KR101318362B1 - Blasting method for tunnel - Google Patents

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KR101318362B1
KR101318362B1 KR1020120102902A KR20120102902A KR101318362B1 KR 101318362 B1 KR101318362 B1 KR 101318362B1 KR 1020120102902 A KR1020120102902 A KR 1020120102902A KR 20120102902 A KR20120102902 A KR 20120102902A KR 101318362 B1 KR101318362 B1 KR 101318362B1
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tunnel
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유정훈
유진오
이동훈
이동희
박윤석
백종현
한동훈
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코오롱글로벌 주식회사
주식회사 한화
백종현
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Abstract

PURPOSE: A tunnel blasting method is provided to stably implement underground blasting in downtown area where large vibration should be prevented. CONSTITUTION: A tunnel blasting method is as follows: a step of boring multiple blasting holes with loading holes or empty holes and loading and blasting explosives in the loading holes; a step of boring primary blasting holes to form the free surface of a primary vertical line (100); a step of boring second blasting holes to form the free surface of secondary horizontal lines (200) by horizontally boring the blasting holes at the top and the bottom of the primary vertical line; and a step of boring third blasting holes to form the free surface of third vertical line s(300) by vertically boring the blasting holes in both sides of the primary vertical line.

Description

터널의 발파방법{BLASTING METHOD FOR TUNNEL}Blasting Method for Tunnels {BLASTING METHOD FOR TUNNEL}

본 발명은 건설 분야에 관한 것으로서, 상세하게는 터널의 발파방법에 관한 것이다.The present invention relates to the field of construction, and more particularly to a method for blasting a tunnel.

터널의 형성을 위하여, 막장면에 다수의 발파공(B)을 천공한 후, 상기 발파공에 폭약을 장전하여 발파하는 방식이 일반적으로 적용된다(도 1).In order to form a tunnel, a method of blasting by blasting the explosives by blasting a plurality of blast holes (B) on the membrane surface, and then loading the explosive holes (FIG. 1).

이러한 발파공(B)은 심발공(①), 확대공(②), 굴착선보조공(③), 굴착선공(④), 바닥공(⑤) 등으로 구분되고, 각 발파공(B)에 장전된 폭약은 미세한 시간간격을 두고 순차적으로 발파된다.The blasting hole (B) is divided into a deep blasting hole (①), an expanding hole (②), an excavation vessel assistant (③), an excavation vessel (④), a bottom hole (⑤), and the explosives loaded in each blasting hole (B). Are blasted sequentially with a small time interval.

심발공(①)에서 터널 막장면의 중심부에 형성하는 무장약공(A)은 초기 자유면을 제공하는 역할을 하며 무장약공(A)의 바로 외측에 형성되는 발파공들은 모든 발파공 중 최초로 발파되는 영역으로서, 무장약공의 크기를 확대하는 역할을 한다.Armed medicine hole (A) formed in the center of the tunnel face in the heart hole (①) serves to provide an initial free surface and the blast holes formed just outside the armed medicine hole (A) is the first blasting area of all blasting holes It also serves to expand the size of armed pharmacy.

한편, 도심지의 지하 발파작업의 경우, 큰 진동이 발생하면 안 되므로, 미진동 화약을 사용하여야 하는데, 이 경우 발파공의 간격이 좁아져야 하므로, 전체적인 배치의 변화가 필요하다는 문제가 제기되어 왔다.On the other hand, in the case of underground blasting work in the downtown area, because a large vibration should not occur, it is necessary to use a micro-vibration gunpowder, in which case the gap of the blast hole should be narrowed, the problem has been raised that the change of the overall arrangement is required.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 도출된 것으로서, 미진동 화약을 효과적으로 사용할 수 있도록 하여, 큰 진동의 발생을 방지하여야 하는 도심지의 지하 발파작업에 안정적으로 적용될 수 있도록 하는 터널의 발파방법을 제시하는 것을 그 목적으로 한다.The present invention has been made to solve the above problems, and the blasting method of the tunnel to be applied stably to the underground blasting work in the downtown area to be able to effectively use the micro vibration powder, to prevent the generation of large vibrations Its purpose is to present.

