KR101304267B1 - Colored radiation-sensitive composition, method of manufacturing color filter, color filter, and solid-state imaging sensor - Google Patents

Colored radiation-sensitive composition, method of manufacturing color filter, color filter, and solid-state imaging sensor Download PDF

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Abstract

(과제) 우수한 막두께 균일성을 나타내고, 내열성이 우수하고, 색이동, 색불균일을 저감시킨 착색 패턴을 형성할 수 있는 착색 감방사선성 조성물을 제공한다.
(해결수단) (A) C.I. 피그먼트 오렌지 71, (B) 하기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물을 공중합 성분으로서 포함하는 바인더, (C) 중합성 화합물, 및 (D) 광중합 개시제를 함유하는 착색 감방사선성 조성물.

Figure 112012003313861-pat00051
(Problem) Provides the colored radiation-sensitive composition which shows the outstanding film thickness uniformity, is excellent in heat resistance, and can form the coloring pattern which reduced the color shift and color nonuniformity.
(Solution) A binder containing (A) CI Pigment Orange 71, (B) a compound represented by the following General Formula (1) as a copolymerization component, (C) a polymerizable compound, and (D) a photopolymerization initiator. Colored radiation-sensitive composition.
Figure 112012003313861-pat00051

Description

착색 감방사선성 조성물, 컬러필터의 제조 방법, 컬러필터, 및 고체 촬상 소자{COLORED RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, METHOD OF MANUFACTURING COLOR FILTER, COLOR FILTER, AND SOLID-STATE IMAGING SENSOR}Colored radiation-sensitive composition, manufacturing method of color filter, color filter, and solid-state image sensor {COLORED RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, METHOD OF MANUFACTURING COLOR FILTER, COLOR FILTER, AND SOLID-STATE IMAGING SENSOR}

본 발명은 착색 감방사선성 조성물, 상기 착색 감방사선성 조성물을 사용한 컬러필터의 제조 방법, 컬러필터, 및 고체 촬상 소자에 관한 것이다.The present invention relates to a colored radiation-sensitive composition, a method for producing a color filter using the colored radiation-sensitive composition, a color filter, and a solid-state imaging device.

컬러필터(color filter)는 액정 디스플레이(liquid crystal display)나 고체 촬상 소자(solid-state imaging sensor)에 불가결한 구성부품이다.Color filters are indispensable components for liquid crystal displays or solid-state imaging sensors.

이러한 컬러필터는 복수 색상의 착색 패턴으로 구성되고, 통상은 적어도 적색, 녹색, 및 청색의 착색 영역(이하, 「착색 패턴」이나 「착색 화소」라고도 한다)이 형성되어 있다. 이 형성 방법으로서는 우선 제 1 색상에 있어서 적색, 녹색, 및 청색 중 어느 하나의 착색제를 함유하는 경화성 조성물을 도포하고, 노광, 현상, 필요에 따라 가열 처리를 행해서 상기 색상의 착색 패턴을 형성한 후, 제 2 색상, 제 3 색상에 있어서 동일한 도포, 노광, 현상, 필요에 따른 가열 처리의 프로세스를 반복하게 된다.Such a color filter is composed of a coloring pattern of a plurality of colors, and at least red, green, and blue coloring regions (hereinafter, also referred to as "coloring patterns" or "coloring pixels") are formed. As this formation method, after first apply | coating the curable composition containing the coloring agent of any one of red, green, and blue in a 1st color, performing exposure, image development, and heat processing as needed, and forming the coloring pattern of the said color. In the second and third colors, the same coating, exposure, development, and heat treatment processes as necessary are repeated.

최근에서는 액정 디스플레이나 고체 촬상 소자 중 어느 것에 있어서나 해상도 향상을 목적으로 해서 미세한 착색 패턴(예를 들면, 고체 촬상 소자에서는 한 변이 2.0㎛ 이하인 착색 패턴)을 재현성 좋게 형성하는 것이 요구되며, 동시에 착색 패턴의 막두께도 박막화(예를 들면, 고체 촬상 소자에서는 막두께 1㎛ 이하)하는 것이 요구되고 있다.In recent years, it is required to form a fine colored pattern (for example, a colored pattern of which one side is 2.0 µm or less in a solid-state imaging device) with good reproducibility for the purpose of improving the resolution in either the liquid crystal display or the solid-state imaging device. The film thickness of a pattern is also required to be thin (for example, 1 micrometer or less in film thickness in a solid-state image sensor).

이러한 문제를 감안하여, 종래부터 여러가지 검토가 이루어지고 있다(예를 들면, 일본 특허 공개 2009-151274호 공보, 일본 특허 공개 2009-216952호 공보, 일본 특허 공개 2010-85457호 공보, 일본 특허 공개 2006-161035호 공보, 일본 특허 공개 2008-268943호 공보 등). 그러나, 더욱 양호한 막두께 균일성을 나타내고, 내열성이 우수한 착색 패턴을 형성할 수 있는 착색 감방사선성 조성물의 개발이 강하게 요구되고 있다.In view of such a problem, various studies have been made in the past (for example, Japanese Patent Laid-Open No. 2009-151274, Japanese Patent Laid-Open No. 2009-216952, Japanese Patent Laid-Open No. 2010-85457, and Japanese Patent Laid-Open 2006) -161035, Japanese Patent Laid-Open No. 2008-268943, and the like. However, there is a strong demand for the development of a colored radiation-sensitive composition which can exhibit more favorable film thickness uniformity and can form a colored pattern excellent in heat resistance.

본 발명은 상기 점을 감안하여 이루어진 것이며, 이하의 목적을 달성하는 것을 과제로 한다.This invention is made | formed in view of the said point, and makes it a subject to achieve the following objectives.

즉, 본 발명의 목적은 우수한 막두께 균일성을 나타내고, 내열성이 우수하고, 색이동 및 색불균일을 저감한 착색 패턴을 형성할 수 있는 착색 감방사선성 조성물을 제공하는 것에 있다. 또한, 박층화된 경우라도 내열성이 우수하고, 색이동 및 색불균일이 적은 착색 패턴을 갖는 컬러필터, 상기 컬러필터의 제조 방법, 및 상기 컬러필터를 구비하는 고체 촬상 소자를 제공하는 것에 있다.That is, it is an object of the present invention to provide a colored radiation-sensitive composition which can exhibit excellent film thickness uniformity, is excellent in heat resistance, and can form a colored pattern with reduced color shift and color unevenness. Moreover, even if it is thin, it is providing the color filter which is excellent in heat resistance, has a color pattern with little color shift and color nonuniformity, the manufacturing method of the said color filter, and the solid-state image sensor provided with the said color filter.

본 발명자들은 상기 실정을 감안하여 예의 연구를 행한 결과, (A) 착색제, (B) 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물을 공중합 성분으로서 포함하는 바인더, (C) 중합성 화합물, 및 (D) 광중합 개시제를 함유하고, (A) 착색제로서 C.I. 피그먼트 오렌지 71을 함유하는 착색 감방사선성 조성물에 의해 상기 과제가 해결되는 것을 찾아내고, 본 발명을 완성시켰다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM The present inventors earnestly researched in view of the said situation, As a result, the binder which contains the compound represented by (A) coloring agent, (B) General formula (1) as a copolymerization component, (C) polymeric compound, and (D) It contains a photoinitiator, and (A) CI as a coloring agent It was found that the said subject was solved by the coloring radiation sensitive composition containing pigment orange 71, and completed this invention.

즉, 상기 과제를 해결하기 위한 수단은 이하와 같다.Means for solving the above problems are as follows.

<1> (A) C.I. 피그먼트 오렌지 71, (B) 하기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물을 공중합 성분으로서 포함하는 바인더, (C) 중합성 화합물, 및 (D) 광중합 개시제를 함유하는 착색 감방사선성 조성물.<1> (A) C.I. Pigment orange 71, (B) Colored radiation-sensitive composition containing the binder represented by following General formula (1) as a copolymerization component, (C) polymeric compound, and (D) photoinitiator.

Figure 112012003313861-pat00001
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일반식(1) 중, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소원자 또는 알킬기를 나타낸다.In General Formula (1), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group.

<2> <1>에 있어서, 상기 (B) 바인더가 아릴(메타)아크릴레이트, 또는 알킬(메타)아크릴레이트를 중합성 성분으로서 더 포함하는 바인더인 착색 감방사선성 조성물.<2> The colored radiation-sensitive composition according to <1>, wherein the (B) binder is a binder further containing aryl (meth) acrylate or alkyl (meth) acrylate as the polymerizable component.

<3> <1>에 있어서, 상기 (B) 바인더가 (메타)아크릴산을 중합성 성분으로서 더 포함하는 바인더인 착색 감방사선성 조성물.<3> The colored radiation-sensitive composition according to <1>, wherein the (B) binder is a binder further containing (meth) acrylic acid as a polymerizable component.

<4> <2>에 있어서, 상기 (B) 바인더가 (메타)아크릴산을 중합성 성분으로서 더 포함하는 바인더인 착색 감방사선성 조성물.<4> The colored radiation-sensitive composition according to <2>, wherein the (B) binder is a binder further containing (meth) acrylic acid as a polymerizable component.

<5> <1>∼<4> 중 어느 하나에 있어서, 레드 안료를 더 포함하는 착색 감방사선성 조성물.<5> The colored radiation-sensitive composition in any one of <1>-<4> which further contains a red pigment.

<6> <1>∼<5> 중 어느 하나에 있어서, 옐로 안료를 더 포함하는 착색 감방사선성 조성물.<6> The colored radiation-sensitive composition in any one of <1>-<5> which further contains a yellow pigment.

<7> <1>∼<6> 중 어느 하나에 있어서, 상기 (D) 광중합 개시제가 옥심 화합물인 착색 감방사선성 조성물.<7> The colored radiation-sensitive composition in any one of <1>-<6> whose said (D) photoinitiator is an oxime compound.

<8> <1>∼<7> 중 어느 하나에 기재된 착색 감방사선성 조성물을 경화해서 얻어진 착색 경화막.<8> Colored cured film obtained by hardening | curing the colored radiation-sensitive composition in any one of <1>-<7>.

<9> <8>에 기재된 착색 경화막을 구비한 컬러필터.<9> Color filter provided with the colored cured film as described in <8>.

<10> <1>∼<7> 중 어느 하나에 기재된 착색 감방사선성 조성물을 기판 상에 부여해서 착색 감방사선성 조성물층을 형성하는 착색 감방사선성 조성물층 형성 공정과, 상기 착색 감방사선성 조성물층을 패턴모양으로 노광하는 노광 공정과, 노광 후의 상기 착색 감방사선성 조성물층을 현상해서 착색 패턴을 형성하는 착색 패턴 형성 공정을 포함하는 패턴 형성 방법.<10> The colored radiation-sensitive composition layer forming process which gives the colored radiation-sensitive composition in any one of <1>-<7> on a board | substrate, and forms a colored radiation-sensitive composition layer, and the said colored radiation-sensitive property The pattern formation method containing the exposure process which exposes a composition layer in a pattern form, and the coloring pattern formation process which develops the said colored radiation-sensitive composition layer after exposure, and forms a coloring pattern.

<11> <1>∼<7> 중 어느 하나에 기재된 착색 감방사선성 조성물을 기판 상에 부여해서 착색 감방사선성 조성물층을 형성하는 착색 감방사선성 조성물층 형성 공정과, 상기 착색 감방사선성 조성물층을 패턴모양으로 노광하는 노광 공정과, 노광 후의 상기 착색 감방사선성 조성물층을 현상해서 착색 패턴을 형성하는 착색 패턴 형성 공정을 갖는 컬러필터의 제조 방법.<11> The colored radiation-sensitive composition layer forming process of providing the colored radiation-sensitive composition in any one of <1>-<7> on a board | substrate, and forming a colored radiation-sensitive composition layer, and the said colored radiation-sensitive property The manufacturing method of the color filter which has an exposure process which exposes a composition layer in a pattern form, and the coloring pattern formation process which develops the said colored radiation-sensitive composition layer after exposure, and forms a coloring pattern.

<12> <9>에 기재된 컬러필터를 구비하는 고체 촬상 소자.<12> Solid-state image sensor provided with the color filter as described in <9>.

더욱 바람직한 형태로서 C.I. 피그먼트 옐로 139를 더 포함하는 착색 감방사선성 조성물을 들 수 있다. 또한, 다른 바람직한 형태로서 C.I. 피그먼트 레드 254를 더 포함하는 착색 감방사선성 조성물을 들 수 있다.As a more preferred form, C.I. The colored radiation-sensitive composition which further contains Pigment Yellow 139 is mentioned. In addition, as another preferred form, C.I. The colored radiation-sensitive composition which further contains Pigment Red 254 is mentioned.

(발명의 효과)(Effects of the Invention)

본 발명에 의하면, 우수한 막두께 균일성을 나타내고, 내열성이 우수하고, 색이동, 색불균일을 저감시킨 착색 패턴을 형성할 수 있는 착색 감방사선성 조성물을 제공할 수 있다. 또한, 본 발명에 의하면, 박층화된 경우라도 내열성이 우수하고, 색이동, 색불균일이 적은 착색 패턴을 갖는 컬러필터, 상기 컬러필터의 제조 방법, 및 상기 컬러필터를 구비하는 고체 촬상 소자를 제공할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the coloring radiation sensitive composition which shows the outstanding film thickness uniformity, is excellent in heat resistance, and can form the coloring pattern which reduced the color shift and color nonuniformity can be provided. Moreover, according to this invention, even if it is thin, it provides the color filter which is excellent in heat resistance, and has a color pattern with little color shift and color unevenness, the manufacturing method of the said color filter, and the solid-state image sensor provided with the said color filter. can do.

이하에 본 발명의 착색 감방사선성 조성물, 컬러필터, 컬러필터의 제조 방법, 고체 촬상 소자, 및 액정 표시 장치에 대해서 상세하게 설명한다. 이하에 기재하는 구성 요건의 설명은 본 발명의 대표적인 실시형태에 의거해서 이루어지는 경우가 있지만, 본 발명은 그러한 실시형태에 한정되는 것은 아니다. Hereinafter, the colored radiation-sensitive composition, the color filter, the manufacturing method of a color filter, a solid-state image sensor, and a liquid crystal display device of this invention are demonstrated in detail. Although description of the element | module described below may be made | formed based on typical embodiment of this invention, this invention is not limited to such embodiment.

또한, 본 명세서에 있어서 「∼」를 사용해서 나타내어지는 수치범위는 「∼」의 전후에 기재되는 수치를 하한값 및 상한값으로서 포함하는 범위를 의미한다.In addition, the numerical range represented using "-" in this specification means the range which includes the numerical value described before and after "-" as a lower limit and an upper limit.

본 명세서에 있어서는 「알킬기」는 「직쇄, 분기, 및 환상」의 알킬기를 나타내고, 또 치환기로 치환되어 있어도, 무치환이어도 좋다.In this specification, an "alkyl group" represents the alkyl group of "linear, branched, and cyclic", and may be substituted by the substituent, or may be unsubstituted.

또한, 본 명세서에 있어서, "(메타)아크릴레이트"는 아크릴레이트 및 메타크릴레이트의 쌍방, 또는 어느 하나를 나타내고, "(메타)아크릴"은 아크릴 및 메타크릴의 쌍방, 또는 어느 하나를 나타내고, "(메타)아크릴로일"은 아크릴로일 및 메타크릴로일의 쌍방, 또는 어느 하나를 나타낸다.In addition, in this specification, "(meth) acrylate" shows both an acrylate and a methacrylate, or either, and "(meth) acryl" shows both an acryl and methacryl, or either, "(Meth) acryloyl" shows both or acryloyl and methacryloyl.

또한, 본 명세서에 있어서, "단량체"와 "모노머"는 동의이다. 본 명세서에 있어서의 단량체는 올리고머 및 폴리머로 구별되고, 중량 평균 분자량이 2,000 이하인 화합물을 말한다. 본 명세서에 있어서, 중합성 화합물이란 중합성 관능기를 갖는 화합물을 말하고, 단량체이어도, 폴리머이어도 좋다. 중합성 관능기란 중합 반응에 관여하는 기를 말한다.In addition, in this specification, a "monomer" and a "monomer" are synonymous. Monomers in the present specification are distinguished from oligomers and polymers and refer to compounds having a weight average molecular weight of 2,000 or less. In the present specification, the polymerizable compound refers to a compound having a polymerizable functional group, and may be a monomer or a polymer. The polymerizable functional group refers to a group involved in the polymerization reaction.

본 명세서에 있어서 「공정」이라는 말은 독립된 공정뿐만 아니라, 다른 공정과 명확히 구별할 수 없는 경우이어도 그 공정의 소기의 작용이 달성되면 본 용어에 포함된다.In the present specification, the term "process" is included in the term as long as the desired action of the process is achieved, even if the process is not clearly distinguishable from other processes.

본 발명에 있어서 「방사선」이란 가시광선, 자외선, 원자외선, 전자선, X선 등을 포함하는 것을 의미한다.In the present invention, the term &quot; radiation &quot; means that it includes visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, electron beam, X-ray and the like.

본 발명은 (A) C.I. 피그먼트 오렌지 71, (B) 하기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물을 공중합 성분으로서 포함하는 바인더, (C) 중합성 화합물, 및 (D) 광중합 개시제를 함유하는 착색 감방사선성 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to (A) C.I. Pigment Orange 71, (B) It relates to the colored radiation-sensitive composition containing the binder represented by following General formula (1) as a copolymerization component, (C) polymeric compound, and (D) photoinitiator. .

본 발명의 착색 감방사선성 조성물은 (A) C.I. 피그먼트 오렌지 71, (B) 하기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물을 공중합 성분으로서 포함하는 바인더, (C) 중합성 화합물, 및 (D) 광중합 개시제를 함유함으로써 안료에의 바인더의 흡착량이 증대되어 안료 입자간의 응집 및 열에 의한 분산 불안정화를 방지할 수 있기 때문에 우수한 막두께 균일성을 나타내고, 내열성이 우수하다고 생각된다. 그 때문에, 본 발명의 착색 감방사선성 조성물은 막두께 균일성 및 내열성이 양호한 컬러필터를 제공하는 것을 가능하게 한다.The colored radiation-sensitive composition of the present invention is (A) C.I. Pigment Orange 71, (B) Adsorption amount of the binder to a pigment is increased by containing the binder represented by following General formula (1) as a copolymerization component, (C) polymeric compound, and (D) photoinitiator. Since it can prevent aggregation between pigment particles and dispersion instability by heat, it is considered that it shows the outstanding film thickness uniformity and is excellent in heat resistance. Therefore, the colored radiation-sensitive composition of the present invention makes it possible to provide a color filter having good film thickness uniformity and heat resistance.

≪착색 감방사선성 조성물≫≪Colored radiation-sensitive composition≫

본 발명의 착색 감방사선성 조성물은 (A) C.I. 피그먼트 오렌지 71, (B) 하기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물을 공중합 성분으로서 포함하는 바인더, (C) 중합성 화합물, 및 (D) 광중합 개시제를 포함하고, 필요에 따라서 다른 성분을 더 포함하고 있어도 좋다.The colored radiation-sensitive composition of the present invention is (A) C.I. Pigment Orange 71, (B) A binder comprising the compound represented by the following general formula (1) as a copolymerization component, (C) a polymerizable compound, and (D) a photoinitiator, and further other components as needed You may include it.

<(A) C.I. 피그먼트 오렌지 71><(A) C.I. Pigment Orange 71>

본 발명의 착색 감방사선성 조성물은 C.I. 피그먼트 오렌지 71(「C.I. Pigment Orange 71」 「CIPO71」 「PO71」라고도 표기한다. 다른 안료에 대해서도 같다)을 함유한다. The colored radiation-sensitive composition of the present invention is C.I. Pigment orange 71 (also referred to as "C.I. Pigment Orange 71", "CIPO71" and "PO71". The same applies to other pigments).

본 발명의 착색 감방사선성 조성물에서는 C.I. 피그먼트 오렌지 71과, C.I. 피그먼트 오렌지 71 이외의 그 밖의 안료를 병용해도 좋다.In the colored radiation-sensitive composition of the present invention, C.I. Pigment Orange 71 and C.I. You may use together other pigments other than pigment orange 71.

특히, 본 발명에 의한 효과를 보다 효과적으로 얻는 관점에서 본 발명의 착색 감방사선성 조성물은 상기 C.I. 피그먼트 오렌지 71과, 그 밖의 안료로서 레드 안료(바람직하게는 C.I. 피그먼트 레드 254, C.I. 피그먼트 레드 177 또는 C.I. 피그먼트 레드 224)를 더 포함하는 것이 바람직하다.In particular, the colored radiation-sensitive composition of the present invention is the above C.I. Pigment Orange 71 and a red pigment (preferably C. I. Pigment Red 254, C. I. Pigment Red 177 or C. I. Pigment Red 224) are preferably included as other pigments.

본 발명에 있어서 레드 안료로서는 컬러 인덱스(C.I.;The Society of Dyers and Colourists사 발행. 이하 동일)에 있어서 C.I. 피그먼트 레드로 나타내어지는 안료를 들 수 있다.In the present invention, the red pigment is C.I. in a color index (C.I .; issued by The Society of Dyers and Colorists. The pigment represented by pigment red is mentioned.

또한, 본 발명에 의한 효과를 보다 효과적으로 얻는 관점에서 본 발명의 착색 감방사선성 조성물은 상기 C.I. 피그먼트 오렌지 71과, 그 밖의 안료로서 옐로 안료(바람직하게는 피그먼트 옐로 138, 피그먼트 옐로 139, 피그먼트 옐로 150, 또는 피그먼트 옐로 185)를 더 포함하는 것이 바람직하다.Moreover, from the viewpoint of obtaining the effect by this invention more effectively, the colored radiation-sensitive composition of this invention is the said C.I. It is preferable to further include Pigment Orange 71 and a yellow pigment (preferably Pigment Yellow 138, Pigment Yellow 139, Pigment Yellow 150, or Pigment Yellow 185) as other pigments.

본 발명에 있어서 옐로 안료로서는 컬러 인덱스에 있어서 C.I. 피그먼트 옐로로 나타내어지는 안료를 들 수 있다.In the present invention, as a yellow pigment, C.I. And pigments represented by pigment yellow.

특히 바람직하게는 본 발명의 착색 감방사선성 조성물이 상기 C.I. 피그먼트 오렌지 71과, 그 밖의 안료로서 레드 안료 및 황색 안료를 더 포함하는 형태이다.Especially preferably, the colored radiation-sensitive composition of the present invention is the C.I. It is a form which further contains Pigment Orange 71 and a red pigment and a yellow pigment as other pigment.

본 발명에 있어서 C.I. 피그먼트 오렌지 71과 병용할 수 있는 상기 그 밖의 안료는 종래 공지의 각종 무기안료 또는 유기안료를 적당히 선택해서 사용할 수 있다. 본 발명의 안료 분산 조성물이 바람직하게 사용되는 컬러필터가 고투과율인 것이 바람직한 것 등을 고려하면 유기안료가 바람직하고, 또한 안료의 입자 사이즈로서는 가능한 한 입자 사이즈가 작은 것을 사용하는 것이 바람직하다.C.I. in the present invention. The said other pigment which can be used together with pigment orange 71 can use suitably the various conventionally well-known inorganic pigments or organic pigments. Considering that the color filter in which the pigment dispersion composition of the present invention is preferably used is preferably a high transmittance, an organic pigment is preferable, and the particle size of the pigment is preferably used as small as possible.

상기 무기안료로서는 금속 산화물, 또는 금속착염 등으로 나타내어지는 금속화합물을 들 수 있고, 구체적으로는 철, 코발트, 알루미늄, 카드뮴, 납, 구리, 티타늄, 마그네슘, 크롬, 아연, 안티몬, 은 등의 금속 산화물, 및 상기 금속의 복합 산화물을 들 수 있다. 또한, 티타늄의 질화물, 은주석 화합물, 은 화합물 등도 사용할 수 있다.Examples of the inorganic pigment include metal compounds represented by metal oxides or metal complex salts, and specifically, metals such as iron, cobalt, aluminum, cadmium, lead, copper, titanium, magnesium, chromium, zinc, antimony and silver. Oxide, and the complex oxide of the said metal is mentioned. In addition, nitrides of titanium, silver tin compounds, silver compounds and the like can also be used.

상기 유기안료로서는 예를 들면,As said organic pigment, for example,

C.I.Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 9, 10, 14, 17, 22, 23, 31, 38, 41, 48:1, 48:2, 48:3, 48:4, 49, 49:1, 49:2, 52:1, 52:2, 53:1, 57:1, 60:1, 63:1, 66, 67, 81:1, 81:2, 81:3, 83, 88, 90, 105, 112, 119, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 155, 168, 169, 170, 171, 172, 175, 176, 177, 178, 179, 184, 185, 187, 188, 190, 200, 202, 206, 207, 208, 209, 210, 216, 220, 224, 226, 242, 246, 254, 255, 264, 270, 272, 279,CIPigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 9, 10, 14, 17, 22, 23, 31, 38, 41, 48: 1, 48: 2, 48: 3, 48: 4 , 49, 49: 1, 49: 2, 52: 1, 52: 2, 53: 1, 57: 1, 60: 1, 63: 1, 66, 67, 81: 1, 81: 2, 81: 3 , 83, 88, 90, 105, 112, 119, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 155, 168, 169, 170, 171, 172, 175, 176, 177, 178, 179, 184, 185 , 187, 188, 190, 200, 202, 206, 207, 208, 209, 210, 216, 220, 224, 226, 242, 246, 254, 255, 264, 270, 272, 279,

C.I.Pigment Yellow 1, 2, 3, 4, 5, 6, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 20, 24, 31, 32, 34, 35, 35:1, 36, 36:1, 37, 37:1, 40, 42, 43, 53, 55, 60, 61, 62, 63, 65, 73, 74, 77, 81, 83, 86, 93, 94, 95, 97, 98, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 115, 116, 117, 118, 119, 120, 123, 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 161, 162, 164, 166, 167, 168, 169, 170, 171, 172, 173, 174, 175, 176, 177, 179, 180, 181, 182, 185, 187, 188, 193, 194, 199, 213, 214CIPigment Yellow 1, 2, 3, 4, 5, 6, 10, 11, 12,13,14,15,16,17,18,20,24,31,32,34,35,35,13,36 , 36: 1, 37, 37: 1, 40, 42, 43, 53, 55, 60, 61, 62, 63, 65, 73, 74, 77, 81, 83, 86, 93, 94, 95, 97 , 98, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 115, 116, 117, 118, 119, 120, 123, 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139 , 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 161, 162, 164, 166, 167, 168, 169, 170, 171, 172, 173, 174, 175, 176, 177, 179 , 180, 181, 182, 185, 187, 188, 193, 194, 199, 213, 214

C.I. Pigment Orange 2, 5, 13, 16, 17:1, 31, 34, 36, 38, 43, 46, 48, 49, 51, 52, 55, 59, 60, 61, 62, 64, 73C.I. Pigment Orange 2, 5, 13, 16, 17: 1, 31, 34, 36, 38, 43, 46, 48, 49, 51, 52, 55, 59, 60, 61, 62, 64, 73

C.I. Pigment Green 7, 10, 36, 37, 58C.I. Pigment Green 7, 10, 36, 37, 58

C.I.Pigment Blue 1, 2, 15, 15:1, 15:2, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 22, 60, 64, 66, 79, 79의 Cl 치환기를 OH로 변경한 것, 80The CI substituents of CIPigment Blue 1, 2, 15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 22, 60, 64, 66, Thing, 80

C.I.Pigment Violet 1, 19, 23, 27, 32, 37, 42C. I. Pigment Violet 1, 19, 23, 27, 32, 37, 42

C.I.Pigment Brown 25, 28C. I. Pigment Brown 25, 28

C.I.Pigment Black 1 등을 들 수 있다.C.I. Pigment Black 1 etc. are mentioned.

이들 중에서 바람직하게 사용할 수 있는 안료로서 이하의 것을 들 수 있다. 단, 본 발명에 있어서는 이들에 한정되는 것은 아니다.Among these, the following can be mentioned as a pigment which can be used preferably. However, in this invention, it is not limited to these.

C.I.Pigment Yellow 11, 24, 108, 109, 110, 138, 139, 150, 151, 154, 167, 180, 185,C.I. Pigment Yellow 11, 24, 108, 109, 110, 138, 139, 150, 151, 154, 167, 180, 185,

C.I. Pigment Orange 36,C.I. Pigment Orange 36,

C.I.Pigment Red 122, 150, 171, 175, 177, 209, 224, 242, 254, 255, 264,C.I. Pigment Red 122, 150, 171, 175, 177, 209, 224, 242, 254, 255, 264,

C.I.Pigment Violet 19, 23, 32,C.I. Pigment Violet 19, 23, 32,

C.I.Pigment Blue 15:1, 15:3, 15:6, 16, 22, 60, 66,C.I.Pigment Blue 15: 1, 15: 3, 15: 6, 16, 22, 60, 66,

C.I.Pigment Green 7, 36, 37, 58C.I.Pigment Green 7, 36, 37, 58

C.I.Pigment Black 1C.I.Pigment Black 1

이들 유기안료는 단독으로 또는 색순도를 올리기 위해서 여러가지 조합해서 사용할 수 있다.These organic pigments may be used alone or in combination in order to increase the color purity.

또한, 사용되는 전체 안료 중 오렌지 안료가 차지하는 비율(상기 C.I. 피그먼트 오렌지 71 및 소망에 의해 사용되는 그 밖의 오렌지 안료의 총량)은 25질량%∼95질량%가 바람직하다. 95질량% 이상에서는 400nm로부터 500nm의 광투과율을 억제하는 것이 곤란하여 색순도를 올릴 수 없는 경우가 있다. 또 25질량% 이하에서는 발색력이 내려가는 경우가 있다. 특히, 상기 질량비로서는 30질량%∼90질량%의 범위가 최적이다. 또한, 오렌지 안료끼리의 조합의 경우는 색도에 맞춰서 조정할 수 있다.Moreover, 25 mass%-95 mass% of the ratio (total amount of said C.I. pigment orange 71 and the other orange pigment used by desire) which an orange pigment occupies among all the pigment used is preferable. When it is 95 mass% or more, it is difficult to suppress the light transmittance of 400 nm to 500 nm, and color purity may not be raised. Moreover, the coloring power may fall at 25 mass% or less. Especially as said mass ratio, the range of 30 mass%-90 mass% is optimal. In addition, in the case of the combination of orange pigments, it can adjust to chromaticity.

착색 감방사선성 조성물에 함유되는 착색제로서 사용할 수 있는 염료는 특별히 제한은 없고, 종래 컬러필터용으로서 공지의 염료를 사용할 수 있다. 예를 들면, 피라졸아조계, 아닐리노아조계, 트리페닐메탄계, 안트라퀴논계, 안트라피리돈계, 벤질리덴계, 옥소놀계, 피라졸로트리아졸아조계, 피리돈아조계, 시아닌계, 페노티아진계, 피롤로피라졸아조메틴계, 크산텐계, 프탈로시아닌계, 벤조피란계, 인디고계, 피로메텐계 등의 염료를 사용할 수 있다. 또한, 이들 염료의 다량체를 사용해도 좋다.The dye which can be used as the colorant contained in the colored radiation-sensitive composition is not particularly limited, and conventionally known dyes can be used for the color filter. For example, pyrazole azo type, anilinoazo type, triphenylmethane type, anthraquinone type, anthrapyridone type, benzylidene type, oxonol type, pyrazolotriazole azo type, pyridone azo type, cyanine type, phenothiazine type, pi Dyestuffs, such as a rolopyrazole azomethine type, a xanthene type, a phthalocyanine type, a benzopyran type, an indigo type, a pyrromethene type, can be used. Further, a multimer of these dyes may be used.

또한, 수현상 또는 알칼리 현상을 행할 경우, 현상에 의해 광미조사부의 바인더 및/또는 염료를 완전히 제거한다는 관점에서는 산성 염료 및/또는 그 유도체를 바람직하게 사용할 수 있는 경우가 있다.In addition, when performing water development or alkali development, an acid dye and / or its derivative may be preferably used from a viewpoint of completely removing the binder and / or dye of the tailings irradiation part by image development.

그 외, 직접 염료, 염기성 염료, 매염염료, 산성 매염염료, 아조익염료, 분산 염료, 유용염료, 식품염료, 및/또는 이들의 유도체 등도 유용하게 사용할 수 있다.In addition, direct dyes, basic dyes, mordant dyes, acid mordant dyes, azoic dyes, disperse dyes, useful dyes, food dyes, and / or derivatives thereof may also be usefully used.

이하에 산성 염료의 구체예를 들지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, acid alizarin violet N; acid black 1, 2, 24, 48; acid blue 1, 7, 9, 15, 18, 23, 25, 27, 29, 40∼45, 62, 70, 74, 80, 83, 86, 87, 90, 92, 103, 112, 113, 120, 129, 138, 147, 158, 171, 182, 192, 243, 324:1; acid chrome violet K; acid Fuchsin; acid green 1, 3, 5, 9, 16, 25, 27, 50; acid orange 6, 7, 8, 10, 12, 50, 51, 52, 56, 63, 74, 95; acid red 1, 4, 8, 14, 17, 18, 26, 27, 29, 31, 34, 35, 37, 42, 44, 50, 51, 52, 57, 66, 73, 80, 87, 88, 91, 92, 94, 97, 103, 111, 114, 129, 133, 134, 138, 143, 145, 150, 151, 158, 176, 183, 198, 211, 215, 216, 217, 249, 252, 257, 260, 266, 274; acid violet 6B, 7, 9, 17, 19; acid yellow 1, 3, 7, 9, 11, 17, 23, 25, 29, 34, 36, 42, 54, 72, 73, 76, 79, 98, 99, 111, 112, 114, 116, 184, 243; Food Yellow 3; 및 이들 염료의 유도체를 들 수 있다.Specific examples of the acidic dyes are given below, but the present invention is not limited thereto. For example, acid alizarin violet N; acid black 1, 2, 24, 48; acid blue 1, 7, 9, 15, 18, 23, 25, 27, 29, 40-45, 62, 70, 74, 80, 83, 86, 87, 90, 92, 103, 112, 113, 120, 129, 138, 147, 158, 171, 182, 192, 243, 324: 1; acid chrome violet K; acid Fuchsin; acid green 1, 3, 5, 9, 16, 25, 27, 50; acid orange 6, 7, 8, 10, 12, 50, 51, 52, 56, 63, 74, 95; acid red 1, 4, 8, 14, 17, 18, 26, 27, 29, 31, 34, 35, 37, 42, 44, 50, 51, 52, 57, 66, 73, 91, 92, 94, 97, 103, 111, 114, 129, 133, 134, 138, 143, 145, 150, 151, 158, 176, 183, 198, 211, 215, 216, 217, 249, 252, 257, 260, 266, 274; acid violet 6B, 7, 9, 17, 19; acid yellow 1, 3, 7, 9, 11, 17, 23, 25, 29, 34, 36, 42, 54, 72, 73, 76, 79, 98, 99, 111, 112, 114, 243; Food Yellow 3; And derivatives of these dyes.

또한, 상기 이외의 아조계, 크산텐계, 프탈로시아닌계의 산성 염료도 바람직하고, C.I.Solvent Blue 44, 38; C.I.Solvent orange 45; Rhodamine B, Rhodamine 110 등의 산성 염료 및 이들 염료의 유도체도 바람직하게 사용된다.Moreover, the azo-type, xanthene type, and phthalocyanine-type acid dye of that excepting the above is also preferable, C.I. Solvent Blue 44, 38; C.I. Solvent orange 45; Acid dyes such as Rhodamine B, Rhodamine 110 and derivatives of these dyes are also preferably used.

그 중에서도, 착색제로서는 트리알릴메탄계, 안트라퀴논계, 아조메틴계, 벤질리덴계, 옥소놀계, 시아닌계, 페노티아진계, 피롤로피라졸아조메틴계, 크산텐계, 프탈로시아닌계, 벤조피란계, 인디고계, 피라졸아조계, 아닐리노아조계, 피라졸로트리아졸아조계, 피리돈아조계, 안트라피리돈계, 피로메텐계로부터 선택되는 착색제인 것이 바람직하다. 또한, 상기 착색제는 다량체이어도 좋다. Especially, as a coloring agent, triallyl methane type, anthraquinone type, azomethine type, benzylidene type, oxonol type, cyanine type, phenothiazine type, pyrrolopyrazole azomethine type, xanthene type, phthalocyanine type, benzopyran type, It is preferable that it is a coloring agent chosen from an indigo system, a pyrazole azo system, an anilino azo system, a pyrazolotriazole azo system, a pyridone azo system, an anth pyridone system, and a pyrromethene system. Moreover, the said coloring agent may be a multimer.

또한, 안료와 염료를 조합해서 사용해도 좋다.Moreover, you may use combining a pigment and dye.

착색 감방사선성 조성물에 있어서 C.I. 피그먼트 오렌지 71에 혼합할 수 있는 착색제는 안료, 또는 염료인 것이 바람직하다. 특히, 평균 입자지름(r)이 20nm≤r≤300nm, 바람직하게는 125nm≤r≤250nm, 특히 바람직하게는 30nm≤r≤200nm를 충족시키는 안료가 바람직하다. 이러한 평균 입자지름의 안료를 사용함으로써 고콘트라스트비이며, 또한 고광투과율의 화소를 얻을 수 있다. 여기에서 말하는 「평균 입자지름」이란 안료의 1차 입자(단미결정)이 집합된 2차 입자에 관한 평균 입자지름을 의미한다. 평균 1차 입자지름은 SEM 또는 TEM으로 관찰하고, 입자가 응집되어 있지 않은 부분에서 입자 사이즈를 100개 계측하고, 평균치를 산출함으로써 구할 수 있다.C.I. in colored radiation-sensitive compositions. It is preferable that the coloring agent which can be mixed with pigment orange 71 is a pigment or dye. In particular, pigments whose average particle diameter r satisfies 20 nm ≤ r ≤ 300 nm, preferably 125 nm ≤ r ≤ 250 nm, particularly preferably 30 nm ≤ r ≤ 200 nm are preferred. By using the pigment of such an average particle diameter, the pixel of high contrast ratio and high light transmittance can be obtained. The "average particle diameter" here means the average particle diameter about the secondary particle which the primary particle (single microcrystal) of a pigment aggregated. The average primary particle diameter can be obtained by observing with SEM or TEM, measuring 100 particle sizes in the part where the particles are not aggregated, and calculating the average value.

또한, 본 발명에 있어서 사용할 수 있는 안료의 2차 입자의 입자지름 분포(이하, 단지 「입자지름 분포」라고 한다)는 (평균 입자지름±100)nm에 들어가는 2차 입자가 전체의 70질량% 이상, 바람직하게는 80질량% 이상인 것이 바람직하다. 또한, 본 발명에 있어서는 입자지름 분포는 산란강도 분포를 사용해서 측정했다.In addition, the particle size distribution (henceforth only called "particle size distribution") of the secondary particle of the pigment which can be used in this invention is 70 mass% of the whole secondary particle which enters (average particle diameter +/- 100) nm. As mentioned above, Preferably it is 80 mass% or more. In addition, in this invention, particle diameter distribution was measured using scattering intensity distribution.

상기한 평균 입자지름 및 입자지름 분포를 갖는 안료는 우선 시판의 안료를 경우에 따라 사용되는 다른 안료(평균 입자지름은 통상 300nm를 초과한다)와 함께 바람직하게는 분산제 및 용매와 혼합해서 안료 혼합액을 제작하고, 이것을, 예를 들면 비즈 밀, 롤 밀 등의 분쇄기를 사용해서 분쇄하면서 혼합·분산함으로써 조제할 수 있다. 이렇게 하여 얻어지는 안료는 통상 안료 분산액의 형태를 취한다.Pigments having the above average particle diameters and particle size distribution are firstly mixed with commercially available pigments (other than the average particle diameters usually exceeding 300 nm) and optionally with a dispersant and a solvent, and the pigment mixture is mixed. It can prepare and mix this, for example, grind | pulverizing, using grinders, such as a bead mill and a roll mill, for example. The pigment thus obtained usually takes the form of a pigment dispersion.

-안료의 미세화-- Minification of pigments -

본 발명에 있어서는 필요에 따라서 미세하며 또한 정립화된 유기안료를 사용할 수 있다. 안료의 미세화는 안료와 수용성 유기용제와 수용성 무기염류와 함께 포함하는 고점도의 액상 조성물을 조제하고, 습식 분쇄 장치 등을 사용해서 응력을 부가해서 마쇄하는 공정을 거침으로써 달성된다.In the present invention, an organic pigment fine and grained as needed can be used. The miniaturization of the pigment is achieved by preparing a high viscosity liquid composition containing the pigment, the water-soluble organic solvent and the water-soluble inorganic salt, and subjecting it to stress and grinding using a wet grinding device or the like.

안료의 미세화 공정에 사용되는 수용성 유기용제로서는 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, n-프로판올, 이소부탄올, n-부탄올, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등을 들 수 있다.As a water-soluble organic solvent used for the pigment refining process, methanol, ethanol, isopropanol, n-propanol, isobutanol, n-butanol, ethylene glycol, diethylene glycol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, di Ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol, propylene glycol monomethyl ether acetate and the like.

또한, 소량 사용함으로써 안료에 흡착해서 폐수 중에 유실되지 않는 한에 있어서는 수용성은 낮거나, 또는 수용성을 갖지 않는 다른 용제, 예를 들면, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 에틸벤젠, 클로로벤젠, 니트로벤젠, 아닐린, 피리딘, 퀴놀린, 테트라히드로푸란, 디옥산, 아세트산 에틸, 아세트산 이소프로필, 아세트산 부틸, 헥산, 헵탄, 옥탄, 노난, 데칸, 운데칸, 도데칸, 시클로헥산, 메틸시클로헥산, 할로겐화 탄화수소, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 디메틸 포름아미드, 디메틸술폭시드, N-메틸피롤리돈 등을 사용해도 좋다.In addition, other solvents having low water solubility or low water solubility, such as benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, chlorobenzene, nitrobenzene, and aniline, are adsorbed if they are adsorbed to the pigment and are not lost in the waste water. , Pyridine, quinoline, tetrahydrofuran, dioxane, ethyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, hexane, heptane, octane, nonane, decane, undecane, dodecane, cyclohexane, methylcyclohexane, halogenated hydrocarbons, acetone, Methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, dimethyl formamide, dimethyl sulfoxide, N-methylpyrrolidone, etc. may be used.

안료의 미세화 공정에 사용하는 용제는 1종뿐이어도 좋고, 필요에 따라 2종류 이상을 혼합해서 사용해도 좋다.Only 1 type may be sufficient as the solvent used for the pigment refinement process, and you may mix and use two or more types as needed.

본 발명에 있어서 안료의 미세화 공정에 사용되는 수용성 무기염으로서는 염화 나트륨, 염화 칼륨, 염화 칼슘, 염화 바륨, 황산 나트륨 등을 들 수 있다.Examples of the water-soluble inorganic salt used in the pigment miniaturization step in the present invention include sodium chloride, potassium chloride, calcium chloride, barium chloride, sodium sulfate and the like.

미세화 공정에 있어서의 수용성 무기염의 사용량은 안료의 1∼50질량배이며, 많은 쪽이 마쇄효과는 있지만, 보다 바람직한 양은 생산성의 점에서 1∼10질량배다. 또한, 수분이 1% 이하인 무기염류를 사용하는 것이 바람직하다.The use amount of the water-soluble inorganic salt in the refinement | miniaturization process is 1-50 mass times of a pigment, and many have a grinding effect, but a more preferable quantity is 1-10 mass times from the point of productivity. Moreover, it is preferable to use the inorganic salt whose moisture is 1% or less.

미세화 공정에 있어서의 수용성 유기용제의 사용량은 안료 100질량부에 대해서 50질량부∼300질량부의 범위이며, 바람직하게는 100질량부∼200질량부의 범위이다.The usage-amount of the water-soluble organic solvent in a refinement | miniaturization process is 50 mass parts-300 mass parts with respect to 100 mass parts of pigments, Preferably it is the range of 100 mass parts-200 mass parts.

안료의 미세화 공정에 있어서의 습식 분쇄 장치의 운전 조건에 대해서는 특별히 제한은 없지만, 분쇄 미디어에 의한 마쇄를 효과적으로 진행시키기 위해서 장치가 니더(kneader)인 경우의 운전 조건은 장치 내의 블레이드(blade)의 회전수는 10rpm∼200rpm이 바람직하고, 또 2축의 회전비가 상대적으로 큰 쪽이 마쇄효과가 커서 바람직하다. 운전 시간은 건식 분쇄 시간과 합쳐 1시간∼8시간이 바람직하고, 장치의 내온은 50℃∼150℃가 바람직하다. 또 분쇄 미디어인 수용성 무기염은 분쇄 입도가 5㎛∼50㎛로 입자지름의 분포가 샤프하며, 또한 구형이 바람직하다.There is no particular limitation on the operating conditions of the wet grinding device in the process of miniaturizing the pigment, but the operating conditions when the device is a kneader in order to effectively advance the grinding by the grinding media are the rotation of the blades in the device. The number is preferably 10 rpm to 200 rpm, and the larger the rotation ratio of the two axes is, the larger the grinding effect is. The operation time is preferably 1 hour to 8 hours in combination with the dry grinding time, and the internal temperature of the apparatus is preferably 50 ° C to 150 ° C. In addition, the water-soluble inorganic salt which is the grinding media has a sharp particle size distribution of 5 µm to 50 µm, and a spherical shape is preferable.

또한, 본 발명의 착색 감방사선성 조성물은 컬러필터의 착색 영역(화소)의 형성뿐만 아니라, 블랙 매트릭스(black matrix)의 형성에 사용해도 좋다. 블랙 매트릭스 형성용 조성물에 사용되는 흑색 안료로서는 카본, 티타늄 블랙(titanium black), 산화철, 산화 티타늄, 은주석, 은 등의 이외에 산화 티타늄 등의 금속 산화물을 함유하는 금속 혼합물 등으로 이루어지는 안료를 들 수 있다.In addition, the colored radiation-sensitive composition of the present invention may be used not only for forming the colored region (pixel) of the color filter but also for forming the black matrix. As the black pigment used in the composition for forming the black matrix, a pigment made of a metal mixture containing a metal oxide such as titanium oxide in addition to carbon, titanium black, iron oxide, titanium oxide, silver tin, silver and the like can be mentioned. have.

상기 티타늄 블랙은 티타늄 블랙 분산물로서 블랙 매트릭스 형성용 조성물에 사용되어도 좋다.The titanium black may be used in a composition for forming a black matrix as a titanium black dispersion.

이하에 티타늄 블랙 분산물에 대해서 상세하게 설명한다.The titanium black dispersion is described in detail below.

티타늄 블랙 분산물이란 색재로서 티타늄 블랙을 함유하는 분산물이다. A titanium black dispersion is a dispersion containing titanium black as a colorant.

