KR101334194B1 - 보트 이송장치 - Google Patents

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Abstract

보트 이송장치가 개시된다. 본 발명에 따른 보트 이송장치는, 하부지지부재와 상부지지부재 및 연결부재를 가지면서 "ㄷ" 형상으로 형성된 프레임의 하부지지부재와 상부지지부재 사이에 지지수단이 마련되므로, 상부지지부재의 변형이 방지되는 효과가 있다. 그리고, 보트를 탑재하여 이송하는 프레임에 보트를 승강시키는 승강수단이 설치되므로, 보트가 승강하여도 기판 처리장치의 챔버에 유입된 분위기 가스가 외부로 누설되지 않는 효과가 있다.

Description

보트 이송장치 {APPARATUS FOR TRANSFERING BOAT}
본 발명은 보트 이송장치에 관한 것이다.
반도체 제조, 평판 디스플레이의 제조 또는 박막형 태양전지의 제조시, 기판은 기판 처리장치에 로딩되어 처리된다. 그리고, 기판 처리장치는 하나의 기판을 처리하는 매엽식(Single Substrate Type)과 복수의 기판을 처리하는 배치식(Batch Type)으로 대별된다.
배치식 기판 처리장치의 경우, 복수의 기판은 보트에 적재 보관되어 기판 처리장치에 로딩된다. 이때, 기판 처리장치가 수직형일 경우 보트는 이송장치에 의하여 승강하면서 기판 처리장치에 로딩되고, 기판 처리장치가 수평형일 경우 보트는 이송장치에 의하여 수평으로 슬라이딩되면서 기판 처리장치에 로딩된다.
수평형 기판 처리장치에 사용되는 보트 이송장치는 슬라이딩가능하게 설치되며 보트가 탑재 지지되는 프레임을 포함한다. 그리하여, 프레임이 슬라이딩되면서 기판 처리장치의 챔버를 출입함에 따라 보트가 챔버에 로딩되고, 챔버로부터 언로딩된다. 프레임은 대략 "ㄷ" 형상으로 형성되며, 상측 부위는 챔버를 출입하고, 하측 부위는 챔버 외측의 기판 처리장치 내부를 출입한다. 프레임의 상측 부위에 보트가 탑재 지지된다.
상기와 같은 종래의 보트 이송장치는 "ㄷ" 형상으로 형성된 프레임의 상측 부위를 지지하는 아무런 수단이 없으므로, 프레임의 상측 부위에 보트가 탑재되었을 때, 프레임의 상측 부위가 변형될 단점이 있었다.
기판 처리장치와 관련된 기술은 한국공개특허공보 10-2011-0121443호 등에 개시되어 있다.
본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해소하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 보트가 탑재되는 프레임의 부위를 지지하는 지지수단을 마련하여, 프레임이 변형되는 것을 방지할 수 있는 보트 이송장치를 제공함에 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 보트 이송장치는, 복수의 기판이 적재 보관된 보트를 기판 처리장치의 챔버로 로딩하거나 기판 처리장치의 챔버로부터 언로딩하는 보트 이송장치로서, 안내레일; 하측 부위는 상기 안내레일에 지지되고, 상측 부위에는 상기 보트가 탑재 지지되며, 상기 안내레일을 따라 슬라이딩가능하게 설치되어 상기 기판 처리장치를 출입하는 프레임; 상단부측은 상기 프레임의 상측 부위에 회전가능하게 설치되고, 하단부측은 상기 프레임의 하측 부위에 지지되어 상기 프레임의 상측 부위를 지지하는 지지수단을 포함한다.
본 발명에 따른 보트 이송장치는, 하부지지부재와 상부지지부재 및 연결부재를 가지면서 "ㄷ" 형상으로 형성된 프레임의 하부지지부재와 상부지지부재 사이에 지지수단이 마련되므로, 상부지지부재의 변형이 방지되는 효과가 있다.