상기 과제의 해결을 위하여, 본 발명은 터널의 형성을 위하여, 막장면에 무장약공(A) 또는 장약공을 포함하는 다수의 발파공을 천공한 후, 상기 장약공에 폭약을 장전하여 발파하는 터널의 발파방법에 있어서, 막장면의 중심부에 세로방향을 따라 발파공을 천공하여 1차 세로줄(100)의 자유면이 형성되도록, 1차 발파공(a)을 천공하는 1차 발파공 형성단계; 상기 1차 세로줄(100)의 상단 및 하단에 각각 가로방향을 따라 발파공을 천공하여 2차 가로줄(200)의 자유면이 형성되도록, 2차 발파공(b)을 천공하는 2차 발파공 형성단계; 상기 1차 세로줄(100)의 양측에 세로방향을 따라 발파공을 천공하여 3차 세로줄(300)의 자유면이 형성되도록, 3차 발파공(c)을 천공하는 3차 발파공 형성단계; 상기 1차 발파공(a), 상기 2차 발파공(b), 상기 3차 발파공(c)의 순서로 발파하는 발파단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 터널의 발파방법을 제시한다.In order to solve the above problems, the present invention is to form a tunnel, after drilling a plurality of blasting holes including an armed drug hole (A) or a charge hole on the membrane surface, the charge of the tunnel to the blast hole by loading the explosives In the blasting method, the first blasting hole forming step of puncturing the primary blasting hole (a) so that the free surface of the first vertical line 100 is formed by puncturing the blasting hole in the center of the membrane surface; A second blasting hole forming a second blasting hole (b) so as to form a free surface of the second horizontal row (200) by drilling blasting holes along the horizontal direction at the top and bottom of the first vertical string (100); A third blasting hole forming step of drilling the third blasting hole (c) so that the free surface of the third vertical line 300 is formed by drilling the blasting holes along both sides of the primary vertical line 100; And a blasting step of blasting in order of the first blasting hole (a), the second blasting hole (b), and the third blasting hole (c).

상기 1차 발파공(a)은 복수의 장약공 사이에 형성된 하나 또는 복수의 무장약공(A)을 포함하는 것이 바람직하다.The primary blasting hole (a) preferably includes one or a plurality of arming holes (A) formed between the plurality of filling holes.

상기 1차 발파공(a)은 상기 복수의 장약공 중, 중앙부에 형성된 1번 장약공과, 가장자리부에 형성된 2번 장약공을 포함하고, 상기 발파단계는 상기 1차 발파공(a)을 상기 1번 장약공, 2번 장약공의 순서로 발파하는 것이 바람직하다.The first blasting hole (a) includes a first charging hole formed in the center portion and a second charging hole formed in the edge portion of the plurality of charging holes, the blasting step is the first blasting hole (a) to the first It is preferable to blast in the order of the charge hole, the second charge hole.

상기 2차 발파공(b)은 복수의 무장약공(A)에 의해 형성된 것이 바람직하다.The secondary blast hole (b) is preferably formed by a plurality of arm holes (A).

상기 2차 발파공(b)은 복수의 장약공 사이에 형성된 하나 또는 복수의 무장약공(A)을 포함하는 것이 바람직하다.The secondary blast hole (b) preferably includes one or a plurality of arm holes (A) formed between the plurality of charge holes.

상기 2차 발파공(b)은 상기 복수의 장약공 중, 중앙부에 형성된 상기 2번 장약공과, 가장자리부에 형성된 3번 장약공 내지 6번 장약공을 포함하고, 상기 발파단계는 상기 2차 발파공(b)을 상기 3번 장약공 내지 6번 장약공의 순서로 발파하는 것이 바람직하다.The secondary blasting hole (b) includes the second charge hole formed in the center of the plurality of charge holes, and the third to sixth hole formed in the edge portion, the blasting step is the secondary blasting hole ( b) it is preferable to blast in the order of the third charge hole to the sixth charge hole.