착색 감방사선성 조성물에 티타늄 블랙을 미리 조제된 티타늄 블랙 분산물로서 포함함으로써 티타늄 블랙의 분산성 및 분산 안정성이 향상된다.Dispersion and dispersion stability of titanium black are improved by including titanium black as a previously prepared titanium black dispersion in a colored radiation-sensitive composition.

이하, 티타늄 블랙에 대해서 설명한다.Hereinafter, titanium black is demonstrated.

-티타늄 블랙-Titanium black

티타늄 블랙이란 티타늄 원자를 갖는 흑색 입자이다. 바람직하게는 저차 산화 티타늄이나 산질화 티타늄 등이다. 티타늄 블랙 입자는 분산성 향상, 응집성 억제 등의 목적으로 필요에 따라 표면을 수식하는 것이 가능하다. 산화 규소, 산화 티타늄, 산화 게르마늄, 산화 알루미늄, 산화 마그네슘, 산화 지르코늄으로 피복하는 것이 가능하며, 또한, 일본 특허 공개 2007-302836호 공보에 나타내어지는 발수성 물질에서의 처리도 가능하다.Titanium black is a black particle having a titanium atom. Preferably, it is low titanium oxide, titanium oxynitride, etc. Titanium black particles can modify the surface as necessary for the purpose of improving dispersibility, suppressing cohesion and the like. It is possible to coat with silicon oxide, titanium oxide, germanium oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, zirconium oxide, and also treatment with a water repellent material shown in Japanese Patent Laid-Open No. 2007-302836.

티타늄 블랙의 입자의 입자지름은 특별히 제한은 없지만, 분산성, 착색성의 관점에서 3nm∼2000nm인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10nm∼500nm이며, 더욱 바람직하게는 20nm∼200nm이다.The particle diameter of the titanium black particles is not particularly limited, but is preferably 3 nm to 2000 nm, more preferably 10 nm to 500 nm, and more preferably 20 nm to 200 nm from the viewpoint of dispersibility and colorability.

티타늄 블랙의 비표면적은 특별히 한정은 없지만, 이러한 티타늄 블랙을 발수화제로 표면처리한 후의 발수성이 소정의 성능이 되므로 BET법으로 측정한 값이 통상 5㎡/g∼150㎡/g 정도, 특히 20㎡/g∼100㎡/g 정도인 것이 바람직하다.Although the specific surface area of titanium black is not specifically limited, Since the water repellency after surface treatment of such titanium black with a water repellent becomes a predetermined performance, the value measured by the BET method is usually about 5 m 2 / g to 150 m 2 / g, especially 20 It is preferable that it is about m <2> / g-about 100 m <2> / g.

티타늄 블랙의 시판품의 예로서는 예를 들면, 미츠비시 마테리얼사(Mitsubishi Materials Corporation)제 티타늄 블랙 10S, 12S, 13R, 13M, 13M-C, 13R, 13R-N, 아코 카세이(주)(Ako Kasei Co., Ltd.)제의 티랙(TILACK)D 등을 들 수 있지만, 본 발명은 이들에 한정되지 않는다.Examples of commercially available products of titanium black include, for example, titanium black 10S, 12S, 13R, 13M, 13M-C, 13R, 13R-N and Ako Kasei Co., Ltd., manufactured by Mitsubishi Materials Corporation. , TILACK D, etc., but the present invention is not limited to these.

착색 감방사선성 조성물에 함유되는 착색제의 함유량(C.I. 피그먼트 오렌지 71과 소망에 의해 사용되는 그 밖의 안료의 합계량)은 착색 감방사선성 조성물의 전체 고형분 중 20질량%∼95질량%인 것이 바람직하고, 25질량%∼90질량%가 보다 바람직하고, 30질량%∼80질량%가 더욱 바람직하다.It is preferable that content (the total amount of CI pigment orange 71 and other pigments used by desire) contained in a colored radiation-sensitive composition is 20 mass%-95 mass% in the total solid of colored radiation-sensitive composition, , 25 mass%-90 mass% are more preferable, and 30 mass%-80 mass% are more preferable.

본 발명에 있어서 전체 고형분이란 착색 감방사성 조성물 중의 용제를 제외한 성분의 합계를 말한다.In this invention, a total solid means the sum total of the component except the solvent in a colored radiation-sensitive composition.

착색제의 함유량을 상기 범위로 함으로써 착색 감방사선성 조성물에 의해 컬러필터를 제작했을 때에 적당한 색도가 얻어진다. 또한, 광경화가 충분히 진행되고, 막으로서의 강도를 유지할 수 있으므로 알칼리 현상시의 현상 래티튜드(latitude)가 좁아지는 것을 방지할 수 있다.By making content of a coloring agent into the said range, a suitable chromaticity is obtained when a color filter is produced with a colored radiation-sensitive composition. Moreover, since photocuring fully advances and the intensity | strength as a film | membrane can be maintained, the development latitude at the time of alkali image development can be prevented from narrowing.

착색 감방사선성 조성물에 함유되는 C.I. 피그먼트 오렌지 71의 함유량으로서는 착색 감방사선성 조성물의 전체 고형분 중 20질량%∼70질량%인 것이 바람직하고, 25질량%∼65질량%가 보다 바람직하고, 30질량%∼60질량%가 더욱 바람직하다.C.I. contained in the colored radiation-sensitive composition. As content of pigment orange 71, it is preferable that it is 20 mass%-70 mass% in the total solid of colored radiation-sensitive composition, 25 mass%-65 mass% are more preferable, 30 mass%-60 mass% are further more preferable. Do.

또한, C.I. 피그먼트 오렌지 71 이외의 다른 안료를 혼합할 경우, 그 밖의 안료의 함유량은 안료의 총질량 중 75질량% 이하인 것이 바람직하고, 60질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 50질량% 이하인 것이 더욱 바람직하다.Also, C.I. When mixing other pigments other than pigment orange 71, it is preferable that content of another pigment is 75 mass% or less in the gross mass of a pigment, It is more preferable that it is 60 mass% or less, It is further more preferable that it is 50 mass% or less.

본 발명에서는 미리 안료를 필요에 따라 안료 분산제, 유기용제, 안료 유도체, 및 그 밖의 성분 등과 분산되어 안료 분산액을 조제하고, 얻어진 안료 분산액을 (B) 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물을 공중합 성분으로서 포함하는 바인더, (C) 중합성 화합물, (D) 광중합 개시제, 및 필요에 따라 첨가되는 그 밖의 성분과 혼합해서 착색 감방사선성 조성물을 조제하는 것이 바람직하다.In this invention, a pigment is previously disperse | distributed as needed, a pigment dispersant, an organic solvent, a pigment derivative, another component, etc. to prepare a pigment dispersion, and the obtained pigment dispersion is a compound represented by (B) General formula (1) a copolymerization component. It is preferable to mix with the binder contained as a (C) polymeric compound, the (D) photoinitiator, and the other components added as needed, and to prepare a colored radiation-sensitive composition.

이하에 안료 분산액의 조성, 안료 분산액의 조제의 방법에 대해서 상세하게 설명한다.The composition of a pigment dispersion liquid and the method of preparation of a pigment dispersion liquid are demonstrated in detail below.

안료 분산액의 조제 방법은 특별히 제한되지 않지만, 분산의 방법으로서는 예를 들면, 안료와 안료 분산제를 미리 혼합하고, 호모지나이저(homogenizer) 등으로 미리 분산해 둔 것을 지르코니아 비즈(zirconia beads) 등을 사용한 비즈 분산기(예를 들면 GETZMANN사제의 디스퍼맷(DISPERMAT)) 등을 사용해서 미분산시킴으로써 행할 수 있다.The method of preparing the pigment dispersion is not particularly limited, but the method of dispersing is, for example, a mixture of the pigment and the pigment dispersant in advance and previously dispersed by a homogenizer or the like using zirconia beads. It can carry out by making it disperse | distribute using the beads disperser (for example, DISPERMAT made from GETZMANN).

(안료 분산제)(Pigment dispersant)

본 발명에 사용할 수 있는 안료 분산제로서는 고분자 분산제〔예를 들면, 폴리아미드아민과 그 염, 폴리카르복실산과 그 염, 고분자량 불포화산 에스테르, 변성 폴리우레탄, 변성 폴리에스테르, 변성 폴리(메타)아크릴레이트, (메타)아크릴계 공중합체, 나프탈렌술폰산 포르말린 축합물〕, 및 폴리옥시에틸렌알킬 인산 에스테르, 폴리옥시에틸렌알킬아민, 알칸올아민 등의 계면활성제, 및 안료 유도체 등을 들 수 있다.As the pigment dispersant which can be used in the present invention, a polymer dispersant [for example, polyamideamine and its salt, polycarboxylic acid and its salt, high molecular weight unsaturated acid ester, modified polyurethane, modified polyester, modified poly (meth) acrylic Latex, (meth) acrylic copolymer, naphthalenesulfonic acid formalin condensate], and surfactants such as polyoxyethylene alkyl phosphate ester, polyoxyethylene alkylamine, alkanolamine, and pigment derivatives.

고분자 분산제는 그 구조로부터 직쇄상 고분자, 말단 변성형 고분자, 그래프트형 고분자, 블록형 고분자로 더 분류할 수 있다.Polymeric dispersants can be further divided into linear polymers, end-modified polymers, graft-type polymers, and block-type polymers from the structure.

안료 표면에의 앵커 부위(anchor moiety)를 갖는 말단 변성형 고분자로서는 예를 들면, 일본 특허 공개 평 3-112992호 공보, 일본 특허 공표 2003-533455호 공보 등에 기재된 말단에 인산기를 갖는 고분자, 일본 특허 공개 2002-273191호 공보 등에 기재된 말단에 술폰산기를 갖는 고분자, 일본 특허 공개 평 9-77994호 공보 등에 기재된 유기색소의 부분 골격이나 복소환을 갖는 고분자 등을 들 수 있다. 또한, 일본 특허 공개 2007-277514호 공보에 기재된 고분자 말단에 2개 이상의 안료 표면에의 앵커 부위(산기, 염기성기, 유기색소의 부분 골격이나 헤테로환 등)를 도입한 고분자도 분산 안정성이 우수하여 바람직하다.As a terminal modified type polymer which has an anchor moiety to a pigment surface, For example, the polymer which has a phosphoric acid group at the terminal as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 3-112992, Unexamined-Japanese-Patent No. 2003-533455, Japanese patent The polymer which has a sulfonic acid group at the terminal described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-273191, etc., the polymer which has the partial skeleton and heterocycle of the organic pigment as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 9-77994, etc. are mentioned. Moreover, the polymer which introduce | transduced the anchor site (acidic group, basic group, partial skeleton of organic pigment, heterocyclic ring, etc.) to two or more pigment surfaces in the polymer terminal of Unexamined-Japanese-Patent No. 2007-277514 also has excellent dispersion stability, desirable.

안료 표면에의 앵커 부위를 갖는 그래프트형 고분자로서는 예를 들면, 일본 특허 공개 소 54-37082호 공보, 일본 특허 공표 평8-507960호 공보, 일본 특허 공개 2009-258668공보 등에 기재된 폴리(저급 알킬렌이민)와 폴리에스테르의 반응 생성물, 일본 특허 공개 평 9-169821호 공보 등에 기재된 폴리알릴아민과 폴리에스테르의 반응 생성물, 일본 특허 공개 평 10-339949호, 일본 특허 공개 2004-37986호 공보 등에 기재된 매크로모노머(macromonomer)와 질소원자 모노머의 공중합체, 일본 특허 공개 2003-238837호 공보, 일본 특허 공개 2008-9426호 공보, 일본 특허 공개 2008-81732호 공보 등에 기재된 유기색소의 부분 골격이나 복소환을 갖는 그래프트형 고분자, 일본 특허 공개 2010-106268호 공보 등에 기재된 매크로모노머와 산기 함유 모노머의 공중합체 등을 들 수 있다. 특히, 일본 특허 공개 2009-203462호 공보에 기재된 염기성기와 산성기를 갖는 양성 분산 수지는 안료 분산물의 분산성, 분산 안정성, 및 착색 감방사선성 조성물이 나타내는 현상성의 관점에서 특히 바람직하다.As the graft polymer having an anchor portion on the pigment surface, for example, poly (lower alkylene) disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 54-37082, Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-507960, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-258668, and the like. Imine) and polyester, the reaction product of polyallylamine and polyester described in Japanese Patent Application Laid-open No. Hei 9-169821, etc., and the macromolecule described in Japanese Patent Application Laid-open No. Hei 10-339949, Japanese Patent Laid-Open No. 2004-37986 A copolymer of a macromonomer and a nitrogen atom monomer, having partial skeletons and heterocycles of organic pigments described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-238837, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-9426, and Japanese Patent Publication No. 2008-81732; The copolymer of a macromonomer and an acidic radical containing monomer etc. which were described in a graft type polymer, Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-106268, etc. are mentioned. In particular, the amphoteric dispersing resin having a basic group and an acidic group described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-203462 is particularly preferable in view of dispersibility, dispersion stability, and developability of the colored radiation-sensitive composition.

안료 표면에의 앵커 부위를 갖는 그래프트형 고분자를 라디칼 중합으로 제조할 때에 사용하는 매크로모노머로서는 공지의 매크로모노머를 사용할 수 있고, 도아 고세이(주)(Toa Gosei Co., Ltd.)제의 매크로모노머(MACROMONOMER) AA-6(말단기가 메타크릴로일기인 폴리메타크릴산 메틸), AS-6(말단기가 메타크릴로일기인 폴리스티렌), AN-6S(말단기가 메타크릴로일기인 스티렌과 아크릴로니트릴의 공중합체), AB-6(말단기가 메타크릴로일기인 폴리아크릴산 부틸), 다이셀 카가쿠 고교(주)(Daicel Chemical Industries Inc.)제의 플락셀(PLACCEL) FM5(메타크릴산 2-히드록시에틸의 ε-카프로락톤 5몰당량 부가품), FA10L(아크릴산 2-히드록시에틸의 ε-카프로락톤 10몰당량 부가품), 및 일본 특허 공개 평 2-272009호 공보에 기재된 폴리에스테르계 매크로모노머 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 특히 유연성 또한 친용제성이 우수한 폴리에스테르계 매크로모노머가 안료 분산물의 분산성, 분산 안정성, 및 안료 분산물을 사용한 착색 감방사선성 조성물이 나타내는 현상성의 관점에서 특히 바람직하고, 또한 일본 특허 공개 평 2-272009호 공보에 기재된 폴리에스테르계 매크로모노머로 나타내어지는 폴리에스테르계 매크로모노머가 가장 바람직하다.As a macromonomer used when producing a graft type polymer having an anchor portion on the pigment surface by radical polymerization, a known macromonomer can be used, and a macromonomer manufactured by Toa Gosei Co., Ltd. (MACROMONOMER) AA-6 (methyl methacrylate whose terminal group is methacryloyl group), AS-6 (polystyrene whose terminal group is methacryloyl group), AN-6S (styrene and acrylo whose terminal group is methacryloyl group) Copolymer of nitrile), AB-6 (butyl acrylate having terminal group methacryloyl group), PLACEL FM5 (methacrylic acid 2) manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd. (Daicel Chemical Industries Inc.) -5 molar equivalents of ε-caprolactone adduct of hydroxyethyl), FA10L (10 molar equivalents of ε-caprolactone of 2-hydroxyethyl acrylate), and the polyesters described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-272009 And system macromonomers. Among them, a polyester macromonomer having excellent flexibility and affinity for solvents is particularly preferable in view of the dispersibility of the pigment dispersion, the dispersion stability, and the developability exhibited by the colored radiation-sensitive composition using the pigment dispersion. Most preferred is a polyester-based macromonomer represented by the polyester-based macromonomer described in 2-272009.

안료 표면에의 앵커 부위를 갖는 블록형 고분자로서는 일본 특허 공개 2003-49110호 공보, 일본 특허 공개 2009-52010호 공보 등에 기재된 블록형 고분자가 바람직하다. As a block type polymer which has an anchor part to a pigment surface, the block type polymer of Unexamined-Japanese-Patent No. 2003-49110, Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-52010, etc. are preferable.

본 발명에 사용할 수 있는 안료 분산제는 시판품으로서도 입수 가능하며, 그러한 구체예로서는 BYKChemie사제의 Disperbyk-101(폴리아미드아민인산염), 107(카르복실산 에스테르), 110(산기를 포함하는 공중합물), 130(폴리아미드), 161, 162, 163, 164, 165, 166, 170(고분자 공중합물), BYK-P104, P105(고분자량 불포화 폴리카르복실산), EFKA사제의 「EFKA4047, 4050∼4010∼4165(폴리우레탄계), EFKA4330∼4340(블록 공중합체), 4400∼4402(변성 폴리아크릴레이트), 5010(폴리에스테르아미드), 5765(고분자량 폴리카르복실산염), 6220(지방산 폴리에스테르), 6745(프탈로시아닌 유도체), 6750(아조 안료 유도체)」, 아지노모토 파인테크노사(Ajinomoto Fine-Techno Co., Inc.)제 「아지스퍼(AJISPER) PB821, PB822, PB880, PB881」, 교에이샤 카가쿠사(Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)제 「플로렌(FLOWLEN) TG-710(우레탄 올리고머)」, 「폴리플로우(POLYFLOW) No. 50E, No. 300(아크릴계 공중합체)」, 구스모토 카세이사(Kusumoto Chemicals Ltd.)제 「디스파론(DISPARLON) KS-860, 873SN, 874, #2150(지방족 다가 카르복실산), #7004(폴리에테르에스테르), DA-703-50, DA-705, DA-725」, 카오사(Kao Corporation)제 「데몰(DEMOL) RN, N(나프탈렌술폰산 포르말린 중축합물), MS, C, SN-B(방향족 술폰산 포르말린 중축합물)」, 「호모게놀(HOMOGENOL) L-18(고분자 폴리카르복실산)」, 「에뮬겐(EMULGEN) 920, 930, 935, 985(폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르)」, 「아세타민(ACETAMIN) 86(스테아릴아민아세테이트)」, 니혼 루브리졸(주)(The Lubrizol Corporation)제 「솔스퍼스(SOLSPERSE) 5000(프탈로시아닌 유도체), 22000(아조 안료 유도체), 13240(폴리에스테르아민), 3000, 17000, 27000(말단부에 기능부를 갖는 고분자), 24000, 28000, 32000, 38500(그래프트형 고분자)」, 닛코 케미칼사(Nikko Chemicals Co., Ltd.)제 「닛콜(NIKKOL) T106(폴리옥시에틸렌소르비탄모노올레이트), MYS-IEX(폴리옥시에틸렌모노스테아레이트)」, 가와켄 파인케미칼(주)(Kawaken Fine Chemicals Co., Ltd.)제 히노액트(HINOACT) T-8000E 등, 신에츠 카가쿠 고교(주)(Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)제, 오르가노실록산폴리머 KP341, 유쇼(주)(Yusho Co., Ltd.)제 「W001:양이온계 계면활성제」, 폴리옥시에틸렌라우릴에테르, 폴리옥시에틸렌스테아릴에테르, 폴리옥시에틸렌올레일에테르, 폴리옥시에틸렌옥틸페닐에테르, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르, 폴리에틸렌글리콜디라우레이트, 폴리에틸렌글리콜디스테아레이트, 소르비탄 지방산 에스테르 등의 비이온계 계면활성제, 「W004, W005, W017」등의 음이온계 계면활성제, 모리시타 산교(주)(Morishita & Co., Ltd.)제 「EFKA-46, EFKA-47, EFKA-47EA, EFKA폴리머100, EFKA폴리머400, EFKA폴리머401, EFKA폴리머450」, 산노푸코(주)(San Nopco Ltd.)제 「디스퍼스 에이드(DISPERSE AID) 6, 디스퍼스 에이드 8, 디스퍼스 에이드 15, 디스퍼스 에이드 9100」등의 고분자 분산제, (주)ADEKA(ADEKA Corporation)제 「아데카 플루로닉(ADEKA PLURONIC) L31, F38, L42, L44, L61, L64, F68, L72, P95, F77, P84, F87, P94, L101, P103, F108, L121, P-123」, 및 산요 카세이(주)(Sanyo Chemical Industries Ltd.)제 「이오넷(IONET)S-20」 등을 들 수 있다.The pigment dispersant which can be used for this invention can also be obtained as a commercial item, As such a specific example, Disperbyk-101 (polyamide amine phosphate), 107 (carboxylic acid ester), 110 (copolymer containing an acid group) by BYKChemie company, 130 (Polyamide), 161, 162, 163, 164, 165, 166, 170 (polymer copolymer), BYK-P104, P105 (high molecular weight unsaturated polycarboxylic acid), "EFKA4047, 4050-4010-4165 by EFKA" (Polyurethane), EFKA4330 to 4340 (block copolymer), 4400 to 4402 (modified polyacrylate), 5010 (polyesteramide), 5765 (high molecular weight polycarboxylate), 6220 (fatty acid polyester), 6745 ( Phthalocyanine derivatives), 6750 (azo pigment derivatives), "AJISPER PB821, PB822, PB880, PB881" by Ajinomoto Fine-Techno Co., Inc., Kyoeisha Kagaku Corporation (Kyoeisha) Chemical Co., Ltd. "Florene (FLOWLEN) TG-710 (urethane oligomer)", "Paul Flow (POLYFLOW) No. 50E, No. 300 (acrylic copolymer) "," DISPARLON KS-860, 873SN, 874, # 2150 (aliphatic polyhydric carboxylic acid), # 7004 (polyether ester) by Kusumoto Chemical Co., Ltd. ), DA-703-50, DA-705, DA-725, `` DEMOL '' RN, N (naphthalenesulfonic acid formalin polycondensate), MS, C, SN-B (aromatic sulfonic acid, manufactured by Kao Corporation) Formalin polycondensate) "," HOMOGENOL L-18 (polymeric polycarboxylic acid) "," EMULGEN "920, 930, 935, 985 (polyoxyethylene nonylphenyl ether)," acetamine (ACETAMIN) 86 (stearylamine acetate), "SOLSPERSE 5000" (phthalocyanine derivative), 22000 (azo pigment derivative), 13240 (polyesteramine) made by Nippon Lubrizol Corporation , 3000, 17000, 27000 (polymer having a functional part at the end), 24000, 28000, 32000, 38500 (grafted polymer) '', Nikko Chemicals Co., Ltd. IKKOL) T106 (polyoxyethylene sorbitan monooleate), MYS-IEX (polyoxyethylene monostearate), Hinoact (Kawaken Fine Chemicals Co., Ltd.) Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., such as T-8000E, organosiloxane polymer KP341, and Yusho Co., Ltd., "W001: Cationic Interface Activator ”, polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octylphenyl ether, polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyethylene glycol dilaurate, polyethylene glycol distearate, Nonionic surfactants, such as a sorbitan fatty acid ester, Anionic surfactants, such as "W004, W005, W017", "EFKA-46, EFKA-47," made by Morishita Sangyo Co., Ltd. (Morishita & Co., Ltd.) EFKA-47EA, EFKA Polymer 100, EFKA Polymer 400, EFKA Polymer 401, EFKA Polymer 450 '', Polymer dispersants, such as "DISPERSE AID 6, DISPERSE AID 8, DISPERS AID 15, DISPERS ADADE 9100" by San Nopco Ltd., ADEKA (ADEKA Corporation) `` ADEKA PLURONIC L31, F38, L42, L44, L61, L64, F68, L72, P95, F77, P84, F87, P94, L101, P103, F108, L121, P-123 '', And "IONET S-20" manufactured by Sanyo Chemical Industries Ltd., etc. may be mentioned.

본 발명에 있어서, (B) 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물을 공중합 성분으로서 포함하는 바인더도 바람직한 분산제로서 들 수 있다.In this invention, the binder which contains the compound represented by (B) General formula (1) as a copolymerization component is also mentioned as a preferable dispersing agent.

본 발명에 있어서, 바람직한 분산제로서는 질소원자를 함유하는 그래프트 공중합체를 들 수 있다.In the present invention, a graft copolymer containing a nitrogen atom may be mentioned as a preferable dispersant.

질소원자를 함유하는 그래프트 공중합체로서는 주쇄에 질소원자를 함유하는 반복단위를 갖는 것이 바람직하다. 그 중에서도 식(A)으로 나타내어지는 반복단위 및/또는 식(B)으로 나타내어지는 반복단위를 갖는 것이 바람직하다.As the graft copolymer containing a nitrogen atom, one having a repeating unit containing a nitrogen atom in the main chain is preferable. Especially, it is preferable to have a repeating unit represented by Formula (A) and / or a repeating unit represented by Formula (B).

Figure 112012003313861-pat00002
Figure 112012003313861-pat00002

(식(A) 중, R1은 탄소수 1∼5의 알킬렌기를 나타내고, A는 수소원자 또는 하기 식(C)∼(E) 중 어느 하나를 나타낸다)(In formula (A), R <1> represents a C1-C5 alkylene group and A represents a hydrogen atom or any of following formula (C)-(E).)

상기 식(A) 중, R1은 메틸렌기, 에틸렌기, 또는 프로필렌기 등의 직쇄상 또는 분기상의 탄소수 1∼5의 알킬렌기를 나타내고, 바람직하게는 탄소수 2∼3의 알킬렌기이며, 더욱 바람직하게는 에틸렌기이다. A는 수소원자 또는 하기 식(C)∼(E) 중 어느 하나를 나타내지만, 바람직하게는 식(C)이다.In said formula (A), R <1> represents linear or branched C1-C5 alkylene groups, such as a methylene group, an ethylene group, or a propylene group, Preferably it is a C2-C3 alkylene group, More preferably, Preferably an ethylene group. A represents a hydrogen atom or any of the following formulas (C) to (E), but is preferably formula (C).

Figure 112012003313861-pat00003
Figure 112012003313861-pat00003

상기 식(B) 중, R1 및 A는 식(A) 중의 R1 및 A와 동의이다.In the formula (B), R 1 and A is R 1 and A agree with the formula (A).

Figure 112012003313861-pat00004
Figure 112012003313861-pat00004

상기 식(C) 중, W1은 탄소수 2∼10의 직쇄상 또는 분기상의 알킬렌기를 나타내고, 그 중에서도 부틸렌기, 펜틸렌기, 또는 헥실렌기 등의 탄소수 4∼7의 알킬렌기가 바람직하다. p는 1∼20의 정수를 나타내고, 바람직하게는 5∼10의 정수이다.In the formula (C), W 1 represents an alkylene group linear or branched having 2 to 10 carbon atoms, particularly butyl group, a pentyl group, or hexyl groups are preferred alkylene of 4-7 carbon atoms, such as xylene group. p represents the integer of 1-20, Preferably it is an integer of 5-10.

Figure 112012003313861-pat00005
Figure 112012003313861-pat00005

상기 식(D) 중, Y1은 2가의 연결기를 나타내고, 그 중에서도 에틸렌기, 프로필렌기 등의 탄소수 1∼4의 알킬렌기 또는 에틸렌옥시기, 프로필렌옥시기 등의 탄소수 1∼4의 알킬렌옥시기가 바람직하다. W2는 에틸렌기, 프로필렌기, 부틸렌기 등의 직쇄상 또는 분기상의 탄소수 2∼10의 알킬렌기를 나타내고, 그 중에서도 에틸렌기, 프로필렌기 등의 탄소수 2∼3의 알킬렌기가 바람직하다. Y2는 수소원자 또는 -CO-R2(R2는 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기 등의 탄소수 1∼10의 알킬기를 나타내고, 그 중에서도 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기 등의 탄소수 2∼5의 알킬기가 바람직하다)를 나타낸다. q는 1∼20의 정수를 나타내고, 바람직하게는 5∼10의 정수이다.In said formula (D), Y <1> represents a bivalent coupling group, Especially, C1-C4 alkylene groups, such as an ethylene group and a propylene group, or C1-C4 alkyleneoxy, such as an ethyleneoxy group and a propyleneoxy group, Group is preferred. W <2> represents linear or branched C2-C10 alkylene groups, such as an ethylene group, a propylene group, and a butylene group, Especially, C2-C3 alkylene groups, such as an ethylene group and a propylene group, are preferable. Y 2 represents a hydrogen atom or —CO—R 2 (R 2 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, such as an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, and a hexyl group, and among these, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pen) An alkyl group having 2 to 5 carbon atoms such as a methyl group is preferable). q represents the integer of 1-20, Preferably it is an integer of 5-10.

Figure 112012003313861-pat00006
Figure 112012003313861-pat00006

상기 식(E) 중, W3은 탄소수 1∼50의 알킬기, 또는 수산기 1∼5를 갖는 탄소수 1∼50의 히드록시알킬기를 나타내고, 그 중에서도 스테아릴기 등의 탄소수 10∼20의 알킬기, 모노히드록시스테아릴기 등의 수산기를 1∼2개 갖는 탄소수 10∼20의 히드록시알킬기가 바람직하다. In said formula (E), W <3> represents a C1-C50 alkyl group or C1-C50 hydroxyalkyl group which has hydroxyl groups 1-5, Among these, C10-C20 alkyl groups, such as a stearyl group, and mono The C10-20 hydroxyalkyl group which has 1-2 hydroxyl groups, such as a hydroxystearyl group, is preferable.

상기 「질소원자를 함유하는 그래프트 공중합체」에 있어서의 식(A) 또는 (B)로 나타내어지는 반복단위의 함유율은 높은 쪽이 바람직하고, 통상 50몰% 이상이며, 바람직하게는 70몰% 이상이다. 식(A)으로 나타내어지는 반복단위와, 식(B)으로 나타내어지는 반복단위의 양쪽을 병유해도 좋고, 그 함유 비율에 특별히 제한은 없지만, 바람직하게는 식(A)의 반복단위의 쪽을 많이 함유하고 있었던 쪽이 바람직하다. 식(A) 또는 식(B)으로 나타내어지는 반복단위의 합계수는 통상 1∼100, 바람직하게는 10∼70, 더욱 바람직하게는 20∼50이다. 또한, 식(A) 및 식(B) 이외의 반복단위를 포함하고 있어도 좋고, 다른 반복단위로서는 예를 들면 알킬렌기, 알킬렌옥시기 등을 예시할 수 있다. 상기 「질소원자를 함유하는 그래프트 공중합체」는 그 말단이 -NH2 및 -R1-NH2(R1은 상기 R1과 동의)인 것이 바람직하다.As for the content rate of the repeating unit represented by Formula (A) or (B) in the said "graft copolymer containing a nitrogen atom", the higher one is preferable, Usually it is 50 mol% or more, Preferably it is 70 mol% or more to be. Although both the repeating unit represented by Formula (A) and the repeating unit represented by Formula (B) may be used together, there is no restriction | limiting in particular in the content rate, Preferably, the repeating unit of Formula (A) It is more preferable to have contained a lot. The total number of repeating units represented by formula (A) or formula (B) is usually 1 to 100, preferably 10 to 70, and more preferably 20 to 50. Moreover, repeating units other than Formula (A) and Formula (B) may be included, and an alkylene group, an alkyleneoxy group, etc. can be illustrated as another repeating unit, for example. The "graft copolymer containing a nitrogen atom" is preferably the end of the -NH 2 and -R 1 -NH 2 (R 1 has the R 1 and consent).

또한, 상기 「질소원자를 함유하는 그래프트 공중합체」는 주쇄가 직쇄상이어도 분기되어 있어도 좋다. 상기 그래프트 공중합체의 아민가는 통상 5mgKOH/g∼100mgKOH/g이며, 바람직하게는 10mgKOH/g∼70mgKOH/g이며, 더욱 바람직하게는 15mgKOH/g∼40mgKOH/g 이하이다.In addition, the said "graft copolymer containing a nitrogen atom" may be branched, even if the main chain is linear. The amine number of the said graft copolymer is 5 mgKOH / g-100 mgKOH / g normally, Preferably it is 10 mgKOH / g-70 mgKOH / g, More preferably, it is 15 mgKOH / g-40 mgKOH / g or less.

아민가가 5mgKOH/g 이상이면 분산 안정성을 보다 향상시킬 수 있고, 점도를 보다 안정되게 할 수 있다. 아민가가 100mgKOH/g 이하이면 잔사를 보다 억제할 수 있고, 액정 패널을 형성한 후의 전기 특성의 저하를 보다 억제할 수 있다.When the amine number is 5 mgKOH / g or more, dispersion stability can be further improved, and the viscosity can be made more stable. If an amine number is 100 mgKOH / g or less, a residue can be suppressed more and the fall of the electrical property after forming a liquid crystal panel can be suppressed more.

상기 「질소원자를 함유하는 그래프트 공중합체」의 GPC(Gel Permeation Chromatography)로 측정한 중량 평균 분자량은 3000∼100000이 바람직하고, 5000∼50000이 특히 바람직하다. 중량 평균 분자량이 3000 이상이면 색재의 응집을 보다 억제할 수 있고, 고점도화나 겔화를 보다 억제할 수 있다. 100000 이하이면 공중합체 자체의 고점도화를 보다 억제할 수 있고, 또 유기용매에의 용해성의 부족을 보다 억제할 수 있다.3000-100000 are preferable and, as for the weight average molecular weight measured by GPC (Gel Permeation Chromatography) of said "graft copolymer containing a nitrogen atom", 5000-50000 are especially preferable. If weight average molecular weight is 3000 or more, aggregation of a color material can be suppressed more, and high viscosity and gelation can be suppressed more. If it is 100000 or less, high viscosity of the copolymer itself can be suppressed more, and the lack of solubility to an organic solvent can be suppressed more.

상기 분산제의 합성 방법은 공지의 방법을 채용할 수 있고, 예를 들면 일본 특허 공고 소 63-30057호 공보에 기재된 방법을 사용할 수 있다.The synthesis | combination method of the said dispersing agent can employ | adopt a well-known method, For example, the method of Unexamined-Japanese-Patent No. 63-30057 can be used.

또한, 본 발명에 있어서의 분산제로서는 분산 안정성을 보다 향상시키는 관점에서는 하기 일반식(I) 및 일반식(II) 중 어느 하나로 나타내어지는 반복단위로부터 선택되는 적어도 1종의 반복단위를 포함하는 고분자 화합물(이하, 「특정 중합체」라고 하는 경우가 있다)이 바람직하다.In addition, as a dispersing agent in this invention, the polymer compound containing at least 1 sort (s) of repeating unit chosen from the repeating unit represented by either of following General formula (I) and General formula (II) from a viewpoint of further improving dispersion stability. (Hereinafter, it may be called "specific polymer.").

Figure 112012003313861-pat00007
Figure 112012003313861-pat00007

상기 일반식(I) 및 일반식(II) 중, R1∼R6은 각각 독립적으로 수소원자, 또는 1가의 유기기를 나타내고, X1 및 X2는 각각 독립적으로 -CO-, -C(=O)O-, -CONH-, -OC(=O)-, 또는 페닐렌기를 나타내고, L1 및 L2는 각각 독립적으로 단결합, 또는 2가의 유기 연결기를 나타내고, A1 및 A2는 각각 독립적으로 1가의 유기기를 나타내고, m 및 n은 각각 독립적으로 2∼8의 정수를 나타내고, p 및 q는 각각 독립적으로 1∼100의 정수를 나타낸다.In said general formula (I) and general formula (II), R <1> -R <6> represents a hydrogen atom or monovalent organic group each independently, X <1> and X <2> respectively independently represent -CO- and -C (= O) O-, -CONH-, -OC (= O)-, or a phenylene group, L 1 and L 2 each independently represent a single bond or a divalent organic linking group, and A 1 and A 2 are each Independently, monovalent organic groups are represented, m and n each independently represent an integer of 2 to 8, and p and q each independently represent an integer of 1 to 100.

일반식(I) 및 일반식(II) 중, R1∼R6은 각각 독립적으로 수소원자, 또는 1가의 유기기를 나타낸다. 1가의 유기기로서는 치환 또는 무치환의 알킬기가 바람직하다. 알킬기로서는 탄소수 1∼12의 알킬기가 바람직하고, 탄소수 1∼8의 알킬기가 보다 바람직하고, 탄소수 1∼4의 알킬기가 특히 바람직하다. In General Formula (I) and General Formula (II), R 1 to R 6 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent organic group. As monovalent organic group, a substituted or unsubstituted alkyl group is preferable. As an alkyl group, a C1-C12 alkyl group is preferable, A C1-C8 alkyl group is more preferable, A C1-C4 alkyl group is especially preferable.

알킬기가 치환기를 갖는 경우, 상기 치환기로서는 예를 들면, 히드록시기, 알콕시기(바람직하게는 탄소수 1∼5, 보다 바람직하게는 탄소수 1∼3이 보다 바람직하다), 메톡시기, 에톡시기, 시클로헥실옥시기 등을 들 수 있다. When the alkyl group has a substituent, for example, as the substituent, a hydroxy group, an alkoxy group (preferably 1 to 5 carbon atoms, more preferably 1 to 3 carbon atoms), a methoxy group, an ethoxy group, and a cyclohexyl octane Season, etc. can be mentioned.

바람직한 알킬기로서 구체적으로는 예를 들면, 메틸기, 에틸기, 프로필기, n-부틸기, i-부틸기, t-부틸기, n-헥실기, 시클로헥실기, 2-히드록시에틸기, 3-히드록시프로필기, 2-히드록시프로필기, 2-메톡시에틸기를 들 수 있다. Specifically as a preferable alkyl group, For example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, n-butyl group, i-butyl group, t-butyl group, n-hexyl group, a cyclohexyl group, 2-hydroxyethyl group, 3-hydroxy A hydroxypropyl group, 2-hydroxypropyl group, 2-methoxyethyl group is mentioned.

일반식(I) 및 일반식(II) 중, R1, R2, R4, 및 R5로서는 수소원자가 바람직하고, R3 및 R6으로서는 수소원자 또는 메틸기가 안료 표면에의 흡착 효율의 점에서도 가장 바람직하다.In general formula (I) and general formula (II), as R <1> , R <2> , R <4> and R <5>, a hydrogen atom is preferable, As R <3> and R <6> , a hydrogen atom or a methyl group of the point of the adsorption efficiency to a pigment surface Is also most preferred.

일반식(I) 및 일반식(II) 중, X1 및 X2는 각각 독립적으로 -CO-, -C(=O)O-, -CONH-, -OC(=O)-, 또는 페닐렌기를 나타낸다. 그 중에서도 -C(=O)O-, -CONH-, 페닐렌기가 안료에의 흡착성의 관점에서 바람직하고, -C(=O)O-가 가장 바람직하다.In Formulas (I) and (II), X 1 and X 2 are each independently —CO—, —C (═O) O—, —CONH—, —OC (═O) —, or phenylene. Group. Especially, -C (= O) O-, -CONH-, and a phenylene group are preferable from a viewpoint of adsorption to a pigment, and -C (= O) O- is the most preferable.

일반식(I) 및 일반식(II) 중, L1 및 L2는 각각 독립적으로 단결합, 또는 2가의 유기 연결기를 나타낸다. 2가의 유기 연결기로서는 치환 또는 무치환의 알킬렌기나, 상기 알킬렌기와 헤테로원자 또는 헤테로원자를 포함하는 부분 구조로 이루어지는 2가의 유기 연결기가 바람직하다. 여기에서, 알킬렌기로서는 탄소수 1∼12의 알킬렌기가 바람직하고, 탄소수 1∼8의 알킬렌기가 더욱 바람직하고, 탄소수 1∼4의 알킬렌기가 특히 바람직하다. 또한, 헤테로원자를 포함하는 부분 구조에 있어서의 헤테로원자로서는 예를 들면, 산소원자, 질소원자, 황원자를 들 수 있고, 그 중에서도, 산소원자, 질소원자가 바람직하다.In General Formula (I) and General Formula (II), L 1 and L 2 each independently represent a single bond or a divalent organic linking group. As a divalent organic coupling group, a substituted or unsubstituted alkylene group and the bivalent organic coupling group which consists of a partial structure containing the said alkylene group and hetero atom or hetero atom are preferable. Here, as an alkylene group, a C1-C12 alkylene group is preferable, A C1-C8 alkylene group is more preferable, A C1-C4 alkylene group is especially preferable. Moreover, as a hetero atom in the partial structure containing a hetero atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, and a sulfur atom are mentioned, for example, Especially, an oxygen atom and a nitrogen atom are preferable.

바람직한 알킬렌기로서 구체적으로는 예를 들면, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 트리메틸렌기, 테트라메틸렌기를 들 수 있다.Specifically as a preferable alkylene group, a methylene group, an ethylene group, a propylene group, trimethylene group, tetramethylene group is mentioned, for example.

알킬렌기가 치환기를 갖는 경우, 상기 치환기로서는 예를 들면, 히드록시기 등을 들 수 있다.When an alkylene group has a substituent, a hydroxyl group etc. are mentioned as said substituent, for example.

2가의 유기 연결기로서는 상기 알킬렌기의 말단에 -C(=O)-, -OC(=O)-, -NHC(=O)-로부터 선택되는 헤테로원자 또는 헤테로원자를 포함하는 부분 구조를 갖고, 상기 헤테로원자 또는 헤테로원자를 포함하는 부분 구조를 통해 인접한 산소원자와 연결한 것이 안료에의 흡착성의 점에서 바람직하다. 여기에서, 인접한 산소원자란 일반식(I)에 있어서의 L1, 및 일반식(II)에 있어서의 L2에 대해서 측쇄 말단측에서 결합하는 산소원자를 의미한다.The divalent organic linking group has a partial structure containing a heteroatom or a heteroatom selected from -C (= 0)-, -OC (= 0)-, -NHC (= 0)-at the terminal of the alkylene group, It is preferable at the point of adsorption to a pigment to connect with the adjacent oxygen atom through the said hetero atom or the partial structure containing a hetero atom. Here, an adjacent oxygen atom means the oxygen atom couple | bonded with L <1> in general formula (I) and L <2> in general formula (II) by the side chain terminal side.

일반식(I) 및 일반식(II) 중, A1 및 A2는 각각 독립적으로 1가의 유기기를 나타낸다. 1가의 유기기로서는 히드록실기, 치환 또는 비치환의 알킬기, 또는 치환 또는 비치환의 아릴기가 바람직하다. In General Formula (I) and General Formula (II), A 1 and A 2 each independently represent a monovalent organic group. As monovalent organic group, a hydroxyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group is preferable.

바람직한 알킬기의 예로서는 탄소원자수가 1∼20까지의 직쇄상, 분기상, 및 환상의 알킬기를 들 수 있고, 그 구체예로서는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 운데실기, 도데실기, 트리데실기, 헥사데실기, 옥타데실기, 에이코실기, 이소프로필기, 이소부틸기, s-부틸기, t-부틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, 1-메틸부틸기, 이소헥실기, 2-에틸헥실기, 2-메틸헥실기, 시클로헥실기, 시클로펜틸기, 2-노르보르닐기를 들 수 있다.Examples of the preferred alkyl group include linear, branched, and cyclic alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, and specific examples thereof include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, and octa. Tyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, tridecyl, hexadecyl, octadecyl, eicosyl, isopropyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, isopentyl And neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group and 2-norbornyl group.

치환 알킬기의 치환기로서는 수소를 제외한 1가의 비금속 원자단의 기가 사용되며, 바람직한 예로서는 할로겐원자(-F, -Br, -Cl, -I), 히드록실기, 알콕시기, 아릴옥시기, 메르캅토기, 알킬티오기, 아릴티오기, 알킬디티오기, 아릴디티오기, 아미노기, N-알킬아미노기, N,N-디알킬아미노기, N-아릴아미노기, N,N-디아릴아미노기, N-알킬-N-아릴아미노기, 아실옥시기, 카르바모일옥시기, N-알킬카르바모일옥시기, N-아릴카르바모일옥시기, N,N-디알킬카르바모일옥시기, N,N-디아릴카르바모일옥시기, N-알킬-N-아릴카르바모일옥시기, 알킬술폭시기, 아릴술폭시기, 아실옥시기, 아실티오기, 아실아미노기, N-알킬아실아미노기, N-아릴아실아미노기, 우레이도기, N'-알킬우레이도기, N',N'-디알킬우레이도기, N'-아릴우레이도기, N',N'-디아릴우레이도기, N'-알킬-N'-아릴우레이도기, N-알킬우레이도기, N-아릴우레이도기, N'-알킬-N-알킬우레이도기, N'-알킬-N-아릴우레이도기, N',N'-디알킬-N-알킬우레이도기, N',N'-디알킬-N-아릴우레이도기, N'-아릴-N-알킬우레이도기, N'-아릴-N-아릴우레이도기, N',N'-디아릴-N-알킬우레이도기, N',N'-디아릴-N-아릴우레이도기, N'-알킬-N'-아릴-N-알킬우레이도기, N'-알킬-N'-아릴-N-아릴우레이도기, 알콕시카르보닐아미노기, 아릴옥시카르보닐아미노기, N-알킬-N-알콕시카르보닐아미노기, N-알킬-N-아릴옥시카르보닐아미노기, N-아릴-N-알콕시카르보닐아미노기, N-아릴-N-아릴옥시카르보닐아미노기, 포르밀기, 아실기, 카르복실기, 알콕시카르보닐기, 아릴옥시카르보닐기, 카르바모일기, N-알킬카르바모일기, N,N-디알킬카르바모일기, N-아릴카르바모일기, N,N-디아릴카르바모일기, N-알킬-N-아릴카르바모일기, 알킬술피닐기, 아릴술피닐기, 알킬술포닐기, 아릴술포닐기, 술포기(-SO3H) 및 그 공역 염기기(이하, 술포네이트기라고 한다), 알콕시술포닐기, 아릴옥시술포닐기, 술피나모일기, N-알킬술피나모일기, N,N-디알킬술피나모일기, N-아릴술피나모일기, N,N-디아릴술피나모일기, N-알킬-N-아릴술피나모일기, 술파모일기, N-알킬술파모일기, N,N-디알킬술파모일기, N-아릴술파모일기, N,N-디아릴술파모일기, N-알킬-N-아릴술파모일기, 포스포노기(-PO3H2) 및 그 공역 염기기(이하, 포스포네이트기라고 한다), 디알킬포스포노기(-PO3(알킬)2), 디아릴포스포노기(-PO3(아릴)2), 알킬아릴포스포노기(-PO3(알킬)(아릴)), 모노알킬포스포노기(-PO3H(알킬)) 및 그 공역 염기기(이후, 알킬포스포네이트기라고 한다), 모노아릴포스포노기(-PO3H(아릴)) 및 그 공역 염기기(이후, 아릴포스포네이트기라고 한다), 포스포노옥시기(-OPO3H2) 및 그 공역 염기기(이후, 포스포네이트옥시기라고 한다), 디알킬포스포노옥시기(-OPO3(알킬)2), 디아릴포스포노옥시기(-OPO3(아릴)2), 알킬아릴포스포노옥시기(-OPO3(알킬)(아릴)), 모노알킬포스포노옥시기(-OPO3H(알킬)) 및 그 공역 염기기(이후, 알킬포스포네이트옥시기라고 한다), 모노아릴포스포노옥시기(-OPO3H(아릴)) 및 그 공역 염기기(이후, 아릴포스포네이트옥시기라고 한다), 시아노기, 니트로기, 아릴기, 헤테로아릴기, 알케닐기, 알키닐기, 실릴기를 들 수 있다. As the substituent of the substituted alkyl group, a group of monovalent nonmetallic atom groups except hydrogen is used. As a preferable example, a halogen atom (-F, -Br, -Cl, -I), a hydroxyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a mercapto group, Alkylthio group, arylthio group, alkyldithio group, aryldithio group, amino group, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, N-arylamino group, N, N-diarylamino group, N-alkyl-N- Arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N, N-diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy group, alkyl sulfoxy group, aryl sulfoxy group, acyloxy group, acylthio group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacylamino group, ureido group, N'-alkyl Ureido group, N ', N'-dialkyl ureido group, N'-aryl ureido group, N', N'- diaryl ureido group, N'-alkyl-N'- aryl ureido Group, N-alkylureido group, N-arylureido group, N'-alkyl-N-alkylureido group, N'-alkyl-N-arylureido group, N ', N'-dialkyl-N-alkylureido group , N ', N'-dialkyl-N-arylureido group, N'-aryl-N-alkylureido group, N'-aryl-N-arylureido group, N', N'-diaryl-N-alkyl Ureido group, N ', N'-diaryl-N-arylureido group, N'-alkyl-N'-aryl-N-alkylureido group, N'-alkyl-N'-aryl-N-arylureido group, Alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino group, N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N -Aryloxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group, alkylsulphi Neyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfo group (-SO 3 H) and its conjugated base group (hereinafter referred to as sulfonate group), alkoxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, sulfinamoyl group , N-alkyl sulfinamoyl group, N, N-dialkyl sulfinamoyl group, N-aryl sulfinamoyl group, N, N- diaryl sulfinamoyl group, N-alkyl-N-aryl sulfinamoyl group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, N, N-diarylsulfamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group, phosphono group (-PO 3 H 2 ) and its conjugated base group (hereinafter referred to as phosphonate group), dialkylphosphono group (-PO 3 (alkyl) 2 ), diarylphosphono group (-PO 3 (aryl) 2 ), Alkylaryl phosphono group (-PO 3 (alkyl) (aryl)), monoalkyl phosphono group (-PO 3 H (alkyl)) and its conjugated base group (hereinafter referred to as alkyl phosphonate group), monoaryl a phosphono group (-PO 3 H (aryl)) and its conjugated salts device (hereinafter, aryl phosphonate This is called dawn), phosphono oxy group (-OPO 3 H 2) and its conjugated salts device (referred to later, the phosphonate group), dialkyl phosphono oxy group (-OPO 3 (alkyl) 2), Diarylphosphonooxy group (-OPO 3 (aryl) 2 ), alkylarylphosphonooxy group (-OPO 3 (alkyl) (aryl)), monoalkylphosphonooxy group (-OPO 3 H (alkyl)) and The conjugated base group (hereinafter referred to as alkylphosphonateoxy group), monoarylphosphonooxy group (-OPO 3 H (aryl)) and the conjugated base group (hereinafter referred to as arylphosphonateoxy group), Cyano group, nitro group, aryl group, heteroaryl group, alkenyl group, alkynyl group, silyl group is mentioned.

