesive, laminating the copper foil laminate film and the punched coverlay film and performing a lamination at a speed of 4mpm at room temperature, the resulting specimen was floated on the soldering tank corresponding to each temperature for 10 seconds. After checking whether peeling or bubbles occurred between the coverlay surface and the metal-based reinforcing material was recorded the temperature did not occur. As evaluation conditions, each sample was evaluated within 10 minutes after hot pressing, or after 85 ° C./85%/24 hr constant temperature / humidity treatment to evaluate the soldering heat resistance.

이상의 평가 결과를 표1에 정리하였다.The above evaluation results are summarized in Table 1.

예 [점착제 코팅 두께 : 40um]Example [adhesive coating thickness: 40um] 체적 저항
(Ω/cm)
Volume resistance
(Ω / cm)
점착력
(N/cm)
adhesiveness
(N / cm)
납땜내열성(℃)Soldering heat resistance (℃)
10분이내Within 10 minutes 85℃/85%
/24hr
85 ℃ / 85%
/ 24hr
실시예 1Example 1 실리콘수지, SWNT 0.01wt%Silicone resin, SWNT 0.01wt% 0.50.5 1111 300300 280280 실시예 2Example 2 실리콘수지, SWNT 0.05wt%Silicone resin, SWNT 0.05wt% 0.20.2 11.511.5 300300 280280 실시예 3Example 3 실리콘수지, SWNT 1wt%Silicone resin, SWNT 1wt% 0.080.08 9.89.8 300300 280280 실시예 4Example 4 실리콘수지, MWNT 0.05wt%Silicone resin, MWNT 0.05wt% 0.90.9 10.510.5 300300 280280 실시예 5Example 5 실리콘수지, MWNT 1wt%Silicone resin, MWNT 1wt% 0.50.5 10.110.1 300300 280280 실시예 6Example 6 실리콘수지, MWNT 2wt%Silicone resin, MWNT 2wt% 0.30.3 8.48.4 300300 280280 비교예 1Comparative Example 1 실리콘수지, silver 0.05wt%Silicone resin, silver 0.05wt% 2525 8.08.0 300300 280280 비교예 2Comparative Example 2 실리콘수지, silver 1wt%Silicone resin, silver 1wt% 2323 7.67.6 300300 280280 비교예 3Comparative Example 3 실리콘수지, silver 2wt%Silicone resin, silver 2wt% 1616 5.45.4 300300 280280 비교예 4Comparative Example 4 실리콘수지, silver 5wt%Silicone resin, silver 5wt% 44 3.93.9 260260 230230 비교예 5Comparative Example 5 실리콘수지, silver 8wt%Silicone resin, silver 8wt% 0.90.9 2.12.1 250250 210210 비교예 6Comparative Example 6 에폭시수지, SWNT 1wt%Epoxy Resin, SWNT 1wt% 0.090.09 1.11.1 190190 150150 비교예 7Comparative Example 7 우레탄수지 SWNT 1wt%Urethane Resin SWNT 1wt% 0.080.08 0.20.2 170170 140140 비교예 8Comparative Example 8 아크릴수지 SWNT 1wt%Acrylic resin SWNT 1wt% 0.090.09 9.89.8 220220 200200

상기 표 1에서 확인할 수 있는 바와 같이, 본 발명의 탄소나노튜브를 포함하는 도전성 실리콘 점착제의 경우 체적저항은 은입자 투입량 대비 1%의 소량으로도 1Ω/cm 이하의 값을 보임을 확인하였고, 특히 탄소나노튜브의 경우에는 매우 소량 (0.01wt%)으로도 충분한 도전성을 확보할 수 있었다. 또한 탄소나노튜브는 입자의 크기 자체가 매우 작기 때문에 기재와의 우수한 점착력을 확보할 수 있으며, 납땜내열성 또한 우수한 도전성을 보이는 조건(탄소나노튜브 2wt% 이하, 은입자 5wt% 이상)하에서는 금속입자를 투입한 경우보다 훨씬 우수한 납땜내열성을 보이는 것을 확인할 수 있다.As can be seen in Table 1, in the case of the conductive silicone pressure-sensitive adhesive containing the carbon nanotubes of the present invention, it was confirmed that the volume resistance showed a value of 1 μm / cm or less even with a small amount of 1% of the silver particles. In the case of carbon nanotubes, even a very small amount (0.01 wt%) could secure sufficient conductivity. In addition, since carbon nanotubes have a very small particle size, they can secure excellent adhesion to the substrate. Under the conditions of excellent soldering heat resistance and excellent conductivity (carbon nanotubes of 2 wt% or less and silver particles of 5 wt% or more), metal particles may be formed. It can be seen that the soldering heat resistance is much better than the case.