상기 2차 발파공(b) 중 상부 2차 발파공(b1)은 상기 복수의 장약공 중, 상기 2번 장약공의 양 외측에 형성된 3번 장약공과, 상기 3번 장약공의 양 외측에 형성된 5번 장약공을 포함하고, 상기 2차 발파공(b) 중 하부 2차 발파공(b2)은 상기 복수의 장약공 중, 상기 2번 장약공의 양 외측에 형성된 4번 장약공과, 상기 4번 장약공의 양 외측에 형성된 6번 장약공을 포함하며, 상기 발파단계는 상기 2차 발파공(b)을 상기 3번 장약공, 4번 장약공, 5번 장약공, 6번 장약공의 순서로 발파하는 것이 바람직하다.The second secondary blasting hole (b1) of the secondary blasting hole (b) is a third hole formed on both outer sides of the second charge hole of the plurality of charge holes, and the fifth formed on both outer sides of the third charge hole A charge hole, wherein the second secondary blasting hole (b) of the secondary blasting hole (b2) of the plurality of charge holes, the fourth charge hole formed on both sides of the second charge hole and the fourth charge hole And a sixth blast hole formed on both sides, wherein the blasting step is to blast the secondary blasting hole (b) in the order of the third blast hole, the fourth blast hole, the fifth blast hole, and the sixth blast hole. desirable.

상기 3차 발파공(c)은 상기 5번 장약공과 6번 장약공의 사이에 형성된 것이 바람직하다.The third blast hole (c) is preferably formed between the fifth charge hole and the sixth charge hole.

상기 3차 발파공(c)은 상기 1차 발파공(a)의 일측에 형성된 7번 장약공과, 타측에 형성된 8번 장약공을 포함하고, 상기 발파단계는 상기 3차 발파공(c)을 상기 7번 장약공, 8번 장약공의 순서로 발파하는 것이 바람직하다.The third blasting hole (c) includes a seventh charge hole formed on one side of the first blasting hole (a) and an eighth charge hole formed on the other side, and the blasting step includes the third blasting hole (c) as the seventh. It is preferable to blast in the order of the masonry, the 8th.

상기 7번 장약공 및 8번 장약공은 각각 복수가 형성된 것이 바람직하다.It is preferable that the number 7 and the number 8 charge holes are respectively formed.

상기 2차 발파공(b)은 외부에서 내부를 향하여, 상기 1차 발파공(a)과 평행한 방향을 따라 형성된 것이 바람직하다.The secondary blast hole (b) is preferably formed along the direction parallel to the primary blast hole (a) from the outside toward the inside.

상기 2차 발파공(b)은 외부에서 내부를 향하여, 상기 1차 발파공(a) 측으로 가까워지는 경사를 갖도록 형성된 것이 바람직하다.The secondary blast hole (b) is preferably formed to have an inclination toward the inner side from the outside, toward the primary blast hole (a).

본 발명은 미진동 화약을 효과적으로 사용할 수 있도록 하여, 큰 진동의 발생을 방지하여야 하는 도심지의 지하 발파작업에 안정적으로 적용될 수 있도록 하는 터널의 발파방법을 제시한다.The present invention proposes a blasting method of the tunnel to be able to effectively use the micro-vibration gunpowder, to be stably applied to the underground blasting work in the downtown area to prevent the generation of large vibration.

도 1,2는 종래의 터널 발파방법에 관한 구성도.
도 3 이하는 본 발명의 실시예를 도시한 것으로서,
도 3은 제1 실시예의 단면도.
도 4는 제2 실시예의 단면도.
도 5는 제3 실시예의 단면도.
도 6은 제4 실시예의 단면도.
도 7은 제5 실시예의 단면도.1 and 2 are configuration diagrams related to the conventional tunnel blasting method.
3 or less shows an embodiment of the present invention,
3 is a cross-sectional view of the first embodiment.
4 is a sectional view of a second embodiment;
5 is a sectional view of a third embodiment;
6 is a sectional view of a fourth embodiment.
7 is a sectional view of a fifth embodiment.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 관하여 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3 이하에 도시된 바와 같이, 본 발명은 기본적으로 터널의 형성을 위하여, 막장면에 무장약공(A) 또는 장약공을 포함하는 다수의 발파공을 천공한 후, 장약공에 폭약을 장전하여 발파하는 터널의 발파방법에 관한 것으로서, 다음과 같은 공정에 의해 구성된다.As shown in FIG. 3 or less, the present invention basically drills a plurality of blasting holes including an armed medicinal hole (A) or a medicinal hole on the membrane surface, and then loads the explosives in the medicinal hole to blast. The present invention relates to a blasting method of a tunnel, which is constituted by the following steps.

