KR101317712B1 - Exhaust gas treatment apparatus using circular pipe filter - Google Patents

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Abstract

본 발명은 폐가스에 포함되는 유해 가스성분과 분진을 원통형 회전필터의 외면에 흡착되게 한 후 물과 함께 낙하시켜 제거할 수 있도록 함으로써, 폐가스에 포함되는 유해 가스성분과 분진을 필터링과 물의 분사를 통해 연속적으로 제거할 수 있도록 하는 원통형 회전필터를 이용한 습식 폐가스 처리장치에 관한 것이다.
본 발명은, 상부에 반도체 공정에서 배출되는 폐가스가 유입되는 폐가스 유입부가 구비되고, 하부에는 물이 채워지는 수조가 구비되고, 수조의 하부에는 개폐밸브를 가진 배수관이 구비된 처리조와; 상기 처리조의 일측에 구비된 모터와; 상기 처리조의 내부에 수평으로 장착되고, 상기 모터의 회전축과 연결되어 회전되게 장착되며, 내부에는 상기 처리조의 내부 공간과 구획되게 가스 유입공간이 형성된 원통형 회전필터부와; 상기 원통형 회전필터부의 가스 유입공간의 하부에 삽입 위치되어 다수의 분사홀을 통해 물을 하부로 분사하는 물 분사관과; 상기 수조의 하부와 물 분사관의 사이에 구비되어 수조의 하부에 채워진 물을 필터링 시키면서 상기 물 분사관에 순환되게 공급하는 물 순환부와; 상기 원통형 회전필터부의 가스 유입공간의 상부에 삽입 위치되어 원통형 회전필터부의 내부로 유입되는 처리가스를 외부로 배기하는 배기관을; 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention allows the harmful gas components and dust contained in the waste gas to be adsorbed on the outer surface of the cylindrical rotary filter and then drop together with the water to remove the harmful gas components and dust included in the waste gas through filtering and spraying of water. It relates to a wet waste gas treatment apparatus using a cylindrical rotary filter to be removed continuously.
The present invention, the waste gas inlet for the waste gas discharged from the semiconductor process is provided in the upper portion, the lower portion is provided with a water tank filled with water, the lower portion of the water tank is provided with a drain pipe having an opening and closing valve; A motor provided at one side of the treatment tank; A cylindrical rotary filter unit horizontally mounted in the processing tank, connected to a rotating shaft of the motor, and rotatably mounted therein, and having a gas inflow space defined therein so as to be partitioned from an internal space of the processing tank; A water injection tube inserted into a lower portion of the gas inlet space of the cylindrical rotary filter and spraying water downward through a plurality of injection holes; A water circulation unit provided between the lower portion of the water tank and the water injection pipe to circulate the water injection pipe while filtering the water filled in the lower portion of the water tank; An exhaust pipe inserted into an upper portion of the gas inlet space of the cylindrical rotary filter and configured to exhaust the processing gas introduced into the cylindrical rotary filter to the outside; .

Description

원통형 회전필터를 이용한 습식 폐가스 처리장치{Exhaust gas treatment apparatus using circular pipe filter}Exhaust gas treatment apparatus using circular pipe filter

본 발명은 원통형 회전필터를 이용한 습식 폐가스 처리장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 폐가스에 포함되는 유해 가스성분과 분진을 원통형 회전필터의 외면에 흡착되게 한 후 물과 함께 낙하시켜 제거할 수 있도록 함으로써, 폐가스에 포함되는 유해 가스성분과 분진을 필터링과 물의 분사를 통해 연속적으로 제거할 수 있도록 하는 원통형 회전필터를 이용한 습식 폐가스 처리장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a wet waste gas treatment apparatus using a cylindrical rotary filter, and more particularly, to allow harmful gas components and dust contained in the waste gas to be adsorbed on the outer surface of the cylindrical rotary filter and then dropped together with water to be removed. Thus, the present invention relates to a wet waste gas treatment apparatus using a cylindrical rotary filter to continuously remove harmful gas components and dust included in waste gas through filtering and water injection.

일반적으로 반도체의 생산 공장에서는, 반도체의 제조공정시 사용되는 다양한 케미칼에 의하여 독성, 부식성, 폭발성, 환경 오염성의 가스를 배출한다. 즉 이러한 배출가스에는, 각종 독성가스 및 산성가스, 가연성 가스(SiH4, SiH6, DCS, As3, PH3), 환경유해가스(PFC계 : SF6, NF3, F4, C2, C3 등)가 포함되어 있다. In general, a semiconductor production plant emits toxic, corrosive, explosive and environmental polluting gases by various chemicals used in the semiconductor manufacturing process. That is, these exhaust gases include various toxic gases, acid gases, combustible gases (SiH4, SiH6, DCS, As3, PH3), and environmentally harmful gases (PFC system: SF6, NF3, F4, C2, C3, etc.).

그래서 종래에는 상기와 같은 유해 배출가스를 정재하는 방식으로는, 세정 방식에 따라 습식(wet), 건식(dry), 연소식(burn), 흡착식, 플라즈마방식 등이 알려져 있다.
Therefore, conventionally, a wet, dry, burn, adsorption, plasma method, etc. are known as a method of refining the harmful exhaust gas as described above according to the cleaning method.