이들 치환기에 있어서의 알킬기의 구체예로서는 상술의 알킬기를 들 수 있고, 이들은 치환기를 더 갖고 있어도 좋다.Specific examples of the alkyl group in these substituents include the alkyl groups described above, and these may further have a substituent.

치환기로서는 알콕시기, 아릴옥시기, 알킬티오기, 아릴티오기, N,N-디알킬아미노기, N,N-디아릴아미노기, N-알킬-N-아릴아미노기, 아실옥시기, 아릴기, 헤테로아릴기, 알케닐기, 알키닐기, 실릴기가, 분산 안정성의 점에서 바람직하다.Examples of the substituent include an alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, N, N-dialkylamino group, N, N-diarylamino group, N-alkyl-N-arylamino group, acyloxy group, aryl group, hetero An aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group, and a silyl group are preferable at the point of dispersion stability.

아릴기의 구체예로서는 페닐기, 비페닐기, 나프틸기, 톨릴기, 크실릴기, 메시틸기, 쿠메닐기, 클로로페닐기, 브로모페닐기, 클로로메틸페닐기, 히드록시페닐기, 메톡시페닐기, 에톡시페닐기, 페녹시페닐기, 아세톡시페닐기, 벤조일옥시페닐기, 메틸티오페닐기, 페닐티오페닐기, 메틸아미노페닐기, 디메틸아미노페닐기, 아세틸아미노페닐기, 카르복시페닐기, 메톡시카르보닐페닐기, 에톡시페닐카르보닐기, 페녹시카르보닐페닐기, N-페닐카르바모일페닐기, 페닐기, 시아노페닐기, 술포페닐기, 술포네이트페닐기, 포스포노페닐기, 포스포네이트페닐기 등을 들 수 있다.Specific examples of the aryl group include phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, chloromethylphenyl group, hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group and phenoxy Cyphenyl group, acetoxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group, methylthiophenyl group, phenylthiophenyl group, methylaminophenyl group, dimethylaminophenyl group, acetylaminophenyl group, carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxyphenylcarbonyl group, phenoxycarbonylphenyl group , N-phenylcarbamoylphenyl group, phenyl group, cyanophenyl group, sulfophenyl group, sulfonatephenyl group, phosphonophenyl group, phosphonatephenyl group and the like.

A1 및 A2로서는 분산 안정성, 현상성의 점에서 탄소원자수 1∼20의 직쇄상, 탄소원자수 3∼20의 분기상, 및 탄소원자수 5∼20의 환상의 알킬기가 바람직하고, 탄소원자수 4∼15의 직쇄상, 탄소원자수 4∼15의 분기상, 및 탄소원자수 6∼10의 환상의 알킬기가 보다 바람직하고, 탄소원자수 6∼10의 직쇄상, 탄소원자수 6∼12의 분기상의 알킬기가 더욱 바람직하다.As A 1 and A 2 , in terms of dispersion stability and developability, a straight chain having 1 to 20 carbon atoms, a branched carbon having 3 to 20 carbon atoms, and a cyclic alkyl group having 5 to 20 carbon atoms is preferable, and 4 to 15 carbon atoms are preferred. More preferably, the linear, branched, alkyl group having 4 to 15 carbon atoms, and the cyclic alkyl group having 6 to 10 carbon atoms are more preferable, and the linear alkyl group having 6 to 10 carbon atoms and branched alkyl group having 6 to 12 carbon atoms are more preferable. .

일반식(I) 및 일반식(II) 중, m 및 n은 각각 독립적으로 2∼8의 정수를 나타낸다. 분산 안정성, 현상성의 점에서 4∼6이 바람직하고, 5가 가장 바람직하다.In general formula (I) and general formula (II), m and n respectively independently represent the integer of 2-8. 4-6 are preferable and 5 is the most preferable at the point of dispersion stability and developability.

일반식(I) 및 일반식(II) 중, p 및 q는 각각 독립적으로 1∼100의 정수를 나타낸다. p가 다른 것, q가 다른 것이 2종 이상 혼합되어도 좋다. p 및 q는 분산 안정성, 현상성의 점에서 5∼60이 바람직하고, 5∼40이 보다 바람직하고, 5∼20이 더욱 바람직하다.In general formula (I) and general formula (II), p and q respectively independently represent the integer of 1-100. Different p and different q may be mixed. 5-60 are preferable at the point of dispersion stability and developability, 5-40 are more preferable, and 5-20 are more preferable.

상기 특정 중합체로서는 분산 안정성의 점에서 상기 일반식(I)으로 나타내어지는 반복단위를 포함하는 것이 바람직하다.It is preferable that the said specific polymer contains the repeating unit represented with the said general formula (I) from the point of dispersion stability.

또한, 일반식(I)으로 나타내어지는 반복단위로서는 하기 일반식(I)-2으로 나타내어지는 반복단위인 것이 보다 바람직하다.Moreover, as a repeating unit represented by general formula (I), it is more preferable that it is a repeating unit represented with the following general formula (I) -2.

Figure 112012003313861-pat00008
Figure 112012003313861-pat00008

상기 일반식(I)-2 중, R1∼R3은 각각 독립적으로 수소원자, 또는 1가의 유기기를 나타내고, La는 탄소수 2∼10의 알킬렌기를 나타내고, Lb는 -C(=O)-, 또는 -NHC(=O)-를 나타내고, A1은 1가의 유기기를 나타내고, m은 2∼8의 정수를 나타내고, p는 1∼100의 정수를 나타낸다.In said general formula (I) -2, R <1> -R <3> respectively independently represents a hydrogen atom or monovalent organic group, La represents a C2-C10 alkylene group, and Lb is -C (= O)- , or -NHC (= O) - represents the, a 1 represents a monovalent organic group, m represents an integer of 2~8, p represents an integer of 1 to 100.

일반식(I), (II), 또는 (I)-2으로 나타내어지는 반복단위는 각각 하기 일반식(i), (ii), 또는 (i)-2으로 나타내어지는 단량체를 중합 또는 공중합함으로써 고분자 화합물의 반복단위로서 도입된다.The repeating unit represented by general formula (I), (II), or (I) -2 is a polymer by polymerizing or copolymerizing the monomer represented by the following general formula (i), (ii), or (i) -2, respectively. It is introduced as a repeating unit of the compound.

Figure 112012003313861-pat00009
Figure 112012003313861-pat00009

상기 일반식(i), (ii), 및 (i)-2 중, R1∼R6은 각각 독립적으로 수소원자, 또는 1가의 유기기를 나타내고, X1 및 X2는 각각 독립적으로 -CO-, -C(=O)O-, -CONH-, -OC(=O)-, 또는 페닐렌기를 나타내고, L1 및 L2는 각각 독립적으로 단결합, 또는 2가의 유기 연결기를 나타내고, La는 탄소수 2∼10의 알킬렌기를 나타내고, Lb는 -C(=O)-, 또는 -NHC(=O)-를 나타내고, A1 및 A2는 각각 독립적으로 1가의 유기기를 나타내고, m 및 n은 각각 독립적으로 2∼8의 정수를 나타내고, p 및 q는 각각 독립적으로 1∼100의 정수를 나타낸다.In the general formulas (i), (ii) and (i) -2, R 1 to R 6 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent organic group, and X 1 and X 2 each independently represent -CO-. , -C (= O) O-, -CONH-, -OC (= O)-, or a phenylene group, L 1 and L 2 each independently represent a single bond or a divalent organic linking group, and La is An alkylene group having 2 to 10 carbon atoms is represented, Lb represents -C (= O)-or -NHC (= O)-, A 1 and A 2 each independently represent a monovalent organic group, and m and n are Each independently represents an integer of 2 to 8, and p and q each independently represent an integer of 1 to 100.

이하에, 일반식(i), (ii), 또는 (i)-2으로 나타내어지는 단량체의 바람직한 구체예〔단량체(XA-1)∼(XA-23)〕를 이하에 들지만, 본 발명은 이들에 제한되는 것은 아니다.Although the preferable specific example [monomer (XA-1)-(XA-23)] of the monomer represented by general formula (i), (ii), or (i) -2 below is given to this, It is not limited to.

Figure 112012003313861-pat00010
Figure 112012003313861-pat00010

Figure 112012003313861-pat00011
Figure 112012003313861-pat00011

Figure 112012003313861-pat00012
Figure 112012003313861-pat00012

Figure 112012003313861-pat00013
Figure 112012003313861-pat00013

상기 특정 중합체는 일반식(I) 및 일반식(II) 중 어느 하나로 나타내어지는 반복단위로부터 선택되는 적어도 1종의 반복단위를 포함하고 있으면 좋고, 1종만 포함하는 것이어도 좋고, 2종 이상을 포함해도 좋다.The said specific polymer should just contain at least 1 sort (s) of repeating unit selected from the repeating unit represented by either of general formula (I) and (II), may contain only 1 sort, and contains 2 or more sorts. You may also

또한, 특정 중합체에 있어서 일반식(I) 및 일반식(II) 중 어느 하나로 나타내어지는 반복단위의 함유량은 특별히 제한은 없지만, 중합체에 함유되는 전체 반복단위를 100질량%로 한 경우에 일반식(I) 및 일반식(II) 중 어느 하나로 나타내어지는 반복단위를 5질량% 이상 함유하는 것이 바람직하고, 50질량% 함유하는 것이 보다 바람직하고, 50질량%∼80질량% 함유하는 것이 더욱 바람직하다.In addition, although content of the repeating unit represented by either of general formula (I) and general formula (II) in a specific polymer does not have a restriction | limiting in particular, When the total repeating unit contained in a polymer is 100 mass%, general formula ( It is preferable to contain 5 mass% or more of repeating units represented by either of I) and general formula (II), It is more preferable to contain 50 mass%, It is further more preferable to contain 50 mass%-80 mass%.

상기 특정 중합체는 안료에의 흡착을 향상시킬 목적으로 안료에 흡착할 수 있는 관능기를 갖는 단량체와, 상술의 일반식(i), (ii), (i)-2으로 나타내어지는 단량체를 공중합한 고분자 화합물인 것이 바람직하다. The said specific polymer is a polymer which copolymerized the monomer which has a functional group which can adsorb | suck to a pigment for the purpose of improving the adsorption to a pigment, and the monomer represented by said general formula (i), (ii), (i) -2 mentioned above. It is preferable that it is a compound.

안료에 흡착할 수 있는 관능기를 갖는 단량체로서는 구체적으로는 산성기를 갖는 모노머, 유기 색소 구조 또는 복소환 구조를 갖는 모노머, 염기성 질소원자를 갖는 모노머, 이온성기를 갖는 모노머 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 안료에의 흡착력의 점에서 산성기를 갖는 모노머, 유기 색소 구조 또는 복소환 구조를 갖는 모노머가 바람직하다.As a monomer which has a functional group which can adsorb | suck to a pigment, the monomer which has an acidic group, the monomer which has an organic pigment | dye structure or a heterocyclic structure, the monomer which has a basic nitrogen atom, the monomer which has an ionic group, etc. are mentioned specifically ,. Especially, the monomer which has an acidic group, the organic pigment | dye structure, or the heterocyclic structure is preferable at the point of the adsorption power to a pigment.

산성기를 갖는 모노머의 예로서는 카르복실기를 갖는 비닐 모노머나 술폰산기를 갖는 비닐 모노머를 들 수 있다.Examples of the monomer having an acidic group include a vinyl monomer having a carboxyl group and a vinyl monomer having a sulfonic acid group.

카르복실기를 갖는 비닐 모노머로서 (메타)아크릴산, 비닐벤조산, 말레산, 말레산 모노알킬에스테르, 푸말산, 이타콘산, 크로톤산, 계피산, 아크릴산 다이머 등을 들 수 있다. 또한, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트 등의 수산기를 갖는 단량체와 무수 말레산, 무수 프탈산, 무수 숙신산, 시클로헥산디카르복실산 무수물과 같은 환상 무수물의 부가 반응물, ω-카르복시-폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트 등도 이용할 수 있다. 또한, 카르복실기의 전구체로서 무수 말레산, 무수 이타콘산, 무수 시트라콘산 등의 무수물 함유 모노머를 사용해도 좋다. 또한, 이들 중에서는 미노광부의 현상 제거성의 관점에서 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트 등의 수산기를 갖는 단량체와 무수 말레산, 무수 프탈산, 무수 숙신산, 시클로헥산디카르복실산 무수물과 같은 환상 무수물의 부가 반응물이 바람직하다.Examples of the vinyl monomer having a carboxyl group include (meth) acrylic acid, vinyl benzoic acid, maleic acid, maleic acid monoalkyl esters, fumaric acid, itaconic acid, crotonic acid, cinnamic acid, and acrylic acid dimers. Moreover, the addition reaction product of the monomer which has a hydroxyl group, such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, and cyclic anhydrides, such as maleic anhydride, a phthalic anhydride, succinic anhydride, cyclohexanedicarboxylic anhydride, omega-carboxy-polycapro Lactone mono (meth) acrylate etc. can also be used. Moreover, you may use anhydride containing monomers, such as maleic anhydride, itaconic anhydride, a citraconic acid anhydride, as a precursor of a carboxyl group. Moreover, in these, the monomer which has a hydroxyl group, such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, and cyclic | annulars, such as maleic anhydride, a phthalic anhydride, succinic anhydride, and cyclohexane dicarboxylic anhydride, from a viewpoint of the image development removal property of an unexposed part. Addition reactants of anhydride are preferred.

또한, 술폰산기를 갖는 비닐 모노머로서 2-아크릴아미드-2-메틸프로판술폰산 등을 들 수 있고, 인산기를 갖는 비닐 모노머로서 인산 모노(2-아크릴로일옥시에틸에스테르), 인산 모노(1-메틸-2-아크릴로일옥시에틸에스테르) 등을 들 수 있다.Moreover, 2-acrylamide-2-methylpropanesulfonic acid etc. are mentioned as a vinyl monomer which has a sulfonic acid group, Monophosphoric acid mono (2-acryloyloxyethyl ester), Monophosphoric acid (1-methyl-) as a vinyl monomer which has a phosphoric acid group 2-acryloyloxyethyl ester) etc. are mentioned.

상기 특정 중합체는 상술한 바와 같은 산성기를 갖는 모노머에 유래하는 반복단위를 포함하는 것이 바람직하다. 이러한 반복단위를 포함함으로써 본 발명의 안료 분산 조성물을 착색 감방사선성 조성물에 적용한 경우에 있어서 미노광부의 현상 제거성이 우수하다.It is preferable that the said specific polymer contains the repeating unit derived from the monomer which has an acidic group as mentioned above. By including such a repeating unit, when the pigment dispersion composition of this invention is applied to a coloring radiation sensitive composition, the image development removal property of an unexposed part is excellent.

상기 특정 중합체는 산성기를 갖는 모노머에 유래하는 반복단위를 1종만 포함하는 것이어도 좋고, 2종 이상을 포함해도 좋다.The said specific polymer may contain only 1 type of repeating units derived from the monomer which has an acidic group, and may contain 2 or more types.

특정 중합체에 있어서 산성기를 갖는 모노머에 유래하는 반복단위의 함유량은 바람직하게는 50mgKOH/g 이상이며, 특히 바람직하게는 50mgKOH/g∼200mgKOH/g 이다. 즉, 현상액 중에서의 석출물의 생성 억제라는 점에서는 산성기를 갖는 모노머에 유래하는 반복단위의 함유량은 50mgKOH/g 이상인 것이 바람직하다. 안료의 1차 입자의 응집체인 2차 응집체의 생성을 효과적으로 억제, 또는 2차 응집체의 응집력을 효과적으로 약화시키기 위해서는 산성기를 갖는 모노머에 유래하는 반복단위의 함유량은 50mgKOH/g∼200mgKOH/g인 것이 바람직하다.Content of the repeating unit derived from the monomer which has an acidic group in a specific polymer becomes like this. Preferably it is 50 mgKOH / g or more, Especially preferably, it is 50 mgKOH / g-200 mgKOH / g. In other words, the content of the repeating unit derived from the monomer having an acidic group is preferably 50 mgKOH / g or more from the viewpoint of suppressing the formation of precipitates in the developing solution. In order to effectively suppress the production of secondary aggregates, which are aggregates of primary particles of pigments, or to effectively weaken the cohesion of secondary aggregates, the content of repeating units derived from monomers having acidic groups is preferably 50 mgKOH / g to 200 mgKOH / g. Do.

상기 유기 색소 구조 또는 복소환 구조를 갖는 모노머로서는 예를 들면, 일본 특허 공개 2009-256572호 공보의 단락번호 0048∼단락번호 0070에 기재되어 있는 특정 단량체, 말레이미드, 및 말레이미드 유도체로 이루어지는 군에서 선택되는 1종을 들 수 있다.As a monomer which has the said organic pigment | dye structure or heterocyclic structure, For example, Paragraph No. 0048-Paragraph 0070 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-256572-from the group which consists of a specific monomer, maleimide, and a maleimide derivative are described. One kind selected can be mentioned.

상기 염기성 질소원자를 갖는 모노머로서는 (메타)아크릴산 에스테르로서 (메타)아크릴산 N,N-디메틸아미노에틸, (메타)아크릴산 N,N-디메틸아미노프로필, (메타)아크릴산 1-(N,N-디메틸아미노)-1,1-디메틸메틸, (메타)아크릴산 N,N-디메틸아미노헥실, (메타)아크릴산 N,N-디에틸아미노에틸, (메타)아크릴산 N,N-디이소프로필아미노에틸, (메타)아크릴산 N,N-디-n-부틸아미노에틸, (메타)아크릴산 N,N-디-i-부틸아미노에틸, (메타)아크릴산 모르폴리노에틸, (메타)아크릴산 피페리디노에틸, (메타)아크릴산 1-피롤리디노에틸, (메타)아크릴산 N,N-메틸-2-피롤리딜아미노에틸 및 (메타)아크릴산 N,N-메틸페닐아미노에틸 등을 들 수 있고, (메타)아크릴아미드류로서 N-(N',N'-디메틸아미노에틸)아크릴아미드, N-(N',N'-디메틸아미노에틸)메타크릴아미드, N-(N',N'-디에틸아미노에틸)아크릴아미드, N-(N',N'-디에틸아미노에틸)메타크릴아미드, N-(N',N'-디메틸아미노프로필)아크릴아미드, N-(N',N'-디메틸아미노프로필)메타크릴아미드, N-(N',N'-디에틸아미노프로필)아크릴아미드, N-(N',N'-디에틸아미노프로필)메타크릴아미드, 2-(N,N-디메틸아미노)에틸(메타)아크릴아미드, 2-(N,N-디에틸아미노)에틸(메타)아크릴아미드, 3-(N,N-디에틸아미노)프로필(메타)아크릴아미드, 3-(N,N-디메틸아미노)프로필(메타)아크릴아미드, 1-(N,N-디메틸아미노)-1,1-디메틸메틸(메타)아크릴아미드 및 6-(N,N-디에틸아미노)헥실(메타)아크릴아미드, 모르폴리노(메타)아크릴아미드, 피페리디노(메타)아크릴아미드, N-메틸-2-피롤리딜(메타)아크릴아미드 등을 들 수 있고, 스티렌류로서 N,N-디메틸아미노스티렌, N,N-디메틸아미노메틸스티렌 등을 들 수 있다.Examples of the monomer having a basic nitrogen atom include (meth) acrylic acid N, N-dimethylaminoethyl, (meth) acrylic acid N, N-dimethylaminopropyl, and (meth) acrylic acid 1- (N, N-dimethyl Amino) -1,1-dimethylmethyl, (meth) acrylic acid N, N-dimethylaminohexyl, (meth) acrylic acid N, N-diethylaminoethyl, (meth) acrylic acid N, N-diisopropylaminoethyl, ( Meta) N, N-di-n-butylaminoethyl acrylate, N, N-di-i-butylaminoethyl (meth) acrylate, morpholinoethyl (meth) acrylate, piperidinoethyl (meth) acrylate, ( (Meth) acrylic acid 1-pyrrolidinoethyl, (meth) acrylic acid N, N-methyl- 2-pyrrolidylaminoethyl, (meth) acrylic acid N, N-methylphenylaminoethyl, etc. are mentioned, (meth) acrylamide N- (N ', N'-dimethylaminoethyl) acrylamide, N- (N', N'-dimethylaminoethyl) methacrylamide, N- (N ', N'-diethylaminoethyl) as Drew Acrylamide, N- (N ', N'-diethylaminoethyl) methacrylamide, N- (N', N'-dimethylaminopropyl) acrylamide, N- (N ', N'-dimethylaminopropyl) Methacrylamide, N- (N ', N'-diethylaminopropyl) acrylamide, N- (N', N'-diethylaminopropyl) methacrylamide, 2- (N, N-dimethylamino) ethyl (Meth) acrylamide, 2- (N, N-diethylamino) ethyl (meth) acrylamide, 3- (N, N-diethylamino) propyl (meth) acrylamide, 3- (N, N-dimethyl Amino) propyl (meth) acrylamide, 1- (N, N-dimethylamino) -1,1-dimethylmethyl (meth) acrylamide and 6- (N, N-diethylamino) hexyl (meth) acrylamide, Morpholino (meth) acrylamide, piperidino (meth) acrylamide, N-methyl-2-pyrrolidyl (meth) acrylamide, etc. are mentioned, As styrene, N, N- dimethylamino styrene, N And N-dimethylaminomethyl styrene.

또한, 우레아기, 우레탄기, 배위성 산소원자를 갖는 탄소수 4 이상의 탄화수소기, 알콕시실릴기, 에폭시기, 이소시아네이트기, 수산기를 갖는 모노머를 사용하는 것도 가능하다. 구체적으로는 예를 들면, 이하의 구조의 모노머를 들 수 있다.It is also possible to use a monomer having a urea group, a urethane group, a hydrocarbon group having 4 or more carbon atoms having a coordinating oxygen atom, an alkoxysilyl group, an epoxy group, an isocyanate group and a hydroxyl group. Specifically, the monomer of the following structures is mentioned, for example.

Figure 112012003313861-pat00014
Figure 112012003313861-pat00014

이온성기를 갖는 모노머로서는 이온성기를 갖는 비닐 모노머(음이온성 비닐 모노머, 양이온성 비닐 모노머)를 들 수 있다. 이 예로서는 음이온성 비닐 모노머로서 상기 산성기를 갖는 비닐 모노머의 알칼리 금속염이나, 유기 아민(예를 들면, 트리에틸아민, 디메틸아미노에탄올 등의 3급 아민)과의 염 등을 들 수 있고, 양이온성 비닐 모노머로서는 상기 질소 함유 비닐 모노머를 할로겐화 알킬(알킬기:C1∼18, 할로겐원자:염소원자, 브롬원자 또는 요오드원자); 염화 벤질, 브롬화 벤질 등의 할로겐화 벤질; 메탄술폰산 등의 알킬술폰산 에스테르(알킬기:C1∼18); 벤젠술폰산, 톨루엔술폰산 등의 아릴술폰산 알킬에스테르(알킬기:C1∼18); 황산 디알킬(알킬기:C1∼4) 등으로 4급화시킨 것, 디알킬디알릴암모늄염 등을 들 수 있다.As a monomer which has an ionic group, the vinyl monomer (anionic vinyl monomer, cationic vinyl monomer) which has an ionic group is mentioned. Examples of the anionic vinyl monomers include alkali metal salts of the vinyl monomers having the acidic group, salts with organic amines (eg, tertiary amines such as triethylamine and dimethylaminoethanol), and cationic vinyls. As a monomer, the said nitrogen-containing vinyl monomer is halogenated alkyl (alkyl group: C1-18, halogen atom: chlorine atom, bromine atom, or iodine atom); Halogenated benzyl, such as benzyl chloride and benzyl bromide; Alkyl sulfonic acid esters such as methanesulfonic acid (alkyl groups: C1-18); Aryl sulfonic acid alkyl esters (alkyl groups: C1-18) such as benzene sulfonic acid and toluene sulfonic acid; The quaternized by dialkyl sulfate (alkyl group: C1-4) etc., a dialkyl diallyl ammonium salt, etc. are mentioned.

안료에 흡착할 수 있는 관능기를 갖는 모노머는 분산되는 안료의 종류에 따라 적당히 선택할 수 있고, 이들은 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.The monomer which has a functional group which can adsorb | suck to a pigment can be suitably selected according to the kind of pigment to be disperse | distributed, These may be used independently and may use 2 or more types together.

상기 특정 중합체는 그 효과를 손상시키지 않는 범위에 있어서 공중합 가능한 비닐 모노머에 유래하는 반복단위를 더 포함하고 있어도 좋다.The said specific polymer may further contain the repeating unit derived from the vinyl monomer which can be copolymerized in the range which does not impair the effect.

여기서 사용 가능한 비닐 모노머로서는 특별히 제한되지 않지만, 예를 들면, (메타)아크릴산 에스테르류, 크로톤산 에스테르류, 비닐에스테르류, 말레산 디에스테르류, 푸말산 디에스테르류, 이타콘산 디에스테르류, (메타)아크릴아미드류, 비닐에테르류, 비닐알콜의 에스테르류, 스티렌류, (메타)아크릴로니트릴 등이 바람직하다. 이러한 비닐 모노머의 구체예로서는 예를 들면 이하와 같은 화합물을 들 수 있다. 또한, 본 명세서에 있어서 「아크릴, 메타크릴」 중 어느 하나 또는 둘다를 나타내는 경우 「(메타)아크릴」이라고 기재하는 경우가 있다.Although it does not restrict | limit especially as a vinyl monomer which can be used here, For example, (meth) acrylic acid ester, crotonic acid ester, vinyl ester, maleic acid diester, fumaric acid diester, itaconic acid diester, ( Meta) acrylamides, vinyl ethers, esters of vinyl alcohol, styrenes, (meth) acrylonitrile and the like are preferable. As a specific example of such a vinyl monomer, the following compounds are mentioned, for example. In addition, in this specification, when showing either or both of "acryl and methacryl", it may describe as "(meth) acryl."

(메타)아크릴산 에스테르류의 예로서는 (메타)아크릴산 메틸, (메타)아크릴산 에틸, (메타)아크릴산 n-프로필, (메타)아크릴산 이소프로필, (메타)아크릴산 n-부틸, (메타)아크릴산 이소부틸, (메타)아크릴산 t-부틸, (메타)아크릴산 n-헥실, (메타)아크릴산 시클로헥실, (메타)아크릴산 t-부틸시클로헥실, (메타)아크릴산 2-에틸헥실, (메타)아크릴산 t-옥틸, (메타)아크릴산 도데실, (메타)아크릴산 옥타데실, (메타)아크릴산 아세톡시에틸, (메타)아크릴산 아세토아세톡시에틸, (메타)아크릴산 페닐, (메타)아크릴산 2-히드록시에틸, (메타)아크릴산 2-메톡시에틸, (메타)아크릴산 2-에톡시에틸, (메타)아크릴산 2-(2-메톡시에톡시)에틸, (메타)아크릴산 3-페녹시-2-히드록시프로필, (메타)아크릴산 벤질, (메타)아크릴산 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, (메타)아크릴산 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, (메타)아크릴산 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, (메타)아크릴산 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르, (메타)아크릴산 폴리에틸렌글리콜모노메틸에테르, (메타)아크릴산 폴리에틸렌글리콜모노에틸에테르, (메타)아크릴산 β-페녹시에톡시에틸, (메타)아크릴산 노닐페녹시폴리에틸렌글리콜, (메타)아크릴산 디시클로펜테닐, (메타)아크릴산 디시클로펜테닐옥시에틸, (메타)아크릴산 트리플루오로에틸, (메타)아크릴산 옥타플루오로펜틸, (메타)아크릴산 퍼플루오로옥틸에틸, (메타)아크릴산 디시클로펜타닐, (메타)아크릴산 트리브로모페닐, (메타)아크릴산 트리브로모페닐옥시에틸 등을 들 수 있다.Examples of (meth) acrylic acid esters include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, T-butyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, t-butylcyclohexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, t-octyl (meth) acrylate, (Meth) acrylic acid dodecyl, (meth) acrylic acid octadecyl, (meth) acrylate acetoxyethyl, (meth) acrylate acetoacetoxyethyl, (meth) acrylate phenyl, (meth) acrylate 2-hydroxyethyl, (meth) 2-methoxyethyl acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, 2- (2-methoxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, 3-phenoxy-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, (meth ) Benzyl acrylate, (meth) acrylic acid diethylene glycol monomethyl ether, (meth) acrylic acid Ethylene glycol monoethyl ether, (meth) acrylic acid triethylene glycol monomethyl ether, (meth) acrylic acid triethylene glycol monoethyl ether, (meth) acrylic acid polyethylene glycol monomethyl ether, (meth) acrylic acid polyethylene glycol monoethyl ether, (meth) (Beta) -phenoxy methoxyethyl acrylate, nonylphenoxy polyethylene glycol (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl oxyethyl (meth) acrylate, trifluoroethyl (meth) acrylate, ( (Meth) acrylic acid octafluoropentyl, (meth) acrylic acid perfluorooctylethyl, (meth) acrylic acid dicyclopentanyl, (meth) acrylic acid tribromophenyl, (meth) acrylic acid tribromophenyloxyethyl, etc. are mentioned. .

크로톤산 에스테르류의 예로서는 크로톤산 부틸, 및 크로톤산 헥실 등을 들 수 있다. Examples of the crotonic acid esters include butyl crotonate, hexyl crotonate, and the like.

비닐에스테르류의 예로서는 비닐아세테이트, 비닐프로피오네이트, 비닐부틸레이트, 비닐메톡시아세테이트, 및 벤조산 비닐 등을 들 수 있다.Examples of vinyl esters include vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl methoxy acetate, vinyl benzoate and the like.

말레산 디에스테르류의 예로서는 말레산 디메틸, 말레산 디에틸, 및 말레산 디부틸 등을 들 수 있다.Examples of the maleic acid diesters include dimethyl maleate, diethyl maleate, and dibutyl maleate.

푸말산 디에스테르류의 예로서는 푸말산 디메틸, 푸말산 디에틸, 및 푸말산 디부틸 등을 들 수 있다.Examples of the fumaric acid diesters include dimethyl fumarate, diethyl fumarate, and dibutyl fumarate.

이타콘산 디에스테르류의 예로서는 이타콘산 디메틸, 이타콘산 디에틸, 및 이타콘산 디부틸 등을 들 수 있다.Examples of itaconic acid diesters include dimethyl itaconate, diethyl itaconate, dibutyl itaconate, and the like.

(메타)아크릴아미드류로서는 (메타)아크릴아미드, N-메틸(메타)아크릴아미드, N-에틸(메타)아크릴아미드, N-프로필(메타)아크릴아미드, N-이소프로필(메타)아크릴아미드, N-n-부틸아크릴(메타)아미드, N-t-부틸(메타)아크릴아미드, N-시클로헥실(메타)아크릴아미드, N-(2-메톡시에틸)(메타)아크릴아미드, N,N-디메틸(메타)아크릴아미드, N,N-디에틸(메타)아크릴아미드, N-페닐(메타)아크릴아미드, N-벤질(메타)아크릴아미드, (메타)아크릴로일모르폴린, 디아세톤아크릴아미드 등을 들 수 있다.As (meth) acrylamide, (meth) acrylamide, N-methyl (meth) acrylamide, N-ethyl (meth) acrylamide, N-propyl (meth) acrylamide, N-isopropyl (meth) acrylamide, Nn-butylacryl (meth) amide, Nt-butyl (meth) acrylamide, N-cyclohexyl (meth) acrylamide, N- (2-methoxyethyl) (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth ) Acrylamide, N, N-diethyl (meth) acrylamide, N-phenyl (meth) acrylamide, N-benzyl (meth) acrylamide, (meth) acryloyl morpholine, diacetone acrylamide, etc. are mentioned. Can be.

비닐에테르류의 예로서는 메틸비닐에테르, 부틸비닐에테르, 헥실비닐에테르, 및 메톡시에틸비닐에테르 등을 들 수 있다. Examples of the vinyl ethers include methyl vinyl ether, butyl vinyl ether, hexyl vinyl ether, and methoxyethyl vinyl ether.

스티렌류의 예로서는 스티렌, 메틸스티렌, 디메틸스티렌, 트리메틸스티렌, 에틸스티렌, 이소프로필스티렌, 부틸스티렌, 히드록시스티렌, 메톡시스티렌, 부톡시스티렌, 아세톡시스티렌, 클로로스티렌, 디클로로스티렌, 브로모스티렌, 클로로메틸스티렌, 산성물질에 의해 탈보호 가능한 기(예를 들면 t-Boc 등)로 보호된 히드록시스티렌, 비닐벤조산 메틸, 및 α-메틸스티렌 등을 들 수 있다.Examples of styrenes include styrene, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, isopropyl styrene, butyl styrene, hydroxy styrene, methoxy styrene, butoxy styrene, acetoxy styrene, chloro styrene, dichloro styrene and bromostyrene And chloromethylstyrene, hydroxystyrene protected with a group (for example, t-Boc, etc.) which can be deprotected by an acidic substance, methyl vinylbenzoate, α-methylstyrene, and the like.

상기 특정 중합체의 바람직한 형태는 적어도 일반식(i), (ii), 또는 (i)-2으로 나타내어지는 단량체와, 산성기를 갖는 모노머, 또는 유기 색소 구조 또는 복소환 구조를 갖는 모노머를 공중합한 것이며, 더욱 바람직하게는 적어도 상술의 일반식(i)-2으로 나타내어지는 단량체와, 산기를 갖는 모노머를 공중합한 것이다.Preferred embodiments of the specific polymer are copolymerized at least with a monomer represented by formula (i), (ii), or (i) -2, a monomer having an acidic group, or a monomer having an organic dye structure or a heterocyclic structure. More preferably, at least the monomer represented by general formula (i) -2 mentioned above and the monomer which has an acidic radical are copolymerized.

이 형태에 의해, 안료흡착에 의해 우수하고, 또한 현상성이 보다 우수한 안료 분산 조성물을 부여할 수 있다.According to this aspect, the pigment dispersion composition which is excellent by pigment adsorption and excellent in developability can be provided.

또한, 본 발명에 있어서는 이하에 나타내는 분산제가 특히 바람직하다.Moreover, in this invention, the dispersing agent shown below is especially preferable.

Figure 112012003313861-pat00015
Figure 112012003313861-pat00015

Figure 112012003313861-pat00016
Figure 112012003313861-pat00016

상기 특정 중합체의 바람직한 분자량은 중량 평균 분자량(Mw)으로 5000∼100000의 범위, 수평균 분자량(Mn)으로 2500∼50000의 범위인 것이 바람직하다. 중량 평균 분자량(Mw)으로 10000∼50000의 범위, 수평균 분자량(Mn)으로 5000∼30000의 범위인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that the preferable molecular weights of the said specific polymer are the ranges of 5000-100000 in a weight average molecular weight (Mw), and the range of 2500-50000 in a number average molecular weight (Mn). More preferably in the range of 10,000 to 50,000 in terms of weight average molecular weight (Mw) and in the range of 5000 to 30,000 in number average molecular weight (Mn).

특히, 중량 평균 분자량(Mw)으로 10000∼30000의 범위, 수평균 분자량(Mn)으로 5000∼15000의 범위인 것이 가장 바람직하다.In particular, it is most preferable that it is the range of 10000-30000 in a weight average molecular weight (Mw), and the range of 5000-15000 in a number average molecular weight (Mn).

즉, 안료의 1차 입자의 응집체인 2차 응집체를 효과적으로 풀고, 또는 재응집을 효과적으로 약화시키기 위한 관점에서는 특정 중합체의 중량 평균 분자량(Mw)은 10000 이상인 것이 바람직하다. 또한, 안료 분산 조성물을 함유하는 착색 감방사선성 조성물에 의해 컬러필터를 제조할 때의 현상성의 관점에서는 특정 중합체의 중량 평균 분자량(Mw)은 30000 이하인 것이 바람직하다.That is, it is preferable that the weight average molecular weight (Mw) of a specific polymer is 10000 or more from a viewpoint of effectively loosening the secondary aggregate which is an aggregate of the primary particle of a pigment, or weakening reaggregation effectively. Moreover, it is preferable that the weight average molecular weight (Mw) of a specific polymer is 30000 or less from a developable viewpoint at the time of manufacturing a color filter with the colored radiation-sensitive composition containing a pigment dispersion composition.

상기 특정 중합체는 예를 들면, 일반식(i), (ii), 또는 (i)-2으로 나타내어지는 단량체와, 공중합 성분으로서 다른 라디칼 중합성 화합물(상술과 같은 각종 모노머)을 사용해서 통상의 라디칼 중합법에 의해 제조할 수 있다. The said specific polymer is normal, for example using the monomer represented by general formula (i), (ii), or (i) -2, and another radically polymerizable compound (various monomers mentioned above) as a copolymerization component. It can manufacture by a radical polymerization method.

일반적으로는 현탁 중합법 또는 용액 중합법 등을 사용한다. 이러한 특정 중합체를 합성할 때에 사용되는 용매로서는 예를 들면, 염화에틸렌, 시클로헥사논, 메틸에틸케톤, 아세톤, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 2-메톡시에틸아세테이트, 1-메톡시-2-프로판올, 1-메톡시-2-프로필아세테이트, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, 디메틸술폭시드, 톨루엔, 아세트산 에틸, 락트산 메틸, 락트산 에틸 등을 들 수 있다. 이들 용매는 단독 또는 2종 이상 혼합해도 좋다.Generally, suspension polymerization or solution polymerization is used. As a solvent used when synthesizing such a specific polymer, for example, ethylene chloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, propanol, butanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 2- Methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propanol, 1-methoxy-2-propylacetate, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, toluene, ethyl acetate, lactic acid Methyl, ethyl lactate, etc. are mentioned. These solvents may be used singly or in combination of two or more.

또한, 라디칼 중합시 라디칼 중합 개시제를 사용할 수 있고, 또한, 연쇄 이동제(예, 2-메르캅토에탄올 및 도데실메르캅탄)를 더 사용할 수 있다.In addition, a radical polymerization initiator may be used in the radical polymerization, and a chain transfer agent (for example, 2-mercaptoethanol and dodecyl mercaptan) may be further used.

또한, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에 있어서 필요에 따라서 상술의 특정 중합체 이외에 다른 고분자 화합물을 동시에 사용해도 좋다.In addition, in the range which does not impair the effect of this invention, you may simultaneously use other high molecular compounds other than the specific polymer mentioned above as needed.

다른 고분자 화합물로서는 천연 수지, 변성 천연 수지, 합성 수지, 천연 수지로 변성된 합성 수지 등을 사용할 수 있다.As another polymer compound, natural resin, modified natural resin, synthetic resin, synthetic resin modified with natural resin, etc. can be used.

천연 수지로서는 로진이 대표적이며, 변성 천연 수지로서는 로진 유도체, 섬유소 유도체, 고무 유도체, 단백 유도체 및 이들의 올리고머를 들 수 있다. 합성 수지로서는 에폭시 수지, 아크릴 수지, 말레산 수지, 부티랄 수지, 폴리에스테르 수지, 멜라민 수지, 페놀 수지, 폴리우레탄 수지 등을 들 수 있다. 천연 수지로 변성된 합성 수지로서는 로진 변성 말레산 수지, 로진 변성 페놀 수지 등을 들 수 있다.Rosin is typical as a natural resin, and rosin derivatives, a cellulose derivative, a rubber derivative, a protein derivative, and these oligomers are mentioned as a modified natural resin. Examples of the synthetic resin include an epoxy resin, an acrylic resin, a maleic acid resin, a butyral resin, a polyester resin, a melamine resin, a phenol resin, and a polyurethane resin. Examples of the synthetic resin modified with natural resins include rosin-modified maleic acid resins and rosin-modified phenolic resins.

합성 수지로서는 폴리아미드아민과 그 염, 폴리카르복실산과 그 염, 고분자량 불포화산 에스테르, 폴리우레탄, 폴리에스테르, 폴리(메타)아크릴레이트, (메타)아크릴계 공중합체, 나프탈렌술폰산 포르말린 축합물을 들 수 있다.Examples of the synthetic resin include polyamide amines and their salts, polycarboxylic acids and their salts, high molecular weight unsaturated acid esters, polyurethanes, polyesters, poly (meth) acrylates, (meth) acrylic copolymers and naphthalenesulfonic acid formalin condensates. .

이들 안료 분산제는 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 조합해서 사용해도 좋다. 본 발명에 있어서는 특히 안료 유도체와 고분자 분산제를 조합해서 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 본 발명에 있어서의 안료 분산제는 상기 안료 표면에의 앵커 부위를 갖는 말단 변성형 고분자, 그래프트형 고분자, 블록형 고분자와 함께 후술의 알칼리 가용성 수지와 병용해서 사용해도 좋다.These pigment dispersants may be used alone or in combination of two or more. In the present invention, it is particularly preferable to use a combination of a pigment derivative and a polymeric dispersant. In addition, the pigment dispersant in the present invention may be used in combination with an alkali-soluble resin described below together with a terminal modified polymer, a graft polymer, and a block polymer having an anchor portion to the pigment surface.

안료 분산액에 있어서의 안료 분산제의 함유량은 안료 100질량부에 대해서 1질량부∼80질량부인 것이 바람직하고, 5질량부∼70질량부가 보다 바람직하고, 10질량부∼60질량부인 것이 더욱 바람직하다. It is preferable that content of the pigment dispersant in a pigment dispersion liquid is 1 mass part-80 mass parts with respect to 100 mass parts of pigments, 5 mass parts-70 mass parts are more preferable, It is further more preferable that they are 10 mass parts-60 mass parts.

고분자 분산제를 사용하는 경우이면 그 사용량으로서는 안료 100질량부에 대해서 질량 환산으로 5질량부∼100부의 범위가 바람직하고, 10질량부∼80부의 범위인 것이 보다 바람직하다.When using a polymeric dispersing agent, as the usage-amount, the range of 5 mass parts-100 parts is preferable in mass conversion with respect to 100 mass parts of pigments, and it is more preferable that it is the range of 10 mass parts-80 parts.

(안료 유도체)(Pigment derivative)

안료 분산 조성물은 필요에 따라서 안료 유도체가 첨가된다. 분산제와 친화성이 있는 부분, 또는 극성기를 도입한 안료 유도체를 안료 표면에 흡착시켜 이것을 분산제의 흡착점으로서 사용함으로써 안료를 미세한 입자로서 착색 감방사선성 조성물 중에 분산시키고, 그 재응집을 방지할 수 있고, 콘트라스트가 높고, 투명성이 우수한 컬러필터를 구성하는데에 유효하다.The pigment dispersion composition is optionally added with a pigment derivative. A pigment derivative having affinity with a dispersant or a polar group introduced therein is adsorbed on the surface of the pigment and used as the adsorption point of the dispersant, thereby dispersing the pigment as fine particles in the colored radiation-sensitive composition and preventing reaggregation thereof. It is effective in forming a color filter having high contrast and excellent transparency.

