KR101340348B1 - Embedded chip package board using mask pattern and method for manufacturing the same - Google Patents

Embedded chip package board using mask pattern and method for manufacturing the same Download PDF

Info

Publication number
KR101340348B1
KR101340348B1 KR1020110126630A KR20110126630A KR101340348B1 KR 101340348 B1 KR101340348 B1 KR 101340348B1 KR 1020110126630 A KR1020110126630 A KR 1020110126630A KR 20110126630 A KR20110126630 A KR 20110126630A KR 101340348 B1 KR101340348 B1 KR 101340348B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
chip
printed circuit
insulating layer
forming
carrier
Prior art date
Application number
KR1020110126630A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20130060529A (en
Inventor
정창보
오춘환
이종태
임윤호
Original Assignee
주식회사 심텍
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 심텍 filed Critical 주식회사 심텍
Priority to KR1020110126630A priority Critical patent/KR101340348B1/en
Publication of KR20130060529A publication Critical patent/KR20130060529A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101340348B1 publication Critical patent/KR101340348B1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73201Location after the connecting process on the same surface
    • H01L2224/73203Bump and layer connectors
    • H01L2224/73204Bump and layer connectors the bump connector being embedded into the layer connector

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Abstract

개선된 구조의 칩 내장형 패키지 기판과 그 제조방법을 제시한다. 본 발명의 칩 내장형 패키지 기판의 제조방법은, 하부 캐리어 상에, 칩과 인쇄회로 패턴을 연결하는 접합부가 형성될 영역을 노출하는 마스크 패턴을 형성하는 단계와, 마스크 패턴 사이에 도전성 접합부를 형성하는 단계와, 도전성 접합부 상에 반도체 칩을 실장하는 단계와, 칩이 실장된 하부 캐리어 상에 절연층을 형성하는 단계와, 절연층 상에 상부 캐리어를 도입하는 단계와, 절연층에 칩이 내장되게 하부 캐리어 및 상부 캐리어를 접착시키는 단계와, 하부 캐리어 및 상부 캐리어의 베이스 금속층을 제외한 잔여 층을 제거하는 단계와, 절연층 상면 및 하면에 인쇄회로 패턴을 형성하는 단계와, 마스크 패턴을 제거하는 단계, 및 도전성 접합부들 사이 및 인쇄회로 패턴들 사이에 솔더 마스크를 형성하는 단계를 포함한다.An improved chip embedded package substrate and a method of manufacturing the same are provided. In the method for manufacturing a chip embedded package substrate of the present invention, forming a mask pattern exposing a region where a junction portion connecting a chip and a printed circuit pattern to be formed is formed on a lower carrier, and forming a conductive junction portion between the mask patterns. Mounting a semiconductor chip on the conductive junction, forming an insulating layer on the lower carrier on which the chip is mounted, introducing an upper carrier on the insulating layer, and embedding the chip in the insulating layer. Bonding the lower carrier and the upper carrier, removing remaining layers other than the base metal layers of the lower carrier and the upper carrier, forming printed circuit patterns on the upper and lower surfaces of the insulating layer, and removing the mask pattern. And forming a solder mask between the conductive junctions and between the printed circuit patterns.

Description

마스크 패턴을 이용한 칩 내장형 패키지 기판 및 그 제조방법{Embedded chip package board using mask pattern and method for manufacturing the same}Embedded chip package board using mask pattern and manufacturing method thereof {Embedded chip package board using mask pattern and method for manufacturing the same}

본 발명은 집적회로 소자에 관한 것으로, 특히 패키지 기판 내에 집적회로 칩이 내장되는 칩 내장형(embedded chip) 패키지 기판 및 그 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to integrated circuit devices, and more particularly, to an embedded chip package substrate in which an integrated circuit chip is embedded in a package substrate and a method of manufacturing the same.

일반적으로 반도체 패키지는 반도체 칩의 각종 전기적인 입출력 신호를 외부로 용이하게 인출시키기 위하여 칩을 패키징하는 기술로서, 최근에는 칩 크기에 가깝게 축소된 구조, 반도체 칩에서 발생하는 열의 방출 성능 및 전기적 수행능력을 극대화시킬 수 있는 구조 등을 실현할 수 있도록 리드프레임, 인쇄회로기판, 회로필름 등의 각종 부재를 이용하여 다양한 구조로 제조되고 있다.In general, a semiconductor package is a technology for packaging a chip in order to easily draw various electrical input / output signals of the semiconductor chip to the outside. In recent years, a semiconductor package has been reduced in size close to the chip size, heat dissipation performance and electrical performance of the semiconductor chip In order to realize a structure capable of maximizing the structure, various members such as lead frames, printed circuit boards, and circuit films are manufactured.

반도체 산업에서 이와 같은 패키징 기술은 소형화, 박형화에 대한 요구 및 실장 신뢰성을 만족시키기 위해 지속적으로 발전하고 있다. 예컨대, 소형화 및 박형화에 대한 요구는 칩 크기에 근접한 패키지에 대한 기술 개발을 가속화시키고 있으며, 실장 신뢰성에 대한 요구는 실장 작업의 효율성 및 실장 후의 기계적·전기적 신뢰성을 향상시킬 수 있는 패키징 기술에 대한 중요성을 부각시키고 있다. 이러한 패키지의 소형화 및 박형화를 이룬 일 예로서 볼 그리드 어레이 패키지(Ball Grid Array; 이하, BGA)가 있다. BGA 패키지에 따르면, 반도체칩은 기판 상에 부착되며, 반도체 칩의 본딩패드와 기판의 본드핑거가 본딩와이어에 의해 상호 연결되고, 반도체 칩 및 본딩와이어를 포함한 기판의 상부면이 봉지부재로 밀봉되며, 기판의 볼랜드 상에 외부 회로에의 실장 수단으로서 솔더볼이 부착된다.In the semiconductor industry, such packaging technology continues to evolve to meet the demand for miniaturization and thinning, and mounting reliability. For example, the demand for miniaturization and thinning is accelerating the development of technology for packages close to chip size, and the demand for mounting reliability is important for packaging technologies that can improve the efficiency of mounting operations and mechanical and electrical reliability after mounting. Is highlighted. One example of miniaturization and thinning of such a package is a ball grid array package (hereinafter referred to as BGA). According to the BGA package, the semiconductor chip is attached on the substrate, the bonding pad of the semiconductor chip and the bond finger of the substrate are interconnected by a bonding wire, and the top surface of the substrate including the semiconductor chip and the bonding wire is sealed with an encapsulation member. Solder balls are attached to the ball lands of the substrate as mounting means to external circuits.