상기와 같은 방식 중, 습식 스크러버 방식은, 구조가 간단하고 별도로 필터를 청소, 교체할 필요 없이 사용한 세정용 물만 교체하면 되므로 유지비용이 작을 뿐만 아니라, 단일장치에서 가스 흡수와 분진을 동시에 포집가능하다는 장점이 있다.Among the methods described above, the wet scrubber method is simple in structure and requires only replacement of the cleaning water used without the need to clean and replace the filter. Therefore, maintenance costs are low and gas absorption and dust can be collected simultaneously in a single device. There is an advantage.

그러나, 상기 습식 스크러버 방식은 단순히 물을 이용하여 폐가스를 희석함으로써 비교적 큰 입자의 처리만 가능한 한계가 있었고, 집진 효율이 낮은 문제점을 가지고 있었다.
종래의 유해가스 처리방식에 관한 선행기술은 아래와 같음을 확인하였다.
However, the wet scrubber method has a limitation that only a relatively large particle can be treated by simply diluting waste gas using water, and has a problem of low dust collection efficiency.
The prior art regarding the conventional hazardous gas treatment method was confirmed as follows.

대한민국 등록특허 제10-847918호 "반도체 제조시의 배출가스를 산화처리하기 위한 배기가스 스트림 처리 장치 및 방법" (2008. 7. 16.);Republic of Korea Patent No. 10-847918 "Exhaust gas stream treatment apparatus and method for oxidizing the exhaust gas in the manufacture of semiconductor" (2008. 7. 16.); 대한민국 등록특허 제10-407845호 "폐가스 정화처리장치" (2006. 1. 27.);Republic of Korea Patent No. 10-407845 "Waste Gas Purification Treatment System" (January 27, 2006); 대한민국 등록특허 제10-479627호 "폐가스 처리용 습식 전처리 장치 및 그 전처리 방법" (2005. 3. 21.).Republic of Korea Patent No. 10-479627 "Wet pretreatment device for waste gas treatment and its pretreatment method" (2005. 3. 21.).

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해소하기 위하여 안출된 것으로,The present invention has been made to solve the above problems,

본 발명의 목적은, 내부에서 외부로 물을 분사하여 물이 통과되는 원통형 회전필터에 폐가스를 통과시킴으로써, 폐가스에 포함되는 유해 가스성분과 분진을 원통형 회전필터의 외면 흡착되게 한 후 물과 함께 낙하시켜 제거할 수 있도록 하는 원통형 회전필터를 이용한 습식 폐가스 처리장치를 제공함에 있다.An object of the present invention, by spraying water from the inside to the outside to pass the waste gas through the cylindrical rotary filter, the harmful gas components and dust included in the waste gas to be adsorbed on the outer surface of the cylindrical rotary filter and then fall with the water To provide a wet waste gas treatment apparatus using a cylindrical rotary filter to be removed by.

또한, 본 발명의 다른 목적은, 처리조의 하부에 채워지는 물을 필터링 시켜 반복적으로 재사용을 할 수 있도록 하는 원통형 회전필터를 이용한 습식 폐가스 처리장치를 제공함에 있다.
In addition, another object of the present invention is to provide a wet waste gas treatment apparatus using a cylindrical rotary filter to be repeatedly reused by filtering the water filled in the lower portion of the treatment tank.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 상부에 반도체 공정에서 배출되는 폐가스가 유입되는 폐가스 유입부가 구비되고, 하부에는 물이 채워지는 수조가 구비되며, 수조의 하부에는 개폐밸브를 가진 배수관이 구비된 처리조와; 상기 처리조의 일측에 구비된 모터와; 상기 처리조의 내부에 수평으로 장착되고, 상기 모터의 회전축과 연결되어 회전되게 장착되며, 내부에는 상기 처리조의 내부 공간과 구획되게 가스 유입공간이 형성된 원통형 회전필터부와; 상기 원통형 회전필터부의 가스 유입공간의 하부에 삽입 위치되어 다수의 분사홀을 통해 물을 하부로 분사하는 물 분사관과; 상기 수조의 하부와 물 분사관의 사이에 구비되어 수조의 하부에 채워진 물을 필터링 시키면서 상기 물 분사관에 순환되게 공급하는 물 순환부와; 상기 원통형 회전필터부의 가스 유입공간의 상부에 삽입 위치되어 원통형 회전필터부의 내부로 유입되는 처리가스를 외부로 배기하는 배기관을; 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention for achieving the above object is provided with a waste gas inlet for the waste gas discharged from the semiconductor process in the upper portion, a water tank is filled in the lower portion, the lower portion of the tank has a drain pipe having an on-off valve A treatment tank provided; A motor provided at one side of the treatment tank; A cylindrical rotary filter unit horizontally mounted in the processing tank, connected to a rotating shaft of the motor, and rotatably mounted therein, and having a gas inflow space defined therein so as to be partitioned from an internal space of the processing tank; A water injection tube inserted into a lower portion of the gas inlet space of the cylindrical rotary filter and spraying water downward through a plurality of injection holes; A water circulation unit provided between the lower portion of the water tank and the water injection pipe to circulate the water injection pipe while filtering the water filled in the lower portion of the water tank; An exhaust pipe inserted into an upper portion of the gas inlet space of the cylindrical rotary filter and configured to exhaust the processing gas introduced into the cylindrical rotary filter to the outside; .

또한, 상기 원통형 회전필터부는, 상기 모터의 회전축에 연결된 회전원판과, 상기 회전원판의 타측 둘레에 고정 구비되어 내부에 상기 가스 유입공간을 형성하는 원통형 회전필터를, 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the cylindrical rotary filter, characterized in that it comprises a rotary disk connected to the rotating shaft of the motor, and a cylindrical rotary filter fixed to the other side of the rotary disk to form the gas inlet space therein.

