KR101337884B1 - LCD board treating apparatus - Google Patents
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Abstract
본 발명은 엘시디기판 처리 장치에 관한 것으로서, 배쓰(1)의 소정부위에 설치된 관찰창(2) 외표면과 일정간격 이격 배치되어 그 중앙부에 손잡이부(11)가 마련되고 이 손잡이부(11) 양단부에 상기 관찰창(2) 외표면과 밀착되는 자석(12)이 구비된 외부핸드바(10); 상기 외부핸드바(10)와 대응되는 관찰창(2)의 내표면 상에 배치되어 그 양단부가 상기 외부핸드바(10)의 자석(12)에 부착되고 중앙부에 관찰창(2)의 내표면과 밀착되는 클리너(21)가 구비된 클리너홀더(20); 및 상기 외부핸드바(10) 및 클리너홀더(20)를 이송시키는 이송수단을 포함하여 구성된다. 따라서, 습식 식각 공정 중에도 외부에서 관찰창 내표면에 맺히는 화학용액방울 또는 물방울 등을 신속하고 용이하게 제거할 수 있어 장치의 내부 관찰이 수월하게 되도록 하는 등의 효과를 얻는다. The present invention relates to an LCD substrate processing apparatus, which is spaced apart from the outer surface of the observation window (2) provided at a predetermined portion of the bath (1), the handle portion (11) is provided at the center thereof and the handle portion (11) An outer hand bar (10) having magnets (12) in close contact with outer surfaces of the observation window (2) at both ends; It is disposed on the inner surface of the observation window 2 corresponding to the outer hand bar 10 so that both ends are attached to the magnet 12 of the outer hand bar 10 and the inner surface of the observation window 2 in the center portion Cleaner holder 20 is provided with a cleaner 21 in close contact with the; And a conveying means for conveying the external hand bar 10 and the cleaner holder 20. Therefore, even during the wet etching process, chemical solution droplets or water droplets formed on the inner surface of the observation window can be removed quickly and easily, thereby facilitating the internal observation of the apparatus.
엘시디기판 처리 장치, 관찰창, 외부핸드바, 클리너홀더, 자석 LCD substrate processing unit, observation window, external hand bar, cleaner holder, magnet
Description
도 1은 일반적인 엘시디기판 처리 장치의 일례를 나타낸 개략도이다.1 is a schematic view showing an example of a general LCD substrate processing apparatus.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 엘시디기판 처리 장치를 나타낸 횡단면도이다.Figure 2 is a cross-sectional view showing an LCD substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 엘시디기판 처리 장치를 나타낸 평면도이다.3 is a plan view showing an LCD substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
**도면의 주요부분에 대한 부호의 설명**DESCRIPTION OF REFERENCE NUMERALS
1 : 배쓰 2 : 관찰창1
3 : 분사노즐 4 : 반송롤러3: injection nozzle 4: conveying roller
10 : 외부핸드바 11 : 손잡이부10: external hand bar 11: handle
12 : 자석 13 : 가이드12: magnet 13: guide
13a : 회전축 14 : 가이드레일13a: rotating shaft 14: guide rail
20 : 클리너홀더 21 : 클리너20: cleaner holder 21: cleaner
22 : 보조자석 23 : 가이드22: auxiliary magnet 23: guide
23a : 회전축 24 : 가이드레일23a: rotating shaft 24: guide rail
본 발명은 엘시디기판 처리 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 습식 식각 공정 중에도 외부에서 관찰창 내표면에 형성되는 화학용액방울 또는 물방울 등을 신속하고 용이하게 제거하여 장치의 내부 관찰이 수월하게 되도록 하는 엘시디기판 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an LCD substrate processing apparatus, and more particularly, to quickly and easily remove chemical solution droplets or water droplets, which are formed on the inner surface of an observation window during a wet etching process, so that the internal observation of the apparatus is facilitated. It relates to an LCD substrate processing apparatus.
일반적으로 식각 방법은 습식 식각 방법과 건식 식각 방법으로 분류할 수 있으며, 상기 건식 식각 방법은 현상적으로 볼 때 플라즈마 내에 존재하는 원소와 식각 대상의 표면 물질 간의 화학 반응과 플라즈마 내에 존재하는 활성종 입자의 표면 충돌에 기인한 반응촉진에 의해 진행되고, 이러한 건식 식각 중 일어나는 플라즈마 반응은 플라즈마 내에서 활성입자의 생성, 활성 입자의 식각 표면으로의 이동 및 흡착, 식각 대상의 표면 물질과의 화학반응 및 반응 생성물의 이탈로 이루어진다.In general, the etching method may be classified into a wet etching method and a dry etching method. The dry etching method is a chemical reaction between an element present in the plasma and a surface material of an object to be etched and the active species particles present in the plasma. The reaction is promoted by reaction reaction due to the surface collision of and the plasma reaction which occurs during the dry etching is generated by the active particles in the plasma, the movement and adsorption of the active particles to the etching surface, chemical reaction with the surface material of the etching target and Consists in the departure of the reaction product.