그리고, 보트를 탑재하여 이송하는 프레임에 보트를 승강시키는 승강수단이 설치되므로, 보트가 승강하여도 기판 처리장치의 챔버에 유입된 분위기 가스가 외부로 누설되지 않는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 보트 이송장치의 사용예를 보인 사시도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 보트 이송장치의 사시도.
도 3a 내지 도 3e는 보트를 로딩하는 것을 보인 도 2의 정면도.
도 4a 내지 도 4e는 보트를 언로딩하는 것을 보인 도 2의 정면도.
후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시하여 도시한 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있도록 충분히 상세하게 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 상호 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 특정 구조 및 특성은 일 실시예와 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미가 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에 도시된 실시예들의 길이, 면적, 두께 및 형태는, 편의상, 과장되어 표현될 수도 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 보트 이송장치를 상세히 설명한다.
이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 보트 이송장치가 기판 처리장치인 CIGS층 형성장치에 사용되는 것을 예로 들어 설명한다. CIGS층 형성장치는 박막형 태양전지의 CIGS{Cu(In1-xGax)Se2} 층을 형성하는 장치이다.
박막형 태양전지는 유리 등의 기판, 기판 상에 형성된 금속층으로 이루어진 (+)극인 전극층, 전극층 상에 형성되며 광을 흡수하는 p형의 CIGS층, CIGS층 상에 형성된 n형의 버퍼층 및 버퍼층 상에 형성된 (-)극인 투명 전극층을 포함하는 다층 적층 구조이다.
그리하여, 수광부인 투명 전극층을 통하여 태양광이 입사되면, p-n 접합 부근에서는 대략 1.04 eV 의 밴드갭 에너지를 갖는 여기된 한 쌍의 전자 및 정공이 생성된다. 그리고, 여기된 전자와 정공은 확산에 의해 p-n 접합부에 도달하고, 접합부의 내부 전계에 의해 전자가 n 영역에, 정공이 p 영역에 집합하여 분리된다.
그러면, n 영역은 마이너스로 대전되고, p 영역은 플러스로 대전되며, 각 영역에 형성된 전극 간에는 전위차가 생긴다. 그리고, 전위차를 기전력으로 하여 각 전극 사이를 도선으로 연결하면 광전류가 얻어진다. 이것이 태양전지의 원리이다.
박막형 태양전지의 CIGS층을 형성하는 방법은, 기판에 형성된 전극층 상에 구리, 인듐, 갈륨의 원소를 적정 비율로 진공 스퍼터링하여 전구체막을 형성하는 전구체막 형성 공정과, 이와 같이 증착된 전구체막에 셀렌화 수소(H2Se) 기체를 흘려주면서 기판에 온도를 가하게 되는 셀렌화(selenization) 공정을 거친다. 이러한 일련의 공정에 따라, 구리(Cu), 인듐(In), 갈륨(Ga) 및 셀레늄(Se) 원소의 적정 조성 비율을 갖는 CIGS층을 형성할 수 있게 된다.
이러한 셀렌화 공정은 전구체막이 형성된 기판을 밀폐된 챔버에 로딩시키고, 챔버를 불활성가스로 치환한 다음, 챔버에 처리가스인 셀렌화 수소(H2Se)을 도입한 후, 챔버를 일정 온도로 승온시켜 일정 시간 유지하여, 셀렌화된 CIGS층을 형성하는 공정이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 보트 이송장치의 사용예를 보인 사시도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 보트 이송장치의 사시도이다.
도시된 바와 같이, 기판 처리장치인 CIGS층 형성장치는 본체(110)를 포함하고, 본체(110)의 내부에는 챔버(112)가 형성된다. 그리고, 챔버(112)를 형성하는 본체(110)의 내면에는 상호 대향하는 한쌍의 받침레일(114)이 형성된다.
복수의 기판(55)이 적재 보관된 보트(50)는 챔버(112)에 로딩되어 하면 테두리부측이 받침레일(114)에 탑재 지지된다. 보트(50)가 받침레일(114)에 탑재 지지되면, 본체(110)에 설치된 도어(미도시)에 의하여 챔버(112)가 밀폐된 후, 기판(55)이 처리된다. 그리고, 기판(55)의 처리가 완료되면, 보트(50)가 챔버(112)로부터 언로딩된다.