막장면의 중심부에 세로방향을 따라 발파공을 천공하여 1차 세로줄(100)의 자유면이 형성되도록, 1차 발파공(a)을 천공한다.The blast holes are drilled along the longitudinal direction in the center of the membrane to drill the primary blast holes a so that the free surface of the primary vertical strip 100 is formed.

1차 세로줄(100)의 상단 및 하단에 각각 가로방향을 따라 발파공을 천공하여 2차 가로줄(200)의 자유면이 형성되도록, 2차 발파공(b)을 천공한다.Perforated blast holes along the transverse direction at the top and bottom of the primary vertical line 100, respectively, so as to form a free surface of the secondary horizontal line 200, perforated secondary blast holes (b).

1차 세로줄(100)의 양측에 세로방향을 따라 발파공을 천공하여 3차 세로줄(300)의 자유면이 형성되도록, 3차 발파공(c)을 천공한다.The third blasting hole (c) is drilled so that the free surface of the third vertical string 300 is formed by drilling the blasting holes along both sides of the primary vertical string 100.

1차 발파공(a), 2차 발파공(b), 3차 발파공(c)의 순서로 발파한다.Blasting is carried out in the order of the 1st blasting hole (a), the 2nd blasting hole (b), and the 3rd blasting hole (c).

종래에는, 심발공의 형태가 사각형 단면, 원형 단면 구조를 취함에 따라, 발파공 사이의 간격을 좁게 설계하는 것이 어렵다는 문제가 있었다.Conventionally, as the shape of the heart hole has a rectangular cross section and a circular cross section structure, there is a problem that it is difficult to design a narrow gap between the blast holes.

본 발명에 의한 발파방법에서는, 무장약공과 장약공을 포함하는 발파공을 1차 세로줄(100), 상하의 2차 가로줄(200) 형상의 I형 구조로 형성하되, 1차 세로줄(100)의 자유면이 형성되도록 1차 발파공(a)을 천공하고, 2차 가로줄(200)의 자유면이 형성되도록 2차 발파공(b)을 천공하며, 1차 세로줄(100)의 양측에 3차 세로줄(300)의 자유면이 형성되도록 3차 발파공(c)을 천공하도록 한 것이다.In the blasting method according to the present invention, the blasting hole including the armed medicinal hole and the medicinal hole is formed in the I-shaped structure of the primary vertical line 100, the upper and lower secondary horizontal line 200, the free surface of the primary vertical line 100 Perforated primary blasting hole (a) to be formed, and perforated secondary blasting hole (b) to form the free surface of the secondary horizontal line 200, the third vertical line 300 on both sides of the primary vertical line (100) The third blast hole (c) is to be drilled to form a free surface of the.

이러한 구조로 발파공을 형성하고, 1차 발파공(a), 2차 발파공(b), 3차 발파공(c)의 순서로 발파하는 경우, 최초로 1차 세로줄(100) 단면의 1차 자유면이 형성되고, 그 상하에 2차 가로줄(200) 단면의 2차 자유면이 형성되므로(I형 선균열이 발생하므로), 그 양측에 배치된 3차 발파공(c)의 폭발에 의해 자연스럽고 용이한 심발이 이루어지게 된다.When blasting holes are formed in such a structure and blasting in the order of the first blasting hole (a), the second blasting hole (b), and the third blasting hole (c), the first free surface of the cross section of the first vertical line 100 is first formed. The secondary free surface of the cross section of the secondary horizontal line 200 is formed above and below (because the I-type linear cracking occurs), so that the natural and easy heart attack is caused by the explosion of the tertiary blast holes (c) disposed on both sides. This is done.