도 1은 BGA 패키지의 일 예를 나타내보인 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing an example of a BGA package.

도 1을 참조하면, 인쇄회로패턴이 형성된 절연기판(110) 상에 솔더볼(130)을 매개로 반도체 칩(120)이 실장되어 있다. 반도체 칩(120)과 절연기판(110) 사이의 공간에는 에폭시 등의 절연물질로 이루어진 언더필링층(140)이 채워져있으며, 반도체 칩(120)을 감싸 보호할 수 있도록 몰딩층(150)이 형성된다.Referring to FIG. 1, a semiconductor chip 120 is mounted on an insulating substrate 110 on which a printed circuit pattern is formed through a solder ball 130. The underfill layer 140 made of an insulating material such as epoxy is filled in the space between the semiconductor chip 120 and the insulating substrate 110, and a molding layer 150 is formed to surround and protect the semiconductor chip 120. do.

이와 같은 BGA 패키지는 전체 크기가 칩 크기와 유사하기 때문에 실장 면적을 최소화할 수 있으며, 특히 솔더볼에 의해 외부 회로와의 전기적 연결이 이루어지므로 전기적 신호 전달 경로의 최소화를 통해 향상된 전기적 특성을 갖는 장점이 있다.Since the overall size of the BGA package is similar to the chip size, the mounting area can be minimized. In particular, since the electrical connection with the external circuit is made by the solder ball, the advantage of the improved electrical characteristics is minimized through the minimization of the electrical signal transmission path. have.

그러나, BGA 패키지를 제조함에 있어서, 종래에는 솔더볼 마운트 공정을 진행하고 있는데, 볼 크기(ball size)가 작아지거나 볼 피치(ball pitch)가 작아질 경우에 이에 부합하는 장비의 구현에 어려움이 있고, 아울러 마운트된 볼들의 크기 차이에 따라 평탄도(Coplanrity) 불량이 발생하게 된다. 또한, 절연기판(110)과 반도체 칩(120) 사이의 전기적 통로 역할을 하는 솔더볼을 보호하기 위하여 언더필링층을 형성하는데, 이로 인해 생산원가가 상승하고 공정시간이 길어지는 단점이 있다.However, in manufacturing a BGA package, the solder ball mounting process is conventionally performed, and when the ball size becomes smaller or the ball pitch becomes smaller, it is difficult to implement a corresponding device. In addition, poor coplanarity may occur depending on the size difference between the mounted balls. In addition, an underfilling layer is formed to protect the solder ball, which serves as an electrical passage between the insulating substrate 110 and the semiconductor chip 120, which results in an increase in production cost and a long process time.

본 발명이 해결하려는 과제는 공정을 단순화할 수 있고, 솔더볼 마운트 공정을 생략하여 그에 따른 단점을 해소할 수 있으며, 칩 내장형 패키지 기판 제조시 열압착 과정에서 칩의 손상이 발생하는 것을 방지할 수 있는 구조의 칩 내장형 패키지 기판과 그 제조방법을 제공하는 데 있다.The problem to be solved by the present invention can simplify the process, eliminate the disadvantages by omitting the solder ball mounting process, and can prevent the damage of the chip during the thermocompression process in the chip embedded package substrate manufacturing Disclosed is a chip embedded package substrate having a structure and a method of manufacturing the same.

상기 과제를 해결하기 위하여 본 발명의 일 실시예에 따른 칩 내장형 패키지 기판은, 그 내부에 칩이 내장된 절연층, 절연층의 상면 및 하면 상에 형성된 인쇄회로 패턴들, 절연층을 관통하여 칩과 인쇄회로 패턴을 연결하는 복수 개의 접합부들, 그리고 상호 이웃하는 접합부들 사이를 격리하는 솔더 마스크를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to solve the above problems, a chip embedded package substrate according to an exemplary embodiment of the present invention may include an insulating layer having a chip embedded therein, printed circuit patterns formed on upper and lower surfaces of the insulating layer, and a chip passing through the insulating layer. And a plurality of joints connecting the printed circuit pattern to each other, and a solder mask to isolate the neighboring joints from each other.

일 예에서, 상기 칩은 집적회로(IC) 소자를 포함하는 능동 소자 또는, 커패시터, 인덕터 및 저항 소자를 포함하는 일군에서 선택되는 어느 하나의 수동 소자일 수 있다.In one example, the chip may be an active device including an integrated circuit (IC) device or any one passive device selected from the group including a capacitor, an inductor, and a resistor.