본 실시예에 따른 보트 이송장치는 보트(50)를 챔버(112)에 로딩하거나, 챔버(112)로부터 언로딩한다.
본 실시예에 따른 보트 이송장치는 받침판(210)과 받침판(210)에 설치된 안내레일(220)를 포함한다. 안내레일(220)은 상호 대향하는 한쌍으로 마련되어 챔버(112)의 길이방향과 평행을 이루며, 일측은 본체(110)의 외부에 위치되고 타측은 본체(110)의 내부에 위치된다.
안내레일(220)에는 프레임(230)이 슬라이딩가능하게 설치된다. 프레임(230)의 하측 부위는 안내레일(220)에 지지되고, 상측 부위에는 보트(50)가 탑재 지지된다. 프레임(230)은 받침판(210)에 설치된 모터(240)에 의하여 안내레일(220)을 따라 슬라이딩하면서 본체(110)를 출입한다. 모터(240)의 구동력은 체인(미도시) 또는 벨트(미도시) 등과 같은 동력전달수단에 의하여 프레임(230)에 전달된다.
프레임(230)에 대하여 상세히 설명한다.
프레임(230)은 하부지지부재(231), 상부지지부재(234) 및 연결부재(237)를 가지는 "ㄷ" 형상으로 형성된다.
하부지지부재(231)는 안내레일(220)에 지지되어 슬라딩가능하게 설치되며, 우측 부위가 챔버(112) 외측의 본체(110)의 내부를 출입한다. 상부지지부재(234)는 하부지지부재(231)의 상측에 위치되어 하부지지부재(231)와 대향하며 하부지지부재(231)와 함께 운동하면서 우측 부위가 챔버(112)를 출입한다. 상부지지부재(234)에는 보트(50)가 탑재 지지된다. 연결부재(237)는 하부지지부재(231)의 좌단부측과 상부지지부재(234)의 좌단부측에 형성되어, 하부지지부재(231)와 상부지지부재(234)를 일체로 연결한다.
더 구체적으로 설명하면, 안내레일(220)은 상호 평행을 이루는 한쌍으로 마련된다. 그리고, 하부지지부재(231)는 사다리 형상으로 형성되며, 한쌍의 안내레일(220)에 지지되어 안내레일(220)과 평행을 이루고, 상부지지부재(234)는 사다리 형상으로 형성되어 하부지지부재(231)와 대향한다.
프레임(230)이 "ㄷ" 형상으로 형성되므로, 보트(50)가 상부지지부재(234)에 탑재되면, 상부지지부재(234)가 변형될 수 있다. 이를 방지하기 위하여, 본 실시예에 따른 보트 이송장치에는 상부지지부재(234)가 변형되는 것을 방지하는 지지수단이 마련된다.
상기 지지수단은 상단부측은 상부지지부재(234)에 회전가능하게 설치되고, 하단부측은 하부지지부재(231)측에 지지되어 상부지지부재(234)를 지지한다. 즉, 상기 지지수단은, 프레임(230)이 슬라이딩함에 따라, 상기 지지수단이 챔버(112)의 외측에 위치되면 자중에 의하여 회전하여 하단부측이 하부지지부재(231)측에 지지되고, 챔버(112)에 위치되면 본체(110)와 접촉된 후 회전되어 하단부측이 하부지지부재(231)측으로부터 이탈한다.
상기 지지수단은, 회전바(251), 수직지지바(253) 및 수평지지바(255)로 마련된다.
회전바(251)의 일단부측 및 타단부측은 사다리 형상의 상부지지부재(234)의 일측 및 타측에 각각 지지되어 회전가능하게 설치된다. 수직지지바(253)는 회전바(251)의 양단부측에 상단부측이 각각 결합되어 회전바(251)와 함께 회전하며, 하측 부위 측면에는 지지홈(253a)이 형성된다. 수평지지바(255)의 일단부측 및 타단부측은 사다리 형상의 하부지지부재(231)의 일측 및 타측에 각각 지지되며, 지지홈(253a)이 삽입 지지된다.
