KR101316536B1 - Multi-layer thin film for low-emissivity - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 저방사용 다층막에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 건축물의 단열성능을 높이기 위하여 유리 표면에 적외선 반사율이 높은 무기재료나 금속을 적절히 조합하여 다층의 막 구조로 증착시키고, 특히 그 다층막들의 두께를 최적화하여 적절한 투과율과 낮은 방사율을 갖도록 하는 저방사용 다층막의 에 관한 것이다.The present invention relates to a low-emission multi-layer film, and more specifically, to increase the heat insulating performance of a building, to deposit a multi-layered film structure by appropriately combining an inorganic material or a metal with high infrared reflectance on the glass surface, and in particular to increase the thickness of the multi-layer film. The present invention relates to a low-emission multilayer film that is optimized to have an appropriate transmittance and low emissivity.
저방사용 다층 코팅 유리는 유리/유전층/은층/유전층(Glass/dielectric/silver/dielectric)의 구조를 가지고 있는 것이 일반적이며, 저방사율(Low-Emissivity) 성능의 대부분은 은층(silver layer)에 의해 구현되고 그 은의 적층수에 따라 Single low-E, Double Low-E, Triple Low-E라 칭한다.Low-emission multilayer coating glass generally has a structure of glass / dielectric layer / silver layer / dielectric layer (Glass / dielectric / silver / dielectric), and most of the low-emissivity performance is realized by the silver layer. Depending on the number of layers of silver, it is called Single low-E, Double Low-E, Triple Low-E.
위에서도 언급했듯이 저방사용 다층 박막은 dielectric/silver/dielectric 구조를 가지고 있는데 산화물 계열의 유전 물질은 은과 반응하여 확산이 일어나 박막의 특성을 저하시킨다. 따라서 유전체와 은 사이에 확산방지막을 삽입한 dielectric/barrier/silver/ barrier/dielectric 구조에 대한 연구가 필요하다. As mentioned above, the low-emission multilayer film has a dielectric / silver / dielectric structure. The oxide-based dielectric material reacts with silver to diffuse and deteriorate the thin film. Therefore, it is necessary to study the dielectric / barrier / silver / barrier / dielectric structure in which the diffusion barrier is interposed between the dielectric and silver.
또한, 저방사용 다층 코팅 박막은 가시광선 영역에서의 높은 투과율을 확보함과 동시에 적외선만을 반사시켜 열손실을 원천적으로 막아주는데 목표가 있다. 또한, 코팅을 통해 유리의 색감을 다양하게 표현하려는 연구도 진행되고 있다. 하지만, 유리에 색을 구현하게 되면 가시광선 영역에서의 투과율이 저하되는 문제점이 발생하게 된다. 따라서 코팅하는 물질과 그 물질의 두께 변화를 통해 저방사용 코팅 박막의 기본적인 성능을 유지하면서 색을 구현할 수 있는 연구가 필요하다. In addition, the low-emission multi-layer coating thin film is to ensure a high transmittance in the visible light region and at the same time aims to prevent heat loss by reflecting only infrared radiation. In addition, research is being conducted to express various colors of glass through coating. However, when the color is implemented in the glass, there is a problem that the transmittance in the visible light region is lowered. Therefore, it is necessary to research a color to realize the coating while maintaining the basic performance of the low-emission coating thin film by changing the thickness of the material.
본 발명의 목적은 상기의 문제점들을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 가시광선 영역에서 높은 투과율을 확보하면서도 적외선영역에서는 낮은 방사율을 가질 수 있도록 한 저방사용 다층막을 제공하는 데 있다.An object of the present invention is to solve the above problems, to provide a low-use multi-layer film to ensure a high transmittance in the visible light region while having a low emissivity in the infrared region.
본 발명의 다른 목적은 스퍼터 공법으로, 유리 기판 위에 ZTO(ZnO:SnO2), Al2O3, Ag를 반복하여 적층함으로써 다양한 색을 구현할 수 있도록 한 저방사용 다층막을 제공하는 데 있다.Another object of the present invention is to provide a low-molecular multilayer film which can realize various colors by repeatedly stacking ZTO (ZnO: SnO 2 ), Al 2 O 3 , and Ag on a glass substrate by a sputtering method.