상기 과제를 해결하기 위하여 본 발명의 일 실시예에 따른 칩 내장형 패키지 기판의 제조방법은, 하부 캐리어 상에, 칩과 인쇄회로 패턴을 연결하는 접합부가 형성될 영역을 노출하는 마스크 패턴을 형성하는 단계와, 상기 마스크 패턴 사이에 도전성 접합부를 형성하는 단계와, 상기 도전성 접합부 상에 반도체 칩을 실장하는 단계와, 상기 칩이 실장된 하부 캐리어 상에 절연층을 형성하는 단계와, 상기 절연층 상에 상부 캐리어를 도입하는 단계와, 상기 절연층에 상기 칩이 내장되게 상기 하부 캐리어 및 상부 캐리어를 접착시키는 단계와, 상기 하부 캐리어 및 상부 캐리어의 베이스 금속층을 제외한 잔여 층을 제거하는 단계와, 상기 절연층 상면 및 하면에 인쇄회로 패턴을 형성하는 단계와, 상기 마스크 패턴을 제거하는 단계, 및 상기 도전성 접합부들 사이 및 인쇄회로 패턴들 사이에 솔더 마스크를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to solve the above problems, a method of manufacturing a chip embedded package substrate according to an exemplary embodiment may include forming a mask pattern on a lower carrier, exposing a region where a junction portion connecting a chip and a printed circuit pattern is to be formed. Forming a conductive junction between the mask pattern, mounting a semiconductor chip on the conductive junction, forming an insulating layer on the lower carrier on which the chip is mounted, and forming an insulating layer on the insulating layer. Introducing an upper carrier, adhering the lower carrier and the upper carrier so that the chip is embedded in the insulating layer, removing remaining layers other than the base metal layers of the lower carrier and the upper carrier, and Forming printed circuit patterns on the upper and lower surfaces of the layer, removing the mask pattern, and the conductive bonding portion And forming a solder mask between the printed circuit patterns and the printed circuit patterns.

상기 하부 캐리어는 구리 베이스 금속층을 포함할 수 있다.The lower carrier may comprise a copper base metal layer.

상기 마스크 패턴은, 상기 칩과 인쇄회로 패턴을 연결하는 도전성 접합부와 동일한 높이로 형성할 수 있다.The mask pattern may be formed at the same height as a conductive junction connecting the chip and the printed circuit pattern.

상기 도전성 접합부를 형성하는 단계에서, 솔더 페이스트(solder paste), 솔더온패드(Solder on Pad; SOP), 이방성도전필름(ACF) 또는 전도성 범프(bump)를 이용하여 형성할 수 있다.In the step of forming the conductive junction, the solder paste may be formed using a solder paste, a solder on pad (SOP), an anisotropic conductive film (ACF), or a conductive bump.

상기 칩은 집적회로(IC) 소자를 포함하는 능동 소자 또는, 커패시터, 인덕터 및 저항 소자를 포함하는 일군에서 선택되는 어느 하나의 수동 소자일 수 있다.The chip may be an active device including an integrated circuit (IC) device or any one passive device selected from a group including a capacitor, an inductor, and a resistor.

상기 절연층 상면 및 하면에 인쇄회로 패턴을 형성하는 단계는, 상기 상부 및 하부 캐리어의 금속층을 시드(seed)층으로 하여 도금 방식으로 인쇄회로 패턴을 형성하는 단계, 및 상기 인쇄회로 패턴을 이용하여 노출된 상기 베이스 금속층을 식각하는 단계를 포함할 수 있다.Forming printed circuit patterns on the upper and lower surfaces of the insulating layer may include forming printed circuit patterns by plating using metal layers of the upper and lower carriers as seed layers, and using the printed circuit patterns. And etching the exposed base metal layer.

상기 베이스 금속층을 식각하는 단계는, 플래시 에칭 공정으로 진행할 수 있다.The etching of the base metal layer may be performed by a flash etching process.

본 발명의 칩 내장형 패키지 기판 및 그 제조방법에 따르면, 칩 실장 후 가열 압착하는 과정에서 마스크 패턴과 도전성 접합부가 칩 하부에서 지지대 역할을 하므로 칩의 파손을 방지할 수 있다. 또한, 칩 실장 후 마스크 패턴을 제거하고 그 공간에 솔더 마스크를 형성하므로 종래 칩 실장 후 칩과 패키지 기판 사이의 공간을 언더필링 물질로 채우는 과정을 생략할 수 있으므로 공정을 단순화하고 공정시간을 단축할 수 있으며 제조비용을 절감할 수 있다.According to the chip embedded package substrate of the present invention and a method of manufacturing the same, since the mask pattern and the conductive joint serve as a support under the chip in the process of heat pressing after chip mounting, it is possible to prevent chip breakage. In addition, since the mask pattern is removed after the chip mounting and the solder mask is formed in the space, the process of filling the space between the chip and the package substrate with the underfill material after the chip mounting can be omitted, thereby simplifying the process and reducing the process time. Can reduce the manufacturing cost.

도 1은 BGA 패키지의 일 예를 나타내보인 단면도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 칩 내장형 패키지 기판을 도시한 단면도이다.
도 3 내지 도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 칩 내장형 패키지 기판의 제조방법을 설명하기 위하여 도시한 단면도들이다.
1 is a cross-sectional view showing an example of a BGA package.
2 is a cross-sectional view illustrating a chip embedded package substrate according to an exemplary embodiment of the present invention.
3 to 10 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a chip embedded package substrate according to an exemplary embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 일 측면에 따른 반도체 패키지 및 그 제조방법의 실시예를 첨부도면을 참조하여 상세히 설명하기로 한다. 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, embodiments of a semiconductor package and a method of manufacturing the same according to an aspect of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In the following description with reference to the accompanying drawings, the same or corresponding components are denoted by the same reference numerals, and a duplicate description thereof will be omitted.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 칩 내장형 패키지 기판을 도시한 단면도이다.2 is a cross-sectional view illustrating a chip embedded package substrate according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 본 발명의 칩 내장형 패키지 기판(200)은, 그 내부에 칩(240)이 내장된 절연층(250)과, 절연층(250)의 상면 및 하면 상에 형성된 인쇄회로 패턴들(213+270a, 263+270b), 절연층(250)을 관통하여 칩(240)과 인쇄회로 패턴을 연결하는 복수 개의 접합부들(230), 그리고 상호 이웃하는 접합부들 및 인쇄회로 패턴들 사이를 격리하는 솔더 마스크(280a, 280b)를 포함한다.Referring to FIG. 2, the chip embedded package substrate 200 may include an insulating layer 250 having a chip 240 therein and a printed circuit pattern formed on upper and lower surfaces of the insulating layer 250. (213 + 270a, 263 + 270b), a plurality of junctions 230 connecting the chip 240 and the printed circuit pattern through the insulating layer 250, and between the adjacent junctions and the printed circuit patterns It includes a solder mask (280a, 280b) to isolate the.