회전바(251)는 회전가능하게 설치되고, 회전바(251)에 수직지지바(253)가 결합되므로, 수직지지바(253)는 자중에 의하여 프레임(230)에 대하여 수직을 유지한다. 그리고, 수직지지바(253)가 프레임(230)에 대하여 수직을 유지하면, 수직지지바(253)에 형성된 지지홈(253a)이 수평지지바(255)에 삽입 지지될 수 있도록, 수평지지바(255)가 설치된다. 따라서, 보트(50)가 탑재 지지되는 상부지지부재(234)는 상기 지지수단에 의하여 변형되는 것이 방지된다.
프레임(230)이 슬라이딩되어 상부지지부재(234)가 챔버(112)에 위치될 때, 수직지지바(253)가 본체(110)에 접촉하여 부딪히게 된다. 그런데, 수직지지바(253)는 회전가능하게 설치되므로, 수직지지바(253)가 본체(110)에 접촉되면, 회전되어 접힌 상태로 챔버(112)에 위치된다. 그러므로, 프레임(230)의 상부지지부재(234)는 상기 지지수단과 본체(110)의 영향을 받지 않고, 용이하게 챔버(112)를 출입할 수 있다.
수직지지바(253)의 일측면에는 탄성을 가지는 제 1 롤러(257)가 설치되고, 하단부에는 제 2 롤러(259)가 설치된다. 제 1 롤러(257)는 프레임(230)이 본체(110)측으로 슬라이딩될 때, 본체(110)의 전면과 접촉하여 부딪히고, 제 2 롤러(259)는 수직지지바(253)가 챔버(112)에 위치되었을 때, 챔버(112)를 형성하는 본체(110)의 하면과 접촉한다. 따라서, 제 1 롤러(257)에 의하여 수직지지바(253)와 본체(110)가 손상되는 것이 방지되고, 제 2 롤러(259)에 의하여 수직지지바(253)가 챔버(112)에서 원활하게 슬라이딩된다.
상기 지지수단은 복수개 설치될 수 있다.
프레임(230)이 본체(110) 및 챔버(112)를 출입함에 따라 보트(50)가 로딩되거나 언로딩된다. 프레임(230)이 슬라이딩하여 상부지지부재(234)가 챔버(112)에 위치되었을 때, 상부지지부재(234)가 한쌍의 받침레일(114) 사이에 위치될 수 있도록, 상부지지부재(234)의 폭은 받침레일(114) 사이의 간격 보다 좁게 형성된다.
프레임(230)에 탑재된 보트(50)를 챔버(112)에 로딩한 다음 받침레일(114)에 탑재하기 위해서는, 프레임(230)에 탑재된 보트(50)의 하면이 받침레일(114)의 상면 보다 높게 위치된 상태에서 하강하여야 한다. 그리고, 받침레일(114)에 탑재된 보트(50)를 챔버(112)로부터 언로딩하기 위해서는, 보트(50)의 하측에 프레임(230)이 위치된 상태에서 보트(50)를 받침레일(114)의 상측으로 상승시켜야 한다.
이를 위하여, 본 실시예에 따른 보트 이송장치의 프레임(230)에는 보트(50)를 승강시키는 승강수단이 마련된다. 상기 승강수단은 안내로(261), 운동바(264) 및 받침블럭(267)을 포함한다.
안내로(261)는 프레임(230)의 슬라이딩방향을 따라 상부지지부재(234)에 각각 형성되어 상호 대향하는 한쌍으로 형성된다. 쌍을 이루는 안내로(261)의 수는 이송하고자 하는 보트(50)의 크기 및 개수에 따라 적절한 수로 형성될 수 있다.