안료 유도체는 구체적으로는 유기안료를 모체골격으로 하고, 측쇄에 산성기나 염기성기, 방향족기를 치환기로서 도입한 화합물이다. 유기안료는 구체적으로는 퀴나크리돈계 안료, 프탈로시아닌계 안료, 아조계 안료, 퀴노프탈론계 안료, 이소인돌린계 안료, 이소인돌리논계 안료, 퀴놀린 안료, 디케토피롤로피롤 안료, 벤조이미다졸론 안료 등을 들 수 있다. 일반적으로 색소라고 부르고 있지 않은 나프탈렌계, 안트라퀴논계, 트리아진계, 퀴놀린계 등의 담황색의 방향족 다환 화합물도 포함된다. 색소 유도체로서는 일본 특허 공개 평 11-49974호 공보, 일본 특허 공개 평 11-189732호 공보, 일본 특허 공개 평 10-245501호 공보, 일본 특허 공개 2006-265528호 공보, 일본 특허 공개 평 8-295810호 공보, 일본 특허 공개 평 11-199796호 공보, 일본 특허 공개 2005-234478호 공보, 일본 특허 공개 2003-240938호 공보, 일본 특허 공개 2001-356210호 공보, 일본 특허 공개 2009- 102532호 공보 등에 기재되어 있는 것을 사용할 수 있다.Specifically, the pigment derivative is a compound having an organic pigment as a matrix skeleton and an acidic group, a basic group or an aromatic group as a substituent. Specific examples of the organic pigments include quinacridone pigments, phthalocyanine pigments, azo pigments, quinophthalone pigments, isoindolin pigments, isoindolinone pigments, quinoline pigments, diketopyrrolopyrrole pigments, benzoimidazolone pigments, Pigments, and the like. Light yellow aromatic polycyclic compounds, such as naphthalene series, anthraquinone series, triazine series, and quinoline series, which are not generally called dyes, are also included. As a pigment derivative, Unexamined-Japanese-Patent No. 11-49974, Unexamined-Japanese-Patent No. 11-189732, Unexamined-Japanese-Patent No. 10-245501, Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-265528, Unexamined-Japanese-Patent No. 8-295810 Japanese Patent Laid-Open No. 11-199796, Japanese Patent Laid-Open No. 2005-234478, Japanese Patent Laid-Open No. 2003-240938, Japanese Patent Laid-Open No. 2001-356210, Japanese Patent Laid-Open No. 2009-102532, etc. You can use what you have.

본 발명에 있어서의 안료 유도체로서는 일본 특허 공개 평 11-49974호 공보, 일본 특허 공개 평 11-189732호 공보, 일본 특허 공개 평 10-245501호 공보, 일본 특허 공개 2006-265528호 공보, 일본 특허 공개 평 8-295810호 공보, 일본 특허 공개 평 11-199796호 공보, 일본 특허 공개 2005-234478호 공보, 일본 특허 공개 2003-240938호 공보, 일본 특허 공개 2001-356210호 공보, 일본 특허 공개 2000-239554공보 등에 기재되어 있는 아조 안료 유도체도 사용할 수 있다.As a pigment derivative in this invention, Unexamined-Japanese-Patent No. 11-49974, Unexamined-Japanese-Patent No. 11-189732, Unexamined-Japanese-Patent No. 10-245501, Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-265528, Japan Patent Publication Japanese Patent Laid-Open No. Hei 8-295810, Japanese Patent Laid-Open No. 11-199796, Japanese Patent Laid-Open 2005-234478, Japanese Patent Laid-Open 2003-240938, Japanese Patent Laid-Open 2001-356210, Japanese Patent Laid-Open 2000-239554 The azo pigment derivative described in the publication etc. can also be used.

본 발명에 있어서의 아조 안료 유도체로서는 분산 안정성을 보다 향상시키는 관점에서 상기 아조 안료 유도체 중 하기 일반식(P1)으로 나타내어지는 화합물이 특히 바람직하다.As an azo pigment derivative in this invention, the compound represented with the following general formula (P1) among the said azo pigment derivatives is especially preferable from a viewpoint of further improving dispersion stability.

Figure 112012003313861-pat00017
Figure 112012003313861-pat00017

일반식(P1) 중, A는 X-Y와 함께 아조 안료를 형성할 수 있는 성분을 나타낸다. 상기 A는 디아조늄 화합물과 커플링해서 아조 안료를 형성할 수 있는 화합물이면 임의로 선택할 수 있다. 이하에, 상기 A의 구체예를 나타내지만, 본 발명은 이들 구체예에 조금도 한정되는 것은 아니다.In general formula (P1), A represents the component which can form an azo pigment with X-Y. The said A can be arbitrarily selected as long as it is a compound which can form an azo pigment by coupling with a diazonium compound. Although the specific example of said A is shown below, this invention is not limited to these specific examples at all.

Figure 112012003313861-pat00018
Figure 112012003313861-pat00018

Figure 112012003313861-pat00019
Figure 112012003313861-pat00019

상기 일반식(P1) 중, X는 단결합(Y가 -N=N-에 직결되어 있는 것을 의미한다), 또는 하기 구조식으로 나타내어지는 2가의 연결기로부터 선택되는 기를 나타낸다.In said general formula (P1), X represents group chosen from a single bond (it means that Y is connected directly to -N = N-), or the bivalent coupling group represented by the following structural formula.

Figure 112012003313861-pat00020
Figure 112012003313861-pat00020

상기 일반식(P1) 중, Y는 하기 일반식(P2)으로 나타내어지는 기를 나타낸다.In said general formula (P1), Y represents group represented by the following general formula (P2).

Figure 112012003313861-pat00021
Figure 112012003313861-pat00021

일반식(P2) 중, Z는 저급 알킬렌기를 나타낸다. Z는 -(CH2)b-라고 나타내어지지만, 상기 b는 1∼5의 정수를 나타내고, 바람직하게는 2 또는 3을 나타낸다. 일반식(P2) 중, -NR2는 저급 알킬아미노기, 또는 질소원자를 포함하는 5∼6원 포화 헤테로환을 나타낸다. 상기 -NR2는 저급 알킬아미노기를 나타내는 경우, -N(CnH2n+1)2로 나타내어지며, n은 1∼4의 정수를 나타내고, 바람직하게는 1 또는 2를 나타낸다. 한편, 상기 -NR2는 질소원자를 포함하는 5∼6원 포화 헤테로환을 나타내는 경우, 하기 구조식으로 나타내어지는 헤테로환이 바람직하다.In General Formula (P2), Z represents a lower alkylene group. Z is represented by-(CH 2 ) b- , but b represents an integer of 1 to 5, preferably 2 or 3. In the general formula (P2), -NR 2 represents a 5~6-membered saturated heterocyclic ring comprising a lower alkyl group, or a nitrogen atom. Wherein -NR 2, if showing a lower alkyl group, is represented by -N (C n H 2n + 1 ) 2, n is an integer of 1 to 4 shows a preferably one or two. On the other hand, when said -NR 2 represents a 5-6 membered saturated heterocyclic ring containing a nitrogen atom, the heterocyclic ring represented by the following structural formula is preferable.

Figure 112012003313861-pat00022
Figure 112012003313861-pat00022

상기 일반식(P2)에 있어서의 Z 및 -NR2는 각각 저급 알킬기 또는 알콕시기를 치환기로서 갖고 있어도 좋다. 상기 일반식(P2) 중, a는 1 또는 2를 나타내고, 바람직하게는 2를 나타낸다.In General Formula (P2), Z and —NR 2 may each have a lower alkyl group or an alkoxy group as a substituent. In said general formula (P2), a represents 1 or 2, Preferably 2 is represented.

이하에, 상기 일반식(P1)으로 나타내어지는 화합물의 구체예(구체예 1∼22)를 나타내지만, 본 발명은 이들 구체예에 조금도 한정되는 것은 아니다.Specific examples (specific examples 1 to 22) of the compound represented by the general formula (P1) are shown below, but the present invention is not limited to these specific examples at all.

Figure 112012003313861-pat00023
Figure 112012003313861-pat00023

Figure 112012003313861-pat00024
Figure 112012003313861-pat00024

Figure 112012003313861-pat00025
Figure 112012003313861-pat00025

Figure 112012003313861-pat00026
Figure 112012003313861-pat00026

Figure 112012003313861-pat00027
Figure 112012003313861-pat00027

상기 안료 유도체의 안료 분산 조성물 중에 있어서의 함유량은 안료의 질량에 대해서 1질량%∼30질량%가 바람직하고, 3질량%∼20질량%가 보다 바람직하다. 상기 함유량이 상기 범위내이면 점도를 낮게 억제하면서 분산을 양호하게 행할 수 있음과 아울러 분산 후의 분산 안정성을 향상시킬 수 있고, 투과율이 높아 우수한 색특성이 얻어지고, 컬러필터를 제작할 때에는 양호한 색특성을 갖는 고콘트라스트로 구성할 수 있다.1 mass%-30 mass% are preferable with respect to the mass of a pigment, and, as for content in the pigment dispersion composition of the said pigment derivative, 3 mass%-20 mass% are more preferable. When the content is within the above range, the dispersion can be satisfactorily performed while the viscosity is kept low, and the dispersion stability after dispersion can be improved, and excellent color characteristics can be obtained with high transmittance, and good color characteristics can be obtained when producing a color filter. It can comprise with high contrast.

분산의 방법은 예를 들면, 안료와 분산제를 미리 혼합해서 호모지나이저 등으로 미리 분산해 둔 것을 지르코니아 비즈 등을 사용한 비즈 분산기(예를 들면 GETZMANN사제의 디스퍼맷) 등을 사용해서 미분산시킴으로써 행할 수 있다. 분산 시간으로서는 3∼6시간 정도가 바람직하다.The dispersion method is performed by, for example, mixing the pigment and the dispersing agent in advance and dispersing it in a homogenizer or the like by undispersing it using a bead disperser (eg, dispermat manufactured by GETZMANN) using zirconia beads or the like. Can be. As dispersion time, about 3 to 6 hours are preferable.

(유기용제)(Organic solvent)

본 발명의 컬러필터용 착색 감방사선성 조성물은 일반적으로는 유기용제를 사용해서 구성할 수 있다. 유기용제는 각 성분의 용해성이나 착색 감방사선성 조성물의 도포성을 만족시키면 기본적으로는 특별히 제한은 없지만, 특히 자외선 흡수제, 바인더의 용해성, 도포성, 안전성을 고려해서 선택되는 것이 바람직하다. 또한, 본 발명에 있어서의 착색 감방사선성 조성물을 조제할 때에는 적어도 2종류의 유기용제를 포함하는 것이 바람직하다.Generally the colored radiation-sensitive composition for color filters of this invention can be comprised using the organic solvent. The organic solvent is not particularly limited as long as it satisfies the solubility of each component and the applicability of the colored radiation-sensitive composition, but is preferably selected in consideration of the solubility, coating property, and safety of the ultraviolet absorber and the binder. Moreover, when preparing the colored radiation-sensitive composition in this invention, it is preferable to contain at least 2 type of organic solvent.

유기용제로서는 에스테르류로서, 예를 들면, 아세트산 에틸, 아세트산-n-부틸, 아세트산 이소부틸, 포름산 아밀, 아세트산 이소아밀, 아세트산 이소부틸, 프로피온산 부틸, 부티르산 이소프로필, 부티르산 에틸, 부티르산 부틸, 락트산 메틸, 락트산 에틸, 옥시아세트산 알킬(예:옥시아세트산 메틸, 옥시아세트산 에틸, 옥시아세트산 부틸(예를 들면, 메톡시아세트산 메틸, 메톡시아세트산 에틸, 메톡시아세트산 부틸, 에톡시아세트산 메틸, 에톡시아세트산 에틸 등)), 3-옥시프로피온산 알킬에스테르류(예:3-옥시프로피온산 메틸, 3-옥시프로피온산 에틸 등(예를 들면, 3-메톡시프로피온산 메틸, 3-메톡시프로피온산 에틸, 3-에톡시프로피온산 메틸, 3-에톡시프로피온산 에틸 등)), 2-옥시프로피온산 알킬에스테르류(예:2-옥시프로피온산 메틸, 2-옥시프로피온산 에틸, 2-옥시프로피온산 프로필 등(예를 들면, 2-메톡시프로피온산 메틸, 2-메톡시프로피온산 에틸, 2-메톡시프로피온산 프로필, 2-에톡시프로피온산 메틸, 2-에톡시프로피온산 에틸)), 2-옥시-2-메틸프로피온산 메틸 및 2-옥시-2-메틸프로피온산 에틸(예를 들면, 2-메톡시-2-메틸프로피온산 메틸, 2-에톡시-2-메틸프로피온산 에틸 등), 피루브산 메틸, 피루브산 에틸, 피루브산 프로필, 아세토아세트산 메틸, 아세토아세트산 에틸, 2-옥소부탄산 메틸, 2-옥소부탄산 에틸 등, 및 에테르류로서, 예를 들면, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 테트라히드로푸란, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트 등, 및 케톤류로서 예를 들면, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 2-헵타논, 3-헵타논 등, 및 방향족 탄화수소류로서, 예를 들면, 톨루엔, 크실렌 등을 바람직하게 들 수 있다.Examples of the organic solvent include esters such as ethyl acetate, acetic acid-n-butyl acetate, isobutyl acetate, amyl formate, isoamyl acetate, isobutyl acetate, butyl propionate, isopropyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate, and methyl lactate. , Ethyl lactate, alkyl oxyacetate (e.g. methyl oxyacetate, ethyl oxyacetate, butyl oxyacetate (e.g. methyl methoxyacetate, methoxyacetic acid ethyl, methoxyacetic acid butyl, ethoxyacetic acid methyl, ethoxyacetic acid ethyl) ), 3-oxypropionic acid alkyl esters (e.g., methyl 3-oxypropionate, ethyl 3-oxypropionate, etc.) (e.g., methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, 3-ethoxypropionic acid) Methyl, 3-ethoxypropionate, etc.), 2-oxypropionic acid alkyl esters (e.g., methyl 2-oxypropionate, 2-oxypropionic acid) Ethyl, 2-oxypropionic acid propyl and the like (e.g., methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, propyl 2-methoxypropionic acid, methyl 2-ethoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate), Methyl 2-oxy-2-methylpropionate and ethyl 2-oxy-2-methylpropionate (eg, methyl 2-methoxy-2-methylpropionate, ethyl 2-ethoxy-2-methylpropionate, etc.), methyl pyruvate , Ethyl pyruvate, propyl pyruvate, methyl acetoacetic acid, ethyl acetoacetate, methyl 2-oxobutanoate, ethyl 2-oxobutanoate, and the like, and ethers, for example, diethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran, ethylene Glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether Le, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate and the like, and ketones, for example, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, Examples of 3-heptanone and the like and aromatic hydrocarbons include toluene and xylene, for example.

이들 유기용제는 자외선 흡수제 및 알칼리 가용성 수지의 용해성, 도포면형상의 개량 등의 관점에서 2종 이상을 혼합하는 것도 바람직하다. 이 경우, 특히 바람직하게는 상기 3-에톡시프로피온산 메틸, 3-에톡시프로피온산 에틸, 에틸셀로솔브아세테이트, 락트산 에틸, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 아세트산 부틸, 3-메톡시프로피온산 메틸, 2-헵타논, 시클로헥사논, 에틸카르비톨아세테이트, 부틸카르비톨아세테이트, 프로필렌글리콜메틸에테르, 및 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트로부터 선택되는 2종 이상으로 구성되는 혼합 용액이다.It is also preferable to mix 2 or more types of these organic solvents from a viewpoint of the solubility of an ultraviolet absorber and alkali-soluble resin, an improvement of a coating surface shape, etc. In this case, the methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate and 2-hep are particularly preferred. It is a mixed solution which consists of 2 or more types chosen from tanone, cyclohexanone, ethyl carbitol acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol methyl ether, and propylene glycol methyl ether acetate.

유기용제의 착색 감방사선성 조성물 중에 있어서의 함유량은 도포성의 관점에서 조성물의 전체 고형분 농도가 5질량%∼80질량%가 되는 양으로 하는 것이 바람직하고, 5질량%∼60질량%가 더욱 바람직하고, 10질량%∼50질량%가 특히 바람직하다.It is preferable to make content in the colored radiation-sensitive composition of the organic solvent into the quantity which becomes 5 mass%-80 mass% of total solid content concentration of a composition from an applicability viewpoint, 5 mass%-60 mass% are more preferable, 10 mass%-50 mass% are especially preferable.

(고분자 재료)(Polymer material)

안료 분산액에는 상기 각 성분에 추가해서 분산 안정성의 향상, 안료 분산액을 착색 감방사선성 조성물에 응용한 경우의 현상성 제어 등의 관점에서 (B) 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물을 공중합 성분으로서 포함하는 바인더 및 또는 다른 구조의 고분자 재료를 더 함유해도 좋다.In addition to the above-mentioned components, the pigment dispersion liquid contains the compound represented by the general formula (B) as a copolymerization component from the viewpoint of improving the dispersion stability and controlling the developability when the pigment dispersion is applied to the colored radiation-sensitive composition. You may further contain the binder and the polymer material of another structure.

(B) 하기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물을 공중합 성분으로서 포함하는 바인더는 후술하지만, 다른 구조의 고분자 재료로서는 예를 들면, 폴리아미드아민과 그 염, 폴리카르복실산과 그 염, 고분자량 불포화산 에스테르, 변성 폴리우레탄, 변성 폴리에스테르, 변성 폴리(메타)아크릴레이트, (메타)아크릴계 공중합체 (특히, 카르복실산기와 측쇄에 중합성기를 함유하는 (메타)아크릴산계 공중합체가 바람직하다), 나프탈렌술폰산 포르말린 축합물 등을 들 수 있다. 이러한 고분자 재료는 안료의 표면에 흡착되어 재응집을 방지하도록 작용하기 때문에 안료 표면에의 앵커 부위를 갖는 말단 변성형 고분자, 그래프트형 고분자, 블록형 고분자가 바람직하고, 예를 들면, 복소환을 함유하는 모노머와 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 중합성 올리고머를 공중합체 단위로서 포함하는 그래프트 공중합체를 들 수 있다.(B) Although the binder which contains the compound represented by following General formula (1) as a copolymerization component is mentioned later, As a polymeric material of another structure, for example, polyamideamine, its salt, polycarboxylic acid, its salt, and high molecular weight. Unsaturated acid esters, modified polyurethanes, modified polyesters, modified poly (meth) acrylates, (meth) acrylic copolymers (particularly, (meth) acrylic acid copolymers containing a carboxylic acid group and a polymerizable group in the side chain are preferable). ) And naphthalene sulfonic acid formalin condensates. Since such a polymer material is adsorbed on the surface of the pigment and acts to prevent reagglomeration, end-modified polymers, graft-type polymers and block-type polymers having anchor sites on the pigment surface are preferable, and for example, contain heterocycles. And graft copolymers containing a monomer to be mentioned and a polymerizable oligomer having an ethylenically unsaturated bond as a copolymer unit.

다른 고분자 재료로서는 또한 폴리아미드아민인산염, 고분자량 불포화 폴리카르복실산, 폴리에테르에스테르, 방향족 술폰산 포르말린 중축합물, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르, 폴리에스테르아민, 폴리옥시에틸렌소르비탄모노올레이트폴리옥시에틸렌모노스테아레이트 등을 들 수 있다.Other polymeric materials also include polyamideamine phosphates, high molecular weight unsaturated polycarboxylic acids, polyetheresters, aromatic sulfonic acid formalin polycondensates, polyoxyethylene nonylphenyl ethers, polyesteramines, polyoxyethylene sorbitan monooleate polyoxyethylene Monostearate and the like.

이들 다른 구조의 고분자 재료는 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 조합해서 사용해도 좋다.The polymer material of these other structures may be used independently, and may be used in combination of 2 or more type.

안료 분산물에 있어서의 다른 고분자 재료의 함유량은 안료에 대해서 20질량%∼80질량%가 바람직하고, 30질량%∼70질량%가 보다 바람직하고, 40질량%∼60질량%가 더욱 바람직하다.20 mass%-80 mass% are preferable with respect to a pigment, as for content of the other polymer material in a pigment dispersion, 30 mass%-70 mass% are more preferable, 40 mass%-60 mass% are more preferable.

<(B) 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물을 공중합 성분으로서 포함하는 바인더><Binder containing the compound represented by (B) General formula (1) as a copolymerization component>

본 발명의 착색 감방사선성 조성물은 (B) 하기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물을 공중합 성분으로서 포함하는 바인더(이하, 적당히 「특정 바인더」라고 한다)를 함유한다. 즉, 상기 특정 바인더는 하기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물을 공중합 성분으로서 포함하는 공중합체이다.The colored radiation-sensitive composition of the present invention (B) contains a binder (hereinafter referred to as "specific binder" as appropriate) containing the compound represented by the following general formula (1) as a copolymerization component. That is, the said specific binder is a copolymer containing the compound represented by following General formula (1) as a copolymerization component.

Figure 112012003313861-pat00028
Figure 112012003313861-pat00028

일반식(1) 중, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소원자 또는 알킬기를 나타낸다.In General Formula (1), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group.

일반식(1)에 있어서의 R1 및 R2의 알킬기는 치환기를 갖고 있어도 좋다.The alkyl group of R 1 and R 2 in General Formula (1) may have a substituent.

일반식(1)에 있어서의 알킬기로서는 탄소수 1∼25의 알킬기가 바람직하고, 특별히 제한은 없지만, 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, t-부틸기, t-아밀기, 스테아릴기, 라우릴기, 2-에틸헥실기 등의 직쇄상 또는 분기상의 알킬기; 페닐 등의 아릴기; 시클로헥실기, t-부틸시클로헥실기, 디시클로펜타디에닐기, 트리시클로데카닐기, 이소보르닐기, 아다만틸기, 2-메틸-2-아다만틸기 등의 지환식기; 1-메톡시에틸기, 1-에톡시에틸기 등의 알콕시로 치환된 알킬기; 벤질 등의 아릴기로 치환된 알킬기; 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 특히, 메틸기, 에틸기, 시클로헥실기, 벤질기 등과 같은 산이나 열에 의해 탈리되기 어려운 1급 또는 2급의 탄화수소기가 내열성의 점에서 바람직하다. 또한, R1 및 R2는 동종의 치환기이어도 좋고, 다른 치환기이어도 좋다.As an alkyl group in General formula (1), a C1-C25 alkyl group is preferable and there is no restriction | limiting in particular, For example, a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group linear or branched alkyl groups such as t-butyl, t-amyl, stearyl, lauryl and 2-ethylhexyl groups; An aryl group such as phenyl; Alicyclic groups such as cyclohexyl group, t-butylcyclohexyl group, dicyclopentadienyl group, tricyclodecanyl group, isobornyl group, adamantyl group, and 2-methyl-2-adamantyl group; Alkyl group substituted by alkoxy, such as 1-methoxyethyl group and 1-ethoxyethyl group; An alkyl group substituted with an aryl group such as benzyl; And the like. Among these, especially primary or secondary hydrocarbon groups which are hard to be detached by an acid or heat, such as a methyl group, an ethyl group, a cyclohexyl group, a benzyl group, are preferable at the point of heat resistance. In addition, the same substituent may be sufficient as R <1> and R <2> , and other substituent may be sufficient as it.

일반식(1)으로 나타내어지는 화합물의 예로서는 디메틸-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 디에틸-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 디(n-프로필)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 디(n-부틸)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 디(t-부틸)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 디(이소부틸)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 디(시클로헥실)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 디(벤질)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트 등을 들 수 있다.Examples of the compound represented by the general formula (1) include dimethyl-2,2 '-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate and diethyl-2,2'-[oxybis (methylene)] bis- 2-propenoate, di (n-propyl) -2,2 '-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, di (n-butyl) -2,2'-[oxybis (methylene )] Bis-2-propenoate, di (t-butyl) -2,2 '-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, di (isobutyl) -2,2'-[oxy Bis (methylene)] bis-2-propenoate, di (cyclohexyl) -2,2 '-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, di (benzyl) -2,2'-[ Oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, etc. are mentioned.

이들 중에서도 특히 디메틸-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트가 바람직하다.Among them, dimethyl-2,2 '-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate is particularly preferable.

본 발명의 특정 바인더는 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물을 중합성 성분으로서 포함하면 좋고, 또한 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물 이외의 중합성 성분을 포함하고 있어도 좋다.The specific binder of this invention may contain the compound represented by General formula (1) as a polymeric component, and may contain polymeric components other than the compound represented by General formula (1).

일반식(1)으로 나타내어지는 화합물 이외의 중합성 성분에 대해서는 특별히 제한은 없지만, 유기용매에의 용해성 등의 취급 용이함의 관점에서 유용성을 부여하는 모노머를 중합성 성분으로서 포함하는 것이 바람직하다. 상기 유용성을 부여하는 모노머로서는 예를 들면, (메타)아크릴산 메틸, (메타)아크릴산 에틸, (메타)아크릴산 n-프로필, (메타)아크릴산 이소프로필, (메타)아크릴산 n-부틸, (메타)아크릴산 이소부틸, (메타)아크릴산 t-부틸, (메타)아크릴산 메틸2-에틸헥실, (메타)아크릴산 시클로헥실, (메타)아크릴산 벤질, (메타)아크릴산 2-히드록시에틸 등의 (메타)아크릴산 에스테르류; 스티렌, 비닐톨루엔, α-메틸스티렌 등의 방향족 비닐 화합물; N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드 등의 N-치환 말레이미드류; 부타디엔, 이소프렌 등의 부타디엔 또는 치환 부타디엔 화합물; 에틸렌, 프로필렌, 염화 비닐, 아크릴로니트릴 등의 에틸렌 또는 치환 에틸렌 화합물; 아세트산 비닐 등의 비닐 에스테르류; 등을 들 수 있다.Although there is no restriction | limiting in particular about the polymerizable components other than the compound represented by General formula (1), It is preferable to include the monomer which provides usefulness from a viewpoint of the ease of handling, such as solubility to an organic solvent, as a polymeric component. As a monomer which provides the said usefulness, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic acid (Meth) acrylic acid esters, such as isobutyl, t-butyl (meth) acrylate, methyl 2-ethylhexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate Ryu; Aromatic vinyl compounds such as styrene, vinyltoluene, and? -Methylstyrene; N-substituted maleimides such as N-phenylmaleimide and N-cyclohexylmaleimide; Butadiene or substituted butadiene compounds such as butadiene and isoprene; Ethylene or substituted ethylene compounds such as ethylene, propylene, vinyl chloride and acrylonitrile; Vinyl esters such as vinyl acetate; And the like.

이들 중에서 아릴(메타)아크릴레이트, 또는 알킬(메타)아크릴레이트를 중합성 성분으로서 포함하는 것이 바람직하다. It is preferable to contain aryl (meth) acrylate or alkyl (meth) acrylate as a polymeric component among these.

또한, 알칼리 현상성의 관점에서 산성기를 함유하는 모노머를 중합성 성분으로서 포함하는 것이 바람직하다. 상기 산성기를 함유하는 모노머로서는 예를 들면, (메타)아크릴산이나 이타콘산 등의 카르복실기를 갖는 모노머, N-히드록시페닐말레이미드 등의 페놀성 수산기를 갖는 모노머, 무수 말레산이나 무수 이타콘산 등의 카르복실산 무수물기를 갖는 모노머 등을 들 수 있다. Moreover, it is preferable to contain the monomer containing an acidic group as a polymerizable component from an alkali developability viewpoint. As a monomer containing the said acidic group, For example, the monomer which has carboxyl groups, such as (meth) acrylic acid and itaconic acid, the monomer which has phenolic hydroxyl groups, such as N-hydroxyphenyl maleimide, maleic anhydride, itaconic anhydride, etc. The monomer etc. which have a carboxylic anhydride group are mentioned.

이들 중에서 (메타)아크릴산을 중합성 성분으로서 포함하는 것이 바람직하다.It is preferable to contain (meth) acrylic acid among these as a polymeric component.

이들 중에서도, 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물이 디메틸-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트이며, 벤질(메타)크릴레이트, (메타)크릴산 메틸, 및 (메타)크릴산을 중합성 성분으로서 공중합한 바인더가 바람직하다.Among them, the compound represented by the general formula (1) is dimethyl-2,2 '-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, benzyl (meth) acrylate, methyl (meth) methacrylate, And a binder obtained by copolymerizing (meth) crylic acid as the polymerizable component.

또한, 상기와 같이 중합한 바인더에 대해서 라디칼 중합성 이중 결합을 갖는 화합물을 부가시킴으로써 본 발명의 특정 바인더에 감방사선성기를 갖게 할 수 있으므로 더욱 바람직한 형태이다. 라디칼 중합성 이중 결합을 갖는 화합물을 부가시키는 처리의 방법은 라디칼 중합성 이중 결합을 갖는 화합물을 부가시킬 수 있는 모노머의 종류에 따라 다르지만, 예를 들면, (메타)아크릴산이나 이타콘산 등의 카르복실기를 갖는 모노머를 사용한 경우에는 글리시딜(메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메타)아크릴레이트, o-(또는 m-, 또는 p-)비닐벤질글리시딜에테르 등의 에폭시기와 라디칼 중합성 이중 결합을 갖는 화합물을 부가시키도록 하면 좋고, 무수 말레산이나 무수 이타콘산 등의 카르복실산 무수물기를 갖는 모노머를 사용한 경우에는 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트 등의 수산기와 라디칼 중합성 이중 결합을 갖는 화합물을 부가시키도록 하면 좋고, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메타)아크릴레이트, o-(또는 m-, 또는 p-)비닐벤질글리시딜에테르 등의 에폭시기를 갖는 모노머를 사용한 경우에는 (메타)아크릴산 등의 산기와 라디칼 중합성 이중 결합을 갖는 화합물을 부가시키도록 하면 좋다. Moreover, since a radiation sensitive group can be provided to the specific binder of this invention by adding the compound which has a radically polymerizable double bond with respect to the binder superposed | polymerized as mentioned above, it is a more preferable aspect. Although the method of the process of adding the compound which has a radically polymerizable double bond depends on the kind of monomer which can add the compound which has a radically polymerizable double bond, For example, carboxyl groups, such as (meth) acrylic acid and itaconic acid, are added. When the monomer which has is used, epoxy groups, such as glycidyl (meth) acrylate, 3, 4- epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate, o- (or m-, or p-) vinylbenzyl glycidyl ether What is necessary is just to add the compound which has a radically polymerizable double bond, and when using the monomer which has carboxylic acid anhydride groups, such as maleic anhydride and itaconic anhydride, hydroxyl groups, such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, and a radical What is necessary is just to add the compound which has a polymerizable double bond, glycidyl (meth) acrylate, 3, 4- epoxycyclohexyl methyl (meth) acrylate, When using a monomer having an epoxy group such as o- (or m- or p-) vinylbenzyl glycidyl ether, a compound having an acid group such as (meth) acrylic acid and a radical polymerizable double bond may be added.

본 발명의 특정 바인더로서는 공중합 성분으로서 가장 바람직한 조합은 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물, 벤질메타크릴레이트, 메타크릴산 메틸, 및 메타크릴산의 공중합체에 있어서의 메타크릴산 유래의 구조의 일부를 글리시딜메타크릴레이트와 반응시켜서 감방사선성을 갖는 특정 바인더이다.As a specific binder of this invention, the most preferable combination as a copolymerization component is a structure derived from methacrylic acid in the copolymer of the compound represented by General formula (1), benzyl methacrylate, methyl methacrylate, and methacrylic acid. It is a specific binder which has radiation sensitivity by reacting a part with glycidyl methacrylate.

특정 바인더에 있어서의 일반식(1)으로 나타내어지는 중합성 성분의 함유량은 1몰%∼20몰%가 바람직하고, 보다 바람직하게는 5몰%∼15몰%이다. 이 범위로 함으로써, 잔사 혼색 및 확산 혼색의 억제 효과가 높아질 수 있다.1 mol%-20 mol% are preferable, and, as for content of the polymeric component represented by General formula (1) in a specific binder, More preferably, they are 5 mol%-15 mol%. By setting it as this range, the effect of suppressing residue mixing and diffusion mixing can be increased.

특정 바인더에 있어서의 유용성 부여의 중합성 성분은 특정 바인더 중에 20몰%∼80몰% 포함되는 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 30몰%∼70몰%이며 용제에의 용해성이 특히 향상된다.It is preferable that 20 mol%-80 mol% are contained in the specific binder, and the polymerizable component of the oil-solubility provision in a specific binder is more preferable, It is 30 mol%-70 mol%, The solubility to a solvent improves especially.

특정 바인더에 있어서의 산성기를 함유하는 중합성 성분은 10몰%∼50몰% 함유하는 것이 바람직하고, 20몰%∼40몰%가 보다 바람직하다. 이 범위로 함으로써 착색 감방사선성 조성물의 알칼리 현상성이 향상되고, 패턴 형성성이 특히 양호하게 된다.It is preferable to contain 10 mol%-50 mol%, and, as for the polymeric component containing an acidic group in a specific binder, 20 mol%-40 mol% are more preferable. By setting it as this range, alkali developability of a colored radiation-sensitive composition improves and pattern formation becomes especially favorable.

또한, 특정 바인더에 감방사선성기를 함유시키는 경우에는 감방사선성기를 갖는 공중합 성분의 함유량은 특정 바인더 중의 20몰%∼30몰%가 바람직하고, 그 경우, 산성기를 함유하는 중합성 성분은 5몰%∼15몰%인 것이 바람직하다. 이 범위로 함으로써 착색 감방사선성 조성물의 경화성이 높아지므로, 잔사 혼색 및 확산 혼색의 억제 효과가 더 높아질 수 있다.In addition, when a specific binder contains a radiation sensitive group, 20 mol%-30 mol% of the copolymerization component which has a radiation sensitive group is preferable, and in that case, the polymeric component containing an acidic group is 5 mol It is preferable that they are% -15 mol%. By setting it as this range, since the hardenability of a colored radiation-sensitive composition becomes high, the effect of suppressing residue mixing and diffusion mixing can be further enhanced.

특정 바인더의 분자량은 중량 평균 분자량으로 5000∼14000이 바람직하고, 8000∼13000이 더욱 바람직하고, 9000∼12000이 가장 바람직하다. 이 범위로 함으로써 현상성과 용액의 점도 안정성이 양호하게 된다.As for the molecular weight of a specific binder, 5000-14000 are preferable at a weight average molecular weight, 8000-13000 are more preferable, and 9000-12000 are the most preferable. By setting it as this range, developability and the viscosity stability of a solution become favorable.

여기서 중량 평균 분자량은 겔투과 크로마토그래프(GPC)에 의해 측정하고, 폴리스티렌 환산으로 산출한 값이다. GPC는 HLC-8020GPC(토소(주)(Tosoh Corporation)제)를 사용하고, 컬럼을 TSKgel SuperHZM-H, TSKgel SuperHZ4000, TSKgel SuperHZ200(토소사제)으로서 측정했다.The weight average molecular weight is a value measured by a gel permeation chromatograph (GPC) here and computed in polystyrene conversion. GPC used HLC-8020GPC (made by Tosoh Corporation), and measured the column as TSKgel SuperHZM-H, TSKgel SuperHZ4000, and TSKgel SuperHZ200 (made by Tosoh Corporation).

특정 바인더는 일본 특허 공개 2004-300204호 공보에 기재된 방법에 따라 합성할 수 있다.A specific binder can be synthesize | combined according to the method described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-300204.

특정 바인더는 상기한 안료 분산액의 조제에 있어서 일부 또는 전부를 첨가해도 좋다.A specific binder may add one part or all part in preparation of said pigment dispersion liquid.

본 발명의 착색 감방사선성 조성물에 특정 바인더는 1종 포함하면 좋지만, 2종 이상을 포함해도 좋다.Although one specific binder may be included in the colored radiation-sensitive composition of the present invention, two or more types may be included.

본 발명의 착색 감방사선성 조성물에 있어서의 특정 바인더의 함유량은 착색 감방사선성 조성물의 전체 고형분에 대해서 1질량%∼40질량%가 바람직하고, 3질량%∼30질량%가 보다 바람직하다. 이 범위내로 함으로써 본 발명의 효과가 유감없이 발휘된다.1 mass%-40 mass% are preferable with respect to the total solid of a colored radiation sensitive composition, and, as for content of the specific binder in the colored radiation-sensitive composition of this invention, 3 mass%-30 mass% are more preferable. By setting it in this range, the effect of this invention will be exhibited without regret.

<(C) 중합성 화합물>&Lt; (C) Polymerizable compound >

본 발명의 착색 감방사선성 조성물은 (C) 중합성 화합물을 함유한다.The colored radiation-sensitive composition of the present invention contains the (C) polymerizable compound.

(C) 중합성 화합물로서는 구체적으로는 말단 에틸렌성 불포화 결합을 적어도 1개, 바람직하게는 2개 이상 갖는 화합물로부터 선택된다. 그 중에서도 4관능 이상의 다관능 중합성 화합물이 바람직하고, 5관능 이상이 더욱 바람직하다.The polymerizable compound (C) is specifically selected from compounds having at least one, preferably two or more terminal ethylenically unsaturated bonds. Especially, the tetrafunctional or more than polyfunctional polymerizable compound is preferable, and 5-functional or more is more preferable.

이러한 화합물군은 해당 산업분야에 있어서 널리 알려져 있는 것이며, 본 발명에 있어서는 이들을 특별히 한정없이 사용할 수 있다. 이들은 예를 들면, 모노머, 프리폴리머, 즉 2량체, 3량체 및 올리고머, 또는 이들의 혼합물 및 이들의 다량체 등의 화학적 형태 중 어느 것이어도 좋다. 본 발명에 있어서의 중합성 화합물은 1종 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.Such compound groups are widely known in the industrial field, and in the present invention, these can be used without particular limitation. These may be, for example, any of chemical forms such as monomers, prepolymers, ie dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and multimers thereof. The polymeric compound in this invention may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

보다 구체적으로는 모노머 및 그 프리폴리머의 예로서는 불포화 카르복실산(예를 들면, 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 크로톤산, 이소크로톤산, 말레산 등)이나 그 에스테르류, 아미드류, 및 이들의 다량체를 들 수 있고, 바람직하게는 불포화 카르복실산과 지방족 다가 알콜 화합물의 에스테르, 및 불포화 카르복실산과 지방족 다가 아민 화합물의 아미드류, 및 이들의 다량체이다. 또한, 히드록실기나 아미노기, 메르캅토기 등의 구핵성 치환기를 갖는 불포화 카르복실산 에스테르 또는 아미드류와, 단관능 또는 다관능 이소시아네이트류 또는 에폭시류의 부가 반응물이나, 단관능 또는 다관능의 카르복실산의 탈수 축합 반응물 등도 바람직하게 사용된다. 또한, 이소시아네이트기나 에폭시기 등의 친전자성 치환기를 갖는 불포화 카르복실산 에스테르 또는 아미드류와, 단관능 또는 다관능의 알콜류, 아민류, 티올류의 부가 반응물, 또한 할로겐기나 토실옥시기 등의 탈리성 치환기를 갖는 불포화 카르복실산 에스테르 또는 아미드류와, 단관능 또는 다관능의 알콜류, 아민류, 티올류의 치환 반응물도 바람직하다. 또한, 다른 예로서 상기 불포화 카르복실산 대신에 불포화 포스폰산, 스티렌 등의 비닐벤젠 유도체, 비닐에테르, 알릴에테르 등으로 치환한 화합물군을 사용하는 것도 가능하다.More specifically, examples of the monomer and its prepolymer include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters thereof, amides, and these A multimer is mentioned, Preferably they are ester of unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, the amide of unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyamine compound, and these multimers. Further, it is also possible to use an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, an amino group or a mercapto group, an addition reaction product of a monofunctional or polyfunctional isocyanate or an epoxy, a monofunctional or polyfunctional carboxylic acid A dehydration condensation reaction product of a carboxylic acid is also preferably used. Moreover, the addition reaction product of unsaturated carboxylic acid ester or amide which has electrophilic substituents, such as an isocyanate group and an epoxy group, monofunctional or polyfunctional alcohol, amines, and thiols, and also detachable substituents, such as a halogen group and a tosyloxy group, Substituted reactants of unsaturated carboxylic acid esters or amides having monofunctional or polyfunctional alcohols, amines and thiols are also preferable. As another example, a compound group substituted with a vinylbenzene derivative such as unsaturated phosphonic acid and styrene, vinyl ether, allyl ether, or the like may be used instead of the above unsaturated carboxylic acid.

이들의 구체적인 화합물로서는 일본 특허 공개 2009-288705호 공보의 단락번호〔0095〕∼〔0108〕에 기재되어 있는 화합물을 본 발명에 있어서도 바람직하게 사용할 수 있다.As these specific compounds, the compound described in Paragraph No. 0095-0108 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-288705 can also be used suitably also in this invention.

또한, 상기 중합성 화합물로서는 적어도 1개의 부가 중합 가능한 에틸렌기를 갖는 상압 하에서 100℃ 이상의 비점을 갖는 에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물도 바람직하다. 그 예로서는 폴리에틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 페녹시에틸(메타)아크릴레이트 등의 단관능의 아크릴레이트나 메타아크릴레이트; 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리메티롤에탄트리(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 헥산디올(메타)아크릴레이트, 트리메티롤프로판트리(아크릴로일옥시프로필)에테르, 트리(아크릴로일옥시에틸)이소시아누레이트, 글리세린이나 트리메티롤에탄 등의 다관능 알콜에 에틸렌옥사이드나 프로필렌옥사이드를 부가시킨 후 (메타)아크릴레이트화한 것, 일본 특허 공고 소 48-41708호, 일본 특허 공고 소 50-6034호, 일본 특허 공개 소 51-37193호 각 공보에 기재되어 있는 우레탄(메타)아크릴레이트류, 일본 특허 공개 소 48-64183호, 일본 특허 공고 소 49-43191호, 일본 특허 공고 소 52-30490호 각 공보에 기재되어 있는 폴리에스테르아크릴레이트류, 에폭시 수지와 (메타)아크릴산의 반응 생성물인 에폭시아크릴레이트류 등의 다관능의 아크릴레이트나 메타아크릴레이트 및 이들의 혼합물을 들 수 있다.Moreover, as said polymeric compound, the compound which has an ethylenically unsaturated group which has a boiling point of 100 degreeC or more under the normal pressure which has at least 1 addition-polymerizable ethylene group is also preferable. Examples thereof include monofunctional acrylates and methacrylates such as polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate and phenoxyethyl (meth) acrylate; Polyethylene glycol di (meth) acrylate, trimethol ethane tri (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipenta Erythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, trimetholpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, tri (acryloyloxyethyl) isocy (Meth) acrylated after addition of ethylene oxide or propylene oxide to polyfunctional alcohols such as anurate, glycerin or trimetholethane, Japanese Patent Publication No. 48-41708, Japanese Patent Publication No. 50-6034 , Urethane (meth) acrylates described in Japanese Patent Laid-Open No. 51-37193, Japanese Patent Laid-Open No. 48-64183, Japanese Patent Laid-Open No. 49-43191 And polyfunctional acrylates and methacrylates such as the polyester acrylates described in Japanese Patent Application Laid-open No. 52-30490, epoxy acrylates which are reaction products of epoxy resins and (meth) acrylic acids, and these And mixtures.

다관능 카르복실산에 글리시딜(메타)아크릴레이트 등의 환상 에테르기와 에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물을 반응시켜 얻어지는 다관능 (메타)아크릴레이트 등도 들 수 있다.(Meth) acrylate obtained by reacting a polyfunctional carboxylic acid with a compound having a cyclic ether group such as glycidyl (meth) acrylate and an ethylenic unsaturated group.

또한, 그 밖의 바람직한 중합성 화합물로서 일본 특허 공개 2010-160418호 공보, 일본 특허 공개 2010-129825호 공보, 일본 특허 4364216호 명세서 등에 기재되는 플루오렌환을 갖고, 에틸렌성 불포화기를 2관능 이상 갖는 화합물, 카르도 수지도 사용하는 것이 가능하다.Moreover, the compound which has a fluorene ring as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-160418, Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-129825, the specification of Unexamined-Japanese-Patent No. 4364216, etc., and has an ethylenically unsaturated group bifunctional or more as another preferable polymeric compound. It is also possible to use cardo resin.

또한, 상압 하에서 100℃ 이상의 비점을 갖고, 적어도 1개의 부가 중합 가능한 에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물로서는 일본 특허 공개 2008-292970호 공보의 단락번호 [0254]∼[0257]에 기재된 화합물도 바람직하다.Moreover, as a compound which has a boiling point of 100 degreeC or more under normal pressure, and has an ethylenically unsaturated group which can be at least 1 addition polymerization, the compound of Paragraph No. [0254]-[0257] of Unexamined-Japanese-Patent No. 2008-292970 is also preferable.

상기 이외에 하기 일반식(MO-1)∼(MO-5)으로 나타내어지는 라디칼 중합성 모노머도 바람직하게 사용할 수 있다. 또한, 식 중, T가 옥시알킬렌기인 경우에는 탄소원자측의 말단이 R에 결합한다.In addition to the above, radically polymerizable monomers represented by the following General Formulas (MO-1) to (MO-5) can also be preferably used. In addition, in formula, when T is an oxyalkylene group, the terminal at the side of a carbon atom couple | bonds with R.

Figure 112012003313861-pat00029
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Figure 112012003313861-pat00030
Figure 112012003313861-pat00030

상기 일반식에 있어서, n은 0∼14이며, m은 1∼8이다. 1분자내에 복수 존재하는 R, T는 각각 동일해도 달라도 좋다. In said general formula, n is 0-14, m is 1-8. Two or more R and T in one molecule may be same or different, respectively.

상기 일반식(MO-1)∼(MO-5)으로 나타내어지는 중합성 화합물의 각각에 있어서 복수 존재하는 R 중 적어도 1개는 -OC(=O)CH=CH2, 또는 -OC(=O)C(CH3)=CH2로 나타내어지는 기를 나타낸다. At least one of two or more R in each of the polymerizable compounds represented by general formulas (MO-1) to (MO-5) is -OC (= 0) CH = CH 2 , or -OC (= 0). The group represented by) C (CH 3 ) = CH 2 is represented.

상기 일반식(MO-1)∼(MO-5)으로 나타내어지는 중합성 화합물의 구체예로서는 일본 특허 공개 2007-269779호 공보의 단락번호 0248∼단락번호 0251에 기재되어 있는 화합물을 본 발명에 있어서도 바람직하게 사용할 수 있다.As a specific example of the polymeric compound represented by said general formula (MO-1)-(MO-5), Paragraph No. 0248-Paragraph No. 0251 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2007-269779 are preferable also in this invention. Can be used.

또한, 일본 특허 공개 평 10-62986호 공보에 있어서 일반식(1) 및 일반식(2)으로서 그 구체예와 함께 기재된 상기 다관능 알콜에 에틸렌옥사이드나 프로필렌옥사이드를 부가시킨 후에 (메타)아크릴레이트화한 화합물도 중합성 화합물로서 사용할 수 있다.In addition, (meth) acrylate after adding ethylene oxide or propylene oxide to the polyfunctional alcohol described in Japanese Patent Application Laid-open No. Hei 10-62986 with the specific examples as the general formulas (1) and (2). The compound can also be used as the polymerizable compound.