일 예에서, 상기 칩(240)은 집적회로(IC) 소자를 포함하는 능동 소자 또는, 커패시터(capacitor), 인덕터(inductor) 및 저항(resistor) 소자를 포함하는 일군에서 선택되는 어느 하나의 수동 소자일 수 있다.In one example, the chip 240 is an active device including an integrated circuit (IC) device, or any one passive device selected from the group including a capacitor, an inductor and a resistor device. Can be.

상기 접합부(230)는 칩(240)과 패키지 기판을 전기적으로 연결하는 것으로, 솔더 페이스트(solder paste), 솔더온패드(Solder on Pad; SOP), 이방성도전필름(ACF) 또는 전도성 범프(bump)를 사용하여 형성될 수 있다.The junction part 230 electrically connects the chip 240 and the package substrate, and includes a solder paste, a solder on pad (SOP), an anisotropic conductive film (ACF), or a conductive bump. It can be formed using.

도 2에 도시된 본 발명의 칩 내장형 패키지 기판(200)에 따르면, 칩(240)이 절연층(250)내부에 내장되어 있으며, 칩(240)과 인쇄회로 패턴 사이에 언더필링층 대신에 접합부(230)와 솔더 마스크(280a, 280b)가 구비되어 있다. 따라서, 패키지 기판 구조를 단순화할 수 있고, 칩(240)과 인쇄회로 패턴 사이에 언더필링층을 형성하는 과정을 생략할 수 있다.According to the chip embedded package substrate 200 of the present invention illustrated in FIG. 2, the chip 240 is embedded in the insulating layer 250, and a junction portion is formed between the chip 240 and the printed circuit pattern instead of the underfill layer. 230 and solder masks 280a and 280b are provided. Therefore, the package substrate structure can be simplified, and a process of forming the underfill layer between the chip 240 and the printed circuit pattern can be omitted.

도 3 내지 도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 칩 내장형 패키지 기판의 제조방법을 설명하기 위하여 도시한 단면도들이다.3 to 10 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a chip embedded package substrate according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 먼저 패턴 도금이 수행될 베이스 금속층(213)이 일면에 형성된 하부 캐리어(210)를 마련한다. 하부 캐리어(210)는 CCL과 같은 상용 동박적층필름을 사용할 수 있으며, 필요에 따라서는 스테인레스 기판과 같은 소재의 기판이 사용될 수도 있다. 하부 캐리어(210)는 칩 스케일 패키지 기판에 실질적으로 관련된 부분이 아니라 도전성 패턴층이 접합 구조물로서의 기능을 수행하도록 일시적으로 지지하는 역할만 하면 되므로, 그 재질이나 소재에 의해서 본 발명이 제한되는 것은 아니다.Referring to FIG. 3, first, a lower carrier 210 having a base metal layer 213 on which a pattern plating is to be performed is formed. The lower carrier 210 may use a commercial copper clad laminate such as CCL, and a substrate made of a material such as a stainless substrate may be used if necessary. The lower carrier 210 is not a part substantially related to the chip scale package substrate, but only needs to temporarily support the conductive pattern layer to function as a bonding structure, and thus the present invention is not limited by the material or the material. .

일 예로, 하부 캐리어(210)는 패턴 도금이 수행될 베이슴 금속층(213)과, 베이스 금속층(213)을 지지하는 캐리어 금속층(212), 그리고 레진 등의 절연물질로 이루어진 절연층(211)이 적층된 구조일 수 있다. 이 경우, 베이스 금속층(213)은 예컨대 구리(Cu)층으로 형성될 수 있다. 베이스 금속층(213)을 지지하는 캐리어 금속층(212)은 후속 과정에서 제거될 층으로, 베이스 금속층(213)과 대등한 물질, 예컨대 구리층으로 형성될 수 있다. 절연층(211)은 후속 과정에서 박리되어 제거될 캐리어 몸체로서 절연물질로 형성될 수 있다.For example, the lower carrier 210 may include a base metal layer 213 on which pattern plating is to be performed, a carrier metal layer 212 supporting the base metal layer 213, and an insulating layer 211 made of an insulating material such as resin. It may be a stacked structure. In this case, the base metal layer 213 may be formed of, for example, a copper (Cu) layer. The carrier metal layer 212 supporting the base metal layer 213 is a layer to be removed in a subsequent process, and may be formed of a material equivalent to the base metal layer 213, for example, a copper layer. The insulating layer 211 may be formed of an insulating material as a carrier body to be peeled off and removed in a subsequent process.

다음에, 하부 캐리어(210)의 베이스 금속층(213) 상부에 인쇄회로 패턴과 칩을 전기적으로 연결하는 접합부를 형성하기 위한 마스크 패턴(220)을 형성한다. 이때, 마스크 패턴(220)은 하부 캐리어의 인쇄회로 패턴이 형성될 영역을 노출하도록 형성될 수 있다. 마스크 패턴(220)은 후에 반도체 칩을 실장하고 절연층 및 상부 캐리어를 도입하여 가열 및 압착하여 반도체 칩을 내장하는 과정에서 도전성 접합부와 함께 반도체 칩을 지지하는 역할을 하며, 도전성 접합부와 동일한 높이로 형성할 수 있다.Next, a mask pattern 220 is formed on the base metal layer 213 of the lower carrier 210 to form a junction portion electrically connecting the printed circuit pattern and the chip. In this case, the mask pattern 220 may be formed to expose a region where the printed circuit pattern of the lower carrier is to be formed. The mask pattern 220 supports the semiconductor chip together with the conductive joint in the process of mounting the semiconductor chip, introducing the insulating layer and the upper carrier, and heating and compressing the semiconductor chip to embed the semiconductor chip. Can be formed.