즉, 1차 세로줄(100) 및 2차 가로줄(200)에 의한 I형 구조의 패턴은 막장면의 심부에 사각형 파단면의 형성을 유도하므로, 3차 발파공(c) 및 그 이후 발파공의 폭발에 의해 심발부를 통한 파쇄암석의 분출이 용이하게 일어나도록 한다.That is, the pattern of the I-type structure by the first vertical line 100 and the second horizontal line 200 induces the formation of a rectangular fracture surface at the core portion of the membrane surface, so that the third blasting hole (c) and subsequent blasting holes are exploded. This facilitates the ejection of the crushed rock through the heart portion.

따라서 미진동 화약을 사용하더라도, 효율적인 발파가 가능하므로, 큰 진동의 발생을 방지하여야 하는 도심지의 지하 발파작업을 위하여 적절하게 적용할 수 있다는 효과가 있다.Therefore, even when using the micro-vibration gunpowder, it is possible to efficiently blast, there is an effect that can be properly applied for underground blasting work in the downtown area to prevent the generation of large vibration.

장약공의 폭약에 의한 충격파가 암반을 전파하는 과정에서 무장약공(A)을 만나면 인장파괴에 의해 선균열이 발생하게 된다.When the shock wave caused by the explosive charge of the charge hole encounters the armed drug hole (A) in the process of propagating the rock, linear cracking occurs due to tensile failure.

1차 발파공(a)은 복수의 장약공 사이에 형성된 하나 또는 복수의 무장약공(A)을 포함하는 구성을 취하는데, 여기서 무장약공(A)은 상술한 바와 같은 선균열의 발생을 촉진하는 역할을 한다.The primary blasting hole (a) has a configuration including one or a plurality of arming holes (A) formed between the plurality of filler holes, where the arming holes (A) promotes the generation of a line crack as described above Do it.

1차 발파공(a)은 복수의 장약공 중, 중앙부에 형성된 1번 장약공과, 가장자리부에 형성된 2번 장약공을 포함하여 구성되고, 1번 장약공, 2번 장약공의 순서로 발파하도록 하는 경우, 중앙부로부터 가장자리를 향하여 자유면이 확대되므로, 안정적인 심발을 위하여 바람직하다.The first blasting hole (a) is configured to include the first charge hole formed in the center portion and the second charge hole formed in the edge portion of the plurality of charge holes, and to blast in the order of the first charge hole and the second charge hole In this case, since the free surface is extended from the center toward the edge, it is preferable for stable heart hair.

2차 발파공(b)은 1차 발파공(a)에 의해 세로방향으로 형성된 자유면을 가로방향으로 확대하는 역할을 하는 것으로서, 복수의 무장약공에 의해 형성할 수도 있고(도 5), 복수의 장약공 사이에 형성된 하나 또는 복수의 무장약공(A)을 포함하는 구조로 형성할 수도 있다(도 3,4).The secondary blast hole (b) serves to enlarge the free surface formed in the longitudinal direction by the primary blast hole (a) in the horizontal direction, and may be formed by a plurality of armed holes (FIG. 5), and a plurality of charges. It may be formed in a structure including one or a plurality of arm holes (A) formed between the balls (Fig. 3, 4).

후자의 경우, 2차 발파공(b)은 복수의 장약공 중, 중앙부에 형성된 2번 장약공과, 가장자리부에 형성된 3번 장약공 내지 6번 장약공을 포함하는 구성을 취하고, 3번 장약공 내지 6번 장약공의 순서로 발파하도록 하는 경우, 자유면이 중앙부로부터 양측 가장자리로 확대되도록 하여 안정적인 자유면의 형성을 촉진한다는 측면에서 바람직하다(도 3,4).In the latter case, the secondary blasting hole (b) has a configuration including a second charge hole formed in the center portion and a third charge hole formed in the edge portion of the plurality of charge holes and the third charge hole, and the third charge hole to In the case of blasting in the order of the sixth hole, it is preferable in terms of promoting the formation of a stable free surface by allowing the free surface to extend from the center to both edges (FIGS. 3 and 4).