또한, 상기 원통형 회전필터의 타측단부와 상기 처리조의 타측판의 사이에는, 상기 원통형 회전필터를 원활하게 회전시킬 수 있도록 미끄럼 수단이 더 구비되는 것을 특징으로 한다.In addition, between the other end of the cylindrical rotary filter and the other side plate of the treatment tank, characterized in that the sliding means is further provided to smoothly rotate the cylindrical rotary filter.

또한, 상기 미끄럼 수단은, 상기 원통형 회전필터의 타측 단부에 형성된 홈과, 상기 처리조의 타측판의 내측면에 상기 홈에 삽입되게 형성된 둘레 삽입돌출턱을, 포함하는 것을 특징으로 한다. In addition, the sliding means, characterized in that it comprises a groove formed in the other end of the cylindrical rotary filter, and a circumferential insertion projection jaw formed to be inserted into the groove on the inner surface of the other side plate of the treatment tank.

또한, 상기 물 순환부는, 수조의 측판 하부와 상기 물 분사관은 연결하는 물 공급관과, 물 공급관에 구비되어 물을 강제 이송시키는 펌프와, 상기 수조와 펌프의 사이인 물 공급관에 구비되어 수조의 물을 필터링하는 필터부와, 상기 펌프와 물 분사관의 사이인 물 공급관에 구비되는 개폐밸브를, 포함하는 것을 특징으로 한다.The water circulation unit may include a water supply pipe connecting the lower part of the side plate of the water tank and the water injection pipe, a pump provided in the water supply pipe to forcibly transfer water, and a water supply pipe between the water tank and the pump. And an on / off valve provided in the water supply pipe that is between the pump and the water injection pipe.

또한, 상기 수조의 측판의 상부와 상기 배수관의 사이에는 오버플로우관이 더 구비되고, 오버플로우관에는 오버플로우관을 통과하는 물의 pH 농도를 측정하는 pH 센서가 더 구비되는 것을 특징으로 한다.
In addition, an overflow pipe is further provided between the upper portion of the side plate of the water tank and the drain pipe, and the overflow pipe is further provided with a pH sensor for measuring the pH concentration of water passing through the overflow pipe.

상술한 바와 같은 본 발명은, 폐가스에 포함되는 유해 가스성분과 분진을 원통형 회전필터의 외면에 흡착되게 한 후 물과 함께 낙하시켜 제거할 수 있도록 함으로써, 폐가스에 포함되는 유해 가스성분과 분진을 필터링과 물의 분사를 통해 연속적으로 제거함에 따라 폐가스의 처리 성능을 향상시킬 수 있는 효과가 있고, 별도의 필터 청소를 필요 없게 하는 효과도 있다. The present invention as described above, by filtering the harmful gas components and dust contained in the waste gas to the outer surface of the cylindrical rotary filter and then drop it with water to remove, thereby filtering the harmful gas components and dust included in the waste gas As it is continuously removed through the injection of water and water, there is an effect to improve the treatment performance of the waste gas, there is also the effect of eliminating the need for a separate filter cleaning.

또한, 본 발명은, 처리조의 하부에 채워지는 물을 필터링시켜 반복적으로 재사용을 할 수 있도록 함으로써, 폐수의 발생을 최소로 줄이면서 폐가스를 연속적으로 처리할 수 있는 효과도 있다.
In addition, the present invention, by filtering the water to be filled in the lower portion of the treatment tank to be reused repeatedly, there is also an effect that can continuously treat the waste gas while minimizing the generation of waste water.

도 1은 본 발명의 폐가스 처리장치를 나타낸 전체 구성단면도. 1 is an overall configuration cross-sectional view showing a waste gas treatment apparatus of the present invention.

이하, 본 발명을 첨부된 도면에 의거하여, 보다 구체적으로 설명한다. 다만, 첨부된 도면은 본 발명의 기술사상을 보다 상세하게 설명하기 위한 것일 뿐이며, 본 발명의 기술사상이 이에 한정되는 것이 아님은 당연하다.
Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, the present invention will be described in more detail. However, the accompanying drawings are only intended to describe the technical spirit of the present invention in more detail, and the technical spirit of the present invention is not limited thereto.

도 1은 본 발명의 폐가스 처리장치를 나타낸 전체 구성단면도이다. 1 is an overall configuration cross-sectional view showing a waste gas treatment apparatus of the present invention.

도면에 도시된 바와 같이, 본 발명의 습식 폐가스 처리장치는, 상부에 폐가스 유입부(11)와 하부에 수조(12)가 구비된 처리조(1)와, 상기 처리조(1)의 일측에 구비된 모터(2)와, 상기 처리조(1)의 내부에 수평으로 장착되어 상기 모터(2)에 의해 회전되며 내부에 가스 유입공간(33)이 형성된 원통형 회전필터부(3)와, 상기 원통형 회전필터부(3)의 가스 유입공간(33)의 하부에 삽입 위치되어 다수의 분사홀(41)을 통해 물을 하부로 분사하는 물 분사관(4)과, 상기 수조(12)의 하부와 물 분사관(4)의 사이에 구비되어 수조(12)의 하부에 채워진 물을 필터링 시키면서 상기 물 공급관(51)에 순환되게 공급하는 물 순환부(5)와, 상기 원통형 회전필터부(3)의 가스 유입공간(33)의 상부에 삽입 위치되어 원통형 회전필터부(3)의 내부로 유입되는 처리가스를 외부로 배기하는 배기관(6)을, 포함한다.
As shown in the drawing, the wet waste gas treatment apparatus of the present invention includes a treatment tank 1 having a waste gas inlet 11 and a water tank 12 at a lower portion thereof, and a side of the treatment tank 1. A cylindrical rotary filter unit 3 having a motor 2 provided therein and a horizontally mounted inside the processing tank 1 and rotated by the motor 2 and having a gas inflow space 33 formed therein; The water injection pipe 4 is inserted into the lower portion of the gas inlet space 33 of the cylindrical rotary filter unit 3 to inject water downward through the plurality of injection holes 41, and the lower portion of the water tank 12 And a water circulation part 5 provided between the water injection pipe 4 and circulated to the water supply pipe 51 while filtering the water filled in the lower part of the water tank 12, and the cylindrical rotary filter part 3. The exhaust pipe is inserted into the upper portion of the gas inlet space 33 of the exhaust gas to exhaust the processing gas introduced into the cylindrical rotary filter unit 3 to the outside. (6) is included.