마스크 패턴(220)은 베이스 금속층(213) 상에 감광성 물질을 형성한 후 노광 및 현상 공정을 수행하여 인쇄회로 패턴의 이미지를 노출하는 과정으로 형성할 수 있다. 감광성 물질을 패터닝하므로, 전체 이미지 공정 과정에 소요되는 시간을 줄일 수 있다.The mask pattern 220 may be formed by exposing an image of a printed circuit pattern by forming a photosensitive material on the base metal layer 213 and performing an exposure and development process. Patterning the photosensitive material reduces the time required for the entire imaging process.

도 4를 참조하면, 마스크 패턴(220) 사이의 노출된 영역에 도전성 접합부(230)를 형성한다. 도전성 접합부(230)는 상부에 실장되는 반도체 칩과 인쇄회로 패턴 사이를 전기적으로 연결하는 역할을 한다.Referring to FIG. 4, the conductive junction 230 is formed in the exposed areas between the mask patterns 220. The conductive junction 230 serves to electrically connect the semiconductor chip mounted on the top and the printed circuit pattern.

도전성 접합부(230)는 베이스 금속층(213)을 시드층으로 하여 전기도금 방식으로 형성할 수 있다. 또는, 솔더 페이스트(solder paste)와 같은 전도성 재료를 사용하여 실크스크린 등의 방식으로 형성할 수 있으며, 솔더온패드(Solder on Pad; SOP), 이방성도전필름(ACF) 또는 전도성 범프 등을 이용하여 형성할 수 있다. The conductive junction 230 may be formed by electroplating using the base metal layer 213 as a seed layer. Alternatively, a conductive material such as solder paste may be used to form a silk screen, and may be formed using a solder on pad (SOP), anisotropic conductive film (ACF), or conductive bumps. Can be formed.

도 5를 참조하면, 마스크 패턴(220) 및 도전성 접합부(230) 상부에 반도체 칩(240)을 실장한다. 반도체 칩(240)은 집적회로(IC) 소자와 같은 능동 소자일 수 있으며, 커패시터(capacitor)나 인덕터(inductor), 저항 소자(resistor)와 같은 수동 소자일 수도 있다.Referring to FIG. 5, the semiconductor chip 240 is mounted on the mask pattern 220 and the conductive junction 230. The semiconductor chip 240 may be an active device such as an integrated circuit (IC) device, or may be a passive device such as a capacitor, an inductor, or a resistor.

도 6을 참조하면, 도전성 접합부(230) 상부에 실장된 반도체 칩(240)을 덮도록 절연층(250)을 일정 두께 형성한다. 절연층(250)은 반도체 칩(240)을 보호하면서 패키지 기판 몸체로 작용하도록 하부 캐리어(210) 표면으로부터 일정 두께 형성하여 반도체 칩(240)을 완전히 덮도록 형성할 수 있다. 본 발명에서는 도전성 접합부(230)와 마스크 패턴(220) 상부에 반도체 칩(240)을 실장하고 절연층(250)을 형성하여 반도체 칩이 내장되도록 함으로써, 패키지 기판과 반도체 칩 사이의 공간에 언더필링 물질을 채워넣는 공정을 생략할 수 있다.Referring to FIG. 6, the insulating layer 250 is formed to have a predetermined thickness so as to cover the semiconductor chip 240 mounted on the conductive junction 230. The insulating layer 250 may be formed to completely cover the semiconductor chip 240 by forming a predetermined thickness from the surface of the lower carrier 210 to act as a package substrate body while protecting the semiconductor chip 240. In the present invention, the semiconductor chip 240 is mounted on the conductive junction 230 and the mask pattern 220, and the insulating layer 250 is formed to embed the semiconductor chip, thereby underfilling the space between the package substrate and the semiconductor chip. The process of filling the material can be omitted.

절연층(250)을 형성하여 반도체 칩(240)이 절연층 내에 완전히 내장되도록 한 다음에는, 절연층(250)의 상부에 상부 캐리어(260)의 캐리어 금속층(261) 및 베이스 금속층(263)을 도입한다. 연후에, 상부 캐리어(260)를 압착 및 가열하여 상부 캐리어(260)와 하부 캐리어(210)를 접착 결합시키고, 반도체 칩(240)이 절연층(250) 내에 내장되게 한다. 이러한 압착 및 가열에 의해서, 절연층(250)을 구성하는 레진 등의 절연물질이 경화되어, 상부 캐리어(260)와 하부 캐리어(210)를 접착시키게 된다. 상부 캐리어(260)를 압착 및 가열하는 반도체 칩을 내장하는 과정에서, 하부 캐리어 상부에 형성되어 있는 마스크 패턴(220) 및 도전성 접합부(230)가 지지대 역할을 하기 때문에 반도체 칩(240)이 손상되는 문제가 발생하지 않는다.After the insulating layer 250 is formed to completely embed the semiconductor chip 240 in the insulating layer, the carrier metal layer 261 and the base metal layer 263 of the upper carrier 260 are disposed on the insulating layer 250. Introduce. After the opening, the upper carrier 260 is compressed and heated to bond the upper carrier 260 and the lower carrier 210 to each other, and the semiconductor chip 240 is embedded in the insulating layer 250. By such compression and heating, an insulating material such as resin constituting the insulating layer 250 is cured to bond the upper carrier 260 and the lower carrier 210. In the process of embedding the semiconductor chip for pressing and heating the upper carrier 260, the semiconductor chip 240 is damaged because the mask pattern 220 and the conductive junction 230 formed on the upper carrier serve as a support. The problem does not occur.