상기의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 저방사용 다층막은, ZTO층, 은층, ZTO층이 순차적으로 적층되며, ZTO는 ZnO:SnO2 = 65wt%:35wt%의 조성비를 가지며, ZTO층의 두께는 37∼43nm의 범위 내이며, 은층은 11∼13nm의 범위 내인 구조를 갖는 것을 특징으로 한다.
In order to achieve the above object, in the low-emission multilayer film according to the embodiment of the present invention, a ZTO layer, a silver layer, and a ZTO layer are sequentially stacked, and ZTO is ZnO: SnO 2. = 65wt%: 35wt%, the thickness of the ZTO layer is in the range of 37 to 43nm, the silver layer is characterized by having a structure in the range of 11-13nm.
상기 ZTO층, 은층, ZTO층을 구비하는 다층막이 2회 또는 3회 반복하여 적층되는 것을 특징으로 한다.
A multilayer film comprising the ZTO layer, the silver layer, and the ZTO layer is laminated repeatedly two or three times.
본 발명의 다른 실시예에 따른 저방사용 다층막은, ZTO층, Al2O3, 은층(Ag), Al2O3, ZTO층이 순차적으로 적층되며, ZTO는 ZnO:SnO2 = 65wt%:35wt%의 조성비를 가지며, ZTO층의 두께는 37∼43nm의 범위 내이며, 은층은 11∼13nm의 범위 내이며, Al2O3층은 8∼12nm의 범위 내인 구조를 갖는 것을 특징으로 한다.
According to another embodiment of the present invention, in the low-water-use multilayer film, a ZTO layer, an Al 2 O 3 , a silver layer (Ag), an Al 2 O 3 , a ZTO layer are sequentially stacked, and ZTO is ZnO: SnO 2. It has a composition ratio of 65wt%: 35wt%, the thickness of the ZTO layer is in the range of 37-43nm, the silver layer is in the range of 11-13nm, the Al 2 O 3 layer has a structure in the range of 8-12nm. It features.
상기 ZTO층, Al2O3, 은층(Ag), Al2O3, ZTO층을 구비하는 다층막이 2회 또는 3회 반복하여 적층되는 것을 특징으로 한다.A multilayer film comprising the ZTO layer, the Al 2 O 3 , the silver layer (Ag), the Al 2 O 3 , and the ZTO layer is repeatedly stacked two or three times.
본 발명에 따라 스퍼터공정을 이용한 저방사용 다층 코팅유리를 제조함으로써, 가시광선 영역의 투과율을 확보함과 동시에 적외선 영역에서 낮은 방사율을 얻을 수 있었고, 굴절률이 다른 물질들을 적층하여 결과적으로 다양한 색이 구현된 반투명한 다층박막을 제조할 수 있었다.According to the present invention, by manufacturing a low-emission multilayer coating glass using a sputtering process, it was possible to obtain a low transmittance in the infrared region at the same time to secure the transmittance in the visible light region, resulting in a variety of colors by laminating materials having different refractive indices The translucent multilayer thin film could be prepared.
또한 Al2O3를 차단(Barrier)층으로 사용하여 Ag의 산화 및 확산을 감소시키는 효과를 얻을 수 있다.Also, Al 2 O 3 can be used as a barrier layer to reduce the oxidation and diffusion of Ag.
도 1은 ZTO/Ag/ZTO 다층막 구조를 각각 1, 2, 3회 반복 증착한 저방사용 다층 코팅막의 개략도이다.
도 2는 ZTO/Al2O3/Ag/Al2O3/ZTO 다층막 구조를 각각 1, 2, 3회 반복 증착한 저방사용 다층 코팅막의 개략도이다.
도 3은 ZTO/Ag/ZTO 다층막 구조에서 Ag의 두께를 12±1nm의 두께로 고정시키고 ZTO의 두께를 변화시켜 투과도를 측정한 그래프이다.
도 4는 ZTO/Ag/ZTO 다층막 구조에서 ZTO의 두께를 40±3nm의 두께로 고정시키고 Ag의 두께를 변화시켜 투과도를 측정한 그래프이다.
도 5는 ZTO/Al2O3/Ag/Al2O3/ZTO 다층막 구조에서 ZTO의 두께를 40±3nm로, Ag의 두께를 12±1nm로 고정시키고 Al2O3의 두께를 변화시켜 투과도를 측정한 그래프이다.