구체적으로, 2차 발파공(b) 중 상부 2차 발파공(b1)은 복수의 장약공 중, 2번 장약공의 양 외측에 형성된 3번 장약공과, 3번 장약공의 양 외측에 형성된 5번 장약공을 포함하는 구성을 취하고, 2차 발파공(b) 중 하부 2차 발파공(b2)은 복수의 장약공 중, 2번 장약공의 양 외측에 형성된 4번 장약공과, 4번 장약공의 양 외측에 형성된 6번 장약공을 포함하는 구성을 취하며, 3번 장약공, 4번 장약공, 5번 장약공, 6번 장약공의 순서로 발파하도록 하는 경우, 위 효과를 극대화하여 얻을 수 있다.Specifically, the upper secondary blasting hole (b1) of the secondary blasting hole (b) is the third charge hole formed on both outer sides of the second charge hole, and the fifth charge formed on both sides of the third charge hole among the plurality of charge holes Taking a configuration including a ball, the second secondary blasting hole (b2) of the secondary blasting hole (b2) of the plurality of long holes, the fourth charge hole formed on both sides of the second charge hole, and both sides of the fourth charge hole Taking the configuration including the sixth charge hole formed in, and when the blasting in the order of the 3rd, 4th, 5th, 6th, can be obtained by maximizing the above effects.

1,2차 발파공에 의해 형성된 자유면에 대하여 안정적인 심발을 형성하기 위해서는, 3차 발파공(c)이 위 5번 장약공과 6번 장약공의 사이에 형성되는 것이 바람직하다(도 3,4).In order to form stable heart hair with respect to the free surface formed by the 1st and 2nd blast hole, it is preferable that the 3rd blast hole (c) is formed between the above 5th and 6th holes (FIG. 3, 4).

구체적으로, 3차 발파공(c)은 1차 발파공(a)의 일측에 형성된 7번 장약공과, 타측에 형성된 8번 장약공을 포함하는 구성을 취하고, 7번 장약공, 8번 장약공의 순서로 발파하는 것이 안정적이다(도 3,4).Specifically, the third blasting hole (c) takes a configuration including a seventh charge hole formed on one side of the first blasting hole (a) and the eighth hole formed on the other side, and the order of the seventh hole, the eighth hole It is stable to blast (Fig. 3, 4).

이러한 7번 장약공 및 8번 장약공은 각각 복수가 형성되는 것이 효율적이다(도 3).It is efficient that the number 7 and the number 8 of these holes are formed respectively (Fig. 3).

2차 발파공(b)은 천공방향이 외부에서 내부를 향하여, 1차 발파공(a)과 평행한 방향을 따라 형성될 수도 있고(도 6), 1차 발파공(a) 측으로 가까워지는 경사를 갖도록 형성될 수도 있다(도 7).Secondary blasting hole (b) may be formed along the direction parallel to the primary blasting hole (a), the drilling direction from the outside to the inside (Fig. 6), it is formed to have a slope closer to the primary blasting hole (a) side May be (FIG. 7).

후자의 경우, 더욱 안정적인 심발의 형성(심빼기)이 가능하다는 장점이 있다.In the latter case, there is an advantage that the formation of more stable heart hair (pulling) is possible.

이상은 본 발명에 의해 구현될 수 있는 바람직한 실시예의 일부에 관하여 설명한 것에 불과하므로, 주지된 바와 같이 본 발명의 범위는 위의 실시예에 한정되어 해석되어서는 안 될 것이며, 위에서 설명된 본 발명의 기술적 사상과 그 근본을 함께 하는 기술적 사상은 모두 본 발명의 범위에 포함된다고 할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention as defined in the appended claims. It is to be understood that both the technical idea and the technical spirit of the invention are included in the scope of the present invention.