도 7을 참조하면, 하부 캐리어의 절연층 및 캐리어 금속층, 상부 캐리어의 캐리어 금속층을 각각 박리한다. 그러면, 하부 캐리어 및 상부 캐리어의 베이스 금속층(213, 263)의 표면이 각각 노출된다.Referring to FIG. 7, the insulating layer of the lower carrier, the carrier metal layer, and the carrier metal layer of the upper carrier are peeled off, respectively. The surfaces of the base metal layers 213 and 263 of the lower carrier and the upper carrier are then exposed, respectively.

도 8을 참조하면, 하부 캐리어 및 상부 캐리어의 베이스 금속층 상에 전기적 연결을 위한 인쇄회로 패턴(270a, 279b)을 각각 형성한다. 인쇄회로 패턴(270a, 270b)은 베이스 금속층(213, 263)을 시드층(seed layer)으로 이용하여 도금방식으로 형성할 수 있다. 일 예로, 드라이 필름(dry film)을 베이스 금속층(213, 263) 상에 형성하고, 노광 및 현상 과정을 수행하여 인쇄회로 패턴의 이미지(image)를 노출하는 패턴을 형성할 수 있다. 드라이 필름을 패터닝하므로, 전체 이미지 공정 과정에 소요되는 시간을 줄일 수 있다. 다음에, 드라이 필름에 노출된 베이스 금속층(213, 263) 부분 상에 동도금과 같은 패턴 도금 과정을 수행하여 인쇄회로 패턴(270a, 270b)을 형성한 후, 드라이 필름은 박리하여 제거한다.Referring to FIG. 8, printed circuit patterns 270a and 279b are formed on the base metal layer of the lower carrier and the upper carrier, respectively, for electrical connection. The printed circuit patterns 270a and 270b may be formed by plating using the base metal layers 213 and 263 as seed layers. For example, a dry film may be formed on the base metal layers 213 and 263, and a pattern for exposing an image of a printed circuit pattern may be formed by performing exposure and development processes. By patterning the dry film, the time required for the entire imaging process can be reduced. Next, after forming a printed circuit pattern 270a and 270b by performing a pattern plating process such as copper plating on portions of the base metal layers 213 and 263 exposed to the dry film, the dry film is peeled off and removed.

다른 예로서, 인쇄회로 패턴(270a, 270b)은 솔더 페이스트(solder paste), 솔더 볼(solder ball), 솔더 범프(solder bump), 이방성도전필름(ACF) 또는 와이어 본딩(wire bonding)을 이용하여 형성할 수 있다.As another example, the printed circuit patterns 270a and 270b may be formed using solder paste, solder balls, solder bumps, anisotropic conductive films (ACFs) or wire bonding. Can be formed.

도 9를 참조하면, 인쇄회로 패턴 사이에 잔류하는 베이스 금속층(도 8의 213, 263)을 제거하는 플래시 식각(flash etching)을 수행한다. 그 결과 절연층(250)의 상부 표면과 마스크 패턴의 표면이 각각 노출된다. 계속해서, 노출된 마스크 패턴을 식각하여 제거하면, 도시된 바와 같이 도전성 접합부(230) 사이의 반도체 칩(240)이 노출된다.Referring to FIG. 9, flash etching may be performed to remove the base metal layers 213 and 263 remaining between the printed circuit patterns. As a result, the upper surface of the insulating layer 250 and the surface of the mask pattern are exposed. Subsequently, when the exposed mask pattern is etched and removed, the semiconductor chip 240 between the conductive junctions 230 is exposed as shown.

도 10을 참조하면, 도전성 접합부(230) 사이의 공간에 솔더 마스크(280a)를 형성한다. 이때, 절연층(250)의 노출된 상부 표면, 즉 인쇄회로 패턴(263, 270b)들 사이에도 솔더 마스크(280b)가 형성된다. 솔더 마스크(280a, 280b)는 솔더 레지스트 도포 및 현상 과정으로 형성할 수 있다. 솔더 마스크(280a, 280b)는 인쇄회로 패턴들(270a, 270b) 사이를 격리하는 역할을 한다. 특히, 솔더 마스크(280a)는 도전성 접합부들(230) 사이를 격리하면서 반도체 칩을 지지하는 역할도 한다.Referring to FIG. 10, a solder mask 280a is formed in the space between the conductive junctions 230. In this case, a solder mask 280b is formed on the exposed upper surface of the insulating layer 250, that is, between the printed circuit patterns 263 and 270b. The solder masks 280a and 280b may be formed by applying a solder resist and developing. The solder masks 280a and 280b serve to isolate the printed circuit patterns 270a and 270b. In particular, the solder mask 280a also supports the semiconductor chip while isolating the conductive junctions 230.

본 발명에 따르면, 구리 베이스 금속층을 포함하는 캐리어 상에 인쇄회로 패턴 영역을 노출하는 마스크 패턴을 형성하고, 마스크 패턴 사이에 도전성 접합부를 형성한 후 반도체 칩을 실장하고 절연층을 형성하여 반도체 칩이 내장되도록 한다. 따라서, 칩 실장 후 가열 압착하는 과정에서 마스크 패턴과 도전성 접합부가 칩 하부에서 지지대 역할을 하므로 칩의 파손을 방지할 수 있다.According to the present invention, a mask pattern exposing a printed circuit pattern region is formed on a carrier including a copper base metal layer, a conductive junction is formed between the mask patterns, and then a semiconductor chip is mounted and an insulating layer is formed. To be built. Therefore, since the mask pattern and the conductive joint serve as a support under the chip in the process of heat pressing after chip mounting, it is possible to prevent breakage of the chip.