그 중에서도, 중합성 화합물로서는 디펜타에리스리톨트리아크릴레이트(시판품으로서는 KAYARAD D-330;니폰 카야쿠 가부시키가이샤(Nippon Kayaku Co., Ltd.)제), 디펜타에리스리톨테트라아크릴레이트(시판품으로서는 KAYARAD D-320;니폰 카야쿠 가부시키가이샤제) 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트(시판품으로서는 KAYARAD D-310;니폰 카야쿠 가부시키가이샤제), 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트(시판품으로서는 KAYARAD DPHA;니폰 카야쿠 가부시키가이샤제), 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트(시판품으로서는 A-DPH-12E;신나카무라 카가쿠 고교(주)사(Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)제) 및 이들 (메타)아크릴로일기가 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 잔기를 개재하고 있는 구조가 바람직하다. 이들의 올리고머 타입도 사용할 수 있다. 이하에 바람직한 중합성 화합물의 형태를 나타낸다.Especially, as a polymeric compound, it is dipentaerythritol triacrylate (KAYARAD D-330 as a commercial item; Nippon Kayaku Co., Ltd. product), dipentaerythritol tetraacrylate (KAYARAD D as a commercial item) -320; Nippon Kayaku Co., Ltd.) dipentaerythritol pentaacrylate (as a commercial item KAYARAD D-310; Nippon Kayaku Co., Ltd.), dipentaerythritol hexaacrylate (KAYARAD DPHA as a commercial product; Nippon Kayaku Co., Ltd.) Shigisha Co., Ltd., dipentaerythritol hexaacrylate (A-DPH-12E; Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. make) and these (meth) acryloyl groups Preference is given to structures in which the ethylene glycol and the propylene glycol residues are interposed. These oligomer types can also be used. The form of a preferable polymeric compound is shown below.

중합성 화합물로서는 다관능 모노머로서 카르복실기, 술폰산기, 인산기 등의 산기를 갖고 있어도 좋다. 에틸렌성 화합물이 상기한 바와 같이 혼합물인 경우와 같이 미반응의 카르복실기를 갖는 것이면 이것을 그대로 이용할 수 있지만, 필요에 따라서 상술의 에틸렌성 화합물의 히드록실기에 비방향족 카르복실산 무수물을 반응시켜서 산기를 도입해도 좋다. 이 경우, 사용되는 비방향족 카르복실산 무수물의 구체예로서는 무수 테트라히드로프탈산, 알킬화 무수 테트라히드로프탈산, 무수 헥사히드로프탈산, 알킬화 무수 헥사히드로프탈산, 무수 숙신산, 무수 말레산을 들 수 있다.As a polymerizable compound, you may have acid groups, such as a carboxyl group, a sulfonic acid group, and a phosphoric acid group, as a polyfunctional monomer. As long as the ethylenic compound has an unreacted carboxyl group as in the case of a mixture as described above, it can be used as it is, but if necessary, the acid group is caused by reacting a non-aromatic carboxylic anhydride with the hydroxyl group of the above-mentioned ethylenic compound. You may introduce. In this case, specific examples of the non-aromatic carboxylic acid anhydrides to be used include anhydrous tetrahydrophthalic acid, alkylated tetrahydrophthalic acid, anhydrous hexahydrophthalic acid, alkylated anhydrous hexahydrophthalic acid, succinic anhydride, and maleic anhydride.

본 발명에 있어서, 산기를 갖는 모노머로서는 지방족 폴리히드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르이며, 지방족 폴리히드록시 화합물의 미반응의 히드록실기에 비방향족 카르복실산 무수물을 반응시켜서 산기를 갖게 한 다관능 모노머가 바람직하다. 특히 바람직하게는 이 에스테르에 있어서 지방족 폴리히드록시 화합물이 펜타에리스리톨 및/또는 디펜타에리스리톨인 것이다. 시판품으로서는 예를 들면, 도아 고세이 가부시키기가이샤(Toa Gosei Co., Ltd.)제의 다염기산 변성 아크릴 올리고머인 M-510, M-520 등을 들 수 있다.In the present invention, the monomer having an acid group is an ester of an aliphatic polyhydroxy compound and an unsaturated carboxylic acid, and the non-reactive hydroxyl group of the aliphatic polyhydroxy compound is made to react with a non-aromatic carboxylic anhydride to give an acid group. Polyfunctional monomers are preferred. Especially preferably, in this ester, the aliphatic polyhydroxy compound is pentaerythritol and / or dipentaerythritol. As a commercial item, M-510, M-520, etc. which are polybasic acid modified acrylic oligomers of Toa Gosei Co., Ltd. are mentioned, for example.

이들 모노머는 1종을 단독으로 사용해도 좋지만, 제조 상 단일의 화합물을 사용하는 것은 어려운 점에서 2종 이상을 혼합해서 사용해도 좋다. 또한, 필요에 따라 모노머로서 산기를 갖지 않는 다관능 모노머와 산기를 갖는 다관능 모노머를 병용해도 좋다. Although these monomers may be used individually by 1 type, it is difficult to use a single compound in manufacture, You may mix and use 2 or more types. Moreover, you may use together the polyfunctional monomer which does not have an acidic radical, and the polyfunctional monomer which has an acidic radical as needed.

산기를 갖는 다관능 모노머의 바람직한 산가로서는 0.1mgKOH/g∼40mgKOH/g이며, 특히 바람직하게는 5mgKOH/g∼30mgKOH/g이다. 다관능 모노머의 산가가 지나치게 낮으면 현상 용해 특성이 떨어지고, 지나치게 높으면 제조나 취급이 곤란해져 광중합 성능이 떨어지고, 화소의 표면 평활성 등의 경화성이 떨어지게 된다. 따라서, 다른 산기의 다관능 모노머를 2종 이상 병용할 경우, 또는 산기를 갖지 않는 다관능 모노머를 병용할 경우, 전체의 다관능 모노머로서의 산기가 상기 범위에 들어가도록 조정하는 것이 바람직하다.As a preferable acid value of the polyfunctional monomer which has an acidic radical, it is 0.1 mgKOH / g-40 mgKOH / g, Especially preferably, it is 5 mgKOH / g-30 mgKOH / g. If the acid value of the polyfunctional monomer is too low, the development and dissolution characteristics are inferior. If the acid value of the polyfunctional monomer is too high, manufacturing and handling become difficult, resulting in poor photopolymerization performance and poor curability such as surface smoothness of the pixel. Therefore, when using together 2 or more types of polyfunctional monomers of another acidic radical, or when using the polyfunctional monomer which does not have an acidic radical, it is preferable to adjust so that the acidic radical as a whole polyfunctional monomer may fall in the said range.

또한, 중합성 모노머로서 카프로락톤 구조를 갖는 다관능성 단량체를 함유하는 것도 바람직한 형태이다.Moreover, it is also a preferable aspect to contain the polyfunctional monomer which has a caprolactone structure as a polymerizable monomer.

카프로락톤 구조를 갖는 다관능성 단량체로서는 그 분자내에 카프로락톤 구조를 갖는 한 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면, 트리메티롤에탄, 디트리메티롤에탄, 트리메티롤프로판, 디트리메티롤프로판, 펜타에리스리톨, 디펜타에리스리톨, 트리펜타에리스리톨, 글리세린, 디글리세롤, 트리메티롤멜라민 등의 다가 알콜과, (메타)아크릴산 및 ε-카프로락톤을 에스테르화함으로써 얻어지는 ε-카프로락톤 변성 다관능 (메타)아크릴레이트를 들 수 있다. 그 중에서도 하기 일반식(Z-1)으로 나타내어지는 카프로락톤 구조를 갖는 다관능성 단량체가 바람직하다.The polyfunctional monomer having a caprolactone structure is not particularly limited as long as it has a caprolactone structure in its molecule, but examples thereof include trimetholethane, ditrimethyrolethane, trimetholpropane, ditrimetholpropane, Ε-caprolactone-modified polyfunctional (meth) obtained by esterifying polyhydric alcohols such as pentaerythritol, dipentaerythritol, tripentaerythritol, glycerin, diglycerol, and trimetholmelamine, and (meth) acrylic acid and ε-caprolactone Acrylate is mentioned. Especially, the polyfunctional monomer which has a caprolactone structure represented by the following general formula (Z-1) is preferable.

Figure 112012003313861-pat00031
Figure 112012003313861-pat00031

일반식(Z-1) 중, 6개의 R은 모두가 하기 일반식(Z-2)으로 나타내어지는 기이거나, 또는 6개의 R 중 1∼5개가 하기 일반식(Z-2)으로 나타내어지는 기이며, 잔여가 하기 일반식(Z-3)으로 나타내어지는 기이다. 6개의 R은 서로 같아도 달라도 좋다.In general formula (Z-1), all 6 R is group represented by the following general formula (Z-2), or 1-5 of 6 R is represented by the following general formula (Z-2) The remainder is a group represented by the following general formula (Z-3). The six R's may be the same as or different from each other.

Figure 112012003313861-pat00032
Figure 112012003313861-pat00032

일반식(Z-2) 중, R1은 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, m은 1 또는 2의 수를 나타내고, 「*」은 결합손인 것을 나타낸다.In general formula (Z-2), R <1> represents a hydrogen atom or a methyl group, m represents the number of 1 or 2, and it shows that "*" is a bond.

Figure 112012003313861-pat00033
Figure 112012003313861-pat00033

일반식(Z-3) 중, R1은 수소원자 또는 메틸기를 나타내며, 「*」은 결합손인 것을 나타낸다)R <1> represents a hydrogen atom or a methyl group in general formula (Z-3), and "*" shows a bond.)

이러한 카프로락톤 구조를 갖는 다관능성 단량체는 예를 들면, 니폰 카야쿠(주)에서 KAYARAD DPCA시리즈로서 시판되고 있으며, DPCA-20(상기 식(1)∼(3)에 있어서 m=1, 식(2)으로 나타내어지는 기의 수=2, R1이 모두 수소원자인 화합물), DPCA-30(동 식, m=1, 식(2)으로 나타내어지는 기의 수=3, R1이 모두 수소원자인 화합물), DPCA-60(동 식, m=1, 식(2)으로 나타내어지는 기의 수=6, R1이 모두 수소원자인 화합물), DPCA-120(동 식에 있어서 m=2, 식(2)으로 나타내어지는 기의 수=6, R1이 모두 수소원자인 화합물) 등을 들 수 있다.The polyfunctional monomer which has such a caprolactone structure is marketed as KAYARAD DPCA series by Nippon Kayaku Co., Ltd., for example, and DPCA-20 (m = 1, Formula (1) in said Formula (1)-(3). 2) the number of groups represented by 2) and R 1 are all hydrogen atoms), DPCA-30 (formula, m = 1, the number of groups represented by formula (2) = 3, R 1 are all hydrogen) A compound which is an atom), DPCA-60 (the compound represented by the formula, m = 1, the number of groups represented by Formula (2) = 6, R 1 are all hydrogen atoms), DPCA-120 (m = 2 in the formula) , The number of groups represented by Formula (2) = 6, the compound in which R <1> is all hydrogen atoms, etc. are mentioned.

본 발명에 있어서, 카프로락톤 구조를 갖는 다관능성 단량체는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합해서 사용할 수 있다.In this invention, the polyfunctional monomer which has a caprolactone structure can be used individually or in mixture of 2 or more types.

또한, 본 발명에 있어서의 중합성 화합물로서는 하기 일반식(Z-4) 또는 일반식(Z-5)으로 나타내어지는 화합물의 군에서 선택되는 적어도 1종인 것도 바람직하다.Moreover, it is preferable that it is at least 1 sort (s) chosen from the group of the compound represented by the following general formula (Z-4) or general formula (Z-5) as a polymeric compound in this invention.

Figure 112012003313861-pat00034
Figure 112012003313861-pat00034

상기 일반식(Z-4) 및 일반식(Z-5) 중, E는 각각 독립적으로 -((CH2)yCH2O)-, 또는 -((CH2)yCH(CH3)O)-를 나타내고, y는 각각 독립적으로 0∼10의 정수를 나타내고, X는 각각 독립적으로 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 수소원자, 또는 카르복실기를 나타낸다.In the general formulas (Z-4) and (Z-5), E is independently-((CH 2 ) yCH 2 O)-, or-((CH 2 ) yCH (CH 3 ) O)- And each independently represents an integer of 0 to 10, and each X independently represents an acryloyl group, a methacryloyl group, a hydrogen atom, or a carboxyl group.

상기 일반식(Z-4) 중, 아크릴로일기 및 메타크릴로일기의 합계는 3개 또는 4개이며, 복수 존재하는 m은 각각 독립적으로 0∼10의 정수를 나타내고, 각 m의 합계는 0∼40의 정수이다. 단, 각 m의 합계가 0인 경우, X 중 어느 하나는 카르복실기이다.In the general formula (Z-4), the sum of the acryloyl group and the methacryloyl group is three or four, and a plurality of m each independently represents an integer of 0 to 10, and the sum of each m is 0. It is an integer of -40. However, when the sum of each m is 0, any one of X is a carboxyl group.

상기 일반식(ii) 중, 아크릴로일기 및 메타크릴로일기의 합계는 5개 또는 6개이며, 복수 존재하는 n은 각각 독립적으로 0∼10의 정수를 나타내고, 각 n의 합계는 0∼60의 정수이다. 단, 각 n의 합계가 0인 경우, X 중 어느 하나는 카르복실기이다.In said general formula (ii), the sum total of acryloyl group and methacryloyl group is 5 or 6 pieces, n exists in multiple numbers each independently represents the integer of 0-10, and the sum total of each n is 0-60. Is an integer. However, when the sum of each n is 0, any one of X is a carboxyl group.

상기 일반식(Z-4) 중, m은 0∼6의 정수가 바람직하고, 0∼4의 정수가 보다 바람직하다.In the general formula (Z-4), m is preferably an integer of 0 to 6, more preferably an integer of 0 to 4.

또한, 각 m의 합계는 2∼40의 정수가 바람직하고, 2∼16의 정수가 보다 바람직하고, 4∼8의 정수가 특히 바람직하다.Moreover, the integer of 2-40 is preferable, as for the sum total of each m, the integer of 2-16 is more preferable, and the integer of 4-8 is especially preferable.

상기 일반식(Z-5) 중, n은 0∼6의 정수가 바람직하고, 0∼4의 정수가 보다 바람직하다.In the general formula (Z-5), n is preferably an integer of 0 to 6, more preferably an integer of 0 to 4.

또한, 각 n의 합계는 3∼60의 정수가 바람직하고, 3∼24의 정수가 보다 바람직하고, 6∼12의 정수가 특히 바람직하다.Moreover, the integer of 3-60 is preferable, the integer of 3-24 is more preferable, and, as for the sum total of each n, the integer of 6-12 is especially preferable.

또한, 일반식(Z-4) 또는 일반식(Z-5) 중의 -((CH2)yCH2O)- 또는 -((CH2)yCH(CH3)O)-는 산소원자측의 말단이 X에 결합하는 형태가 바람직하다.Further, the formula (Z-4) or general formula (Z-5) of - ((CH 2) yCH 2 O) - or - ((CH 2) yCH ( CH 3) O) - is a terminal on the side of oxygen atom The form which couple | bonds with this X is preferable.

상기 일반식(Z-4) 또는 일반식(Z-5)으로 나타내어지는 화합물은 1종 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상 병용해도 좋다. 특히, 일반식(ii)에 있어서, 6개의 X 모두가 아크릴로일기인 형태가 바람직하다.The compounds represented by the general formula (Z-4) or (Z-5) may be used singly or in combination of two or more. In particular, in general formula (ii), the form whose all 6 X is acryloyl group is preferable.

또한, 일반식(Z-4) 또는 일반식(Z-5)으로 나타내어지는 화합물의 중합성 화합물 중에 있어서의 전체 함유량으로서는 20질량% 이상이 바람직하고, 50질량% 이상이 보다 바람직하다.Moreover, as total content in the polymeric compound of the compound represented by general formula (Z-4) or general formula (Z-5), 20 mass% or more is preferable, and 50 mass% or more is more preferable.

상기 일반식(Z-4) 또는 일반식(Z-5)으로 나타내어지는 화합물은 종래 공지의 공정인 펜타에리스리톨 또는 디펜타에리스리톨에 에틸렌옥시드 또는 프로필렌옥사이드를 개환 부가 반응에 의해 개환 골격을 결합하는 공정과, 개환 골격의 말단 수산기에, 예를 들면 (메타)아크릴로일클로라이드를 반응시켜서 (메타)아크릴로일기를 도입하는 공정으로부터 합성할 수 있다. 각 공정은 잘 알려진 공정이며, 당업자는 용이하게 일반식(i) 또는 일반식(ii)으로 나타내어지는 화합물을 합성할 수 있다.Compound represented by the general formula (Z-4) or (Z-5) is a pentaerythritol or dipentaerythritol, which is a conventionally known process to bond the ring-opening skeleton by ring-opening addition reaction of ethylene oxide or propylene oxide It can synthesize | combine from a process and the process of introducing a (meth) acryloyl group by making (meth) acryloyl chloride react with the terminal hydroxyl group of a ring-opening skeleton, for example. Each step is a well known step, and a person skilled in the art can easily synthesize a compound represented by formula (i) or (ii).

상기 일반식(Z-4) 또는 일반식(Z-5)으로 나타내어지는 화합물 중에서도 펜타에리스리톨 유도체 및/또는 디펜타에리스리톨 유도체가 보다 바람직하다. Among the compounds represented by the general formula (Z-4) or (Z-5), pentaerythritol derivatives and / or dipentaerythritol derivatives are more preferable.

구체적으로는 하기 식(a)∼(f)으로 나타내어지는 화합물(이하, 「예시 화합물(a)∼(f)」이라고도 한다)을 들 수 있고, 그 중에서도, 예시 화합물(a), (b), (e), (f)이 바람직하다.Specifically, the compound (henceforth a "exemplary compound (a)-(f)") represented by following formula (a)-(f) is mentioned, Especially, exemplary compound (a), (b) , (e) and (f) are preferred.

Figure 112012003313861-pat00035
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Figure 112012003313861-pat00036
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일반식(Z-4), (Z-5)으로 나타내어지는 중합성 화합물의 시판품으로서는 예를 들면 사토머사(Sartomer Company)제의 에틸렌옥시쇄를 4개 갖는 4관능 아크릴레이트인 SR-494, 니폰 카야쿠 가부시키가이샤(Nippon Kayaku Co., Ltd.)제의 펜틸렌옥시쇄를 6개 갖는 6관능 아크릴레이트인 DPCA-60, 이소부틸렌옥시쇄를 3개 갖는 3관능 아크릴레이트인 TPA-330 등을 들 수 있다.As a commercial item of the polymeric compound represented by general formula (Z-4) and (Z-5), for example, SR-494 which is a tetrafunctional acrylate which has four ethyleneoxy chains of the Sartomer Company, Nippon TPA-330, a trifunctional acrylate having three isobutyleneoxy chains and DPCA-60, which is a six-functional acrylate having six pentyleneoxy chains manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. Etc. can be mentioned.

또한, 중합성 화합물로서는 일본 특허 공고 소 48-41708호, 일본 특허 공개 소 51-37193호, 일본 특허 공고 평 2-32293호, 일본 특허 공고 평 2-16765호에 기재되어 있는 우레탄아크릴레이트류나, 일본 특허 공고 소 58-49860호, 일본 특허 공고 소 56-17654호, 일본 특허 공고 소 62-39417호, 일본 특허 공고 소 62-39418호에 기재된 에틸렌옥사이드계 골격을 갖는 우레탄 화합물류도 바람직하다. 또한, 중합성 화합물로서 일본 특허 공개 소 63-277653호, 일본 특허 공개 소 63-260909호, 일본 특허 공개 평 1-105238호에 기재된 분자내에 아미노 구조나 술피드 구조를 갖는 부가 중합성 화합물류를 사용함으로써 매우 감광 스피드가 우수한 착색 감방사선성 조성물을 얻을 수 있다.Moreover, as a polymeric compound, urethane acrylates described in Unexamined-Japanese-Patent No. 48-41708, Unexamined-Japanese-Patent No. 51-37193, Unexamined-Japanese-Patent No. 2-32293, and Unexamined-Japanese-Patent No. 2-16765, Also preferred are urethane compounds having an ethylene oxide-based skeleton described in Japanese Patent Publication No. 58-49860, Japanese Patent Publication No. 56-17654, Japanese Patent Publication No. 62-39417, and Japanese Patent Publication No. 62-39418. As the polymerizable compound, addition polymerizable compounds having an amino structure or sulfide structure in the molecules described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238 can be used. By using it, the coloring radiation sensitive composition which is very excellent in the photosensitive speed can be obtained.

중합성 화합물의 시판품으로서는 우레탄 올리고머 UAS-10, UAB-140(니폰 세이시(주)(Nippon Paper Industries Co., Ltd.)제), UA-7200」(Shin-nakamura Chemical Co. Ltd.제, DPHA-40H (니폰 카야쿠사제), UA-306H, UA-306T, UA-306I, AH-600, T-600, AI-600(교에이샤제) 등을 들 수 있다.As a commercial item of a polymeric compound, urethane oligomer UAS-10, UAB-140 (made by Nippon Paper Industries Co., Ltd.), UA-7200 "(made by Shin-nakamura Chemical Co. Ltd., DPHA) -40H (made by Nippon Kayaku Co., Ltd.), UA-306H, UA-306T, UA-306I, AH-600, T-600, AI-600 (made by Kyoeisha), etc. are mentioned.

이들의 중합성 화합물에 대해서 그 구조, 단독 사용인지 병용인지, 첨가량 등의 사용 방법의 상세한 것은 착색 감방사선성 조성물의 최종적인 성능설계에 맞춰서 임의로 설정할 수 있다. 예를 들면, 감도의 관점에서는 1분자당 불포화기 함량이 많은 구조가 바람직하고, 많은 경우는 2관능 이상이 바람직하다. 또한, 착색 감방사선성 조성물막의 강도를 높이는 관점에서는 3관능 이상의 것이 좋고, 또한 다른 관능기수·다른 중합성기(예를 들면 아크릴산 에스테르, 메타크릴산 에스테르, 스티렌계 화합물, 비닐에테르계 화합물)의 것을 병용함으로써 감도와 강도 둘다를 조절하는 방법도 유효하다. 또한, 3관능 이상의 것으로 에틸렌옥사이드쇄 길이가 다른 중합성 화합물을 병용하는 것이 착색 감방사선성 조성물의 현상성을 조절할 수 있어 우수한 패턴 형성능이 얻어진다는 점에서 바람직하다.About these polymeric compounds, the detail of usage methods, such as the structure, single use, combined use, and addition amount, can be arbitrarily set according to the final performance design of a colored radiation-sensitive composition. For example, a structure with many unsaturated group content per molecule is preferable from a viewpoint of a sensitivity, and in many cases, bifunctional or more is preferable. In addition, from the viewpoint of increasing the strength of the colored radiation-sensitive composition film, a trifunctional or higher functional group may be used, and those of other functional groups and other polymerizable groups (for example, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, styrene compound, and vinyl ether compound) may be used. The method of adjusting both sensitivity and intensity by using together is also effective. In addition, it is preferable to use a polymerizable compound having a different ethylene oxide chain length in combination with a trifunctional or higher functional group from the viewpoint that the developability of the colored radiation-sensitive composition can be adjusted and an excellent pattern forming ability can be obtained.

또한, 착색 감방사선성 조성물에 함유되는 다른 성분(예를 들면, 광중합 개시제, 피분산체, 알칼리 가용성 수지 등)과의 상용성, 분산성에 대해서도 중합성 화합물의 선택·사용법은 중요한 요인이며, 예를 들면, 저순도 화합물의 사용이나 2종 이상의 병용에 의해 상용성을 향상시킬 수 있는 경우가 있다. 또한, 지지체 등의 경질표면과의 밀착성을 향상시키는 관점에서 특정의 구조를 선택할 수도 있다.In addition, the selection and use of the polymerizable compound are also important factors in terms of compatibility and dispersibility with other components (eg, photopolymerization initiator, dispersion, alkali-soluble resin, etc.) contained in the colored radiation-sensitive composition. For example, compatibility may be improved by using a low purity compound or using 2 or more types together. Moreover, a specific structure can also be selected from a viewpoint of improving adhesiveness with hard surfaces, such as a support body.

본 발명의 착색 감방사선성 조성물 중에 있어서의 중합성 화합물의 함유량은 착색 감방사선성 조성물 중의 전체 고형분에 대해서 0.1질량%∼70질량%가 바람직하고, 1.0질량%∼50질량%가 또한 바람직하고, 2.0질량%∼40질량%가 특히 바람직하다.As for content of the polymeric compound in the colored radiation-sensitive composition of this invention, 0.1 mass%-70 mass% are preferable with respect to the total solid in a colored radiation-sensitive composition, 1.0 mass%-50 mass% are further more preferable, 2.0 mass%-40 mass% are especially preferable.

<(D) 광중합 개시제><(D) Photoinitiator>

본 발명의 착색 감방사선성 조성물은 (D) 광중합 개시제를 함유하는 것이 바람직하다.It is preferable that the colored radiation-sensitive composition of this invention contains the (D) photoinitiator.

본 발명에 있어서의 (D) 광중합 개시제(이하, 단지 「중합 개시제」라고 하는 경우가 있다)로서는 이하에 설명하는 광중합 개시제로서 알려져 있는 것을 사용할 수 있다.As (D) photoinitiator (it may only call "polymerization initiator" hereafter) in this invention, what is known as a photoinitiator demonstrated below can be used.

본 발명에 있어서의 광중합 개시제로서는 상기 중합성 화합물의 중합을 개시하는 능력을 갖는 한, 특별히 제한은 없고, 공지의 광중합 개시제 중에서 적당히 선택할 수 있다. 예를 들면, 자외선영역으로부터 가시의 광선에 대해서 감광성을 갖는 것이 바람직하다. 또한, 광여기된 증감제와 어떠한 작용을 발생하여 활성 라디칼을 생성하는 활성제이어도 좋고, 모노머의 종류에 따라서 양이온 중합을 개시시키는 개시제이어도 좋다.There is no restriction | limiting in particular as a photoinitiator in this invention as long as it has the ability to start superposition | polymerization of the said polymeric compound, It can select suitably from well-known photoinitiators. For example, it is preferable to have photosensitivity to visible light from an ultraviolet region. Moreover, it may be an activator which generates an active radical by generating any action with a photoexcited sensitizer, or may be an initiator that initiates cationic polymerization depending on the type of monomer.

또한, 광중합 개시제는 약 300nm∼800nm(330nm∼500nm가 보다 바람직하다)의 범위내에 적어도 약 50의 분자 흡광 계수를 갖는 화합물을 적어도 1종 함유하고 있는 것이 바람직하다.The photopolymerization initiator preferably contains at least one compound having a molecular extinction coefficient of at least about 50 in the range of about 300 nm to 800 nm (330 nm to 500 nm is more preferable).

본 발명에 있어서의 (D) 광중합 개시제로서는 예를 들면, 할로겐화 탄화수소 유도체(예를 들면, 트리아진 골격을 갖는 것, 옥사디아졸 골격을 갖는 것 등), 아실포스핀옥사이드 등의 아실포스핀 화합물, 헥사아릴비이미다졸, 옥심 유도체 등의 옥심 화합물, 유기과산화물, 티오 화합물, 케톤 화합물, 방향족 오늄염, 케토옥심에테르, 아미노아세토페논 화합물, 히드록시아세토페논 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 옥심 화합물이 바람직하다.As (D) photoinitiator in this invention, acylphosphine compounds, such as a halogenated hydrocarbon derivative (for example, having a triazine skeleton, having an oxadiazole skeleton, etc.), acylphosphine oxide, etc. And oxime compounds such as hexaarylbiimidazole and oxime derivatives, organic peroxides, thio compounds, ketone compounds, aromatic onium salts, ketooxime ethers, aminoacetophenone compounds and hydroxyacetophenones. Among these, an oxime compound is preferable.

상기 트리아진 골격을 갖는 할로겐화 탄화수소 화합물로서는 예를 들면, 와카바야시 등 저, Bull. Chem. Soc. Japan, 42, 2924(1969)에 기재된 화합물, 영국 특허 1388492호 명세서에 기재된 화합물, 일본 특허 공개 소 53-133428호 공보에 기재된 화합물, 독일국 특허 3337024호 명세서에 기재된 화합물, F. C. Schaefer 등에 의한 J. Org. Chem.; 29, 1527(1964)에 기재된 화합물, 일본 특허 공개 소 62-58241호 공보에 기재된 화합물, 일본 특허 공개 평 5-281728호 공보에 기재된 화합물, 일본 특허 공개 평 5-34920호 공보에 기재된 화합물, 미국 특허 제4212976호 명세서에 기재된 화합물 등을 들 수 있다.As a halogenated hydrocarbon compound which has the said triazine skeleton, For example, Wakabayashi etc., Bull. Chem. Soc. J. by the compound described in Japan, 42, 2924 (1969), the compound described in British Patent 1388492 specification, the compound described in Japanese Patent Laid-Open No. 53-133428, the compound described in German Patent 3337024, FC Schaefer and the like. Org. Chem .; 29, 1527 (1964), the compound described in JP 62-58241, the compound described in JP 5-281728, the compound described in JP 5-34920 A, US The compound described in patent 4212976 specification, etc. are mentioned.

상기 미국 특허 제4212976호 명세서에 기재되어 있는 화합물로서는 예를 들면, 옥사디아졸 골격을 갖는 화합물(예를 들면, 2-트리클로로메틸-5-페닐-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리클로로메틸-5-(4-클로로페닐)-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리클로로메틸-5-(1-나프틸)-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리클로로메틸-5-(2-나프틸)-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리브로모메틸-5-페닐-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리브로모메틸-5-(2-나프틸)-1,3,4-옥사디아졸; 2-트리클로로메틸-5-스티릴-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리클로로메틸-5-(4-클로르스티릴)-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리클로로메틸-5-(4-메톡시스티릴)-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리클로로메틸-5-(1-나프틸)-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리클로로메틸-5-(4-n-부톡시스티릴)-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리브로모메틸-5-스티릴-1,3,4-옥사디아졸 등) 등을 들 수 있다.As a compound described in the said US patent 4212976, the compound which has an oxadiazole skeleton (for example, 2-trichloromethyl-5-phenyl-1,3,4-oxadiazole, 2 -Trichloromethyl-5- (4-chlorophenyl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (1-naphthyl) -1,3,4-oxadiazole, 2 -Trichloromethyl-5- (2-naphthyl) -1,3,4-oxadiazole, 2-tribromomethyl-5-phenyl-1,3,4-oxadiazole, 2-tribromo Methyl-5- (2-naphthyl) -1,3,4-oxadiazole; 2-trichloromethyl-5-styryl-1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (4-chlorstyryl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (4-methoxystyryl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl -5- (1-naphthyl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (4-n-butoxystyryl) -1,3,4-oxadiazole, 2 -Tribromomethyl-5-styryl-1,3,4-oxadiazole etc.) etc. are mentioned.

또한, 상기 이외의 중합 개시제로서 아크리딘 유도체(예를 들면, 9-페닐아크리딘, 1,7-비스(9,9'-아크리디닐)헵탄 등), N-페닐글리신 등, 폴리할로겐 화합물(예를 들면, 4브롬화 탄소, 페닐트리브로모메틸술폰, 페닐트리클로로메틸케톤 등), 쿠마린류(예를 들면, 3-(2-벤조푸라노일)-7-디에틸아미노쿠마린, 3-(2-벤조푸로일)-7-(1-피롤리디닐)쿠마린, 3-벤조일-7-디에틸아미노쿠마린, 3-(2-메톡시벤조일)-7-디에틸아미노쿠마린, 3-(4-디메틸아미노벤조일)-7-디에틸아미노쿠마린, 3,3'-카르보닐비스(5,7-디-n-프로폭시쿠마린), 3,3'-카르보닐비스(7-디에틸아미노쿠마린), 3-벤조일-7-메톡시쿠마린, 3-(2-푸로일)-7-디에틸아미노쿠마린, 3-(4-디에틸아미노신나모일)-7-디에틸아미노쿠마린, 7-메톡시-3-(3-피리딜카르보닐)쿠마린, 3-벤조일-5,7-디프로폭시쿠마린, 7-벤조트리아졸-2-일쿠마린, 또한, 일본 특허 공개 평 5-19475호 공보, 일본 특허 공개 평 7-271028호 공보, 일본 특허 공개 2002-363206호 공보, 일본 특허 공개 2002-363207호 공보, 일본 특허 공개 2002-363208호 공보, 일본 특허 공개 2002-363209호 공보 등에 기재된 쿠마린 화합물 등), 아실포스핀옥사이드류(예를 들면, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸-펜틸페닐포스핀옥사이드, LucirinTPO 등), 메탈로센류(예를 들면, 비스(η5-2,4-시클로펜타디엔-1-일)-비스(2,6-디플루오로-3-(1H-피롤-1-일)-페닐)티타늄, η5-시클로펜타디에닐-η6-쿠메닐-아이언(1+)-헥사플루오로포스페이트(1-) 등), 일본 특허 공개 소 53-133428호 공보, 일본 특허 공고 소 57-1819호 공보, 동 57-6096호 공보, 및 미국 특허 제3615455호 명세서에 기재된 화합물 등을 들 수 있다.Moreover, as a polymerization initiator of that excepting the above, an acridine derivative (For example, 9-phenylacridine, 1,7-bis (9,9'- acrindinyl) heptane, etc.), N-phenylglycine, Poly, etc. Halogen compounds (e.g., carbon tetrabromide, phenyltribromomethylsulfone, phenyltrichloromethylketone, etc.), coumarins (e.g. 3- (2-benzofuranoyl) -7-diethylaminocoumarin, 3- (2-benzofuroyl) -7- (1-pyrrolidinyl) coumarin, 3-benzoyl-7-diethylaminocoumarin, 3- (2-methoxybenzoyl) -7-diethylaminocoumarin, 3 -(4-dimethylaminobenzoyl) -7-diethylaminocoumarin, 3,3'-carbonylbis (5,7-di-n-propoxycoumarin), 3,3'-carbonylbis (7-di Ethylaminocoumarin), 3-benzoyl-7-methoxycoumarin, 3- (2-furoyl) -7-diethylaminocoumarin, 3- (4-diethylaminocinnamoyl) -7-diethylaminocoumarin, 7-methoxy-3- (3-pyridylcarbonyl) coumarin, 3-benzoyl-5,7-dipropoxycoumarin, 7-benzotriazole-2-ylcouma Rin also discloses Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-19475, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-271028, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-363206, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-363207, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-363208 , Coumarin compounds and the like described in JP-A-2002-363209 and the like), acylphosphine oxides (for example, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, bis (2,6-dime) Methoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl-pentylphenylphosphine oxide, LucirinTPO and the like), metallocenes (for example, bis (η5-2,4-cyclopentadien-1-yl) -bis (2 , 6-difluoro-3- (1H-pyrrole-1-yl) -phenyl) titanium, η5-cyclopentadienyl-η6-cumenyl-iron (1 +)-hexafluorophosphate (1-) and the like ), Japanese Patent Application Laid-Open No. 53-133428, Japanese Patent Publication No. 57-1819, Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-6096, and the compound described in US Patent No. 3615455 specification.

상기 케톤 화합물로서는 예를 들면, 벤조페논, 2-메틸벤조페논, 3-메틸벤조페논, 4-메틸벤조페논, 4-메톡시벤조페논, 2-클로로벤조페논, 4-클로로벤조페논, 4-브로모벤조페논, 2-카르복시벤조페논, 2-에톡시카르보닐벤조페논, 벤조페논테트라카르복실산 또는 그 테트라메틸에스테르, 4,4'-비스(디알킬아미노)벤조페논류(예를 들면, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스디시클로헥실아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디히드록시에틸아미노)벤조페논, 4-메톡시-4'-디메틸아미노벤조페논, 4,4'-디메톡시벤조페논, 4-디메틸아미노벤조페논, 4-디메틸아미노아세토페논, 벤질, 안트라퀴논, 2-t-부틸안트라퀴논, 2-메틸안트라퀴논, 페난트라퀴논, 크산톤, 티오크산톤, 2-클로르-티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 플루올레논, 2-벤질-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-1-부타논, 2-메틸-1-〔4-(메틸티오)페닐〕-2-모르폴리노-1-프로파논, 2-히드록시-2-메틸-〔4-(1-메틸비닐)페닐〕프로판올올리고머, 벤조인, 벤조인에테르류(예를 들면, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인프로필에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인페닐에테르, 벤질디메틸케탈), 아크리돈, 클로로아크리돈, N-메틸아크리돈, N-부틸아크리돈, N-부틸-클로로아크리돈 등을 들 수 있다.As said ketone compound, for example, benzophenone, 2-methylbenzophenone, 3-methylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, 4-methoxybenzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4-chlorobenzophenone, 4- Bromobenzophenone, 2-carboxybenzophenone, 2-ethoxycarbonylbenzophenone, benzophenone tetracarboxylic acid or tetramethyl ester thereof, 4,4'-bis (dialkylamino) benzophenone (for example , 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4'-bisdicyclohexylamino) benzophenone, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (di Hydroxyethylamino) benzophenone, 4-methoxy-4'-dimethylaminobenzophenone, 4,4'-dimethoxybenzophenone, 4-dimethylaminobenzophenone, 4-dimethylaminoacetophenone, benzyl, anthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, 2-methylanthraquinone, phenanthraquinone, xanthone, thioxanthone, 2-chlor- thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, fluolenone, 2-benzyl -dimethyl Amino-1- (4-morpholinophenyl) -1-butanone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propaneone, 2-hydroxy- 2-methyl- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propanol oligomer, benzoin, benzoin ethers (for example, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, benzoin isopropyl ether) , Benzoin phenyl ether, benzyl dimethyl ketal), acridon, chloroacridone, N-methylacridone, N-butylacridone, N-butyl-chloroacridone and the like.

중합 개시제로서는 히드록시아세토페논 화합물, 아미노아세토페논 화합물, 및 아실포스핀 화합물도 바람직하게 사용할 수 있다. 보다 구체적으로는 예를 들면, 일본 특허 공개 평 10-291969호 공보에 기재된 아미노아세토페논계 개시제, 일본 특허 제4225898호 공보에 기재된 아실포스핀옥사이드계 개시제도 사용할 수 있다.As the polymerization initiator, a hydroxyacetophenone compound, an aminoacetophenone compound, and an acylphosphine compound can also be preferably used. More specifically, for example, the aminoacetophenone initiators described in JP-A-10-291969 and the acylphosphine oxide initiators described in JP-A-4225898 can be used.

히드록시아세토페논계 개시제로서는 IRGACURE-184, DAROCUR-1173, IRGACURE-500, IRGACURE-2959,IRGACURE-127(상품명: 모두 BASF사제)을 사용할 수 있다. 아미노아세토페논계 개시제로서는 시판품인 IRGACURE-907, IRGACURE-369, 및 IRGACURE-379(상품명: 모두 BASF사제)를 사용할 수 있다. 아미노아세토페논계 개시제로서 365nm 또는 405nm 등의 장파광원에 흡수 파장이 매칭된 일본 특허 공개 2009-191179 공보에 기재된 화합물도 사용할 수 있다. 또한, 아실포스핀계 개시제로서는 시판품인 IRGACURE-819나 DAROCUR-TPO(상품명: 모두 BASF사제)를 사용할 수 있다.As the hydroxyacetophenone-based initiator, IRGACURE-184, DAROCUR-1173, IRGACURE-500, IRGACURE-2959, and IRGACURE-127 (trade names: all manufactured by BASF) can be used. As the aminoacetophenone-based initiator, commercial products IRGACURE-907, IRGACURE-369, and IRGACURE-379 (all trade names, manufactured by BASF) can be used. As an aminoacetophenone type initiator, the compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-191179 which the absorption wavelength matched to longwave light sources, such as 365 nm or 405 nm, can also be used. Moreover, as an acyl phosphine type initiator, IRGACURE-819 and DAROCUR-TPO (all of brand names: BASF Corporation make) which are commercial items can be used.

중합 개시제로서 보다 바람직하게는 옥심 화합물을 들 수 있다. 옥심 화합물의 구체예로서는 일본 특허 공개 2001-233842호에 기재된 화합물, 일본 특허 공개 2000-80068호에 기재된 화합물, 일본 특허 공개 2006-342166호에 기재된 화합물을 사용할 수 있다.More preferably, an oxime compound is mentioned as a polymerization initiator. As a specific example of an oxime compound, the compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-233842, the compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2000-80068, and the compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-342166 can be used.

본 발명에서 중합 개시제로서 바람직하게 사용되는 옥심 유도체 등의 옥심 화합물로서는 예를 들면, 3-벤조일옥시이미노부탄-2-온, 3-아세톡시이미노부탄-2-온, 3-프로피오닐옥시이미노부탄-2-온, 2-아세톡시이미노펜탄-3-온, 2-아세톡시이미노-1-페닐프로판-1-온, 2-벤조일옥시이미노-1-페닐프로판-1-온, 3-(4-톨루엔술포닐옥시)이미노부탄-2-온, 및 2-에톡시카르보닐옥시이미노-1-페닐프로판-1-온 등을 들 수 있다.Examples of oxime compounds such as oxime derivatives which are preferably used as the polymerization initiator in the present invention include 3-benzoyloxyiminobutan-2-one, 3-acetoxyiminobutan-2-one and 3-propionyloxyiminobutane. 2-one, 2-acetoxyiminopentan-3-one, 2-acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one, 2-benzoyloxyimino-1-phenylpropan-1-one, 3- (4 -Toluenesulfonyloxy) iminobutan-2-one, 2-ethoxycarbonyloxyimino-1-phenylpropan-1-one, etc. are mentioned.

옥심 화합물로서는 J. C. S. Perkin II(1979년) pp.1653-1660), J. C. S. Perkin II(1979년) pp.156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology(1995년) pp.202-232, 일본 특허 공개 2000-66385호 공보에 기재된 화합물, 일본 특허 공개 2000-80068호 공보, 일본 특허 공표 2004-534797호 공보, 일본 특허 공개 2006-342166호 공보의 각 공보에 기재된 화합물 등을 들 수 있다.Examples of oxime compounds are JCS Pervinin II (1979) pp. 1653-1660), JCS Pervinin II (1979) pp.156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology (1995) pp.202-232, Japanese Patent Publication 2000 The compound of Unexamined-Japanese-Patent No. -66385, Unexamined-Japanese-Patent No. 2000-80068, Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-534797, Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-342166, etc. are mentioned.

시판품에서는 IRGACURE OXE-01(BASF사제), IRGACURE OXE-02(BASF사제)도 바람직하게 사용된다.In a commercial item, IRGACURE OXE-01 (made by BASF Corporation) and IRGACURE OXE-02 (made by BASF Corporation) are also used preferably.

또 상기 이외의 옥심 화합물로서 카르바졸의 N위치에 옥심이 연결된 일본 특허 공표 2009-519904호 공보에 기재된 화합물, 벤조페논 부위에 헤테로 치환기가 도입된 미국 특허 7626957호 공보에 기재된 화합물, 색소 부위에 니트로기가 도입된 일본 특허 공개 2010-15025호 공보 및 미국 특허 공개 2009-292039호에 기재된 화합물, 국제 공개 특허 2009-131189호 공보에 기재된 케토옥심계 화합물, 트리아진 골격과 옥심 골격을 동일 분자내에 함유하는 미국 특허 7556910호 공보에 기재된 화합물, 405nm에 흡수 극대를 갖고 g선 광원에 대해서 양호한 감도를 갖는 일본 특허 공개 2009-221114호 공보에 기재된 화합물 등을 사용해도 좋다.In addition, the compound described in JP-A-2009-519904 in which an oxime is linked to the N position of carbazole as the oxime compound other than the above, the compound described in U.S. Patent 7626957 in which a hetero substituent is introduced into the benzophenone moiety, and the nitro to the pigment moiety. A compound containing the compounds described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-15025 and US Patent Publication No. 2009-292039, a ketooxime compound described in International Publication No. 2009-131189, a triazine skeleton and an oxime skeleton in the same molecule The compound described in U.S. Patent 7556910, the compound described in JP-A-2009-221114, which has an absorption maximum at 405 nm and has a good sensitivity to a g-ray light source, may be used.

바람직하게는 또한, 일본 특허 공개 2007-231000호 공보, 및 일본 특허 공개 2007-322744호 공보에 기재되는 환상 옥심 화합물에 대해서도 바람직하게 사용할 수 있다. 환상 옥심 화합물 중에서도 특히 일본 특허 공개 2010-32985호 공보, 일본 특허 공개 2010-185072호 공보에 기재되는 카르바졸 색소에 축환된 환상 옥심 화합물은 높은 광흡수성을 가져 고감도화의 관점에서 바람직하다.Preferably, it can also use suitably also about the cyclic oxime compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2007-231000, and Unexamined-Japanese-Patent No. 2007-322744. Among the cyclic oxime compounds, in particular, the cyclic oxime compounds condensed with the carbazole dyes described in JP 2010-32985 A and JP 2010-185072 A have high light absorptivity and are preferable from the viewpoint of high sensitivity.

또한, 옥심 화합물의 특정 부위에 불포화 결합을 갖는 일본 특허 공개 2009-242469호 공보에 기재된 화합물도 중합 불활성 라디칼로부터 활성 라디칼을 재생함으로써 고감도화를 달성할 수 있어 바람직하게 사용할 수 있다.Moreover, the compound described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-242469 which has an unsaturated bond in the specific site of an oxime compound can also achieve high sensitivity by regenerating an active radical from a polymerization inert radical, and can use it preferably.

가장 바람직하게는 일본 특허 공개 2007-269779호 공보에 나타내어지는 특정 치환기를 갖는 옥심 화합물이나, 일본 특허 공개 2009-191061호 공보에 나타내어지는 티오아릴기를 갖는 옥심 화합물을 들 수 있다.Most preferably, the oxime compound which has a specific substituent shown by Unexamined-Japanese-Patent No. 2007-269779, and the oxime compound which has a thioaryl group shown by Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-191061 are mentioned.

구체적으로는 옥심 화합물로서는 하기 식(OX-1)으로 나타내어지는 화합물이 바람직하다. 또한, 옥심의 N-O 결합이 (E)체의 옥심 화합물이어도, (Z)체의 옥심 화합물이어도, (E)체와 (Z)체의 혼합물이어도 좋다.Specifically, as an oxime compound, the compound represented by a following formula (OX-1) is preferable. The N-O bond of the oxime may be an oxime compound of the (E) form or an oxime compound of the (Z) form, or a mixture of the form (E) form and the form (Z) form.

Figure 112012003313861-pat00037
Figure 112012003313861-pat00037

(식(OX-1) 중, R 및 B는 각각 독립적으로 1가의 치환기를 나타내고, A는 2가의 유기기를 나타내고, Ar은 아릴기를 나타낸다)(In the formula (OX-1), R and B each independently represent a monovalent substituent, A represents a divalent organic group, and Ar represents an aryl group.

상기 식(OX-1) 중, R로 나타내어지는 1가의 치환기로서는 1가의 비금속원자단인 것이 바람직하다. In the formula (OX-1), the monovalent substituent represented by R is preferably a monovalent nonmetallic atom group.

상기 1가의 비금속원자단으로서는 알킬기, 아릴기, 아실기, 알콕시카르보닐기, 아릴옥시카르보닐기, 복소환기, 알킬티오카르보닐기, 아릴티오카르보닐기 등을 들 수 있다. 또한, 이들 기는 1 이상의 치환기를 갖고 있어도 좋다. 또한, 상술한 치환기는 다른 치환기로 더 치환되어 있어도 좋다.Examples of the monovalent nonmetallic atom group include an alkyl group, an aryl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a heterocyclic group, an alkylthiocarbonyl group and an arylthiocarbonyl group. In addition, these groups may have one or more substituents. Further, the substituent described above may be further substituted with another substituent.