A : 무장약공 a : 1차 발파공
b : 2차 발파공 c : 3차 발파공
100 : 1차 세로줄 200 : 2차 가로줄
300 : 3차 세로줄A: Armed Pharmacy a: Primary Blaster
b: 2nd blast hole c: 3rd blast hole
100: 1st vertical line 200: 2nd horizontal line
300: 3rd vertical line

Claims (12)

터널의 형성을 위하여, 막장면에 무장약공(A) 또는 장약공을 포함하는 다수의 발파공을 천공한 후, 상기 장약공에 폭약을 장전하여 발파하는 터널의 발파방법에 있어서,
막장면의 중심부에 세로방향을 따라 발파공을 천공하여 1차 세로줄(100)의 자유면이 형성되도록, 1차 발파공(a)을 천공하는 1차 발파공 형성단계;
상기 1차 세로줄(100)의 상단 및 하단에 각각 가로방향을 따라 발파공을 천공하여 2차 가로줄(200)의 자유면이 형성되도록, 2차 발파공(b)을 천공하는 2차 발파공 형성단계;
상기 1차 세로줄(100)의 양측에 세로방향을 따라 발파공을 천공하여 3차 세로줄(300)의 자유면이 형성되도록, 3차 발파공(c)을 천공하는 3차 발파공 형성단계;
상기 1차 발파공(a), 상기 2차 발파공(b), 상기 3차 발파공(c)의 순서로 발파하는 발파단계;를
포함하는 것을 특징으로 하는 터널의 발파방법.In the tunnel blasting method for drilling a plurality of blasting holes including an armed drug (A) or a charge hole on the membrane surface, and then loaded with an explosive charge in the charge hole,
A primary blasting hole forming step of drilling the primary blasting hole (a) so that the free surface of the primary vertical line 100 is formed by drilling the blasting hole along the longitudinal direction in the center of the membrane surface;
A second blasting hole forming a second blasting hole (b) so as to form a free surface of the second horizontal row (200) by drilling blasting holes along the horizontal direction at the top and bottom of the first vertical string (100);
A third blasting hole forming step of drilling the third blasting hole (c) so that the free surface of the third vertical line 300 is formed by drilling the blasting holes along both sides of the primary vertical line 100;
Blasting step of blasting in the order of the first blasting hole (a), the second blasting hole (b), the third blasting hole (c);
Tunnel blasting method comprising a. 제1항에 있어서,
상기 1차 발파공(a)은 복수의 장약공 사이에 형성된 하나 또는 복수의 무장약공(A)을 포함하는 것을 특징으로 하는 터널의 발파방법.The method of claim 1,
The first blasting hole (a) is a blasting method of the tunnel, characterized in that it comprises one or a plurality of arming holes (A) formed between the plurality of medicinal holes. 제2항에 있어서,
상기 1차 발파공(a)은 상기 복수의 장약공 중, 중앙부에 형성된 1번 장약공과, 가장자리부에 형성된 2번 장약공을 포함하고,
상기 발파단계는 상기 1차 발파공(a)을 상기 1번 장약공, 2번 장약공의 순서로 발파하는 것을 특징으로 하는 터널의 발파방법.3. The method of claim 2,
The first blasting hole (a) includes the first charge hole formed in the center portion and the second charge hole formed in the edge portion of the plurality of charge holes,
The blasting step is a blasting method of the tunnel, characterized in that for blasting the first blasting hole (a) in the order of the first charge hole, the second charge hole. 제3항에 있어서,
상기 2차 발파공(b)은 복수의 무장약공(A)에 의해 형성된 것을 특징으로 하는 터널의 발파방법.The method of claim 3,
The secondary blast hole (b) is a blasting method of the tunnel, characterized in that formed by a plurality of arm holes (A). 제3항에 있어서,
상기 2차 발파공(b)은 복수의 장약공 사이에 형성된 하나 또는 복수의 무장약공(A)을 포함하는 것을 특징으로 하는 터널의 발파방법.The method of claim 3,
The secondary blasting hole (b) is a blasting method of the tunnel, characterized in that it comprises one or a plurality of arming holes (A) formed between the plurality of medicinal holes. 제5항에 있어서,