또한, 본 발명에 따른 처리조(1)는, 도 1에 도시된 바와 같이, 내부 공간에 상기 원통형 회전필터부(3)를 장착할 수 있도록 하는 역할을 하는 것으로, 상부에는 반도체 공정에서 배출되는 폐가스가 유입되는 폐가스 유입부(11)가 구비되고, 하부에는 상기 원통형 회전필터부(3)로부터 배출되는 물이 채워지는 수조(12)가 구비되는 것이다. 그리고 상기 수조(12)의 하부에는 개폐밸브(131)를 가진 배수관(13)이 구비되어 있는 것이다. In addition, the treatment tank 1 according to the present invention, as shown in Figure 1, serves to mount the cylindrical rotary filter unit 3 in the inner space, the upper is discharged from the semiconductor process A waste gas inlet 11 through which waste gas is introduced is provided, and a water tank 12 filled with water discharged from the cylindrical rotary filter unit 3 is provided at a lower portion thereof. And the lower part of the water tank 12 is provided with a drain pipe 13 having an on-off valve 131.

상기 처리조(1)는, 상기 원통형 회전필터부(3)를 내부에 장착할 수 있도록 타측부가 개방된 하우징(14)과, 하우징(14)의 타측부를 막아 커버의 역할을 하는 타측판(15)이 상호 볼트를 통해 조립되어 있는 것이다.
The treatment tank 1 has a housing 14 having the other side open so that the cylindrical rotary filter 3 can be mounted therein, and the other side plate serving as a cover by blocking the other side of the housing 14. (15) is assembled through the mutual bolt.

또한, 본 발명에 따른 상기 모터(2)는, 도 1에 도시된 바와 같이, 회전축(21)이 상기 원통형 회전필터부(3)의 일측의 중앙에 연결되어 원통형 회전필터부(3)를 회전시키는 역할을 하는 것이다. In addition, the motor 2 according to the present invention, as shown in Figure 1, the rotary shaft 21 is connected to the center of one side of the cylindrical rotary filter unit 3 to rotate the cylindrical rotary filter unit 3 It is to play a role.

그리고 상기 모터(2)는, 상기 처리조(1)의 하우징(14)을 구성하는 일측판에 관통되게 고정되는 것으로, 회전축(21)이 처리조(1)의 내부로 돌출되어 있음에 따라, 모터(2)의 회전축(21)이 상기 원통형 회전필터부(3)의 일측 중앙에 연결되는 것이다.
The motor 2 is fixed to one side plate constituting the housing 14 of the processing tank 1, and as the rotation shaft 21 protrudes into the processing tank 1, The rotating shaft 21 of the motor 2 is connected to the center of one side of the cylindrical rotary filter 3.

또한, 본 발명에 따른 상기 원통형 회전필터부(3)는, 도 1에 도시된 바와 같이, 처리조(1)의 내부에 수평으로 장착되고 상기 모터(2)의 회전축(21)과 연결되어 회전되게 장착되는 것으로, 내부에는 상기 처리조(1)의 내부 공간과 구획되게 가스 유입공간(33)이 형성되는 것이다. In addition, the cylindrical rotary filter 3 according to the present invention, as shown in Figure 1, is mounted horizontally in the interior of the processing tank 1 and connected to the rotary shaft 21 of the motor 2 to rotate The gas inlet space 33 is formed to be partitioned from the inner space of the treatment tank 1.

즉 상기 원통형 회전필터부(3)는, 상기 모터(2)의 회전축(21)에 연결된 회전원판(31)과, 상기 회전원판(31)의 타측 둘레에 고정 구비되어 내부에 상기 가스 유입공간(33)을 형성하는 원통형 회전필터(32)를 포함한다. That is, the cylindrical rotary filter unit 3 is fixed to the rotary disk 31 connected to the rotary shaft 21 of the motor 2, and the other side of the rotary disk 31 is fixed to the gas inlet space ( And a cylindrical rotary filter 32 forming 33.

상기 원통형 회전필터(32)는. 물과 가스를 통과시킬 수 있는 다공성을 가지는 여러 종류의 필터를 사용할 수 있는 것이다. The cylindrical rotary filter 32 is. Different types of filters can be used that have a porosity that allows water and gas to pass through.

한편, 상기 원통형 회전필터(32)의 타측 단부와 상기 처리조(1)의 타측판(15)의 사이에는, 미끄럼 수단(34)이 더 구비되는 것이다. 즉 상기 미끄럼 수단(34)은 상기 원통형 회전필터(32)를 원활하게 회전시키는 역할을 하는 것이다. On the other hand, a sliding means 34 is further provided between the other end of the cylindrical rotary filter 32 and the other side plate 15 of the treatment tank 1. That is, the sliding means 34 serves to smoothly rotate the cylindrical rotary filter 32.