안내로(261)는, 프레임(230)을 기준으로, 하단부측이 상단부측 보다 상측에 위치된다. 즉, 안내로(261)는 프레임(230)과 평행한 제 1 수평로(261a), 제 1 수평로(261a) 보다 상측에 위치되며 제 1 수평로(261a)와 평행을 이루는 제 2 수평로(261b) 및 제 1 수평로(261a)와 제 2 수평로(261b)를 연결하는 경사로(261c)를 가진다. 경사로(261c)는 직선형태 또는 호형상의 곡선형태로 형성될 수 있다.
운동바(264)는 안내로(261)에 삽입 지지되어 안내로(261)를 따라 왕복운동한다. 더 구체적으로 설명하면, 운동바(264)의 일단부측 및 타단부측은 한쌍의 안내로(261) 중, 어느 하나의 안내로(261) 및 다른 하나의 안내로(261)에 각각 삽입 지지된다. 안내로(261)가 경사지게 형성되어 있으므로, 운동바(264)가 안내로(261)를 따라 왕복운동하면, 운동바(264)는 제 1 수평로(261a)와 제 2 수평로(261b)의 사이의 높이에 해당하는 만큼 승강한다.
프레임(230)에는 운동바(264)를 왕복운동시키기 위한 실린더(270)로 마련된 구동부가 설치된다. 실린더(270)의 피스톤(미도시)은 운동바(264)와 연결된다. 그런데, 실린더(270)는 프레임(230)에 고정되어 있고, 운동바(264)는 승강하므로, 피스톤(261)과 운동바(264)는 운동바(264)의 승강방향으로 회전가능하게 연결되어야 함은 당연하다.
한쌍의 안내로(261)가 프레임(230)의 슬라이딩방향으로 간격을 가지면서 복수개 형성되고, 한쌍의 안내로(261)에 운동바(264)가 각각 삽입 지지된 경우, 하나의 실린더(270)를 이용하여 각각의 운동바(264)를 동일하게 운동시킬 수 있도록 각각의 운동바(264)는 상호 연결되어야 함은 당연하다.
받침블럭(267)은 운동바(264)에 결합되어 운동바(264)와 함께 운동한다. 받침블럭(267)은 프레임(230)의 상측에 위치되며, 보트(50)의 저면이 탑재 지지된다. 그리고, 받침블럭(267)은 하나의 운동바(264)의 양단부측에 각각 결합될 수 있다.
보트(50)의 저면 모서리부측에는 다리(50a)(도 3a 참조)가 형성되고, 보트(50)가 받침블럭(267)에 탑재되었을 때, 보트(50)의 다리(50a)는 프레임(230)과 받침블럭(267)의 외측에 위치된다. 그리고, 보트(50)가 프레임(230)에 탑재된 상태에서 챔버(112)에 로딩되어 하강하면, 보트(50)의 다리(50a)가 받침레일(114)에 탑재된다.
상기와 같이 구성된 본 실시예에 따른 보트 이송장치의 동작을 설명한다.
먼저, 보트(50)를 로딩하는 방법을 도 3a 내지 도 3e를 참조하여 설명한다. 도 3a 내지 도 3e는 보트를 로딩하는 것을 보인 도 2의 정면도이다.
도 3a에 도시된 바와 같이, 기판(55)(도 1 참조)이 적재 보관된 보트(50)를 받침블럭(267)에 탑재한 상태에서, 실린더(270)를 이용하여 운동바(264)를 우측으로 운동시킨다.
그러면, 도 3b에 도시된 바와 같이, 운동바(264)가 안내로(261)를 따라 우측으로 운동함과 동시에 상승하므로, 받침블럭(267)도 우측으로 운동함과 동시에 상승한다. 그러면, 보트(50)도 상승한다. 보트(50)가 상승하면 보트(50)의 다리(50a)가 본체(110)의 받침레일(114)의 상측에 위치된다.
도 3a 및 도 3b에 도시된 바와 같이, 프레임(230)이 본체(110)의 외측에 위치된 상태일 경우, 수직지지바(253)는 자중에 의하여 프레임(230)에 대하여 수직을 유지한다. 그러면, 수직지지바(253)에 형성된 지지홈(253a)(도 2 참조)이 수평지지바(255)(도 2 참조)에 삽입 지지되므로, 상부지지부재(234)는 변형이 방지된다.