실리콘 바인더 수지의 경우 상온(25℃)에서 롤라미네이션 후에도 우수한 점착력 (8N/cm이상)과 우수한 납땜내열성을 보여주었으나 에폭시 수지와 우레탄 수지의 경우 동일 조건하에서는 경화반응이 이루어지지 않았기 때문에 점착력과 납땜내열성이 매우 떨어지는 결과를 나타내었다. 또한 아크릴 수지의 경우 상온 롤라미네이션 후에 점착력에서는 우수하였으나 납땜내열성에서는 실리콘 수지 대비 낮은 내열성을 보였다.In case of silicone binder resin, it showed excellent adhesive force (more than 8N / cm) and excellent soldering heat resistance even after roll lamination at room temperature (25 ℃). The heat resistance was very poor. In addition, acrylic resin showed excellent adhesive strength after room temperature lamination, but showed lower heat resistance than silicone resin in soldering heat resistance.

이로써 FPCB의 도전성 점착제로 사용하기 위해서는 실리콘 수지가 에폭시 수지나 우레탄 수지와 같은 열경화성 수지 대비 우수한 생산성을 나타낼 것으로 보이며 아크릴 수지 대비 더욱 뛰어난 내열안전성을 갖기에 실리콘 수지가 적합하다는 점을 확인할 수 있었다.
As a result, in order to use the FPCB as a conductive adhesive, it was confirmed that the silicone resin showed superior productivity compared to the thermosetting resin such as epoxy resin and urethane resin, and that the silicone resin was suitable because it had more excellent thermal stability than the acrylic resin.

이상에서 본 발명은 기재된 실시예들에 대해서 상세히 기술되었지만, 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.
While the invention has been described in detail with respect to the embodiments described, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations are possible within the spirit of the invention, and such modifications and variations belong to the appended claims. .

이에, 본 발명의 회로기판용 점착제 조성물은 연성회로기판(PCB) 제조용으로 사용되며, 제조된 연성회로기판은 휴대폰의 카메라 및 디지털 카메라 등의 부품으로 사용된다.Thus, the pressure-sensitive adhesive composition for a circuit board of the present invention is used for manufacturing a flexible circuit board (PCB), and the manufactured flexible circuit board is used as a component of a camera and a digital camera of a mobile phone.

Claims (8)

ⅰ) 분자 양 말단이 알케닐 그룹으로 캡핑된 디오가노폴리실록산(점도 5× 105 cP 이상); ⅱ) R3SiO1/2 단위(여기서, R은 알킬, 알케닐 또는 하이드록실 그룹이다) 및 SiO4/2 단위로 구성된 오가노폴리실록산수지; ⅲ) 한 분자 내에 둘 이상의 규소 결합된 수소 원자를 갖는 오가노폴리실록산(이는 성분 디오가노폴리실록산의 알케닐 그룹 1개당 1 내지 20개의 규소 결합된 수소 원자를 갖는다) ⅳ) 백금계 촉매; 및 ⅴ) 유기 용매;를 포함하는 감압성 점착제 조성물인 실리콘 점착제 100 중량부에 대하여;
다음의 화학식 1로 표시되는 구조를 갖는 폴리디알킬실록산인 실리콘 레진 5~50 중량부; 및
[화학식 1]
Figure 112013063676871-pat00004

(상기 식에서, R은 메틸 또는 페닐기이다)
카본나노튜브 0.01~2중량부를 포함하는 도전성 실리콘 점착제 조성물.
Iii) diorganopolysiloxanes at both ends of the molecule capped with alkenyl groups (viscosities of at least 5 × 10 5 cP); Ii) organopolysiloxane resins consisting of R 3 SiO 1/2 units, wherein R is an alkyl, alkenyl or hydroxyl group; and SiO 4/2 units; Iii) organopolysiloxane having at least two silicon-bonded hydrogen atoms in one molecule, which has from 1 to 20 silicon-bonded hydrogen atoms per one alkenyl group of component diorganopolysiloxane; And iii) an organic solvent; based on 100 parts by weight of the silicone pressure sensitive adhesive composition comprising;
5 to 50 parts by weight of a silicone resin, which is a polydialkylsiloxane having a structure represented by Formula 1; And
[Chemical Formula 1]
Figure 112013063676871-pat00004