그리고 상기 미끄럼 수단(34)은 여러 형태의 구성으로 설계할 수 있는데, 첨부된 도면에서는 원통형 회전필터(32)의 타측 단부에 형성된 홈(341)과, 상기 처리조(1)의 타측판(15)의 내측면에 상기 홈(341)과 삽입되게 형성된 둘레 삽입돌출턱(342)으로 구성된 상태를 도시하였다.
In addition, the sliding means 34 may be designed in various forms. In the accompanying drawings, a groove 341 formed at the other end of the cylindrical rotary filter 32 and the other side plate 15 of the treatment tank 1 are provided. It is shown a state consisting of the groove 341 and the circumferential insertion protrusion jaw 342 formed to be inserted into the inner side of the.

또한, 본 발명에 따른 물 분사관(4)과 물 순환부(5)는, 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 수조(12)의 하부에 채워진 물을 필터링 시키면서 상기 물 분사관(4)에 순환되게 공급함으로써, 상기 원통형 회전필터부(3)를 구성하는 원통형 회전필터(32)의 내부의 하부로 물을 분사시키는 역할을 하는 것이다. In addition, the water injection pipe 4 and the water circulation unit 5 according to the present invention, as shown in Figure 1, while filtering the water filled in the lower portion of the water tank 12 to the water injection pipe (4) By supplying circulated, it serves to spray water to the lower portion of the inside of the cylindrical rotary filter 32 constituting the cylindrical rotary filter unit (3).

즉 상기 물 분사관(4)은, 원통형 회전필터부(3)의 가스 유입공간(33)의 하부에 삽입 위치되어 있는 것으로, 하부에는 물을 원통형 회전필터(32)의 하부에 골고루 분산 분사시킬 수 있도록 다수의 분사홀(41)이 등간격으로 형성되어 있는 것이다. 그리고 상기 물 분사관(4)은 상기 처리조(1)를 구성하는 타측판(15)에 관통되어 타측 단부가 외부로 돌출되어 상기 순환부와 연결되게 구성된다. That is, the water injection pipe 4 is inserted in the lower portion of the gas inflow space 33 of the cylindrical rotary filter 3, the lower portion to distribute and spray the water evenly to the lower portion of the cylindrical rotary filter 32. A plurality of injection holes 41 are formed at equal intervals to be able to. In addition, the water injection pipe 4 is configured to penetrate the other side plate 15 constituting the treatment tank 1 so that the other end portion protrudes to the outside to be connected to the circulation portion.

아울러 상기 물 순환부(5)는, 수조(12)의 측판 하부와 상기 물 분사관(4)을 연결하는 물 공급관(51)과, 물 공급관(51)에 구비되어 물을 강제 이송시키는 펌프(52)와, 상기 수조(12)와 펌프(52)의 사이인 물 공급관(51)에 구비되어 수조(12)의 물을 필터링하는 필터부(53)와, 상기 펌프(52)와 물 분사관(4)의 사이인 물 공급관(51)에 구비되는 개폐밸브(54)를 포함한다. 따라서 상기 개폐밸브(54)가 개방되고 펌프(52)가 작동되면 수조(12)의 하부에 물은 필터부(53)를 통과하면서 필터링된 다음 상기 분사관으로 유입됨에 따라, 상기 물 분사관(4)에서는 필터링 된 물이 분사되는 것이다. In addition, the water circulation unit 5, the water supply pipe 51 for connecting the lower side of the side plate of the water tank 12 and the water injection pipe 4, and the water supply pipe 51 is provided with a pump for forcibly transferring water ( 52, a filter unit 53 provided in the water supply pipe 51 between the water tank 12 and the pump 52 to filter the water in the water tank 12, and the pump 52 and the water injection pipe. And a shut-off valve 54 provided in the water supply pipe 51 between (4). Therefore, when the on-off valve 54 is opened and the pump 52 is operated, water is filtered while passing through the filter part 53 at the lower portion of the water tank 12 and then flows into the injection pipe, thereby allowing the water injection pipe ( In 4), filtered water is sprayed.

따라서 상기 물 순환부(5)를 통해, 처리조(1)의 하부에 채워지는 물을 필터링시켜 반복적으로 재사용을 할 수 있도록 함으로써, 폐수의 발생을 최소로 줄이면서 폐가스를 연속적으로 처리할 수 있는 장점이 있다.
Therefore, through the water circulation section 5, by filtering the water to be filled in the lower portion of the treatment tank 1 to be reused repeatedly, it is possible to continuously process the waste gas while minimizing the generation of waste water There is an advantage.

또한, 본 발명에 따른 배기관(6)은, 도 1에 도시된 바와 같이, 원통형 회전필터부(3)의 가스 유입공간(33)의 상부에 삽입 위치되어 원통형 회전필터부(3)의 내부로 유입되는 처리가스를 외부로 배기하는 역할을 하는 것이다. In addition, the exhaust pipe 6 according to the present invention, as shown in Figure 1, is inserted into the upper portion of the gas inlet space 33 of the cylindrical rotary filter unit 3 into the interior of the cylindrical rotary filter unit 3 It serves to exhaust incoming process gas to the outside.