치환기로서는 할로겐원자, 아릴옥시기, 알콕시카르보닐기 또는 아릴옥시카르보닐기, 아실옥시기, 아실기, 알킬기, 아릴기 등을 들 수 있다. Examples of the substituent include a halogen atom, an aryloxy group, an alkoxycarbonyl group or an aryloxycarbonyl group, an acyloxy group, an acyl group, an alkyl group and an aryl group.

R에 의해 나타내어지는 치환기를 갖고 있어도 좋은 알킬기로서는 탄소수 1∼30의 알킬기가 바람직하고, 구체적으로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 헥실기, 옥틸기, 데실기, 도데실기, 옥타데실기, 이소프로필기, 이소부틸기, sec-부틸기, t-부틸기, 1-에틸펜틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 트리플루오로메틸기, 2-에틸헥실기, 페나실기, 1-나프토일메틸기, 2-나프토일메틸기, 4-메틸술파닐페나실기, 4-페닐술파닐페나실기, 4-디메틸아미노페나실기, 4-시아노페나실기, 4-메틸페나실기, 2-메틸페나실기, 3-플루오로페나실기, 3-트리플루오로메틸페나실기, 및 3-니트로페나실기를 예시할 수 있다.As an alkyl group which may have a substituent represented by R, a C1-C30 alkyl group is preferable, and specifically a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, an octyl group, a decyl group, a dodecyl group, an octadecyl group , Isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, t-butyl group, 1-ethylpentyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, trifluoromethyl group, 2-ethylhexyl group, phenacyl group, 1-naph Toylmethyl group, 2-naphthoylmethyl group, 4-methylsulfanylphenacyl group, 4-phenylsulfanylphenacyl group, 4-dimethylaminophenacyl group, 4-cyanophenacyl group, 4-methylphenacyl group, 2-methylphenacyl group , 3-fluorophenacyl group, 3-trifluoromethylphenacyl group, and 3-nitrophenacyl group can be illustrated.

R에 의해 나타내어지는 치환기를 갖고 있어도 좋은 아릴기로서는 탄소수 6∼30의 아릴기가 바람직하고, 구체적으로는 페닐기, 비페닐기, 1-나프틸기, 2-나프틸기, 9-안트릴기, 9-페난트릴기, 1-피레닐기, 5-나프타세닐기, 1-인데닐기, 2-아줄레닐기, 9-플루오레닐기, 터페닐기, 쿼터페닐기, o-톨릴기, m-톨릴기, p-톨릴기, 크실릴기, o-쿠메닐기, m-쿠메닐기 및 p-쿠메닐기, 메시틸기, 펜탈레닐기, 비나프탈레닐기, 터나프탈레닐기, 쿼터나프탈레닐기, 헵타레닐기, 비페닐레닐기, 인다세닐기, 플루오란테닐기, 아세나프틸레닐기, 아세안트릴레닐기, 페날레닐기, 플루올레닐기, 안트릴기, 비안트라세닐기, 터안트라세닐기, 쿼터안트라세닐기, 안트라퀴놀릴기, 페난트릴기, 트리페닐레닐기, 필레닐기, 크리세닐기, 나프타세닐기, 프레이아데닐기, 피세닐기, 페릴레닐기, 펜타페닐기, 펜타세닐기, 테트라페닐레닐기, 헥사페닐기, 헥사세닐기, 루비세닐기, 콜로네닐기, 트리나프틸레닐기, 헵타페닐기, 헵타세닐기, 피란트레닐기, 및 오발레닐기를 예시할 수 있다.As an aryl group which may have a substituent represented by R, a C6-C30 aryl group is preferable, Specifically, a phenyl group, a biphenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, 9- anthryl group, 9-phenan Trilyl group, 1-pyrenyl group, 5-naphthacenyl group, 1-indenyl group, 2-azulenyl group, 9-fluorenyl group, terphenyl group, quarterphenyl group, o-tolyl group, m-tolyl group, p-tol Aryl group, xylyl group, o-cumenyl group, m-cumenyl group and p-cumenyl group, mesityl group, pentalenyl group, vinaphthalenyl group, ternaphthalenyl group, quarter naphthalenyl group, heptarenyl group, biphenylen Neyl group, indasenyl group, fluoranthhenyl group, acenaphthylenyl group, aceanthrylenyl group, penalenyl group, fluolenyl group, anthryl group, bianthracenyl group, teranthracenyl group, quarterantracenyl group, anthraqui Nolyl group, phenanthryl group, triphenylenyl group, philenyl group, chrysenyl group, naphthacenyl group, preadenyl group, picenyl group, perylenyl group, Pentaphenyl group, pentaxenyl group, tetraphenylenyl group, hexaphenyl group, hexasenyl group, rubisenyl group, colonenyl group, trinaphthylenyl group, heptaphenyl group, heptathenyl group, pyrantrenyl group, and ovalenyl group Can be.

R에 의해 나타내어지는 치환기를 갖고 있어도 좋은 아실기로서는 탄소수 2∼20의 아실기가 바람직하고, 구체적으로는 아세틸기, 프로파노일기, 부타노일기, 트리플루오로아세틸기, 펜타노일기, 벤조일기, 1-나프토일기, 2-나프토일기, 4-메틸술파닐벤조일기, 4-페닐술파닐벤조일기, 4-디메틸아미노벤조일기, 4-디에틸아미노벤조일기, 2-클로로벤조일기, 2-메틸벤조일기, 2-메톡시벤조일기, 2-부톡시벤조일기, 3-클로로벤조일기, 3-트리플루오로메틸벤조일기, 3-시아노벤조일기, 3-니트로벤조일기, 4-플루오로벤조일기, 4-시아노벤조일기, 및 4-메톡시벤조일기를 예시할 수 있다.As an acyl group which may have a substituent represented by R, a C2-C20 acyl group is preferable, Specifically, an acetyl group, propanoyl group, butanoyl group, trifluoroacetyl group, pentanyl group, benzoyl group, 1- Naphthoyl group, 2-naphthoyl group, 4-methylsulfanylbenzoyl group, 4-phenylsulfanylbenzoyl group, 4-dimethylaminobenzoyl group, 4-diethylaminobenzoyl group, 2-chlorobenzoyl group, 2-methyl Benzoyl group, 2-methoxybenzoyl group, 2-butoxybenzoyl group, 3-chlorobenzoyl group, 3-trifluoromethylbenzoyl group, 3-cyanobenzoyl group, 3-nitrobenzoyl group, 4-fluorobenzo Diary, 4-cyanobenzoyl group, and 4-methoxybenzoyl group can be illustrated.

R에 의해 나타내어지는 치환기를 갖고 있어도 좋은 알콕시카르보닐기로서는 탄소수 2∼20의 알콕시카르보닐기가 바람직하고, 구체적으로는 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, 프로폭시카르보닐기, 부톡시카르보닐기, 헥실옥시카르보닐기, 옥틸옥시카르보닐기, 데실옥시카르보닐기, 옥타데실옥시카르보닐기, 및 트리플루오로메틸옥시카르보닐기를 예시할 수 있다.As an alkoxycarbonyl group which may have a substituent represented by R, a C2-C20 alkoxycarbonyl group is preferable, Specifically, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, propoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group, hexyloxycarbonyl group, octyloxycarbonyl group , Decyloxycarbonyl group, octadecyloxycarbonyl group, and trifluoromethyloxycarbonyl group can be illustrated.

R에 의해 나타내어지는 치환기를 갖고 있어도 좋은 아릴옥시카르보닐기로서 구체적으로는 페녹시카르보닐기, 1-나프틸옥시카르보닐기, 2-나프틸옥시카르보닐기, 4-메틸술파닐페닐옥시카르보닐기, 4-페닐술파닐페닐옥시카르보닐기, 4-디메틸아미노페닐옥시카르보닐기, 4-디에틸아미노페닐옥시카르보닐기, 2-클로로페닐옥시카르보닐기, 2-메틸페닐옥시카르보닐기, 2-메톡시페닐옥시카르보닐기, 2-부톡시페닐옥시카르보닐기, 3-클로로페닐옥시카르보닐기, 3-트리플루오로메틸페닐옥시카르보닐기, 3-시아노페닐옥시카르보닐기, 3-니트로페닐옥시카르보닐기, 4-플루오로페닐옥시카르보닐기, 4-시아노페닐옥시카르보닐기, 및 4-메톡시페닐옥시카르보닐기를 예시할 수 있다.Specific examples of the aryloxycarbonyl group which may have a substituent represented by R include a phenoxycarbonyl group, 1-naphthyloxycarbonyl group, 2-naphthyloxycarbonyl group, 4-methylsulfanylphenyloxycarbonyl group, 4-phenylsulfanylphenyl Oxycarbonyl group, 4-dimethylaminophenyloxycarbonyl group, 4-diethylaminophenyloxycarbonyl group, 2-chlorophenyloxycarbonyl group, 2-methylphenyloxycarbonyl group, 2-methoxyphenyloxycarbonyl group, 2-butoxyphenyloxycarbonyl group, 3 -Chlorophenyloxycarbonyl group, 3-trifluoromethylphenyloxycarbonyl group, 3-cyanophenyloxycarbonyl group, 3-nitrophenyloxycarbonyl group, 4-fluorophenyloxycarbonyl group, 4-cyanophenyloxycarbonyl group, and 4-meth A oxyphenyl oxycarbonyl group can be illustrated.

R에 의해 나타내어지는 치환기를 갖고 있어도 좋은 복소환기로서는 질소원자, 산소원자, 황원자 또는 인원자를 포함하는 방향족 또는 지방족의 복소환이 바람직하다.As the heterocyclic group which may have a substituent represented by R, an aromatic or aliphatic heterocycle including a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom or a phosphorus atom is preferable.

구체적으로는 티에닐기, 벤조[b]티에닐기, 나프토[2, 3-b]티에닐기, 티안트레닐기, 푸릴기, 피라닐기, 이소벤조푸라닐기, 클로메닐기, 크산테닐기, 페녹사티이닐기, 2H-피롤릴기, 피롤릴기, 이미다졸릴기, 피라졸릴기, 피리딜기, 피라지닐기, 피리미디닐기, 피리다지닐기, 인돌리디닐기, 이소인돌릴기, 3H-인돌릴기, 인돌릴기, 1H-인다졸릴기, 프리닐기, 4H-퀴놀리디닐기, 이소퀴놀릴기, 퀴놀릴기, 프탈라지닐기, 나프틸리디닐기, 퀴녹살리닐기, 퀴나졸리닐기, 신놀리닐기, 프테리디닐기, 4aH-카르바졸릴기, 카르바졸릴기, β-카르볼리닐기, 페난트리디닐기, 아크리디닐기, 페리미디닐기, 페난트롤리닐기, 페나지닐기, 페나르사지닐기, 이소티아졸릴기, 페노티아디닐기, 이소옥사졸릴기, 프라자닐기, 페녹사지닐기, 이소크로마닐기, 크로마닐기, 피롤리디닐기, 피롤리닐기, 이미다졸리디닐기, 이미다졸리닐기, 피라졸리디닐기, 피라졸리닐기, 피페리딜기, 피페라지닐기, 인돌리닐기, 이소인돌리닐기, 퀴누크리디닐기, 모르폴리닐기, 및 티옥산트릴기를 예시할 수 있다.Specifically, thienyl group, benzo [b] thienyl group, naphtho [2, 3-b] thienyl group, thianthrenyl group, furyl group, pyranyl group, isobenzofuranyl group, clomenyl group, xanthenyl group, phenoxa Thiynyl group, 2H-pyrrolyl group, pyrrolyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, pyridyl group, pyrazinyl group, pyrimidinyl group, pyridazinyl group, indolidinyl group, isoindolinyl group, 3H-indolyl group, Indolyl group, 1H-indazolyl group, prinyl group, 4H-quinolidinyl group, isoquinolyl group, quinolyl group, phthalazinyl group, naphthyridinyl group, quinoxalinyl group, quinazolinyl group, cinnaolinyl group, Pterridinyl group, 4aH-carbazolyl group, carbazolyl group, β-carbolinyl group, phenantridinyl group, acridinyl group, perimidinyl group, phenanthrolinyl group, phenazinyl group, phenarsazinyl group, Isothiazolyl group, phenothiadinyl group, isoxazolyl group, prazanyl group, phenoxazinyl group, isochromenyl group, chromanyl group, pyrrolidinyl group, py Linyl, imidazolidinyl, imidazolinyl, pyrazolidinyl, pyrazolinyl, piperidyl, piperazinyl, indolinyl, isoindolinyl, quinukridinyl, morpholinyl, And thioxanthryl groups.

R에 의해 나타내어지는 치환기를 갖고 있어도 좋은 알킬티오카르보닐기로서 구체적으로는 메틸티오카르보닐기, 프로필티오카르보닐기, 부틸티오카르보닐기, 헥실티오카르보닐기, 옥틸티오카르보닐기, 데실티오카르보닐기, 옥타데실티오카르보닐기, 및 트리플루오로메틸티오카르보닐기를 예시할 수 있다. Specific examples of the alkylthiocarbonyl group which may have a substituent represented by R include methylthiocarbonyl group, propylthiocarbonyl group, butylthiocarbonyl group, hexylthiocarbonyl group, octylthiocarbonyl group, decylthiocarbonyl group, octadecylthiocarbonyl group, and trifluoro. A methylthiocarbonyl group can be illustrated.

R에 의해 나타내어지는 치환기를 갖고 있어도 좋은 아릴티오카르보닐기로서 구체적으로는 1-나프틸티오카르보닐기, 2-나프틸티오카르보닐기, 4-메틸술파닐페닐티오카르보닐기, 4-페닐술파닐페닐티오카르보닐기, 4-디메틸아미노페닐티오카르보닐기, 4-디에틸아미노페닐티오카르보닐기, 2-클로로페닐티오카르보닐기, 2-메틸페닐티오카르보닐기, 2-메톡시페닐티오카르보닐기, 2-부톡시페닐티오카르보닐기, 3-클로로페닐티오카르보닐기, 3-트리플루오로메틸페닐티오카르보닐기, 3-시아노페닐티오카르보닐기, 3-니트로페닐티오카르보닐기, 4-플루오로페닐티오카르보닐기, 4-시아노페닐티오카르보닐기, 및 4-메톡시페닐티오카르보닐기를 들 수 있다.Specific examples of the arylthiocarbonyl group which may have a substituent represented by R include 1-naphthylthiocarbonyl group, 2-naphthylthiocarbonyl group, 4-methylsulfanylphenylthiocarbonyl group, 4-phenylsulfanylphenylthiocarbonyl group, 4 -Dimethylaminophenylthiocarbonyl group, 4-diethylaminophenylthiocarbonyl group, 2-chlorophenylthiocarbonyl group, 2-methylphenylthiocarbonyl group, 2-methoxyphenylthiocarbonyl group, 2-butoxyphenylthiocarbonyl group, 3-chlorophenylthio Carbonyl group, 3-trifluoromethylphenylthiocarbonyl group, 3-cyanophenylthiocarbonyl group, 3-nitrophenylthiocarbonyl group, 4-fluorophenylthiocarbonyl group, 4-cyanophenylthiocarbonyl group, and 4-methoxyphenylthiocarbonyl group Can be mentioned.

상기 식(OX-1) 중, B로 나타내어지는 1가의 치환기로서는 아릴기, 복소환기, 아릴카르보닐기, 또는 복소환 카르보닐기를 나타낸다. 또한, 이들의 기는 1 이상의 치환기를 갖고 있어도 좋다. 치환기로서는 상술한 치환기를 예시할 수 있다. 또한, 상술한 치환기는 다른 치환기로 더 치환되어 있어도 좋다.In the formula (OX-1), the monovalent substituent represented by B represents an aryl group, a heterocyclic group, an arylcarbonyl group or a heterocyclic carbonyl group. In addition, these groups may have one or more substituents. As the substituent, the above-mentioned substituent can be exemplified. Further, the substituent described above may be further substituted with another substituent.

그 중에서도, 특히 바람직하게는 이하에 나타내는 구조이다.Especially, especially preferably, it is a structure shown below.

하기의 구조 중, Y, X, 및 n은 후술하는 식(OX-2)에 있어서의 Y, X, 및 n과 각각 동의이며, 바람직한 예도 같다.In the following structure, Y, X, and n are synonymous with Y, X, and n in Formula (OX-2) mentioned later, and a preferable example is also the same.

Figure 112012003313861-pat00038
Figure 112012003313861-pat00038

상기 식(OX-1) 중, A로 나타내어지는 2가의 유기기로서는 탄소수 1∼12의 알킬렌기, 시클로 알킬렌기, 알키닐렌기를 들 수 있다. 또한, 이들의 기는 1 이상의 치환기를 갖고 있어도 좋다. 치환기로서는 상술한 치환기를 예시할 수 있다. 또한, 상술한 치환기는 다른 치환기로 더 치환되어 있어도 좋다.In said Formula (OX-1), a C1-C12 alkylene group, a cycloalkylene group, an alkynylene group is mentioned as a bivalent organic group represented by A. In addition, these groups may have one or more substituents. As the substituent, the above-mentioned substituent can be exemplified. Further, the substituent described above may be further substituted with another substituent.

그 중에서도, 식(OX-1)에 있어서의 A로서는 감도를 향상시키고, 가열 경시에 의한 착색을 억제하는 점에서 무치환의 알킬렌기, 알킬기(예를 들면, 메틸기, 에틸기, tert-부틸기, 도데실기)로 치환된 알킬렌기, 알케닐기(예를 들면, 비닐기, 알릴기)로 치환된 알킬렌기, 아릴기(예를 들면, 페닐기, p-톨릴기, 크실릴기, 쿠메닐기, 나프틸기, 안트릴기, 페난트릴기, 스티릴기)로 치환된 알킬렌기가 바람직하다.Especially, as A in Formula (OX-1), since it improves a sensitivity and suppresses coloring by heat-time-lapse, an unsubstituted alkylene group, an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, tert- butyl group, Alkylene group substituted with dodecyl group), Alkylene group substituted with alkenyl group (for example, vinyl group, allyl group), aryl group (for example, phenyl group, p-tolyl group, xylyl group, cumenyl group, naph Preference is given to alkylene groups substituted with a butyl group, anthryl group, phenanthryl group, styryl group).

상기 식(OX-1) 중, Ar로 나타내어지는 아릴기로서는 탄소수 6∼30의 아릴기가 바람직하고, 또한, 치환기를 갖고 있어도 좋다. 치환기로서는 앞서 치환기를 갖고 있어도 좋은 아릴기의 구체예로서 열거한 치환 아릴기에 도입된 치환기와 같은 것을 예시할 수 있다.As said aryl group represented by Ar in said Formula (OX-1), a C6-C30 aryl group is preferable and may have a substituent. As a substituent, the thing similar to the substituent introduce | transduced into the substituted aryl group listed as the specific example of the aryl group which may have a substituent can be illustrated.

그 중에서도, 감도를 높이고, 가열 경시에 의한 착색을 억제하는 점에서 치환 또는 무치환의 페닐기가 바람직하다.Especially, a substituted or unsubstituted phenyl group is preferable at the point which raises a sensitivity and suppresses coloring by heating time-lapse.

식(OX-1)에 있어서는 상기 식(OX-1) 중의 Ar과 그것에 인접하는 S로 형성되는 「SAr」의 구조가 이하에 나타내는 구조인 것이 감도의 점에서 바람직하다. 또한, Me는 메틸기를 나타내고, Et는 에틸기를 나타낸다.In the formula (OX-1), it is preferable from the viewpoint of sensitivity that the structure of "SAr" formed from Ar in the formula (OX-1) and S adjacent thereto is the following structure. Me represents a methyl group, and Et represents an ethyl group.

Figure 112012003313861-pat00039
Figure 112012003313861-pat00039

옥심 화합물은 하기 식(OX-2)으로 나타내어지는 화합물인 것이 바람직하다.It is preferable that an oxime compound is a compound represented by a following formula (OX-2).

Figure 112012003313861-pat00040
Figure 112012003313861-pat00040

(식(OX-2) 중, R 및 X는 각각 독립적으로 1가의 치환기를 나타내고, A 및 Y는 각각 독립적으로 2가의 유기기를 나타내고, Ar은 아릴기를 나타내고, n은 0∼5의 정수이다)(In the formula (OX-2), each of R and X independently represents a monovalent substituent, A and Y each independently represent a divalent organic group, Ar represents an aryl group, and n represents an integer of 0 to 5)

식(OX-2)에 있어서의 R, A, 및 Ar은 상기 식(OX-1)에 있어서의 R, A, 및 Ar과 동의이며, 바람직한 예도 같다.R, A, and Ar in Formula (OX-2) are synonymous with R, A, and Ar in Formula (OX-1), and preferred examples thereof are also the same.

상기 식(OX-2) 중, X로 나타내어지는 1가의 치환기로서는 알킬기, 아릴기, 알콕시기, 아릴옥시기, 아실옥시기, 아실기, 알콕시카르보닐기, 아미노기, 복소환기, 할로겐원자를 들 수 있다. 또한, 이들의 기는 1 이상의 치환기를 갖고 있어도 좋다. 치환기로서는 상술한 치환기를 예시할 수 있다. 또한, 상술한 치환기는 다른 치환기로 더 치환되어 있어도 좋다.Examples of the monovalent substituent represented by X in the above formula (OX-2) include alkyl, aryl, alkoxy, aryloxy, acyloxy, acyl, alkoxycarbonyl, amino, heterocyclic and halogen . In addition, these groups may have one or more substituents. As the substituent, the above-mentioned substituent can be exemplified. Further, the substituent described above may be further substituted with another substituent.

이들 중에서도, 식(OX-2)에 있어서의 X로서는 용제 용해성과 장파장 영역의 흡수 효율 향상의 점에서 알킬기가 바람직하다. Among them, X in the formula (OX-2) is preferably an alkyl group in terms of solvent solubility and absorption efficiency in a long wavelength region.

또한, 식(2)에 있어서의 n은 0∼5의 정수를 나타내고, 0∼2의 정수가 바람직하다.In addition, n in Formula (2) represents the integer of 0-5, and the integer of 0-2 is preferable.

상기 식(OX-2) 중, Y로 나타내어지는 2가의 유기기로서는 이하에 나타내는 구조를 들 수 있다. 또한, 이하에 나타내어지는 기에 있어서, 「*」은 상기 식(OX-2)에 있어서, Y와 인접하는 탄소원자와의 결합 위치를 나타낸다.In the formula (OX-2), examples of the divalent organic group represented by Y include the structures shown below. In addition, in the group shown below, "*" shows a coupling | bonding position with the carbon atom adjacent to Y in said Formula (OX-2).

Figure 112012003313861-pat00041
Figure 112012003313861-pat00041

그 중에서도, 고감도화의 관점에서 하기에 나타내는 구조가 바람직하다.Especially, the structure shown below from the viewpoint of high sensitivity is preferable.

Figure 112012003313861-pat00042
Figure 112012003313861-pat00042

또한 옥심 화합물은 하기 식(OX-3)으로 나타내어지는 화합물인 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that an oxime compound is a compound represented by a following formula (OX-3).

Figure 112012003313861-pat00043
Figure 112012003313861-pat00043

(식(OX-3) 중, R 및 X는 각각 독립적으로 1가의 치환기를 나타내고, A는 2가의 유기기를 나타내고, Ar은 아릴기를 나타내고, n은 0∼5의 정수이다)(In the formula (OX-3), each of R and X independently represents a monovalent substituent, A represents a divalent organic group, Ar represents an aryl group, and n represents an integer of 0 to 5)

식(OX-3)에 있어서의 R, X, A, Ar, 및 n은 상기 식(OX-2)에 있어서의 R, X, A, Ar, 및 n과 각각 동의이며, 바람직한 예도 같다.R, X, A, Ar and n in formula (OX-3) are respectively the same as R, X, A, Ar and n in formula (OX-2)

이하, 바람직하게 사용되는 옥심 화합물의 구체예를 이하에 나타내지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, although the specific example of the oxime compound used preferably is shown below, this invention is not limited to these.

Figure 112012003313861-pat00044
Figure 112012003313861-pat00044

Figure 112012003313861-pat00045
Figure 112012003313861-pat00045

옥심 화합물은 350nm∼500nm의 파장영역에 극대 흡수 파장을 갖는 것이며, 360nm∼480nm의 파장영역에 흡수 파장을 갖는 것이 바람직하고, 365nm 및 455nm의 흡광도가 높은 것이 특히 바람직하다.The oxime compound has a maximum absorption wavelength in the wavelength region of 350 nm to 500 nm, preferably has an absorption wavelength in the wavelength region of 360 nm to 480 nm, and particularly preferably has high absorbance at 365 nm and 455 nm.

옥심 화합물은 365nm 또는 405nm에 있어서의 몰흡광계수는 감도의 관점에서 1,000∼300,000인 것이 바람직하고, 2,000∼300,000인 것이 보다 바람직하고, 5,000∼200,000인 것이 특히 바람직하다. The oxime compound preferably has a molar extinction coefficient at 365 nm or 405 nm from 1,000 to 300,000, more preferably from 2,000 to 300,000, and particularly preferably from 5,000 to 200,000 from the viewpoint of sensitivity.

화합물의 몰흡광계수는 공지의 방법을 사용할 수 있지만, 구체적으로는 예를 들면, 자외 가시분광 광도계(Varian사제 Carry-5 spctrophotometer)로 아세트산 에틸 용매를 사용해서 0.01g/L의 농도로 측정하는 것이 바람직하다.Although the molar extinction coefficient of a compound can use a well-known method, Specifically, it is measured by the ultraviolet visible spectrophotometer (Carry-5 spctrophotometer by Varian company) using the ethyl acetate solvent at the density | concentration of 0.01 g / L, for example. desirable.

본 발명에 사용되는 중합 개시제는 필요에 따라 2종 이상을 조합해서 사용해도 좋다.You may use the polymerization initiator used for this invention in combination of 2 or more type as needed.

본 발명의 착색 감방사선성 조성물에 사용되는 (D) 중합 개시제로서는 노광 감도의 관점에서 트리할로메틸트리아진 화합물, 벤질디메틸케탈 화합물, α-히드록시케톤 화합물, α-아미노케톤 화합물, 아실포스핀 화합물, 포스핀옥사이드 화합물, 메탈로센 화합물, 옥심 화합물, 트리아릴이미다졸다이머, 오늄 화합물, 벤조티아졸 화합물, 벤조페논 화합물, 아세토페논 화합물 및 그 유도체, 시클로펜타디엔-벤젠-철착체 및 그 염, 할로메틸옥사디아졸 화합물, 3-아릴 치환 쿠마린 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 화합물이 바람직하다.As a (D) polymerization initiator used for the colored radiation-sensitive composition of this invention, a trihalomethyl triazine compound, the benzyl dimethyl ketal compound, the (alpha)-hydroxy ketone compound, the (alpha)-amino ketone compound, the acyl phos from the viewpoint of exposure sensitivity. Fin compounds, phosphine oxide compounds, metallocene compounds, oxime compounds, triarylimidazole dimers, onium compounds, benzothiazole compounds, benzophenone compounds, acetophenone compounds and derivatives thereof, cyclopentadiene-benzene-iron complexes And a salt, a halomethyloxadiazole compound, or a compound selected from the group consisting of a 3-aryl substituted coumarin compound.

더욱 바람직하게는 트리할로메틸트리아진 화합물, α-아미노케톤 화합물, 아실포스핀 화합물, 포스핀옥사이드 화합물, 옥심 화합물, 트리아릴이미다졸다이머, 오늄 화합물, 벤조페논 화합물, 아세토페논 화합물이며, 트리할로메틸트리아진 화합물, α-아미노케톤 화합물, 옥심 화합물, 트리아릴이미다졸다이머, 벤조페논 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 화합물이 가장 바람직하다.More preferably, they are a trihalomethyl triazine compound, an α-amino ketone compound, an acyl phosphine compound, a phosphine oxide compound, an oxime compound, a triarylimidazole dimer, an onium compound, a benzophenone compound, an acetophenone compound, At least one compound selected from the group consisting of a trihalomethyltriazine compound, an α-aminoketone compound, an oxime compound, a triarylimidazole dimer, and a benzophenone compound is most preferred.

특히, 본 발명의 착색 감방사선성 조성물을 고체 촬상 소자의 컬러필터의 제작에 사용할 경우에는 미세한 패턴을 샤프한 형상으로 형성할 필요가 있으므로 경화성과 함께 미노광부에 잔사가 없이 현상되는 것이 중요하다. 이러한 관점에서는 중합 개시제로서는 옥심 화합물을 사용하는 것이 특히 바람직하다. 특히, 고체 촬상 소자에 있어서 미세한 패턴을 형성할 경우, 경화용 노광에 스텝퍼 노광을 사용하지만, 이 노광기는 할로겐에 의해 손상되는 경우가 있고, 중합 개시제의 첨가량도 낮게 억제할 필요가 있으므로 이들의 점을 고려하면, 고체 촬상 소자와 같은 미세 패턴을 형성하기 위해서는 (D) 중합 개시제로서는 옥심 화합물을 사용하는 것이 가장 바람직하다.In particular, when the colored radiation-sensitive composition of the present invention is used for the production of a color filter of a solid-state imaging device, it is important to form a fine pattern in a sharp shape, and therefore it is important to develop the unexposed portion without any residue with curability. It is especially preferable to use an oxime compound as a polymerization initiator from such a viewpoint. In particular, in the case of forming a fine pattern in a solid-state imaging device, stepper exposure is used for curing exposure, but this exposure machine may be damaged by halogen, and the addition amount of the polymerization initiator needs to be kept low, so these points In consideration of the above, it is most preferable to use an oxime compound as the (D) polymerization initiator in order to form the same fine pattern as the solid-state imaging device.

본 발명의 착색 감방사선성 조성물에 함유되는 (D) 중합 개시제의 함유량은 착색 감방사선성 조성물의 전체 고형분에 대해서 0.1질량% 이상 50질량% 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5질량% 이상 20질량% 이하, 더욱 바람직하게는 1질량% 이상 15질량% 이하이다. 이 범위에서, 양호한 감도와 패턴 형성성이 얻어진다.It is preferable that content of the (D) polymerization initiator contained in the colored radiation-sensitive composition of this invention is 0.1 mass% or more and 50 mass% or less with respect to the total solid of a colored radiation sensitive composition, More preferably, it is 0.5 mass% or more. It is mass% or less, More preferably, it is 1 mass% or more and 15 mass% or less. Within this range, good sensitivity and pattern formability are obtained.

<증감제><Increase / decrease>

본 발명의 착색 감방사선성 조성물은 개시제의 발생 효율의 향상이나 감광 파장의 장파장화의 목적으로 증감제를 함유해도 좋다. 증감제로서는 300nm∼450nm의 파장영역에 흡수 파장을 갖는 증감제를 들 수 있다.The colored radiation-sensitive composition of the present invention may contain a sensitizer for the purpose of improving the generation efficiency of the initiator and increasing the wavelength of the photosensitive wavelength. As a sensitizer, the sensitizer which has an absorption wavelength in the wavelength range of 300 nm-450 nm is mentioned.

증감제로서는 예를 들면, 페난트렌, 안트라센, 피렌, 페릴렌, 트리페닐렌, 9,10-디알콕시안트라센과 같은 다핵 방향족류, 플루오레세인, 에오신, 에리스로신, 로다민B, 로즈벵갈과 같은 크산텐류, 티오크산톤류, 시아닌류, 메로시아닌류, 프탈로시아닌류, 티오닌, 메틸렌블루, 톨루이딘블루와 같은 티아진류, 아크리딘류, 안트라퀴논류, 스쿠알륨류, 쿠마린류, 페노티아진류, 페나진류, 스티릴벤젠류, 아조 화합물, 디페닐메탄, 트리페닐메탄, 디스티릴벤젠류, 카르바졸류, 포르피린, 스피로 화합물, 퀴나크리돈, 인디고, 스티릴, 피릴륨 화합물, 피로메텐 화합물, 피라졸로트리아졸 화합물, 벤조티아졸 화합물, 바르비투르산 유도체, 티오바르비투르산 유도체, 아세토페논, 벤조페논, 미힐러케톤 등의 방향족 케톤 화합물, N-아릴옥사졸리디논 등의 헤테로환 화합물 등을 들 수 있다.As the sensitizer, for example, phenanthrene, anthracene, pyrene, perylene, triphenylene, polynuclear aromatics such as 9,10-dialkoxyanthracene, fluorescein, eosin, erythrosin, rhodamine B, rose bengal and Same xanthenes, thioxanthones, cyanines, merocyanines, phthalocyanines, thionines, methylene blue, thiazines such as toluidine blue, acridines, anthraquinones, squalanes, coumarins, phenoti Azines, phenazines, styrylbenzenes, azo compounds, diphenylmethane, triphenylmethane, distyrylbenzenes, carbazoles, porphyrins, spiro compounds, quinacridones, indigo, styryls, pyryllium compounds, fatigue Heterocycles such as methene compounds, pyrazolotriazole compounds, benzothiazole compounds, barbituric acid derivatives, thiobarbituric acid derivatives, aromatic ketone compounds such as acetophenone, benzophenone, mihilerketone, and N-aryloxazolidinoneThere may be mentioned compounds and the like.

<연쇄 이동제><Chain transfer agent>

본 발명의 착색 감방사선성 조성물에는 사용하는 광중합 개시제에 따라서는 연쇄 이동제를 첨가하면 바람직하다. 연쇄 이동제로서는 N,N-디알킬아미노벤조산 알킬에스테르나 티올계 화합물을 들 수 있고, 티올계 화합물로서는 2-메르캅토벤조티아졸, 2-메르캅토-1-페닐벤즈이미다졸, 3-메르캅토프로피온산 등을 단독 또는 2종 이상 혼합해서 사용할 수 있다.It is preferable to add a chain transfer agent to the colored radiation-sensitive composition of the present invention depending on the photopolymerization initiator to be used. Examples of the chain transfer agent include N, N-dialkylaminobenzoic acid alkyl esters and thiol compounds, and examples of the thiol compounds include 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercapto-1-phenylbenzimidazole, and 3-mercapto. Propionic acid etc. can be used individually or in mixture of 2 or more types.

<알칼리 가용성 수지><Alkali-soluble resin>

본 발명의 착색 감방사선성 조성물은 또한 알칼리 가용성 수지를 함유하는 것도 바람직하다. 알칼리 가용성 수지를 함유함으로써 현상성·패턴 형성성이 향상된다.It is also preferable that the colored radiation-sensitive composition of this invention contains alkali-soluble resin further. Developability and pattern formability improve by containing alkali-soluble resin.

알칼리 가용성 수지로서는 특정 바인더와는 구조가 다른 선상 유기 고분자 중합체로서, 분자(바람직하게는 아크릴계 공중합체, 스티렌계 공중합체를 주쇄로 하는 분자) 중에 적어도 1개의 알칼리 가용성을 촉진시키는 기를 갖는 알칼리 가용성 수지 중에서 적당히 선택할 수 있다. 내열성의 관점에서는 폴리히드록시스티렌계 수지, 폴리실록산계 수지, 아크릴계수지, 아크릴아미드계 수지, 아크릴/아크릴아미드 공중합체 수지가 바람직하고, 현상성 제어의 관점에서는 아크릴계 수지, 아크릴아미드계 수지, 아크릴/아크릴아미드 공중합체 수지가 바람직하다. As alkali-soluble resin, it is a linear organic high molecular polymer different from a specific binder, Alkali-soluble resin which has group which promotes at least 1 alkali solubility in a molecule | numerator (preferably an acryl-type copolymer and the molecule which has a styrene-type copolymer as a main chain). You can choose from among them. From the viewpoint of heat resistance, polyhydroxy styrene resin, polysiloxane resin, acrylic resin, acrylamide resin, and acryl / acrylamide copolymer resin are preferable, and acryl resin, acrylamide resin, acryl / Acrylamide copolymer resins are preferred.

알칼리 가용성을 촉진시키는 기(이하, 산기라고도 한다)로서는 예를 들면, 카르복실기, 인산기, 술폰산기, 페놀성 수산기 등을 들 수 있지만, 유기용제에 가용이며 약알칼리 수용액에 의해 현상 가능한 것이 바람직하고, (메타)아크릴산을 특히 바람직한 것으로서 들 수 있다. 이들 산기는 1종뿐이어도 좋고, 2종 이상이어도 좋다.Examples of the group which promotes alkali solubility (hereinafter also referred to as an acid group) include carboxyl groups, phosphoric acid groups, sulfonic acid groups, phenolic hydroxyl groups, and the like, but those which are soluble in an organic solvent and developable by a weak alkaline aqueous solution are preferable. (Meth) acrylic acid is mentioned as a especially preferable thing. These acid groups may be only one type, or may be two or more types.

상기 중합 후에 산기를 부여할 수 있는 모노머로서는 예를 들면, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트 등의 수산기를 갖는 모노머, 글리시딜(메타)아크릴레이트 등의 에폭시기를 갖는 모노머, 2-이소시아네이트에틸(메타)아크릴레이트 등의 이소시아네이트기를 갖는 모노머 등을 들 수 있다. 이들 산기를 도입하기 위한 단량체는 1종뿐이어도 좋고, 2종 이상이어도 좋다. 알칼리 가용성 바인더에 산기를 도입하기 위해서는 예를 들면, 산기를 갖는 모노머 및/또는 중합 후에 산기를 부여할 수 있는 모노머(이하 「산기를 도입하기 위한 단량체」라고 하는 경우도 있다)를 단량체 성분으로서 중합하도록 하면 좋다. 또한, 중합 후에 산기를 부여할 수 있는 모노머를 단량체 성분으로서 산기를 도입하는 경우에는 중합 후에 예를 들면 후술하는 산기를 부여하기 위한 처리가 필요하게 된다.As a monomer which can provide an acidic radical after the said superposition | polymerization, the monomer which has hydroxyl groups, such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, the monomer which has epoxy groups, such as glycidyl (meth) acrylate, 2-isocyanate, for example The monomer etc. which have isocyanate groups, such as ethyl (meth) acrylate, etc. are mentioned. There may be only one type of monomers for introducing these acid groups, or two or more types thereof. In order to introduce an acid group into the alkali-soluble binder, for example, a monomer having an acid group and / or a monomer capable of imparting an acid group after polymerization (hereinafter sometimes referred to as a "monomer for introducing an acid group") is polymerized as a monomer component. You can do it. Moreover, when introduce | transducing an acidic radical as a monomer component the monomer which can provide an acidic radical after superposition | polymerization, the process for providing an acidic radical mentioned later, for example after polymerization is needed.

알칼리 가용성 수지의 제조에는 예를 들면, 공지의 라디칼 중합법에 의한 방법을 적용할 수 있다. 라디칼 중합법으로 알칼리 가용성 수지를 제조할 때의 온도, 압력, 라디칼 개시제의 종류 및 그 양, 용매의 종류 등등의 중합 조건은 당업자에게 있어서 용이하게 설정 가능하며, 실험적으로 조건을 정하도록 할 수도 있다.For the production of alkali-soluble resin, for example, a method by a known radical polymerization method can be applied. The polymerization conditions such as temperature, pressure, the kind and amount of the radical initiator, the kind of the solvent, and the like when preparing the alkali-soluble resin by the radical polymerization method can be easily set by those skilled in the art, and the conditions can be determined experimentally. .

알칼리 가용성 수지로서 사용되는 선상 유기 고분자 중합체로서는 측쇄에 카르복실산을 갖는 폴리머가 바람직하고, 메타크릴산 공중합체, 아크릴산 공중합체, 이타콘산 공중합체, 크로톤산 공중합체, 말레산 공중합체, 부분 에스테르화 말레산 공중합체, 노볼락형 수지 등의 알칼리 가용성 페놀 수지 등, 및 측쇄에 카르복실산을 갖는 산성 셀룰로오스 유도체, 수산기를 갖는 폴리머에 산무수물을 부가시킨 것을 들 수 있다. 특히, (메타)아크릴산과, 이것과 공중합 가능한 다른 단량체의 공중합체가 알칼리 가용성 수지로서 바람직하다. (메타)아크릴산과 공중합 가능한 다른 단량체로서는 알킬(메타)아크릴레이트, 아릴(메타)아크릴레이트, 비닐 화합물 등을 들 수 있다. 알킬(메타)아크릴레이트 및 아릴(메타)아크릴레이트로서는 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 프로필(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, 펜틸(메타)아크릴레이트, 헥실(메타)아크릴레이트, 옥틸(메타)아크릴레이트, 페닐(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 톨릴(메타)아크릴레이트, 나프틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트 등, 비닐 화합물로서는 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔, 글리시딜메타크릴레이트, 아크릴로니트릴, 비닐아세테이트, N-비닐피롤리돈, 테트라히드로푸르푸릴메타크릴레이트, 폴리스티렌 매크로모노머, 폴리메틸메타크릴레이트 매크로모노머 등, 일본 특허 공개 평 10-300922호 공보에 기재된 N위치 환말레이미드 모노머로서 N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드 등을 들 수 있다. 또한, 이들 (메타)아크릴산과 공중합 가능한 다른 단량체는 1종뿐이어도 좋고, 2종 이상이어도 좋다.As the linear organic polymer used as the alkali-soluble resin, a polymer having carboxylic acid in the side chain is preferable, and methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer, maleic acid copolymer, partial ester Alkyl-soluble phenol resins, such as maleic acid copolymer and a novolak-type resin, etc., and what added acid anhydride to the acidic cellulose derivative which has a carboxylic acid in a side chain, and the polymer which has a hydroxyl group are mentioned. In particular, the copolymer of (meth) acrylic acid and the other monomer copolymerizable with this is preferable as alkali-soluble resin. As another monomer copolymerizable with (meth) acrylic acid, an alkyl (meth) acrylate, an aryl (meth) acrylate, a vinyl compound, etc. are mentioned. As alkyl (meth) acrylate and aryl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, Pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, tolyl (meth) acrylate, naphthyl (meth) acrylate, As vinyl compounds, such as cyclohexyl (meth) acrylate, styrene, (alpha) -methylstyrene, vinyltoluene, glycidyl methacrylate, acrylonitrile, vinyl acetate, N-vinylpyrrolidone, tetrahydrofurfuryl methacrylate , N-phenylmaleimide, N- as the N-position ring maleimide monomer described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-300922, such as polystyrene macromonomer and polymethylmethacrylate macromonomer Claw-hexyl may be mentioned maleimide and the like. In addition, the other monomer copolymerizable with these (meth) acrylic acid may be only 1 type, or 2 or more types may be sufficient as it.

또한, 본 발명에 있어서의 착색 감방사선성 조성물의 가교 효율을 향상시키기 위해서 중합성기를 갖는 알칼리 가용성 수지를 사용해도 좋다. 중합성기를 갖는 알칼리 가용성 수지로서는 알릴기, (메타)아크릴기, 알릴옥시알킬기 등을 측쇄에 함유한 알칼리 가용성 수지 등이 유용하다. 상술한 중합성기를 함유하는 폴리머의 예로서는 다이아날 NR 시리즈(DIANAL NR series)(미츠비시 레이온 가부시키가이샤(Mitsubishi Rayon Co., Ltd.)제), Photomer6173(COOH 함유 polyurethane acrylic oligomer, Diamond Shamrock Co. Ltd.제), 비스코트(VISCOAT) R-264, KS레지스트(KS RESIST) 106(모두 오사카 유키 카가쿠 고교 가부시키가이샤(Osaka Organic Chemical Industry Ltd.)제), 사이크로마 P 시리즈(CYCLOMER P series), 플락셀 CF200 시리즈(PLACCEL CF200 series)(모두 다이셀 카가쿠 고교 가부시키가이샤(DAICEL Chemical Industries, Ltd.)제), Ebecryl3800(다이셀 유시비 가부시키가이샤(DAICEL UCB Co., Ltd.)제) 등을 들 수 있다.Moreover, you may use alkali-soluble resin which has a polymeric group in order to improve the crosslinking efficiency of the colored radiation-sensitive composition in this invention. As alkali-soluble resin which has a polymeric group, alkali-soluble resin etc. which contained an allyl group, a (meth) acryl group, an allyloxyalkyl group, etc. in a side chain are useful. Examples of the polymer containing the above-mentioned polymerizable group include DIANAL NR series (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), Photomer6173 (COOH-containing polyurethane acrylic oligomer, Diamond Shamrock Co. Ltd.) VISCOAT R-264, KS RESIST 106 (all made by Osaka Organic Chemical Industry Ltd.), CyCLOMER P series PLACEL CF200 series (both manufactured by Daicel Kagaku Kogyo Co., Ltd.) and Ebecryl3800 (DICEL UCB Co., Ltd.) ), And the like.

이들 중합성기를 함유하는 알칼리 가용성 수지로서는 미리 이소시아네이트기와 OH기를 반응시켜서 미반응의 이소시아네이트기를 하나 남기고, 또한 (메타)아크릴로일기를 포함하는 화합물과 카르복실기를 포함하는 아크릴 수지의 반응에 의해 얻어지는 우레탄 변성된 중합성 이중 결합 함유 아크릴 수지, 카르복실기를 포함하는 아크릴 수지와 분자내에 에폭시기 및 중합성 이중 결합을 모두 갖는 화합물의 반응에 의해 얻어지는 불포화기 함유 아크릴 수지, 산펜던트형 에폭시아크릴레이트 수지, OH기를 포함하는 아크릴 수지와 중합성 이중 결합을 갖는 2염기 산무수물을 반응시킨 중합성 이중 결합 함유 아크릴 수지, OH기를 포함하는 아크릴 수지와 이소시아네이트와 중합성기를 갖는 화합물을 반응시킨 수지, 일본 특허 공개 2002-229207호 공보 및 일본 특허 공개 2003-335814호 공보에 기재되는 α위치 또는 β위치에 할로겐 원자 또는 술포네이트기 등의 탈리기를 갖는 에스테르기를 측쇄에 갖는 수지를 염기성 처리를 행함으로써 얻어지는 수지 등이 바람직하다.As alkali-soluble resin containing these polymerizable groups, urethane modification obtained by reacting an isocyanate group and an OH group previously, leaving one unreacted isocyanate group, and also by reaction of the compound containing a (meth) acryloyl group and the acrylic resin containing a carboxyl group is carried out. A polymerizable double bond-containing acrylic resin, an acrylic group containing a carboxyl group and an unsaturated group-containing acrylic resin obtained by the reaction of a compound having both an epoxy group and a polymerizable double bond in a molecule, an acid pendant epoxy acrylate resin, and an OH group A polymerizable double bond-containing acrylic resin obtained by reacting an acrylic resin with a dibasic acid anhydride having a polymerizable double bond, an acrylic resin containing an OH group, and a resin obtained by reacting a compound having an isocyanate with a polymerizable group, Japanese Patent Laid-Open No. 2002-229207 Hobo Gazette and Japan Resin obtained by performing basic treatment with resin which has ester group which has a leaving group, such as a halogen atom or a sulfonate group, in a side position or (beta) position described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2003-335814 in a side chain is preferable.