상기 2차 발파공(b)은 상기 복수의 장약공 중, 중앙부에 형성된 상기 2번 장약공과, 가장자리부에 형성된 3번 장약공 내지 6번 장약공을 포함하고,
상기 발파단계는 상기 2차 발파공(b)을 상기 3번 장약공 내지 6번 장약공의 순서로 발파하는 것을 특징으로 하는 터널의 발파방법.The method of claim 5,
The secondary blasting hole (b) includes the second charge hole formed in the center of the plurality of charge holes, and the third to sixth charge holes formed in the edge portion,
The blasting step is a blasting method of the tunnel, characterized in that for blasting the secondary blasting hole (b) in the order of the third charge hole to six charge holes. 제6항에 있어서,
상기 2차 발파공(b) 중 상부 2차 발파공(b1)은 상기 복수의 장약공 중, 상기 2번 장약공의 양 외측에 형성된 3번 장약공과, 상기 3번 장약공의 양 외측에 형성된 5번 장약공을 포함하고,
상기 2차 발파공(b) 중 하부 2차 발파공(b2)은 상기 복수의 장약공 중, 상기 2번 장약공의 양 외측에 형성된 4번 장약공과, 상기 4번 장약공의 양 외측에 형성된 6번 장약공을 포함하며,
상기 발파단계는 상기 2차 발파공(b)을 상기 3번 장약공, 4번 장약공, 5번 장약공, 6번 장약공의 순서로 발파하는 것을 특징으로 하는 터널의 발파방법.The method according to claim 6,
The second secondary blasting hole (b1) of the secondary blasting hole (b) is a third hole formed on both outer sides of the second charge hole of the plurality of charge holes, and the fifth formed on both outer sides of the third charge hole Including the loader,
The lower secondary blasting hole (b2) of the secondary blasting hole (b) is the number 4 charge holes formed on both outer sides of the second charge hole among the plurality of charge holes, and the number 6 formed on both outer sides of the fourth charge hole Include a charge mechanic,
The blasting step is a blasting method of the tunnel, characterized in that for blasting the secondary blasting hole (b) in the order of the 3rd, 4th, 5th, 6th. 제7항에 있어서,
상기 3차 발파공(c)은 상기 5번 장약공과 6번 장약공의 사이에 형성된 것을 특징으로 하는 터널의 발파방법.The method of claim 7, wherein
The third blasting hole (c) is a blasting method of the tunnel, characterized in that formed between the 5th and 6th hole. 제8항에 있어서,
상기 3차 발파공(c)은 상기 1차 발파공(a)의 일측에 형성된 7번 장약공과, 타측에 형성된 8번 장약공을 포함하고,
상기 발파단계는 상기 3차 발파공(c)을 상기 7번 장약공, 8번 장약공의 순서로 발파하는 것을 특징으로 하는 터널의 발파방법.9. The method of claim 8,
The third blast hole (c) includes a seventh charge hole formed on one side of the primary blast hole (a) and the eighth charge hole formed on the other side,
The blasting step is a blasting method of the tunnel, characterized in that for blasting the third blasting hole (c) in the order of the seventh, eighth. 제9항에 있어서,
상기 7번 장약공 및 8번 장약공은 각각 복수가 형성된 것을 특징으로 하는 터널의 발파방법.10. The method of claim 9,
The seventh and eighth holes are blasting method, characterized in that a plurality are formed respectively. 제1항에 있어서,
상기 2차 발파공(b)은 외부에서 내부를 향하여, 상기 1차 발파공(a)과 평행한 방향을 따라 형성된 것을 특징으로 하는 터널의 발파방법.The method of claim 1,
The secondary blasting hole (b) from the outside toward the inside, the blasting method of the tunnel, characterized in that formed along a direction parallel to the primary blasting hole (a). 제1항에 있어서,
상기 2차 발파공(b)은 외부에서 내부를 향하여, 상기 1차 발파공(a) 측으로 가까워지는 경사를 갖도록 형성된 것을 특징으로 하는 터널의 발파방법.The method of claim 1,
The second blasting hole (b) is a blasting method of the tunnel, characterized in that it is formed to have an inclination close to the first blasting hole (a) side from the outside toward the inside.
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