그리고 상기 배기관(6)은, 원통형 회전필터부(3)의 가스 유입공간(33)의 상부에 삽입 위치되어 있는 것으로, 삽입 단부가 상기 가스 유입공간(33)의 중앙에 위치됨에 따라 가스 유입공간(33)으로 유입되는 가스를 원활하게 배출시킬 수 있는 것이다. In addition, the exhaust pipe 6 is inserted into the upper portion of the gas inflow space 33 of the cylindrical rotary filter unit 3, and as the insertion end is located in the center of the gas inflow space 33, the gas inflow space is provided. The gas flowing into the 33 can be smoothly discharged.

아울러 상기 배기관(6)은 처리조(1)를 구성하는 타측판(15)에 관통되어 타측단부가 외부로 연장되어 있는 것으로, 배기관(6)의 외측 돌출 단부는 외부로 인출되거나 별도의 외부 배기관(6)과 연결됨으로써 배기가스를 외부로 배출시키는 것이다.
In addition, the exhaust pipe 6 is penetrated by the other side plate 15 constituting the treatment tank 1 and the other end is extended to the outside, and the outer protruding end of the exhaust pipe 6 is drawn out to the outside or is a separate external exhaust pipe. By connecting with (6), exhaust gas is discharged to the outside.

한편, 본 발명의 습식 폐가스 처리장치는, 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 수조(12)의 측판의 상부와 상기 배수관(13)의 사이에는 오버플로우관(7)이 더 구비되고, 오버플로우관(7)에는 오버플로우관(7)을 통과하는 물의 pH 농도를 측정하는 pH 센서(71)가 더 구비되는 것이다. On the other hand, the wet waste gas treatment device of the present invention, as shown in Figure 1, the overflow pipe 7 is further provided between the upper portion of the side plate of the water tank 12 and the drain pipe 13, overflow The tube 7 is further provided with a pH sensor 71 for measuring the pH concentration of the water passing through the overflow tube (7).

상기 오버플로우관(7)은, 수조(12)의 물이 용량 이상으로 채워질 경우에 이를 배수관(13)으로 신속히 배수시키는 역할을 한다. The overflow pipe (7), when the water in the water tank 12 is filled more than the capacity serves to quickly drain it to the drain pipe (13).

그리고 상기 오버플로우관(7)에 구비된 pH 센서(71)는, 오버플로우관(7)으로 배출되는 물의 pH 농도를 측정함으로써, 물의 교체시기를 결정할 수 있도록 하는 역할을 한다.
And the pH sensor 71 provided in the overflow tube (7), by measuring the pH concentration of the water discharged to the overflow tube (7), serves to determine the replacement time of the water.

이하, 상기와 같이 구성된 본 발명의 습식 폐가스 처리장치의 작용관계를 설명한다. Hereinafter, the working relationship of the wet waste gas treatment apparatus of the present invention configured as described above will be described.

도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 습식 폐가스 처리장치를 통해 반도체 공정에서 배출되는 폐가스를 처리하는 과정을 설명하면 다음과 같다. As illustrated in FIG. 1, a process of treating waste gas discharged from a semiconductor process through a wet waste gas treating apparatus of the present invention will be described below.

먼저, 배수관(13)의 개폐밸브(131)를 닫은 상태에서 수조(12)의 내부에 맑은 물을 채워 넣는다. First, the fresh water is filled into the water tank 12 in a state where the opening / closing valve 131 of the drain pipe 13 is closed.

다음 처리조(1)의 일측에 구비된 모터(2)를 작동시켜 원통형 회전필터부(3)를 회전시키고, 물 순환부(5)의 펌프(52)를 가동시켜 수조(12)의 하부에 채워진 물을 강제 순환시켜 물 분사관(4)으로 공급시킴으로써, 물 분사관(4)을 통해 회전되는 원통형 회전필터(32)의 내부 하부에 물을 연속적으로 분사한다. 그러면 분사된 물이 원통형 회전필터(32)에 스며들게 되고 스며든 물은 하부로 배출된다. Next, the cylindrical rotary filter unit 3 is rotated by operating the motor 2 provided on one side of the treatment tank 1, and the pump 52 of the water circulation unit 5 is operated to lower the water tank 12. By forcibly circulating the filled water is supplied to the water injection pipe 4, the water is continuously injected into the inner lower portion of the cylindrical rotary filter 32 rotated through the water injection pipe (4). Then, the injected water is permeated into the cylindrical rotary filter 32 and the permeated water is discharged downward.

다음 처리조(1)의 상부에 구비된 폐가스 유입부(11)로 반도체 제조공정에서 배출되는 폐가스를 투입한다. 그러면 투입된 폐가스는 처리조(1)의 내부로 유입되어 회전되는 원통형 회전필터(32)로 유입되면서, 폐가스의 포함된 유해 가스성분과 분진 등의 크고 작은 이물질이 원통형 회전필터(32)의 외면에 흡착된다. 그리고 원통형 회전필터(32)에 외면에 흡착된 유해 가스성분과 분진 등의 크고 작은 이물질은 원통형 회전필터(32)의 내부에서 외부로 배출되는 물과 함께 하부로 낙하됨으로써 폐가스에 포함된 유해가스와 분진이 제거 처리되는 것이다. Next, the waste gas discharged from the semiconductor manufacturing process is introduced into the waste gas inlet 11 provided at the upper portion of the treatment tank 1. Then, the injected waste gas flows into the cylindrical rotary filter 32 which is introduced into the treatment tank 1 and rotates, and the large and small foreign substances such as harmful gas components and dust contained in the waste gas are formed on the outer surface of the cylindrical rotary filter 32. Is adsorbed. And the large and small foreign substances such as harmful gas components and dust adsorbed on the outer surface of the cylindrical rotary filter 32 falls down with the water discharged to the outside from the inside of the cylindrical rotary filter 32 and the harmful gas contained in the waste gas and Dust is removed.