알칼리 가용성 수지로서는 특히 벤질(메타)아크릴레이트/(메타)아크릴산 공중합체나 벤질(메타)아크릴레이트/(메타)아크릴산/ 다른 모노머로 이루어지는 다원 공중합체가 바람직하다. 이밖에, 2-히드록시에틸메타크릴레이트를 공중합한 것, 일본 특허 공개 평 7-140654호 공보에 기재된 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트/폴리스티렌 매크로모노머/벤질메타크릴레이트/메타크릴산 공중합체, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 매크로모노머/벤질메타크릴레이트/메타크릴산 공중합체, 2-히드록시에틸메타크릴레이트/폴리스티렌 매크로모노머/메틸메타크릴레이트/메타크릴산 공중합체, 2-히드록시에틸메타크릴레이트/폴리스티렌 매크로모노머/벤질메타크릴레이트/메타크릴산 공중합체 등을 들 수 있다.Especially as a alkali-soluble resin, the multicomponent copolymer which consists of a benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid copolymer and benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / another monomer is preferable. In addition, 2-hydroxyethyl methacrylate copolymerized and 2-hydroxypropyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer / benzyl methacrylate / methacrylic acid described in JP-A-7-140654 Copolymer, 2-hydroxy-3-phenoxypropylacrylate / polymethyl methacrylate macromonomer / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, 2-hydroxyethyl methacrylate / polystyrene macromonomer / methylmethacrylate Methacrylate / methacrylic acid copolymer, 2-hydroxyethyl methacrylate / polystyrene macromonomer / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, and the like.

알칼리 가용성 수지의 산가로서는 바람직하게는 30mgKOH/g∼200mgKOH/g, 보다 바람직하게는 50mgKOH/g∼150mgKOH/g인 것이 바람직하고, 70∼120mgKOH/g인 것이 가장 바람직하다.The acid value of the alkali-soluble resin is preferably 30 mgKOH / g to 200 mgKOH / g, more preferably 50 mgKOH / g to 150 mgKOH / g, and most preferably 70 to 120 mgKOH / g.

또한, 알칼리 가용성 수지의 중량 평균 분자량(Mw)은 2,000∼50,000이 바람직하고, 5,000∼30,000이 더욱 바람직하고, 7,000∼20,000이 가장 바람직하다.The weight average molecular weight (Mw) of the alkali-soluble resin is preferably 2,000 to 50,000, more preferably 5,000 to 30,000, and most preferably 7,000 to 20,000.

알칼리 가용성 수지의 착색 감방사선성 조성물 중에 있어서의 함유량은 상기 조성물의 전체 고형분에 대해서 1질량%∼15질량%가 바람직하고, 보다 바람직하게는 2질량%∼12질량%이며, 특히 바람직하게는 3질량%∼10질량%이다. 단, 본 발명의 특정 바인더의 함유량에 대해서 50질량% 이하인 것이 바람직하다.As for content in the colored radiation-sensitive composition of alkali-soluble resin, 1-15 mass% is preferable with respect to the total solid of the said composition, More preferably, it is 2 mass%-12 mass%, Especially preferably, it is 3 It is mass%-10 mass%. However, it is preferable that it is 50 mass% or less with respect to content of the specific binder of this invention.

<중합 금지제><Polymerization inhibitor>

본 발명의 착색 감방사선성 조성물에 있어서는 상기 착색 감방사선성 조성물의 제조 중 또는 보존 중에 있어서 중합성 화합물의 불필요한 열중합을 저지하기 위해서 소량의 중합 금지제를 첨가하는 것이 바람직하다.In the colored radiation-sensitive composition of the present invention, it is preferable to add a small amount of a polymerization inhibitor in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the polymerizable compound during the production or storage of the colored radiation-sensitive composition.

본 발명에 사용할 수 있는 중합 금지제로서는 하이드로퀴논, p-메톡시페놀, 디-t-부틸-p-크레졸, 피로갈롤, t-부틸카테콜, 벤조퀴논, 4,4'-티오비스(3-메틸-6-t-부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), N-니트로소페닐히드록시아민 제1세륨염 등을 들 수 있다.Examples of the polymerization inhibitor that can be used in the present invention include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3 -Methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxyamine 1st cerium salt, etc. are mentioned.

중합 금지제의 첨가량은 착색 감방사선성 조성물의 질량에 대해서 약 0.01질량%∼약 5질량%가 바람직하다.As for the addition amount of a polymerization inhibitor, about 0.01 mass%-about 5 mass% are preferable with respect to the mass of a colored radiation-sensitive composition.

<기판 밀착제><Substrate adhesive>

또한, 본 발명에 있어서는 기판 밀착성을 향상시킬 수 있는 기판 밀착제를 착색 감방사선성 조성물에 첨가해도 좋다.In addition, in this invention, you may add the board | substrate adhesive agent which can improve board | substrate adhesiveness to a colored radiation-sensitive composition.

기판 밀착제로서는 실란계 커플링제, 티타네이트계 커플링제, 알루미늄계 커플링제를 사용하는 것이 바람직하다. 실란계 커플링제로서는 예를 들면, γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, γ-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란, γ-아크릴옥시프로필트리메톡시실란, γ-아크릴옥시프로필트리에톡시실란, γ-메르캅토프로필트리메톡시실란, γ-아미노프로필트리에톡시실란, 페닐트리메톡시실란 등을 들 수 있다. 그 중에서도 기판 밀착제로서는 γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란이 바람직하다.It is preferable to use a silane coupling agent, a titanate coupling agent, and an aluminum coupling agent as a board | substrate adhesive agent. As the silane coupling agent, for example, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, and γ-acryloxypropyltriethoxysilane , γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane and the like. Especially, as a board | substrate adhesive agent, (gamma) -methacryloxypropyl trimethoxysilane is preferable.

기판 밀착제의 함유량은 착색 감방사선성 조성물을 노광, 현상했을 때에 미노광부에 잔사가 남지 않도록 하는 관점에서 본 발명의 착색 감방사선성 조성물의 전체 고형분에 대해서 0.1질량% 이상 30질량% 이하인 것이 바람직하고, 0.5질량% 이상 20질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 1질량% 이상 10질량% 이하인 것이 특히 바람직하다.It is preferable that content of a board | substrate adhesive agent is 0.1 mass% or more and 30 mass% or less with respect to the total solid of the colored radiation-sensitive composition of this invention from a viewpoint that a residue does not remain in an unexposed part when exposing and developing colored radiation-sensitive composition. It is more preferable that they are 0.5 mass% or more and 20 mass% or less, and it is especially preferable that they are 1 mass% or more and 10 mass% or less.

<계면활성제><Surfactant>

본 발명의 착색 감방사선성 조성물에는 도포성을 보다 향상시키는 관점에서 각종 계면활성제를 첨가해도 좋다. 계면활성제로서는 불소계 계면활성제, 비이온계 계면활성제, 양이온계 계면활성제, 음이온계 계면활성제, 실리콘계 계면활성제 등의 각종 계면활성제를 사용할 수 있다.You may add various surfactant to the colored radiation-sensitive composition of this invention from a viewpoint of further improving applicability | paintability. As the surfactant, various surfactants such as a fluorine surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, an anionic surfactant, and a silicone surfactant can be used.

특히, 본 발명의 착색 감방사선성 조성물은 불소계 계면활성제를 함유함으로써 도포액으로서 조제했을 때의 액특성(특히, 유동성)이 보다 향상되는 점에서 도포두께의 균일성이나 액절약성을 보다 개선시킬 수 있다.In particular, the colored radiation-sensitive composition of the present invention further improves the uniformity and liquid saving property of the coating thickness in that the liquid characteristic (particularly, fluidity) when prepared as a coating liquid is further improved by containing a fluorine-based surfactant. Can be.

즉, 불소계 계면활성제를 함유하는 착색 감방사선성 조성물을 적용한 도포액을 사용해서 막형성하는 경우에 있어서는 피도포면과 도포액의 계면장력을 저하시킴으로써 피도포면에의 젖음성이 개선되어 피도포면에의 도포성이 향상된다. 이 때문에, 소량의 액량으로 수㎛ 정도의 박막을 형성한 경우이어도, 두께불균일이 작은 균일두께의 막형성을 보다 바람직하게 행할 수 있는 점에서 유효하다.That is, when forming a film using the coating liquid to which the colored radiation-sensitive composition containing a fluorine-type surfactant is formed, the wettability to a to-be-coated surface is improved by reducing the interfacial tension of a to-be-coated surface and a coating liquid, and apply | coating to a to-be-coated surface. Sex is improved. For this reason, even when a thin film of about several micrometers is formed with a small amount of liquid, it is effective at the point which can form film of uniform thickness with a small thickness nonuniformity more preferably.

불소계 계면활성제 중의 불소 함유율은 3질량%∼40질량%가 바람직하며, 보다 바람직하게는 5질량%∼30질량%이며, 특히 바람직하게는 7질량%∼25질량%이다. 불소 함유율이 이 범위내인 불소계 계면활성제는 도포막의 두께의 균일성이나 액절약성의 점에서 효과적이며, 착색 감방사선성 조성물 중에 있어서의 용해성도 양호하다.The fluorine content in the fluorine-based surfactant is preferably 3% by mass to 40% by mass, more preferably 5% by mass to 30% by mass, particularly preferably 7% by mass to 25% by mass. The fluorine-based surfactant having a fluorine content in this range is effective in terms of uniformity and liquid saving of the thickness of the coating film, and has good solubility in the colored radiation-sensitive composition.

불소계 계면활성제로서는 예를 들면, 메가팩(MEGAFACE) F171, 동 F172, 동 F173, 동 F176, 동 F177, 동 F141, 동 F142, 동 F143, 동 F144, 동 R30, 동 F437, 동 F475, 동 F479, 동 F482, 동 F554, 동 F780, 동 F781(이상, DIC(주)(DIC Corporation)제), 플루오라드(FLUORAD) FC430, 동 FC431, 동 FC171(이상, 스미토모쓰리엠(주)(Sumitomo 3M Limited)제), 서플론(SURFLON) S-382, 동 SC-101, 동 SC-103, 동 SC-104, 동 SC-105, 동 SC1068, 동 SC-381, 동 SC-383, 동 S393, 동 KH-40 (이상, 아사히 가라스(주)(Asahi Glass Co., Ltd.)제) 등을 들 수 있다.As a fluorine type surfactant, MEGAFACE F171, copper F172, copper F173, copper F176, copper F177, copper F141, copper F142, copper F143, copper F144, copper R30, copper F437, copper F475, copper F479 , F482, F554, F780, F781 (above, made by DIC Corporation), Fluorad (FLUORAD) FC430, FC431, East FC171 (above, Sumitomo 3M Co., Ltd. (Sumitomo 3M Limited) ))) Suplon (SURFLON) S-382, East SC-101, East SC-103, East SC-104, East SC-105, East SC1068, East SC-381, East SC-383, East S393, East KH-40 (above, Asahi Glass Co., Ltd. product) etc. are mentioned.

비이온계 계면활성제로서 구체적으로는 글리세롤, 트리메티롤프로판, 트리메티롤에탄 및 이들의 에톡실레이트 및 프로폭실레이트(예를 들면, 글리세롤프로폭실레이트, 글리세린에톡실레이트 등), 폴리옥시에틸렌라우릴에테르, 폴리옥시에틸렌스테아릴에테르, 폴리옥시에틸렌올레일에테르, 폴리옥시에틸렌옥틸페닐에테르, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르, 폴리에틸렌글리콜디라우레이트, 폴리에틸렌글리콜디스테아레이트, 소르비탄 지방산 에스테르(BASF사제의 플루로닉(PLURONIC) L10, L31, L61, L62, 10R5, 17R2, 25R2, 테트로닉(TETRONIC) 304, 701, 704, 901, 904, 150R1), 솔스퍼스(SOLSPERSE) 20000(니폰 루브리졸(주)(The Lubrizol Corporation)) 등을 들 수 있다.Specific examples of the nonionic surfactants include glycerol, trimetholpropane, trimetholethane and ethoxylates and propoxylates thereof (for example, glycerol propoxylate, glycerin ethoxylate, etc.) and polyoxyethylene. Lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octylphenyl ether, polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyethylene glycol dilaurate, polyethylene glycol distearate, sorbitan fatty acid ester (BASF PLURONIC L10, L31, L61, L62, 10R5, 17R2, 25R2, Tetronic (304, 701, 704, 901, 904, 150R1), SOLSPERSE 20000 (Nippon Lubric) Sol (The Lubrizol Corporation) etc. are mentioned.

양이온계 계면활성제로서 구체적으로는 프탈로시아닌 유도체(상품명:EFKA-745, 모리시타 산교(주)(Morishita & Co., Ltd.)제), 오르가노실록산폴리머 KP341(신에츠 카가쿠 고교(주)(Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)제), (메타)아크릴산계 (공)중합체 폴리플로우(POLYFLOW) No. 75, No. 90, No. 95(교에이샤 카가쿠(주)제), W001(유쇼(주)제) 등을 들 수 있다.Specific examples of the cationic surfactant include phthalocyanine derivatives (trade name: EFKA-745, manufactured by Morishita Sangyo Co., Ltd.), and organosiloxane polymer KP341 (Shin-Etsu Kagaku Kogyo Co., Ltd.) (Shin- Manufactured by Etsu Chemical Co., Ltd.), (meth) acrylic acid-based (co) polymer polyflow (POLYFLOW) No. 75, No. 90, No. 95 (made by Kyoeisha Kagaku Co., Ltd.), W001 (made by Yusho Corporation), etc. are mentioned.

음이온계 계면활성제로서 구체적으로는 W004, W005, W017(유쇼(주)사제) 등을 들 수 있다.Specific examples of the anionic surfactants include W004, W005, and W017 (manufactured by Yusho Corporation).

실리콘계 계면활성제로서는 예를 들면, 도레이 다우코닝(주)(Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.)제 「도레이 실리콘(TORAY SILICONE) DC3PA」, 「도레이 실리콘 SH7PA」, 「도레이 실리콘 DC11PA」, 「도레이 실리콘 SH21PA」, 「도레이 실리콘 SH28PA」, 「도레이 실리콘 SH29PA」, 「도레이 실리콘 SH30PA」, 「도레이 실리콘 SH8400」, 모멘티브 퍼포먼스 마테리알즈사(Momentive Performance Materials Inc.)제 「TSF-4440」, 「TSF-4300」, 「TSF-4445」, 「TSF-4460」, 「TSF-4452」, 신에츠 실리콘 가부시키가이샤제 「KP341」, 「KF6001」, 「KF6002」, 빅케미사(BYK Chemie)제 「BYK307」, 「BYK323」, 「BYK330」 등을 들 수 있다.Examples of the silicone-based surfactants include "Toray Silicon DC3PA", "Toray Silicon SH7PA", "Toray Silicon DC11PA", "Toray Silicon DC11PA" manufactured by Doray Corning Toray Silicone Co., Ltd. Silicon SH21PA, Toray Silicon SH28PA, Toray Silicon SH29PA, Toray Silicon SH30PA, Toray Silicon SH8400, Momentive Performance Materials Inc., TSF-4440, TSF -4300 "," TSF-4445 "," TSF-4460 "," TSF-4452 "," KP341 "," KF6001 "," KF6002 "made by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd." BYK307 "made by BYK Chemie , "BYK323", "BYK330", etc. are mentioned.

계면활성제는 1종만을 사용해도 좋고, 2종류 이상을 조합해도 좋다.The surfactant may be used alone or in combination of two or more.

계면활성제의 첨가량은 착색 감방사선성 조성물의 전체 질량에 대해서 0.001질량%∼2.0질량%가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.005질량%∼1.0질량%이다.As for the addition amount of surfactant, 0.001 mass%-2.0 mass% are preferable with respect to the total mass of a colored radiation-sensitive composition, More preferably, it is 0.005 mass%-1.0 mass%.

<기타 성분><Other ingredients>

본 발명의 착색 감방사선성 조성물에는 필요에 따라서 N,N-디알킬아미노벤조산 알킬에스테르나 2-메르캅토벤조티아졸 등의 연쇄 이동제, 아조계 화합물이나 과산화물계 화합물 등의 열중합 개시제, 열중합 성분, 막의 강도, 감도를 향상시킬 목적으로 다관능 티올이나 에폭시 화합물, 알콕시벤조페논 등의 자외선 흡수제, 디옥틸프탈레이트 등의 가소제, 저분자량 유기 카르복실산 등의 현상성 향상제, 기타 충전제, 상기 특정 바인더나 알칼리 가용성 수지 이외의 고분자 화합물, 산화 방지제, 응집 방지제 등의 각종 첨가물을 함유할 수 있다. In the colored radiation-sensitive composition of the present invention, if necessary, chain transfer agents such as alkyl esters of N, N-dialkylaminobenzoic acid and 2-mercaptobenzothiazole, thermal polymerization initiators such as azo compounds and peroxide compounds, and thermal polymerization UV absorbers such as polyfunctional thiols, epoxy compounds, alkoxybenzophenones, plasticizers such as dioctylphthalate, developability enhancers such as low molecular weight organic carboxylic acids, other fillers, and the above-described specific compounds for the purpose of improving the strength and sensitivity of the component, the film. Various additives, such as a high molecular compound other than a binder and alkali-soluble resin, antioxidant, an aggregation inhibitor, can be contained.

또한, 현상 후에 후가열로 막의 경화도를 높이기 위해서 열경화제를 첨가할 수 있다. 열경화제로서는 아조 화합물, 과산화물 등의 열중합 개시제, 노볼락 수지, 레졸 수지, 에폭시 화합물, 스티렌 화합물 등을 들 수 있다.In addition, a thermosetting agent may be added in order to increase the degree of curing of the film by post-heating after development. As a thermosetting agent, thermal polymerization initiators, such as an azo compound and a peroxide, a novolak resin, a resol resin, an epoxy compound, a styrene compound, etc. are mentioned.

-착색 감방사선성 조성물의 조제-Preparation of colored radiation-sensitive composition

본 발명의 착색 감방사선성 조성물은 상기한 각 성분과 함께 유기용제를 사용해서 조제하는 것이 바람직하다.It is preferable to prepare the colored radiation-sensitive composition of this invention using the organic solvent with each said component.

유기용제로서는 에스테르류, 예를 들면, 아세트산 에틸, 아세트산-n-부틸, 아세트산 이소부틸, 아세트산 이소아밀, 아세트산 이소부틸, 포름산 아밀, 프로피온산 부틸, 부티르산 이소프로필, 부티르산 에틸, 부티르산 부틸, 락트산 메틸, 락트산 에틸, 옥시아세트산 메틸, 옥시아세트산 에틸, 옥시아세트산 부틸, 메톡시아세트산 메틸, 메톡시아세트산 에틸, 메톡시아세트산 부틸, 에톡시아세트산 메틸, 에톡시아세트산 에틸, 3-옥시프로피온산 메틸, 3-옥시프로피온산 에틸, 3-메톡시프로피온산 메틸, 3-메톡시프로피온산 에틸, 3-에톡시프로피온산 메틸, 3-에톡시프로피온산 에틸, 2-옥시프로피온산 메틸, 2-옥시프로피온산 에틸, 2-옥시프로피온산 프로필, 2-메톡시프로피온산 메틸, 2-메톡시프로피온산 에틸, 2-메톡시프로피온산 프로필, 2-에톡시프로피온산 메틸, 2-에톡시프로피온산 에틸, 2-옥시-2-메틸프로피온산 메틸, 2-옥시-2-메틸프로피온산 에틸, 2-메톡시-2-메틸프로피온산 메틸, 2-에톡시-2-메틸프로피온산 에틸, 피루브산 메틸, 피루브산 에틸, 피루브산 프로필, 아세토아세트산 메틸, 아세토아세트산 에틸, 2-옥소부탄산 메틸, 2-옥소부탄산 에틸 등; 에테르류, 예를 들면 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 테트라히드로푸란, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜프로필에테르아세테이트 등; 케톤류, 예를 들면 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 2-헵타논, 3-헵타논 등; 방향족 탄화수소류, 예를 들면 톨루엔, 크실렌 등을 들 수 있다.Examples of the organic solvent include esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, isoamyl acetate, isobutyl acetate, amyl formate, butyl propionate, isopropyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate, methyl lactate, Ethyl lactate, methyl oxyacetic acid, ethyl oxyacetate, oxyacetic acid butyl, methoxyacetic acid methyl, methoxyacetic acid ethyl, methoxyacetic acid butyl, ethoxyacetic acid methyl, ethoxyacetic acid ethyl, 3-oxypropionic acid, 3-oxypropionic acid Ethyl, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 2-oxypropionate, ethyl 2-oxypropionate, propyl 2-oxypropionate, 2- Methyl methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, propyl 2-methoxypropionic acid, 2-ethoxypropionic acid Methyl, 2-ethoxypropionate, methyl 2-oxy-2-methylpropionate, ethyl 2-oxy-2-methylpropionate, methyl 2-methoxy-2-methylpropionate, ethyl 2-ethoxy-2-methylpropionate Methyl pyruvate, ethyl pyruvate, propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, methyl 2-oxobutanoate, ethyl 2-oxobutanoate and the like; Ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol Monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, propylene glycol propyl ether acetate and the like; Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone and the like; Aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and the like.

이들 용제 중 3-에톡시프로피온산 메틸, 3-에톡시프로피온산 에틸, 에틸셀로솔브아세테이트, 락트산 에틸, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 아세트산 부틸, 3-메톡시프로피온산 메틸, 2-헵타논, 시클로헥사논, 에틸카르비톨아세테이트, 부틸카르비톨아세테이트, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 등이 바람직하다.Of these solvents, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, 2-heptanone, cyclohexanone , Ethyl carbitol acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol methyl ether acetate and the like are preferable.

용제는 단독으로 사용하는 이외에 2종 이상을 조합해서 사용해도 좋다.You may use a solvent in combination of 2 or more type other than using independently.

또한, 본 발명에 따른 착색 감방사선성 조성물의 조제에 있어서는 이물의 제거나 결함의 저감 등의 목적으로 각 성분을 혼합한 후, 필터에 의해 여과하는 것이 바람직하다. 필터는 종래, 여과 용도 등으로 사용되고 있는 것이 특별히 한정되지 않고 사용된다. 구체적으로는 예를 들면, PTFE(폴리테트라플루오로에틸렌) 등의 불소 수지, 나일론-6, 나일론-6,6 등의 폴리아미드계 수지, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌(PP) 등의 폴리올레핀 수지(고밀도, 초고분자량을 포함한다) 등에 의한 필터를 들 수 있다. 이들 필터 소재 중에서도 나일론-6, 나일론-6,6 등의 폴리아미드계 수지, 폴리프로필렌(고밀도 폴리프로필렌을 포함한다)이 바람직하다.Moreover, in preparation of the colored radiation-sensitive composition which concerns on this invention, after mixing each component for the purpose of removal of a foreign material, reduction of a defect, etc., it is preferable to filter by a filter. The filter is conventionally used without being particularly limited and used for filtration purposes. Specifically, for example, polyolefin resin such as fluorine resin such as PTFE (polytetrafluoroethylene), polyamide resin such as nylon-6, nylon-6,6, polyethylene, polypropylene (PP) (high density, And ultra high molecular weights). Among these filter materials, polyamide-based resins such as nylon-6 and nylon-6,6 and polypropylene (including high density polypropylene) are preferable.

필터의 구멍직경은 0.01∼7.0㎛ 정도가 적합하고, 바람직하게는 0.01∼2.5㎛ 정도, 더욱 바람직하게는 0.01∼2.0㎛ 정도이다. 이 범위로 함으로써 후공정에 있어서 균일한 착색 감방사선성 조성물의 조제를 저해하는 미세한 이물이 확실하게 제거되어 균일하고 평활한 착색 감방사선성 조성물의 형성이 가능해진다.The pore diameter of the filter is preferably about 0.01 to 7.0 µm, preferably about 0.01 to 2.5 µm, and more preferably about 0.01 to 2.0 µm. By setting it as this range, the fine foreign material which inhibits preparation of a uniform colored radiation-sensitive composition in a post process is reliably removed, and formation of a uniform and smooth colored radiation-sensitive composition is attained.

필터를 사용할 때, 다른 필터를 조합해도 좋다. 그 때, 제 1 필터를 사용한 필터링은 1회뿐이어도 좋고, 2회 이상 행해도 좋다. 또한, 상술한 범위내에서 다른 구멍직경의 필터를 조합해서 제 1 필터를 복수의 필터로 이루어지는 것으로 해서 제1회째의 필터링으로 해도 좋다. 여기에서 말하는 구멍직경은 필터 메이커의 공칭값을 참조할 수 있다. 시판의 필터로서는 예를 들면, 니폰 폴 가부시키가이샤(Pall Corporation), 아드반테크 도요 가부시키가이샤(Advantec Toyo kaisha Ltd.), 니혼 인데그리스 가부시키가이샤(Nihon Entegris K.K.)(구 니혼 마이크로리스 가부시키가이샤) 또는 가부시키가이샤 키츠 마이크로 필터(Kitz Micro Filter Corporation) 등이 제공하는 각종 필터 중에서 선택할 수 있다.When using a filter, other filters may be combined. In that case, the filtering using a 1st filter may be performed only once, and may be performed twice or more. Further, within the above-described range, the first filter may be composed of a plurality of filters by combining filters having different pore diameters, so that the first filtering may be performed. The hole diameter here can refer to the nominal value of the filter manufacturer. Examples of commercially available filters include Nippon-Paul Co., Ltd., Advantec Toyo kaisha Ltd., Nihon Integris KK (formerly Nihon Microless Co., Ltd.) It can select from the various filters provided by Shikisha, Kitz Micro Filter Corporation, etc.

제 2 필터는 상술한 제 1 필터와 같은 재료 등으로 형성된 것을 사용할 수 있다.The second filter may be formed of the same material as the first filter described above.

또한, 예를 들면, 제 1 필터에서의 필터링은 안료 분산물에 대해서만 행하고, 상기 안료 분산물에 다른 성분을 혼합해서 착색 감방사선성 조성물로 한 후에 제 2 필터링을 행해도 좋다.For example, the filtering in a 1st filter may be performed only about a pigment dispersion, and after mixing another component with the said pigment dispersion to make a colored radiation-sensitive composition, you may perform 2nd filtering.

본 발명의 착색 감방사선성 조성물은 고체 촬상 소자에 사용되는 컬러필터 제조용 외에 액정 표시 장치용 컬러필터, 인쇄용 잉크, 잉크젯용 잉크 등에 적용할 수 있다.The colored radiation-sensitive composition of the present invention can be applied to color filters for liquid crystal display devices, printing inks, ink jet inks and the like in addition to color filters used for solid-state imaging devices.

본 발명의 착색 감방사선성 조성물은 미세한 안료를 고농도로 함유해도 안료분산 안정성과 현상성이 우수하고, 고세밀하고 색특성이 양호한 착색 영역을 형성할 수 있는 점에서 고체 촬상 소자용의 컬러필터의 제조, 특히, 막두께가 0.8㎛ 이하, 바람직하게는 0.1㎛∼0.5㎛의 범위의 화소를 형성하는 경우에 있어서도 그 효과가 현저하다고 할 수 있다.The colored radiation-sensitive composition of the present invention has excellent pigment dispersion stability and developability even when it contains a high concentration of fine pigments, and thus can form a colored region having high fineness and color characteristics. It can be said that the effect is remarkable also when manufacturing, especially when forming the pixel of 0.8 micrometer or less, Preferably it is the range of 0.1 micrometer-0.5 micrometer.

본 발명의 착색 감방사선성 조성물은 분산 안정성이 우수하므로 색재현성이 우수한 액정 표시 소자나 해상성이 우수한 고체 촬상 소자가 구비하는 컬러필터의 형성 용도에 적용할 경우에는 박막 형성이 가능해지는 점에서 유리한 점에서 상기 용도에 있어서는 안료를 고농도로 함유시킨 형태로 조제하는 것이 바람직하다.Since the colored radiation-sensitive composition of the present invention has excellent dispersion stability, it is advantageous in that a thin film can be formed when it is applied to the formation of a color filter included in a liquid crystal display device having excellent color reproducibility or a solid-state imaging device having excellent resolution. In view of the above, it is preferable to prepare a form containing a pigment at a high concentration.

본 발명의 착색 감방사선성 조성물에 있어서의 안료농도로서는 착색 감방사선성 조성물의 전체 고형분(즉, 안료, 분산 성분, 수지 성분, 중합성 화합물, 광중합성 개시제, 및 그 밖의 첨가제 등 용제를 제외한 성분의 합계의 질량)에 대해서 40질량% 이상이 바람직하고, 45질량% 이상이 더욱 바람직하다.As the pigment concentration in the colored radiation-sensitive composition of the present invention, the total solid content of the colored radiation-sensitive composition (that is, a component except a solvent such as a pigment, a dispersion component, a resin component, a polymerizable compound, a photopolymerization initiator, and other additives) 40 mass% or more is preferable with respect to the mass of the sum total, and 45 mass% or more is more preferable.

≪컬러필터 및 그 제조 방법≫≪Color filter and its manufacturing method≫

이어서, 본 발명의 컬러필터 및 그 제조 방법에 대해서 설명한다.Next, the color filter of this invention and its manufacturing method are demonstrated.

본 발명의 컬러필터는 기판 상에 본 발명의 착색 감방사선성 조성물을 사용해서 이루어지는 착색 영역(착색 패턴)을 갖는 것을 특징으로 한다.The color filter of this invention has a coloring area (coloring pattern) which uses the coloring radiation sensitive composition of this invention on a board | substrate. It is characterized by the above-mentioned.

이하, 본 발명의 컬러필터에 대해서 그 제조 방법(본 발명의 컬러필터의 제조 방법)을 통해서 상세하게 설명한다.Hereinafter, the color filter of this invention is demonstrated in detail through the manufacturing method (the manufacturing method of the color filter of this invention).

또한, 본 발명에 있어서의 컬러필터는 본 발명의 착색 감방사선성 조성물을 사용해서 이루어지는 착색 경화막을 갖고 있고, 상기 착색 경화막의 막두께는 1.0㎛ 이하인 것이 바람직하고, 0.1㎛∼0.9㎛인 것이 보다 바람직하고, 0.2㎛∼0.8㎛인 것이 더욱 바람직하다.Moreover, the color filter in this invention has the colored cured film which uses the colored radiation-sensitive composition of this invention, It is preferable that the film thickness of the said colored cured film is 1.0 micrometer or less, It is more preferable that it is 0.1 micrometer-0.9 micrometer It is preferable and it is more preferable that they are 0.2 micrometer-0.8 micrometer.

막두께를 1.0㎛ 이하로 함으로써 고해상성, 고밀착성을 얻을 수 있으므로 바람직하다.Since the high resolution and high adhesiveness can be obtained by making a film thickness into 1.0 micrometer or less, it is preferable.

본 발명에 있어서의 컬러필터의 제조 방법에 있어서는 상술한 본 발명의 착색 감방사선성 조성물이 사용된다.In the manufacturing method of the color filter in this invention, the coloring radiation sensitive composition of this invention mentioned above is used.

본 발명의 착색 감방사선성 조성물을 사용함으로써 현상성이 우수함과 아울러 감도 좋고 양호한 고도의 경도가 얻어지므로 형상이 양호하고 고해상도의 미세한 패턴으로 구성된 컬러필터를 간이하게 제작할 수 있다.By using the colored radiation-sensitive composition of the present invention, excellent developability, high sensitivity and good high hardness are obtained, and thus a color filter composed of fine patterns with good shape and high resolution can be easily produced.

본 발명에 있어서의 컬러필터의 제조 방법은 본 발명의 착색 감방사선성 조성물을 기판 상에 도포 후 패턴 노광하고, 현상해서 패턴을 형성하는 공정을 설치해서 구성한 것이다. 구체적으로는 본 발명의 착색 감방사선성 조성물을 지지체 상에 회전 도포, 유연 도포, 롤 도포 등의 도포 방법에 의해 도포해서 착색 감방사선성 조성물층을 형성하고, 상기 층을 소정의 마스크 패턴을 통해 노광하고, 현상액으로 현상함으로써 네거티브형 착색 패턴을 형성함으로써 바람직하게 제작할 수 있다(화상 형성 공정). 또한, 필요에 따라 형성된 착색 패턴을 가열 및/또는 노광에 의해 경화하는 경화 공정을 포함하고 있어도 좋다.The manufacturing method of the color filter in this invention is provided by providing the process which pattern-exposes, develops, and forms a pattern after apply | coating the colored radiation-sensitive composition of this invention on a board | substrate. Specifically, the colored radiation-sensitive composition of the present invention is applied onto a support by a coating method such as rotational coating, flexible coating, roll coating, or the like to form a colored radiation-sensitive composition layer, and the layer is formed through a predetermined mask pattern. It can produce preferably by forming a negative coloring pattern by exposing and developing with a developing solution (image formation process). Moreover, the hardening process which hardens the coloring pattern formed as needed by heating and / or exposure may be included.

컬러필터의 제작에 있어서는 상기 화상 형성 공정(및 필요에 따라 경화 공정)을 소망의 색상수만큼 반복함으로써 소망의 색상으로 이루어지는 컬러필터를 제작할 수 있다. 이 때에 사용되는 광 또는 방사선으로서는 특히 g선, h선, i선 등의 자외선이 바람직하게 사용된다.In the production of a color filter, a color filter having a desired color can be produced by repeating the image forming step (and curing step, if necessary) by the desired number of colors. As light or radiation used at this time, particularly ultraviolet rays such as g-rays, h-rays, and i-rays are preferably used.

본 발명의 컬러필터의 제조 방법은 본 발명의 착색 감방사선성 조성물을 기판 상에 도포해서 착색 감방사선성 조성물층(착색층)을 형성하는 공정(착색층 형성 공정)과, 상기 착색 감방사선성 조성물층을 패턴형상으로 노광하는 공정(노광 공정)과, 노광 후의 상기 착색 감방사선성 조성물층을 현상해서 패턴 성형하는 공정(현상 공정)을 포함하는 것을 특징으로 한다.The manufacturing method of the color filter of this invention apply | coats the colored radiation-sensitive composition of this invention on a board | substrate, and forms the colored radiation-sensitive composition layer (coloring layer) (color layer formation process), and the said colored radiation-sensitive And a step (exposure step) of exposing the composition layer in a pattern shape (exposure step) and developing and pattern-forming the colored radiation-sensitive composition layer after exposure.

<착색층 형성 공정><Color layer forming process>

착색층 형성 공정에서는 기판 상에 본 발명의 착색 감방사선성 조성물을 도포해서 상기 착색 감방사선성 조성물로 이루어지는 착색층(착색 감방사선성 조성물층)을 형성한다.In a colored layer formation process, the colored radiation-sensitive composition of this invention is apply | coated on a board | substrate, and the colored layer (colored radiation-sensitive composition layer) which consists of said colored radiation-sensitive composition is formed.

본 공정에 사용할 수 있는 기판으로서는 예를 들면, 고체 촬상 소자에 사용되는 CCD(charge-coupled device)나 CMOS(complementary metal oxide semiconductor)에 있어서의 광전 변환 소자 기판, 실리콘 기판 등이나, 액정 표시 장치 등에 사용되는 무알칼리 유리, 소다 유리, 파이렉스(PYREX)(등록상표) 유리, 석영 유리, 및 이들에 투명 도전막을 부착시킨 것 등을 들 수 있다. 이들 기판은 각 화소를 격리하는 블랙 매트릭스가 형성되어 있는 경우도 있다.As a substrate which can be used for this process, the photoelectric conversion element substrate in a charge-coupled device (CCD), a complementary metal oxide semiconductor (CMOS) used for a solid-state image sensor, a silicon substrate, a liquid crystal display device, etc. are used, for example. The alkali free glass, soda glass, PYREX (R) glass, quartz glass used, and the thing which adhered the transparent conductive film to these are mentioned. These board | substrates may be provided with the black matrix which isolate | separates each pixel.

또한, 이들 기판 상에는 필요에 따라 상부 층과의 밀착 개량, 물질의 확산 방지 또는 기판 표면의 평탄화를 위해서 프라이머층을 형성해도 좋다.Moreover, you may form a primer layer on these board | substrates for the improvement of close_contact | adherence with an upper layer, the prevention of material diffusion, or the planarization of a substrate surface as needed.

기판 상으로의 본 발명의 착색 감방사선성 조성물의 도포 방법으로서는 슬릿 도포, 잉크젯법, 회전 도포, 유연 도포, 롤 도포, 스크린 인쇄법 등의 각종 도포 방법을 적용할 수 있다. As a coating method of the colored radiation-sensitive composition of this invention on a board | substrate, various coating methods, such as a slit coating, an inkjet method, a rotary coating, cast coating, roll coating, and screen printing, can be applied.

착색 감방사선성 조성물의 도포 직후의 막두께로서는 도포막의 막두께 균일성, 도포 용제의 건조의 용이함의 관점에서 건조 후의 막두께로 환산해서 0.1㎛ 이상 10㎛ 이하가 바람직하고, 0.2㎛ 이상 5㎛ 이하가 보다 바람직하고, 0.2㎛ 이상 3㎛ 이하가 더욱 바람직하다.As a film thickness immediately after application of the colored radiation-sensitive composition, from the viewpoint of the film thickness uniformity of the coating film and the ease of drying of the coating solvent, in terms of film thickness after drying, 0.1 µm or more and 10 µm or less are preferable, and 0.2 µm or more and 5 µm or less The following are more preferable, and 0.2 micrometer or more and 3 micrometers or less are more preferable.

기판 상에 도포된 착색층(착색 감방사선성 조성물층)의 건조(프리베이킹)는 핫플레이트, 오븐 등에서 50℃∼140℃의 온도에서 10초∼300초로 행할 수 있다.Drying (prebaking) of the colored layer (colored radiation-sensitive composition layer) apply | coated on the board | substrate can be performed in 10 to 300 second at the temperature of 50 degreeC-140 degreeC in a hotplate, oven, etc.

<노광 공정><Exposure Step>

노광 공정에서는 상기 착색층 형성 공정에 있어서 형성된 착색층(착색 감방사선성 조성물층)을 패턴형상으로 노광한다.In an exposure process, the colored layer (colored radiation sensitive composition layer) formed in the said colored layer formation process is exposed by pattern shape.

본 공정에 있어서의 노광에 있어서는 착색층의 노광은 소정의 마스크 패턴(mask pattern)을 통해 노광하고, 광조사된 도포막 부분만을 경화시킴으로써 행하는 것이 바람직하다. 노광에 있어서 사용할 수 있는 방사선으로서는 특히, g선, h선, i선 등의 방사선이 바람직하게 사용된다. 조사량은 30mJ/㎠∼1500mJ/㎠가 바람직하고, 50mJ/㎠∼1000mJ/㎠가 보다 바람직하고, 80mJ/㎠∼500mJ/㎠가 가장 바람직하다.In exposure in this process, it is preferable to perform exposure of a colored layer by exposing through a predetermined | prescribed mask pattern and hardening only the coating film part irradiated with light. Especially as radiation which can be used in exposure, radiation, such as g line | wire, h line | wire, i line | wire, is used preferably. 30mJ / cm <2> -1500mJ / cm <2> is preferable, 50mJ / cm <2> -1000mJ / cm <2> is more preferable, 80mJ / cm <2> -500mJ / cm <2> is the most preferable.

<현상 공정><Development Process>

노광 공정에 이어서 알칼리 현상 처리(현상 공정)를 행함으로써 노광 후의 미경화부를 현상액으로 용출시키고, 광경화된 부분을 잔존시킨다. 이 현상 공정에 의해 각 색(예를 들면, 3색 또는 4색)의 화소로 이루어지는 패턴형상 피막을 형성할 수 있다.By performing an alkali developing process (development process) following an exposure process, the uncured part after exposure is eluted with a developing solution, and the photocured part remains. By this developing step, a patterned film composed of pixels of each color (for example, three colors or four colors) can be formed.

현상 방식은 딥 방식, 샤워 방식, 스프레이 방식, 퍼들 방식 등 어느 것이어도 좋고, 이것에 스윙 방식, 스핀 방식, 초음파 방식 등을 조합해도 좋다.The developing method may be any of a dip method, a shower method, a spray method, a puddle method and the like, and a swing method, a spin method, an ultrasonic method, or the like may be combined therewith.

현상액에 접촉되기 전에 피현상면을 미리 물 등으로 적셔 두어 현상 얼룩을 방지할 수도 있다.Before the contact with the developing solution, the surface to be developed may be wetted with water or the like to prevent developing staining.

현상액으로서는 하지의 회로 등에 데미지를 일으키지 않는 유기 알칼리 현상액이 바람직하다. 현상 온도로서는 통상 20℃∼30℃이며, 현상 시간은 20∼90초이다.As a developing solution, the organic alkali developing solution which does not cause damage to a circuit of an underlayer etc. is preferable. As image development temperature, it is 20 degreeC-30 degreeC normally, and developing time is 20 to 90 second.

현상액이 포함하는 알칼리제로서는 예를 들면, 암모니아수, 에틸아민, 디에틸아민, 디메틸에탄올아민, 테트라메틸암모늄히드록시드, 테트라에틸암모늄히드록시드, 콜린, 피롤, 피페리딘, 1, 8-디아자비시클로-[5,4,0]-7-운데센 등의 유기 알카리성 화합물, 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨 등의 무기 화합물 등을 들 수 있다.As an alkaline agent which a developing solution contains, for example, aqueous ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, choline, pyrrole, piperidine, 1, 8-dia Organic alkaline compounds, such as xacyclo- [5,4,0] -7-undecene, inorganic compounds, such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium hydrogencarbonate, potassium hydrogencarbonate, etc. are mentioned.

현상액으로서는 이들 알칼리제를 농도가 0.001질량%∼10질량%, 바람직하게는 0.01질량%∼1질량%가 되도록 순수로 희석한 알카리성 수용액이 바람직하게 사용된다. 또한, 이러한 알카리성 수용액으로 이루어지는 현상액을 사용한 경우에는 일반적으로 현상 후 물로 세정(린스)한다.As a developing solution, the alkaline aqueous solution which diluted these alkaline agents with the pure water so that a density | concentration may be 0.001 mass%-10 mass%, Preferably 0.01 mass%-1 mass% is used preferably. In addition, when the developing solution which consists of such alkaline aqueous solution is used, it generally washes (rinses) with water after image development.

이어서, 잉여의 현상액을 세정 제거하고, 건조를 실시한다.Subsequently, the excess developer is washed off and dried.

또한, 본 발명의 제조 방법에 있어서는 상술한 착색층 형성 공정, 노광 공정, 및 현상 공정을 행한 후에, 필요에 따라 형성된 착색 패턴을 후가열(포스트베이킹)이나 후노광에 의해 경화하는 경화 공정을 포함하고 있어도 좋다. 포스트베이킹은 경화를 완전한 것으로 하기 위한 현상 후의 가열 처리이며, 통상 100℃∼270℃의 열경화 처리를 행한다. 광을 사용하는 경우에는 g선, h선, i선, KrF나 ArF 등의 엑시머 레이저(excimer laser), 전자선, X선 등에 의해 행할 수 있지만, 기존의 고압 수은등으로 20∼50℃ 정도의 저온에서 행하는 것이 바람직하고, 조사 시간으로서는 10초∼180초, 바람직하게는 30초∼60초이다. 후노광과 후가열의 병용의 경우, 후노광을 먼저 실시하는 것이 바람직하다.Moreover, the manufacturing method of this invention includes the hardening process which hardens the coloring pattern formed as needed after a post-heating (post-baking) or after exposure, after performing the above-mentioned colored layer formation process, exposure process, and image development process. You may do it. Post-baking is the heat processing after image development for making hardening perfect, and the thermosetting process of 100 degreeC-270 degreeC is normally performed. In the case of using light, it may be performed by g-ray, h-ray, i-ray, excimer laser such as KrF or ArF, electron beam, X-ray, etc. It is preferable to carry out, and irradiation time is 10 second-180 second, Preferably it is 30 second-60 second. In the case of the combination of post-exposure and post-heating, it is preferable to perform post-exposure first.

이상 설명한 착색층 형성 공정, 노광 공정, 및 현상 공정(또한, 필요에 따라 경화 공정)을 소망의 색상수만큼 반복함으로써 소망의 색상으로 이루어지는 컬러필터가 제작된다.The color filter which consists of a desired color is produced by repeating the above-mentioned colored layer formation process, exposure process, and image development process (more, the hardening process as needed) by the desired number of colors.

본 발명의 컬러필터는 노광 감도도 우수한 본 발명의 착색 감방사선성 조성물을 사용해서 제조되므로 노광부에 있어서의 경화된 조성물은 기판과의 밀착성 및 내현상성이 우수하고, 형성된 착색 패턴과 기판의 밀착성은 높고, 또한, 소망의 단면형상을 부여하는 패턴은 미세한 착색 화소를 갖는다.Since the color filter of this invention is manufactured using the coloring radiation sensitive composition of this invention which is also excellent in exposure sensitivity, the hardened composition in an exposure part is excellent in adhesiveness and developability with a board | substrate, Adhesiveness is high and the pattern which gives a desired cross-sectional shape has a fine colored pixel.

본 발명의 착색 감방사선성 조성물은 예를 들면, 도포 장치 토출부의 노즐(nozzle), 도포 장치의 배관부, 도포 장치내 등에 부착된 경우라도 공지의 세정액을 사용해서 용이하게 세정 제거할 수 있다. 이 경우, 보다 효율이 좋은 세정 제거를 행하기 위해서는 본 발명의 착색 감방사선성 조성물에 포함되는 유기용제로서 상술한 유기용제를 세정액으로서 사용하는 것이 바람직하다.The colored radiation-sensitive composition of the present invention can be easily removed by using a known cleaning liquid even if it is attached to, for example, a nozzle of a coating device discharge part, a pipe part of a coating device, a coating device, or the like. In this case, in order to perform more efficient washing removal, it is preferable to use the above-mentioned organic solvent as a washing | cleaning liquid as the organic solvent contained in the colored radiation-sensitive composition of this invention.

또한, 일본 특허 공개 평 7-128867호 공보, 일본 특허 공개 평 7-146562호 공보, 일본 특허 공개 평 8-278637호 공보, 일본 특허 공개 2000-273370호 공보, 일본 특허 공개 2006-85140호 공보, 일본 특허 공개 2006-291191호 공보, 일본 특허 공개 2007-2101호 공보, 일본 특허 공개 2007-2102호 공보, 일본 특허 공개 2007-281523호 공보 등에 기재된 세정액도 본 발명의 착색 감방사선성 조성물의 세정 제거용 세정액으로서 바람직하게 사용할 수 있다.Further, Japanese Patent Laid-Open No. 7-128867, Japanese Patent Laid-Open No. 7-146562, Japanese Patent Laid-Open No. 8-278637, Japanese Patent Laid-Open No. 2000-273370, Japanese Patent Laid-Open No. 2006-85140, The cleaning liquids described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-291191, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-2101, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-2102, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-281523, and the like also wash and remove the colored radiation-sensitive composition of the present invention. It can be used preferably as a washing | cleaning liquid.