도 6은 도 4의 구조로 증착된 저방사용 다층 코팅막의 가시광선 및 근적외선 영역에서의 투과도 측정 그래프이다.
도 7은 도 5의 구조로 증착된 저방사용 다층 코팅막의 가시광선 및 근적외선 영역에서의 투과도 측정 그래프이다.
도 8은 도 4와 도 5의 구조로 증착된 저방사용 다층 코팅막의 표면저항 측정 결과를 비교하여 나타낸 그래프이다.
도 9는 도 4와 도 5의 구조로 증착된 저방사용 다층 코팅막의 적외선 영역 방사율 측정 그래프이다.
도 10은 도 4의 구조로 증착된 저방사용 다층 코팅막의 AES Depth Profile 분석 그래프이다.
도 11은 도 5의 구조로 증착된 저방사용 다층 코팅막의 AES Depth Profile 분석 그래프이다.
도 12는 도 4와 도 5의 구조로 증착된 저방사용 다층 코팅막의 색상 측정 결과이다.1 is a schematic diagram of a low-emission multi-layer coating film obtained by repeatedly depositing a ZTO / Ag / ZTO
2 is a schematic view of a low-emission multi-layer coating film obtained by repeatedly depositing ZTO / Al 2 O 3 / Ag / Al 2 O 3 / ZTO
3 is a graph measuring the transmittance by fixing the thickness of Ag to a thickness of 12 ± 1nm and changing the thickness of ZTO in the ZTO / Ag / ZTO multilayer film structure.
Figure 4 is a graph measuring the transmittance by fixing the thickness of ZTO to a thickness of 40 ± 3nm in the ZTO / Ag / ZTO multilayer film structure and changing the thickness of Ag.
FIG. 5 shows ZTO / Al 2 O 3 / Ag / Al 2 O 3 / ZTO thickness of ZTO at 40 ± 3 nm, Ag thickness at 12 ± 1 nm, and the thickness of Al 2 O 3 changed in the transmittance in the multilayer structure Is a graph measured.
FIG. 6 is a graph illustrating transmittance measurements in visible and near infrared regions of a low-emission multi-layer coating film deposited with the structure of FIG. 4.
FIG. 7 is a graph illustrating transmittance measurements in the visible and near infrared regions of the low-emission multi-layer coating film deposited with the structure of FIG. 5.
FIG. 8 is a graph showing surface resistance measurement results of the multi-coating layer coated with the structures of FIGS. 4 and 5.
FIG. 9 is a graph showing infrared region emissivity measurement of a low-use multilayer coating film deposited with the structures of FIGS. 4 and 5.
FIG. 10 is an AES Depth Profile analysis graph of the low-emission multi-layer coating film deposited with the structure of FIG. 4.
FIG. 11 is an AES Depth Profile analysis graph of the low-emission multi-layer coating film deposited with the structure of FIG. 5.
12 is a color measurement result of the low-emission multi-layer coating film deposited in the structure of FIGS. 4 and 5.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 다양한 실시예에 따른 저방사용 다층막에 대하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail with respect to the low-emission multi-layer film according to various embodiments of the present invention.
도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 저방사용 다층막은 ZTO층, 은층(Ag), ZTO층가 순차적으로 적층된 구조를 갖는 것으로, 유리 기판 위에 적층함으로써 저방사용 유리를 제조할 수 있는 것이다. As shown in FIG. 1, the low-emission multi-layer film according to the exemplary embodiment of the present invention has a structure in which a ZTO layer, a silver layer (Ag), and a ZTO layer are sequentially stacked. It can be.
이때, 유전층으로서 고굴절 물질인 ZTO를 사용하였고, 본 발명에서의 ZTO는 ZnO:SnO2가 65wt%:35wt%의 비로 혼합된 물질이다. In this case, ZTO, which is a high refractive material, was used as the dielectric layer. In the present invention, ZTO is a material in which ZnO: SnO 2 is mixed at a ratio of 65wt%: 35wt%.