Wherein R is a methyl or phenyl group
Conductive silicone pressure-sensitive adhesive composition comprising 0.01 to 2 parts by weight of carbon nanotubes.
삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 카본나노튜브의 평균길이는 0.01~20㎛인 것을 특징으로 하는 도전성 실리콘 점착제 조성물.The conductive silicone pressure-sensitive adhesive composition of claim 1, wherein the carbon nanotubes have an average length of 0.01 to 20 µm. 제1항의 도전성 실리콘 점착제 조성물이 이형기재 위에 도포된 도전성 점착필름.A conductive adhesive film coated with a conductive silicone pressure-sensitive adhesive composition of claim 1 on a release substrate. 제5항에 있어서, 상기 도전성 실리콘 점착제 조성물의 도포두께는 10 내지 100㎛인 것을 특징으로 하는 상기 도전성 점착필름.The conductive adhesive film according to claim 5, wherein the coating thickness of the conductive silicone adhesive composition is 10 to 100 µm. 회로기판 본체와 회로부품이, 평균길이가 0.01 내지 20㎛인 탄소나노튜브를 포함하는 제1항의 도전성 점착제 조성물 층에 의하여 점착되고, 전기적으로 접속된 회로 기판.A circuit board in which a circuit board main body and a circuit part are adhered and electrically connected by the conductive adhesive composition layer of claim 1 comprising carbon nanotubes having an average length of 0.01 to 20 μm. 제7항에 있어서, 회로 부품이 금속제 보강판인 것을 특징으로 하는 상기 회로기판.8. The circuit board according to claim 7, wherein the circuit component is a metal reinforcing plate.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160039498A (en) * 2014-10-01 2016-04-11 한국전기연구원 Conductive silicon coating agent for connector and a method of manufacturing thereof

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016108461A (en) * 2014-12-08 2016-06-20 信越化学工業株式会社 Adhesive, die-bonding material composed of the adhesive, conductive connection method using the adhesive, optical semiconductor device obtained by the method
JP2016111210A (en) * 2014-12-08 2016-06-20 信越化学工業株式会社 Conductive connection method using die bond material, and optical semiconductor device
JP6285346B2 (en) * 2014-12-08 2018-02-28 信越化学工業株式会社 Transparent resin composition, adhesive comprising the composition, die-bonding material comprising the composition, conductive connection method using the composition, and optical semiconductor device obtained by the method
KR20170019264A (en) 2015-08-11 2017-02-21 김원일 Conductive silicone adhesive-patch for electrocardiography and preparing method thereof
PL233639B1 (en) * 2017-07-04 2019-11-29 Zachodniopomorski Univ Technologiczny W Szczecinie Method for producing electric current conducting self-adhesive tape
KR101949420B1 (en) * 2017-07-11 2019-02-18 그레이스 콘티넨탈 코리아 주식회사 Antistatic adhesive composition
KR101987760B1 (en) * 2017-08-28 2019-06-12 (주)케이에프엠 Adhesive tape having antistatic function
KR20220082956A (en) 2020-12-10 2022-06-20 재단법인 한국탄소산업진흥원 A carbon-type rubber complex and a method for preparing the same
KR20220120734A (en) 2021-02-22 2022-08-31 재단법인 한국탄소산업진흥원 A carbon-type high-conductance silicon complex composition, a method for preparing a carbon-type high-conductance silicon complex and a carbon-type high-conductance silicon complex prepared from thereof
KR20230128159A (en) 2022-02-25 2023-09-04 재단법인 한국탄소산업진흥원 A carbon-type rubber complex and a method for preparing the same

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06306347A (en) * 1993-04-27 1994-11-01 Toshiba Silicone Co Ltd Pressure-sensitive adhesive composition
JP2004091703A (en) * 2002-09-02 2004-03-25 Shin Etsu Chem Co Ltd Conductive silicone self-adhesive composition and self-adhesive tape

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06306347A (en) * 1993-04-27 1994-11-01 Toshiba Silicone Co Ltd Pressure-sensitive adhesive composition
JP2004091703A (en) * 2002-09-02 2004-03-25 Shin Etsu Chem Co Ltd Conductive silicone self-adhesive composition and self-adhesive tape

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160039498A (en) * 2014-10-01 2016-04-11 한국전기연구원 Conductive silicon coating agent for connector and a method of manufacturing thereof
KR101641561B1 (en) * 2014-10-01 2016-07-21 한국전기연구원 Conductive silicon coating agent for connector and a method of manufacturing thereof

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