세정액으로서는 알킬렌글리콜모노알킬에테르카르복실레이트, 또는 알킬렌글리콜모노알킬에테르를 사용하는 것이 바람직하다. It is preferable to use alkylene glycol monoalkyl ether carboxylate or alkylene glycol monoalkyl ether as a washing | cleaning liquid.

세정액으로서 사용할 수 있는 이들 유기용제는 단독으로 사용해도 2종 이상을 혼합해서 사용해도 좋다.These organic solvents which can be used as washing | cleaning liquid may be used individually, or may mix and use 2 or more types.

유기용제 2종 이상을 혼합할 경우, 수산기를 갖는 유기용제와 수산기를 갖지 않는 유기용제를 혼합해서 이루어지는 혼합 용제가 바람직하다. 수산기를 갖는 유기용제와 수산기를 갖지 않는 유기용제의 질량비는 1/99∼99/1, 바람직하게는 10/90∼90/10, 더욱 바람직하게는 20/80∼80/20이다. 혼합 용제로서는 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA)와 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)의 혼합 용제로, 그 비율이 60/40인 것이 특히 바람직하다. When mixing 2 or more types of organic solvents, the mixed solvent which mixes the organic solvent which has a hydroxyl group, and the organic solvent which does not have a hydroxyl group is preferable. The mass ratio of the organic solvent which has a hydroxyl group and the organic solvent which does not have a hydroxyl group is 1 / 99-99 / 1, Preferably it is 10 / 90-90 / 10, More preferably, it is 20 / 80-80 / 20. As a mixed solvent, it is a mixed solvent of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) and propylene glycol monomethyl ether (PGME), It is especially preferable that the ratio is 60/40.

또한, 착색 감방사선성 조성물에 대한 세정액의 침투성을 향상시키기 위해서 세정액에는 착색 감방사선성 조성물이 함유할 수 있는 계면활성제로서 상술한 계면활성제를 첨가해도 좋다.Moreover, in order to improve the permeability of the washing | cleaning liquid with respect to a colored radiation-sensitive composition, you may add surfactant mentioned above as surfactant which a colored radiation-sensitive composition can contain to a washing | cleaning liquid.

또한, 본 발명의 컬러필터의 제조 방법에 의해 제조된 본 발명의 컬러필터는 CCD, CMOS 등의 고체 촬상 소자에 바람직하게 사용할 수 있고, 또한 전자 페이퍼(electronic paper)나 유기 EL 등의 화상 표시 디바이스, 액정 표시 장치 등에도 바람직하게 사용할 수 있다. 특히 100만화소를 초과하는 고해상도의 CCD나 CMOS의 고체 촬상 소자에 바람직하다. 본 발명의 컬러필터는 예를 들면, CCD 소자를 구성하는 각 화소의 수광부와 집광하기 위한 마이크로렌즈(micro lens) 사이에 배치되는 컬러필터로서도 사용할 수 있다.Moreover, the color filter of this invention manufactured by the manufacturing method of the color filter of this invention can be used suitably for solid-state image sensors, such as CCD and CMOS, and also image display devices, such as an electronic paper and an organic EL, And liquid crystal display devices. It is especially suitable for the solid-state image sensor of CCD and CMOS of high resolution exceeding 1 million pixels. The color filter of the present invention can also be used, for example, as a color filter disposed between the light receiving portion of each pixel constituting the CCD element and a micro lens for condensing.

≪고체 촬상 소자≫&Lt; Solid state imaging device &

본 발명에 있어서의 고체 촬상 소자는 상술한 본 발명의 컬러필터를 구비한다. 본 발명에 있어서의 고체 촬상 소자의 구성으로서는 본 발명에 있어서의 컬러필터가 구비된 구성이며, 고체 촬상 소자로서 기능하는 구성이면 특별히 한정은 없지만, 예를 들면, 이하와 같은 구성을 들 수 있다.The solid-state image sensor in this invention is equipped with the color filter of this invention mentioned above. As a structure of the solid-state image sensor in this invention, if it is a structure with the color filter in this invention, and it is a structure which functions as a solid-state image sensor, there is no limitation in particular, For example, the following structures are mentioned.

기판 상에 고체 촬상 소자(CCD 이미지 센서, CMOS 이미지 센서 등)의 수광 영역을 구성하는 복수의 포토다이오드(photodiode) 및 폴리실리콘(polysilicon) 등으로 이루어지는 전송 전극을 갖고, 상기 포토다이오드 및 상기 전송 전극 상에 포토다이오드의 수광부만 개구한 텅스텐 등으로 이루어지는 차광막을 갖고, 차광막 상에 차광막 전면 및 포토다이오드 수광부를 덮도록 형성된 질화 실리콘 등으로 이루어지는 디바이스 보호막을 갖고, 상기 디바이스 보호막 상에 본 발명의 고체 촬상 소자용 컬러필터를 갖는 구성이다.And a transfer electrode made of a plurality of photodiodes, polysilicons, and the like constituting a light receiving region of a solid-state imaging device (CCD image sensor, CMOS image sensor, etc.) on a substrate, wherein the photodiode and the transfer electrode It has a light shielding film which consists of tungsten etc. which opened only the light-receiving part of a photodiode on it, It has a device protective film which consists of silicon nitride etc. formed on the light-shielding film and covers the light-shielding film whole surface and a photodiode light-receiving part, The solid-state imaging of this invention on the said device protective film. It is a structure which has a color filter for elements.

또한, 상기 디바이스 보호층 상이며 컬러필터 하측(지지체에 가까운 측)에 집광 수단(예를 들면, 마이크로렌즈 등 이하 동일)을 갖는 구성이나, 컬러필터 상에 집광 수단을 갖는 구성 등이어도 좋다.Moreover, the structure which has condensing means (for example, the same as a microlens etc. below) on the said device protective layer and below a color filter (side close to a support body), the structure which has a light converging means on a color filter, etc. may be sufficient.

≪액정 표시 장치≫&Quot; Liquid crystal display device &

본 발명에 있어서의 컬러필터는 상기 고체 촬상 소자뿐만 아니라 액정 표시 장치에 사용할 수 있고, 특히 액정 표시 장치의 용도에 바람직하다. 액정 표시 장치에 사용한 경우, 분광 특성 및 내열성이 우수한 금속 착체 색소를 착색제로서 함유하면서도 비저항의 저하에 따른 액정분자의 배향 불량이 적고, 표시 화상의 색조가 양호하여 표시 특성이 우수하다.The color filter in this invention can be used not only for the said solid-state image sensor but a liquid crystal display device, and is especially suitable for the use of a liquid crystal display device. When used for a liquid crystal display device, while containing the metal complex dye which is excellent in spectral characteristics and heat resistance as a coloring agent, there are few orientation defects of the liquid crystal molecule accompanying the fall of specific resistance, and the color tone of a display image is favorable and it is excellent in display characteristics.

이 때문에, 본 발명의 컬러필터를 구비한 액정 표시 장치는 표시 화상의 색조가 양호하여 표시 특성이 우수한 고화질 화상을 표시할 수 있다.For this reason, the liquid crystal display device provided with the color filter of this invention can display the high quality image which was favorable in the color tone of a display image, and was excellent in display characteristics.

표시 장치의 정의나 각 표시 장치의 상세에 대해서는 예를 들면 「전자 디스플레이 디바이스(사사키 테루오저, (주)고교 쵸사카이(Kogyo Chosakai Publishing Co., Ltd.) 1990년 발행)」, 「디스플레이 디바이스(이부키 수미아키저, 산교 도쇼(주)(Sangyo Tosho Publishing Co., Ltd.)1989년 발행)」등에 기재되어 있다. 또한, 액정 표시 장치에 대해서는 예를 들면 「차세대 액정 디스플레이 기술(우치다 타츠오 편집, (주)고교 쵸사카이 1994년 발행)」에 기재되어 있다. 본 발명을 적용할 수 있는 액정 표시 장치에 특별히 제한은 없고, 예를 들면, 상기 「차세대 액정 디스플레이 기술」에 기재되어 있는 여러가지 방식의 액정 표시 장치에 적용할 수 있다.For details of the definition of the display device and the details of each display device, for example, "Electronic display device (Sasaki Teruozer, Kogyo Chosakai Publishing Co., Ltd. 1990 issuance)", "Display device ( Ibuki Sumiakiser, Sangyo Tosho Publishing Co., Ltd. (issued in 1989), and the like. In addition, about a liquid crystal display device, it describes in the "next-generation liquid crystal display technology (Tatsuo Uchida editorial, 1994, high school chosakai Co., Ltd.)." There is no restriction | limiting in particular in the liquid crystal display device which can apply this invention, For example, it can apply to the liquid crystal display device of various systems described in said "next-generation liquid crystal display technology."

본 발명에 있어서의 컬러필터는 컬러 TFT(thin film transistor) 방식의 액정 표시 장치에 사용해도 좋다. 컬러 TFT 방식의 액정 표시 장치에 대해서는 예를 들면 「컬러 TFT 액정 디스플레이(교리츠 슛판(주)(Kyoritsu Shuppan Co., Ltd.) 1996년 발행)」에 기재되어 있다. 또한, 본 발명은 IPS(In-Plane Switching) 등의 횡전계 구동 방식, MVA(Multi-domain Vertical Alignment) 등의 화소 분할 방식 등의 시야각이 확대된 액정 표시 장치나, STN(Super Twisted Nematic), TN(Twisted Nematic), VA(Vertical Alignment), OCS(Optically Compensated Splay), FFS(Fringe Field Switching), 및 R-OCB(Reflective Optically Compensated Bend) 등에도 적용할 수 있다.You may use the color filter in this invention for the liquid crystal display device of a color TFT (thin film transistor) system. About the liquid crystal display device of a color TFT system, it describes in a "color TFT liquid crystal display (Kyoritsu Shuppan Co., Ltd. 1996 issuance), for example." In addition, the present invention provides a liquid crystal display device having an enlarged viewing angle such as a lateral electric field driving method such as IPS (In-Plane Switching), a pixel segmentation method such as MVA (Multi-domain Vertical Alignment), a super twisted nematic (STN), TN (Twisted Nematic), VA (Vertical Alignment), OCS (Optically Compensated Splay), FFS (Fringe Field Switching), R-OCB (Reflective Optically Compensated Bend), and the like.

또한, 본 발명에 있어서의 컬러필터는 밝고 고세밀한 COA(Color-filter On Array) 방식에도 제공하는 것이 가능하다. COA 방식의 액정 표시 장치에 있어서는 컬러필터층에 대한 요구 특성은 상술과 같은 통상의 요구 특성에 추가해서 층간 절연막에 대한 요구 특성, 즉 저유전율 및 박리액 내성이 필요로 되는 경우가 있다. 본 발명의 컬러필터에 있어서는 색상이 우수한 염료 다량체를 사용하는 점에서 색순도, 광투과성 등이 양호하며 착색 패턴(화소)의 색조가 우수하므로 해상도가 높고 장기 내구성이 우수한 COA 방식의 액정 표시 장치를 제공할 수 있다. 또한, 저유전율의 요구 특성을 만족시키기 위해서는 컬러필터층 상에 수지피막을 형성해도 좋다.Furthermore, the color filter in this invention can also be provided also in a bright and high-definition color-filter on array (COA) system. In the COA type liquid crystal display device, the required characteristics for the color filter layer may be required for the interlayer insulating film, that is, low dielectric constant and peeling liquid resistance, in addition to the usual required characteristics as described above. In the color filter of the present invention, since the dye multimer having excellent color is used, the color purity, light transmittance, etc. are good, and the color pattern (pixel) has excellent color tone. Can provide. Moreover, in order to satisfy the required characteristic of low dielectric constant, you may form a resin film on a color filter layer.

이들 화상 표시 방식에 대해서는 예를 들면, 「EL, PDP, LCD 디스플레이-기술과 시장의 최신 동향-(도레이 리서치 센터(Toray Research Center) 조사 연구 부문(Research Group) 2001년 발행)」의 43페이지 등에 기재되어 있다.These image display methods are described, for example, on page 43 of `` EL, PDP, LCD Display Technology and Market Trends (Toray Research Center Research Group 2001) ''. It is described.

본 발명에 있어서의 컬러필터를 구비한 액정 표시 장치는 본 발명에 있어서의 컬러필터 이외에 전극 기판, 편광 필름, 위상차 필름, 백라이트(backlight), 스페이서(spacer), 시야각 보장 필름 등 여러가지 부재로 구성된다. 본 발명의 컬러필터는 이들 공지의 부재로 구성되는 액정 표시 장치에 적용할 수 있다. 이들 부재에 대해서는 예를 들면, 「'94 액정 디스플레이 주변 재료·케미컬의 시장(시마 켄타로(주) 시엠시(CMC Publishing Co., Ltd.) 1994년 발행)」, 「2003 액정 관련 시장의 현상황과 장래 전망(하권)(오모테 료키치(주)후지 키메라 소켄(Fuji Chimera Research Institute, Inc.), 2003년 발행)」에 기재되어 있다. The liquid crystal display device provided with the color filter in this invention consists of various members, such as an electrode substrate, a polarizing film, retardation film, a backlight, a spacer, a viewing angle guarantee film, in addition to the color filter in this invention. . The color filter of this invention can be applied to the liquid crystal display device comprised from these well-known members. About these members, for example, "The market of liquid crystal display peripheral materials and chemicals (Kenta Shima Kentaro Co., Ltd. 1994 issue) of 1994 liquid crystal display", "The present situation of the liquid crystal display market and Future prospects (the lower volume) (Fuji Chimera Research Institute, Inc., 2003).

백라이트에 관해서는 SID meeting Digest 1380(2005)(A.Konno et.al)이나, 월간 디스플레이(Monthly DISPLAY) 2005년 12월호의 18∼24페이지(시마 야스히로), 동 25∼30페이지(야기 타카아키) 등에 기재되어 있다.Regarding the backlight, see SID meeting Digest 1380 (2005) (A.Konno et.al), pages 18 to 24 (Shima Yasuhiro), December 25, 2005 issue of Monthly Display, and pages 25 to 30 (Yaki Takaaki). And the like.

본 발명에 있어서의 컬러필터를 액정 표시 장치에 사용하면 종래 공지의 냉음극관의 3파장관과 조합했을 때에 높은 콘트라스트를 실현할 수 있지만, 또한, 빨강, 초록, 파랑의 LED 광원(RGB-LED)을 백라이트로 함으로써 휘도가 높고, 또한 색순도가 높고 색재형성이 양호한 액정 표시 장치를 제공할 수 있다.When the color filter of the present invention is used in a liquid crystal display device, high contrast can be realized when combined with the three wavelength tubes of a conventionally known cold cathode tube, and red, green, and blue LED light sources (RGB-LEDs) are also used. By setting it as a backlight, the liquid crystal display device with high luminance, high color purity, and good color reformation can be provided.

(실시예)(Example)

이하에 실시예를 들어서 본 발명을 더욱 구체적으로 설명한다. 이하의 실시예에 나타내는 재료, 시약, 비율, 기기, 조작 등은 본 발명의 정신으로부터 일탈하지 않는 한 적당히 변경할 수 있다. 따라서, 본 발명의 범위는 이하에 나타내는 구체예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 이하의 실시예에 있어서, 특별히 기재하지 않는 한 「%」 및 「부」는 「질량%」 및 「질량부」를 나타내고, 분자량이란 중량 평균 분자량을 나타낸다.An Example is given to the following and this invention is demonstrated to it further more concretely. Materials, reagents, ratios, instruments, operations, and the like shown in the following examples can be appropriately changed without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the following specific examples. In addition, in the following Examples, unless otherwise indicated, "%" and "part" represent "mass%" and "mass part", and molecular weight shows a weight average molecular weight.

<(B) 바인더의 합성>Synthesis of (B) Binder

<합성예 1>&Lt; Synthesis Example 1 &

모노머의 적하용 용기에 이하의 조성의 용액을 준비했다.A solution of the following composition was prepared in a dropping vessel for the monomer.

·디메틸-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트(이하 「DM」이라고 한다)…13부Dimethyl-2,2 '-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate (hereinafter referred to as "DM"). Part 13

·벤질메타크릴레이트(이하 「BzMA」라고 한다)…63부Benzyl methacrylate (hereinafter referred to as "BzMA"); Part 63

·메타크릴산 메틸(이하 「MMA」라고 한다)…15부Methyl methacrylate (hereinafter referred to as "MMA")... Part 15

·메타크릴산(이하 「MAA」라고 한다)…38부· Methacrylic acid (hereinafter referred to as "MAA"). Part 38

·t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트…2부T-butylperoxy-2-ethylhexanoate... Part Two

·디에틸렌글리콜디메틸에테르…32부Diethylene glycol dimethyl ether... Part 32

연쇄 이동제의 적하용 용기에 이하의 내용의 용액을 준비했다.The solution of the following contents was prepared in the container for dripping of a chain transfer agent.

·n-도데칸티올…6부N-dodecanethiol... Part 6

·디에틸렌글리콜디메틸에테르…20부Diethylene glycol dimethyl ether... 20 copies

반응 용기(냉각관이 부착된 세퍼러블 플라스크(separable flask))에 디에틸렌글리콜디메틸에테르 188부를 넣고, 질소 치환 후 가열해서 반응 용기의 온도를 90℃로 올렸다.188 parts of diethylene glycol dimethyl ether was placed in a reaction vessel (separable flask with a cooling tube), and after nitrogen substitution, the temperature of the reaction vessel was raised to 90 ° C.

온도 안정을 확인한 후, 모노머 적하 용기와 연쇄 이동제 적하 용기로부터 적하를 개시하고, 90℃의 온도를 유지한 채 140분간 모노머 및 연쇄 이동제의 적하를 종료했다. After confirming temperature stability, dropping was started from the monomer dropping container and the chain transfer agent dropping container, and the dropping of the monomer and the chain transfer agent was completed for 140 minutes while maintaining the temperature of 90 degreeC.

적하 종료 후부터 60분 후에 다시 승온을 행하고, 반응 용기의 온도를 110℃로 올리고, 그대로 110℃에서 180분 유지했다. 그 후, 반응 용기내를 공기로 치환했다.60 minutes after completion | finish of dripping was heated up again, the temperature of the reaction container was raised to 110 degreeC, and it maintained at 110 degreeC for 180 minutes as it is. Thereafter, the reaction vessel was replaced with air.

이어서 반응 용기에 이하의 조성의 화합물을 투입하고, 110℃의 온도의 상태에서 9시간 반응시켰다.Next, the compound of the following compositions was thrown into the reaction container, and it was made to react for 9 hours in the state of the temperature of 110 degreeC.

·글리시딜메타크릴레이트(이하 「GMA」라고 한다)…41부· Glycidyl methacrylate (hereinafter referred to as "GMA")... Part 41

·2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀)…0.2부2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol)... 0.2 part

·트리에틸아민…0.4부Triethylamine... 0.4 part

반응 종료 후 디에틸렌글리콜디메틸에테르 27부를 첨가하고, 실온으로 냉각하여 바인더(B-1)를 얻었다.27 parts of diethylene glycol dimethyl ethers were added after completion | finish of reaction, it cooled to room temperature, and obtained the binder (B-1).

<합성예 2>&Lt; Synthesis Example 2 &

모노머의 적하용 용기에 이하의 조성의 용액을 준비했다.A solution of the following composition was prepared in a dropping vessel for the monomer.

·DM…22부DM… Part 22

·BzMA…70부BzMA… 70 copies

·MMA…10부MMA… 10 copies

·MAA…34부MAA… Part 34

·t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트…2부T-butylperoxy-2-ethylhexanoate... Part Two

·디에틸렌글리콜디메틸에테르…34부Diethylene glycol dimethyl ether... Part 34

연쇄 이동제의 적하용 용기에 이하의 내용의 용액을 준비했다.The solution of the following contents was prepared in the container for dripping of a chain transfer agent.

·n-도데칸티올…6부N-dodecanethiol... Part 6

·디에틸렌글리콜디메틸에테르…20부Diethylene glycol dimethyl ether... 20 copies

반응 용기(냉각관이 부착된 세퍼러블 플라스크)에 디에틸렌글리콜디메틸에테르 188부를 넣고, 질소 치환 후 가열해서 반응 용기의 온도를 90℃로 올렸다.188 parts of diethylene glycol dimethyl ether was put into the reaction container (separable flask with a cooling tube), and it heated after nitrogen substitution, and raised the temperature of the reaction container to 90 degreeC.

온도 안정을 확인한 후, 모노머 적하 용기와 연쇄 이동제 적하 용기로부터 적하를 개시하고, 90℃의 온도를 유지한 채 140분간 모노머 및 연쇄 이동제의 적하를 종료했다.After confirming temperature stability, dropping was started from the monomer dropping container and the chain transfer agent dropping container, and the dropping of the monomer and the chain transfer agent was completed for 140 minutes while maintaining the temperature of 90 degreeC.

적하 종료 후부터 60분후에 다시 승온을 행하고, 반응 용기의 온도를 110℃로 올리고, 그대로 110℃에서 180분 유지했다. 그 후, 반응 용기내를 공기로 치환했다.60 minutes after completion | finish of dripping was heated up again, the temperature of the reaction container was raised to 110 degreeC, and it maintained at 110 degreeC for 180 minutes as it is. Thereafter, the reaction vessel was replaced with air.

이어서 반응 용기에 이하의 조성의 화합물을 투입하고, 110℃의 온도 상태에서 9시간 반응시켰다.Subsequently, the compound of the following compositions was thrown into the reaction container, and it was made to react at 110 degreeC for 9 hours.

·GMA…43부· GMA… Part 43

·2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀)…0.2부2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol)... 0.2 part

·트리에틸아민…0.4부Triethylamine... 0.4 part

반응 종료 후 디에틸렌글리콜디메틸에테르 39부를 첨가하고, 실온으로 냉각하여 바인더(B-2)를 얻었다.39 parts of diethylene glycol dimethyl ether was added after completion | finish of reaction, it cooled to room temperature, and obtained the binder (B-2).

<합성예 3>&Lt; Synthesis Example 3 &

모노머의 적하용 용기에 이하의 조성의 용액을 준비했다.A solution of the following composition was prepared in a dropping vessel for the monomer.

·DM…22부DM… Part 22

·BzMA…86부BzMA… Part 86

·MMA…9부MMA… Part 9

·MAA…27부MAA… Part 27

·t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트…2부T-butylperoxy-2-ethylhexanoate... Part Two

·디에틸렌글리콜디메틸에테르…25부Diethylene glycol dimethyl ether... Part 25

연쇄 이동제의 적하용 용기에 이하의 내용의 용액을 준비했다. The solution of the following contents was prepared in the container for dripping of a chain transfer agent.

·n-도데칸티올…6부N-dodecanethiol... Part 6

·디에틸렌글리콜디메틸에테르…20부Diethylene glycol dimethyl ether... 20 copies

반응 용기(냉각관이 부착된 세퍼러블 플라스크)에 디에틸렌글리콜디메틸에테르 157부를 넣고, 질소 치환 후 가열해서 반응 용기의 온도를 90℃로 올렸다.157 parts of diethylene glycol dimethyl ether was placed in a reaction vessel (separable flask with a cooling tube), heated after nitrogen substitution, and the temperature of the reaction vessel was raised to 90 ° C.

온도 안정을 확인한 후, 모노머 적하 용기와 연쇄 이동제 적하 용기로부터 적하를 개시하고, 90℃의 온도를 유지한 채 140분간 모노머 및 연쇄 이동제의 적하를 종료했다.After confirming temperature stability, dropping was started from the monomer dropping container and the chain transfer agent dropping container, and the dropping of the monomer and the chain transfer agent was completed for 140 minutes while maintaining the temperature of 90 degreeC.

적하 종료 후부터 60분 후에 다시 승온을 행하고, 반응 용기의 온도를 110℃로 올리고, 그대로 110℃에서 180분 유지했다. 그 후, 반응 용기내를 공기로 치환했다.60 minutes after completion | finish of dripping was heated up again, the temperature of the reaction container was raised to 110 degreeC, and it maintained at 110 degreeC for 180 minutes as it is. Thereafter, the reaction vessel was replaced with air.

이어서 반응 용기에 이하의 조성의 화합물을 투입하고, 110℃의 온도 상태에서 9시간 반응시켰다.Subsequently, the compound of the following compositions was thrown into the reaction container, and it was made to react at 110 degreeC for 9 hours.

·GMA…31부· GMA… Part 31

·2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀)…0.2부2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol)... 0.2 part

·트리에틸아민…0.4부Triethylamine... 0.4 part

반응 종료 후 디에틸렌글리콜디메틸에테르 72부를 첨가하고, 실온으로 냉각하여 바인더(B-3)를 얻었다.72 parts of diethylene glycol dimethyl ethers were added after completion | finish of reaction, it cooled to room temperature, and obtained the binder (B-3).

<합성예 4>&Lt; Synthesis Example 4 &

모노머의 적하용 용기에 이하의 조성의 용액을 준비했다.A solution of the following composition was prepared in a dropping vessel for the monomer.

·DM…31부DM… Part 31

·BzMA…73부BzMA… Part 73

·MMA…8부MMA… Part 8

·MAA…31부MAA… Part 31

·t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트…2부T-butylperoxy-2-ethylhexanoate... Part Two

·디에틸렌글리콜디메틸에테르…36부Diethylene glycol dimethyl ether... Part 36

연쇄 이동제의 적하용 용기에 이하의 내용의 용액을 준비했다.The solution of the following contents was prepared in the container for dripping of a chain transfer agent.

·n-도데칸티올…7부N-dodecanethiol... Part 7

·디에틸렌글리콜디메틸에테르…20부Diethylene glycol dimethyl ether... 20 copies

반응 용기(냉각관이 부착된 세퍼러블 플라스크)에 디에틸렌글리콜디메틸에테르 188부를 넣고, 질소 치환 후 가열해서 반응 용기의 온도를 90℃로 올렸다.188 parts of diethylene glycol dimethyl ether was put into the reaction container (separable flask with a cooling tube), and it heated after nitrogen substitution, and raised the temperature of the reaction container to 90 degreeC.

온도안정을 확인한 후, 모노머 적하 용기와 연쇄 이동제 적하 용기로부터 적하를 개시하고, 90℃의 온도를 유지한 채 140분간 모노머 및 연쇄 이동제의 적하를 종료했다.After confirming temperature stability, dropping was started from the monomer dropping container and the chain transfer agent dropping container, and the dropping of the monomer and the chain transfer agent was completed for 140 minutes while maintaining the temperature of 90 degreeC.

적하 종료 후부터 60분 후에 다시 승온을 행하여 반응 용기의 온도를 110℃로 올리고, 그대로 110℃에서 180분 유지했다. 그 후, 반응 용기내를 공기로 치환했다.It heated up again 60 minutes after completion | finish of dripping, the temperature of the reaction container was raised to 110 degreeC, and it maintained at 110 degreeC for 180 minutes as it is. Thereafter, the reaction vessel was replaced with air.

이어서 반응 용기에 이하의 조성의 화합물을 투입하고, 110℃의 온도 상태에서 9시간 반응시켰다.Subsequently, the compound of the following compositions was thrown into the reaction container, and it was made to react at 110 degreeC for 9 hours.

·GMA…31부· GMA… Part 31

·2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀)…0.2부2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol)... 0.2 part

·트리에틸아민…0.4부Triethylamine... 0.4 part

반응 종료 후 디에틸렌글리콜디메틸에테르 30부를 첨가하고, 실온으로 냉각하여 바인더(B-4)를 얻었다.30 parts of diethylene glycol dimethyl ether was added after completion | finish of reaction, and it cooled to room temperature, and obtained the binder (B-4).

<합성예 5>&Lt; Synthesis Example 5 &

모노머의 적하용 용기에 이하의 조성의 용액을 준비했다.A solution of the following composition was prepared in a dropping vessel for the monomer.

·BzMA…100부BzMA… 100 copies

·MMA…16부MMA… Part 16

·MAA…23부MAA… Part 23

·t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트…2부T-butylperoxy-2-ethylhexanoate... Part Two

·디에틸렌글리콜디메틸에테르…36부Diethylene glycol dimethyl ether... Part 36

연쇄 이동제의 적하용 용기에 이하의 내용의 용액을 준비했다.The solution of the following contents was prepared in the container for dripping of a chain transfer agent.

·n-도데칸티올…4부N-dodecanethiol... Part 4

·디에틸렌글리콜디메틸에테르…20부Diethylene glycol dimethyl ether... 20 copies

반응 용기(냉각관이 부착된 세퍼러블 플라스크)에 디에틸렌글리콜디메틸에테르 188부를 넣고, 질소 치환 후 가열해서 반응 용기의 온도를 90℃로 올렸다.188 parts of diethylene glycol dimethyl ether was put into the reaction container (separable flask with a cooling tube), and it heated after nitrogen substitution, and raised the temperature of the reaction container to 90 degreeC.

온도 안정을 확인한 후, 모노머 적하 용기와 연쇄 이동제 적하 용기로부터 적하를 개시하고, 90℃의 온도를 유지한 채 140분간 모노머 및 연쇄 이동제의 적하를 종료했다.After confirming temperature stability, dropping was started from the monomer dropping container and the chain transfer agent dropping container, and the dropping of the monomer and the chain transfer agent was completed for 140 minutes while maintaining the temperature of 90 degreeC.

적하 종료 후부터 60분 후에 다시 승온을 행하여 반응 용기의 온도를 110℃로 올리고, 그대로 110℃에서 180분 유지했다. 그 후, 반응 용기내를 공기로 치환했다.It heated up again 60 minutes after completion | finish of dripping, the temperature of the reaction container was raised to 110 degreeC, and it maintained at 110 degreeC for 180 minutes as it is. Thereafter, the reaction vessel was replaced with air.

이어서 반응 용기에 이하의 조성의 화합물을 투입하고, 110℃의 온도 상태에서 9시간 반응시켰다.Subsequently, the compound of the following compositions was thrown into the reaction container, and it was made to react at 110 degreeC for 9 hours.

·GMA…15부· GMA… Part 15

·2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀)…0.2부2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol)... 0.2 part

·트리에틸아민…0.4부Triethylamine... 0.4 part

반응 종료 후 실온으로 냉각하고, 바인더(B-5)를 얻었다.It cooled to room temperature after completion | finish of reaction, and obtained the binder (B-5).

<합성예 6>&Lt; Synthesis Example 6 &

모노머의 적하용 용기에 이하의 조성의 용액을 준비했다. A solution of the following composition was prepared in a dropping vessel for the monomer.

·BzMA…106부BzMA… 106 copies

·MMA…22부MMA… Part 22

·MAA…15부MAA… Part 15

·t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트…2부T-butylperoxy-2-ethylhexanoate... Part Two

·디에틸렌글리콜디메틸에테르…36부Diethylene glycol dimethyl ether... Part 36

연쇄 이동제의 적하용 용기에 이하의 내용의 용액을 준비했다.The solution of the following contents was prepared in the container for dripping of a chain transfer agent.

·n-도데칸티올…4부N-dodecanethiol... Part 4

·디에틸렌글리콜디메틸에테르…20부Diethylene glycol dimethyl ether... 20 copies

반응 용기(냉각관이 부착된 세퍼러블 플라스크)에 디에틸렌글리콜디메틸에테르 167부를 넣고, 질소 치환 후 가열해서 반응 용기의 온도를 90℃로 올렸다.167 parts of diethylene glycol dimethyl ether were put into a reaction vessel (separable flask with a cooling tube), heated after nitrogen substitution, and the temperature of the reaction vessel was raised to 90 ° C.

온도 안정을 확인한 후, 모노머 적하 용기와 연쇄 이동제 적하 용기로부터 적하를 개시하고, 90℃의 온도를 유지한 채 140분간 모노머 및 연쇄 이동제의 적하를 종료했다.After confirming temperature stability, dropping was started from the monomer dropping container and the chain transfer agent dropping container, and the dropping of the monomer and the chain transfer agent was completed for 140 minutes while maintaining the temperature of 90 degreeC.

적하 종료 후부터 60분 후에 다시 승온을 행하고, 반응 용기의 온도를 110℃로 올리고, 그대로 110℃에서 180분 유지했다. 반응 종료 후 실온으로 냉각하고, 바인더(B-6)를 얻었다.60 minutes after completion | finish of dripping was heated up again, the temperature of the reaction container was raised to 110 degreeC, and it maintained at 110 degreeC for 180 minutes as it is. It cooled to room temperature after completion | finish of reaction, and obtained binder (B-6).

상기 합성예로부터 얻어진 바인더(B-1)∼바인더(B-6)의 고형분을 측정했다. 또한, 각 원료 모노머 유래의 성분에 대해서 1H-NMR을 사용해서 해석했다. 또한 중량 평균 분자량에 대해서 GPC로 측정을 행했다. 평가 결과를 하기 표 1에 나타낸다.Solid content of the binder (B-1)-binder (B-6) obtained from the said synthesis example was measured. In addition, the component derived from each raw material monomer was analyzed using 1 H-NMR. In addition, the weight average molecular weight was measured by GPC. The evaluation results are shown in Table 1 below.

Figure 112012003313861-pat00046
Figure 112012003313861-pat00046

<실시예 1>&Lt; Example 1 >

<안료 분산액의 조제>&Lt; Preparation of pigment dispersion >

착색제로서 (A) C.I. 피그먼트 오렌지 71을 7.8부, C.I. 피그먼트 레드 254를 2.0부, C.I. 피그먼트 옐로 139를 2.0부, 안료 유도체로서 하기 식(1)으로 나타내어지는 화합물을 1.2부, 분산제로서 하기 식(2)으로 나타내어지는 화합물의 30wt% 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(이하 「PGMEA」라고 한다) 용액을 17.3부, 용매로서 PGMEA를 69.7부로 이루어지는 혼합물을 균일하게 교반 혼합한 후 지름 0.5mm의 지르코니아 비즈를 사용하고, 비즈 밀에 의해 12시간 분산시켜 안료 분산액을 조제했다.As a colorant (A) C.I. Pigment Orange 71, part 7.8, C.I. Pigment Red 254, part 2.0, C.I. Pigment Yellow 139 is 2.0 parts, and the compound represented by following formula (1) as a pigment derivative is 1.2 weight part, and 30 wt% propylene glycol monomethyl ether acetate of a compound represented by following formula (2) as a dispersing agent (henceforth "PGMEA" The mixture consisting of 17.3 parts of solution and 69.7 parts of PGMEA as a solvent was uniformly stirred and mixed, and then dispersed in a bead mill for 12 hours using a zirconia beads of 0.5 mm in diameter to prepare a pigment dispersion.

Figure 112012003313861-pat00047
Figure 112012003313861-pat00047

식(1)Equation (1)

Figure 112012003313861-pat00048
Figure 112012003313861-pat00048

식(2)Equation (2)

<착색 감방사선성 조성물의 조제><Preparation of colored radiation-sensitive composition>

안료 분산액을 11.7부, 바인더(B-1)를 2.4부, (C) 중합성 화합물로서 A-DPH-12E(신나카무라 카가쿠 고교(주)사제)를 0.2부, (D) 광중합 개시제로서 IRGACURE OXE 01(1.2-옥탄디온, 1-[4-(페닐티오)-, 2-(O-벤조일옥심)], BASF 재팬(주)사제)을 0.1부, 중합 금지제로서 p-메톡시페놀을 0.01부, 불소계 계면활성제로서 메가팩 F781(DIC(주)사제)의 1.0% PGMEA 용액을 0.8부, 용제로서 PGMEA를 4.8부 취하고, 이들을 혼합·교반한 후 구멍직경 0.5㎛의 나일론제 필터(니혼 폴(주)사제)로 여과해서 착색 감방사선성 조성물을 조제했다.11.7 parts of pigment dispersion, 2.4 parts of binder (B-1), 0.2 parts of A-DPH-12E (manufactured by Shin-Nakamura Kagaku Kogyo Co., Ltd.) as a polymerizable compound, and (D) IRGACURE as a photopolymerization initiator. 0.1 parts of OXE 01 (1.2-octanedione, 1- [4- (phenylthio)-, 2- (O-benzoyl oxime)], BASF Japan Co., Ltd.), and p-methoxyphenol as a polymerization inhibitor 0.01 part, 1.0% PGMEA solution of Megapack F781 (manufactured by DIC Corporation) as a fluorine-based surfactant, 0.8 part of PGMEA as a solvent, 4.8 parts of PGMEA as a solvent, and after mixing and stirring them, a nylon filter having a pore diameter of 0.5 µm It was filtered by Paul Co., Ltd., and the coloring radiation sensitive composition was prepared.

<막두께 균일성 평가><Film Thickness Uniformity Evaluation>

상기에서 조제된 착색 감방사선성 조성물을 유리 기판에 스핀 코터(spin coater)(미카사(주)사(Mikasa Ltd.)제)를 사용해서 도포하여 도막을 형성했다. 그리고, 이 도막의 건조 막두께가 1.0㎛가 되도록 100℃의 핫플레이트를 사용해서 120초간 가열 처리(프리베이킹)를 행했다. 이 도막의 중심부, 및 주위로부터 1cm 부분의 막두께차를 Dektak(니폰 비코(주)(Veeco Instruments Inc.)제)로 측정했다. 측정된 수치에 의거해서 하기 평가 기준에 따라서 막두께 균일성을 평가했다. 이 수치가 작을수록 막두께 균일성이 양호하다고 할 수 있다. 평가 결과를 하기 표 2에 나타낸다.The colored radiation-sensitive composition prepared above was applied to a glass substrate by using a spin coater (manufactured by Mikasa Ltd.) to form a coating film. And the heat processing (prebaking) was performed for 120 second using the 100 degreeC hotplate so that the dry film thickness of this coating film might be set to 1.0 micrometer. The film thickness difference of the 1 cm part from the center part of this coating film, and the circumference | surroundings was measured by Dektak (made by Veeco Instruments Inc.). Based on the measured value, film thickness uniformity was evaluated according to the following evaluation criteria. It can be said that the smaller the numerical value, the better the film thickness uniformity. The evaluation results are shown in Table 2 below.

<평가 기준><Evaluation Criteria>

◎:막두께차가 30nm 이하◎: film thickness difference is 30 nm or less

○:막두께차가 30nm 보다 크고 50nm 이하○: film thickness difference is greater than 30 nm and less than 50 nm

×:막두께차가 50nm보다 크다X: film thickness difference is larger than 50 nm

<내열성 평가>&Lt; Evaluation of heat resistance &

이어서, 이 도막을 프록시 노광기(우시오 덴키(주)(Ushio Inc.)제)를 사용해서 500mJ/㎠의 노광량으로 조사한 후, 200℃의 핫플레이트를 사용해서 8분간 가열 처리(포스트베이킹)를 행했다.Subsequently, this coating film was irradiated with an exposure dose of 500 mJ / cm 2 using a proxy exposure machine (manufactured by Ushio Inc., Ushio Inc.), and then heated (postbaked) for 8 minutes using a 200 ° C hotplate. .

얻어진 도막을 대기 하에서 220℃의 핫플레이트를 사용해서 60분간 가열 처리하고, 그 전후의 색차(ΔEab)를 분광 광도계 MCPD-3000(오츠카 덴시(주)사(Otsuka Electronics Co., Ltd.)제)로 측정했다. 측정된 색차(ΔE*ab)에 의거해서 하기 평가 기준에 따라서 내열성을 평가했다. 이 수치가 작을수록 내열성이 양호하다고 할 수 있다. 평가 결과를 하기 표 2에 나타낸다.The obtained coating film was heat-processed for 60 minutes using the hotplate of 220 degreeC in air | atmosphere, and the color difference ((DELTA) E * ab) before and behind that was spectrophotometer MCPD-3000 (Otsuka Electronics Co., Ltd.) Measured). Based on the measured color difference (ΔE * ab), heat resistance was evaluated according to the following evaluation criteria. It can be said that heat resistance is so good that this numerical value is small. The evaluation results are shown in Table 2 below.

<평가 기준><Evaluation Criteria>

◎:ΔEab가 3 이하◎: ΔE * ab is 3 or less

○:ΔEab가 3보다 크고 10 이하○: ΔE * ab is greater than 3 and less than or equal to 10

×:ΔEab가 10보다 크다×: ΔE * ab is greater than 10

<실시예 2∼11, 비교예 1∼4><Examples 2-11, Comparative Examples 1-4>

실시예 1에 있어서, 안료 분산액 및 바인더를 표 2에 나타낸 바와 같이 변경한 이외는 실시예 1과 동일하게 해서 안료 분산액, 착색 감방사선성 조성물을 조제하고, 실시예 1과 동일한 평가를 행했다.In Example 1, except having changed the pigment dispersion liquid and the binder as shown in Table 2, it carried out similarly to Example 1, the pigment dispersion liquid, the coloring radiation sensitive composition was prepared, and the same evaluation as Example 1 was performed.

Figure 112012003313861-pat00049
Figure 112012003313861-pat00049

표 1에 있어서, 예를 들면 O71이란 C.I. 피그먼트 오렌지 71을, R254란 C.I. 피그먼트 레드 254를, Y150이란 C.I. 피그먼트 옐로 150을 각각 의미한다.In Table 1, for example, O71 is C.I. Pigment orange 71, and R254 is C.I. Pigment Red 254, Y150 C.I. It means pigment yellow 150, respectively.

상기 표 2에 나타낸 바와 같이, C.I. 피그먼트 오렌지 71(O71) 및 특정 바인더를 함유하는 실시예 1∼11의 착색 감방사선성 조성물을 사용해서 제작된 도막은 막두께 균일성과 내열성이 우수했다.
As shown in the said Table 2, the coating film produced using the colored radiation-sensitive composition of Examples 1-11 containing CI pigment orange 71 (O71) and a specific binder was excellent in film thickness uniformity and heat resistance.

Claims (13)

(A) C.I. 피그먼트 오렌지 71과, 레드 안료 및 옐로 안료에서 선택되는 하나 이상, (B) 하기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물을 공중합 성분으로서 포함하는 바인더, (C) 중합성 화합물, 및 (D) 광중합 개시제를 함유하는 것을 특징으로 하는 착색 감방사선성 조성물.
Figure 112013053633985-pat00050

[일반식(1) 중, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소원자 또는 알킬기를 나타낸다]
(A) a binder containing CI pigment orange 71, at least one selected from a red pigment and a yellow pigment, (B) a compound represented by the following general formula (1) as a copolymerization component, (C) a polymerizable compound, and (D) A colored radiation-sensitive composition containing a photoinitiator.
Figure 112013053633985-pat00050

[In general formula (1), R <1> and R <2> respectively independently represents a hydrogen atom or an alkyl group.]
제 1 항에 있어서,
상기 (B) 바인더는 아릴(메타)아크릴레이트 또는 알킬(메타)아크릴레이트를 중합성 성분으로서 더 포함하는 바인더인 것을 특징으로 하는 착색 감방사선성 조성물.
The method of claim 1,
The said (B) binder is a colored radiation sensitive composition characterized by the binder further containing aryl (meth) acrylate or alkyl (meth) acrylate as a polymeric component.
제 1 항에 있어서,
상기 (B) 바인더는 (메타)아크릴산을 중합성 성분으로서 더 포함하는 바인더인 것을 특징으로 하는 착색 감방사선성 조성물.
The method of claim 1,
The said (B) binder is a binder which further contains (meth) acrylic acid as a polymeric component, The colored radiation-sensitive composition characterized by the above-mentioned.
제 2 항에 있어서,
상기 (B) 바인더는 (메타)아크릴산을 중합성 성분으로서 더 포함하는 바인더인 것을 특징으로 하는 착색 감방사선성 조성물.
3. The method of claim 2,
The said (B) binder is a binder which further contains (meth) acrylic acid as a polymeric component, The colored radiation-sensitive composition characterized by the above-mentioned.
삭제delete 삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 (D) 광중합 개시제는 옥심 화합물인 것을 특징으로 하는 착색 감방사선성 조성물.
The method of claim 1,
The said (D) photoinitiator is a colored radiation sensitive composition characterized by the above-mentioned.
제 1 항 내지 제 4 항 및 제 7 항 중 어느 한 항에 기재된 착색 감방사선성 조성물을 경화해서 얻어진 것을 특징으로 하는 착색 경화막.The colored cured film obtained by hardening | curing the colored radiation-sensitive composition in any one of Claims 1-4 and 7. 제 8 항에 기재된 착색 경화막을 구비한 것을 특징으로 하는 컬러필터.The colored cured film of Claim 8 was provided. The color filter characterized by the above-mentioned. 제 1 항 내지 제 4 항 및 제 7 항 중 어느 한 항에 기재된 착색 감방사선성 조성물을 기판 상에 부여해서 착색 감방사선성 조성물층을 형성하는 착색 감방사선성 조성물층 형성 공정과,
상기 착색 감방사선성 조성물층을 패턴모양으로 노광하는 노광 공정과,
노광 후의 상기 착색 감방사선성 조성물층을 현상해서 착색 패턴을 형성하는 착색 패턴 형성 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법.
The colored radiation-sensitive composition layer forming process of providing the colored radiation-sensitive composition in any one of Claims 1-4 and 7 on a board | substrate, and forming a colored radiation-sensitive composition layer,
An exposure step of exposing the colored radiation-sensitive composition layer in a pattern;
And a coloring pattern forming step of developing the colored radiation-sensitive composition layer after exposure to form a colored pattern.
제 1 항 내지 제 4 항 및 제 7 항 중 어느 한 항에 기재된 착색 감방사선성 조성물을 기판 상에 부여해서 착색 감방사선성 조성물층을 형성하는 착색 감방사선성 조성물층 형성 공정과,
상기 착색 감방사선성 조성물층을 패턴모양으로 노광하는 노광 공정과,
노광 후의 상기 착색 감방사선성 조성물층을 현상해서 착색 패턴을 형성하는 착색 패턴 형성 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조 방법.
The colored radiation-sensitive composition layer forming process of providing the colored radiation-sensitive composition in any one of Claims 1-4 and 7 on a board | substrate, and forming a colored radiation-sensitive composition layer,
An exposure step of exposing the colored radiation-sensitive composition layer in a pattern;
It has a coloring pattern formation process which develops the said colored radiation-sensitive composition layer after exposure, and forms a coloring pattern, The manufacturing method of the color filter characterized by the above-mentioned.
제 9 항에 기재된 컬러필터를 구비하는 것을 특징으로 하는 고체 촬상 소자.
A solid-state image sensor comprising the color filter according to claim 9.
제 1 항에 있어서,
상기 (A)로서 C.I. 피그먼트 오렌지 71과, 레드 안료 및 옐로 안료를 함유하는 것을 특징으로 하는 착색 감방사선성 조성물.
The method of claim 1,
The colored radiation sensitive composition containing CI pigment orange 71, a red pigment, and a yellow pigment as said (A).
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