또한, ZTO층의 두께는 37∼43nm의 범위 내인 것이 바람직하며, 이러한 범위를 벗어나면 가시광선 영역에서의 광 투과율이 좋지 않다.In addition, the thickness of the ZTO layer is preferably in the range of 37 to 43 nm, and beyond this range, the light transmittance in the visible light region is not good.
또한, 은층은 11∼13nm의 범위 내인 것이 바람직하며, 이러한 범위를 벗어나면 가시광선 영역에서의 광 투과율이 좋지 않다. Ag가 많을수록 투과율은 다소 떨어지지만 방사율이 감소되기 때문에, 저방사용 다층막으로서는 상기의 층들이 다수회 반복하여 설치되는 것이 바람직할 수도 있다.Moreover, it is preferable that the silver layer exists in the range of 11-13 nm, and when it is out of this range, the light transmittance in a visible light region will not be good. Since the more the Ag, the transmittance slightly decreases, but the emissivity decreases, it may be preferable that the above layers are repeatedly provided a plurality of times as a low-emission multilayer film.
따라서, 본 발명의 일 실시예에 따른 저방사용 다층막은 ZTO층, 은층, ZTO층이 순차적으로 적층되며, ZTO는 ZnO:SnO2 = 65wt%:35wt%의 조성비를 가지며, ZTO층의 두께는 37∼43nm의 범위 내이며, 은층은 11∼13nm의 범위 내인 구조를 갖는다.Accordingly, in the low-emission multi-layer film according to an embodiment of the present invention, a ZTO layer, a silver layer, and a ZTO layer are sequentially stacked, and ZTO is ZnO: SnO 2. It has a composition ratio of 65 wt%: 35 wt%, the thickness of a ZTO layer is in the range of 37-43 nm, and a silver layer has a structure which is in the range of 11-13 nm.
또한, 이와 같은 적층구조를 갖는 다층막은 1회, 2회 또는 3회까지 반복하여 적층될 수도 있다.
In addition, the multilayer film having such a lamination structure may be repeatedly laminated up to once, twice or three times.
도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 저방사용 다층막은 ZTO층, Al2O3, 은층(Ag), Al2O3, ZTO층가 순차적으로 적층된 구조를 갖는 것으로, 유리 기판 위에 적층함으로써 저방사용 유리를 제조할 수 있는 것이다. As shown in FIG. 2, the low-emission multilayer film according to another embodiment of the present invention has a structure in which a ZTO layer, an Al 2 O 3 , a silver layer (Ag), an Al 2 O 3 , and a ZTO layer are sequentially stacked. By laminating on a substrate, low-emission glass can be produced.
이때, 유전층과 은층은 상기에 언급된 것과 동일한 성분 및 두께를 갖는다.At this time, the dielectric layer and the silver layer have the same components and thickness as those mentioned above.
또한, 차단(barrier)층으로는 Al2O3를 사용하였고, Al2O3층은 8∼12nm의 범위 내인 것이 바람직하며, 이러한 범위를 벗어나면 가시광선 영역에서의 광 투과율이 좋지 않다.In addition, Al 2 O 3 was used as the barrier layer, and the Al 2 O 3 layer is preferably in the range of 8 to 12 nm, and beyond this range, light transmittance in the visible light region is not good.
따라서, 본 발명의 다른 실시예에 따른 저방사용 다층막은 ZTO층, Al2O3, 은층(Ag), Al2O3, ZTO층이 순차적으로 적층되며, ZTO는 ZnO:SnO2 = 65wt%:35wt%의 조성비를 가지며, ZTO층의 두께는 37∼43nm의 범위 내이며, 은층은 11∼13nm의 범위 내이며, Al2O3층은 8∼12nm의 범위 내인 구조를 갖는다.Therefore, in the low-emission multilayer according to another embodiment of the present invention, a ZTO layer, an Al 2 O 3 , a silver layer (Ag), an Al 2 O 3 , and a ZTO layer are sequentially stacked, and ZTO is ZnO: SnO 2. It has a composition ratio of 65 wt%: 35 wt%, the thickness of the ZTO layer is in the range of 37 to 43 nm, the silver layer is in the range of 11 to 13 nm, and the Al 2 O 3 layer has a structure in the range of 8 to 12 nm.
또한, 이와 같은 적층구조를 갖는 다층막은 1회, 2회 또는 3회까지 반복하여 적층될 수도 있다.