또한, 칩 실장 후 마스크 패턴을 제거하고 그 공간에 솔더 마스크를 형성하므로 종래 칩 실장 후 칩과 패키지 기판 사이의 공간을 언더필링 물질로 채우는 과정을 생략할 수 있으므로 공정을 단순화하고 공정시간을 단축할 수 있으며 제조비용을 절감할 수 있다.In addition, since the mask pattern is removed after the chip mounting and the solder mask is formed in the space, the process of filling the space between the chip and the package substrate with the underfill material after the chip mounting can be omitted, thereby simplifying the process and reducing the process time. Can reduce the manufacturing cost.

이상에서는 본 발명의 실시예를 중심으로 설명하였지만, 당업자의 수준에서 다양한 변경이나 변형을 가할 수 있다. 이러한 변경과 변형이 본 발명의 범위를 벗어나지 않는 한 본 발명에 속한다고 할 수 있다. 따라서 본 발명의 권리범위는 이하에 기재되는 청구범위에 의해 판단되어야 할 것이다.While the invention has been described in connection with what is presently considered to be the most practical and preferred embodiment, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments. Such changes and modifications are intended to fall within the scope of the present invention unless they depart from the scope of the present invention. Therefore, the scope of the present invention will be determined by the claims described below.

100, 200.....패키지 210.....하부 캐리어
230.....접합부 240.....반도체 칩
250.....절연층 260.....상부 캐리어
270a, 270b..인쇄회로 패턴 280a, 280b.....솔더 마스크
100, 200 ..... Package 210 ..... Lower Carrier
230 ..... junction 240 ..... semiconductor chip
250 ..... insulating layer 260 ..... top carrier
270a, 270b..printed circuit pattern 280a, 280b ..... solder mask

Claims (9)

그 내부에 칩이 내장된 절연층;
상기 절연층의 상면 및 하면 상에 형성된 인쇄회로 패턴;
상기 절연층을 관통하여 상기 칩의 하면으로부터 연장되도록 배치되며 상기 칩과 상기 인쇄회로 패턴을 연결하는 복수 개의 접합부들; 및
상기 칩의 하면으로부터 연장되도록 배치되며 상기 접합부들 사이의 측면 공간을 채우는 솔더 마스크를 포함하는 것을 특징으로 하는 칩 내장형 패키지 기판.
An insulation layer having chips embedded therein;
Printed circuit patterns formed on upper and lower surfaces of the insulating layer;
A plurality of junctions disposed to extend from a bottom surface of the chip through the insulating layer and to connect the chip and the printed circuit pattern; And
And a solder mask disposed to extend from a bottom surface of the chip and filling side spaces between the junctions.
제1항에 있어서,
상기 칩은 집적회로(IC) 소자를 포함하는 능동 소자 또는, 커패시터, 인덕터 및 저항 소자를 포함하는 일군에서 선택되는 어느 하나의 수동 소자인 것을 특징으로 하는 칩 내장형 패키지 기판.
The method of claim 1,
The chip is a chip embedded package substrate, characterized in that any one of a passive element selected from the group including an active element including an integrated circuit (IC) element, or a capacitor, an inductor and a resistance element.
하부 캐리어 상에, 칩과 인쇄회로 패턴을 연결하는 접합부가 형성될 영역을 노출하는 마스크 패턴을 형성하는 단계;
상기 마스크 패턴 사이에 도전성 접합부를 형성하는 단계;
상기 도전성 접합부 상에 반도체 칩을 실장하는 단계;
상기 도전성 접합부 상에 실장된 상기 반도체 칩을 덮도록 상기 하부 캐리어 상에서 절연층을 형성하는 단계;
상기 절연층 상에 상부 캐리어를 도입하는 단계;
상기 절연층에 상기 칩이 내장되게 상기 하부 캐리어 및 상부 캐리어를 접착시키는 단계;
상기 하부 캐리어 및 상부 캐리어의 베이스 금속층을 제외한 잔여 층을 제거하는 단계;
상기 절연층 상면 및 하면에 인쇄회로 패턴을 형성하는 단계;
상기 마스크 패턴을 제거하는 단계; 및
상기 도전성 접합부들 사이 및 인쇄회로 패턴들 사이에 솔더 마스크를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 칩 내장형 패키지 기판 제조방법.
Forming a mask pattern on the lower carrier, the mask pattern exposing a region where a junction portion connecting the chip and the printed circuit pattern is to be formed;
Forming a conductive junction between the mask patterns;
Mounting a semiconductor chip on the conductive junction;
Forming an insulating layer on the lower carrier to cover the semiconductor chip mounted on the conductive junction;
Introducing an upper carrier on the insulating layer;
Adhering the lower carrier and the upper carrier so that the chip is embedded in the insulating layer;
Removing the remaining layer except for the base metal layer of the lower carrier and the upper carrier;
Forming printed circuit patterns on upper and lower surfaces of the insulating layer;
Removing the mask pattern; And
And forming a solder mask between the conductive joints and the printed circuit patterns.
제3항에 있어서,
상기 하부 캐리어는 구리 베이스 금속층을 포함하는 것을 특징으로 하는 칩 내장형 패키지 기판 제조방법.
The method of claim 3,
The lower carrier is a chip embedded package substrate manufacturing method comprising a copper base metal layer.
제3항에 있어서,
상기 마스크 패턴은, 상기 칩과 인쇄회로 패턴을 연결하는 도전성 접합부와 동일한 높이로 형성하는 것을 특징으로 하는 칩 내장형 패키지 기판 제조방법.
The method of claim 3,
The mask pattern is a chip embedded package substrate manufacturing method, characterized in that formed at the same height as the conductive junction connecting the chip and the printed circuit pattern.
제3항에 있어서,
상기 도전성 접합부를 형성하는 단계는,
솔더 페이스트(solder paste), 솔더온패드(Solder on Pad; SOP), 이방성도전필름(ACF) 또는 전도성 범프를 이용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 칩 내장형 패키지 기판 제조방법.
The method of claim 3,
Forming the conductive junction,
Method for manufacturing a chip embedded package substrate, characterized in that formed using a solder paste, a solder on pad (SOP), an anisotropic conductive film (ACF) or conductive bumps.
제3항에 있어서,
상기 칩은 집적회로(IC) 소자를 포함하는 능동 소자 또는, 커패시터, 인덕터 및 저항 소자를 포함하는 일군에서 선택되는 어느 하나의 수동 소자인 것을 특징으로 하는 칩 내장형 패키지 기판의 제조방법.
The method of claim 3,
The chip is a method for manufacturing a chip embedded package substrate, characterized in that any one of a passive device selected from the group consisting of an active device including an integrated circuit (IC) device, or a capacitor, an inductor and a resistor.
제3항에 있어서,
상기 절연층 상면 및 하면에 인쇄회로 패턴을 형성하는 단계는,
상기 상부 및 하부 캐리어의 금속층을 시드(seed)층으로 하여 도금 방식으로 인쇄회로 패턴을 형성하는 단계, 및
상기 인쇄회로 패턴을 이용하여 노출된 상기 베이스 금속층을 식각하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 칩 내장형 패키지 기판의 제조방법.
The method of claim 3,
Forming a printed circuit pattern on the upper and lower surfaces of the insulating layer,
Forming a printed circuit pattern by plating using metal layers of the upper and lower carriers as seed layers, and
And etching the exposed base metal layer using the printed circuit pattern.
제8항에 있어서,
상기 베이스 금속층을 식각하는 단계는, 플래시 에칭 공정으로 진행하는 것을 특징으로 하는 칩 내장형 패키지 기판의 제조방법.