그리고, 상기 습식 식각 방법은 식각 대상의 식각하고자 하는 막과 화학적으로 반응하여 용해시킬 수 있는 화학용액을 사용하여 식각 대상을 원하는 형상으로 식각하는 방법이다. The wet etching method is a method of etching an object to be etched into a desired shape by using a chemical solution that can chemically react with and dissolve the film to be etched.
한편, 상기 습식 식각 방법은 식각 및 세정 공정 중에 분사노즐(미도시)로 화학용액 또는 순수(water)와 같은 용액을 분사하여 기판을 식각 및 세정 처리하기 때문에 이러한 화학용액방울이나 물방울 등이 내부 관찰용 관찰창에 맺혀 공정 중에 관찰자가 장치 내부를 관찰하는데 시야 확보가 어렵게 되고, 이에 따라 식각 공정 중에 발생될 수 있는 안전사고 등의 임의 상황에 대해 유연하게 대처할 수 없게 됨은 물론 기판 불량 발생에 대한 실시간 분석이 어렵게 되는 등의 문제점을 갖고 있었다. On the other hand, in the wet etching method, since the substrate is etched and cleaned by spraying a solution such as a chemical solution or water with a spray nozzle (not shown) during the etching and cleaning process, such chemical solution droplets or water droplets are observed inside. As a result, it becomes difficult for the observer to observe the inside of the device during the process due to the observation window, so that it is not possible to flexibly cope with any situation such as a safety accident that may occur during the etching process, as well as real-time failure of the substrate. Problems such as difficult analysis.
본 발명은 이러한 문제점을 해결하기 위해서 안출된 것으로서, 습식 식각 공정 중에도 외부에서 관찰창 내표면에 맺히는 화학용액방울 또는 물방울 등을 신속하고 용이하게 제거할 수 있어 장치의 내부 관찰이 수월하게 되도록 하는 엘시디기판 처리 장치를 제공하는데 그 목적이 있다. The present invention has been made in order to solve this problem, and the liquid crystal to be able to quickly and easily remove the chemical solution droplets or water droplets formed on the surface of the observation window from the outside even during the wet etching process to facilitate the internal observation of the device The object is to provide a substrate processing apparatus.
이와 같은 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 엘시디기판 처리 장치는 배쓰의 소정부위에 설치된 관찰창 외표면과 일정간격 이격 배치되는 외부핸드바로서, 상기 외부핸드바의 중앙부에 손잡이부가 마련되고 이 손잡이부 양단부에 상기 관찰창 외표면과 밀착되는 자석이 구비된 상기 외부핸드바; 상기 외부핸드바와 대응되는 관찰창의 내표면 상에 배치되는 클리너홀더로서, 상기 클리너홀더의 양단부가 상기 외부핸드바의 자석에 부착되는 금속재질로 이루어지고 상기 클리너홀더의 중앙부에 관찰창의 내표면과 밀착되는 클리너가 구비된 상기 클리너홀더; 및 상기 외부핸드바 및 클리너홀더를 이송시키는 이송수단을 포함하여 구성된다.The LCD substrate processing apparatus of the present invention for achieving the above object is an external hand bar which is spaced apart from the outer surface of the observation window provided at a predetermined portion of the bath, the handle is provided in the center of the outer hand bar and the handle An outer hand bar having magnets in close contact with the outer surface of the observation window at both ends; A cleaner holder disposed on an inner surface of an observation window corresponding to the outer hand bar, wherein both ends of the cleaner holder are made of a metal material attached to a magnet of the outer hand bar and closely adhere to the inner surface of the observation window at the center of the cleaner holder. The cleaner holder is provided with a cleaner; And a conveying means for conveying the external hand bar and the cleaner holder.