도 3b에 도시된 상태에서, 모터(240)를 구동하여 프레임(230)을 본체(110)측으로 슬라이딩시키면, 도 3c에 도시된 바와 같이, 프레임(230)의 상부지지부재(234)의 우단부측이 챔버(112)에 위치되고, 수직지지바(253)의 측면에 설치된 제 1 롤러(257)가 본체(110)에 접촉되어 수직지지바(253)는 시계방향으로 회전한다.
그 후, 프레임(230)이 본체(110)측으로 더 슬라이딩하여, 보트(50)를 챔버(112)에 로딩시키면, 수직지지바(253)는 시계방향으로 더 회전하여, 도 3d에 도시된 바와 같이, 수직지지바(253)의 하단부에 설치된 제 2 롤러(259)가 챔버(112)를 형성하는 본체(110)의 저면과 접촉하여 슬라이딩된다.
보트(50)가 챔버(112)에 로딩되면, 실린더(270)를 이용하여 운동바(264)를 좌측으로 운동시킨다. 그러면, 도 3e에 도시된 바와 같이, 운동바(264)가 안내로(261)를 따라 좌측으로 운동함과 동시에 하강하므로, 받침블럭(267)도 좌측으로 운동함과 동시에 하강한다. 그러면, 보트(50)가 하강되어, 보트(50)의 다리(50a)가 받침레일(114)에 탑재 지지된다.
보트(50)의 다리(50a)가 받침레일(114)에 탑재 지지되면, 모터(240)를 구동하여 프레임(230)을 본체(110)의 외측으로 슬라이딩시킨다. 그러면, 보트(50)의 로딩이 완료된다. 프레임(230)이 본체(110)의 외측으로 완전히 배출되면, 수직지지바(253)는 자중에 의하여 프레임(230)에 대하여 수직을 유지한다. 그러면, 수직지지바(253)에 형성된 지지홈(253a)이 수평지지바(255)에 삽입 지지된다.
다음에는, 보트(50)를 언로딩하는 방법을 도 4a 내지 도 4e를 참조하여 설명한다. 도 4a 내지 도 4e는 보트를 언로딩하는 것을 보인 도 2의 정면도이다.
보트(50)에 적재 저장된 기판(55)(도 1 참조)의 처리가 완료되면, 도 4a에 도시된 바와 같이, 받침블럭(267)을 하강시킨 상태에서 모터(240)를 이용하여 프레임(230)을 본체(110)측으로 슬라이딩시킨다.
프레임(230)이 본체(110)측으로 슬라이딩되어, 상부지지부재(234)의 우단부가 챔버(112)에 위치되면, 도 4b에 도시된 바와 같이, 수직지지바(253)가 시계방향으로 회전한다. 그리고, 프레임(230)이 본체(110)측으로 더 슬라이딩하면, 도 4c에 도시된 바와 같이, 수직지지바(253)는 시계방향으로 더 회전하여, 수직지지바(253)의 하단부에 설치된 제 2 롤러(259)가 챔버(112)를 형성하는 본체(110)의 저면과 접촉하여 슬라이딩된다. 그러면, 받침블럭(267)이 보트(50)의 하측에 위치된다.
받침블럭(267)이 보트(50)의 하측에 위치되면, 실린더(270)를 이용하여 운동바(264)를 우측으로 이동시킨다. 그러면, 도 4d에 도시된 바와 같이, 운동바(264)가 안내로(261)를 따라 우측으로 운동함과 동시에 상승하므로, 받침블럭(267)도 우측으로 운동함과 동시에 상승한다. 그러면, 받침블럭(267)에 의하여 보트(50)가 상승하므로, 보트(50)가 받침레일(114)의 상측으로 이격된다.
보트(50)가 받침레일(114)의 상측으로 이격되면, 모터(240)를 구동하여 프레임(230)을 본체(110)의 외측으로 슬라이딩시킨다. 그러면, 도 4e에 도시된 바와 같이, 보트(50)가 언로딩된다.