In addition, the multilayer film having such a lamination structure may be repeatedly laminated up to once, twice or three times.
이하, 본 발명의 저방사용 다층막의 효과를 입증하기 위한 다양한 실험을 통한 그래프들이 도면에 도시되어 있으며, 이에 대한 구체적인 설명을 하도록 한다.Hereinafter, graphs through various experiments for demonstrating the effect of the low-emission multi-layer film of the present invention are shown in the drawings, and will be described in detail.
도 3은 ZTO/Ag/ZTO 다층막 구조에서 Ag의 두께를 12±1nm의 두께로 고정시키고 ZTO의 두께를 변화시켜 가시광선 영역에서의 투과도를 측정한 그래프이다. ZTO의 두께를 30±3nm, 40±3nm, 50±3nm로 변화시켜 투과도를 측정한 결과, ZTO가 40±3nm의 두께일 때 가장 우수한 투과도를 나타내었다.
3 is a graph measuring the transmittance in the visible light region by fixing the thickness of Ag to a thickness of 12 ± 1nm in the ZTO / Ag / ZTO multilayer film structure and changing the thickness of ZTO. The transmittance was measured by changing the thickness of ZTO to 30 ± 3nm, 40 ± 3nm, 50 ± 3nm, and showed the best transmittance when ZTO was 40 ± 3nm.
도 4는 ZTO/Ag/ZTO 다층막 구조에서 ZTO의 두께를 40±3nm의 두께로 고정시키고 Ag의 두께를 변화시켜 가시광 영역에서의 투과도를 측정한 그래프이다. Ag의 두께를 9±1nm, 12±1nm, 15±1nm로 변화시켜 투과도를 측정한 결과 12±1nm의 두께일 때 가장 우수한 투과도를 나타내었다.
4 is a graph illustrating the transmittance in the visible region by fixing the thickness of ZTO to a thickness of 40 ± 3 nm and changing the thickness of Ag in the ZTO / Ag / ZTO multilayer structure. The transmittance was measured by changing the thickness of Ag to 9 ± 1nm, 12 ± 1nm, and 15 ± 1nm, and showed the best transmittance when the thickness was 12 ± 1nm.
도 5는 ZTO/Al2O3/Ag/Al2O3/ZTO 다층막 구조에서 ZTO의 두께를 40±3nm, Ag의 두께를 12±1nm로 고정시키고, Al2O3의 두께를 변화시켜 가시광 영역에서의 투과도를 측정한 그래프이다. Al2O3의 두께를 5±2nm, 10±2nm, 15±2nm로 변화시켜 투과도를 측정한 결과 10±2nm일 때 가장 우수한 투과도를 나타내었다. 이러한 결과를 바탕으로 최종 다층막 구조를 도 2와 같이 설계하였다.
5 is a ZTO / Al 2 O 3 / Ag / Al 2 O 3 / ZTO multilayer film structure to fix the thickness of
도 6은 도 1의 구조로 증착된 저방사용 다층 코팅막의 가시광선 및 근적외선 영역에서의 투과율 측정 결과로 적층 횟수가 1, 2, 3회로 증가하면서 가시광선 영역의 평균투과율이 각각 76.2, 61.9, 49.1%로 감소하였다. 6 is an average transmittance of visible light region 76.2, 61.9, 49.1 as the number of lamination is increased to 1, 2, 3 times as a result of measuring the transmittance in the visible and near infrared region of the low-emission multilayer coating film deposited in the structure of FIG. Reduced to%.
적층에 따른 투과율 감소는 박막 두께와 층의 수가 증가함에 따라 표면 거칠기가 증가하여 빛을 산란시키기 때문이다. 반대로 적층 횟수가 증가함에 따라 근적외선 영역의 투과율은 감소하는데, 이는 근적외선 영역에서의 반사율이 높아진다는 것을 뜻하고 결과적으로 적층 횟수가 증가함에 따라 가시광 영역 투과율은 감소하지만 적외선 영역에서의 방사율은 감소하게 된다.
The decrease in transmittance due to lamination is because surface roughness increases as the thickness of the thin film and the number of layers increase to scatter light. On the contrary, as the number of laminations increases, the transmittance in the near infrared region decreases, which means that the reflectance in the near infrared region increases. .