또한, 본 발명에 따른 엘시디기판 처리 장치에 있어서, 상기 외부핸드바 이송수단은, 외부핸드바의 양측단에 설치되는 롤러 형상의 가이드와, 이 가이드에 대응되는 관찰창의 외표면 상에 구비되어 상기 가이드의 이동을 안내하는 가이드홈이 형성된 가이드레일을 포함하여 이루어진 것이 바람직하다.In the LCD substrate processing apparatus according to the present invention, the external hand bar conveying means is provided on the roller-shaped guides provided at both ends of the external hand bar and the outer surface of the observation window corresponding to the guide. It is preferable that the guide rail is formed to guide the movement of the guide is formed.
또한, 본 발명에 따른 엘시디기판 처리 장치에 있어서, 상기 클리너홀더 이 송수단은, 클리너홀더의 양단에 설치되는 롤러 형상의 가이드와, 이 가이드에 대응되는 관찰창의 내표면 상에 구비되어 상기 가이드의 이동을 안내하는 가이드홈이 형성된 가이드레일을 포함하여 이루어진 것이 바람직하다.In the LCD substrate processing apparatus of the present invention, the cleaner holder transfer means is provided on a roller-shaped guide provided at both ends of the cleaner holder, and on an inner surface of the observation window corresponding to the guide. It is preferable that a guide rail formed with a guide groove for guiding movement is formed.
또한, 본 발명에 따른 엘시디기판 처리 장치에 있어서, 상기 외부핸드바의 자석과 부착되는 클리너홀더의 양단부에 보조자석이 더 구비된 것이 바람직하다.In the LCD substrate processing apparatus according to the present invention, it is preferable that auxiliary magnets are further provided at both ends of the cleaner holder attached to the magnet of the external hand bar.
이하, 첨부된 도면에 의거 본 발명을 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
도 1 내지 도 3에서 나타낸 것과 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 엘시디기판 처리 장치는 배쓰(1)의 소정부위에 설치된 관찰창(2) 외표면 상에 배치되는 외부핸드바(10)와 이 외부핸드바(10)와 대응되는 관찰창(2)의 내표면 상에 배치되는 클리너홀더(20) 및 이들 외부핸드바(10)와 클리너홀더(20)를 이송시키는 이송수단을 포함하는 구성으로 되어 있다.As shown in Figures 1 to 3, the LCD substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention and the
상기 외부핸드바(10)는 작업자가 손으로 쥘 수 있도록 관찰창(2) 외표면과 일정간격 이격 배치되어 그 중앙부에 손잡이부(11)가 마련되고, 이 손잡이부(11) 양단부에 상기 관찰창(2) 외표면과 밀착되는 자석(12)이 구비된 바 형상으로 되어 있다. The
그리고, 상기 외부핸드바(10)의 자석(12) 인접 바깥쪽인 양단부에는 이송수단인 가이드(13)가 마련되고, 이 가이드(13)에 대응되는 관찰창(2)의 외표면 상에 상기 가이드(13)가 슬라이딩되도록 상기 외부핸드바(10)와 직교되는 방향으로 연장된 한 쌍의 장방형 막대 형상의 가이드레일(14)이 고정 설치되어 있다.In addition,
여기서, 상기 가이드(13)는 외부핸드바(10)의 양단부에서 회전축(13a)에 의 해 축 회전되는 롤러 형상으로 구성되고, 이에 대응되는 가이드레일(14)의 내측면에 상기 롤러의 일부가 삽입 슬라이딩되도록 하는 가이드홈(14a)이 형성되어 있다.Here, the
한편, 상기 가이드(13)는 가이드레일(14)을 따라 원활하게 슬라이딩되도록 외부핸드바(10)의 양단부에서 슬라이딩 방향을 따라 전, 후단부에 각각 형성된 한 쌍으로 구성되어 있다. On the other hand, the
상기 클리너홀더(20)는 외부핸드바(10)와 대응되는 관찰창(2)의 내표면 상에 배치되어 그 양단부가 상기 외부핸드바(10)의 자석(12)에 부착되고 중앙부에 관찰창(2)의 내표면과 밀착되는 클리너(21)가 구비된 형상으로 되어 있다.The
그리고, 상기 클리너홀더(20)의 양단부, 즉, 외부핸드바(10)의 자석(12)과 부착되는 부위에는 자력을 더 강화시키기 위해 보조자석(22)이 더 구비되어 있다.And, both ends of the
한편, 상기 클리너홀더의 양단부는 플라스틱 등의 비자성체로 제작한 후 여기에 별도의 보조자석을 설치하여 사용할 수도 있을 것이다. On the other hand, both ends of the cleaner holder may be made of a nonmagnetic material such as plastic and then may be used by installing a separate auxiliary magnet.