다음 상기와 같이 유해 가스성분과 이물질이 제거되어 원통형 회전필터(32)의 내부인 가스 유입공간(33)으로 유입된 처리가스는 배기관(6)으로 유입되어 외부로 배출되는 것이다.
Next, as described above, the harmful gas component and the foreign matter are removed, and the processing gas introduced into the gas inflow space 33, which is the inside of the cylindrical rotary filter 32, is introduced into the exhaust pipe 6 and discharged to the outside.

따라서, 상기와 같이, 폐가스에 포함되는 유해 가스성분과 분진을 원통형 회전필터(32)의 외면에 흡착되게 한 후 물과 함께 낙하시켜 제거할 수 있도록 함으로써, 폐가스에 포함되는 유해 가스성분과 분진을 필터링과 물의 분사를 통해 연속적으로 제거 할 수 있는 것이다. Therefore, as described above, by allowing the harmful gas components and dust contained in the waste gas to be adsorbed on the outer surface of the cylindrical rotary filter 32 to be dropped along with the water to remove, the harmful gas components and dust included in the waste gas. It can be removed continuously by filtering and water spray.

그러므로 폐가스에 포함되는 유해 가스성분과 분진을 필터링과 물의 분사를 통해 연속적으로 제거함에 따라 폐가스의 처리 성능을 향상시킬 수 있는 장점이 있다. 아울러 원통형 회전필터(32)의 내부에서 외부로 물을 연속적으로 분사하면서 폐가스를 처리함에 따라, 원통형 회전필터(32)를 별도로 청소할 필요가 없게 하는 장점도 있는 것이다. Therefore, there is an advantage that can improve the treatment performance of the waste gas by continuously removing the harmful gas components and dust contained in the waste gas through filtering and water injection. In addition, by treating the waste gas while continuously spraying water from the inside of the cylindrical rotary filter 32, there is also an advantage that does not need to clean the cylindrical rotary filter 32 separately.

이상에서 본 발명에 의한 원통형 회전필터를 이용한 습식 폐가스 처리장치를 구체적으로 설명하였으나, 이는 본 발명의 가장 바람직한 실시양태를 기재한 것일 뿐, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 첨부된 특허청구범위에 의해서 그 범위가 결정되어지고 한정되어진다. 또한, 이 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구나 본 발명의 명세서에 기재내용에 의하여 다양한 변형 및 모방을 행할 수 있는 것이나, 이 역시 본 발명의 범위를 벗어난 것이 아님은 명백하다고 할 것이다.
Although the wet waste gas treatment apparatus using the cylindrical rotary filter according to the present invention has been described in detail above, this is only for describing the most preferred embodiment of the present invention, and the present invention is not limited thereto. The range is determined and defined by. In addition, any one of ordinary skill in the art can make various modifications and imitations according to the description in the specification of the present invention, but it will be apparent that this is also outside the scope of the present invention.

1 : 처리조
11 : 폐가스 유입부
12 : 수조
13 : 배수관
131 : 개폐밸브
14 : 하우징
15 : 타측판
2 : 모터
21 : 회전축
3 : 원통형 회전필터부
31 : 회전원판
32 : 원통형 회전필터
33 : 가스 유입공간
34 : 미끄럼 수단
341 : 홈, 342 : 둘레 삽입돌출턱
4 : 물 분사관
41 : 분사홀
5 : 물 순환부
51 : 물 공급관
52 : 펌프
53 : 필터부
54 : 개폐밸브
6 : 배기관
7 : 오버플로우관
71 : pH 센서1: Treatment tank
11: waste gas inlet
12: tank
13: drain pipe
131: on-off valve
14: Housing
15: other side plate
2: motor
21:
3: cylindrical rotary filter
31: rotating disc
32: cylindrical rotary filter
33: gas inlet space
34: sliding means
341: groove, 342: perimeter insertion projection
4: water injection pipe
41: injection hole
5: water circulation
51: water supply pipe
52: pump
53: filter part
54: on-off valve
6: exhaust pipe
7: overflow pipe
71: pH sensor

Claims (6)