보트(50)가 언로딩되어, 프레임(230)이 본체(110)의 외측으로 완전히 배출되면, 수직지지바(253)는 자중에 의하여 프레임(230)에 대하여 수직을 유지한다. 그러면, 수직지지바(253)에 형성된 지지홈(253a)이 수평지지바(255)에 삽입 지지되므로, 상부지지부재(234)가 변형되는 것이 방지된다.
본 실시예에 따른 보트 이송장치는 프레임(230)이 하부지지부재(231)와 상부지지부재(234) 및 연결부재(237)를 가지면서 "ㄷ" 형상으로 형성되고, 하부지지부재(231)와 상부지지부재(234) 사이에는 상부지지부재(234)가 변형되는 것을 방지하는 지지수단이 마련되므로, 상부지지부재(234)가 변형되는 것이 방지된다.
그리고, 보트(50)를 탑재하여 이송하는 프레임(230)에 보트(50)를 승강시키는 승강수단이 설치되므로, 보트(50)가 승강하여도 기판 처리장치의 챔버(112)에 유입된 분위기 가스는 외부로 누설되지 않는다.
본 발명은 상술한 바와 같이 바람직한 실시예를 예로 들어 도시하여 설명하였으나, 상기 실시예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형과 변경이 가능하다. 그러한 변형예 및 변경예는 본 발명과 첨부된 특허청구범위의 범위 내에 속하는 것으로 보아야 한다.
210: 받침판
220: 안내레일
230: 프레임
251: 회전바
253: 수직지지바
255: 수평지지바

Claims (10)

  1. 복수의 기판이 적재 보관된 보트를 기판 처리장치의 챔버로 로딩하거나 기판 처리장치의 챔버로부터 언로딩하는 보트 이송장치로서,
    안내레일;
    하측 부위는 상기 안내레일에 지지되고, 상측 부위에는 상기 보트가 탑재 지지되며, 상기 안내레일을 따라 슬라이딩가능하게 설치되어 상기 기판 처리장치를 출입하는 프레임;
    상단부측은 상기 프레임의 상측 부위에 회전가능하게 설치되고, 하단부측은 상기 프레임의 하측 부위에 지지되어 상기 프레임의 상측 부위를 지지하는 지지수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 보트 이송장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 프레임은 상기 안내레일에 지지되어 슬라딩가능하게 설치되고 상기 지지수단의 하단부측이 지지되며 상기 챔버 외측의 상기 기판 처리장치의 내부를 출입하는 하부지지부재, 상기 하부지지부재의 상측에 위치되어 상기 하부지지부재와 함께 운동하고 상기 보트가 탑재 지지되며 상기 지지수단의 상단부측이 회전가능하게 설치되고 상기 챔버를 출입하는 상부지지부재, 상기 하부지지부재와 상기 상부지지부재를 연결하는 연결부재를 가지고,
    상기 연결부재는 상기 하부지지부재의 일단부측 및 상기 상부지지부재의 일단부측에 일체로 형성되고,
    상기 하부지지부재의 타단부측 및 상기 상부지지부재의 타단부측이 상기 기판 처리장치의 내부 및 상기 챔버를 각각 출입하며,
    상기 지지수단은, 상기 프레임이 슬라이딩함에 따라, 상기 챔버의 외측에 위치되면 자중에 의하여 상기 프레임에 대하여 수직을 이루면서 하단부측이 상기 하부지지부재측에 지지되고, 상기 챔버에 위치되면 상기 기판 처리장치와 접촉되어 회전된 후 하단부측이 상기 하부지지부재측으로부터 이탈하는 것을 특징으로 하는 보트 이송장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 안내레일은 상호 평행을 이루는 한쌍으로 마련되고,
    상기 하부지지부재는 사다리 형상으로 형성되어 상기 안내레일에 지지되며,
    상기 상부지지부재는 사다리 형상으로 형성되어 상기 하부지지부재와 대향하는 것을 특징으로 하는 보트 이송장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 지지수단은,
    일단부측 및 타단부측이 상기 상부지지부재의 일측 및 타측에 각각 지지되어 회전가능하게 설치된 회전바;
    상기 회전바의 양단부측에 상단부측이 각각 결합되어 상기 회전바와 함께 회전하며, 하측 부위에는 지지홈이 형성된 수직지지바;
    일단부측 및 타단부측이 상기 하부지지부재의 일측 및 타측에 각각 지지되며, 상기 지지홈이 삽입 지지되는 수평지지바로 마련된 것을 특징으로 하는 보트 이송장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 수직지지바의 일측면에는 상기 프레임이 상기 기판 처리장치측으로 슬라이딩될 때, 상기 기판 처리장치와 접촉하는 제 1 롤러가 설치되고,
    상기 수직지지바의 하단부에는 상기 수직지지바가 상기 챔버에 위치되었을 때, 상기 챔버를 형성하는 상기 기판 처리장치의 하면과 접촉하는 제 2 롤러가 설치된 것을 특징으로 하는 보트 이송장치.