도 7은 도 2의 구조로 증착된 저방사용 다층 코팅막의 가시광선 및 근적외선 영역에서의 투과율 측정 그래프이다. 도 6의 결과와 비교해 보면, Al2O3의 삽입 후 투과율이 다소 감소하였고, 도 6의 결과와 마찬가지로 적층 횟수가 1, 2, 3회로 증가하면서 가시광선 영역의 평균투과율이 각각 75.1, 56.8, 46%로 감소하였다. 적층 횟수의 증가에 따른 투과율 감소 이유는 도 6의 경우와 동일하며 Al2O3의 삽입에 의한 투과율 감소 역시 표면 거칠기의 증가로 설명할 수 있다.
FIG. 7 is a graph illustrating transmittance measurements in the visible and near infrared regions of the low-emission multilayer coating layer deposited with the structure of FIG. 2. Compared with the results of FIG. 6, the transmittance of Al 2 O 3 was slightly decreased after insertion. Similarly to the results of FIG. 6, the number of laminations was increased to 1, 2, and 3 times, so that the average transmittance of visible light region was 75.1, 56.8, Reduced to 46%. The reason for the decrease in transmittance according to the increase in the number of laminations is the same as in the case of FIG. 6, and the decrease in transmittance due to the insertion of Al 2 O 3 may also be explained as the increase in surface roughness.
도 8은 도 1과 도 2의 구조로 증착된 저방사용 다층 코팅막의 표면저항 측정 결과를 비교하여 나타낸 그래프이다. 도 1의 구조로 증착된 다층막의 표면저항 측정결과는 적층 횟수가 1, 2, 3회 일 때 각각 10.8, 8.1, 6.3 ohm/sq.의 값을 나타내었다. Al2O3를 삽입한 도 2의 구조로 증착된 다층막의 경우 적층 횟수가 1, 2, 3회 일 때 각각 9.1, 5.9, 5 ohm/sq.의 값으로 Al2O3의 삽입 전보다 면저항 값이 감소하였다. 적층 횟수에 따른 표면 저항의 감소는 Ag 층의 수가 증가한 것으로 설명할 수 있다.
FIG. 8 is a graph showing surface resistance measurement results of the multi-coating layer coated with the structures of FIGS. 1 and 2. Surface resistance measurement results of the multilayer film deposited with the structure of FIG. 1 showed values of 10.8, 8.1, and 6.3 ohm / sq. When the number of laminations was 1, 2, and 3 times, respectively. Al 2 O 3 the inserted even if of the deposited multi-layer film with the structure of 2 when the stack number is 1, 2, and 3 times, respectively 9.1, 5.9, 5 ohm / sq . Values in sheet resistance than before insertion of the Al 2 O 3 of Decreased. The decrease in the surface resistance with the number of laminations can be explained by the increase in the number of Ag layers.
도 9는 도 1과 도 2의 구조로 증착된 저방사용 다층 코팅막의 적외선(λ=8㎛) 영역 방사율 측정 결과를 비교하여 나타낸 도면이다. 도 1의 구조로 증착된 다층막의 방사율 측정 결과 적층 횟수가 1, 2, 3회 일 때 각각 0.186, 0.132, 0.105의 값을 나타내었다. FIG. 9 is a view showing a comparison of infrared (λ = 8 μm) region emissivity measurement results of a low-emission multilayer coating film deposited with the structures of FIGS. 1 and 2. As a result of measuring the emissivity of the multilayer film deposited with the structure of FIG. 1, when the number of laminations was 1, 2, and 3, the values of 0.186, 0.132, and 0.105 were shown.
그리고, 도 2의 구조로 증착된 다층막의 방사율 측정 결과 적층 횟수가 0.151, 0.104, 0.077의 값으로 Al2O3의 삽입 전보다 감소하였다. As a result of measuring the emissivity of the multilayer film deposited in the structure of FIG. 2, the number of laminations decreased to 0.151, 0.104, and 0.077 as compared to before the insertion of Al 2 O 3 .
보통 방사율은 Ag의 두께가 두꺼울수록 낮은값을 가지게 되는데, 적층 횟수가 증가함에 따라 방사율이 감소하는 이유 역시 Ag층의 수가 증가하기 때문이다.