9. The method of claim 8,
The etching of the base metal layer may include a flash etching process.

KR1020110126630A 2011-11-30 2011-11-30 Embedded chip package board using mask pattern and method for manufacturing the same KR101340348B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110126630A KR101340348B1 (en) 2011-11-30 2011-11-30 Embedded chip package board using mask pattern and method for manufacturing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110126630A KR101340348B1 (en) 2011-11-30 2011-11-30 Embedded chip package board using mask pattern and method for manufacturing the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20130060529A KR20130060529A (en) 2013-06-10
KR101340348B1 true KR101340348B1 (en) 2013-12-11

Family

ID=48858942

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020110126630A KR101340348B1 (en) 2011-11-30 2011-11-30 Embedded chip package board using mask pattern and method for manufacturing the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101340348B1 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101527379B1 (en) * 2014-07-14 2015-06-09 와이엠티 주식회사 Semiconductor package and manufacturing methode of the same
CN117156730B (en) * 2023-10-31 2024-01-26 江苏普诺威电子股份有限公司 Embedded packaging substrate, manufacturing method thereof and stacked packaging structure

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060091561A1 (en) 2002-05-29 2006-05-04 Jochen Dangelmaier Electronic component comprising external surface contacts and a method for producing the same
KR20070065789A (en) * 2005-12-20 2007-06-25 피닉스 프리시젼 테크날로지 코포레이션 Structure of circuit board and method for fabricating the same
KR20090130605A (en) * 2008-06-16 2009-12-24 삼성전기주식회사 Chip embedded printed circuit board and manufacturing method thereof

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060091561A1 (en) 2002-05-29 2006-05-04 Jochen Dangelmaier Electronic component comprising external surface contacts and a method for producing the same
KR20070065789A (en) * 2005-12-20 2007-06-25 피닉스 프리시젼 테크날로지 코포레이션 Structure of circuit board and method for fabricating the same
KR20090130605A (en) * 2008-06-16 2009-12-24 삼성전기주식회사 Chip embedded printed circuit board and manufacturing method thereof

Also Published As

Publication number Publication date
KR20130060529A (en) 2013-06-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11508776B2 (en) Image sensor semiconductor packages and related methods
US9831282B2 (en) Electronic device package and fabricating method thereof
JP5661225B2 (en) Semiconductor device packaging method
US8704350B2 (en) Stacked wafer level package and method of manufacturing the same
US7319049B2 (en) Method of manufacturing an electronic parts packaging structure
US8410614B2 (en) Semiconductor device having a semiconductor element buried in an insulating layer and method of manufacturing the same
US7501696B2 (en) Semiconductor chip-embedded substrate and method of manufacturing same
US20080157327A1 (en) Package on package structure for semiconductor devices and method of the same
JP2013162128A (en) Package-on-package-type semiconductor package and method of fabricating the same
JP2008166824A (en) Multichip package and formation method thereof
JP2008244437A (en) Image sensor package having die receiving opening and method thereof
US7833837B2 (en) Chip scale package and method for manufacturing the same
KR20100002711A (en) Embedded wiring board, semiconductor package including embedded wiring board, and method of fabricating the same
JP2009117767A (en) Manufacturing method of semiconductor device, and semiconductor device manufacture by same
KR20100009941A (en) Semiconductor package having stepped molding compound with conductive via, method for formation of the same and stacked semiconductor package using the same
JP4977937B2 (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof
US7276800B2 (en) Carrying structure of electronic components
JP2010161419A (en) Method of manufacturing semiconductor device
KR101374144B1 (en) Semiconductor device for preventing warpage
JP4556671B2 (en) Semiconductor package and flexible circuit board
KR101340348B1 (en) Embedded chip package board using mask pattern and method for manufacturing the same
US9490225B2 (en) Package structure and fabrication method thereof
KR100823224B1 (en) Semiconductor package printed circuit substrate and fabrication mothod thereof forming micro bump
KR20220078131A (en) Hybrid semiconductor device and electronic device including the same
CN111446216A (en) Electronic package, manufacturing method thereof and substrate for packaging

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20161117

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20171206

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181122

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191205

Year of fee payment: 7