그리고, 상기 클리너홀더(20)의 보조자석(22) 인접부에도 이송수단인 가이드(23)가 마련되고, 이 가이드(23)에 대응되는 관찰창(2)의 내표면 상에 상기 가이드(23)가 슬라이딩되도록 하는 상기 클리너홀더(20)와 직교되는 방향으로 연장된 한 쌍의 장방형 막대 형상의 가이드레일(24)이 각각 고정 설치되어 있다.In addition, a
여기서, 상기 가이드(23)는 클리너홀더(20)의 양단부에서 회전축(23a)에 의해 축 회전되는 롤러 형상으로 구성되고, 이에 대응되는 가이드레일(24)의 내측면에는 상기 롤러의 일부가 삽입 슬라이딩되도록 하는 가이드홈(24a)이 형성되어 있다.Here, the
그리고, 상기 가이드(23)는 가이드레일(24)을 따라 원활하게 슬라이딩 가능하게 되도록 클리너홀더(20)의 양단부에서 슬라이딩 방향을 따라 전, 후단부에 각각 형성된 한 쌍으로 되어 있다. In addition, the
미 설명 부호 3은 화학용액 또는 순수를 분사하는 분사노즐이고, 4는 식각 또는 세정될 기판을 진행 방향으로 반송하는 반송롤러를 나타낸 것이다.
이러한 구성에 따른 본 발명의 엘시디기판 처리 장치는 엘시디기판 처리 장치의 배쓰(1)에 형성된 관찰창(2)의 외표면에 외부핸드바(10)를 배치하고, 이에 대응되는 관찰창(2)의 내표면에 클리너(21)가 탑재된 클리너홀더(2)를 배치하여 서로의 자석(12) 및 보조자석(22)이 부착되도록 한 상태에서 이들 각각의 가이드(13,23)에 대응해서 관찰창(2)의 외, 내표면 양측에 상기 가이드(13,23)가 일부 삽입되도록 하여 가이드레일(24)을 각각 고정 설치함으로써 관찰창(2)으로의 관찰창 클리너 설치가 완성된다. According to the LCD substrate processing apparatus of the present invention, the
이렇게 조립이 완성된 상기 관찰창 클리너의 작동 및 조작을 살펴보면, 관찰창(2)의 내표면에 맺혀있는 화학용액방울이나 물방울을 제거하고자 할 경우, 작업자는 관찰창(2)의 외표면으로 노출되어 있는 외부핸드바(10)의 손잡이부(11)를 잡고 원하는 방향으로 힘을 가하면 이 외부핸드바(10)의 양단에 설치되어 있는 가이드(13)가 가이드레일(24)을 따라 슬라이딩되면서 작업자가 원하는 방향으로 이동하게 되고, 이와 동시에 관찰창(2)의 내표면에 배치되어 있는 클리너홀더(20)도 외부핸드바(10)의 움직임과 함께 일체로 슬라이딩 이동되게 되며, 이때, 이 클리너홀더(20)에 탑재되어 관찰창(2)의 내표면에 밀착되어 있는 클리너(21)가 해당 부분에 맺혀있는 화학용액방울이나 물방울을 제거하게 되는 것이다. Looking at the operation and operation of the observation window cleaner that is assembled in this way, if you want to remove the chemical solution droplets or water droplets formed on the inner surface of the observation window (2), the operator is exposed to the outer surface of the observation window (2) Holding the
이와 같이 하여 본 발명의 관찰창 클리너를 통해 작업자는 배쓰(1)를 오픈시키지 않고도 식각 및 세정 공정 중 관찰창(2)의 내표면에 맺히게 되는 화학용액방울 및 물방울 등을 수월하게 제거할 수 있게 되는 것이다. In this way, through the observation window cleaner of the present invention, the operator can easily remove chemical solution droplets and water droplets, etc. formed on the inner surface of the
이상에서와 같이, 본 발명의 엘시디기판 처리 장치는 습식 식각 공정 중에도 외부에서 관찰창 내표면에 맺히는 화학용액방울 또는 물방울 등을 신속하고 용이하게 제거할 수 있어 장치의 내부 관찰이 수월하게 되도록 하는 등의 효과를 얻는다. As described above, the LCD substrate processing apparatus of the present invention can quickly and easily remove the chemical solution droplets or water droplets formed on the inner surface of the observation window even during the wet etching process to facilitate the internal observation of the apparatus. Gets the effect.
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KR20050096304A (en) * | 2004-03-30 | 2005-10-06 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Wet etching apparatus |
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