In general, the emissivity has a lower value as the thickness of Ag increases. The reason why the emissivity decreases as the number of laminations increases is also because the number of Ag layers increases.
도 10은 도 1의 구조로 증착된 저방사용 다층 코팅막의 AES Depth Profile 분석 그래프이다. ZTO와 Ag의 경계면에서 두 물질간의 확산으로 인해 Ag의 원자농도(Atomic concentration)가 약 50% 정도밖에 되지 않는 것을 확인할 수 있다.
10 is an AES Depth Profile analysis graph of the low-emission multi-layer coating film deposited with the structure of FIG. 1. The atomic concentration of Ag is only about 50% due to the diffusion between the two materials at the interface between ZTO and Ag.
도 11은 도 2의 구조로 증착된 저방사용 다층 코팅막의 AES Depth Profile 분석 그래프이다. Al2O3를 ZTO와 Ag사이에 삽입한 결과 Ag의 원자농도(Atomic concentration)이 도 10에 비해 향상되었고, 피크도 좀 더 샤프하게 나타났다.FIG. 11 is an AES Depth Profile analysis graph of the low-emission multi-layer coating film deposited with the structure of FIG. 2. As a result of inserting Al 2 O 3 between ZTO and Ag, the atomic concentration of Ag was improved compared to FIG. 10 and the peaks were sharper.
이는 Al2O3가 ZTO와 Ag의 확산 및 산화를 방지하는 차단(Barrier) 물질로 사용 가능하다는 것을 뜻한다. 또한 이러한 결과를 통해 Al2O3 삽입 후 면저항과 방사율이 낮아지는 것을 설명할 수 있다.
This means that Al 2 O 3 can be used as a barrier material to prevent the diffusion and oxidation of ZTO and Ag. In addition, these results may explain the low sheet resistance and emissivity after Al 2 O 3 insertion.
도 12는 도 1과 도 2의 구조로 증착된 저방사용 다층 코팅막의 색상 측정 결과이다. 도 1의 경우 적층 횟수가 1, 2, 3회 일 때 각각 하늘색, 연보라색, 녹색을 나타내었다. 도 2의 경우에는 적층 횟수가 1, 2, 3회 일 때 각각 하늘색, 카키색, 황색을 나타내었다. 비록 적층 횟수가 증가하면서 투과율은 감소하지만 다양한 색이 구현된 코팅 유리를 얻을 있었고, Al2O3 삽입을 통해서도 좀 더 다양한 색상을 구현할 수 있었다.
FIG. 12 is a color measurement result of a low-emission multi-layer coating film deposited with the structures of FIGS. 1 and 2. In the case of Figure 1 when the number of
Claims (4)
상기 ZTO층, 은층, ZTO층을 구비하는 다층막이 2회 또는 3회 반복하여 적층되는 것을 특징으로 하는 저방사용 다층막.The method of claim 1,
A multi-layer film comprising the ZTO layer, the silver layer, and the ZTO layer is repeatedly laminated two or three times.
상기 ZTO층, Al2O3, 은층(Ag), Al2O3, ZTO층을 구비하는 다층막이 2회 또는 3회 반복하여 적층되는 것을 특징으로 하는 저방사용 다층막.
The method of claim 3, wherein
A low-emission multilayer film, wherein the multilayer film including the ZTO layer, the Al 2 O 3 , the silver layer (Ag), the Al 2 O 3 , and the ZTO layer is repeatedly stacked two or three times.
Priority Applications (1)
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| KR1020120066638A KR101316536B1 (en) | 2012-06-21 | 2012-06-21 | Multi-layer thin film for low-emissivity |
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Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11307987A (en) * | 1998-04-16 | 1999-11-05 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Electromagnetic wave filter |
| KR100406442B1 (en) | 2001-05-17 | 2003-11-19 | 한국과학기술연구원 | Wave-length selective multi-layered transparent conducting thin films |
| KR100993775B1 (en) * | 2008-04-01 | 2010-11-12 | 한국전자통신연구원 | Composition for Etching Multilayer Conductive Thin Film and Method for Etching Multilayer Conductive Thin Film Using the Same |
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2012
- 2012-06-21 KR KR1020120066638A patent/KR101316536B1/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (3)
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