상부에 반도체 공정에서 배출되는 폐가스가 유입되는 폐가스 유입부(11)가 구비되고, 하부에는 물이 채워지는 수조(12)가 구비되며, 수조(12)의 하부에는 개폐밸브(131)를 가진 배수관(13)이 구비된 처리조(1)와;
상기 처리조(1)의 일측에 구비된 모터(2)와;
상기 처리조(1)의 내부에 수평으로 장착되고, 상기 모터(2)의 회전축(21)과 연결되어 회전되게 장착되며, 내부에는 상기 처리조의 내부 공간과 구획되게 가스 유입공간(33)이 형성된 원통형 회전필터부(3)와;
상기 원통형 회전필터부(3)의 가스 유입공간(33)의 하부에 삽입 위치되어 다수의 분사홀(41)을 통해 물을 하부로 분사하는 물 분사관(4)과;
상기 수조(12)의 하부와 물 분사관(4)의 사이에 구비되어 수조(12)의 하부에 채워진 물을 필터링 시키면서 상기 물 분사관(4)에 순환되게 공급하는 물 순환부(5)와;
상기 원통형 회전필터부(3)의 가스 유입공간(33)의 상부에 삽입 위치되어 원통형 회전필터부(3)의 내부로 유입되는 처리가스를 외부로 배기하는 배기관(6)을;
포함하는 것을 특징으로 하는 원통형 회전필터를 이용한 습식 폐가스 처리장치.
A waste gas inlet portion 11 through which waste gas discharged from a semiconductor process is introduced is provided at an upper portion thereof, and a water tank 12 is provided at a lower portion thereof, and a drain pipe having an open / close valve 131 at a lower portion of the water tank 12 is provided. A treatment tank 1 provided with 13;
A motor 2 provided on one side of the treatment tank 1;
It is mounted horizontally in the processing tank 1, is connected to the rotation shaft 21 of the motor 2 is mounted to rotate, the gas inlet space 33 is formed to be partitioned from the internal space of the processing tank therein Cylindrical rotary filter unit 3;
A water injection tube (4) inserted into a lower portion of the gas inflow space (33) of the cylindrical rotary filter unit (3) to inject water downward through a plurality of injection holes (41);
A water circulation part 5 provided between the lower portion of the water tank 12 and the water injection pipe 4 and circulated to the water injection pipe 4 while filtering the water filled in the lower portion of the water tank 12; ;
An exhaust pipe 6 inserted into an upper portion of the gas inflow space 33 of the cylindrical rotary filter 3 to exhaust the processing gas introduced into the cylindrical rotary filter 3 to the outside;
Wet waste gas treatment apparatus using a cylindrical rotary filter comprising a.
제1항에 있어서,
상기 원통형 회전필터부(3)는,
상기 모터(2)의 회전축(21)에 연결된 회전원판(31)과,
상기 회전원판(31)의 타측 둘레에 고정 구비되어 내부에 상기 가스 유입공간(33)을 형성하는 원통형 회전필터(32)를,
포함하는 것을 특징으로 하는 원통형 회전필터를 이용한 습식 폐가스 처리장치.
The method of claim 1,
The cylindrical rotary filter unit 3,
A rotating disc 31 connected to the rotating shaft 21 of the motor 2,
The cylindrical rotary filter 32 is fixed to the other side of the rotation disc 31 to form the gas inlet space 33 therein,
Wet waste gas treatment apparatus using a cylindrical rotary filter comprising a.
제2항에 있어서,
상기 원통형 회전필터(32)의 타측단부와 상기 처리조(1)의 타측판(15)의 사이에는,
상기 원통형 회전필터(32)를 원활하게 회전시킬 수 있도록 미끄럼 수단(34)이 더 구비되는 것을 특징으로 하는 원통형 회전필터를 이용한 습식 폐가스 처리장치.
3. The method of claim 2,
Between the other end of the cylindrical rotary filter 32 and the other side plate 15 of the treatment tank 1,
Wet waste gas treatment apparatus using a cylindrical rotary filter, characterized in that the sliding means 34 is further provided to smoothly rotate the cylindrical rotary filter (32).
제3항에 있어서,
상기 미끄럼 수단(34)은,
상기 원통형 회전필터(32)의 타측 단부에 형성된 홈(341)과,
상기 처리조(1)의 타측판(15)의 내측면에 상기 홈(341)에 삽입되게 형성된 둘레 삽입돌출턱(342)을,
포함하는 것을 특징으로 하는 원통형 회전필터를 이용한 습식 폐가스 처리장치.
The method of claim 3,
The sliding means 34,
A groove 341 formed at the other end of the cylindrical rotary filter 32,
The circumferential insertion protrusion jaw 342 formed to be inserted into the groove 341 on the inner side surface of the other side plate 15 of the treatment tank 1,
Wet waste gas treatment apparatus using a cylindrical rotary filter comprising a.
제1항에 있어서,
상기 물 순환부(5)는,
수조(12)의 측판 하부와 상기 물 분사관(4)은 연결하는 물 공급관(51)과,
물 공급관(51)에 구비되어 물을 강제 이송시키는 펌프(52)와,
상기 수조(12)와 펌프(52)의 사이인 물 공급관(51)에 구비되어 수조(12)의 물을 필터링하는 필터부(53)와,
상기 펌프(52)와 물 분사관(4)의 사이인 물 공급관(51)에 구비되는 개폐밸브(54)를,
포함하는 것을 특징으로 하는 원통형 회전필터를 이용한 습식 폐가스 처리장치.
The method of claim 1,
The water circulation portion 5,
A water supply pipe 51 connecting the lower portion of the side plate of the water tank 12 and the water injection pipe 4;
A pump 52 provided in the water supply pipe 51 for forcibly transferring water,
A filter unit 53 provided in the water supply pipe 51 between the water tank 12 and the pump 52 to filter the water in the water tank 12;
Opening and closing valve 54 provided in the water supply pipe 51 between the pump 52 and the water injection pipe 4,
Wet waste gas treatment apparatus using a cylindrical rotary filter comprising a.
제1항에 있어서,
상기 수조(12)의 측판의 상부와 상기 배수관(13)의 사이에는 오버플로우관(7)이 더 구비되고,
오버플로우관(7)에는 오버플로우관(7)을 통과하는 물의 pH 농도를 측정하는 pH 센서(71)가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 원통형 회전필터를 이용한 습식 폐가스 처리장치.The method of claim 1,
An overflow pipe 7 is further provided between the upper portion of the side plate of the water tank 12 and the drain pipe 13.
The overflow pipe (7) is a wet waste gas treatment device using a cylindrical rotary filter, characterized in that the pH sensor 71 for measuring the pH concentration of the water passing through the overflow pipe (7) is further provided.
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