  6. 제3항에 있어서,
    상기 프레임에는 상기 보트를 승강시키는 승강수단이 더 설치된 것을 특징으로하는 보트 이송장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 승강수단은,
    상기 상부지지부재의 일측 및 타측에 각각 형성되어 상호 대향하며, 상기 프레임을 기준으로, 일단부측이 타단부측 보다 상측에 위치된 안내로;
    상기 안내로 중, 어느 하나의 상기 안내로 및 다른 하나의 상기 안내로에 일단부측 및 타단부측이 각각 삽입 지지되며, 상기 안내로를 따라 왕복운동하면서 승강하는 운동바;
    상기 운동바의 일단부측 및 타단부측에 각각 결합되고 상기 보트가 탑재 지지되며, 상기 운동바와 함께 운동하는 받침블럭을 포함하는 것을 특징으로 하는 보트 이송장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 안내로는 상기 프레임과 평행한 제 1 수평로, 상기 제 1 수평로 보다 상측에 위치되며 상기 제 1 수평로와 평행을 이루는 제 2 수평로, 상기 제 1 수평로와 상기 제 2 수평로를 연결하는 경사로를 가지는 것을 특징으로 하는 보트 이송장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 경사로는 직선형태 또는 호형상의 곡선형태 중에서 선택된 어느 하나로 형성된 것을 특징으로 하는 보트 이송장치.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 프레임에는 상기 운동바를 운동시키는 구동부가 설치되고,
    상기 운동바와 상기 구동부의 연결 부위는 회전가능하게 결합된 것을 특징으로 하는 보트 이송장치.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102531704B1 (ko) * 2022-10-18 2023-05-11 (주)한화 보트 로딩 장치 및 이를 포함하는 웨이퍼 처리 시스템

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0329747U (ko) * 1989-07-31 1991-03-25
JPH0477250U (ko) * 1990-11-19 1992-07-06
KR970023962A (ko) * 1995-10-13 1997-05-30 김주용 웨이퍼 로딩장치 및 로딩방법
KR20060074557A (ko) * 2004-12-27 2006-07-03 동부일렉트로닉스 주식회사 수평형 확산로의 보트 이송장치

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0329747U (ko) * 1989-07-31 1991-03-25
JPH0477250U (ko) * 1990-11-19 1992-07-06
KR970023962A (ko) * 1995-10-13 1997-05-30 김주용 웨이퍼 로딩장치 및 로딩방법
KR20060074557A (ko) * 2004-12-27 2006-07-03 동부일렉트로닉스 주식회사 수평형 확산로의 보트 이송장치

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102531704B1 (ko) * 2022-10-18 2023-05-11 (주)한화 보트 로딩 장치 및 이를 포함하는 웨이퍼 처리 시스템
WO2024085399A1 (ko) * 2022-10-18 2024-04-25 주식회사 한화 보트 로딩 장치 및 이를 포함하는 웨이퍼 처리 시스템

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